JP2022547457A

JP2022547457A - 光学フィルム及びそのような光学フィルムの製造方法

Info

Publication number: JP2022547457A
Application number: JP2022514145A
Authority: JP
Inventors: エム．レンツ，ダニエル; ダブリュ．ゴトリック，ケビン; ケー．ラルセン，ジェレミー; ティー．ネルソン，カレブ; ジェイ．スキミドット，ダニエル; ペング，フェイ
Original assignee: 3M Innovative Properties Co
Current assignee: 3M Innovative Properties Co
Priority date: 2019-09-03
Filing date: 2020-08-28
Publication date: 2022-11-14
Also published as: WO2021044274A1; CN114341676A; US20220342126A1

Abstract

光学フィルムの製造方法は、ベースフィルムを提供することを含む。ベースフィルムは、第１の表面及び第２の表面を画定する基材を含む。ベースフィルムはまた、上面と、対応する上面からベース部分まで延びる少なくとも１つの側面と、を画定する、複数の構造を含む。本方法はまた、複数の構造の各々及びベース部分の上に触媒材料を堆積させて、複数の構造の各々及びベース部分の上に触媒層を形成することを含む。本方法は更に、複数の構造の各々の少なくとも１つの側面上の触媒層の活性を保持しながら、複数の構造の各々の上面及びベース部分から触媒層を選択的に除去することを含む。本方法は、複数の構造の各々の少なくとも１つの側面上に金属層を形成することを含む。

Description

本開示は、光学フィルムに関し、より具体的には、様々な光学用途で使用するための光学フィルム、及びそのような光学フィルムの製造方法に関する。

光制御フィルム（ＬＣＦ）などの光学フィルムは、透過光の指向性を調節するように構成される。様々な光学フィルムが既知であり、典型的には、光吸収材料で形成された複数のチャネルを有する光透過性フィルムを含む。光学フィルムは、ディスプレイ表面、画像表面、又は視認される他の表面に近接して置くことができる。典型的には、表示されている画像は、観察者が、「視野角」と呼ばれる角度の範囲内に位置しているときにのみ、光学フィルムを通して視認することができる。通常、視野角は、光学フィルムの表面又は平面に垂直な軸線を中心とした角度範囲である。観察者が視野角の外側に位置するように観察者の位置が変化すると、表示されている画像は、視認しにくくなる、又はもはや視認できなくなる。これにより、視野角の典型的な範囲の外側にいる他者による観察を遮断することによって、観察者にプライバシーを提供することができる。

光学フィルムは、自動車用ディスプレイ用途にも使用することができる。現在、自動車の電動化には、自動車のフロントガラスからの後方反射が望ましくない自動車におけるディスプレイの使用の増加が含まれる。車両ディスプレイにおける光学フィルムの使用は、ディスプレイからの出力をコリメートして、光が上方及び後方にフロントガラスへと移動し、次いでドライバーの眼に移動する光を回避する方法である。しかしながら、プライバシー及び光コリメーション用途に使用される従来の光学フィルムは、軸上のフィルムを通過する光の望ましくない吸収に悩まされており、これは、チャネルの幾何学的形状に起因して不可避である。カーボンブラックで満たされた高精細化された（micro-replicated）チャネルを含む光学フィルムは、少なくとも７～８ミクロンメートル（μｍ）幅であり、用途における軸上光透過率の全体的な損失を引き起こす。様々な用途で使用するために必要な機能及び厚さを有する高い透過能力を有する光学フィルムを有することが望ましいであろう。

概して、本発明は、光学フィルムに関する。本発明はまた、光学デバイスと共に使用するための光学フィルム、及びそのような光学フィルムの製造方法に関する。

本開示の一実施形態では、光学フィルムの製造方法が提供される。本方法は、ベースフィルムを提供することを含む。ベースフィルムは、第１の表面と、第１の表面の反対側に配置された第２の表面と、を画定する基材を含む。ベースフィルムはまた、ベース部分から延びる複数の構造を含む。複数の構造の各々は、上面と、対応する上面からベース部分まで延びる少なくとも１つの側面と、を画定する。本方法はまた、複数の構造の各々及びベース部分の上に触媒材料を堆積させて、複数の構造の各々及びベース部分の上に触媒層を形成することを含む。本方法は更に、複数の構造の各々の少なくとも１つの側面上の触媒層の活性を保持しながら、複数の構造の各々の上面及びベース部分から触媒層を選択的に除去することを含む。本方法は更に、複数の構造の各々の少なくとも１つの側面上に金属層を形成することを含む。金属層は、触媒層と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される。

いくつかの実施形態では、光学フィルムは、複数の構造の隣接する構造間に形成された複数のチャネルを含む。

いくつかの実施形態では、複数のチャネルの各々は、構造の材料と同様の材料で充填される。

いくつかの実施形態では、複数の構造の各々の断面は、正方形の形状、円形の形状、台形の形状、及び多角形の形状のうちの少なくとも１つを含む。

いくつかの実施形態では、触媒材料は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。

いくつかの実施形態では、本方法は、金属層を暗色化することを含む。

いくつかの実施形態では、本方法は、マイクロエッチングによって金属層上に吸収層を提供することを含む。

いくつかの実施形態では、ベースフィルムは、高精細化（micro-replication）によって形成される。

いくつかの実施形態では、触媒層は、反応性イオンエッチングプロセス又はスパッタエッチングプロセスによって選択的に除去される。

いくつかの実施形態では、本方法は、基材の第２の表面上にライナーを提供することを更に含む。

いくつかの実施形態では、本方法は、金属層の形成後に第２の表面からライナーを除去することを含む。

本開示の別の実施形態では、光学フィルムの製造方法が提供される。本方法は、ベースフィルムを提供することを含む。ベースフィルムは、第１の表面と、第１の表面の反対側に配置された第２の表面と、を画定する基材を含む。ベースフィルムはまた、ベース部分から延びる複数の構造を含み、複数の構造の各々は、上面と、対応する上面からベース部分まで延びる少なくとも１つの側面と、を画定する。本方法はまた、複数の構造の各々及びベース部分上に触媒層を堆積させることを含む。本方法は更に、複数の構造の各々の少なくとも１つの側面上の触媒層の活性を保持しながら、複数の構造の各々の上面上及びベース部分上の触媒層を選択的に不動態化することを含む。本方法は、複数の構造の各々の少なくとも１つの側面上に金属層を形成することであって、金属層は、触媒層と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される、形成することを含む。

本開示の別の実施形態では、光学フィルムが提供される。光学フィルムは、ベースフィルムを含む。ベースフィルムは、第１の表面と、第１の表面の反対側に配置された第２の表面と、を画定する基材を含む。ベースフィルムはまた、ベース部分から延びる複数の構造を含み、複数の構造の各々は、上面と、対応する上面からベース部分まで延びる少なくとも１つの側面と、を画定する。光学フィルムはまた、複数の構造の少なくとも１つの側面上に配置された不連続な第１の金属層を含む。光学フィルムは更に、複数の構造の各々の少なくとも１つの側面上の第１の金属層上に配置された第２の金属層を含む。

