WO2023162935A1 - 視野角制御フィルム及びその製造方法、並びに、表示装置 - Google Patents

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WO2023162935A1
WO2023162935A1 PCT/JP2023/006079 JP2023006079W WO2023162935A1 WO 2023162935 A1 WO2023162935 A1 WO 2023162935A1 JP 2023006079 W JP2023006079 W JP 2023006079W WO 2023162935 A1 WO2023162935 A1 WO 2023162935A1
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viewing angle
metal
angle control
control film
substrate
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PCT/JP2023/006079
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悠 鬼塚
佑一 早田
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富士フイルム株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays

Definitions

  • the present disclosure relates to a viewing angle control film, a manufacturing method thereof, and a display device.
  • heat generating elements such as liquid crystal displays (LCD), organic electroluminescence displays (OLED), smartphones, and metal-based printed circuit boards for laptop computers, not only strength but also heat conduction that dissipates heat quickly. Excellent performance is required. In recent years, these products have become more sophisticated, more complex, smaller, and have a higher density of heat generating elements, resulting in a dramatic increase in heat generation.
  • Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a louver film having light transmitting portions arranged along the film surface so as to transmit light, and light absorbing portions arranged between the light transmitting portions so as to absorb light.
  • the louver film is formed on the base material through a light transmitting part forming step of forming the light transmitting part on the base material and a light absorbing part forming step of forming the light absorbing part between the light transmitting parts. and a peeling step of peeling the base and the louver film.
  • Patent document 1 JP 2012-132985
  • the problem to be solved by the embodiments of the present invention is to provide a viewing angle control film excellent in viewing angle controllability and heat dissipation, and a method for producing the same.
  • a problem to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a display device including the viewing angle control film.
  • Means for solving the above problems include the following aspects.
  • a viewing angle control film having a substrate, and a light transmitting portion and a light absorbing portion on at least one surface of the substrate, wherein the light absorbing portion contains a metal.
  • the light absorbing portion is made of a metal or a metal and a metal compound.
  • the light absorbing portions are arranged in parallel along one in-plane direction.
  • the metal includes at least one selected from the group consisting of simple metals and metal alloys.
  • ⁇ 5> The viewing angle control film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein at least part of the surface of the light absorbing portion is black.
  • ⁇ 6> Any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein at least part of the surface of the light absorbing portion contains a compound selected from the group consisting of metal oxides, metal nitrides, and metal sulfides The viewing angle control film described in .
  • ⁇ 7> The viewing angle control film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the total light transmittance in the thickness direction of the film is 50% or more.
  • ⁇ 8> Any of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the total light transmittance in a direction tilted 10 degrees from the thickness direction of the base material is 95% or less of the total light transmittance in the thickness direction of the base material.
  • the viewing angle control film according to any one of the above.
  • a value of height H of the light absorbing portion in the thickness direction of the substrate/width W of the light absorbing portion in the in-plane direction of the substrate is 1 or more ⁇ 1> to ⁇ 8>
  • the viewing angle control film according to any one of .
  • ⁇ 10> ⁇ 1> to ⁇ 9> wherein the value of the width of the light transmitting portion/the width of the light absorbing portion is 4.8 to 20 in at least one of the in-plane directions of the base material.
  • the viewing angle control film according to any one of . ⁇ 11> The viewing angle control film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>, wherein the substrate has an in-plane retardation value Re of 100 nm or less.
  • a step of forming a metal pattern by plating a step of removing the photosensitive resin layer, a step of removing the exposed metal layer, and a step of blackening the exposed metal pattern in this order.
  • any one of ⁇ 1> to ⁇ 11> including, in this order, a step of forming a metal pattern by, a step of removing the photosensitive resin layer, and a step of blackening the exposed metal pattern
  • ⁇ 14> A display device comprising the viewing angle control film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>.
  • a viewing angle control film excellent in viewing angle controllability and heat dissipation it is possible to provide a viewing angle control film excellent in viewing angle controllability and heat dissipation, and a method for producing the same.
  • a display device including the viewing angle control film can be provided.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the structure of a light absorbing portion in the viewing angle control film according to the present disclosure
  • FIG. 2 is an enlarged partial schematic cross-sectional view of the viewing angle control film shown in FIG. 1 in the aa direction.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing another example of the structure of the light absorbing portion in the viewing angle control film according to the present disclosure
  • the term "to" indicating a numerical range is used to include the numerical values before and after it as lower and upper limits.
  • the upper limit or lower limit of one numerical range may be replaced with the upper or lower limit of another numerical range described step by step.
  • the upper or lower limits of the numerical ranges may be replaced with the values shown in the examples.
  • alkyl group includes not only alkyl groups having no substituents (unsubstituted alkyl groups) but also alkyl groups having substituents (substituted alkyl groups).
  • (meth)acrylic is a term used as a concept that includes both acrylic and methacrylic
  • (meth)acryloyl is a term that is used as a concept that includes both acryloyl and methacryloyl. is.
  • step in this specification is not only an independent step, but even if it cannot be clearly distinguished from other steps, if the intended purpose of the step is achieved included.
  • % by mass and % by weight are synonymous, and “parts by mass” and “parts by weight” are synonymous.
  • a combination of two or more preferred aspects is a more preferred aspect.
  • a viewing angle control film according to the present disclosure has a substrate, and a light transmitting portion and a light absorbing portion on at least one surface of the substrate, and the light absorbing portion contains a metal. Moreover, the viewing angle control film according to the present disclosure is also a so-called louver film.
  • Viewing angle control films such as conventional louver films do not have sufficient heat dissipation.
  • the light absorbing portion contains a metal
  • the metal increases the thermal conductivity and also has excellent light blocking properties, so the viewing angle controllability and heat dissipation are improved. Excellent.
  • the viewing angle control film according to the present disclosure has a light absorbing portion on at least one surface of the substrate, and the light absorbing portion contains a metal.
  • the light-absorbing portion according to the present disclosure refers to a portion that absorbs visible light, and preferably has an absorptivity of 90% or more with respect to light with a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the metal used for the light absorbing portion may be a single metal, a metal alloy, or a metal compound such as a metal oxide, metal nitride, metal sulfide, metal selenide, metal telluride, or metal halide. However, from the viewpoint of heat dissipation, it preferably contains at least one element selected from the group consisting of a metal element and a metal alloy, and more preferably contains at least a metal element. It is preferable that the light absorbing portion is made of a metal, or a metal and a metal compound, from the viewpoint of heat dissipation and visibility suppression of the light absorbing portion.
  • the light-absorbing portion is made of at least one compound selected from the group consisting of a metal element or a metal alloy, a metal oxide, and a metal sulfide, from the viewpoint of heat dissipation and visibility suppression of the light-absorbing portion.
  • a metal element or a metal alloy a metal oxide
  • a metal sulfide a metal simple substance or a metal alloy
  • the metal used for the light absorbing portion is selected from the group consisting of Zn, Sn, Ni, Zr, Cu, Ag, Pd, Pt, and Au from the viewpoint of viewing angle controllability, heat dissipation, and visibility suppression of the light absorbing portion. It preferably contains at least one selected type, more preferably contains Cu or Ag, and particularly preferably contains Cu.
  • At least part of the surface of the light absorbing portion is preferably black from the viewpoint of viewing angle controllability and visibility suppression of the light absorbing portion, and the surface of the portion not in contact with the base material is preferably black. more preferred.
  • the method for blackening the surface of the light absorbing part is not particularly limited, but a known metal blackening treatment method can be used. , halogenation or alloying, or roughening of the metal surface. Among them, a method of blackening by oxidizing, nitriding or sulfurizing the metal surface is preferable.
  • At least part of the surface of the light absorbing portion is selected from the group consisting of metal oxides, metal nitrides, and metal sulfides. It preferably contains a compound.
  • a method of alloying the surface of the light absorbing portion or roughening the surface to blacken the surface can also be used.
  • the thickness to be blackened is 1 nm to 3,000 nm from the surface of the light absorbing part.
  • the thickness of the light absorbing portion (preferably the metal portion) that is not blackened is preferably 0.5 ⁇ m to 50.0 ⁇ m, more preferably 1.0 ⁇ m to 30.0 ⁇ m, and more preferably 3.0 ⁇ m. It is more preferably ⁇ 10.0 ⁇ m.
  • the structure of the light-absorbing portion is not particularly limited as long as the viewing angle controllability can be exhibited sufficiently, but examples thereof include a parallel structure and a lattice structure when viewed from the normal direction of the film (viewing direction).
  • the light absorbing portion may have a structure arranged in parallel along one in-plane direction, or may have a lattice-like structure in the in-plane direction. More preferably, it has a structure arranged in parallel along one in-plane direction.
  • FIG. 2 is an enlarged partial schematic view of the viewing angle control film shown in FIG. 1 in the aa direction.
  • W in FIG. 2 represents the width of the light absorbing portion in the in-plane direction of the substrate (the length of the light absorbing portion in the in-plane direction of the substrate in the lateral direction), and H represents the thickness of the light absorbing portion.
  • P represents the distance (pitch) between the light absorbing portions, that is, the width of the light transmitting portions.
  • the aspect ratio of the light absorbing portion represents the value of the height H of the light absorbing portion/the width W of the light absorbing portion
  • the pitch ratio of the light absorbing portion is the in-plane direction of the substrate. It represents the value of the width of the light transmitting portion/the width of the light absorbing portion in at least one direction.
  • the cross-sectional shape in the width direction of the light absorbing portion is not particularly limited, and may be square, rectangular, trapezoidal, triangular, or the like.
  • the width W of the light absorbing portion is preferably 1 ⁇ m to 20 ⁇ m, more preferably 3 ⁇ m to 15 ⁇ m, and 4 ⁇ m, from the viewpoint of transparency, viewing angle controllability, heat dissipation, and visibility suppression of the light absorbing portion. It is more preferably ⁇ 12 ⁇ m, particularly preferably 5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • the height H of the light absorbing portion is preferably 5 ⁇ m to 150 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 120 ⁇ m, and more preferably 15 ⁇ m to 120 ⁇ m, from the viewpoints of transparency, viewing angle controllability, and heat dissipation. is particularly preferred.
  • the interval (pitch) P between the light absorbing portions of the light absorbing portions is preferably 10 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 20 ⁇ m to 300 ⁇ m, from the viewpoint of transparency, viewing angle controllability, heat dissipation, and visibility suppression of the light absorbing portions. is more preferable, and 20 ⁇ m to 150 ⁇ m is particularly preferable.
  • the aspect ratio of the light absorbing portion (the value of the height H of the light absorbing portion/the width W of the light absorbing portion) is preferably 0.5 or more from the viewpoint of transparency, viewing angle controllability, and heat dissipation. It is preferably 1 or more, still more preferably 1.5 to 20, and particularly preferably 2 to 15.
  • the pitch ratio of the light-absorbing portion (the width of the light-transmitting portion/the width of the light-absorbing portion in at least one of the in-plane directions of the base material) is used for transparency, viewing angle controllability, heat dissipation, and light absorption. From the viewpoint of suppressing visibility of the part, it is preferably 1.5 to 50, more preferably 2 to 30, even more preferably 3 to 25, and particularly 4.8 to 20. preferable.
  • the light-absorbing portion and the light-transmitting portion may be provided on at least one surface of the base material of the viewing angle control film. You may have it in the department.
  • the viewing angle control film according to the present disclosure has a light transmitting portion on at least one surface of the substrate.
  • the light transmitting portion according to the present disclosure indicates a portion through which visible light is transmitted, and preferably has a transmittance of 50% or more for light with a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the light-transmitting part may be a part where nothing is provided on at least one surface of the base material, or a part where the space between the light-absorbing parts is filled with a binder. It is preferable that the portion is an empty portion, that is, an air portion where no light absorbing portion is provided on at least one surface of the substrate.
  • an example of the air portion is a portion between the light absorbing portions 14 where the light absorbing portions 14 are not provided, as shown as the light transmitting portion 12 in FIG.
  • the binder used in the light transmitting part is not particularly limited, but examples include elastomer resins, polystyrene resins, polyolefin resins, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers (ABS resins), acrylonitrile-styrene copolymers (AS resin) can be used.
  • General-purpose engineering resins such as polyphenylene oxide/polystyrene resins, polycarbonate resins, polyacetal resins, acrylic resins, polycarbonate-modified polyphenylene ether resins, polybutylene terephthalate resins, ultra-high molecular weight polyethylene resins, polysulfone resins, and polyphenylene sulfide resins.
  • the light-transmitting part may be cured with light such as ultraviolet light.
  • preferred examples include those obtained by curing a photocurable resin composition containing a reactive diluent monomer (M1) and a photopolymerization initiator (S1), a photocurable prepolymer (P1), and a reactive diluent monomer. More preferably, it is obtained by curing a photocurable resin composition containing (M1) and a photopolymerization initiator (S1).
  • Examples of the photocurable prepolymer (P1) include epoxy acrylate-based, urethane acrylate-based, polyether acrylate-based, polyester acrylate-based, and polythiol-based prepolymers.
  • Examples of the reactive diluent monomer (M1) include vinylpyrrolidone, 2-ethylhexyl acrylate, ⁇ -hydroxy acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, and the like.
  • Examples of the photopolymerization initiator (S1) include hydroxybenzoyl compounds (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, benzoin alkyl ether, etc.), benzoylformate compounds (methylbenzoyl formate, etc.), thioxanthone compounds (isopropylthioxanthone, etc.), benzophenones (benzophenone, etc.), phosphoric ester compounds (1,3,5-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl )-phenylphosphine oxide, etc.), benzyl dimethyl ketal, and the like.
