TW201631337A - 偏光件、偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明之課題在於提供一種可實現影像顯示裝置等之電子裝置之多機能化及高機能化的偏光件。
本發明之解決手段係本發明之偏光件由厚度13μm以下,且含碘之樹脂薄膜所構成。樹脂薄膜形成有碘含量比其他部位低之低濃度部。
Description
本發明係有關於一種偏光件、偏光板及影像顯示裝置。
有時行動電話、筆記個人電腦(PC)等之影像顯示裝置搭載有相機等之內部電子零件。為提高如此之影像顯示裝置之相機性能等,已進行各種檢討(例如,專利文獻1至4)。然而,由於智慧型手機、觸控面板式之資訊處理裝置的急速普及,希望進一步提高相機性能等。此外,為因應影像顯示裝置之形狀的多樣化及高機能化,尋求部分地具有偏光性能的偏光件。
專利文獻1:日本特開2011-81315號公報
專利文獻2:日本特開2007-241314號公報
專利文獻3:美國專利申請案公開第2004/0212555號說明書
專利文獻4:日本特開2012-137738號公報
本發明係為解決上述習知課題而作成,且其主要目的在於提供一種可實現影像顯示裝置等之電子裝置之多機能化及高機能化的偏光件。
本發明之偏光件係由厚度13μm以下且含碘之樹脂薄膜所構成,而該樹脂薄膜中形成有碘之含量比其他部位低的低濃度部。
在一實施形態中,上述其他部位之單體透射率係42.0%以上,且偏光度係99.95%以上。
在一實施形態中,上述低濃度部之透射率係50%以上。
在一實施形態中,上述低濃度部之碘含量係1.0重量%以下。
在一實施形態中,上述低濃度部為直徑10mm以下之大略圓形。
在一實施形態中,上述樹脂薄膜之厚度係8μm以下。
在一實施形態中,上述低濃度部對應於所搭載之影像顯示裝置的相機孔部。
在一實施形態中,上述低濃度部係藉由使鹼性溶液接觸上述含碘之樹脂薄膜而形成。
在一實施形態中,上述鹼性溶液係1w%以上之氫氧化
鈉水溶液。
依據本發明之另一方面,提供偏光板。本發明之偏光板具有上述偏光件。
依據本發明之又一方面,提供影像顯示裝置。本發明之影像顯示裝置具有上述偏光板。
依據本發明之再一方面,提供上述偏光件之製造方法。本發明之偏光件之製造方法包含使鹼性溶液接觸厚度13μm以下且含碘之樹脂薄膜的步驟。
在一實施形態中,上述鹼性溶液之溫度係20℃以上。
在一實施形態中,使酸性溶液接觸上述樹脂薄膜接觸鹼性溶液之部位。
在一實施形態中,上述樹脂薄膜係形成在基材上之樹脂層。
在一實施形態中,上述樹脂層係塗布層。
依據本發明,透過由厚度13μm以下且含碘之樹脂薄膜所構成的偏光件,可形成碘含量比其他部位低且具優異表面平滑性之低濃度部。使該低濃度部對應於,例如,影像顯示裝置之相機孔部時,不僅可確保相機孔部之透射性,亦可使攝影時之亮度及色調最適化,且,可防止影像之變形,有助於提高獲得之影像顯示裝置的相機性能。如此,不僅可提供映像及監視器等之接收型電子裝置(例如,具有攝影光學系之相機裝置),依據本發明,亦可提供LED燈及紅外線感測器等之發射型電子裝置及確保對肉眼之透
射性及光之直射性的影像顯示裝置。
1‧‧‧偏光件(樹脂薄膜)
2‧‧‧低濃度部
3‧‧‧其他部位
圖1係本發明之一實施形態之偏光件的平面圖。
圖2(a)至(d)係實施例及比較例之偏光件之光學顯微鏡的觀察照片。
圖3(a)、(b)係顯示實施例1及比較例1之表面平滑性評價結果的圖。
以下,雖然說明本發明之一實施形態,但本發明不限於該實施形態。
A.偏光件