以下の図と共に以下の「発明を実施するための形態」を検討することで、本明細書に開示する例示的実施形態は、より完全に理解することができる。図は、必ずしも縮尺通りに描かれているとは限らない。図面で使用されている同様の番号は、同様の構成要素を示す。複数の同様の要素が存在する場合、特定の要素を指す小文字の指定によって、単一の参照番号が複数の同様の要素ごとに割り当てられ得る。要素をまとめて参照する場合、又は非特定の１つ以上の要素を参照する場合は、小文字の指定を省略できる。しかしながら、所与の図内で構成要素を示すための番号の使用は、同じ番号で示されている別の図内の構成要素を限定することを意図していないことが理解されよう。
本開示の一実施形態による、光学フィルムの斜視図である。図１の光学フィルムのベースフィルムの側面図である。図２のベースフィルム上に設けられた触媒層を示す側面図である。図２のベースフィルム上に形成された不連続触媒層を示す側面図である。図４の不連続触媒層上に形成された金属層を示す側面図である。図５の金属層上に形成された吸収層を示す側面図である。光学フィルムのチャネル内に充填された材料を有する光学フィルムを示す側面図である。本開示の一実施形態による、別の光学フィルムを示す側面図であり、触媒層が光学フィルムのベースフィルム上に形成されている。図７の触媒層上に選択的不動態化プロセスを実施した後に形成された不連続触媒層を示す側面図である。図７の光学フィルムの側面上に形成された金属層を示す側面図である。図９に示す金属層上に形成された吸収層を示す側面図である。光学フィルムのチャネル内に充填された材料を有する光学フィルムを示す側面図である。本開示の一実施形態による、更に別の光学フィルムの側面図である。図１１の光学フィルムのベースフィルムの斜視図である。図１２のベースフィルム上に設けられた触媒層を示す側面図である。図１２のベースフィルム上に形成された不連続触媒層を示す側面図である。図１４の不連続触媒層上に形成された金属層を示す側面図である。図１５の金属層上に形成された吸収層を示す側面図である。光学フィルムのチャネル内に充填された材料を有する光学フィルムを示す側面図である。本開示の一実施形態による、図１及び図１１の光学フィルムの製造方法のフローチャートである。本開示の一実施形態による、図７の光学フィルムの別の製造方法のフローチャートである。

以下の説明では、説明の一部を構成し、様々な実施形態が実例として示される、添付の図面が参照される。本開示の範囲又は趣旨から逸脱することなく、他の実施形態が想定され、実施され得ることを理解されたい。したがって、以下の発明を実施するための形態は、限定的な意味では解釈されない。

本開示の文脈において、「第１」及び「第２」という用語は、識別子として使用される。したがって、そのような用語は、本開示を限定するものとして解釈されるべきではない。特徴又は要素と併せて使用される場合、「第１」及び「第２」という用語は、本開示の実施形態全体を通して交換され得る。

本開示は、入射放射線の角度フィルタリングを実行することができる、光制御フィルムなどの光学フィルムに関する。光学フィルムは、画像化用途、自動車用ディスプレイなどのディスプレイなどの様々な光学用途で使用することができる。光学フィルムは、所望の視野角を提供し得る。本開示はまた、光学フィルムの製造方法に関する。

図１は、例示的な光学フィルム１００の斜視図を示す。光学フィルム１００は、高アスペクト光学フィルムとして具体化されている。光学フィルム１００は、上部主表面１０２及び下部主表面１０４を含む。上部主表面１０２は、視認者、又は光源、又は画像化される物体に面することができる。いくつかの実施形態では、上部主表面１０２は光入力面であり、下部主表面１０４は光出力面である。光学フィルム１００は、上部主表面１０２から下部主表面１０４まで延びる法線軸線「Ｎ」を更に画定する。法線軸線「Ｎ」は、光学フィルム１００の平面に垂直である。更に、光学フィルム１００は、ベースフィルム１０６を含む。ベースフィルム１０６は、高精細化によって形成され得る。ベースフィルム１０６は、基材１０８及びルーバー構造１１４を含む。一例では、基材１０８は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポリカーボネート（ＰＣ）で作製され得る。更に、ルーバー構造１１４は、複数の構造１１６及び複数のチャネル１２４（図２に示される）を含む。一例では、ランド領域「Ｌ」は、基材１０８とベース部分１４２との間に画定される。ランド領域「Ｌ」の材料は、構造１１６の材料と同様である。更に、構造１１６及びチャネル１２４は、透過領域として具体化されているが、層１３０（図５参照）又は層１３２は、吸収領域として具体化されている。光学フィルム１００は、交互の透過領域、吸収領域、及び透過領域と吸収領域との間のインターフェース１４０を含む。各インターフェース１４０は、法線軸線「Ｎ」とインターフェース角「θＩ」を形成する。光学フィルム１００は、交互の透過領域及び吸収領域の幾何学的形状によって画定される内部視野カットオフ角「ΦＩ」を含む。

吸収領域間に配置された透過領域は、ベース幅「Ｗ」、高さ「Ｈ」、ピッチ「Ｐ」、及び極性視野カットオフ角「θＰ」を有する。更に、極性視野カットオフ角「θＰ」は、極性視野カットオフ半角「θ１」と、極性視野カットオフ半角「θ２」との和に等しく、極性視野カットオフ半角のそれぞれは、上部主表面１０２に対する法線軸線「Ｎ」から測定される。いくつかの場合では、極性視野カットオフ角「θＰ」は対称であり得、極性視野カットオフ半角「θ１」は、極性視野カットオフ半角「θ２」に等しい。いくつかの場合では、極性視野カットオフ角「θＰ」は非対称であり得、極性視野カットオフ半角「θ１」は、極性視野カットオフ半角「θ２」に等しくない。極性視野角「θＰ」は、０°（すなわち、上部主表面１０２に対して垂直）～９０°（すなわち、上部主表面１０２に対して平行）の範囲であり得る。

本明細書に記載の光学フィルム１００は、任意の所望の極性視野カットオフ角「θＰ」を有し得る。一態様では、極性視野カットオフ角「θＰ」は、４０°～９０°又は更にはより大きい範囲である。極性視野カットオフ角「θＰ」は、パラメータ「Ｈ」、「Ｗ」、「Ｐ」、及び光学フィルム１００の材料の屈折率によって判定することができる。

図２を参照すると、基材１０８は、第１の表面１１０と、第１の表面１１０の反対側に配置された第２の表面１１２と、を画定する。第２の表面１１２は、視認者、又は光源、又は画像化される物体に面することができる。更に、ベースフィルム１０６は、基材１０８上に配置されたルーバー構造１１４を含む。ルーバー構造１１４は、概して、微細構造を通って描かれた平均中心線からプロファイルに逸脱する突起又は突出を含む微細構造である。より具体的には、ベースフィルム１０６は、ベース部分１４２から延びる複数の構造１１６を含む。複数の構造１１６の各々は、上面１１８と、対応する上面１１８からベース部分１４２まで延びる少なくとも１つの側面１２０、１２２と、を画定する。図示した実施形態では、構造１１６の各々は、一対の側面１２０、１２２を含む。更に、構造１１６は、本明細書でリブとして具体化されている。あるいは、構造１１６は、ベース部分１４２から延びるいくつかのポストを含み得る。図示されるように、側面１２０、１２２の各々は、テーパ状プロファイルを有する。更に、側面１２０、１２２の各々のテーパ状プロファイルは、光学フィルム１００の第２の表面１１２に向かって先細になる。あるいは、側面１２０、１２２は、直立のプロファイルを有し得る。更に、複数の構造１１６の各々の断面は、正方形の形状、円形の形状、台形の形状、及び多角形の形状のうちの少なくとも１つを含む。図示した実施形態では、構造１１６は、台形の形状を有する。構造１１６は、互いに等間隔に離隔され得る。

