JP6402503B2 - 積層材、タッチパネルセンサ、電磁波遮蔽材、及び、画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、透明支持体と当該透明支持体上に設けられた金属層とを含む積層材に係り、とりわけ、透明支持体の側から積層材を観察した場合に金属層が黒色に観察される積層材に関する。

従来、透明支持体と当該透明支持体上に設けられた金属層とを含む積層材が、広く様々の分野にて使用されている。このような積層材の広く知られた用途として、特許文献１及び特許文献２に開示された電磁波遮蔽材（電磁波遮蔽シート）、タッチパネルセンサ、発熱体を例示することができる。このような用途において、金属層は、透明支持体上で開口領域を画成するメッシュパターンを形成し、その材料特性、例えば導電性や熱伝導性に起因する様々の機能を発揮することを期待されている。

ただし、透明支持体と組み合わせて使用される多くの用途において、金属層は目立たないことが好ましいとされている。このため、特許文献３及び特許文献４では、金属層の表面に黒化処理を施し、金属層の機能を維持しながら、金属層での光の反射を抑制している。特許文献３及び特許文献４では、真空蒸着法やスパッタリング法等の乾式堆積法を用いて、それ自体が黒色を呈する物質であるＣｕＯやＮｉ−Ｃｕ−Ｏ等を黒化膜として成膜し、成膜された黒化膜を、金属層をなすようになる金属膜とともに、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングし、黒化層が積層された金属層を作製している。

特開２００４−１９２０９３号公報 特開２００６−３４４１６３号公報 特開２００９−５４６７０号公報 特開２００８−２２７３５２号公報

ただし、金属層との密着性が良好な黒色材料は多く存在しない。とりわけ、透明支持体側から黒化層と金属層とを順に積層する場合には、黒色材料は、金属層だけでなく透明支持体に対しても優れた密着性を示す必要がある。金属層及び透明支持体の両方に密着性を示し且つ工業上使用可能な黒色材料は、数種類しか存在せず、コスト面等において好ましくない。また、黒化膜を金属膜とともにフォトエッチングしてパターニングする場合には、エッチング時の浸食速度が黒化膜と金属膜との間で異なるため、パターニングされた金属層の輪郭が直進性を持たず、線幅の分布（ばらつき）が増大し、さらには断線箇所が生じてしまうこともある。そもそも、金属層をなすようになる金属膜に加えて、更に黒色材料からなる黒化膜を成膜することは、使用材料数、工程時間、及び工程数ともに増え、製造コスト上の観点から好ましくなく、加えて、製造工程が煩雑でもある。

一方、本件発明者が鋭意研究を重ねたところ、金属層と透明支持体との界面形状を工夫することによって、別途の黒化層を設けることなく、透明支持体の側から観察した場合に金属層が黒色に観察されることを知見した。このような知見に基づいて創案されたものとして、透明支持体の金属層で覆われている面が可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起により形成された凹凸面となっている積層材を、本件発明者は既に提案している（特願２０１３−１５９４４４号）。

ところで、金属層が未形成状態の、微小突起が密接して配置されてなるいわゆるモスアイ構造は、その表面構造のため、耐汚れ性等の耐久性の点で問題がある。すなわち、その表面構造のため、皮脂等の汚れが付着し易く、また当該汚れは微小突起間の溝奥に入り込むため、除去が困難であり、表面外観が悪化し易いという問題がある。更に汚れを拭き取る時の圧力で、突起が容易に潰れたり、突起の先端同士が付着する等の塑性変形が生じ、拭いた箇所に拭き痕が残ってしまう場合があるなど、使用中の耐久性に問題がある。

また、金属層が未形成状態の、微小突起が密接して配置されてなるいわゆるモスアイ構造は、その表面構造のため、生産性の点からも問題がある。すなわち、モスアイ構造の製造時に使用される賦型金型を大面積で作製することが容易ではなく、微小突起の形状に対応する複数の微細孔を賦型金型に形成するために陽極酸化やケミカルエッチング、ブラスト等の手法を用いる場合には、複数の微細孔の形状のばらつきを制御することが難しいという問題がある。また、複数の微細孔に賦型用樹脂が詰まりやすいため、賦型金型の寿命が短いという問題もある。

本発明は、以上のような点を考慮してなされたものである。本発明は、金属層とは別途に黒化層を設けることなく、透明支持体の側から積層材を観察した場合に金属層が黒色に観察される積層材であって、生産性及び耐久性の面で改良された積層材を提供することを目的とする。

本発明による積層材は、
透明支持体と、
前記透明支持体上に設けられた金属層と、
を備え、
前記透明支持体の前記金属層で覆われている面は、一方向に延在する単位凸条からなる微細凸条群により形成された凹凸面となっており、
前記微細凸条群の隣接する単位凸条間隔は、可視光線帯域の最短波長以下である。

本発明による積層材において、前記金属層の厚みは、前記単位凸条の高さよりも厚くなっていてもよい。

本発明による積層材において、前記金属層は、前記透明支持体上において、開口領域を画成するメッシュパターンを形成していてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサは、上述した本発明による積層材のいずれかを備える。

本発明による電磁波遮蔽材は、上述した本発明による積層材のいずれかを備える。

本発明による表示装置は、
画像形成装置と、
上述した本発明による積層材のいずれかと、を備え、
前記積層材は、前記金属層が前記画像形成装置と前記透明支持体との間に位置するよう、配置されている。

本発明によれば、金属層とは別途に黒化層を設けることなく、透明支持体の側から積層材を観察した場合に金属層が黒色に観察される積層材であって、生産性及び耐久性の面で改良された積層材を提供することができる。

図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、積層材の縦断面図である。 図２は、図１の積層材に含まれる金属層のパターンの一例を説明するための図であって、積層材の斜視図である。 図３は、図１の積層材に含まれる透明支持体を示す斜視図である。 図４は、図３の透明支持体における凹凸構造層の製造に用いられる賦型ロール金型の製造について説明するための図である。 図５は、図４の賦型ロール金型の製造に用いられるバイトの刃先の回転方向に対して垂直な平面による断面の一部を拡大して示す模式図である。 図６は、図３の透明支持体における凹凸構造層の製造方法の一例を説明するための図である。 図７は、図１の積層材に含まれる金属層のパターニング方法を説明するための図である。 図８は、図１の積層材に含まれる金属層のパターニング方法を説明するための図である。 図９は、図１の積層材に含まれる金属層のパターニング方法を説明するための図である。 図１０は、図１の積層材に含まれる金属層のパターニング方法を説明するための図である。 図１１は、図１の積層材に含まれる金属層のパターニング方法を説明するための図である。 図１２は、図１の積層材に含まれる金属層のパターニング方法を説明するための図である。 図１３は、図１の積層材に含まれる金属層のパターニング方法を説明するための図である。 図１４は、積層材を用いてなるタッチパネルセンサを含むタッチパネル装置の一変形例を示す模式図である。 図１５は、積層材の画像形成装置に対する位置関係を説明するための図である。 図１６は、積層材を用いてなるタッチパネルセンサを含むタッチパネル装置の一変形例を示す模式図である。 図１７は、積層材を用いてなるタッチパネルセンサを含むタッチパネル装置の他の変形例を示す模式図である。 図１８は、積層材を用いてなるタッチパネルセンサを含むタッチパネル装置のさらに他の変形例を示す模式図である。 図１９は、積層材を用いてなる電磁波遮蔽シートを含む表示装置を示す図である。 図２０は、積層材の一変形例を説明するための図である。

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

なお、本明細書において、「シート」、「板」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「シート」は、板やフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、呼称の違いのみにおいて区別され得ない。

また、「シート面（板面、フィルム面）」とは、対象となるシート状（板状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において、対象となるシート状部材（板状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。本実施の形態においては、積層材のシート面、積層材に含まれる透明支持体のシート面、後述する透明支持体の凹凸構造層のシート面、および、後述する積層材の透明基材のシート面は、互いに平行となっている。

さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

＜＜積層材＞＞
図１に示すように、積層材１０は、透明支持体２０と、透明支持体２０上に設けられた金属層１５と、を備えている。この積層材１０において、透明支持体２０の少なくとも金属層１５で覆われている面は、一方向（図１において紙面に対して垂直な方向）に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２により形成された凹凸面３１となっている。微細凸条群３２の隣接する単位凸条３２ｕの間隔ｄは、可視光線帯域の最短波長以下である。

このような積層材１０を金属層１５の側から観察した場合、金属層１５は、その構成材料に依存した金属色で観察される。その一方で、積層材１０を透明支持体２０の側から観察した場合、金属層１５の構成材料に依存することなく金属層１５は黒色に観察される。すなわち、金属層１５と透明支持体２０との界面の状態を工夫することによって、透明支持体２０越しに観察される金属層１５は、その構成材料とは無関係に、黒色を呈するようになる。金属層１５の支持体として凹凸面３１を有する透明支持体２０を用いることにより、この透明支持体２０越しに観察される金属層１５が、黒化処理を施すことなく黒色に観察されるようになることは、技術水準から予測される範囲を超えた顕著な効果と言える。

以下、積層材１０の構成要素である透明支持体２０及び金属層１５について順に説明していく。

なお、本明細書において、「透明」とは、可視光透過率が７０％以上、好ましくは９０％以上であることを意味している。また、本明細書で言及する可視光透過率（以下、単に「透過率」とも呼称する）は、測定対象となる部位をなすようになる材料を東洋紡績製ＰＥＴフィルム（品番：コスモシャインＡ４３００、厚さ１００μｍ）の上に膜厚１μｍで成膜し、分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ−３１００ＰＣ」、ＪＩＳ Ｋ０１１５準拠品）を用いて測定波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。

＜＜透明支持体＞＞
透明支持体２０は、基材として機能する透明基材２５と、透明基材２５上に設けられた透明な凹凸構造層３０と、を有している。凹凸構造層３０の凹凸面３１は、一方向に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２により形成されており、微小突起が密接して配置されてなるいわゆるモスアイ構造に類似の効果が得られながら、モスアイ構造に比べて耐久性に優れている。

＜透明基材＞
透明基材２５としては、既知の透明基材を適宜選択して用いることができ、特に限定されない。透明基材２５に用いられる材料としては、例えば、透明樹脂や透明無機材料を例示することができる。透明樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等のオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等を挙げることができる。一方、透明無機材料としては、例えば、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、蛍石等を挙げることができる。

透明基材２５の厚みは、積層材１０の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０μｍ〜５０００μｍである。透明基材２５は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもの、のいずれであってもよい。

透明基材２５の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有していてもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。また、透明基材２５が凹凸構造層３０とは別の材料から形成される場合には、透明基材２５と凹凸構造層３０との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性を向上させるためのプライマー層を透明基材２５上に形成してもよい。このプライマー層は、透明基材２５及び凹凸構造層３０の双方に密着性を有し、透明であることが好ましい。プライマー層の材料としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、及びシランカップリング剤等から適宜選択して使用することができる。前記シランカップリング剤の市販品としては、例えば、ハーベス製のデュラサーフプライマーＤＳ−ＰＣ−３Ｂ等が挙げられる。

＜凹凸構造層＞
次に、凹凸構造層３０について説明する。図１及び図３に示すように、凹凸構造層３０は、一方向に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２により形成された凹凸面３１を有しており、微細凸条群３２の隣接する単位凸条３２ｕ間の間隔ｄは、可視光線帯域の最短波長以下である。なお、凹凸構造層３０及び透明支持体２５のシート面は、図１においては、ＸＹ平面あるいはこれと平行な面となる。これにより、透明支持体２０は、凹凸構造層３０の凹凸面３１において、極めて優れた反射防止機能を発揮することができる。すなわち、金属層１５が未形成の状態であって透明支持体２０の一方の面上に凹凸面３１が形成された構造のみの状態においては、凹凸面３１と空気との界面での光反射が極めて少なく、通常、法線方向入射光の場合で可視光線反射率（以下、単に「反射率」とも呼称する）が１％未満である。そのため、凹凸面３１に入射する可視光線はほどんど全て透過し、透明支持体２０を観察した場合、凹凸面３１および凹凸面３１の反対側面のいずれの側から見ても透明に見える。そして、透明支持体２０自体が無色透明の場合は、いずれの側から観察しても無色透明に見える。かかる微細凸条群３２により形成された凹凸面３１自体は、特許第４１９７１００号公報等で公知である。ただし、後述のように、本発明においては微細凸条群３２により形成された凹凸面３１を用いてそれ自体固有の反射防止性かつ高透明性の効果を奏するものでは無く、微細凸条群３２により形成された凹凸面３１上に可視光線を透過せずに反射し得る厚みの金属層１５を被覆して、可視光線を遮断し、透明支持体２０側から見た場合に黒色を呈し、金属層１５の側から見た場合に金属光沢（高光反射性）を呈するという従来公知の微細凸条群３２により形成された凹凸面３１からは予想外の効果を奏するのである。

なお、微細凸条群３２の「微細」とは、微細凸条群３２を構成する単位凸条３２ｕが可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄで配列される程度に微細であることを意味する。また、可視光線帯域の最短波長は、透明支持体２０を含む積層材１０が使用される環境下においてこれに入射する可視光線帯域の最短波長を指している。したがって、積層材１０が使用される環境下に波長帯域が制限された特定スペクトルを持つ光源からの光のみが存在する場合には、当該光源から放射される可視光スペクトルの最短波長が、ここでいう可視光線帯域の最短波長となり、それ以外の場合には、一般的な可視光線帯域の最短波長として３８０ｎｍを、ここでいう可視光線帯域の最短波長として採用する。

また、微細凸条群３２の単位凸条３２ｕは、一方向に延在している限り、図３に示すように、その稜線が平面視において直線形状を有していることに限定されず、例えばその稜線が平面視において２つの端点を有する正弦曲線等の開曲線形状を有していてもよい。本明細書において「一方向に延在する」とは、隣接する単位凸条３２ｕの間隔ｄが一定であることをいい、例えば単位凸条３２ｕの稜線が平面視において開曲線形状を有している場合には、隣接する２つの単位凸条３２ｕのうち一方の稜線が他方の稜線上の各点から各単位凸条３２ｕの配列方向に一定の距離に位置していることをいう。また、本明細書において、ＸＹ平面を仮定して「一方向」をＹ軸に平行な方向とした場合に、「一方向に延在する」とは、端点の（ｘ，ｙ）座標に比べて、ｘ値は増減しても良いが、ｙ値は漸次増加するように延びるように存在していることをいう。すなわち、単位凸条３２ｕの稜線は、Ｙ軸方向において戻る方向成分、すなわちｙ値が減少する方向成分を有していない限り、蛇行曲線等の開曲線形状を有していてもよい。

単位凸条３２ｕの延在方向に対して直交する面で切断した（あるいは切断したと仮定した）場合の断面形状（以下、これを主切断面形状と呼称する）は、Ｚ軸方向に向かって線幅が連続的に狭くなっていく形状であれば、図１に示すような放物線状に限定されず、例えば、台形状、三角形状、五角形状、釣鐘状、半円状、半楕円状、双曲線状であってもよい。また、単位凸条３２ｕの主切断面形状は、図１に示すような各単位凸条３２ｕの頂点を通るＺ軸に対して対象な構造に限定されず、非対称な構造であってもよい。例えば、各単位凸条３２ｕの頂点を通るＺ軸に対して一方側は三角形状であるが他方側は四角形状であってもよいし、各単位凸条３２ｕの頂点を通るＺ軸に対して一方側は三角形状であるが他側は半楕円状であってもよい。単位凸条３２ｕの延在方向に対する主切断面形状がＺ軸方向に向かって線幅が連続的に狭くなっていく形状を有していることで、凹凸面３１における屈折率はＺ軸方向（厚み方向）に沿って連続的に変化し、これにより、凹凸面３１に極めて優れた反射防止性が付与される。