  • the photopolymerization initiator (S1) is preferably contained in an amount of 0.5% by mass or more and 5.0% by mass or less based on the total amount of the photocurable resin composition (100% by mass).
  • Each of these photocurable prepolymer (P1), reactive diluent monomer (M1) and photopolymerization initiator (S1) can be used alone or in combination of two or more.
  • additives such as silicone-based additives, rheology control agents, It is also possible to add a defoaming agent, a release agent, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, and the like.
  • the light transmission part preferably further contains a thermally conductive filler from the viewpoint of heat dissipation.
  • the thermally conductive filler may be non-conductive or conductive, but preferably non-conductive. The use of a non-conductive thermally conductive filler tends to suppress deterioration in insulation.
  • Non-conductive thermally conductive fillers include alumina (aluminum oxide), boron nitride, silicon nitride, silica (silicon oxide), aluminum hydroxide, barium sulfate, aluminum nitride, and the like. Moreover, graphite, gold, silver, nickel, copper, etc. are mentioned as an electrically conductive thermally conductive filler.
  • the thermally conductive filler preferably contains at least one selected from the group consisting of graphite, boron nitride, alumina, aluminum nitride and silica. Among them, from the viewpoint of thermal conductivity and cost, it is more preferable to contain at least one selected from the group consisting of boron nitride and graphite.
  • One type of thermally conductive filler may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the thermally conductive filler preferably has a volume average particle size of 0.001 ⁇ m to 5 ⁇ m, more preferably a volume average particle size of 0.005 ⁇ m to 0.5 ⁇ m, and more preferably 0.010 ⁇ m to 0.010 ⁇ m. 0.3 ⁇ m is particularly preferred. Also, the thermally conductive filler is preferably contained in an amount of 10% by volume to 90% by volume, more preferably 20% by volume to 80% by volume, based on the total added amount of the binder.
  • a viewing angle control film according to the present disclosure has a substrate.
  • the material of the substrate is preferably glass or resin, and more preferably resin.
  • Resins used for the base material include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene and polymethylpentene, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and styrene-acrylonitrile.
  • Styrene-based resins such as polymers, cellulose resins such as triacetyl cellulose, cyclic polyolefin resins (COP), imide-based resins, polycarbonate resins, and the like can be mentioned.
  • the base material preferably contains at least one resin selected from the group consisting of polycarbonate resins, polyester resins, acrylic resins, cellulose resins and cyclic polyolefin resins, from the viewpoint of transparency and strength. More preferably, it contains a resin. Also, from the viewpoint of transparency and strength, the substrate should contain at least 50% by mass of at least one resin selected from the group consisting of polycarbonate resins, polyester resins, acrylic resins, cellulose resins and cyclic polyolefin resins.
  • it contains 80% by mass or more of at least one resin selected from the group consisting of polycarbonate resins, polyester resins, acrylic resins, cellulose resins and cyclic polyolefin resins, and contains 80% by mass or more of polycarbonate resins. is particularly preferred.
  • the thickness of the substrate is not particularly limited, but from the viewpoint of transparency and strength, it is preferably 5 ⁇ m to 2 mm, more preferably 20 ⁇ m to 1 mm, particularly 50 ⁇ m to 500 ⁇ m. preferable.
  • the thickness of the base material is measured at any five locations using an adhesive film thickness gauge, for example, an electronic micrometer (product name "KG3001A", manufactured by Anritsu Corporation), and the average value thereof is taken.
  • an adhesive film thickness gauge for example, an electronic micrometer (product name "KG3001A", manufactured by Anritsu Corporation), and the average value thereof is taken.
  • the retardation value Re in the in-plane direction of the substrate is preferably 100 nm or less, more preferably 40 nm or less, and preferably 0 nm or more and 20 nm or less, from the viewpoint of reducing contrast and suppressing external light reflection. Especially preferred.
  • the in-plane retardation Re is represented by the following formula.
  • Re (nx ⁇ ny) ⁇ y 1
  • nx is the refractive index in the in-plane slow axis direction of the substrate
  • ny is the refractive index in the in-plane fast axis direction of the substrate (direction orthogonal to the in-plane slow axis direction)
  • y 1 is the thickness of the substrate.
  • Re at wavelength ⁇ nm can be measured as follows. Using two polarizing plates, determine the orientation axis direction (slow axis direction and fast axis direction) of the substrate, cut out a rectangle of 4 cm ⁇ 2 cm so that the orientation axis direction is orthogonal, and use it as a measurement sample. .
  • the orthogonal biaxial refractive indices (Nx, Ny) of this sample are determined by an Abbe refractometer (NAR-4T manufactured by Atago Co., Ltd., measurement wavelength 589 nm).
  • the thickness y 1 (nm) of the substrate is measured using an electric micrometer (Millitron 1245D, manufactured by Fineruff Co.). Convert the unit to nm. Re is calculated by substituting the measured values of Nx, Ny, and y1 into the above equation.
  • the total light transmittance in the thickness direction of the viewing angle control film according to the present disclosure is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, and 65% or more, from the viewpoint of transparency. more preferably 70% to 99%.
  • Transmittance such as total light transmittance can be measured using a haze meter NDH4000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with the method specified in JIS K7375 (2008).
  • the total light transmittance in the direction tilted 10 degrees from the thickness direction of the base material in the viewing angle control film according to the present disclosure is the total light transmittance in the thickness direction of the base material from the viewpoint of viewing angle controllability. It is preferably 97% or less, more preferably 95% or less of the total light transmittance in the thickness direction of the substrate, and 93% or less of the total light transmittance in the thickness direction of the substrate. More preferably, it is particularly preferably 90% or less of the total light transmittance in the thickness direction of the substrate.
  • the total light transmittance in the direction tilted 10 degrees from the thickness direction of the base material can be 0% or more of the total light transmittance in the thickness direction of the base material. , may be 20% or more, may be 40% or more, may be 60% or more, may be 80% or more.
  • the viewing angle control film according to the present disclosure may have layers other than the substrate, the light transmitting portion and the light absorbing portion.
  • Other layers are not particularly limited, and may include known layers, such as adhesive layers and protective layers.
  • the viewing angle control film according to the present disclosure may have an adhesive layer, and in the case of having an adhesive layer, the adhesive layer It is preferred to have The adhesive layer preferably contains a pressure-sensitive adhesive and an adhesive.
  • adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives, and silicone adhesives.
  • adhesives include urethane resin adhesives, polyester adhesives, acrylic resin adhesives, ethylene vinyl acetate resin adhesives, polyvinyl alcohol adhesives, polyamide adhesives, and silicone adhesives.
  • a urethane resin adhesive or a silicone adhesive is preferable from the viewpoint of higher adhesive strength.
  • the thickness of the adhesive layer is not particularly limited, it is preferably 10 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 20 ⁇ m to 300 ⁇ m, from the viewpoint of adhesiveness.
  • the protective layer can be, for example, a cured layer of any suitable UV-curable resin.
  • UV curable resins include acrylic resins, silicone resins, polyester resins, urethane resins, amide resins, and epoxy resins.
  • the protective layer is formed by coating and drying a coating solution containing a UV-curable resin monomer or oligomer and, if necessary, a photopolymerization initiator, etc., and curing the dried coating layer by irradiating it with UV rays. can be formed.
  • the thickness of the protective layer is not particularly limited, it is preferably 0.4 ⁇ m to 40 ⁇ m, more preferably 1 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • the method for producing the viewing angle control film according to the present disclosure is not particularly limited, but a subtractive method, a semi-additive method (SAP), a modified semi-additive method (MSAP), a full-additive method (FAP), etc. can be used. Production is preferred, production using SAP or MSAP is more preferred, and production using MSAP is particularly preferred.
  • a step of forming a photosensitive resin layer on a base material containing a metal layer which is a modified semi-additive method (MSAP), a step of exposing the photosensitive resin layer, and developing the exposed photosensitive resin layer forming a metal pattern by plating; removing the photosensitive resin layer; removing the exposed metal layer;
  • MSAP modified semi-additive method
  • a method comprising in this order the step of forming a photosensitive resin layer on a substrate containing a metal layer, exposing the photosensitive resin layer, and the exposed photosensitive resin removing the unexposed portion by developing the layer; forming a metal pattern by plating; removing the photosensitive resin layer; removing the exposed metal layer; and blackening the metal pattern in this order.
  • the method for producing a viewing angle control film according to the present disclosure preferably includes a step of forming a photosensitive resin layer on a substrate including a metal layer, or a step of forming a photosensitive resin layer on the substrate. These steps are also simply referred to as a "photosensitive resin layer forming step".
  • the method for forming the photosensitive resin layer is not particularly limited, and known photoresists can be used.
  • the photoresist may be formed by coating and drying a liquid photosensitive composition, or may be formed using a photosensitive transfer material (dry resist).
  • the photosensitive transfer material has a transfer layer that includes a photosensitive resin layer.
  • the thickness of the photosensitive resin layer is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the height of the light absorbing portion to be formed.
  • the base material As the base material, the base material described above in the viewing angle control film according to the present disclosure can be suitably used.
  • the metal layer in the base material containing a metal layer may be a layer of metal used for the light absorbing portion, or a layer of a metal different from the metal used for the light absorbing portion. Among them, a layer containing Ni, Ti, Cr or Cu is preferable.
  • the thickness of the metal layer is not particularly limited, it is preferably 0.01 ⁇ m to 20 ⁇ m, more preferably 0.05 ⁇ m to 10 ⁇ m, and particularly preferably 0.1 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the manufacturing method of the viewing angle control film according to the present disclosure preferably includes a step of exposing the photosensitive resin layer (also referred to as an “exposure step”).
  • Light sources in the exposure process include, for example, ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, metal halide lamps, and LEDs (Light Emitting Diodes).
  • the exposure wavelength and exposure amount are not particularly limited, and may be appropriately selected according to the photosensitive resin layer to be used.
  • Examples of exposure methods include contact exposure methods and non-contact exposure methods.
  • the contact exposure method includes, for example, a method using a photomask.
  • Non-contact exposure methods include, for example, a proximity exposure method, a lens-based or mirror-based projection exposure method, and a direct exposure method using an exposure laser.
  • an exposure machine with an appropriate lens numerical aperture (NA) may be used, depending on the required resolution and depth of focus.
  • NA numerical aperture
  • direct drawing may be performed on the transfer layer, or reduction projection exposure may be performed on the transfer layer via a lens.
  • the exposure step may be performed under air, under reduced pressure, or under vacuum.
  • the exposure step may be performed with a liquid such as water interposed between the light source and the transfer layer.
  • the exposure step may be performed before or after the temporary support is peeled off.
  • the photosensitive resin layer may be exposed through the temporary support.
  • the transfer layer may be pattern-exposed while the photomask is in contact with the transfer layer containing the photosensitive resin layer, or the photomask may be brought close to the transfer layer without contacting the transfer layer.
  • the transfer layer may be pattern-exposed in this state. In order to prevent contamination of the photomask due to contact between the photomask and the transfer layer and to avoid influence of exposure due to foreign matter adhering to the photomask, it is preferable to pattern-expose the transfer layer without peeling off the temporary support.
  • the manufacturing method of the viewing angle control film according to the present disclosure preferably includes a step of developing the exposed photosensitive resin layer to remove an unexposed portion (also referred to as a “developing step”). Development processing is implemented using a developing solution, for example.
  • the developer include known developers (eg, the developer described in JP-A-5-72724).
  • the developer is preferably an alkaline aqueous solution containing a compound having a pKa of 7 to 13 at a concentration of 0.05 mol/L to 5 mol/L.
  • alkaline compound contained in the alkaline aqueous solution developer examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetra propylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide and choline (2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide).
  • the developer may contain a water-soluble organic solvent.
  • the developer may contain a surfactant.
  • Preferred developers include, for example, those described in paragraph 0194 of WO2015/093271.
  • the temperature of the developer is preferably 20°C to 40°C.
  • Development methods include, for example, puddle development, shower development, shower and spin development, and dip development.
  • Shower development is a development method in which a developer is sprayed onto an object by a shower.
  • a preferable developing method includes, for example, the developing method described in paragraph 0195 of International Publication No. 2015/093271.
  • the developer and residue remaining after the development process are preferably removed by a known method.
  • Methods for removing the developer and residue include, for example, shower treatment and AirKnife treatment.
  • a shower process liquids such as water and cleaning agents are sprayed onto an object by a shower. Residue may be removed using a brush.
  • the manufacturing method of the viewing angle control film according to the present disclosure preferably includes a step of forming a metal pattern by plating (also referred to as a “plating step”).
  • a plating method a known method can be applied, and examples thereof include electroplating and electroless plating.
  • the plating is preferably electroplating.
  • Components of the plating solution used in electroplating include, for example, water-soluble metal salts.
  • the water-soluble metal salt a water-soluble metal salt that is commonly used as a component of a plating solution can be used.
  • the water-soluble metal salt is preferably, for example, at least one selected from the group consisting of inorganic metal salts, metal alkanesulfonates, metal alkanolsulfonates, and metal salts of organic acids.
  • inorganic copper salts include, for example, copper sulfate, copper oxide, copper chloride, and copper carbonate.
  • Alkanesulfonic acid copper salts include, for example, copper methanesulfonate and copper propanesulfonate.
  • Alkanol sulfonate copper salts include, for example, copper isethionate and copper propanol sulfonate.