構造１１６は、基材１０８上で高精細化される。例示的な高精細化プロセスが、米国特許第８，５０３，１２２（Ｂ２）号（Ｌｉｕら）に記載されている。典型的な高精細化プロセスは、マスターネガ微細構造化成形表面上に、マスターの空洞を充填するのにかろうじて十分な量で重合性組成物を堆積させることを含む。次いで、重合性組成物のビーズをプリフォームされたベース又は基材（例えば、基材１０８）とマスターとの間で移動させることによって、空洞を充填する。次いで、組成物を硬化させる。構造１１６は、押出成形、鋳造及び硬化、コーティング、又は何らかの他の方法などの様々な方法によって、基材１０８上に形成され得る。

いくつかの場合では、構造１１６は、重合性樹脂で作製される。いくつかの場合では、重合性樹脂は、約３００ナノメートル（ｎｍ）～約８００ｎｍの波長範囲において実質的に高い透過率を有して光学的に透明であってもよい。重合性樹脂は、（メタ）アクリレートモノマー、（メタ）アクリレートオリゴマー及びそれらの混合物から選択される、第１の重合性成分及び第２の重合性成分の組み合わせを含んでもよい。本明細書で使用するとき、「モノマー」又は「オリゴマー」は、ポリマーに変換できる任意の物質である。用語「（メタ）アクリレート」は、アクリレート化合物及びメタクリレート化合物の両方を指す。いくつかの場合では、重合性組成物は、（メタ）アクリル化ウレタンオリゴマー、（メタ）アクリル化エポキシオリゴマー、（メタ）アクリル化ポリエステルオリゴマー、（メタ）アクリル化フェノール系オリゴマー、（メタ）アクリル化アクリル系オリゴマー、及びこれらの混合物を含んでもよい。重合性樹脂は、ＵＶ硬化性樹脂などの放射線硬化性ポリマー樹脂であってもよい。

更に、ベースフィルム１０６は、複数の構造１１６の隣接する構造１１６の間に形成された複数のチャネル１２４を含む。更に、チャネル１２４の各々は、構造１１６の材料と同様である材料１３６（図１参照）で充填される。いくつかの例では、チャネル１２４は、材料１３６で過剰に充填される。図３を参照すると、複数の構造１１６の各々及びベース部分１４２の上に触媒材料を堆積させて、複数の構造１１６の各々及びベース部分１４２の上に触媒層１２８を形成する。触媒材料は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。いくつかの例では、触媒材料を配置する前に、基材１０８の第２の表面１１２上にライナー１３４が提供される。ライナー１３４は、ライナー１３４を基材１０８の第２の表面１１２に取り外し可能に結合させる接着剤を含み得る。図４を参照すると、光学フィルム１００は、複数の構造１１６の各々の少なくとも１つの側面１２０、１２２上に配置された不連続な第１の金属層１２６を含む。より具体的には、不連続な第１の金属層１２６は、複数の構造１１６の各々の一対の側面１２０、１２２上に配置される。第１の金属層１２６は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。

第１の金属層１２６は、複数の構造１１６の各々及びベース部分１４２の上に触媒材料を堆積させて、複数の構造１１６の各々及びベース部分１４２の上に触媒層１２８を形成する（図３参照）ことによって形成される。更に、複数の構造１１６の各々の少なくとも１つの側面１２０、１２２上の触媒層１２８の活性を保持しながら、複数の構造１１６の各々の上面１１８及びベース部分１４２から触媒層１２８を選択的に除去する。触媒層１２８は、選択的エッチングプロセスによって選択的に除去される。選択的エッチングプロセスは、反応性イオンエッチングプロセス又はスパッタエッチングプロセスを含む。更に、複数の構造１１６の各々の一対の側面１２０、１２２上に保持される触媒層１２８は、不連続な第１の金属層１２６として具体化される。

図５に示すように、光学フィルム１００は、複数の構造１１６の各々の少なくとも１つの側面１２０、１２２上の第１の金属層１２６上に配置された第２の金属層１３０を含む。第２の金属層１３０は、以下、金属層１３０と互換的に呼ばれる。図示した実施形態では、第２の金属層１３０は、複数の構造１１６の各々の一対の側面１２０、１２２上に配置される。より具体的には、第２の金属層１３０は、無電解金属層である。第２の金属層１３０は、湿式化学技術を使用して生成される。第２の金属層１３０は、触媒層１２８と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される。一例では、試薬は、次亜リン酸塩、特に次亜リン酸ナトリウムを含み得るが、ジメチルアミンボランなどの任意の他の好適な還元剤も含み得る。試薬は、水素、元素カリウム又は元素ナトリウム（カリウムアマルガム及びナトリウムアマルガムを含む）、元素亜鉛、ヒドラジン、及びいくつかの有機還元剤を含み得る。一例では、試薬は、ＭａｃＤｅｒｍｉｄＡｌｐｈａＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＳｏｌｕｔｉｏｎｓ（Ｗａｔｅｒｂｕｒｙ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ）から調達される。

一例では、第２の金属層１３０の厚さは、約１ミクロンメートル（μｍ）未満であり得る。いくつかの例では、ライナー１３４は、第２の金属層１３０の形成後に基材１０８の第２の表面１１２から除去される。図６を参照すると、金属層１３０（図５参照）は、側面１２０、１２２からの反射を低減するために、暗色化することができる。一例では、金属層１３０は、陽極酸化によって暗色化される。別の例では、図６に示すように、光学フィルム１００は、側面１２０、１２２からの反射を低減するために、吸収層１３２を含む。そのような例では、第２の金属層１３０（図５参照）は、マイクロエッチングによって暗色化される。マイクロエッチングプロセスは、第２の金属層１３０上の軽度の湿式化学処理である。マイクロエッチングによって作製された吸収層１３２は、空隙を有さずに第２の金属層１３０の厚さのわずかな減少を引き起こす。更に、マイクロエッチングによって形成された吸収層１３２は、第２の金属層１３０の遮光機能を低下させない。マイクロエッチングによって形成された吸収層１３２は、第２の金属層１３０を粗面化して暗色化し、これは、プライバシー用途に望ましい場合がある。マイクロエッチングによって形成された吸収層１３２は、金属層１３０を形成した後に形成される任意選択の層であることに留意されたい。ここで図６Ａを参照すると、吸収層１３２を形成した後、チャネル１２４の各々（図５参照）は、構造１１６の材料と同様の材料１３６で充填されている。