圖1係本發明之一實施形態之偏光件的平面圖。偏光件1係由包含二色性物質之樹脂薄膜構成。偏光件(樹脂薄膜)1形成有二色性物質之含量相對較低的低濃度部2。具體而言,偏光件1形成有二色性物質之含量比其他部位3低的低濃度部2。低濃度部具有作為非偏光部之機能。依據如此之結構,與機械地(例如,藉由使用雕刻刀衝孔、繪圖機、水刀等機械地衝落之方法)形成貫穿孔之情形相比,可避免破裂、分層(層間剝離)、糊露出等之品質上的問題。此外,由於低濃度部之二色性物質本身的含量低,與藉由雷射光等分解二色性物質而形成非偏光部之情形相比,可良好地維持非偏光部之透明性。
在圖示例中,雖然小圓形之低濃度部2形成在偏光件1之上端部中央部,但低濃度部之數目、配置、形狀、尺寸等可適當設計。例如,可按照搭載之影像顯示裝置的相機孔部的位置、形狀、尺寸等來設計。在此情形中,低濃度部宜為直徑10mm以下之大略圓形。
低濃度部之透射率(例如,在23℃下藉波長550nm之光測量的透射率)宜為50%以上,且以60%以上較佳,以75%以上更佳,而以90%以上特佳。若為如此之透射率,可確保所希望之透明性。例如,使低濃度部對應於影像顯示裝置之相機孔部時,可防止對相機之攝影性能的不良影響。
偏光件(除了低濃度部以外)宜在波長380nm至780nm中之任一波長顯示吸收二色性。偏光件(除了低濃度部以外)之單體透射率宜為40.0%以上,且以42.0%以上較佳,以42.5%以上更佳,而以43.0%以上特佳。偏光件(除了低濃度部以外)之偏光度宜為99.8%以上,且以99.9%以上較佳,而以99.95%以上更佳。
偏光件(樹脂薄膜)之厚度宜為13μm以下,且以8μm以下較佳,而以5μm以下更佳。藉由作成如此之厚度,可形成具有高透明性,同時具優異表面平滑性之低濃度部。具體而言,以上述其他部位作為基準時,低濃度部中之樹脂薄膜的表面粗度(凹凸)宜為3μm以下,且以1μm以下更佳。結果,例如,使低濃度部對應於影像顯示裝置之相機孔部時,可有效地防止對相機之性能的不良影響。此外,
藉由作成上述厚度,可良好地形成低濃度部。例如,在與後述之鹼性溶液接觸時,在短時間內形成低濃度部。另一方面,偏光件之厚度宜為1.0μm以上,且以2.0μm以上更佳。
上述二色性物質可舉碘、有機染料等為例。該等二色性物質可單獨或組合二種以上使用。最好使用碘。藉由使用碘,可良好地形成低濃度部。
上述低濃度部係二色性物質之含量比上述其他部位低的部分。低濃度部之二色性物質的含量宜為1.0重量%以下,且以0.5重量%以下較佳,而以0.2重量%以下更佳。若低濃度部之二色性物質的含量在如此範圍內,可賦予低濃度部所希望之透明性。例如,使低濃度部對應於影像顯示裝置之相機孔部時,由亮度及色調兩方面之觀點來看,可實現非常優異之攝影性能。另一方面,低濃度部之二色性物質的含量下限值通常在檢測極限值以下。此外,在使用碘作為二色性物質之情形中,低濃度部之碘含量係,例如,由藉螢光X光分析測量之X光強度,藉由使用標準試料預先作成之校準線求得。
其他部位之二色性物質含量與低濃度部之二色性物質含量的差宜為0.5重量%以上,且以1重量%以上更佳。
形成上述樹脂薄膜之樹脂可使用任意之適當樹脂。最好使用聚乙烯醇系樹脂(以下,稱為「PVA系樹脂」)。PVA系樹脂可舉聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物為例。聚乙烯醇係藉由皂化聚乙酸乙烯製得。乙烯-乙烯醇共聚物藉由
皂化乙烯-乙酸乙烯共聚物製得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%至100莫耳%,且宜為95.0莫耳%以上,而以99.0莫耳%以上更佳,並以99.93莫耳%以上特佳。皂化度可依據JIS K 6726-1994求得。藉由使用如此皂化度之PVA系樹脂,可製得具優異耐久性之偏光件。