このように、一方向に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２により形成され、当該微細凸条群３２の隣接する単位凸条３２ｕ同士の間隔が可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄである、という凹凸面３１は、極めて優れた反射防止機能を発揮し、透明支持体２０は、金属層１５が無い場合において非常に高い透過率を示すようになる。具体的には、金属層１５が無い場合における凹凸構造層３０の可視光透過率、あるいは、凹凸構造層３０及び透明基材２５を含む積層材１０の可視光透過率は、８０％以上となっていることが好ましく、９０％以上となっていることがより好ましい。また、凹凸構造層３０の凹凸面３１上での５°正反射による反射率が、０％以上０．３％以下となっていることが好ましく、０．１％以下となっていることがより好ましい。そして、以下に説明するようにして凹凸構造層３０を形成すれば、このような特性を実現することができる。なお、本明細書で言及する正反射の反射率は、島津製作所製の分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣを用いてＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定された値とする。

凹凸構造層３０は、樹脂を含有してなる層とすることができ、更に、樹脂組成物の硬化物からなる層とすることができる。凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂組成物は、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等その他の成分を含有する。凹凸構造層３０と透明基材２５との界面における反射を抑制する観点から、凹凸構造層３０と透明基材２５との屈折率差が０．１４以下となっていることが好ましく、０．０５以下となっていることがより好ましい。凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂としては、特に限定されない。例えば、アクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を、凹凸構造層３０の形成に用いることができる。

凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂としては、微細凸条群３２の成形性及び機械的強度に優れる点から、電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離放射線硬化性樹脂とは、分子中にラジカル重合性及び／またはカチオン重合性結合を有する単量体、プレポリマー、あるいはポリマーから選択した１種以上と、必要に応じて、他の反応性重合体を適宜混合したものであり、電離放射線照射によって、架橋、付加重合等の反応により硬化されるものである。ラジカル重合性単量体としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。ラジカル重合性プレポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレートプレポリマー、ポリエステル（メタ）アクリレートプレポリマー等が挙げられる。ここで「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートまたはメタアクリレートの各々を表す。カチオン重合性プレポリマーとしては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ系樹脂等が挙げられる。電離放射線として紫外線または可視光線を用いる場合は、光重合開始剤を０．１質量％〜５質量％程度添加する。重合開始剤としては、ラジカル重合性の電離放射線硬化性樹脂の場合は、アセトフェノン、チオキサントン等が、カチオン重合性の電離線放射硬化性樹脂の場合は、芳香族ジアゾニウム塩、メタロセン化合物等が挙げられる。なお、非反応性重合体を含有してもよい。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線（ＵＶ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマ線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。

樹脂組成物は、更に必要に応じて、界面活性剤、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有することもできる。

樹脂組成物の硬化物は、２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下であり、且つ、２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．２以下であることが、防汚性、耐久性の点で好ましい。

貯蔵弾性率（Ｅ’）を３００ＭＰａ以下とすることにより、拭い取り時の圧力によって凹凸面３１をなす微細凸条群３２が可逆的に変形し、隣接単位凸条３２ｕ同士が密接して両者間の間隙が減少して凹凸間の隙間に入り込んだ汚れを搾り出して、乾拭きにより除去することが可能となる。中でも、貯蔵弾性率（Ｅ’）が１ＭＰａ〜２５０ＭＰａであることが好ましく、１ＭＰａ〜１００ＭＰａであることがより好ましい。

また、損失正接（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））を０．２以下とすることにより、拭い取り時に変形した凹凸面３１の微細凸条群３２が弾性復元されて元の形状に戻りやすい。これにより、凸部の塑性変形や凸部の先端同士の付着が抑制され、凹凸面３１をなす微細凸条群３２が有する機能を低下することなく、乾拭きにより汚れを拭き取ることが可能になる。中でも、ｔａｎδが０．１８以下であることが好ましい。

本明細書において、貯蔵弾性率（Ｅ’）及び損失弾性率（Ｅ”）は、ＪＩＳ Ｋ７２４４に準拠して、以下の方法により測定される。すなわち、まず、凹凸構造層形成用の樹脂組成物を、水銀燈を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより十分に硬化させて、透明基材２５及び凹凸面３１を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの単膜を形成する。次いで、２５℃の環境下において形成された単膜の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）及び損失弾性率（Ｅ”）が求められる。測定装置としては、例えば、ＵＢＭ性 Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４００を用いることができる。

次に、凹凸構造層３０の寸法について説明する。微細凸条群３２により形成された凹凸面３１による反射防止機能は、微細凸条群３２により形成された凹凸面３１とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものである。このため、凹凸構造層３０の凹凸面３１は、凹凸構造層３０のシート面に沿って可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄで配列された単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２によって形成されている。ここで、この間隔ｄに係る隣接する単位凸条３２ｕとは、いわゆる隣り合う単位凸条３２ｕであり、透明基材２５側の付け根部分（谷底分３４）である単位凸条３２ｕの裾の部分が接している２つの凸条である。凹凸構造層３０では、単位凸条３２ｕが密接して配置されることにより、単位凸条３２ｕ間の谷底の部位を辿るようにして直線または曲線を作成すると、平面視において一方向に延びる縞状の模様が作成されることになる。間隔ｄに係る隣接する単位凸条３２ｕは、この縞状の模様を構成する１つの直線または曲線を共有する凸条である。また、間隔ｄは、図３に示すように、透明支持体２０のシート面に沿った、隣接する２つの単位凸条３２ｕの頂部３３間の距離とすることができる。

凹凸構造層３０に対して優れた反射防止機能を付与する観点からは、凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微細凸条群３２が次のように形成されていることが好ましい。すなわち、まず、微細凸条群３２の単位凸条３２ｕは、積層材１０のシート面に沿って、５０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の間隔ｄで設けられていることが好ましく、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の間隔ｄで設けられていることがより好ましい。また、積層材１０のシート面への法線方向ｎｄに沿った単位凸条３２ｕの高さＨは、５０ｎｍ以上７６０ｎｍ以下となっていることが好ましく、１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下となっていることがより好ましい。

また、凹凸構造層３０の凹凸面３１上における反射防止性能は、微細凸条群３２の単位凸条３２ｕのアスペクト比からも大きな影響を受ける。アスペクト比は、単位凸条３２ｕの幅に対する単位凸条３２ｕの高さＨの比である。ただし、図１及び図３のように隣接する単位凸条３２ｕ同士がその谷底部３４（透明基材２５側に最接近する部分）間に間隙を介すること無く接している場合には、凹凸構造層３０において、単位凸条３２ｕの幅は単位凸条３２ｕ間の間隔ｄと置き換えて取り扱うことが可能であり、したがって、アスペクト比は、単位凸条３２ｕ間の間隔ｄに対する単位凸条３２ｕの高さＨの比（Ｈ／ｄ）として取り扱うことができる。凹凸構造層３０に対して上記の優れた反射防止機能を付与する観点から、単位凸条３２ｕのアスペクト比は、０．５以上３以下となっていることが好ましく、１以上２以下となっていることがより好ましい。

凹凸構造層３０の厚みは、特に限定されないが、当然、単位凸条３２ｕの高さＨ以上となる。一例として２μｍ〜３００μｍとすることができる。なお、この場合の凹凸構造層３０の厚みとは、図１に示すように、凹凸構造層３０の透明基材２５側の界面（谷底部３４の包絡面）から、当該凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微細凸条群３２の単位凸条３２ｕの頂部３３までの凹凸構造層３０のシート面への法線方向ｎｄに沿った高さｔ１を意味する。