本発明は、第２の金属層１３０を側面１２０、１２２上に配置するために適用されるプロセスを説明する以下の実施例を参照して更に説明される。実施例は、図１～図６Ａを参照して説明される。

特に明記しない限り、試薬は、ＭａｃＤｅｒｍｉｄＡｌｐｈａＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＳｏｌｕｔｉｏｎｓ（Ｗａｔｅｒｂｕｒｙ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ）から調達した。濃塩酸（ＨＣｌ）は、ＥＭＤＭｉｌｌｉｐｏｒｅ（Ｂｕｒｌｉｎｇｔｏｎ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ）から調達した。アルゴン（ＵＨＰ圧縮ガス）は、ＯｘｙｇｅｎＳｅｒｖｉｃｅＣｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）から調達した。

実施例１：
この例では、高精細化されたベースフィルム１０６は、国際公開第２０１９１１８５８９号（Ｓｃｈｍｉｄｔら）の調製例１に記載されているように、樹脂Ａを使用して製造された。樹脂Ａに使用される原料を以下の表１に示す。

樹脂Ａの組成を以下に示す。

更に、基材１０８の第２の表面１１２がライナーを含まない場合、ライナー１３４が、基材１０８の第２の表面１１２上に適用された。ライナー１３４は、積層ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）テープ又は他の十分に接着されたライナーを含み得る。更に、ベースフィルム１０６をエッチングプロセスに供した。一例では、ベースフィルム１０６は、クロム酸エッチングプロセスによってエッチングされた。エッチングプロセスは、ＭａｃｕｐｌｅｘＬＣＰエッチングへの浸漬（すなわち、９０％体積／体積のＭａｃｕｐｌｅｘＬＣＰエッチング濃縮物、１０％の脱イオン水、華氏１８０°（Ｆ）で３０秒間）を含んだ。更に、次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供し、続いて２分間熱水すすぎを行った。その後、ベースフィルム１０６を調整プロセスに供し、コンディショナーからの向流すすぎ、すなわちＭａｃＤｅｒｍｉｄ４ＭＡＣｕＰｌｅｘＮｅｕｔｒａＰｒｅｐ（すなわち、１．５％体積／体積のＭａｃＤｅｒｍｉｄ４ＭＡＣｕＰｌｅｘＮｅｕｔｒａｐｒｅｐ濃縮物、９８．５％体積／体積の脱イオン水、１２０°Ｆで５分間）で調整した。次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供し、続いて２分間熱水すすぎを行った。

次いで、ベースフィルム１０６を塩酸に浸漬（２０％体積／体積の濃ＨＣｌ、１００°Ｆ、２分間）した。更に、ベースフィルム１０６を活性化剤溶液に浸漬することによって、ベースフィルム１０６を金属の溶液で活性化した。一例では、活性化剤溶液は、超低濃度の貴金属液体触媒である、Ｍａｃｔｉｖａｔｅ３６０（すなわち、０．８％体積／体積のＭａｃｔｉｖａｔｅ３６０濃縮物、２０％体積／体積の濃ＨＣｌ、７９．８％体積／体積の脱イオン水、１００°Ｆで５分間）を含んでいた。次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供し、続いて空気乾燥した。次いで、ベースフィルム１０６を、選択的エッチングプロセス、具体的には米国特許第８４６０５６８（Ｂ２）号に記載されているような反応器を使用するスパッタエッチングプロセスに供した。エッチングは、アルゴン流量４００ＳＣＣＭで、１．２５ｍ^２（表面積）の円筒形電極上で５０００Ｗの電力で実行され、プロセス圧力は約１ｍＴｏｒｒになった。次いで、商標「Ｎｉｋｌａｄ２６２」で入手可能な触媒材料（すなわち、１０％体積／体積のＮｉｋｌａｄ２６２濃縮物、９０％体積／体積の脱イオン水、１１０°Ｆ、３分間）を、ベースフィルム１０６をその中に浸漬することによって、ベースフィルム１０６に適用した。触媒材料は、めっきされるベースフィルム１０６の表面上に保持され、それによって触媒層１２８を形成した。次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供した。更に、ライナー１３４を、ベースフィルム１０６の基材１０８の第２の表面１１２から剥離した。

次いで、プラスチック用途に無電解めっきするために設計された、無電解ストライク浴、すなわち、ＭａｃｕｐｌｅｘＪ６４（すなわち、７．０％体積／体積のＭａｃｕｐｌｅｘＪ６０濃縮物、３．０％体積／体積のＭａｃｕｐｌｅｘＪ６１濃縮物、１．５％体積／体積のＭａｃｕｐｌｅｘＪ６３Ｆ濃縮物、８８．５％体積／体積の脱イオン水、１００°Ｆ、３０秒～１０分間）にベースフィルム１０６を浸漬することによって、ベースフィルム１０６を無電解めっきに供した。次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供した。この処理に続いて、ベースフィルム１０６を検査した。検査により、側面１２０、１２２が第２の金属層１３０で覆われたことが確認された。次に、チャネル１２４を、構造１１６の材料、すなわち樹脂Ａと同様の材料１３６で充填した。

実施例２
この例では、実施例１で言及された全てのステップに従った。しかしながら、エッチングプロセスのエッチング時間を変更し、かつ基材１０８上にライナーを配置しなかった。最終生成物を検査すると、事前定義された約３０秒の閾値を超えるエッチング時間は、複製されたアクリレート層を溶解する傾向があり、めっきのための構造化表面がないことが観察された。

実施例３
この例では、実施例１で言及された全てのステップに従った。しかしながら、基材１０８の第２の表面１１２にライナーは設けられていなかった。最終生成物を検査すると、無電解金属コーティングの層による基材１０８の第２の表面１１２の完全なめっきによって透過が完全に失われるのを防止するために、基材１０８の第２の表面１１２をライナー１３４でマスクすることが望ましい場合があると結論付けられた。

実施例４
この例では、実施例１で言及された全てのステップに従ったが、無電解めっき中の無電解めっき時間を変更した。ベースフィルム１０６は、１５秒以内に可視的に暗色化し、２分以内にめっきされた領域で完全に金属様／反射性であることが観察された。無電解めっきを示す気泡は、浸漬の全期間にわたって見えていた。ベースフィルム１０６をより長い時間浸漬したときに、ベースフィルム１０６は厚くめっきされ、垂直に見たときに肉眼では十分な透過を示さなかった。

実施例５
この例では、樹脂Ａを使用して製造された高精細化されたベースフィルム１０６を使用した。更に、基材１０８の第２の表面１１２がライナーを含まない場合、ライナー１３４が、基材１０８の第２の表面１１２上に適用された。ライナー１３４は、積層ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）テープ又は他の十分に接着されたライナーを含み得る。更に、ベースフィルム１０６をエッチングプロセスに供した。一例では、ベースフィルム１０６は、クロム酸エッチングプロセスによってエッチングされた。エッチングプロセスは、ＭａｃｕｐｌｅｘＬＣＰエッチング（すなわち、９０％体積／体積のＭａｃｕｐｌｅｘＬＣＰエッチング濃縮物、１０％の脱イオン水、１８０°Ｆ、３０秒間）を含んだ。更に、次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供し、続いて２分間熱水すすぎを行った。その後、ベースフィルム１０６を調整プロセスに供し、コンディショナーからの向流すすぎ、すなわちＭａｃＤｅｒｍｉｄ４ＭＡＣｕＰｌｅｘＮｅｕｔｒａＰｒｅｐ（すなわち、１．５％体積／体積のＭａｃＤｅｒｍｉｄ４ＭＡＣｕＰｌｅｘＮｅｕｔｒａｐｒｅｐ濃縮物、９８．５％体積／体積の脱イオン水、１２０°Ｆで５分間）で調整した。次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供し、続いて２分間熱水すすぎを行った。