PVA系樹脂之平均聚合度可依目的適當地選擇。平均聚合度通常為1000至10000,且宜為1200至6000,而以2000至5000更佳。此外,平均聚合度可依據JIS K 6726-1994求得。
B.偏光件之製造方法
上述低濃度部宜藉由使鹼性溶液接觸包含二色性物質之樹脂薄膜而形成。
B-1.包含二色性物質之樹脂薄膜
上述包含二色性物質之樹脂薄膜可,代表地,藉由在樹脂薄膜(可為形成在基材上之樹脂層)上,實施染色處理、延伸處理、膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等之各種處理而製得。
在一實施形態中,包含二色性物質之樹脂薄膜可藉由一方法製造,該方法包含在基材上形成包含上述PVA系樹脂之樹脂層而製得積層體、藉含碘之染色液染色上述樹脂層、及在硼酸水溶液中水中延伸上述積層體。依據如此之方法,可良好地製得滿足上述厚度及上述光學特性(單體透射率、偏光度)之偏光件。
上述基材之厚度宜為20μm至300μm,且以50μm
至200μm更佳。基材之形成材料可舉例如:聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等之酯系樹脂、環烯烴系樹脂、聚丙烯等之烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等之共聚合物樹脂等。最好是使用聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。其中,宜使用非晶質之聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂。非晶質之聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂之具體例可舉進一步包含間苯二甲酸作為二羧酸之共聚合物、及進一步包含環己烷二甲醇作為二醇之共聚合物等為例。此外,基材可照原樣利用作為保護薄膜。
上述樹脂層之厚度宜為3μm至40μm,且以3μm至20μm較佳,而以3μm至15μm更佳。樹脂層係,例如,在基材上塗布包含上述PVA系樹脂之塗布液,並藉由乾燥形成之塗布層。塗布液係,代表地,使PVA系樹脂溶解於溶劑中之溶液。溶劑宜使用水。溶液之PVA系樹脂濃度,相對於100重量份之溶劑,宜為3重量份至20重量份。
上述染色液宜為碘水溶液。碘之摻合量,相對於100重量份之水,宜為0.1重量份至0.5重量份。為了提高碘對水之溶解度,宜在碘水溶液中摻合碘化物(例如,碘化鉀)。碘化物之摻合量,相對於100重量份之水,宜為0.1重量份至20重量份,且以0.5重量份至10重量份更佳。
代表地,藉由將上述積層體浸漬於上述染色液中,染色樹脂層。染色液之液溫宜為20℃至50℃。浸漬時間宜為5秒至5分。此外,染色條件(濃度、液溫、浸漬時間)可設定為使最後製得之偏光件的偏光度或單體透射率
在預定範圍內。
上述硼酸水溶液宜藉由使硼酸及/或硼酸鹽溶解於作為溶劑之水中而製得。硼酸濃度,相對於100重量份之水,宜為1重量份至10重量份。藉由使硼酸濃度為1重量份以上,可有效地抑制樹脂層之溶解。
最好在上述硼酸水溶液中摻合碘化物。這是因為在染色樹脂層時,可預先抑制碘之溶出的緣故。碘化物之濃度,相對於100重量份之水,宜為0.05重量份至15重量份,且以0.5重量份至8重量份更佳。
代表地,上述水中延伸係一面將積層體浸漬於硼酸水溶液一面進行。延伸時之硼酸水溶液的液溫宜為40℃至85℃,且以50℃至85℃更佳。積層體在硼酸水溶液中之浸漬時間宜為15秒至5分。積層體之水中延伸的延伸倍率宜為2.0倍以上。積層體之延伸方法可採用任意之適當方法。積層體之延伸可藉一階段進行,亦可藉多階段進行。此外,亦可在水中延伸中配合空氣中延伸。積層體宜由原長延伸至4.0倍以上,且以5.0倍以上更佳。