  • Organic acid copper salts include, for example, copper acetate, copper citrate, and copper tartrate.
  • the plating solution may contain sulfuric acid. By including sulfuric acid in the plating solution, the pH and sulfate ion concentration of the plating solution can be adjusted.
  • a plating layer can be formed on the metal layer by supplying the base material after the development step to a plating tank containing a plating solution.
  • the light absorbing portion can be formed by controlling the current density and the transport speed of the transparent substrate.
  • the temperature of the plating solution used for electroplating is preferably 70°C or less, more preferably 10°C to 40°C.
  • the current density in electroplating is preferably 0.1 A/dm 2 to 100 A/dm 2 , more preferably 0.5 A/dm 2 to 20 A/dm 2 .
  • Plating productivity can be improved by increasing the current density. Lowering the current density can improve the uniformity of the plating thickness.
  • the thickness of the plating layer formed on the metal layer can be appropriately selected according to the desired light absorbing portion and the exposed metal layer removal step described below.
  • the manufacturing method of the viewing angle control film according to the present disclosure preferably includes a step of removing the photosensitive resin layer (also referred to as a “photosensitive resin layer removing step”).
  • a removing method for example, there is a method of removing the photosensitive resin layer using chemical treatment.
  • a method of removing the photosensitive resin layer using a removing liquid is preferred.
  • the removing liquid examples include a removing liquid containing an inorganic alkaline component or an organic alkaline component and water, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone, or a mixed solvent thereof.
  • inorganic alkaline components include sodium hydroxide and potassium hydroxide.
  • organic alkali components include primary amine compounds, secondary amine compounds, tertiary amine compounds and quaternary ammonium salt compounds.
  • the photosensitive resin layer may be removed by immersion in a removing liquid.
  • the temperature of the removing liquid is preferably 30°C to 80°C, more preferably 50°C to 80°C.
  • the immersion time is preferably 1 minute to 30 minutes. In the immersion method, the removing liquid may be stirred.
  • the photosensitive resin layer may be removed by, for example, a spray method, a shower method, or a paddle method using a remover.
  • the manufacturing method of the viewing angle control film according to the present disclosure preferably includes a step of removing the exposed metal layer (also referred to as “exposed metal layer removing step”).
  • the exposed metal layer removing step is a step of removing a portion of the metal layer where the plating layer is not formed, and a part of the metal pattern formed by the plating step may be removed together. Further, in the exposed metal layer removing step, the exposed metal layer is preferably removed by an etching process.
  • the etching process may be a known method.
  • Etching processes include, for example, wet etching and dry etching (eg, plasma etching).
  • Examples of the etching treatment include the method described in paragraphs 0209 to 0210 of JP-A-2017-120435 and the method described in paragraphs 0048 to 0054 of JP-A-2010-152155.
  • the etching treatment is preferably wet etching.
  • Wet etching typically uses an etchant.
  • the type of etchant may be selected from acidic or alkaline etchants according to the etching target.
  • acidic etchants include aqueous solutions containing at least one acidic component selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, hydrofluoric acid, oxalic acid and phosphoric acid.
  • the acidic etchant include a mixed aqueous solution of the above acidic component and at least one salt selected from the group consisting of ferric chloride, ammonium fluoride and potassium permanganate.
  • the acidic component may be a combination of multiple acidic components.
  • alkaline etching solutions include aqueous solutions containing at least one alkaline component selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, organic amines, and salts of organic amines (tetramethylammonium hydroxide, etc.). is mentioned.
  • alkaline etchant include a mixed aqueous solution of the alkali component and a salt (eg, potassium permanganate).
  • the alkaline component may be a component in which multiple alkaline components are combined.
  • the manufacturing method of the viewing angle control film according to the present disclosure preferably includes a step of blackening the exposed metal pattern (also referred to as a “blackening step”). This makes it possible to form a light absorbing portion that is more difficult to visually recognize.
  • Blackening refers to altering and/or deforming a metal surface to reduce metallic luster. In the blackening step, at least part of the surface of the metal pattern may be blackened.
  • the method of blackening is not particularly limited, but examples include methods of oxidizing, nitriding, sulfurizing, chlorinating, alloying, and roughening the surface of the metal. Among them, it is preferable to blacken the metal pattern using a blackening treatment liquid. Among them, in the blackening step, it is preferable to blacken the surface of the metal pattern by oxidizing, nitriding, sulfurizing and/or chlorinating it. When copper is used as the metal, it is more preferably oxidized or sulfurized to blacken, and more preferably oxidized to blacken. When silver is used as the metal, blackening by sulfurization or chlorination is more preferable, and blackening by sulfurization is even more preferable.
  • the blackening treatment liquid is not particularly limited as long as it can be blackened, and a known blackening treatment liquid can be used, and a commercially available blackening treatment liquid can also be used.
  • the treatment time, treatment temperature, and the like in the blackening step may be appropriately selected according to the blackening treatment liquid to be used, the metal pattern, and the like.
  • a cleaning process or the like may be performed as necessary.
  • Blackening due to oxidation is the formation of an oxide film on the metal surface, which can suppress metallic luster. Among them, there is also a mode in which the surface shape has changed like a needle.
  • copper can be oxidized by treatment with an aqueous solution of sodium chlorite and sodium hydroxide.
  • Blackening by nitriding is a nitride film on the metal surface, which suppresses the metallic luster.
  • Blackening by sulfidation is a sulfide film on the metal surface, which suppresses metallic luster.
  • silver, copper, and the like can be sulfided by treatment with an aqueous sodium sulfide solution.
  • sulfuration can also be performed by treatment with hydrogen sulfide.
  • Blackening by chlorination is a chlorinated film on the metal surface, which suppresses metallic luster.
  • the blackening treatment liquid preferably contains an oxidizing agent, a sulfurizing agent, a nitriding agent, or a chlorinating agent.
  • the blackening treatment liquid may be an aqueous treatment liquid or an organic solvent solution, but is preferably an aqueous treatment liquid.
  • the blackening treatment liquid may contain other additives.
  • Other additives include oxidizing, sulfurizing, nitriding or chlorinating aids, viscosity modifiers, surfactants, pH modifiers and the like.
  • Viscosity modifiers include polymer compounds and polyhydric alcohols, and when the blackening liquid is an aqueous liquid, water-soluble polymers and polyhydric alcohols are preferred.
  • the blackening treatment liquid preferably contains at least one selected from the group consisting of polyhydric alcohols and water-soluble polymers as a viscosity modifier.
  • water-soluble polymers include soybean polysaccharides, modified starch, gum arabic, dextrin, cellulose derivatives (e.g., carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, Examples include polyacrylamide and acrylamide copolymers, vinyl methyl ether/maleic anhydride copolymers, vinyl acetate/maleic anhydride copolymers, styrene/maleic anhydride copolymers, and the like.
  • polyvinyl alcohol is preferred.
  • polyhydric alcohol ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin and the like are preferably used.
  • glycerin is particularly preferred.
  • the viscosity modifiers may be used singly or in combination of two or more.
  • the content of the viscosity modifier is preferably 0.001% by mass to 10% by mass, more preferably 0.01% by mass to 5% by mass, relative to the total mass of the blackening treatment liquid.
  • the blackening treatment liquid may contain a surfactant from the viewpoint of improving coatability.
  • surfactants include fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants.
  • the surfactants may be used singly or in combination of two or more.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 10% by mass, more preferably 0.01% by mass to 2% by mass, relative to the total mass of the blackening treatment liquid.
  • the manufacturing method of the viewing angle control film according to the present disclosure may include other steps than those described above.
  • the other steps may be known steps, and include, for example, a step of forming a light-transmitting portion using a composition containing a binder, a step of forming an adhesive layer, and the like.
  • the viewing angle control film according to the present disclosure can be used for various applications, and among them, it can be suitably used for display devices.
  • Preferred embodiments of the display device include a liquid crystal display device and an organic EL display device.
  • a display device includes the viewing angle control film according to the present disclosure.
  • the display device according to the present disclosure is not particularly limited, and can have the configuration of a known display device other than including the viewing angle control film according to the present disclosure. It is preferable to have at least one selected.
  • the display device preferably has a display panel.
  • a display panel used in the display device is not particularly limited, and examples thereof include a liquid crystal cell, an organic electroluminescence (organic EL) display panel, a plasma display panel, and the like. Among these, a liquid crystal cell or an organic EL display panel is preferred, and an organic EL display panel is more preferred. That is, the display device according to the present disclosure is preferably a liquid crystal display device using a liquid crystal cell as a display element or an organic EL display device using an organic EL display panel as a display element. It is preferable that the light emitted from the display element is linearly polarized light.
  • Liquid crystal cells used in liquid crystal display devices are preferably VA (Vertical Alignment) mode, OCB (Optically Compensated Bend) mode, IPS (In-Plane-Switching) mode, or TN (Twisted Nematic) mode.
  • VA Vertical Alignment
  • OCB Optically Compensated Bend
  • IPS In-Plane-Switching
  • TN Transmission Nematic
  • rod-like liquid crystal molecules rod-like liquid crystal compounds
  • TN mode liquid crystal cells are most commonly used as color TFT liquid crystal display devices, and are described in many documents.
  • the rod-like liquid crystal molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied.
  • VA mode liquid crystal cells include (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied and substantially horizontally aligned when voltage is applied (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2-2002). 176625), (2) VA mode multi-domain (MVA mode (Multi-domain Vertical Alignment)) liquid crystal cell (SID97, Digest of tech. Papers (preliminary collection) ) 28 (1997) 845), (3) a mode (n-ASM (Axially symmetrically aligned microcell) mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is performed when voltage is applied.
  • VVA mode Multi-domain Vertical Alignment
  • SID97 Digest of tech. Papers (preliminary collection)
  • Liquid crystal cells (described in Proceedings of Japan Liquid Crystal Forum 58-59 (1998)) and (4) Survival mode liquid crystal cells (announced at LCD (liquid crystal display) International 98).
  • any of PVA (Patterned Vertical Alignment) type, optical alignment type, and PSA (Polymer-Sustained Alignment) type may be used. Details of these modes are described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2006-215326 and Japanese National Publication of International Patent Application No. 2008-538819.
  • the rod-like liquid crystal molecules are aligned substantially parallel to the substrate, and the liquid crystal molecules respond planarly by applying an electric field parallel to the substrate surface.
  • a black display is obtained when no electric field is applied, and the absorption axes of the pair of upper and lower polarizing plates are perpendicular to each other.
  • a method of using an optical compensatory sheet to reduce leakage light during black display in an oblique direction and improve the viewing angle is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 10-54982, 11-202323 and 9-292522. JP-A-11-133408, JP-A-11-305217 and JP-A-10-307291.
  • An organic EL display panel is a display panel constructed using an organic EL element in which an organic light-emitting layer (organic electroluminescence layer) is sandwiched between electrodes (between a cathode and an anode).
  • the configuration of the organic EL display panel is not particularly limited, and a known configuration is adopted.
  • the display device preferably has a touch sensor.
  • the touch sensor is not particularly limited, but preferably has a conductive film.
  • Detection methods in the touch sensor include, for example, a resistive film method, a capacitance method, an ultrasonic method, an electromagnetic induction method, and an optical method.
  • the capacitance method is preferable as the detection method.
  • the touch sensor type for example, the so-called in-cell type (for example, those described in FIGS. 5, 6, 7, and 8 of JP-A-2012-517051), the so-called on-cell type (for example, JP 2013-168125 No. 2012-89102), OGS (One Glass Solution) type, TOL (Touch-on-Lens) type (for example, 2 of JP-A-2013-54727), other configurations (for example, those described in FIG. 6 of JP-A-2013-164871), and various out-cell types (so-called GG, G1 G2, GFF, GF2, GF1, G1F, etc.).
  • in-cell type for example, those described in FIGS. 5, 6, 7, and 8 of JP-A-2012-517051
  • the so-called on-cell type for example, JP 2013-168125 No. 2012-89102
  • OGS One Glass Solution
  • TOL (Touch-on-Lens) type for example, 2 of JP-A-2013-547
  • Example 1 MSAP (1) Formation of resin pattern A 100 nm Cu seed layer was formed on a polycarbonate (PC; Technoloy C000, 100 ⁇ m, manufactured by Sumika Acrylic Co., Ltd.) by sputtering to prepare a substrate with a metal layer. A resist composition having the following composition was coated on the metal layer substrate to a film thickness of 60 ⁇ m and dried at 80° C. for 30 minutes.
  • PC polycarbonate
  • Technoloy C000 100 ⁇ m, manufactured by Sumika Acrylic Co., Ltd.
  • ⁇ Resist composition> The following components were dissolved and mixed to obtain a resist composition.
  • IRGACURE PAG103 (manufactured by BASF): 2.7 parts Dibutoxyanthracene: 2.7 parts Epoxy resin (JER157S65, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.): 2.7 parts Nano aluminum oxide particles: ( NP-ALO-1 (manufactured by Alpha Corporation, average particle size 80 nm): 40.0 parts Solvent PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate): The non-volatile content was adjusted to 10% by mass based on the total composition.
  • the number in the lower right of the parenthesis in each structural unit of the acrylic polymer above represents the molar ratio.
  • a photomask was passed through the base material with a metal layer on which the prepared photosensitive composition layer (resist layer) was formed, and exposed using a high-pressure mercury lamp (MPA 5500CF manufactured by Canon Inc.). After the exposure, the photosensitive resin composition layer was developed with an alkaline developer (0.4% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide), and then rinsed with ultrapure water. These operations produced a trench (groove) pattern.