次いで、ベースフィルム１０６を塩酸に浸漬（２０％体積／体積の濃ＨＣｌ、１００°Ｆ、２分間）した。更に、ベースフィルム１０６を活性化剤溶液に浸漬することによって、ベースフィルム１０６を金属の溶液で活性化した。一例では、活性化剤溶液は、超低濃度の貴金属液体触媒である、Ｍａｃｔｉｖａｔｅ３６０（すなわち、０．８％体積／体積のＭａｃｔｉｖａｔｅ３６０濃縮物、２０％体積／体積の濃ＨＣｌ、７９．８％体積／体積の脱イオン水、１００°Ｆで５分間）を含んでいた。次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供し、続いて空気乾燥した。次いで、ベースフィルム１０６を、実施例１に記載されるような選択的エッチングプロセスに供した。次いで、商標「Ｎｉｋｌａｄ２６２」で入手可能な触媒材料（すなわち、１０％体積／体積のＮｉｋｌａｄ２６２濃縮物、９０％体積／体積の脱イオン水、１１０°Ｆ、３分間）を、ベースフィルム１０６をその中に浸漬することによって、ベースフィルム１０６に適用した。触媒材料は、めっきされるベースフィルム１０６の表面上に保持され、それによって触媒層１２８を形成した。次いで、ベースフィルム１０６を２分間冷水すすぎに供した。更に、ライナー１３４を、基材１０８の第２の表面１１２から剥離した。次いで、プラスチック用途に無電解めっきするために設計された、無電解ストライク浴、すなわち、ＭａｃｕｐｌｅｘＪ６４（すなわち、７．０％体積／体積のＭａｃｕｐｌｅｘＪ６０濃縮物、３．０％体積／体積のＭａｃｕｐｌｅｘＪ６１濃縮物、１．５％体積／体積のＭａｃｕｐｌｅｘＪ６３Ｆ濃縮物、８８．５％体積／体積の脱イオン水、１００°Ｆ、３０秒～１０分間）にベースフィルム１０６を浸漬することによって、ベースフィルム１０６を無電解めっきに供した。次いで、ベースフィルム１０６を２分間、２回の冷水すすぎに供した。

次いで、ベースフィルム１０６を、Ｎｉｋｌａｄ８２４溶液（すなわち、３％体積／体積のＢａｒｒｅｔｔＳＮＲ－２４濃縮物、２０％体積／体積のＮｉｋｌａｄ８２４濃縮物、７７％体積／体積の脱イオン水、１９０°Ｆ）にベースフィルム１０６を浸漬して、暗色化する、又は第２の金属層１３０上に吸収層１３２を形成することによって、鉛及びカドミウムを含まない、有機的に安定化された半光沢プロセスに供した。ベースフィルム１０６を、半光沢プロセス中に溶液に浸漬して、吸収層１３２を形成した。いくつかの例では、電気めっき時間及び半光沢プロセスの時間は、所望の厚さの第２の金属層１３０を達成するために調整され得る。次いで、ベースフィルム１０６を冷水で２回すすいだ。

更に、ベースフィルム１０６を、ＮｉｋｌａｄＥＬＶ８２４が上層として使用された黒色堆積物を形成する別の処理に供した。より具体的には、ベースフィルム１０６を、ＮｉＫｌａｄＥｃｌｉｐｓｅに浸漬（すなわち、５０％体積／体積のＮｉＫｌａｄＥｃｌｉｐｓｅ濃縮物、４８％体積／体積の脱イオン水、２％体積／体積の濃ＨＣｌ、７７°Ｆ、１～２分間）し、ＮｉＫｌａｄＥｃｌｉｐｓｅは、上層がＮｉＫｌａｄＥＬＶ８２４である二層無電解コーティングと共に使用されるときに黒色堆積物を提供するように設計された酸化溶液である。次いで、ベースフィルム１０６を冷水で２回すすぎ、次いで低温（１００°Ｆ～１１０°Ｆ）で焼成して、黒色堆積物を乾燥させて固定した。この処理に続いて、ベースフィルム１０６を検査した。ベースフィルム１０６を検査すると、第２の金属層１３０が側面１２０、１２２に十分に接着し、反射金属がより反射性の低い黒色材料に転化されたことが見出された。更に、ライナー１３４を、基材１０８の第２の表面１１２から剥離し、チャネル１２４を、構造１１６の材料、すなわち樹脂Ａと同様の材料１３６で充填した。

ここで図７を参照すると、光学フィルム７００と関連付けられた別のベースフィルム７０６が示されている。ベースフィルム７０６は、図１～図６Ａに関連して記載されたベースフィルム１０６と同様である。ベースフィルム７０６は、高精細化によって形成され得る。ベースフィルム７０６は、ベースフィルム１０６の基材１０８、複数の構造１１６、及び複数のチャネル１２４のそれぞれと同様の、基材７０８、複数の構造７１６、及び複数のチャネル７２４を含む。更に、チャネル７２４の各々は、構造７１６の材料と同様である材料７３６（図１０参照）で充填される。いくつかの例では、チャネル７２４は、材料７３６で過剰に充填される。基材７０８は、第１の表面７１０と、第１の表面７１０の反対側に配置された第２の表面７１２と、を画定する。複数の構造７１６の各々は、上面７１８と、対応する上面７１８からベース部分７４２まで延びる少なくとも１つの側面７２０、７２２と、を画定する。

更に、複数の構造７１６の各々及びベース部分７４２の上に触媒材料を堆積させて、複数の構造７１６の各々及びベース部分７４の上に触媒層７２８を形成する。触媒材料は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。いくつかの例では、触媒材料を配置する前に、基材７０８の第２の表面７１２上にライナー７３４が提供される。ここで図８を参照すると、光学フィルム７００は、複数の構造７１６の各々の少なくとも１つの側面７２０、７２２上に配置された不連続な第１の金属層７２６を含む。より具体的には、不連続な第１の金属層７２６は、複数の構造７１６の各々の一対の側面７２０、７２２上に配置される。第１の金属層７２６は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。