B-2.鹼性溶液之接觸
如上所述,低濃度部宜藉由使鹼性溶液接觸包含二色性物質之樹脂薄膜而形成。使用碘作為二色性物質時,藉由使鹼性溶液接觸樹脂薄膜之所希望部位,可輕易地減少接觸部之碘含量。具體而言,藉由接觸,鹼性溶液可浸透至樹脂薄膜內部。樹脂薄膜所含之碘錯合物藉由鹼性溶液所含之鹼還原,成為碘離子。藉由還原碘錯合物為碘離子,
可提高接觸部之透射率。而且,成為碘離子之碘由樹脂薄膜移動至鹼性溶液之溶劑中。如此製得之低濃度部可良好地維持其透明性。具體而言,破壞碘錯合物使透過率提高時,雖然殘存於樹脂薄膜內之碘會隨著偏光件之使用再度形成碘錯合物而降低透過率,但使碘含量減少之情形可防止如此之問題。
鹼性溶液之接觸方法可採用任意之適當方法。可舉對樹脂薄膜,滴下、塗布、噴灑鹼性溶液之方法;將樹脂薄膜浸漬於鹼性溶液中之方法為例。亦可在鹼性溶液接觸時,藉任意之適當手段(例如,保護薄膜、表面保護薄膜)保護樹脂薄膜,使鹼性溶液不接觸所希望部位以外(使二色性物質之濃度不變低)。
鹼性溶液所含之鹼性化合物可使用任意之適當鹼性化合物。鹼性化合物可舉例如:氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰等之鹼金屬的氫氧化物;氫氧化鈣等之鹼土族金屬的氫氧化物;碳酸鈉等之無機鹼金屬鹽;乙酸鈉等之有機鹼金屬鹽;氨水等。其中,以鹼金屬之氫氧化物為佳,且以氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰為更佳,而以氫氧化鈉為特佳。藉由使用包含鹼金屬之氫氧化物的鹼性溶液,可效率良好地使碘錯合物離子化,且可更簡便地形成低濃度部。該等鹼性化合物可單獨使用,亦可組合二種以上使用。
鹼性溶液之溶劑可使用任意之適當溶劑。具體而言,可舉例如:水;乙醇、甲醇等之醇;醚;苯;氯仿;
及該等之混合溶劑。其中,由於碘離子可良好地移動至溶劑中,宜使用水、醇。
鹼性溶液之濃度為例如0.01N至5N,且宜為0.05N至3N,而以0.1N至2.5N更佳。若鹼性溶液之濃度在如此範圍內,可有效率地形成低濃度部。在鹼性溶液為氫氧化鈉水溶液之情形中,其濃度宜為1.0wt%以上,且以2wt%至8wt%更佳。
鹼性溶液之液溫係例如20℃以上,且宜為25℃至50℃。藉由在如此之溫度接觸鹼性溶液,可有效率地形成低濃度部。
鹼性溶液之接觸時間係按照,例如,樹脂薄膜之厚度、鹼性溶液所含之鹼性化合物的種類或濃度來設定。接觸時間係例如5秒至30分,且宜為5秒至5分。
如上所述,在鹼性溶液接觸時,可保護樹脂薄膜,使鹼性溶液不接觸所希望部位以外。有時上述保護薄膜可照原樣利用作為偏光件之保護薄膜。上述保護薄膜係在製造偏光件時暫時使用者。表面保護薄膜,為了在任意之適當時間由偏光件除去,代表地,透過黏著劑層黏貼在樹脂薄膜上。
圖示例之偏光件係,例如,藉由在包含二色性物質之樹脂薄膜上黏貼形成有小圓形貫穿孔之表面保護薄膜,並使鹼性溶液接觸之來製作。此時,宜亦保護樹脂薄膜之另一側(未配置表面保護薄膜之側)。
B-3.其他
在一實施形態中,上述鹼性溶液在與樹脂薄膜接觸後,藉由任意之適當手段由樹脂薄膜去除。依據如此之實施形態,例如,可確實地防止低濃度部之透射率隨著偏光件之使用而降低。鹼性溶液之去除方法的具體例可舉例如:洗淨、抹布等之擦拭去除、吸引去除、自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥等。最好是洗淨鹼性溶液。洗淨使用之溶液可舉例如:水(純水);甲醇、乙醇等之醇;酸性水溶液;及該等之混合溶劑等。最好是使用水。洗淨之次數沒有特別限制,可進行多數次。在藉由乾燥去除鹼性溶液之情形中,其乾燥溫度為例如20℃至100℃。