なお、凹凸構造層３０の凹凸面３１及び単位凸条３２ｕに関する各種寸法及び形状は、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）または走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＳＥＭ）を用いて、特定することができる。ただし、凹凸構造層３０の各寸法は、対象となる凹凸構造層３０の全領域を調べてその平均値を算出して特定する必要はなく、実際的には、調査すべき対象（単位凸条３２ｕの間隔ｄや単位凸条３２ｕの高さＨ等）の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画内において、調査すべき対象のばらつきの程度を考慮して適当と考えられる数を調べてその平均値を算出することによって特定することができる。例えば、直前で説明した値を目標として紫外線硬化性樹脂を賦型することによって作製された紫外線硬化性樹脂の硬化物からなる凹凸構造層３０においては、３０ｍｍ×３０ｍｍの領域内に含まれる３０箇所を電子顕微鏡により測定して平均を算出することにより、単位凸条３２ｕに関する各寸法、例えば単位凸条３２ｕの間隔ｄや単位凸条３２ｕの高さＨ等を、特定することができる。

単位凸条３２ｕが完全に一定周期で配列している場合には、単位凸条３２ｕ間の間隔ｄはその配列周期と一致する。なお、凹凸面３１をなす微細凸条群３２の単位凸条３２ｕの配列に関して、積層材１０を他の部材と重ねた際に干渉模様の発生を防止する観点から、隣接する単位凸条３２ｕの間隔ｄは周期的では無く、不規則的であることが好ましい。

次に、図４乃至図６を参照して、凹凸構造層３０の製造方法の一例を説明する。本実施の形態では、凹凸構造層３０の製造方法は、（１）バイト２２による切削により、円柱状母材２１の外周面に、円周方向に沿って並列した複数の溝を順次形成することにより、賦型用ロール金型２３を製造する工程と、（２）賦型用ロール金型２３を使用した賦型処理により、凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微細凸条群３２を形成する工程と、を有している。

賦型用ロール金型２３を製造する工程を説明する。まず、図４に示すように、円柱状母材２１を準備する。円柱状母材２１としては、繰り返し使用した際に変形及び摩耗し難いものであれば、特に限定されるものではなく、金属製であってもよく、樹脂製であってもよいが、通常、金属製が好適に用いられる。金属製のものは、耐変形性及び耐摩耗性に優れているからである。

金属製の円柱状母材２１の材質としては、ニッケル、クロム、ステンレス、鉄、アルミ、銅、もしくはそれらの合金を用いることができる。再使用しやすいように金属製の円柱状母材２１の表面に前記材質による金属めっきを施した円柱状母材を用いてもよい。円柱状母材２１としては、中実、あるいは中空すなわち円筒状のいずれであってもよいが、軽量化のため、円筒状とすることが好ましい。また、初めに、切削工程により円柱状母材２１の外周面を平滑化する工程を有していても良い。この場合、円柱状母材２１を回転させながら、平滑用のバイトの刃先を円柱状母材２１の外周面に対して加圧押圧し、押圧状態を維持しながらバイトを円柱状母材２１の回転軸方向に移動させることにより、円柱状母材２１の外周面を平滑化する。必要に応じてバフ研磨や電界研磨等の研磨工程を追加してもよい。また、転写する際に円柱状母材２１から樹脂が剥離しやすいように、円柱状母材２１表面に剥離シリコーン、フッ素系樹脂もしくはＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）などのコーティング、蒸着、もしくはそれらを組み合わせた離型処理を行ってもよい。

続いて、微細溝作成用のバイト２２を用いて、円柱状母材２１の外周面に、円周方向に沿って並列した複数の凹溝を順次形成する。ここで、微細溝作成用のバイト２２の刃先の形状は、適宜、形成すべき微細凸条群３２の形状に対応する形状とする。例えば、図１のような放物線状の主切断面形状を有する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２を形成する場合には、バイト２２の刃先を図５に示すような単位凸条３２ｕの主切断面形状と相補的な放物線状とする。なお、微細溝作成用のバイト２２の作製は、従来公知の方法を適宜選択して、製造すべき微細凸条群３２の形状に対応する形状となるように行えばよい。

円柱状母材２１を回転させながら、微細溝作成用のバイト２２の刃先を外周面に押圧して切削する。次いで、矢印Ａにより示すように円柱状母材２１の回転軸方向に、バイト２２の刃先幅のピッチだけ間欠送りして移動させる。切削と間欠送りの移動とを交互に繰り返すことにより、円周方向に沿って並列した複数の円環状の凹溝を順次形成する。斯かる切削加工は公知の旋盤加工に準じて行う。バイト２２の刃先幅としては、例えば、２０μｍ〜１００μｍ程度とすることができるが、これに限定されるものではない。以上のようにして、賦型用ロール金型２３を製造することができる。賦型用ロール金型２３表面の微細溝を切削加工に形成することで、複数の凹溝の形状のばらつきを制御することが容易である。

次に、賦型用ロール金型２３を使用した賦型処理により凹凸構造層３０の凹凸面３１を形成する工程について説明する。例えば、まず透明基材２５上に、凹凸構造層形成用の流動状態の樹脂組成物を塗布して受容層１’を形成し、当該受容層１’の表面と、所望の微細凸条群３２の形状に対応する微細溝形状を有する賦型用ロール金型２３の表面と、を接触させて配置し、圧力をかけることによって受容層１’の金型２３側表面に微細凸条群３２を形成した後、適宜、当該受容層１’の樹脂組成物を硬化させることにより凹凸構造層３０を形成し、その後賦型用ロール金型２３を剥離する、という方法等が挙げられる。樹脂組成物を硬化させる方法は、当該樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択することができる。

図６に、凹凸構造層形成用の樹脂組成物として電離放射線硬化性樹脂を用いるともに、前記した工程により製造された賦型用ロール金型２３を用いて、透明基材２５上に凹凸構造層３０を形成する方法の一例を示す。

図６に示す方法では、樹脂供給工程において、図中の矢印方向に走行する帯状フィルム形態の透明基材２５に、未硬化で液状の電離放射線硬化性樹脂を、ダイ１１により塗布し、受容層１’を形成する。なお、電離放射線硬化性樹脂の塗布については、ダイ１１による場合に限らず、ロールコート、バーコート等の各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ１２により、微細凸条群形成用原版である賦型用ロール金型２３の周側面に透明基材２５を加圧押圧し、これにより、透明基材２５に受容層１’を密着させるとともに、図中の矢印方向に回転する賦型用ロール金型２３の周側面に作製された微細凸条群３２に対応する形状の微細溝に、受容層１’を構成する電離放射線硬化性樹脂を十分に充填する。この状態で、紫外線の照射により電離放射線硬化性樹脂を硬化乃至固化させ、これにより、透明基材２５の表面に凹凸面が賦型された凹凸構造層３０を作製する。続いて、剥離ローラ１３を介して賦型用ロール金型２３から、硬化した凹凸構造層３０と一体に透明基材２５を剥離する。賦型用ロール金型２３の回転に応じて、単位凸条３２ｕは延在方向に沿って順に金型２３の凹溝から剥離されていくため、単位凸条３２ｕをなす賦型用樹脂が金型３２の凹溝に詰まり難い。このようにして、凹凸構造層３０は、ロール材による長尺の透明基材２５に、凹凸構造層形成用原版である賦型用ロール金型２３の周側面に作製された微細溝形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。

なお、ここでは賦型用ロール金型２３を使用した賦型処理により凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微細凸条群３２を形成する方法を説明したが、微細凸条群３２は当該方法に限られずに形成されてもよい。例えば、凹凸面３１の形成に係る基材の形状に応じて、例えば平面または特定の曲面形状を有する賦型用金型を使用した枚葉の処理により凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微細凸条群３２を形成する方法等、賦型処理に係る工程及び微細凸条群形成用原版は、凹凸面３１の形成に係る基材の形状に応じて適宜変更することができる。