第１の金属層７２６は、複数の構造７１６の各々及びベース部分７４２上に触媒材料を堆積させて、複数の構造７１６の各々及びベース部分７４の上に触媒層７２８を形成することによって形成される。更に、複数の構造７１６の各々の少なくとも１つの側面７２０、７２２上の触媒層７２８の活性を保持しながら、複数の構造７１６の各々の上面７１８上及びベース部分７４２上の触媒層７２８を選択的に不動態化する。より具体的には、不動態化層７３８は、複数の構造７１６の各々の上面７１８上及びベース部分７４２上に形成される。したがって、触媒層７２８の活性は、複数の構造７１６の各々の側面７２０、７２２上にのみ保持される。触媒層７２８は、選択的不動態化プロセスを使用して選択的に不動態化される。選択的不動態化プロセスは、プラズマ強化化学蒸着プロセスである。更に、複数の構造７１６の各々の一対の側面７２０、７２２上に保持される触媒層７２８は、不連続な第１の金属層７２６として具体化されている。

図９を参照すると、光学フィルム７００は、複数の構造７１６の各々の少なくとも１つの側面７２０、７２２上に形成された金属層７３０を含む。金属層７３０は、以下、第２の金属層７３０と互換的に呼ばれ得る。図示した実施形態では、金属層７３０は、複数の構造７１６の各々の一対の側面７２０、７２２上に形成される。より具体的には、金属層７３０は、無電解金属層である。金属層７３０は、湿式化学技術を使用して生成される。

金属層７３０は、触媒層７２８と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される。一例では、試薬は、次亜リン酸塩、特に次亜リン酸ナトリウムを含み得るが、ジメチルアミンボランなどの任意の他の好適な還元剤でもあり得る。試薬は、水素、元素カリウム又は元素ナトリウム（カリウムアマルガム及びナトリウムアマルガムを含む）、元素亜鉛、ヒドラジン、及びいくつかの有機還元剤を含み得る。一例では、試薬は、ＭａｃＤｅｒｍｉｄＡｌｐｈａＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＳｏｌｕｔｉｏｎｓ（Ｗａｔｅｒｂｕｒｙ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ）から調達される。いくつかの例では、ライナー７３４は、金属層７３０の形成後に基材７０８の第２の表面７１２から除去される。更に、いくつかの例では、金属層７３０は、暗色化される。一例では、金属層７３０は、陽極酸化によって暗色化される。

別の例では、図１０に示すように、光学フィルム７００は、側面７２０、７２２からの反射を低減するために、吸収層７３２を含む。そのような例では、金属層７３０（図９参照）は、マイクロエッチングによって暗色化される。吸収層７３２の機能及び形成技術は、図６に示す光学フィルム１００の吸収層１３２の機能及び形成技術と同様である。マイクロエッチングによって形成された吸収層７３２は、金属層７３０を形成した後に形成される任意選択の層であることに留意されたい。ここで図１０Ａを参照すると、吸収層７３２を形成した後、チャネル７２４の各々（図９参照）は、構造７１６の材料と同様の材料７３６で充填されている。

ここで図１１を参照すると、例示的な光学フィルム１１００の側面図が示されている。更に、光学フィルム１１００は、ベースフィルム１１０６を含む。ベースフィルム１１０６は、高精細化によって形成される。ベースフィルム１１０６は、図１～図６Ａに関連して説明されたベースフィルム１０６の基材１０８と同様の基材１１０８を含む。基材１１０８は、（図１３、図１４、及び図１５に示される）第１の表面１１１０、及び第１の表面１１１０の反対側に配置された第２の表面１１１２（図１３、図１４、及び図１５に示される）を画定する。

ここで図１２を参照すると、ベースフィルム１１０６は、ルーバー構造１１１４を含む。ルーバー構造１１１４は、概して、微細構造を通って描かれた平均中心線からプロファイルが逸脱する突起又は突出を含む微細構造である。より具体的には、ベースフィルム１１０６は、ベース部分１１４２から延びる複数の構造１１１６を含む。複数の構造１１１６の各々は、上面１１１８と、対応する上面１１１８からベース部分１１４２まで延びる少なくとも１つの側面１１２０と、を画定する。図示した実施形態では、構造１１１６の各々は、４つの側面１１２０を含む。更に、構造１１１６は、ポストなどの三次元構造として具体化されている。各ポストは、いくつかのポストによって囲まれている。構造１１１６は、いくつかの行及び列に配列されている。更に、複数の構造１１１６の各々の断面は、正方形の形状、円形の形状、台形の形状、及び多角形の形状のうちの少なくとも１つを含む。図示した実施形態では、構造１１１６の各々の断面は、正方形の形状を含む。構造１１１６は、互いに等間隔に離隔され得る。構造１１１６の製造方法及び構造１１１６の材料は、図１～図６Ａに関連して記載された構造１１６の製造方法及び構造１１６の材料と同様である。更に、ベースフィルム１１０６は、複数の構造１１１６の隣接する構造１１１６の間に形成された複数のチャネル１１２４を含む。更に、チャネル１１２４の各々は、構造１１１６の材料と同様である材料１１３６（図１１に示される）で充填される。いくつかの例では、チャネル１１２４は、材料１１３６で過剰に充填される。

図１３を参照すると、複数の構造１１１６及びベース部分１１４２の各々に触媒材料を堆積させて、その上に触媒層１１２８を形成する。触媒材料は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。いくつかの例では、触媒材料を配置する前に、基材１１０８の第２の表面１１１２上にライナー１１３４が提供される。

図１４を参照すると、光学フィルム１１００は、複数の構造１１１６の各々の少なくとも１つの側面１１２０上に配置された不連続な第１の金属層１１２６を含む。より具体的には、不連続な第１の金属層１１２６は、複数の構造１１１６の各々の側面１１２０の各々の上に配置される。第１の金属層１１２６は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。

第１の金属層１１２６は、複数の構造１１１６の各々及びベース部分１１４２の上に触媒材料を堆積させて、複数の構造１１１６の各々及びベース部分１１４２の上に触媒層１１２８を形成する（図１３参照）ことによって形成される。更に、複数の構造１１１６の各々の少なくとも１つの側面１１２０上の触媒層１１２８の活性を保持しながら、複数の構造１１１６の各々の上面１１１８及びベース部分１１４２から触媒層１１２８を選択的に除去する。触媒層１１２８は、選択的エッチングプロセスによって選択的に除去される。選択的エッチングプロセスは、反応性イオンエッチングプロセス又はスパッタエッチングプロセスを含む。更に、複数の構造１１１６の各々の側面１１２０の各々の上に保持される触媒層１１２８は、不連続な第１の金属層１１２６として具体化されている。

あるいは、複数の構造１１１６の各々の側面１１２０上の触媒層１１２８の活性を保持しながら、複数の構造１１１６の各々の上面１１１８上及びベース部分１１４２上の触媒層１１２８を選択的に不動態化し得る。より具体的には、触媒層１１２８の活性は、複数の構造１１１６の各々の側面上１１２０にのみ保持される。触媒層１１２８は、選択的不動態化プロセスを使用して選択的に不動態化され得る。選択的不動態化プロセスは、プラズマ強化化学蒸着プロセスであり得る。更に、複数の構造１１１６の各々の側面１１２０上に保持される触媒層１１２８は、不連続な第１の金属層１１２６として具体化される。