宜使酸性溶液接觸樹脂薄膜接觸鹼性溶液之部位。藉由與酸性溶液接觸,可進一步去除殘存於低濃度部之鹼性溶液到良好之程度。此外,可提高低濃度部之尺寸安定性(耐久性)。與酸性溶液之接觸可在去除上述鹼性溶液後進行,亦可在不去除鹼性溶液之情形下進行。
酸性溶液所含之酸性化合物可使用任意之適當酸性化合物。酸性化合物可舉例如:鹽酸、硫酸、硝酸、氟化氫等之無機酸;甲酸、草酸、檸檬酸、乙酸、安息香酸等之有機酸等。酸性溶液所含之酸性化合物中以無機酸為佳,且以鹽酸、硫酸、硝酸為更佳。該等酸性化合物可單獨使用,亦可組合二種以上使用。
酸性溶液之溶劑可使用例示作為上述鹼性溶液之溶劑者。酸性溶液之濃度係例如0.01N至5N,且宜為0.05N至3N,而以0.1N至2.5N更佳。
酸性溶液之液溫係例如20℃至50℃。酸性溶液之接觸時間係例如5秒至5分。此外,酸性溶液之接觸方法可採用與上述鹼性溶液之接觸方法同樣的方法。另外,酸性溶液可由樹脂薄膜去除。酸性溶液之去除方法可採用與上述鹼性溶液之去除方法同樣的方法。
C.偏光板
本發明之偏光板具有上述偏光件。偏光板,代表地,具有偏光件、及配置於該偏光件之至少一側的保護薄膜。保護薄膜之形成材料可舉例如:二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等之纖維素系樹脂;(甲基)丙烯酸系樹脂;環烯烴系樹脂;聚丙烯等之烯烴系樹脂;聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等之酯系樹脂;聚醯胺系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;該等之共聚合物樹脂等。
在保護薄膜之未積層偏光件的面上,可實施硬塗層或防止反射處理、以不擴散或防眩光為目的之處理,作成表面處理層。表面處理層,例如,為提高偏光件之加濕耐久性,宜為透濕度低之層。硬塗覆處理係為防止傷害偏光板表面等而實施。硬塗層可藉由例如,在表面上附加丙烯酸系、聚矽氧系等適當紫外線硬化型樹脂之具優異硬度或光滑特性等的硬化皮膜的方式等來形成。硬塗層之鉛筆硬度宜為2H以上。防止反射處理係為防止在偏光板之外光的反射而實施,且可依據習知之方式藉由形成以下種類等之低反射層來達成:例如,如日本特開2005-248173號公報揭示之利用光干涉作用的反射光消除效果來防止反射
的薄層、或如日本特開2011-2759號公報揭示之藉由在表面上賦予微細構造而呈現低反射率之構造。防眩處理係為防止外光在偏光板表面反射而妨礙觀看偏光板透射光等而實施,例如,藉由以噴砂方式及壓凸加工方式等粗面化方式或摻合透明微粒子之方式等適當方式在保護薄膜之表面賦予微細凹凸構造來實施。防眩層亦可兼作用以擴散偏光板透射光以擴大視角之擴散層(視角擴大機能等)。
保護薄膜之厚度宜為10μm至100μm。保護薄膜,代表地,透過接著層(具體而言,接著劑層、黏著劑層)而積層在偏光件上。接著劑層代表地藉由PVA系接著劑或活化能量束硬化型接著劑形成。黏著劑層代表地藉由丙烯酸系黏著劑形成。
D.影像顯示裝置
本發明之影像顯示裝置具有上述偏光板。影像顯示裝置可舉液晶顯示裝置、有機EL裝置為例。具體而言,液晶顯示裝置具有液晶單元及液晶面板,而該液晶面板具有配置在該液晶單元之一側或兩側的上述偏光板。有機EL裝置具有在觀看側上配置有上述偏光板之有機EL面板。代表地,上述偏光件配置成使其低濃度部對應於所搭載之影像顯示裝置的相機孔部。
[實施例]
以下,藉由實施例具體地說明本發明,但本發明不限於該等實施例。此外,各特性之測量方法如下。
1.厚度
使用數位測微器(Anritsu公司製,製品名「KC-351C」)來測量。
2.偏光度