＜＜金属層＞＞
次に、金属層１５について説明する。金属層１５は、透明支持体２０の凹凸面３１を覆うようにして凹凸面３１上に設けられている。図１及び図２に示された例において、金属層１５は、透明支持体２０上にパターニングされている。とりわけ、図１及び図２に示された例において、金属層１５は、透明支持体２０上において、開口領域１５ａを画成するメッシュパターンを形成している。すなわち、金属層１５は、分岐点１５ｂから延び出す多数の接続要素１５ｃによって形成されている。そして、各開口領域１５ａは、３以上の接続要素１５ｃで取り囲まれることによって、画成されている。なお、図２に示された例において、金属層１５は、正方格子配列となるメッシュパターンを形成している。

ただし、金属層１５によってなされるパターンは、図２に示された例に限定されることはなく、積層材１０の用途に応じて適宜設定される。例えば、開口領域の形状が３角形、４角形（正４角形の場合が正方格子）、５角形、６角形、８角形、円、楕円等からなるメッシュパターンを形成しても良い。また、金属層１５が、特開２０１２−１７８５５６号公報、特開平４−２１７３９号公報等に記載の不規則なメッシュパターンを形成するようにしてもよいし、或いは、メッシュ以外のパターンを形成するようにしてもよいし、或いは、ベタで設けられる、すなわち隙間無く面状の領域に設けられるようにしてもよい。

金属層１５は、透明支持体２０の凹凸面３１の凹凸を埋めて凹凸面３１を覆うように設けられている。したがって、積層材１０の法線方向ｎｄ（凹凸面３１のシート面に直交する方向）に沿った金属層１５の厚みｔ２の最大値、すなわち最大膜厚ｔ２ｍａｘは、積層材１０の法線方向ｎｄに沿った単位凸条３２ｕの高さＨよりも厚くなっている。なお、金属層１５の最大膜厚ｔ２ｍａｘとは、図１に示すように、金属層１５のうちの凹凸面３１の微細凸条群３２の単位凸条３２ｕ間となる谷底部３４に接触する部位から、金属層１５のうちの凹凸面３１から最も離間する部位までの、積層材１０のシート面への法線方向ｎｄに沿った高さを意味する。

このような金属層１５は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の気相法(ドライプロセス) 、あるいは無電解メッキ法を用いて、金属層１５をなすようになる金属材料を、凹凸構造層３０の凹凸面３１上に付着させることにより形成され得る。このような方法により形成された金属層１５は、凹凸面３１の凹凸に沿うようにして凹凸面３１上に設けられる。言い換えると、金属層１５は、凹凸面３１の微細凸条群３２の隣り合う二つの単位凸条３２ｕの間となる谷底部３４にまで入り込むようになる。

金属層１５の平均膜厚は、金属層１５を透明支持体２０側から観察した場合に黒色を呈して本発明の效果を奏するためには、透明支持体２０とは反対側（すなわち図１で言うと図の上方側）から観察した場合に、金属層１５が可視光線を反射して金属光沢を呈する程度の厚みとする必要が有る。そのためには、可視光線帯域の最長波長７８０ｎｍよりも厚くする。ただし、必要以上に厚くしても、透明支持体側から見た場合の黒色の度合いは飽和し、また材料費や加工時間の増大等の不利益を生じる。これらの点を考慮し、単に透明支持体２０側から観察して黒色を呈することのみを目的とする場合、例えば、凹凸構造層３０の微細凸条群３２の単位凸条３２ｕの寸法及び形状がより好ましい範囲として上述した寸法及び形状となっている場合は、１０００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下とすることができる。ただし、更に、金属層１５に導電性、熱伝導性、機械的強度等の物性値を所望の程度求める場合は、金属層の平均膜厚は、これら要求物性も考慮して決定する。例えば、画像表示装置の画面に装着する透視性電磁波遮蔽材、タッチパネルの位置検知の検出電極として利用する場合は、要求される導電性を確保することも考慮し、金属層１５の平均膜厚を２０００ｎｍ〜１００００ｎｍ（２μｍ〜１０μｍ）とする。なお、ここでいう平均膜厚とは、図１のように積層材１０をそのシート面の法線方向と単位凸条３２ｕの延在方向とを含む面（図１ではＺＸ平面と平行な面）で切断した断面において、膜厚方向と直交する方向（図１では、例えば、Ｘ方向）における位置Ｘでの金属層の厚みｔ２（Ｘ）をＸ方向に単位凸条３２ｕの間隔ｄの１０〜３０倍の距離にわたって平均した値ｔ２ａｖｅとして定義する。

金属層１５をなすようになる高導電性の金属材料として、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、コバルト、錫、チタン、パラジウム、インジウム、及び、これらの金属を含む合金の一以上を用いることができる。合金としては、例えば、真鍮（黄銅）、青銅、白銅、ニッケル−クロム合金、ジュラルミン等が挙げられる。

なお、金属層１５のパターニングは、フォトリソグラフィ技術を用いて、次のように実施され得る。まず、図７に示すように、凹凸面３１を有した透明支持体２０を準備する。

透明支持体２０は、透明基材２５をなすようになる基材上に電離放射線硬化型樹脂を積層して賦型することによって凹凸構造層３０を形成し、作製され得る。

次に、図８に示すように、金属層１５を形成するようになる金属膜９１を、透明支持体２０の凹凸面３１上に形成する。金属膜９１の成膜は、前記の如く、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の気相法(ドライプロセス)等の種々の方法を採用することができる。とりわけ真空蒸着法によれば、後述するように積層材１０をタッチパネルセンサや電磁波遮蔽材としての用いた場合に好適な厚みの金属膜９１を、比較的に短時間で安価に製造することができる。また、別の方法として、スパッタリングと他の方法、例えばスパッタリングと電解めっきとを含む複数工程にて、金属膜９１を成膜することも有効である。スパッタリングによれば、密着性に優れた下地層を形成することができ、かつ、その後の電解めっきによって、金属膜９１の厚みを比較的迅速に所望の厚みまで増加させることができる。

その後、フォトリソグラフィ技術を用いて、透明支持体２０上の金属膜９１を所望のパターンにてパターニングする。具体的には、まず、図９に示すように、金属膜９１上にレジスト膜９２を設ける。レジスト膜９２の成膜は、例えば、ドライフィルムレジストの積層により行うことができる。次に、図１０に示すように、レジスト膜９２上にフォトマスク９３を配置した状態にて、光Ｌを照射しレジスト膜９２をパターン露光する。露光に用いる光は、通常、紫外線を用いるが、可視光線、Ｘ線等を用いる事もできる。その後、図１１に示すように、露光されたレジスト膜９２を現像することにより、レジスト膜９２をパターニングしてなるレジストパターン９４が金属膜９１上に得られる。図１１はレジストとしてネガ型の感光性レジストを用いた場合を示しており、この場合には未露光部のレジスト膜９２が現像液によって溶解、除去され、架橋乃至重合反応によって硬化して現像液に不溶性となった露光部のレジスト膜９２のみが残留してレジストパターン９４となる。

次に、図１２に示すように、パターニングされたレジストパターン９４をマスクとして、塩化第２鉄水溶液、塩酸等の腐蝕液を用いて金属膜９１をエッチングする。これにより、レジストパターン９４の無い部分の金属膜９１が腐蝕液によって除去され、レジストパターン層９４の直下の金属膜９１のみが残留する。残留した金属膜９１から平面視形状がメッシュパターンとなった金属層１５が形成される。このようにして、透明支持体２０上に、金属層１５が、所望のパターンで形成される。その後、金属層１５上のレジストパターン９４を除去することによって、図１３に示すように、積層材１０が得られる。

＜＜積層材の作用効果＞＞
以上のような積層材１０は、透明支持体２０上に金属層１５を有している。このため、金属層１５の性質、例えば、良好な導電性、熱伝導性、強磁性等に関連して何らかの機能を発揮することができる。ただし、金属層１５が、当該金属層１５をなす金属材料の性質に起因した機能を発揮する際、金属層１５が、本質的に有することになる光反射性を発揮しないことを要望されることもあり、さらには、本質的に有することになる光反射性とは相反する光吸収性を発揮することが要望されることすらある。