図１５に示すように、光学フィルム１１００は、複数の構造１１１６の各々の側面１１２０上の第１の金属層１１２６上に配置された第２の金属層１１３０を含む。図示した実施形態では、第２の金属層１１３０は、複数の構造１１１６の各々の側面１１２０上に形成される。より具体的には、第２の金属層１１３０は、無電解金属層である。第２の金属層１１３０は、従来の湿式化学技術を使用して生成される。第２の金属層１１３０は、触媒層１１２８と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される。一例では、試薬は、次亜リン酸塩、特に次亜リン酸ナトリウムを含み得るが、ジメチルアミンボランなどの任意の他の好適な還元剤でもあり得る。試薬は、水素、元素カリウム又は元素ナトリウム（カリウムアマルガム及びナトリウムアマルガムを含む）、元素亜鉛、ヒドラジン、及びいくつかの有機還元剤を含み得る。一例では、試薬は、ＭａｃＤｅｒｍｉｄＡｌｐｈａＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＳｏｌｕｔｉｏｎｓ（Ｗａｔｅｒｂｕｒｙ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ）から調達される。

いくつかの例では、ライナー１１３４は、金属層１１３０の形成後に第２の表面１１１２から除去される。更に、いくつかの例では、金属層１１３０は、暗色化される。一例では、金属層１１３０は、陽極酸化によって暗色化される。別の例では、図１５Ａに示すように、光学フィルム１１００は、側面１１２０からの反射を低減するために、吸収層１１３２を含む。そのような例では、金属層１１３０（図１５参照）は、マイクロエッチングによって暗色化される。吸収層１１３２の機能及び形成技術は、図６に示す光学フィルム１００の吸収層１３２の機能及び形成技術と同様である。マイクロエッチングによって形成された吸収層１１３２は、金属層１１３０を形成した後に形成される任意選択の層であることに留意されたい。ここで図１５Ｂを参照すると、吸収層１１３２を形成し、チャネル１１２４の各々（図１５Ａ参照）は、構造１１１６の材料と同様の材料１１３６で充填されている。

上記の光学フィルム１００、７００、１１００は、自動車用ディスプレイ用途で使用され得る高透過光学フィルムとして具体化される。更に、これらの高透過光学フィルム１００、７００、１１００は、窓フィルムとして有用であり得る。窓フィルムは、特定の角度での外部視認を可能にし、日光からの望ましくない加熱又はグレアを防止することができる。同様に、光学フィルム１００、７００、１１００は、光学センサの角度制御フィルタとして使用され得る。

図１６は、光学フィルム１１０、１１００の製造方法のフローチャートである。ステップ１６０２で、ベースフィルム１１６、１１０６が提供される。ベースフィルム１１６、１１０６は、第１の表面１１０、１１１０と、第１の表面１１０、１１１０の反対側に配置された第２の表面１１２、１１１２と、を画定する基材１１８、１１０８を含む。更に、ベースフィルム１１６、１１０６は、ベース部分１４２、１１４２から延びる複数の構造１１６、１１１６を含む。複数の構造１１６、１１１６の各々は、上面１１８、１１１８と、対応する上面１１８、１１１８からベース部分１４２、１１４２まで延びる少なくとも１つの側面１２０、１２２、１１２０と、を画定する。複数の構造１１６、１１１６の各々の断面は、正方形の形状、円形の形状、台形の形状、及び多角形の形状のうちの少なくとも１つを含む。更に、光学フィルム１１０、１１００は、複数の構造１１６、１１１６の隣接する構造１１６、１１１６の間に形成された複数のチャネル１２４、１１２４を含む。複数のチャネル１２４、１１２４の各々を、構造１１６、１１１６の材料と同様の材料１３６、１１３６で充填した。ベースフィルム１１６、１１０６は、高精細化によって形成され得る。

ステップ１６０４で、複数の構造１１６、１１１６の各々及びベース部分１４２、１１４２の上に触媒材料を堆積させて、複数の構造１１６、１１１６の各々及びベース部分１４２、１１４２の上に触媒層１２８、１１２８を形成する。触媒材料は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。更に、基材１１８、１１０８の第２の表面１１２、１１１２上にライナー１３４、１１３４を提供する。より具体的には、触媒材料を堆積させる前にライナー１３４、１１３４を提供する。ステップ１６０６で、複数の構造１１６、１１１６の各々の少なくとも１つの側面１６０、１６２、１１２０上の触媒層１２８、１１２８の活性を保持しながら、複数の構造１１６、１１１６の各々の上面１１８、１１１８及びベース部分１４２、１１４２から触媒層１２８、１１２８を選択的に除去する。触媒層１２８、１１２８は、反応性イオンエッチングプロセス又はスパッタエッチングプロセスによって選択的に除去される。ステップ１６０８で、金属層１３０、１１３０は、複数の構造１１６、１１１６の各々の少なくとも１つの側面１６０、１６２、１１２０上に形成される。金属層１３０、１１３０は、触媒層１２８、１１２８と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される。更に、ライナー１３４、１１３４は、金属層１３０、１１３０の形成後に第２の表面１１２、１１１２から除去される。更に、一実施形態では、金属層１３０、１１３０は、暗色化される。一例では、金属層１３０、１１３０は、陽極酸化によって暗色化される。別の例では、吸収層１３２、１１３２は、マイクロエッチングによって金属層上に形成される。より具体的には、金属層１３０、１１３０は、マイクロエッチングによって暗色化される。

図１７は、光学フィルム７００の製造方法のフローチャートである。ステップ１７０２で、ベースフィルム７０６が提供される。ベースフィルム７０６は、第１の表面７１０と、第１の表面７１０の反対側に配置された第２の表面７１２と、を画定する基材７０８を含む。更に、ベースフィルム７０６は、ベース部分７４２から延びる複数の構造７１６を含む。複数の構造７１６の各々は、上面７１８と、対応する上面７１８からベース部分７４２まで延びる少なくとも１つの側面７２０、７２２と、を画定する。複数の構造７１６の各々の断面は、正方形の形状、円形の形状、台形の形状、及び多角形の形状のうちの少なくとも１つを含む。更に、光学フィルム７００は、複数の構造７１６の隣接する構造７１６の間に形成された複数のチャネル７２４を含む。複数のチャネル７２４の各々を、構造７１６の材料と同様の材料７３６で充填した。ベースフィルム７０６は、高精細化によって形成され得る。

ステップ１７０４で、複数の構造７１６の各々及びベース部分７４２の上に触媒材料を堆積させて、複数の構造７１６の各々及びベース部分７４２の上に触媒層７２８を形成する。触媒材料は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む。ステップ１７０６で、複数の構造７１６の各々の少なくとも１つの側面７２０、７２２上の触媒層７２８の活性を保持しながら、複数の構造７１６の各々の上面７１８上及びベース部分７４２上の触媒層７２８を選択的に不動態化する。選択的不動態化プロセスは、プラズマ強化化学蒸着プロセスである。ステップ１７０８で、第２の金属層７３０は、複数の構造７１６の各々の少なくとも１つの側面７２０、７２２上に形成される。第２の金属層７３０は、触媒層７２８と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される。更に、一実施形態では、第２の金属層７３０は、暗色化される。一例では、第２の金属層７３０は、陽極酸化によって暗色化される。別の例では、吸収層７３２は、マイクロエッチングによって第２の金属層７３０上に形成される。より具体的には、第２の金属層７３０は、マイクロエッチングによって暗色化される。