使用紫外可見光譜光度計(日本分光公司製,製品名「V7100」),測量偏光件之單體透射率(Ts)、平行透射率(Tp)及直交透射率(Tc),並藉由下式求得偏光度(P)。此外,Ts、Tp及Tc係藉由JIS Z 8701之2度視野(C光源)測量,並進行視感度修正之Y值。
偏光度(P)(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
[實施例1]
(積層體之製作)
使用長條狀且吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚合PET)薄膜(厚度:100μm),作為樹脂基材。
在樹脂基材之一面上實施電暈處理,並在該電暈處理面上,在25℃下塗布及乾燥以9:1之比包含聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基變性PVA(聚合度1200、乙醯乙醯基變性度4.6%、皂化度99.0莫耳%以上、日本合成化學工業公司製、商品名「GOHSEFIMER Z200」)的水溶液,以形成厚度11μm之PVA系樹脂層,製成積層體。
(偏光板之製作)
使製得之積層體,在120℃之烘箱內在周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)進行自由端單軸延伸至2.0倍(空氣中輔
助延伸)。
接著,將積層體浸漬於液溫30℃之不溶化浴(相對於100重量份之水,摻合4重量份之硼酸而製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶化處理)。
接著,一面調整碘濃度、浸漬時間一面浸漬於液溫30℃之染色浴中使製得之偏光板具有預定透射率。在本實施例中,浸漬於相對於100重量份之水,摻合0.2重量份之碘,並摻合1.5重量份之碘化鉀而製得的碘水溶液中60秒鐘(染色處理)。
接著,浸漬於液溫30℃之交聯浴(相對於100重量份之水,摻合3重量份之碘化鉀,並摻合3重量份之硼酸而製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。
然後,將積層體,一面浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於100重量份之水,摻合4重量份之硼酸,並摻合5重量份之碘化鉀而製得的水溶液)中,一面在周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸,使總延伸倍率為5.5倍(水中延伸)。
然後,將積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於100重量份之水,摻合4重量份之碘化鉀而製得的水溶液)中(洗淨處理)。
洗淨後,在積層體之PVA系樹脂層表面上,塗布PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製、商品名「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」、樹脂濃度:3重量%),接著黏貼三乙醯纖維素薄膜(KONICA MINOLTA公司製、
商品名「KC4UY」、厚度40μm),並在維持於60℃之烘箱中將之加熱5分鐘,製成具有厚度5μm之偏光件(單體透射率42.8%、偏光度99.99%)的偏光板。
(碘低濃度部之形成)