  • the seed layer was removed from the base material after removing the resist pattern using a copper etchant (Mecbrite QE-7300, manufactured by MEC Co., Ltd.) to obtain a base material having a wiring pattern. .
  • Blackening Treatment A blackening treatment liquid 1 prepared as follows was applied onto the base material having the wiring pattern prepared in (4) above. After heating this substrate at 60° C. for 5 minutes, the substrate was thoroughly washed with pure water to remove the blackening treatment liquid, thereby obtaining a viewing angle control film having a light absorbing portion.
  • a blackening treatment liquid 1 having a viscosity of 10 mPa ⁇ s was prepared by mixing the following components. ⁇ Sodium chlorite: 25 parts by mass ⁇ Sodium hydroxide: 10 parts by mass ⁇ Trisodium phosphate: 2 parts by mass ⁇ Polyvinyl alcohol (VP-18, manufactured by Nippon Acetate & Poval Co., Ltd.): 5 parts by mass ⁇ Pure water : 1,000 parts by mass Glycerin (viscosity modifier): Appropriate amount
  • Examples 2 to 18 A viewing angle widening film was produced in the same manner as in Example 1, except that the material and shape of the light absorbing portion and the base material shown in Table 1 or 2 were changed. In Example 6, the blackening treatment was not performed. Details of the substrates 1 to 6 used are shown below.
  • Base material 2 Polycarbonate (PC) resin (thickness 50 ⁇ m, Technoloy C000, manufactured by Sumika Acrylic Co., Ltd.)
  • Base material 3 polyethylene terephthalate (PET) (Thickness 100 ⁇ m, Cosmo Shine A4160, manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
  • Base material 4 acrylic resin (thickness 100 ⁇ m, Technoloy S001, manufactured by Sumika Acrylic Sales Co., Ltd.)
  • Base material 5 triacetyl cellulose (TAC) (thickness 118 ⁇ m, manufactured by FUJIFILM Corporation)
  • Base material 6 cycloolefin polymer (COP) (Thickness 100 ⁇ m, HD900AG7CS4, manufactured by Gunze Co., Ltd.)
  • Example 19 Preparation of Metal Layer Substrate [Preparation of Composition A for Forming Plated Layer] The following components were mixed to obtain a composition A for forming a plated layer.
  • acrylamide monomer 2.5 parts by mass ⁇ Omnirad 127 (IGM Resins) product): 0.13 parts by mass Isopropanol (IPA): 91.5 parts by mass
  • the intermediate layer-forming composition A was applied onto the base material 1 with a bar coater. After that, an intermediate layer (thickness: 2.0 ⁇ m) was formed by irradiating UV (ultraviolet rays) to the formed intermediate layer-forming composition layer. That is, an intermediate layer-attached substrate having a substrate and an intermediate layer disposed on the substrate was obtained. Next, the composition for forming a layer to be plated was applied onto the intermediate layer with a bar coater so as to have a film thickness of 0.8 ⁇ m to obtain a precursor layer of the layer to be plated.
  • a base material with a layer-to-be-plated layer having a base material with an intermediate layer and a layer-to-be-plated layer precursor layer disposed on the intermediate layer was obtained.
  • the to-be-plated layer precursor layer was exposed with a metal halide light source (0.2 J/cm 2 ). After the exposure, the exposed layer precursor layer to be plated was washed with water at room temperature and developed to obtain a layer to be plated.
  • the substrate with the plating layer was immersed in a 1% by mass sodium carbonate aqueous solution at room temperature for 5 minutes, and the substrate with the layer to be plated was taken out and washed twice with pure water.
  • a Pd catalyst application liquid (Omnishield 1573 Activator, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 30° C. for 5 minutes. After that, the substrate with the layer to be plated that was taken out was washed twice with pure water.
  • the obtained substrate with the layer to be plated was immersed in a reducing solution (Circuposit P13 Oxide Converter 60C, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 30° C. for 5 minutes. After that, the substrate with the layer to be plated that was taken out was washed twice with pure water. Next, the obtained substrate with the layer to be plated was immersed in an electroless plating solution (Circuposit 4500, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 45° C. for 15 minutes. After that, the substrate with the layer to be plated was taken out and washed with pure water to obtain a substrate with a metal layer. Then, the above resist composition was applied to a film thickness of 60 ⁇ m and dried at 80° C. for 30 minutes to form a photosensitive composition layer (resist layer).
  • a reducing solution Circuposit P13 Oxide Converter 60C, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.
  • the seed layer was removed from the substrate after the resist pattern was removed using a copper etchant (Mec Bright QE-7300, manufactured by MEC Co., Ltd.) to obtain a substrate having a wiring pattern.
  • the prepared blackening treatment liquid 1 was applied onto the substrate having the wiring pattern prepared in (5). After heating this substrate at 60° C. for 5 minutes, the substrate was thoroughly washed with pure water to remove the blackening treatment liquid, thereby obtaining a viewing angle control film having a light absorbing portion.
  • Example 20 FAP
  • the intermediate layer-forming composition A was applied onto the substrate 1 using a bar coater. After that, an intermediate layer (thickness: 2.0 ⁇ m) was formed by irradiating UV (ultraviolet rays) to the formed intermediate layer-forming composition layer. That is, an intermediate layer-attached substrate having a substrate and an intermediate layer disposed on the substrate was obtained.
  • the composition for forming a layer to be plated was applied onto the intermediate layer with a bar coater so as to have a film thickness of 0.8 ⁇ m to obtain a precursor layer of the layer to be plated.
  • a substrate with a layer-to-be-plated precursor layer having a substrate with an intermediate layer and a layer-to-be-plated layer precursor layer disposed on the intermediate layer was obtained.
  • the to-be-plated layer precursor layer was exposed with a metal halide light source (0.2 J/cm 2 ). After exposure, the exposed layer precursor layer to be plated was washed with water at room temperature and developed to obtain a layer to be plated.
  • the above resist composition is applied to a film thickness of 60 ⁇ m, dried at 80 ° C. for 30 minutes to form a photosensitive composition layer (resist layer), passed through a photomask, a high pressure mercury lamp ( The exposure was performed using MPA 5500CF (manufactured by Canon Inc.). After the exposure, the photosensitive resin composition layer was developed with an alkaline developer (0.4% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide), and then rinsed with ultrapure water. These operations produced a patterned base material.
  • the substrate with the plating layer was immersed in a 1% by mass sodium carbonate aqueous solution at room temperature for 5 minutes, and the substrate with the layer to be plated was taken out and washed twice with pure water.
  • a Pd catalyst application liquid (Omnishield 1573 Activator, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 30° C. for 5 minutes. After that, the substrate with the layer to be plated that was taken out was washed twice with pure water.
  • the obtained substrate with the layer to be plated was immersed in a reducing solution (Circuposit P13 Oxide Converter 60C, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 30° C. for 5 minutes. After that, the substrate with the layer to be plated that was taken out was washed twice with pure water. Subsequently, the obtained substrate with the layer to be plated was immersed in an electroless plating solution (Circuposit 4500, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.) at 45° C. for 60 minutes. Thereafter, the substrate with the layer to be plated was taken out and washed with pure water to obtain a substrate having a wiring pattern.
  • a reducing solution Circuposit P13 Oxide Converter 60C, manufactured by Rohm and Haas Electronic Materials Co., Ltd.
  • the prepared blackening treatment liquid 1 was applied onto the substrate having the wiring pattern prepared in (4). After heating this substrate at 60° C. for 5 minutes, the substrate was thoroughly washed with pure water to remove the blackening treatment liquid, thereby obtaining a viewing angle control film having a light absorbing portion.
  • Mold rolls having dimensions of width W, height H, and pitch P shown in Table 2 were prepared.
  • a PET base material (A4160 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was fed between the mold roll and the nip roll.
  • the light transmission part composition is supplied between the mold roll and the base material, and the mold roll and the light transmission part composition are filled in the grooves of the mold roll.
  • a nip roll was used to press the light-transmitting portion-constituting composition. Thereafter, ultraviolet rays of 800 mJ/cm 2 were irradiated from the substrate side with a high-pressure mercury lamp to cure the light-transmitting portion composition, thereby forming a light-transmitting portion.
  • the light-absorbing part-constituting composition A is supplied from the supply device onto the light-transmitting parts, the light-absorbing part-constituting composition is supplied to the grooves between the light-transmitting parts using a doctor blade, and the excess amount is The light-absorbing part-constituting composition was scraped off.
  • ultraviolet rays were irradiated from the side opposite to the side on which the substrate was provided to cure the light absorbing portion-constituting composition, and the light absorbing portion was formed from the cured light absorbing portion-constituting composition.
  • a viewing angle control film having a light transmitting portion and a light absorbing portion was formed on the substrate.
  • ⁇ Viewing angle controllability evaluation> A variable angle photometer (GP-200, manufactured by Murakami Color Research Laboratory) was used. Using a white light source (halogen lamp), the transmitted light intensity was measured while changing the angle of the sample stage from -90° to +90° with 0° as the reference. The intensity of transmitted light at +10° when the intensity of transmitted light at 0° was defined as 100% was taken as the value of the viewing angle controllability.
  • a liquid crystal tablet SurfacePro7 with a touch panel manufactured by Microsoft Corporation was prepared as a display device.
  • This LCD monitor consists of a polarizing plate on the backlight side, a liquid crystal cell for display, a polarizing plate on the viewing side, and a touch panel. Between them, they were laminated using an adhesive (SK Dyne 2057 manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.). The four peripheral corners of the viewing angle control film (louver film) were placed in contact with the metal housing. After viewing a moving image continuously for one hour using the display device, the surface temperature of the cover panel was measured with a thermocamera (FLIRC5 infrared thermography, manufactured by FRIR) and found to be 43°C.
  • a thermocamera FLIRC5 infrared thermography, manufactured by FRIR
  • the parallel arrangement of the light absorbing portions means the pattern structure shown in FIG. 1
  • the lattice means the pattern structure shown in FIG.
  • the viewing angle control films of Examples 1 to 20, which are viewing angle control films according to the present disclosure have better viewing angle controllability and heat dissipation than the film of Comparative Example 1. Excellent for Further, from the results shown in Tables 1 and 2, the viewing angle control films of Examples 1 to 20, which are the viewing angle control films according to the present disclosure, are also excellent in transparency.