特定の実施形態が本明細書において図示及び説明されているが、図示及び記載されている特定の実施形態は、本開示の範囲を逸脱することなく、様々な代替的実施態様及び／又は等価の実施態様によって置き換えられ得ることが、当業者には理解されよう。本出願は、本明細書で論じられた特定の実施形態のいずれの適応例又は変形例も包含することが意図されている。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその均等物によってのみ限定されることが意図されている。

要素のリスト
１００光学フィルム
１０２上部主表面
１０４下部主表面
１０６ベースフィルム
１０８基材
１１０第１の表面
１１２第２の表面
１１４ルーバー構造
１１６構造
１１８上面
１２０側面
１２２側面
１２４チャネル
１２６第１の金属層
１２８触媒層
１３０第２の金属層
１３２吸収層
１３４ライナー
１３６材料
１４０インターフェース
１４２ベース部分
７００光学フィルム
７０６ベースフィルム
７０８基材
７１０第１の表面
７１２第２の表面
７１６構造
７１８上面
７２０側面
７２２側面
７２４チャネル
７２６第１の金属層
７２８触媒層
７３０第２の金属層
７３２吸収層
７３４ライナー
７３６材料
７３８不動態化層
７４２ベース部分
１１００光学フィルム
１１０６ベースフィルム
１１０８基材
１１１０第１の表面
１１１２第２の表面
１１１４ルーバー構造
１１１６構造
１１１８上面
１１２０側面
１１２４チャネル
１１２６第１の金属層
１１２８触媒層
１１３０第２の金属層
１１３２吸収層
１１３４ライナー
１１３６材料
１１４２ベース部分
１６００方法
１６０２ステップ
１６０４ステップ
１６０６ステップ
１６０８ステップ
１７００方法
１７０２ステップ
１７０４ステップ
１７０６ステップ
１７０８ステップ
Ｌランド領域
Ｎ法線軸線
θＩインターフェース角
ΦＩ内部視野カットオフ角
Ｗベース幅
Ｈ高さ
Ｐピッチ
θＰ極性視野カットオフ角
θ１極性視野カットオフ半角
θ２極性視野カットオフ半角

Claims

光学フィルムの製造方法であって、
第１の表面と、前記第１の表面の反対側に配置された第２の表面とを画定する基材と、
ベース部分から延びる複数の構造であって、前記複数の構造の各々は、上面と、対応する前記上面から前記ベース部分まで延びる少なくとも１つの側面と、を画定する、複数の構造と、を含む、ベースフィルムを提供することと、
前記複数の構造の各々及び前記ベース部分の上に触媒材料を堆積させて、前記複数の構造の各々及び前記ベース部分の上に触媒層を形成することと、
前記複数の構造の各々の前記少なくとも１つの側面上の前記触媒層の活性を保持しながら、前記複数の構造の各々の前記上面及び前記ベース部分から前記触媒層を選択的に除去することと、
前記複数の構造の各々の前記少なくとも１つの側面上に金属層を形成することであって、前記金属層は、前記触媒層と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される、形成することと、を含む、製造方法。
前記光学フィルムは、前記複数の構造の隣接する構造間に形成された複数のチャネルを含む、請求項１に記載の製造方法。
前記複数のチャネルの各々は、前記構造の材料と同様の材料で充填される、請求項２に記載の製造方法。
前記複数の構造の各々の断面は、正方形の形状、円形の形状、台形の形状、及び多角形の形状のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の製造方法。
前記金属層を暗色化することを更に含む、請求項１に記載の製造方法。
マイクロエッチングによって前記金属層上に吸収層を提供することを更に含む、請求項１に記載の製造方法。
前記ベースフィルムは、高精細化によって形成される、請求項１に記載の製造方法。
前記触媒材料は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の製造方法。
前記触媒層は、反応性イオンエッチングプロセス又はスパッタエッチングプロセスによって選択的に除去される、請求項１に記載の製造方法。
前記基材の前記第２の表面上にライナーを提供することを更に含む、請求項１に記載の製造方法。
前記金属層の形成後に前記第２の表面から前記ライナーを除去することを更に含む、請求項１０に記載の製造方法。
光学フィルムの製造方法であって、
第１の表面と、前記第１の表面の反対側に配置された第２の表面とを画定する基材と、
ベース部分から延びる複数の構造であって、前記複数の構造の各々は、上面と、対応する前記上面から前記ベース部分まで延びる少なくとも１つの側面と、を画定する、複数の構造と、を含む、ベースフィルムを提供することと、
前記複数の構造の各々及び前記ベース部分上に触媒層を堆積させることと、
前記複数の構造の各々の前記少なくとも１つの側面上の前記触媒層の活性を保持しながら、前記複数の構造の各々の前記上面上及び前記ベース部分上の前記触媒層を選択的に不動態化することと、
前記複数の構造の各々の前記少なくとも１つの側面上に金属層を形成することであって、前記金属層は、前記触媒層と１つ以上の試薬との間の反応による無電解金属成長によって生成される、形成することと、を含む、製造方法。
前記光学フィルムは、前記複数の構造の隣接する構造間に形成された複数のチャネルを含む、請求項１２に記載の製造方法。
前記複数のチャネルの各々は、前記構造の材料と同様の材料で充填される、請求項１３に記載の製造方法。
前記金属層を暗色化することを更に含む、請求項１２に記載の製造方法。
マイクロエッチングによって前記金属層上に吸収層を提供することを更に含む、請求項１２に記載の製造方法。
前記ベースフィルムは、高精細化によって形成される、請求項１２に記載の製造方法。
前記触媒材料は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む、請求項１２に記載の製造方法。
前記選択的不動態化プロセスは、プラズマ強化化学蒸着プロセスである、請求項１２に記載の製造方法。
第１の表面と、前記第１の表面の反対側に配置された第２の表面とを画定する基材と、
ベース部分から延びる複数の構造であって、前記複数の構造の各々は、上面と、対応する前記上面から前記ベース部分まで延びる少なくとも１つの側面と、を画定する、複数の構造と、を含む、ベースフィルムと、
前記複数の構造の前記少なくとも１つの側面上に配置された不連続な第１の金属層と、
前記複数の構造の各々の前記少なくとも１つの側面上の前記第１の金属層上に配置された第２の金属層と、を備える、光学フィルム。
前記光学フィルムは、前記複数の構造の隣接する構造間に形成された複数のチャネルを含む、請求項２０に記載の光学フィルム。
前記複数のチャネルの各々は、前記構造の材料と同様の材料で充填されている、請求項２１に記載の光学フィルム。
前記第１の金属層は、ニッケル、銅、コバルト、銀、金、イリジウム、ルテニウム、白金、及びパラジウムのうちの少なくとも１つを含む、請求項２０に記載の光学フィルム。
前記第２の金属層は、暗色化される、請求項２０に記載の光学フィルム。
吸収層は、マイクロエッチングによって前記第２の金属層上に形成される、請求項２０に記載の光学フィルム。