由製得之偏光板剝離上述樹脂基材,並在該剝離面(偏光件面)上黏貼形成有直徑4mm之圓形小孔的表面保護薄膜,再將之浸漬於1mol/L(1N、4w%)之氫氧化鈉水溶液中8秒(鹼處理),接著,浸漬於0.1N之鹽酸中30秒(酸處理)。然後,在60℃下乾燥,並剝離表面保護薄膜,製得具有碘低濃度部之偏光板。此外,使用形成有厚度5μm之黏著劑層的PET薄膜(厚度38μm、三菱樹脂公司製、商品名:Diafoil),作為表面保護薄膜。
[實施例2]
在金屬板上塗布聚乙烯醇(聚合度2400、皂化度99.2莫耳%)之水溶液,接著在120℃下乾燥5分鐘,製得厚度20μm之PVA薄膜。
將製得之PVA薄膜浸漬於30℃之水溶液中30秒(膨潤步驟)。
接著,一面調整碘濃度、浸漬時間一面將PVA薄膜浸漬於液溫30℃之染色浴中,使製得之偏光板具有預定透射率。在本實施例中,浸漬於相對於100重量份之水,摻合0.15重量份之碘,並摻合1.0重量份之碘化鉀而製得的碘水溶液中60秒鐘(染色處理)。
接著,浸漬於液溫30℃之交聯浴(相對於100重量份之水,
摻合3重量份之碘化鉀,並摻合3重量份之硼酸而製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。
然後,將PVA薄膜,一面浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於100重量份之水,摻合4重量份之硼酸,並摻合5重量份之碘化鉀而製得的水溶液)中,一面在周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸至5.5倍(水中延伸)。
然後,將PVA薄膜浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於100重量份之水,摻合4重量份之碘化鉀而製得的水溶液)中(洗淨處理)。
洗淨後,在PVA薄膜之一面上,塗布PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製、商品名「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」、樹脂濃度:3重量%),接著黏貼三乙醯纖維素薄膜(KONICA MINOLTA公司製、商品名「KC4UY」、厚度40μm),並在維持於60℃之烘箱中將之加熱5分鐘,製成具有厚度7μm之偏光件(單體透射率42.5%、偏光度99.99%)的偏光板。
在製得之偏光板之偏光件表面上黏貼上述表面保護薄膜,並將之浸漬於1mol/L(1N)之氫氧化鈉水溶液中10秒,接著,浸漬於0.1N之鹽酸中30秒。然後,在60℃下乾燥,並剝離表面保護薄膜,製得具有碘低濃度部之偏光板。
[實施例3]
除了使用厚度30μm之PVA薄膜(Kuraray公司製,PE3000),及設染色浴之碘濃度為0.1重量%、碘化鉀濃度為1.0重量%以外,與實施例2同樣地,製成具有厚度12μm
之偏光件(單體透射率42.5%、偏光度99.99%)的偏光板。
在製得之偏光板之偏光件表面上黏貼上述表面保護薄膜,並將之浸漬於1mol/L(1N)之氫氧化鈉水溶液中25秒,接著,浸漬於0.1N之鹽酸中30秒。然後,在60℃下乾燥,並剝離表面保護薄膜,製得具有碘低濃度部之偏光板。
[比較例1]
除了使用厚度60μm之PVA薄膜(Kuraray公司製,PE6000)以外,與實施例2同樣地,製成具有厚度23μm之偏光件(單體透射率42.8%、偏光度99.99%)的偏光板。
在製得之偏光板之偏光件表面上黏貼上述表面保護薄膜,並將之浸漬於1mol/L(1N)之氫氧化鈉水溶液中80秒,接著,浸漬於0.1N之鹽酸中30秒。然後,在60℃下乾燥,並剝離表面保護薄膜,製得具有碘低濃度部之偏光板。
[比較例2]
除了在鹼處理中,設在氫氧化鈉水溶液中之浸漬時間為40秒以外,與比較例1同樣地,製得具有碘低濃度部之偏光板。