例えば、図２に示された例のように、金属層が、メッシュ状のパターンを形成することにより、導電性及び可視光透過性を期待されている場合、金属層をなす金属材料自体の光反射性が問題となることがある。具体的には、積層材がタッチパネルセンサや画像表示装置の画面用の電磁波遮蔽材として用いられる例のように、積層材越しの画像の視認性が要求される用途では、メッシュ状パターンの不可視性が必要となる。そのためには、金属層をなす金属材料自体の光反射性が問題（障碍乃至は阻害要因）となる。積層材が一定の透過率を呈する場合でも、金属層で多量の反射光が生じると、積層材越しの画像が白化したり、明暗のコントラストが低下したりして、その視認性が著しく悪化することになる。また、積層材が、金属層の良好な熱伝導性を利用した、熱伝達部材として用いられる場合、積層材が熱線（赤外線）を取り込む機能を有していることが好ましいこともある。この用途においては、金属層が、熱線を反射するのではなく、熱線を吸収することが好ましい。そして、従来技術の欄でも説明したように、金属層での反射を防止する観点から、金属層の表面に黒色材料からなる黒化層を設けることが行われてきた。

金属層の表面に黒化層を設ければ、金属層での反射を抑制して、金属層を目立たなくさせることもできる。しかしながら、金属層との密着性が良好な黒色材料は多く存在しない。とりわけ、積層材のうちの透明支持体の側から金属層を黒化処理する場合には、黒色材料は、金属層だけでなく透明支持体に対しても優れた密着性を示す必要がある。金属層及び透明支持体の両方に密着性を示し且つ工業上使用可能な黒色材料は、数種類しか存在せず、結果として、コストや材料確保等の面において好ましくない。

また、金属層がパターニングされる場合には、黒化層も、黒色材料からなる黒化膜をパターニングして形成することになる。ただし、黒化膜を金属膜とともにフォトエッチングしてパターニングする際におけるエッチング時の浸食速度は、黒化膜と金属膜との間で大きく異なる。したがって、黒化層または金属層のパターン輪郭がぼやけ、一般的にエッチングの浸食が速い金属層が断線してしまうことすらある。そもそも、金属層をなすようになる金属膜に加えて、黒色材料かなる黒化膜を成膜することは、製造コスト上の観点から好ましくなく、加えて、製造工程も煩雑となる。

これに対して、本実施の形態では、透明支持体２０の金属層１５で覆われている面は、一方向に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２によって形成された凹凸面３１となっており、微細凸条群３２の隣接する単位凸条３２ｕ同士の間隔は、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔ｄとなっている。そして本実施の形態によれば、金属層１５と透明支持体２０との間のこの界面性状に応じて、透明支持体２０の側から積層材１０を観察した場合に金属層１５が黒色に観察されるようになる。本件発明者らが鋭意検討を行ったところ、金属層１５が黒色に観察される現象は、金属層１５をなす金属材料に依存することなく、生じ得ることが確認された。

このような本実施の形態によれば、金属層１５とは別途に黒化層を設ける必要性を排除することが可能となり、製造コストや製造の手間の点において優れる。加えて、黒化層が間に介在しないことに加えて、界面が凹凸面３１として形成されることから、金属層１５と透明支持体２０との間の密着性が大幅に向上する。

また、図示された実施の形態では、金属層１５が、開口領域１５ａを画成するメッシュパターンを形成しており、透明支持体２０の一方の表面の一部分のみを覆っている。そして、図示された実施の形態では、金属層１５によって覆われていない透明支持体２０の表面も、一方向に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２によって形成された凹凸面３１となっている。すなわち、積層材１０の開口領域１５ａをなす部分においても極めて優れた反射防止性能が発現され、積層材１０の透過率を大幅に向上させることができる。

さらに、積層材１０を金属層１５の側から観察した場合、金属層１５は、当該金属層１５を構成する金属材料に依存した金属色として把握され、黒色には把握されない。したがって、積層材１０のどちらの主面の側から観察するかに応じて、金属層１５の色味を変化させることができる。すなわち、別途の着色層を設けることなく、意外性を持った意匠性を積層材１０に付与することができる。

ところで、金属層１５が黒色に観察されるようになるのは、以下の要因によるものと推定される。ただし、本発明は、以下の推定に限定されるものではない。まず、金属層１５によって覆われている透明支持体２０の凹凸面３１は、モスアイ構造体の反射防止面を形成している。したがって、図１に示すように、積層材１０内を透明支持体２０から金属層１５へと進む光Ｌ１１は、透明支持体２０と金属層１５との界面において反射することを極めて効果的に防止され、金属層１５内に入射する。ただし、金属層１５の透過率は、勿論金属層１５の厚みにも依存するが、著しく低い。電磁気学及び固体物理学の知見によれば、金属層１５内部に浸透する光Ｌ１１の電磁場の強度は指数関数的に減衰し、金属層１５内部の光Ｌ１１の電場は金属層１５表面から光Ｌ１１の波長（最大７８０ｎｍ）程度の深さまでの間の表皮層内に局在化される。その結果、当該表皮層内において光Ｌ１１の電磁場は金属原子の結晶格子振動を励振して熱に変換され、消失する。したがって、金属層１５に入射した光は、金属層１５内に吸収されることになる。すなわち、透明支持体２０の側から積層材１０を観察した場合、観察者は、金属層１５と透明支持体２０との界面での反射光を含む金属層１５からの光を感知することはない。このことが主たる要因として、積層材１０を透明支持体２０の側から観察した場合、金属層１５は、黒色に把握されると推定される。

また、本実施の形態によれば、凹凸面３１が一方向に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２によって形成されていることで、微小突起が密接して配置されてなるいわゆるモスアイ構造に比べて、凸部自体の構造上の耐久性に優れ、樹脂組成物の硬化物からなるものであっても、凸部が潰れたり、凸部の先端同士の付着が生じ難い。更に、本実施の形態によれば、いわゆるモスアイ構造に比べて、皮脂等の汚れが付着しても、単位凸条３２ｕの延在方向に沿って除去することが容易であり、表面外観が悪化し難い。

また、本実施の形態によれば、凹凸面３１が一方向に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２によって形成されていることで、微小突起が密接して配置されてなるいわゆるモスアイ構造に比べて、生産性に優れる。すなわち、前記したように賦型用ロール金型２３を使用した賦型処理により凹凸面３１を形成する場合、大面積の凹凸面３１を長尺状に製造することが可能である。また、この場合、微細凸条群３２の形状に対応する微細溝を賦型用ロール金型２３の表面に切削加工することで、複数の凹溝の形状のばらつきを抑えることが容易であり、これにより、微細凸条群３２の単位凸条３２ｕの形状のばらつきを抑えることが容易である。また、この場合、賦型用ロール金型２３の回転に応じて単位凸条３２ｕをその延在方向に沿って順に金型２３の凹溝から剥離していくことで、単位凸条３２ｕをなす賦型用樹脂が金型３２の凹溝に詰まり難い。

＜＜積層材の具体的な適用例＞＞
次に、積層材１０の用途例を具体的に説明する。

まず、図１４を参照しながら、積層材１０をタッチパネル装置５０のタッチパネルセンサ５１，５２に適用した例について説明する。図１４には、タッチパネルセンサ５１，５２を含んだタッチパネル装置５０が示されている。図示されたタッチパネル装置５０は、投影型容量結合方式のタッチパネル装置として構成されており、それぞれ、電極５５が形成された第１タッチパネルセンサ５１及び第２タッチパネルセンサ５２を有している。このタッチパネル装置５０は、図１５に示すように画像形成装置４１上に配置されるようになる。第１及び第２タッチパネルセンサ５１，５２は、画像形成装置４１の画素が配列された領域に対面するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周囲となる非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。電極５５は、アクティブエリアＡａ１内に位置して位置検出に用いられる検出電極６０と、検出電極６０に接続され非アクティブエリアＡａ２内に位置する取出電極７０と、を有している。