Abstract

基材と、上記基材の少なくとも一方の面において、光透過部及び光吸収部とを有し、上記光吸収部が、金属を含む視野角制御フィルム、上記視野角制御フィルムを備えた表示装置、並びに、好ましくは、基材に感光性樹脂層を形成する工程と、上記感光性樹脂層を露光する工程と、露光された上記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程と、めっき処理によって金属パターンを形成する工程と、上記感光性樹脂層を除去する工程と、露出した上記金属パターンに黒化処理する工程とをこの順で含む上記視野角制御フィルムの製造方法。

Description

視野角制御フィルム及びその製造方法、並びに、表示装置
　本開示は、視野角制御フィルム及びその製造方法、並びに、表示装置に関する。
　液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＬＥＤ）、スマートフォン、ノートパソコン等のメタルベースプリント基板のように発熱体を内蔵又は装着する部材・材料においては、強度はもとより、速やかに放熱する熱伝導性に優れたものが要求される。近年のこれらの製品の高性能化、複雑化、小型化、発熱体の高密度化によって発熱量が飛躍的に増大しているため、より熱伝導性に優れたものが期待されている。
　従来のルーバーフィルムの製造方法としては、例えば、特許文献１に記載の方法が知られている。
　特許文献１には、光を透過可能にフィルム面に沿って並列された光透過部と、上記光透過部間に光を吸収可能に並列された光吸収部とを備えたルーバーフィルムの製造方法であって、基材上に上記光透過部を形成する光透過部形成工程、及び上記光透過部間に光吸収部を形成する光吸収部形成工程を経て、上記基材上に上記ルーバーフィルムを形成する工程、並びに、上記基材と上記ルーバーフィルムとを剥離する剥離工程、を含む、ルーバーフィルムの製造方法が記載されている。
　特許文献１：特開２０１２－１３２９８５号公報
　本発明の実施形態が解決しようとする課題は、視野角制御性、及び、放熱性に優れる視野角制御フィルム及びその製造方法を提供することである。
　本発明の他の一実施形態が解決しようとする課題は、上記視野角制御フィルムを備える表示装置を提供することである。
　上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞　基材、並びに、上記基材の少なくとも一方の面において、光透過部及び光吸収部を有し、上記光吸収部が、金属を含む視野角制御フィルム。
＜２＞　上記光吸収部が、金属からなるか、又は、金属及び金属化合物からなる＜１＞に記載の視野角制御フィルム。
＜３＞　上記光吸収部が、面内方向の一方向に沿って並列した構造を有する＜１＞又は＜２＞に記載の視野角制御フィルム。
＜４＞　上記金属が、金属単体、及び、金属合金よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含む＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルム。
＜５＞　上記光吸収部の表面の少なくとも一部が、黒色である＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルム。
＜６＞　上記光吸収部の表面の少なくとも一部が、金属酸化物、金属窒化物、及び、金属硫化物よりなる群から選ばれた化合物を含む＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルム。
＜７＞　フィルムの厚さ方向における全光線透過率が、５０％以上である＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルム。
＜８＞　上記基材の厚さ方向より１０度傾けた方向における全光線透過率が、上記基材の厚さ方向における全光線透過率の９５％以下である＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルム。
＜９＞　上記光吸収部の上記基材の厚さ方向における高さＨ／上記光吸収部の上記基材の面内方向における幅Ｗの値が、１以上である＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルム。
＜１０＞　上記基材の面内方向のうちの少なくとも１つの方向において、上記光透過部の幅／上記光吸収部の幅の値が、４．８～２０である＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルム。
＜１１＞　上記基材の面内方向におけるレターデーション値Ｒｅが、１００ｎｍ以下である＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルム。
＜１２＞　金属層を含む基材に感光性樹脂層を形成する工程と、上記感光性樹脂層を露光する工程と、露光された上記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程と、めっき処理によって金属パターンを形成する工程と、上記感光性樹脂層を除去する工程と、露出した上記金属層を除去する工程と、露出した上記金属パターンに黒化処理する工程とをこの順で含む＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルムの製造方法。
＜１３＞　基材に感光性樹脂層を形成する工程と、上記感光性樹脂層を露光する工程と、露光された上記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程と、めっき処理によって金属パターンを形成する工程と、上記感光性樹脂層を除去する工程と、露出した上記金属パターンに黒化処理する工程とをこの順で含む＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルムの製造方法。
＜１４＞　＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の視野角制御フィルムを備える表示装置。
　本発明の実施形態によれば、視野角制御性、及び、放熱性に優れる視野角制御フィルム及びその製造方法を提供することができる。
　本発明の他の一実施形態によれば、上記視野角制御フィルムを備える表示装置を提供することができる。
本開示に係る視野角制御フィルムにおける光吸収部の構造の一例を示す模式図である。 図１に示す視野角制御フィルムのａ－ａ方向における断面拡大部分模式図である。 本開示に係る視野角制御フィルムにおける光吸収部の構造の他の一例を示す模式図である。
　以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
　また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
　また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｈ（東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＰＦＰ（ペンタフルオロフェノール）／クロロホルム＝１／２（質量比）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
　以下、本開示を詳細に説明する。
（視野角制御フィルム）
　本開示に係る視野角制御フィルムは、基材、並びに、上記基材の少なくとも一方の面において、光透過部及び光吸収部を有し、上記光吸収部が、金属を含む。
　また、本開示に係る視野角制御フィルムは、いわゆる、ルーバーフィルムでもある。
　従来のルーバーフィルム等の視野角制御フィルムは、フィルムの放熱性が十分でなかった。
　本開示に係る視野角制御フィルムは、光吸収部が、金属を含むことにより、上記金属により熱伝導性が高くなり、また、遮光性にも優れるため、視野角制御性、及び、放熱性に優れる。
＜光吸収部＞
　本開示に係る視野角制御フィルムは、上記基材の少なくとも一方の面において、光吸収部を有し、上記光吸収部が、金属を含む。
　本開示に係る光吸収部とは、可視光を吸収する部分のことを示し、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長の光に対し、９０％以上の吸収率を有することが好ましい。
　光吸収部に用いられる金属は、金属単体であっても、金属合金であっても、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、金属セレン化物、金属テルル化物、金属ハロゲン化物等の金属化合物であってもよいが、放熱性の観点から、金属単体、及び、金属合金よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含むことが好ましく、金属単体を少なくとも含むことがより好ましい。
　光吸収部は、放熱性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、金属からなるか、又は、金属及び金属化合物からなることが好ましい。
　また、光吸収部は、放熱性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、金属単体又は金属合金と金属酸化物及び金属硫化物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とからなることが好ましく、金属単体又は金属合金と金属酸化物とからなることがより好ましく、金属単体と金属酸化物とからなることが特に好ましい。
　光吸収部に用いられる金属としては、視野角制御性、放熱性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ及びＡｕよりなる群から選ばれた少なくとも１種を含むことが好ましく、Ｃｕ又はＡｇを含むことがより好ましく、Ｃｕを含むことが特に好ましい。
　光吸収部は、視野角制御性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、表面の少なくとも一部が黒色であることが好ましく、上記基材と接していない部分の表面が黒色であることがより好ましい。
　光吸収部の表面を黒色にする方法としては、特に制限はないが、公知の金属の黒化処理方法を用いることができ、例えば、金属表面の、酸化、窒化、硫化、セレン化、テルル化、ハロゲン化若しくは合金化、又は、金属表面の粗面化等が挙げられる。
　中でも、金属表面を酸化、窒化又は硫化して黒化する方法が好適に挙げられる。すなわち、視野角制御性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、上記光吸収部の表面の少なくとも一部が、金属酸化物、金属窒化物、及び、金属硫化物よりなる群から選ばれた化合物を含むことが好ましい。
　また、光吸収部の表面を合金化させたり、表面粗面化して黒化する方法も挙げることができる。
　また、光吸収部の幅や厚みによるが、放熱性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、黒化処理される厚さは、光吸収部の表面から、１ｎｍ～３，０００ｎｍであることが好ましく、２ｎｍ～１，５００ｎｍであることがより好ましく、５ｎｍ～１，０００ｎｍであることが更に好ましく、１０ｎｍ～５００ｎｍであることが特に好ましい。
　また、黒化処理されない光吸収部（好ましくは金属部分）の厚さは、０．５μｍ～５０．０μｍであることが好ましく、１．０μｍ～３０．０μｍであることがより好ましく、３．０μｍ～１０．０μｍであることが更に好ましい。
　光吸収部の構造としては、視野角制御性が十分発現できれば特に制限はないが、例えば、フィルムの法線方向（視認方向）から見た場合、並列構造、格子構造などが挙げられる。
　中でも、視野角制御性及び放熱性の観点から、上記光吸収部が、面内方向の一方向に沿って並列した構造を有するか、又は、面内方向において、格子状の構造を有することが好ましく、面内方向の一方向に沿って並列した構造を有することがより好ましい。
　光吸収部の構造として、具体的には、図１に示すようなストライプ状の並列構造、又は、図３に示すような格子状の構造が好適に挙げられる。
　また、図２は、図１に示す視野角制御フィルムのａ－ａ方向における断面拡大部分模式図である。
　図２におけるＷは、光吸収部の基材の面内方向における幅（基材の面内方向における光吸収部短手方向の長さ）を表し、Ｈは、光吸収部の基材の厚さ方向における高さを表し、Ｐは光吸収部間の間隔（ピッチ）、すなわち、光透過部の幅を表す。
　また、本開示において、光吸収部のアスペクト比は、光吸収部の高さＨ／光吸収部の幅Ｗの値を表し、光吸収部のピッチ比は、基材の面内方向のうちの少なくとも１つの方向において、光透過部の幅／光吸収部の幅の値を表す。
　また、光吸収部の幅方向の断面形状は、特に制限はなく、正方形、長方形、台形、三角形等が挙げられる。
　光吸収部の幅Ｗは、透明性、視野角制御性、放熱性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、１μｍ～２０μｍであることが好ましく、３μｍ～１５μｍであることがより好ましく、４μｍ～１２μｍであることが更に好ましく、５μｍ～１０μｍであることが特に好ましい。
　光吸収部の高さＨは、透明性、視野角制御性、及び、放熱性の観点から、５μｍ～１５０μｍであることが好ましく、１０μｍ～１２０μｍであることがより好ましく、１５μｍ～１２０μｍであることが特に好ましい。
　光吸収部の光吸収部間の間隔（ピッチ）Ｐは、透明性、視野角制御性、放熱性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、１０μｍ～５００μｍであることが好ましく、２０μｍ～３００μｍであることがより好ましく、２０μｍ～１５０μｍであることが特に好ましい。
　光吸収部のアスペクト比（光吸収部の高さＨ／光吸収部の幅Ｗの値）は、透明性、視野角制御性、及び、放熱性の観点から、０．５以上であることが好ましく、１以上であることがより好ましく、１．５～２０であることが更に好ましく、２～１５であることが特に好ましい。
　光吸収部のピッチ比（基材の面内方向のうちの少なくとも１つの方向における光透過部の幅／光吸収部の幅の値）は、透明性、視野角制御性、放熱性及び光吸収部の視認抑制性の観点から、１．５～５０であることが好ましく、２～３０であることがより好ましく、３～２５であることが更に好ましく、４．８～２０であることが特に好ましい。
　光吸収部及び光透過部は、視野角制御フィルムの上記基材の少なくとも一方の面に有していればよく、また、上記基材の少なくとも一方の面の全面に有していても、一部に有していてもよい。
＜光透過部＞
　本開示に係る視野角制御フィルムは、上記基材の少なくとも一方の面において、光透過部を有する。
　本開示に係る光透過部とは、可視光が透過する部分のことを示し、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長の光に対し、５０％以上の透過率を有することが好ましい。
　光透過部は、上記基材の少なくとも一方の面において、何も設けられていない部分であっても、バインダーにより光吸収部間を埋めた部分であってもよいが、放熱性の観点から、何も設けられていない部分、すなわち、上記基材の少なくとも一方の面において、光吸収部が設けられていない空気部分であることが好ましい。
　例えば、上記空気部分の一例としては、図２の光透過部１２として示されているように、光吸収部１４の設けられていない各光吸収部１４の間の部分が挙げられる。
　光透過部に用いられるバインダーとしては、特に制限はないが、例えば、エラストマー樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などの汎用樹脂を用いることができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエンジニアリング樹脂などが挙げられる。
　光透過部は、紫外線などの光で硬化させてなるものであってもよい。例えば、反応性希釈モノマー（Ｍ１）及び光重合開始剤（Ｓ１）を配合した光硬化型樹脂組成物を硬化させてなるものが好ましく挙げられ、光硬化型プレポリマー（Ｐ１）、反応性希釈モノマー（Ｍ１）及び光重合開始剤（Ｓ１）を配合した光硬化型樹脂組成物を硬化させてなるものがより好ましく挙げられる。
　上記光硬化型プレポリマー（Ｐ１）としては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、ポリチオール系等のプレポリマーを挙げることができる。
　上記反応性希釈モノマー（Ｍ１）としては、例えば、ビニルピロリドン、２－エチルヘキシルアクリレート、β－ヒドロキシアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等を挙げることができる。
　上記光重合開始剤（Ｓ１）としては、例えば、ヒドロキシベンゾイル化合物（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインアルキルエーテル等）、ベンゾイルホルメート化合物（メチルベンゾイルホルメート等）、チオキサントン化合物（イソプロピルチオキサントン等）、ベンゾフェノン（ベンゾフェノン等）、リン酸エステル化合物（１，３，５－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキシド等）、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。
　なお、上記光重合開始剤（Ｓ１）は、光硬化型樹脂組成物全量を基準（１００質量％）として、０．５質量％以上５．０質量％以下含まれていることが好ましい。
　これらの光硬化型プレポリマー（Ｐ１）、反応性希釈モノマー（Ｍ１）及び光重合開始剤（Ｓ１）はそれぞれ、１種あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　また必要に応じて、光硬化型樹脂組成物中に、塗膜の改質や塗布適性、金型からの離型性を改善させるため、種々の添加剤としてシリコーン系添加剤、レオロジーコントロール剤、脱泡剤、離型剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等を添加することも可能である。