對製得之偏光板進行以下之評價。
1.偏光件之碘含量
測量對應上述表面保護薄膜之小孔之部位的碘含量。具體而言,由藉螢光X光分析依據下述條件測量之X光強度,藉由使用標準試料預先作成之校準線求得各元素含量。
分析裝置:理學電機工業製螢光X光分析裝置(XRF)製品名「ZSX100e」
對陰極:銠
光譜結晶:氟化鋰
激發光能量:40kV-90mA
碘測量線I-LA
定量法:FP法
2θ角峰:103.078度(碘)
測量時間:40秒
2.透射率
使用紫外可見光譜光度計(日本分光公司製,製品名「V7100」),測量碘低濃度部之透射率。此外,在各實施例及比較例中,另外製作將表面保護薄膜之小孔直徑變更為20mm的樣本,並對該等進行測量。
3.外觀
藉由目視及光學顯微鏡(OLYMPUS公司製、MX61、倍率:5倍),進行碘低濃度部(對應於上述表面保護薄膜之小孔的部位)之外觀觀察。
評價結果與實施例1及比較例1之鹼處理前的碘量一起顯示於表1中。此外,光學顯微鏡之觀察照片顯示於圖2(a)至(d)中。
在目視觀察中,相對於實施例在碘低濃度部中未確認有皺紋,比較例1明確地確認有皺紋。實施例3在光學顯微鏡觀察中確認有皺紋。皺紋係與偏光件之吸收軸方向大致平行地形成。皺紋由於在鹼處理後(酸處理前)產生,可預測是因為鹼性溶液之接觸部局部地吸水,並因後續之處理膨脹而產生。此外,在產生皺紋之偏光件上黏貼保護薄膜等薄膜時,容易局部地產生氣泡,恐有無法滿足所要求品質之虞。另外,雖然比較例2在碘低濃度部中未確認有皺紋,但得不到高透射率。
在實施例1及比較例1中,雖然藉由Canon公司製光學測量器「ZYGO New View 7300」評價碘低濃度部附近之表面平滑性(凹凸之大小)的結果顯示於圖3(a)、(b)中,但由圖3(b)亦可更清楚了解比較例1在碘低濃度部形成凹凸(皺紋)之情形。
本發明之偏光件適用於智慧型手機等之行動電話;筆記型PC、平板PC等之具相機影像顯示裝置(液晶顯
示裝置、有機EL裝置)。
1‧‧‧偏光件(樹脂薄膜)
2‧‧‧低濃度部
3‧‧‧其他部位
Claims (16)
- 一種偏光件,其由厚度13μm以下,且含碘之樹脂薄膜所構成,前述樹脂薄膜中形成有前述碘之含量比其他部位低的低濃度部。
- 如請求項1之偏光件,其中前述其他部位之單體透射率係42.0%以上,且偏光度係99.95%以上。
- 如請求項1或2之偏光件,其中前述低濃度部之透射率係50%以上。
- 如請求項1至3中任一項之偏光件,其中前述低濃度部之碘含量係1.0重量%以下。
- 如請求項1至4中任一項之偏光件,其中前述低濃度部為直徑10mm以下之大略圓形。
- 如請求項1至5中任一項之偏光件,其中前述樹脂薄膜之厚度係8μm以下。
- 如請求項1至6中任一項之偏光件,其中前述低濃度部對應於所搭載之影像顯示裝置的相機孔部。
- 如請求項1至7中任一項之偏光件,其中前述低濃度部係藉由使鹼性溶液接觸前述含碘之樹脂薄膜而形成。
- 如請求項8之偏光件,其中前述鹼性溶液係1w%以上之氫氧化鈉水溶液。
- 一種偏光板,其具有如請求項1至9中任一項之偏光件。
- 一種影像顯示裝置,其具有如請求項10之偏光板。
- 一種如請求項1至9中任一項之偏光件的製造方法,其包含使鹼性溶液接觸厚度13μm以下且含碘之樹脂薄膜的步驟。
- 如請求項12之製造方法,其中前述鹼性溶液之溫度係20℃以上。
- 如請求項12或13之製造方法,其使酸性溶液接觸前述樹脂薄膜接觸鹼性溶液之部位。
- 如請求項12至14中任一項之製造方法,其中前述樹脂薄膜係形成在基材上之樹脂層。
- 如請求項15之製造方法,其中前述樹脂層係塗布層。
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