そして、図１４に示すように、各検出電極６０は、その長手方向に間隔を明けて配列された多数の導電性メッシュ６２と、隣り合う２つの導電性メッシュ６２の間を接続する接続導線６１と、を有している。各導電性メッシュ６２は、４角形の外輪郭線内の領域に金属層１５が形成されており、該金属層１５は開口領域を画成する接続要素１５ｃによりメッシュパターンを形成している。該導電性メッシュ６２の外輪郭線は接続要素１５ｃから構成されていても良いし、接続要素１５ｃの末端を連ねた仮想線から構成されていても良い。図１４及び図１６は後者の形態の外輪郭線を有する形態である。各検出電極６０は、導電性メッシュ６２および接続導線６１により、アクティブエリアＡａ１内を一方向に延びている。各検出電極６０が配置されている領域の幅は、導電性メッシュ６２が設けられている部分において太くなっている。一方のタッチパネルセンサ５１，５２に含まれる各検出電極６０は、他方のタッチパネルセンサ５２，５１に含まれる多数の検出電極６０と交差している。そして、図１４に示すように、一方のタッチパネルセンサ５１，５２の導電性メッシュ６２は、検出電極６０上において、他方のタッチパネルセンサ５２，５１の隣り合う二つの検出電極６０との交差点の間に配置されている。

この場合、各導電性メッシュ６２（金属層１５）の寸法は検出電極として要求される導電性と背後の画像の透視性とを両立させるために、線幅は１〜１５μｍ、開口率（導電性メッシュの全形成領域に対する開口部の合計面積の占める比率）は９０〜９９．５％とすることが好ましい。

このタッチパネル装置５０の各タッチパネルセンサ５１，５２は、積層材１０を用いて形成されている。各タッチパネルセンサ５１，５２において、電極５５の少なくとも一部が金属層１５をなし、この電極５５は透明支持体２０に支持されている。すなわち、電極５５の少なくとも一部分を支持する基材の表面は、一方向に延在する単位凸条３２ｕからなる微細凸条群３２によって形成された凹凸面３１となっており、微細凸条群３２の隣接する単位凸条３２ｕの間隔ｄは、可視光線帯域の最短波長以下となっている。また、電極５５の検出電極６０をなす導電性メッシュ６２及び接続導線６１の一部または全部が、金属層１５として、透明支持体２０の凹凸面３１上に設けられている。一例として、各タッチパネルセンサ５１，５２の電極５５を支持する基材の全表面が、凹凸面３１として形成されていてもよい。

図１５に示すように、タッチパネルセンサ５１、５２は、画像が形成される画像形成面を有した画像形成装置（表示パネル、表示部）４１と組み合わされて画像表示装置４０を形成する。この際、図１５に示すように、第１タッチパネルセンサ５１をなす積層材１０は、金属層１５が画像形成装置４１と透明支持体２０との間に位置するよう、配置されている。すなわち、透明支持体２０が観察者側となり且つ金属層１５が画像形成装置４１側となるように、積層材１０が配置されている。第２タッチパネルセンサ５２も、第１タッチパネルセンサ５１と同様に、金属層１５が画像形成装置４１と透明支持体２０との間に位置するよう、配置されている。この結果、画像表示装置４０の観察者は、積層材１０の金属層１５を黒色に観察することになる。したがって、金属層１５での外光反射に起因して、画像表示装置４０によって表示される画像のコントラスが低下してしまう等の画質劣化を回避することができる。

なお、図１５に示された例において、検出電極６０が、接続導線６１と導電性メッシュ６２とからなる例を示したがこれに限られない。例えば、図１６に示すように、各検出電極６０が、細長状の長方形の外輪郭線内の領域に形成された単一の導電性メッシュ６２からなるようにしてもよい。図１６に示されたタッチパネルセンサ５３では、ストライプ状の領域に形成された多数の導電性メッシュ６２から検出電極６０が形成され、且つ、検出電極６０をなす各導電性メッシュ６２に取出電極７０が接続されている。この例においても、タッチパネルセンサ５３は、積層材１０から形成され得る。すなわち、検出電極６０及び取出電極７０の一部または全部が、金属層１５をなし、透明支持体２０の凹凸面３１上に支持され得る。

さらに、図１５に示された例では、第１タッチパネルセンサ５１および第２タッチパネルセンサ５２から投影型の静電容量式のタッチパネル装置５０が形成されている例を示したが、これに限られない。例えば、図１７に示されたタッチパネルセンサ５３のように、透明支持体２０上に画成されたアクティブエリアＡａ１内に二次元配列された正方形の外輪郭線内の各領域に導電性メッシュ６２が形成されるようにしてもよい。図１７に示された例では、各導電性メッシュ６２は、接続導線６１を介して対応する取出電極７０に接続されている。この例においても、タッチパネルセンサ５３は、積層材１０から形成され得る。すなわち、検出電極６０及び取出電極７０の一部または全部が、金属層１５をなし、透明支持体２０の凹凸面３１上に支持され得る。

また、図１８に示された例では、透明支持体２０上に画成されたアクティブエリアＡａ１の全域に、単一の導電性メッシュ６２が形成されている。検出電極６０をなす導電性メッシュ６２は、その四隅から、取出電極７０に接続されている。すなわち、図１８に示されたタッチパネル装置５０は、表面型の静電容量式タッチパネルを構成する。この例においても、タッチパネル装置５０は、積層材１０から形成され得る。すなわち、検出電極６０及び取出電極７０の一部または全部が、金属層１５をなし、透明支持体２０の凹凸面３１上に支持され得る。

なお、図１４〜図１８に示された電極５５の形状は一例に過ぎず、種々の変更が可能である。また、積層材１０は、容量結合形式のタッチパネル装置に限られず、抵抗膜形式等の種々の形式のタッチパネル装置に適用することができる。

さらに積層材１０の他の用途例について説明する。図１９に示すように、積層材１０は、テレビジョン受像装置、各種測定機器や計器類、各種事務用機器、各種医療機器、電算機器、電話機、電飾看板、各種遊戯機器等の表示部に用いられるプラズマディスプレイパネル装置（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置（ＬＣＤ）、電場発光（ＥＬ）ディスプレイ装置などの画像表示装置に、電磁波遮蔽材として、組み込まれ得る。

図１９に示された例において、画像表示装置４０は、画像が形成される画像形成面を有する画像形成装置（表示パネル、表示部）４１と、画像形成装置４１の出光側に配置された積層体４５と、を有している。したがって、積層体４５の出光面が、画像表示装置４０の表示面（出光面）４０ａをなし、観察者は、画像形成装置４１で形成された画像を、積層体４５を介して観察することになる。この積層体４５に、電磁波遮蔽シートとしての積層材１０が、組み込まれている。積層材１０の金属層１５は、図１に示されているように、透明支持体２０上において、開口領域１５ａを画成するメッシュパターンを形成している。金属層１５は、画像形成装置４１の画像が形成される領域に延び広がっている。この積層材１０は、電磁波を効果的に遮蔽することができる一方で、その線幅を細く設定され且つ開口率を大きく設定することにより、視認され難くなっている。本用途の場合、線幅は通常５〜２０μｍ程度、開口率は通常９０．０〜９９．５％程度に設定される。また、積層体４５には電磁波遮蔽シートとしての本発明の積層体１０の他に、必要に応じて、透明保護層、各種反射防止層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、着色フィルター層等の各種機能層を１層又は２層以上積層しても良い。この例においても、図１５に示す例と同様に、金属層１５が画像形成装置４１と透明支持体２０との間に位置するよう、積層材１０が配置されている。この結果、画像表示装置４０の観察者は、積層材１０の金属層１５を黒色に観察することになる。したがって、金属層１５での外光の反射に起因して、画像表示装置４０によって表示される画像のコントラスが低下してしまう等の画質劣化を回避することができる。