　また、光透過部は、上記バインダーに加え、放熱性の観点から、熱伝導フィラーを更に含むことが好ましい。
　熱伝導性フィラーとしては、非導電性であっても、導電性であってもよいが、非導電性であることが好ましい。非導電性の熱伝導性フィラーを使用することによって絶縁性の低下が抑制される傾向にある。
　非導電性の熱伝導性フィラーとしては、アルミナ（酸化アルミニウム）、窒化ホウ素、窒化ケイ素、シリカ（酸化ケイ素）、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、窒化アルミニウム等が挙げられる。また、導電性の熱伝導性フィラーとしては、黒鉛、金、銀、ニッケル、銅等が挙げられる。熱伝導性フィラーは、黒鉛、窒化ホウ素、アルミナ、窒化アルミニウム及びシリカよりなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。中でも熱伝導率とコストの観点から、窒化ホウ素及び黒鉛よりなる群から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。
　熱伝導性フィラーは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
　熱伝導性フィラーは、透明性の観点から、体積平均粒子径０．００１μｍ～５μｍであることが好ましく、 体積平均粒子径０．００５μｍ～０．５μｍであることがより好ましく、０．０１０μｍ～０．３μｍであることが特に好ましい。
　また、熱伝導性フィラーは、バインダーの添加量全体に対して、１０体積％～９０体積％含むことが好ましく、２０体積％～８０体積％含むことがより好ましい。
＜基材＞
　本開示に係る視野角制御フィルムは、基材を有する。
　基材の材質としては、透明性、及び、強度の観点から、ガラス、又は、樹脂が好ましく、樹脂がより好ましい。
　基材に用いられる樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル樹脂、ナイロン６などのポリアミド樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン－アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ＣＯＰ）、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等を挙げることができる。
　また、基材は、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、安定剤などの添加剤を加えてもよい。
　中でも、基材は、透明性、及び、強度の観点から、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂及び環状ポリオレフィン樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも１種の樹脂を含むことが好ましく、ポリカーボネート樹脂を含むことがより好ましい。
　また、基材は、透明性、及び、強度の観点から、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂及び環状ポリオレフィン樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも１種の樹脂を５０質量％以上含むことが好ましく、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂及び環状ポリオレフィン樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも１種の樹脂を８０質量％以上含むことがより好ましく、ポリカーボネート樹脂を８０質量％以上含むことが特に好ましい。
　基材の厚さは、特に制限はないが、透明性、及び、強度の観点から、５μｍ～２ｍｍであることが好ましく、２０μｍ～１ｍｍであることがより好ましく、５０μｍ～５００μｍであることが特に好ましい。
　基材の厚さは、任意の５箇所について、接着式の膜厚計、例えば、電子マイクロメータ（製品名「ＫＧ３００１Ａ］、アンリツ社製）を用いて測定し、それらの平均値とする。
　上記基材の面内方向におけるレターデーション値Ｒｅは、コントラスト低下及び外光反射抑制の観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましく、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
　本実施形態に係る基材面内のレターデーションＲｅは、下記式で表される。
　　Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｙ１
　ここで、ｎｘは基材の面内遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは基材の面内進相軸方向（面内遅相軸方向と直交する方向）の屈折率であり、ｙ１は基材の厚みである。
　本明細書中において、波長λｎｍでのＲｅは次のようにして測定できる。
　二枚の偏光板を用いて、基材の配向軸方向（遅相軸方向及び進相軸方向）を求め、配向軸方向が直交するように４ｃｍ×２ｃｍの長方形を切り出し、測定用サンプルとする。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率（Ｎｘ，Ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ－４Ｔ、測定波長５８９ｎｍ）によって求める。基材の厚みｙ１（ｎｍ）を、電気マイクロメータ（ファインリューフ社製、ミリトロン１２４５Ｄ）を用いて測定する。単位をｎｍに換算する。測定されたＮｘ、Ｎｙ、ｙ１の値を上記式に代入してＲｅを算出する。
＜各透過率＞
　本開示に係る視野角制御フィルムにおけるフィルムの厚さ方向における全光線透過率は、透明性の観点から、４０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることが更に好ましく、７０％～９９％であることが特に好ましい。
　なお、全光透過率等の透過率は、ＪＩＳ　Ｋ７３７５（２００８）に規定される方法に準拠して、（株）日本電色工業製、ヘーズメーターＮＤＨ４０００を用いて、測定することができる。
　本開示に係る視野角制御フィルムにおける上記基材の厚さ方向より１０度傾けた方向における全光線透過率は、視野角制御性の観点から、上記基材の厚さ方向における全光線透過率の９７％以下であることが好ましく、上記基材の厚さ方向における全光線透過率の９５％以下であることがより好ましく、上記基材の厚さ方向における全光線透過率の９３％以下であることが更に好ましく、上記基材の厚さ方向における全光線透過率の９０％以下であることが特に好ましい。
　本開示に係る視野角制御フィルムにおける上記基材の厚さ方向より１０度傾けた方向における全光線透過率は、上記基材の厚さ方向における全光線透過率の０％以上とすることができ、２０％以上とすることができ、４０％以上とすることができ、６０％以上とすることができ、８０％以上とすることができる。
＜その他の層＞
　本開示に係る視野角制御フィルムは、基材、光透過部及び光吸収部以外のその他の層を有していてもよい。
　その他の層としては、特に制限はなく、公知の層を有していてもよく、例えば、接着層、保護層等が挙げられる。
　本開示に係る視野角制御フィルムは、接着層を有していてもよく、接着層を有する場合、基材の光透過部及び光吸収部が設けられている側とは反対側に、接着層を有することが好ましい。
　接着層としては、粘着剤及び接着剤を含むことが好ましい。
　粘着剤の例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、及びシリコーン系粘着剤が挙げられる。また、粘着剤の例として、「「剥離紙・剥離フィルム及び粘着テープの特性評価とその制御技術」、情報機構、２００４年、第２章」に記載のアクリル系粘着剤、紫外線（ＵＶ）硬化型粘着剤、及び、シリコーン粘着剤が挙げられる。
　接着剤としては、例えば、ウレタン樹脂接着剤、ポリエステル接着剤、アクリル樹脂接着剤、エチレン酢酸ビニル樹脂接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリアミド接着剤、及び、シリコーン接着剤が挙げられる。接着強度がより高いという観点から、ウレタン樹脂接着剤又はシリコーン接着剤が好ましい。
　接着層の厚さは、特に制限はないが、接着性の観点から、１０μｍ～５００μｍであることが好ましく、２０μｍ～３００μｍであることがより好ましい。
　保護層は、例えば、任意の適切な紫外線硬化型樹脂の硬化層であり得る。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。
　保護層は、紫外線硬化型樹脂のモノマー又はオリゴマーと必要に応じて光重合開始剤等とを含む塗工液を塗工及び乾燥し、乾燥した塗工層に紫外線を照射して硬化させることにより形成され得る。
　保護層の厚みは、特に制限はないが、０．４μｍ～４０μｍであることが好ましく、１μｍ～１０μｍであることがより好ましい。
＜視野角制御フィルムの製造方法＞
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、特に制限はないが、サブトラクティブ法、セミアディティブ法（ＳＡＰ）、モディファイドセミアディティブ法（ＭＳＡＰ）、フルアディティブ法（ＦＡＰ）などの方法を用いて製造することが好ましく、ＳＡＰ又はＭＳＡＰを用いて製造することがより好ましく、ＭＳＡＰを用いて製造することが特に好ましい。
　中でも、モディファイドセミアディティブ法（ＭＳＡＰ）である、金属層を含む基材に感光性樹脂層を形成する工程と、上記感光性樹脂層を露光する工程と、露光された上記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程と、めっき処理によって金属パターンを形成する工程と、上記感光性樹脂層を除去する工程と、露出した上記金属層を除去する工程と、露出した上記金属パターンに黒化処理する工程とをこの順で含む方法、又は、セミアディティブ法（ＳＡＰ）である、基材に感光性樹脂層を形成する工程と、上記感光性樹脂層を露光する工程と、露光された上記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程と、めっき処理によって金属パターンを形成する工程と、上記感光性樹脂層を除去する工程と、露出した上記金属パターンに黒化処理する工程とをこの順で含む方法が好適に挙げられ、金属層を含む基材に感光性樹脂層を形成する工程と、上記感光性樹脂層を露光する工程と、露光された上記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程と、めっき処理によって金属パターンを形成する工程と、上記感光性樹脂層を除去する工程と、露出した上記金属層を除去する工程と、露出した上記金属パターンに黒化処理する工程とをこの順で含む方法がより好適に挙げられる。
－感光性樹脂層形成工程－
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、金属層を含む基材に感光性樹脂層を形成する工程、又は、基材に感光性樹脂層を形成する工程を含むことが好ましい。
　これらの工程を単に「感光性樹脂層形成工程」ともいう。
　感光性樹脂層の形成方法としては、特に制限なく、公知のフォトレジストを用いることができる。
　また、フォトレジストとしては、液状の感光性組成物を塗布乾燥することにより形成してもよいし、感光性転写材料（ドライレジスト）を用いて形成してもよい。感光性転写材料は、感光性樹脂層を含む転写層を有する。感光性樹脂層の厚さは、特に制限はなく、形成する光吸収部の高さ等に応じ、適宜選択することができる。
　基材としては、本開示に係る視野角制御フィルムにおいて上述した基材を好適に用いることができる。
　金属層を含む基材における金属層としては、光吸収部に用いられる金属の層であってもよいし、光吸収部に用いられる金属とは別の金属の層であってもよい。
　中でも、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｒ又はＣｕを含む層であることが好ましい。
　金属層の厚さは、特に制限はないが、０．０１μｍ～２０μｍであることが好ましく、０．０５μｍ～１０μｍであることがより好ましく、０．１μｍ～２μｍであることが特に好ましい。
－露光工程－
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、上記感光性樹脂層を露光する工程（「露光工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
　露光工程における光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）が挙げられる。
　露光波長及び露光量は、特に制限はなく、使用する感光性樹脂層にあわせ、適宜選択すればよい。
　露光方式としては、例えば、接触露光方式及び非接触露光方式が挙げられる。接触露光方式としては、例えば、フォトマスクを用いる方法が挙げられる。非接触露光方式としては、例えば、プロキシミティ露光方式、レンズ系又はミラー系のプロジェクション露光方式及び露光レーザーを用いるダイレクト露光方式が挙げられる。レンズ系又はミラー系のプロジェクション露光では、必要な解像力及び焦点深度に応じて、適当なレンズの開口数（ＮＡ）を有する露光機が使用されてもよい。ダイレクト露光方式では、転写層に対して直接描画が実施されてもよく、又はレンズを介して転写層に縮小投影露光が実施されてもよい。露光工程は、大気下、減圧下又は真空下で実施されてもよい。露光工程は、光源と転写層との間に水といった液体を介在させて実施されてもよい。
　仮支持体を有する感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成した場合、露光工程は、仮支持体の剥離前又は仮支持体の剥離後に実施されてもよい。露光工程が仮支持体の剥離前に実施される場合、感光性樹脂層は仮支持体を介して露光されてもよい。フォトマスクを用いる露光工程では、フォトマスクを感光性樹脂層を含む転写層に接触させた状態で転写層をパターン露光してもよく、又はフォトマスクを転写層に接触させずに転写層に近づけた状態で転写層をパターン露光してもよい。フォトマスクと転写層との接触によるフォトマスク汚染の防止及びフォトマスクに付着した異物による露光への影響を避けるために、仮支持体を剥離せずに転写層をパターン露光することが好ましい。
－現像工程－
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、露光された上記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程（「現像工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
　現像処理は、例えば、現像液を用いて実施される。現像液としては、例えば、公知の現像液（例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液）が挙げられる。現像液としては、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ～５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。アルカリ水溶液系の現像液に含まれるアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド及びコリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。現像液は、水溶性の有機溶剤を含んでもよい。現像液は、界面活性剤を含んでもよい。好ましい現像液としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液が挙げられる。
　現像液の温度は、２０℃～４０℃であることが好ましい。
　現像方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像並びにディップ現像が挙げられる。シャワー現像とは、対象物に現像液をシャワーにより吹き付ける現像方式である。好ましい現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９５に記載の現像方式が挙げられる。
　現像工程の後に残存する現像液及び残渣は、公知の方法によって除去されることが好ましい。現像液及び残渣の除去方法としては、例えば、シャワー処理及びＡｉｒＫｎｉｆｅ（エアナイフ）処理が挙げられる。シャワー処理では、対象物に対して水及び洗浄剤といった液体がシャワーにより吹き付けられる。残渣は、ブラシを用いて除去されてもよい。
－めっき工程－
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、めっき処理によって金属パターンを形成する工程（「めっき工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
　めっきの方法としては、公知の方法を適用でき、例えば、電気めっき及び無電解めっきが挙げられる。めっきは、電気めっきであることが好ましい。
　電気めっきにおいて使用されるめっき液の成分としては、例えば、水溶性金属塩が挙げられる。水溶性金属塩としては、めっき液の成分として通常使用される水溶性金属塩を用いることができる。水溶性金属塩としては、例えば、無機金属塩、アルカンスルホン酸金属塩、アルカノールスルホン酸金属塩、及び有機酸金属塩よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
　例えば、水溶性銅塩を例に挙げると、無機銅塩としては、例えば、硫酸銅、酸化銅、塩化銅、及び炭酸銅が挙げられる。アルカンスルホン酸銅塩としては、例えば、メタンスルホン酸銅、及びプロパンスルホン酸銅が挙げられる。アルカノールスルホン酸銅塩としては、例えば、イセチオン酸銅、及びプロパノールスルホン酸銅が挙げられる。有機酸銅塩としては、例えば、酢酸銅、クエン酸銅、及び酒石酸銅が挙げられる。
　めっき液は、硫酸を含んでもよい。めっき液が硫酸を含むことで、めっき液のｐＨ、及び硫酸イオン濃度を調整することができる。
　電気めっきの方法、及び条件は、制限されない。例えば、めっき液を加えためっき槽に現像工程後の基材を供給することで、上記金属層上にめっき層を形成することができる。電気めっきにおいては、例えば、電流密度、及び透明基材の搬送速度を制御することで、光吸収部を形成することができる。
　電気めっきに使用されるめっき液の温度は、７０℃以下であることが好ましく、１０℃～４０℃であることがより好ましい。電気めっきにおける電流密度は、０．１Ａ／ｄｍ２～１００Ａ／ｄｍ２であることが好ましく、０．５Ａ／ｄｍ２～２０Ａ／ｄｍ２であることがより好ましい。電流密度を高くすることでめっきの生産性を向上させることができる。電流密度を低くすることでめっきの厚さの均一性を向上させることができる。
　めっき工程において、上記金属層上に形成されるめっき層の厚さは、所望の光吸収部及び後述の露出金属層除去工程に応じ、適宜選択することができる。
－感光性樹脂層除去工程－
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、上記感光性樹脂層を除去する工程（「感光性樹脂層除去工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
　除去方法としては、例えば、薬品処理を用いて感光性樹脂層を除去する方法が挙げられる。除去液を用いて感光性樹脂層を除去する方法が好ましい。
　除去液としては、例えば、無機アルカリ成分又は有機アルカリ成分と、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン又はこれらの混合溶剤と、を含む除去液が挙げられる。無機アルカリ成分としては、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが挙げられる。有機アルカリ成分としては、例えば、第一級アミン化合物、第二級アミン化合物、第三級アミン化合物及び第四級アンモニウム塩化合物が挙げられる。
　感光性樹脂層は、除去液への浸漬によって除去されてもよい。除去液の温度は、３０℃～８０℃であることが好ましく、５０℃～８０℃であることがより好ましい。浸漬時間は、１分間～３０分間であることが好ましい。浸漬法において、除去液は撹拌されていてもよい。
　感光性樹脂層は、例えば、除去液を用いるスプレー法、シャワー法又はパドル法によって除去されてもよい。
－露出金属層除去工程－
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、露出した上記金属層を除去する工程（「露出金属層除去工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
　露出金属層除去工程は、めっき層が形成されていない部分の金属層を除去する工程であり、めっき工程により形成した金属パターンの一部がともに除去されてもよい。
　また、露出金属層除去工程は、エッチング処理により、露出した上記金属層を除去することが好ましい。
　エッチング処理は、公知の方法であってもよい。エッチング処理としては、例えば、ウェットエッチング及びドライエッチング（例えば、プラズマエッチング）が挙げられる。
エッチング処理としては、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２０９～段落０２１０に記載の方法及び特開２０１０－１５２１５５号公報の段落００４８～段落００５４に記載の方法も挙げられる。
　エッチング処理は、ウェットエッチングであることが好ましい。ウェットエッチングでは、通常、エッチング液が使用される。エッチング液の種類は、エッチングの対象に合わせて酸性又はアルカリ性のエッチング液から選択されてもよい。酸性のエッチング液としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸、シュウ酸及びリン酸からなる群より選択される少なくとも１種の酸性成分を含む水溶液が挙げられる。酸性のエッチング液としては、例えば、上記酸性成分と、塩化第２鉄、フッ化アンモニウム及び過マンガン酸カリウムからなる群より選択される少なくとも１種の塩との混合水溶液も挙げられる。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせた成分であってもよい。アルカリ性のエッチング液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン及び有機アミンの塩（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等）からなる群より選択される少なくとも１種のアルカリ成分を含む水溶液が挙げられる。アルカリ性のエッチング液としては、例えば、上記アルカリ成分と、塩（例えば、過マンガン酸カリウム）との混合水溶液も挙げられる。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせた成分であってもよい。
－黒化工程－
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、露出した上記金属パターンに黒化処理する工程（「黒化工程」ともいう。）を含むことが好ましい。これにより、より視認しにくい光吸収部を形成することができる。
　黒化とは、金属表面を変質及び／又は変形させ、金属光沢を低減することをいう。
　なお、黒化工程においては、上記金属パターンの表面の少なくとも一部を黒化すればよい。
　黒化の方法としては、特に限定されないが、金属を酸化させたり、窒化させたり、硫化させたり、塩化させたり、合金化させたり、表面粗面化する方法を挙げることができる。中でも、黒化処理液を用いて金属パターンを黒化することが好ましい。
　中でも、黒化工程おいては、金属パターンの表面を酸化、窒化、硫化及び／又は塩素化して黒化することが好ましい。
　金属として銅を用いた場合は、酸化又は硫化して黒化することがより好ましく、酸化して黒化することが更に好ましい。
　金属として銀を用いた場合は、硫化又は塩素化して黒化することがより好ましく、硫化して黒化することが更に好ましい。
　黒化処理液としては、黒化可能であれば特に制限はなく、公知の黒化処理液を用いることができ、また、市販されている黒化処理液を用いることもできる。
　また、黒化工程における処理時間及び処理温度等は、使用する黒化処理液、金属パターン等に応じ、適宜選択すればよい。
　また、黒化工程後、必要に応じて、洗浄工程等を行ってもよい。
　酸化による黒化とは、金属表面を酸化皮膜にしたもので、これにより金属光沢を抑えることができる。中には、表面形状が針のように変化した態様もある。
　銅の酸化方法としては、例えば、亜塩素酸ナトリウム及び水酸化ナトリウムの水溶液で処理することにより銅を酸化することができる。この液の濃度は、亜塩素酸ナトリウム：水酸化ナトリウム＝２０：１～２：１程度、水酸化ナトリウム濃度が４～２０ｇ／Ｌであることが好ましい。銅をこのような水溶液で処理することで、ＣｕＯ及び／又はＣｕ２Ｏを形成し、表面を黒化することができる。
　窒化による黒化とは、金属表面を窒化皮膜にしたもので、これにより金属光沢を抑えられる。
　硫化による黒化とは、金属表面を硫化皮膜にしたもので、これにより金属光沢を抑えられる。
　例えば、硫化ナトリウム水溶液で処理することにより、銀や銅などを硫化することができる。また、気相処理方法としては、硫化水素による処理により硫化することもできる。
　塩素化による黒化とは、金属表面を塩素化皮膜にしたもので、これにより金属光沢を抑えられる。
　黒化処理液には、酸化剤、硫化剤、窒化剤、又は、塩素化剤を含有することが好ましい。また、黒化処理液は、水性処理液であっても、有機溶剤溶液であってもよいが、水性処理液であることが好ましい。
　黒化処理液は、他の添加剤を含有していてもよい。
　他の添加剤としては、酸化、硫化、窒化又は塩素化助剤、粘度調整剤、界面活性剤、ｐＨ調整剤等が挙げられる。
　粘度調整剤としては、高分子化合物や多価アルコール等が挙げられるが、黒化処理液が水性処理液である場合、水溶性高分子、多価アルコール等が好ましく挙げられる。
　黒化処理液は、粘度調整の観点から、粘度調整剤として、多価アルコール及び水溶性高分子よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含有することが好ましい。
　水溶性高分子としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体（例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等）及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル／無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル／無水マレイン酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。
多価アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等が好適に用いられる。中でも、グリセリンが特に好ましい。
　粘度調整剤は、１種単独で用いてもよいが、２種以上併用してもよい。
　粘度調整剤の含有量は、黒化処理液の全質量に対して、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～５質量％であることがより好ましい。
　黒化処理液は、塗布性改良の観点から、界面活性剤を含有することができる。
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤を好ましく例示することができる。
　界面活性剤は、１種単独で用いてもよいが、２種以上併用してもよい。
　界面活性剤の含有量は、黒化処理液の全質量に対して、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～２質量％であることがより好ましい。
－その他の工程－
　本開示に係る視野角制御フィルムの製造方法は、上述した以外のその他の工程を含んでいてもよい。
　その他の工程としては、公知の工程であればよく、例えば、バインダーを含む組成物を用いた光透過部を形成する工程、接着層を形成する工程等が挙げられる。
＜用途＞
　本開示に係る視野角制御フィルムは、種々の用途に用いることができる、中でも、表示装置に好適に用いることができる。
　また、表示装置の好ましい態様として、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等が挙げられ、また、自動車車内内装用表示装置が好適に挙げられる。
（表示装置）
　本開示に係る表示装置は、本開示に係る視野角制御フィルムを備える。
　また、本開示に係る表示装置は、特に制限はなく、本開示に係る視野角制御フィルムを備えること以外、公知の表示装置の構成を有することができるが、表示パネル及びタッチセンサーよりなる群から選ばれた少なくとも１種を有することが好ましい。
＜表示パネル＞
　本開示に係る表示装置は、表示パネルを有することが好ましい。
　表示装置に用いられる表示パネルは、特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示パネル、及び、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
　これらのうち、液晶セル又は有機ＥＬ表示パネルであることが好ましく、有機ＥＬ表示パネルであることがより好ましい。すなわち、本開示に係る表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、又は、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であることが好ましい。表示素子の出射光は、直線偏光であることが好ましい。
　液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
　ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶化合物）が実質的に水平配向し、更に６０゜～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ　ｏｆ　ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ　ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　ａｌｉｇｎｅｄ　ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ　ｃｒｙｓｔａｌ　ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、及び特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
　ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報等に開示されている。
　有機ＥＬ表示パネルとしては、電極間（陰極及び陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
＜タッチセンサー＞
　本開示に係る表示装置は、タッチセンサーを有することが好ましい。
　タッチセンサーは、特に制限はないが、導電膜を有するものが好ましい。
　タッチセンサーにおける検出方法としては、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び光学方式が挙げられる。上記の中でも、検出方法としては、静電容量方式が好ましい。
　タッチセンサー型としては、例えば、いわゆるインセル型（例えば、特表２０１２－５１７０５１号公報の図５、図６、図７、図８に記載のもの）、いわゆるオンセル型（例えば、特開２０１３－１６８１２５号公報の図１９に記載のもの、特開２０１２－８９１０２号公報の図１及び図５に記載のもの）、ＯＧＳ（Ｏｎｅ　Ｇｌａｓｓ　Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）型、ＴＯＬ（Ｔｏｕｃｈ－ｏｎ－Ｌｅｎｓ）型（例えば、特開２０１３－５４７２７号公報の図２に記載のもの）、その他の構成（例えば、特開２０１３－１６４８７１号公報の図６に記載のもの）、及び各種アウトセル型（いわゆる、ＧＧ、Ｇ１・Ｇ２、ＧＦＦ、ＧＦ２、ＧＦ１、Ｇ１Ｆなど）が挙げられる。
　また、タッチセンサーとしては、例えば、「“最新タッチパネル技術”（２００９年７月６日、株式会社テクノタイムズ社発行）、三谷雄二監修」、「“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）」、「ＦＰＤ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　２００９　Ｆｏｒｕｍ　Ｔ－１１講演テキストブック」、及び「Ｃｙｐｒｅｓｓ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ　アプリケーションノートＡＮ２２９２」に開示されている構成を適用することができる。
　以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
（実施例１：ＭＳＡＰ）
（１）樹脂パターンの形成
　ポリカーボネート（ＰＣ；テクノロイＣ０００、１００μｍ、住化アクリル販売会社製）にスパッタリングによって１００ｎｍのＣｕシード層を形成し、金属層付基材を作製した。金属層基材上に、下記組成からなるレジスト組成物を膜厚６０μｍとなるように塗布し、８０℃で３０分乾燥させた。
＜レジスト組成物＞
　下記の各成分を溶解混合し、レジスト組成物を得た。
・ＰＨＳ－ＥＶＥ（ｐ－ヒドロキシスチレンの１－エトキシエチル保護体／ｐ－ヒドロキシスチレン共重合体（３０モル％／７０モル％）、下記構造）：７１．４部
・下記のアクリルポリマー：２８．６部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＰＡＧ１０３（ＢＡＳＦ社製）：２．７部
・ジブトキシアントラセン：２．７部
・エポキシ樹脂（ＪＥＲ１５７Ｓ６５、ジャパンエポキシレジン（株）製）：２．７部
・ナノ酸化アルミ粒子：（ＮＰ－ＡＬＯ－１、アルファ社製、平均粒子径８０ｎｍ）：４０．０部
・溶剤ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：不揮発分が組成物全体に対して１０質量％となるように調整した。
　なお、上記のアクリルポリマー（Acrylic polymer）の各構成単位における括弧の右下の数字は、モル比を表す。
　作製した感光性組成物層（レジスト層）が形成された金属層付基材にフォトマスクを通して、高圧水銀灯（キヤノン（株）製のＭＰＡ　５５００ＣＦ）を用いて露光した。そして、露光後の感光性樹脂組成物層を、アルカリ現像液（０．４質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で現像した後、超純水でリンスした。これらの操作により、トレンチ（溝）パターンを作製した。
（２）めっき処理
　パターンが形成された基材に対して硫酸銅浴を用いた電解めっきを行い、Ｃｕめっきパターンを形成した。
（３）樹脂パターンの除去
　作製したルーバー状配線パターンを有する基材を、レジスト剥離剤（Ｎ－３００、ナガセケムテックス（株）製）６０℃に２分間浸漬させた後、超純水でリンスした。これらの操作により、パターン化されたレジスト層（レジストパターン）を除去した。
（４）エッチング処理