さらに、積層材１０の別の用途として、積層材１０を遮光部材として用いることができる。図２０には、遮光部材としての積層材１０が接合層７６を介して窓を構成する硝子板７５に積層された例が示されている。この例においては、凹凸構造層３０及び金属層１５は全面に広がるように形成されている。積層材１０の透明支持体２０が室内側（図２０では左側）、金属層１５が屋外側（図２０では右側）となる様に積層されている。積層材１０の透明支持体２０から入射する室内の光Ｌ１７１が、黒色に観察される金属層１５によって吸収され室内から見た窓の硝子板は光を反射せず黒色を呈する。一方、該窓の硝子板を室外側から観察すると金属層１５が光を反射して金属光沢を呈する。斯かる構成の遮光性窓硝子板は室内光を吸収すると共に室外からの光も遮蔽する必要の有る暗室、光学実験室等の部屋の窓に使用することができる。この場合、窓の硝子板７５の中央部分と窓のサッシによって覆われた周縁部との間で温度差が生じ、ガラスからなる窓７５が割れてしまう可能性がある。図２０に示された例では、光を吸収する金属層１５が、高い熱伝導性を有した金属材料から形成されているので、窓の硝子板７５の全面に広がる金属層１５によって硝子板７５の温度が均一化するので、硝子板７５が割れてしまうことを効果的に抑制することができる。積層材１０は窓の硝子板の室内側、屋外側のいずれにも積層は可能である。ただし、積層材１０の耐久性の点からは、硝子板の室内側に積層材１０を積層することが好ましい。

更に、図２のように金属層１５をメッシュパターン状に形成した形態において、開口率を２０〜６０％程度とすることによって、一方向透視性の遮光部材として用いることができる。斯かる一方向透視性の遮光部材の基本原理は、特許第４５８０５２３号公報、実公平６−１６７３１号公報等により公知であるが、斯かる遮光部材における開口領域を有する遮光層として、一方の側に微細凹凸群３２を有する金属層１５を採用したもの（すなわち、図１及び図２において、開口率を前記特定範囲とした形態）は新規な構成である。斯かる一方向透視性の遮光部材から建築物、乗物等の室内外を区画する閉領域に開口する窓硝子を構成し、且つ室内側が透明支持体２０側、室外側が金属層１５側となる向きで設置すると、昼間の室外の方が室内よりも明るい環境下においては、開口領域１５ａを通して出入りする光量は、
室内側から室外側に向う光量 ＜ 室外側から室内側に向う光量
となるため、また、人の視覚は低光量の画像と高光量の画像とが重畳して眼に入ると、低光量の画像はマスクされて知覚不能になるため、当該遮光部材を介して室内外から見た場合には、室外からは該窓硝子の金属層１５による室外光の反射光（反射画像）のみが視認され、室内の光景は視認可能となり、一方、室内からは該窓硝子の金属層１５は黒色を呈し室外光は無反射であり、且つ室外からの入射光のみが視認され、室外の光景は視認可能となる。

更に、図２及び図１３のごとき金属層１５がメッシュパターンとして形成されてなる積層材１０を自動車、鉄道車輛、船舶、航空機等の乗物の窓の硝子板に積層し、乗物内部からは透視性の金屬メッシュとして用いることが出来る。かかる金属メッシュは、窓の結露、曇り、乃至霜付着の防止用の面発熱体、電磁波遮蔽フィルタ、送受信アンテナ等の用途に使用することができる。各用途に応じて、適宜、接地用導線、電源、同調回路、検波回路、高周波増幅回路等の周辺回路、その他各種附帯的部材を接続、組み合せ、複合する。これらの用途の場合、乗物内部側からの金属メッシュ（メッシュ化された金属層１５）の不可視性を高めるため、透明支持体２０が乗物内部を向くように設置される。積層材１０は窓の硝子板の乗物内部側、屋外側のいずれにも積層は可能である。ただし、積層材１０の耐久性の点からは、硝子板の乗物内部側に積層材１０を積層することが好ましい。

＜＜追加、変形、その他＞＞
なお、上述した例に対して様々な追加や変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。

上述した例では、透明支持体２０の透明基材２５と凹凸構造層３０とが別の層として形成されていた。このような透明支持体２０は、透明基材２５上に、電離放射線硬化型樹脂を賦型してなる凹凸構造層３０を形成することにより作製され得る。その一方で、積層材１０が、金属層１５、凹凸構造層３０及び透明基材２５以外の層を更に含むようにしてもよいし、あるいは、射出成形や押出成形によって凹凸構造層３０を作製することにより凹凸構造層３０と透明基材２５とが一体化した単層構成としても良い。

また、凹凸構造層３０の凹凸面３１が、耐擦傷性を向上させるためのハードコート層として形成されていてもよい。このハードコート層は、薄膜として形成されていてもよい。

或いは、耐擦傷性の改善を図る観点から、凹凸構造層３０が、弗素系有機化合物、珪素系有機化合物等のスリップ剤を含有するようにしてもよい。さらに、紫外線による劣化を防止する観点から、積層材１０が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等の紫外線吸収剤を含有するようにしてもよい。

さらに、上述した実施の形態では、透明支持体２０の金属層１５を支持する側の全面が、凹凸面３１として形成されている例を示したが、これに限られない。例えば、透明支持体２０の金属層１５を支持する側の面のうち、金属層１５によって覆われている部分のみが、凹凸面３１として形成されていてもよい。

また、図４の賦型用ロール金型２３の製造方法においては、バイト２２を用いて円柱状母材２１表面に円環状の凹溝群を切削する例を例示したが、これには限らない。例えば、円柱状母材２１を円周方向の一方の向きに回転すると同時に、バイト２２を回転軸方向の図の矢印の向きに一定速度で送り、バイト２２の刃先を円柱状母材２１に押圧し続けることによって、円柱状母材２１表面に螺旋状の凹溝群を形成させロール金型としても良い。

なお、以上において上述した例に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。

１’ 受容層
１０ 積層材
１１ ダイ
１２ 押圧ローラ
１３ 剥離ローラ
１５ 金属層
１５ａ 開口領域
１５ｂ 分岐点
１５ｃ 接続要素
２０ 透明支持体
２１ 円柱状母材
２２ バイト
２３ 賦型用ロール金型
２５ 透明基材
３０ 凹凸構造層
３１ 凹凸面
３２ 微細凸条群
３２ｕ 単位凸条
３３ 頂部
３４ 谷底部
４０ 画像表示装置
４１ 画像形成装置
４５ 積層体
５０ タッチパネル装置
５１ 第１タッチパネルセンサ
５２ 第２タッチパネルセンサ
５３ タッチパネルセンサ
５５ 電極
６０ 検出電極
６１ 接続導線
６２ 導電性メッシュ
７０ 取出電極
７５ 窓の硝子板
７６ 接合層
９１ 金属膜
９２ レジスト膜
９３ フォトマスク
９４ レジストパターン

Claims (5)

1. 透明支持体と、
   前記透明支持体上に設けられた金属層と、
   を備え、
   前記透明支持体の前記金属層で覆われている面は、一方向に延在する単位凸条からなる微細凸条群により形成された凹凸面となっており、
   前記微細凸条群の隣接する単位凸条間隔は、可視光線帯域の最短波長以下であり、
   前記金属層は、前記透明支持体上において、開口領域を画成するメッシュパターンを形成し、
   前記メッシュパターンをなす線状導電体は、前記一方向と非平行な方向に延びて、
   前記微細凸条群の２５℃における貯蔵弾性率は３００ＭＰａ以下であり、前記微細凸条群の損失正接は０．２以下である、積層材。
2. 前記金属層の厚みは、前記単位凸条の高さよりも厚い、請求項１に記載の積層材。
3. 請求項１又は２に記載の積層材を備える、タッチパネルセンサ。
4. 請求項１又は２に記載の積層材を備える、電磁波遮蔽材。
5. 画像形成装置と、
   請求項１又は２に記載の積層材と、を備え、
   前記積層材は、前記金属層が前記画像形成装置と前記透明支持体との間に位置するよう、配置されている、表示装置。

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