　レジストパターンを剥離した後の基材を、銅エッチング液（メックブライト　ＱＥ－７３００、メック（株）製）を用いてシード層を除去し、配線パターンを有する基材を得た。
（５）黒化処理
　上記（４）で作製した配線パターンを有する基材上に、以下のように調製した黒化処理液１を塗布した。この基板を６０℃、５分間加熱した後、基板を純水で十分に洗浄して黒化処理液を除去することで、光吸収部を有する視野角制御フィルムを得た。
＜黒化処理液１＞
　下記成分を混合し、粘度１０ｍＰａ・ｓの黒化処理液１を調製した。
・亜塩素酸ナトリウム：２５質量部
・水酸化ナトリウム：１０質量部
・燐酸三ナトリウム：２質量部
・ポリビニルアルコール（日本酢ビ・ポバール（株）製、ＶＰ－１８）：５質量部
・純水：１，０００質量部
・グリセリン（粘度調整剤）：適量
（実施例２～１８）
　表１又は表２に記載の光吸収部の材質及び形状、並びに、基材に変更した以外は、実施例１と同様にして、視野角拡大フィルムを作製した。
　なお、実施例６では、上記黒化処理を行わなかった。
　また、使用した基材１～６の詳細を以下に示す。
　基材２：ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂
　　　　（厚さ５０μｍ、テクノロイＣ０００、住化アクリル販売株式会社製）
　基材３：ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
　　　　（厚さ１００μｍ、コスモシャイン Ａ４１６０、東洋紡株式会社製）
　基材４：アクリル樹脂
　　　　（厚さ１００μｍ、テクノロイＳ００１、住化アクリル販売株式会社製）
　基材５：トリアセチルセスロース（ＴＡＣ）
　　　　（厚さ１１８μｍ、富士フイルム株式会社製）
　基材６：シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）
　　　　（厚さ１００μｍ、ＨＤ９００ＡＧ７ＣＳ４、グンゼ株式会社製）
（実施例１９：ＳＡＰ）
（１）金属層基材の作製
〔被めっき層形成用組成物Ａの調製〕
　以下の成分を混合し、被めっき層形成用組成物Ａを得た。
・ポリブタジエンマレイン酸（ブタジエン－マレイン酸共重合体）水溶液（富士フイルム和光純薬株式会社製；４２質量％水溶液）：６質量部
・下記のアクリルアミドモノマー：２．５質量部
・Ｏｍｎｉｒａｄ１２７（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）：０．１３質量部
・イソプロパノール（ＩＰＡ）：９１．５質量部
〔中間層形成用組成物Ａの調製〕
　以下の成分を混合し、中間層形成用組成物Ａを得た。
・アクリット８ＵＡ－１２２Ａ（アイカ工業株式会社製）：４質量％
・イソプロパノール（ＩＰＡ）及び１－メトキシ－２－プロパノール（ＭＦＧ）の混合溶媒（ＩＰＡ：ＭＦＧ（質量比）＝３：１）：９６質量％
　基材１上に、中間層形成用組成物Ａをバーコーターにて塗布した。その後、形成された中間層形成用組成物層に対してＵＶ（紫外線）照射することにより、中間層（膜厚２．０μｍ）を形成した。つまり、基材と、基材上に配置された中間層とを有する中間層付き基材を得た。
　次に、上記中間層上に、被めっき層形成用組成物をバーコーターにて膜厚０．８μｍになるように塗布して、被めっき層前駆体層を得た。つまり、中間層付き基材と、上記中間層上に配置された被めっき層前駆体層とを有する被めっき層前駆体層付き基材を得た。
　上記被めっき層前駆体層を、メタルハライド光源にて露光（０．２Ｊ／ｃｍ２）した。露光後、室温の水にて、露光された被めっき層前駆体層をシャワー洗浄して現像処理し、被めっき層を得た。
　次いで、めっき層付き基材を炭酸ナトリウム１質量％水溶液に常温にて５分間浸漬し、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。次に、純水に５分間浸漬した後、Ｐｄ触媒付与液（オムニシールド１５７３アクチベーター、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に３０℃にて５分間浸漬した。その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。続いて、得られた被めっき層付き基材を還元液（サーキュポジットＰ１３オキサイドコンバーター６０Ｃ、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に３０℃にて５分間浸漬した。その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。次に、得られた被めっき層付き基材を無電解めっき液（サーキュポジット４５００、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に４５℃にて１５分間浸漬した。その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて洗浄して、金属層付き基材を得た。
　そして、上記のレジスト組成物を膜厚６０μｍとなるように塗布し、８０℃で３０分間乾燥させて感光性組成物層（レジスト層）を形成した。
（２）樹脂パターンの形成
　感光性組成物層（レジスト層）が形成された上記金属層付基材にフォトマスクを通して、キヤノン（株）製ＭＰＡ　５５００ＣＦ（高圧水銀灯）を用いて、露光した。そして、露光後の感光性樹脂組成物層を、アルカリ現像液（０．４％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で現像した後、超純水でリンスした。これらの操作によりトレンチ（溝）パターンを作製した。
（３）めっき処理
　パターンが形成された基材に対して硫酸銅浴を用いた電解めっきを行い、Ｃｕめっきパターンを形成した。
（４）樹脂パターンの除去
　作製した配線パターンを有する基材を、レジスト剥離剤（Ｎ－３００、ナガセケムテックス（株）製）６０℃に２分間浸漬させた後、超純水でリンスした。これらの操作により、パターン化されたレジスト層を除去した。
（５）エッチング処理
　レジストパターン剥離後の基材を、銅エッチング液（メックブライト　ＱＥ－７３００、メック（株）製）を用いてシード層を除去して配線パターンを有する基材を得た。
（６）黒化処理
　調製した黒化処理液１を、（５）で作製した配線パターンを有する基材上に塗布した。この基板を６０℃、５分加熱した後、基板を純水で十分に洗浄し、黒化処理液を除去することで、光吸収部を有する視野角制御フィルムを得た。
（実施例２０：ＦＡＰ）
（１）樹脂パターンの形成
　基材１上に、中間層形成用組成物Ａをバーコーターにて塗布した。その後、形成された中間層形成用組成物層に対してＵＶ（紫外線）照射することにより、中間層（膜厚２．０μｍ）を形成した。つまり、基材と、基材上に配置された中間層とを有する中間層付き基材を得た。
　次に、上記中間層上に、被めっき層形成用組成物をバーコーターにて膜厚０．８μｍになるように塗布して、被めっき層前駆体層を得た。つまり、中間層付き基材と、上記中間層上に配置された被めっき層前駆体層とを有する被めっき層前駆体層付き基材を得た。
　上記被めっき層前駆体層を、メタルハライド光源にて露光（０．２Ｊ／ｃｍ２）した。露光後、室温の水にて、露光された被めっき層前駆体層をシャワー洗浄して現像処理し、被めっき層を得た。
　被めっき層上に、上記のレジスト組成物を膜厚６０μｍとなるように塗布し、８０℃で３０分間乾燥させて感光性組成物層（レジスト層）を形成し、フォトマスクを通して、高圧水銀灯（キヤノン（株）製のＭＰＡ　５５００ＣＦ）を用いて露光した。そして、露光後の感光性樹脂組成物層を、アルカリ現像液（０．４質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で現像した後、超純水でリンスした。これらの操作により、パターン付き基材を作製した。
（２）めっき処理
　次いで、めっき層付き基材を炭酸ナトリウム１質量％水溶液に常温にて５分間浸漬し、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。次に、純水に５分間浸漬した後、Ｐｄ触媒付与液（オムニシールド１５７３アクチベーター、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に３０℃にて５分間浸漬した。その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。次に、得られた被めっき層付き基材を還元液（サーキュポジットＰ１３オキサイドコンバーター６０Ｃ、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に３０℃にて５分間浸漬した。その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて２回洗浄した。続いて、得られた被めっき層付き基材を無電解めっき液（サーキュポジット４５００、ローム・アンド・ハース電子材料社製）に４５℃にて６０分間浸漬した。その後、取り出した被めっき層付き基材を純水にて洗浄し、配線パターンを有する基材を得た。
（３）樹脂パターンの除去
　作製した配線パターンを有する基材を、レジスト剥離剤（Ｎ－３００、ナガセケムテックス（株）製）６０℃に２分間浸漬させた後、超純水でリンスした。これらの操作により、配線パターン基材を得た。
（４）黒化処理
　調製した黒化処理液１を、（４）で作製した配線パターンを有する基材上に塗布した。この基板を６０℃、５分加熱した後、基板を純水で十分に洗浄し、黒化処理液を除去することで、光吸収部を有する視野角制御フィルムを得た。
（比較例１）
〔光吸収部構成組成物Ａの調製〕
　以下の成分を混合し光吸収部構成組成物Ａを得た。
・Ｐｈｏｔｏｍｅｒ　６２１０（コグニス）：６７質量％
・９Ｂ３８５（ペンカラー）：２０質量％
・ＳＲ２８５（アルケマ）：１０質量％
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９（チバスペシャリティケミカルズ）：１質量％
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９（チバスペシャリティケミカルズ）：１質量％
・Ｄａｒｏｃｕｒ１１７３（チバスペシャリティケミカルズ）：１質量％
　表２中の幅Ｗ，高さＨ、ピッチＰの寸法となるような金型ロールを準備した。この金型ロールとニップロールとの間に、ＰＥＴ基材（東洋紡株式会社製、Ａ４１６０）を送り込んだ。この基材の送り込みに合わせて、光透過部組成物を金型ロールと基材との間に供給し、光透過部組成物が金型ロールの溝に充填されるように、金型ロール及びニップロールで光透過部構成組成物を押圧した。その後、基材側から高圧水銀灯により８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して光透過部組成物を硬化させ、光透過部を形成した。
　次に、光吸収部構成組成物Ａを、供給装置から光透過部上に供給し、ドクターブレードを用いて光吸収部構成組成物を光透過部間の溝に供給し、かつ、余剰分の光吸収部構成組成物を掻き落とした。その後、基材が備えられる側とは反対側から紫外線を照射して光吸収部構成組成物を硬化させ、硬化した光吸収部構成組成物によって光吸収部を形成した。
　以上のようにして、基材上に光透過部及び光吸収部を有する視野角制御フィルムを形成した。
　得られた視野角制御フィルムを用い、以下の評価を行った。評価結果を表１及び表２にまとめて示す。
＜透明性評価＞
　視野角制御フィルムの全光線透過率を評価した。ＪＩＳ　Ｋ７３７５（２００８）に規定される方法に準拠して、（株）日本電色工業製、ヘーズメーターＮＤＨ４０００を用いて測定した。
＜視野角制御性評価＞
　変角光度計（ＧＰ－２００、（株）村上色彩技術研究所製）を用いて行った。白色光源（ハロゲンランプ）を用いて試料台の角度を０°を基準として－９０°から＋９０°まで変化させながら透過光強度を測定した。０°の透過光強度を１００％とした場合の＋１０°の透過光強度を視野角制御性の値とした。
＜放熱性評価＞
　マイクロソフト社製のタッチパネル付き液晶タブレットＳｕｒｆａｃｅＰｒｏ７を表示装置として準備した。この液晶モニターはバックライト側の偏光板と表示用液晶セルと視認側の偏光板、及びタッチパネルで構成されており、ルーバー構造を有する視野角を制御する層を、視認側の偏光板、及びタッチパネルの間に、粘着剤（綜研化学（株）製、ＳＫダイン２０５７）を用いて貼合した。視野角制御フィルム（ルーバーフィルム）の四隅の周辺部は、金属筐体に接触するように配置した。表示装置を用いて動画を連続して１時間鑑賞した後に、カバーパネル表面の温度をサーモカメラ（ＦＬＩＲＣ５赤外線サーモグラフィー、ＦＲＩＲ社製）で測定したところ、４３℃であった。
　実施例に記載のルーバーフィルムを用いて作製した上記表示装置を用いて、同様にカバーパネルの表面温度を測定したところ、温度低下が見られた。比較例の視野角制御フィルム（ルーバーフィルム）を用いた場合では温度低下は見られてなかった。従って、実施例の視野角制御フィルム（ルーバーフィルム）は、放熱性を有していることが示された。
　表１及び表２において、温度低下の有無を以下にしたがって表記した。
　　Ａ：温度低下あり
　　Ｂ：温度低下なし
　なお、表１及び表２における光吸収部の並列とは、図１に示すパターン構造であり、格子とは、図３に示すパターン構造である。
　表１及び表２に記載の結果から、本開示に係る視野角制御フィルムである実施例１～２０の視野角制御フィルムは、比較例１のフィルムよりも、視野角制御性、及び、放熱性に優れる。
　また、表１及び表２に記載の結果から、本開示に係る視野角制御フィルムである実施例１～２０の視野角制御フィルムは、透明性にも優れる。
１０：視野角制御フィルム、１２：光透過部、１４：光吸収部、１６：基材、Ｗ：光吸収部１２の基材１６の面内方向における幅、Ｈ：光吸収部１２の基材１６の厚さ方向における高さ、Ｐ：光吸収部１２間の間隔（ピッチ）

Claims (14)

  1. 　基材、並びに、
    　前記基材の少なくとも一方の面において、光透過部及び光吸収部を有し、
    　前記光吸収部が、金属を含む
    　視野角制御フィルム。
  2. 　前記光吸収部が、金属からなるか、又は、金属及び金属化合物からなる請求項１に記載の視野角制御フィルム。
  3. 　前記光吸収部が、面内方向の一方向に沿って並列した構造を有する請求項１又は請求項２に記載の視野角制御フィルム。
  4. 　前記金属が、金属単体、及び、金属合金よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含む請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の視野角制御フィルム。
  5. 　前記光吸収部の表面の少なくとも一部が、黒色である請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の視野角制御フィルム。
  6. 　前記光吸収部の表面の少なくとも一部が、金属酸化物、金属窒化物、及び、金属硫化物よりなる群から選ばれた化合物を含む請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の視野角制御フィルム。
  7. 　フィルムの厚さ方向における全光線透過率が、５０％以上である請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の視野角制御フィルム。
  8. 　前記基材の厚さ方向より１０度傾けた方向における全光線透過率が、前記基材の厚さ方向における全光線透過率の９５％以下である請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の視野角制御フィルム。
  9. 　前記光吸収部の前記基材の厚さ方向における高さＨ／前記光吸収部の前記基材の面内方向における幅Ｗの値が、１以上である請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の視野角制御フィルム。
  10. 　前記基材の面内方向のうちの少なくとも１つの方向において、前記光透過部の幅／前記光吸収部の幅の値が、４．８～２０である請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の視野角制御フィルム。
  11. 　前記基材の面内方向におけるレターデーション値Ｒｅが、１００ｎｍ以下である請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の視野角制御フィルム。
  12. 　基材に金属層を形成する工程と、
    　金属層を含む基材に感光性樹脂層を形成する工程と、
    　前記感光性樹脂層を露光する工程と、
    　露光された前記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程と、
    　めっき処理によって金属パターンを形成する工程と、
    　前記感光性樹脂層を除去する工程と、
    　露出した前記金属層を除去する工程と、
    　露出した前記金属パターンに黒化処理する工程と、をこの順で含む請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の視野角制御フィルムの製造方法。
  13. 　基材に感光性樹脂層を形成する工程と、
    　前記感光性樹脂層を露光する工程と、
    　露光された前記感光性樹脂層を現像して未露光部を除去する工程と、
    　めっき処理によって金属パターンを形成する工程と、
    　前記感光性樹脂層を除去する工程と、
    　露出した前記金属パターンに黒化処理する工程と、をこの順で含む請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の視野角制御フィルムの製造方法。
  14. 　請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の視野角制御フィルムを備える表示装置。
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