CN102906604B - 光重新定向膜和包括光重新定向膜的显示系统 - Google Patents

Abstract

本发明描述了一种用于重新定向光的光学膜，并且描述了包括此类光学膜的光学系统，例如显示系统。

Description

光重新定向膜和包括光重新定向膜的显示系统

技术领域

本发明整体涉及用于重新定向光的光学膜。本发明还适用于包括此类光学膜的光学系统，例如显示系统。

背景技术

显示系统（例如，液晶显示（LCD）系统）用于多种应用和市售装置中，例如，计算机监视器、个人数字助理（PDA）、移动电话、微型音乐播放器和薄LCD电视等。多数LCD包括液晶面板和用于照亮液晶面板的扩展区域光源（通常称为背光源）。背光源通常包括一个或多个灯以及多个光控膜，例如，光导、镜膜、光重新定向膜、延迟膜、光偏振膜和漫射膜。通常包括漫射膜，以隐藏光学缺陷并提高背光源发射的光的亮度均匀性。

发明内容

一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述光学膜具有小于约10%的光学雾度以及小于约50%的光学清晰度。所述膜的结构化表面的至少85%具有小于约7.5度的倾斜度大小（slopemagnitude）。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述光学膜具有小于约7.5%的光学雾度以及小于约60%的光学清晰度。所述膜的结构化表面的至少90%具有小于约7.5度的倾斜度大小。所述膜还部分由平均粒度小于约0.5微米的多个微粒组成。

第三方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述光学膜具有小于约5%的光学雾度以及小于约70%的光学清晰度。所述膜的结构化表面的至少85%具有小于约5度的倾斜度大小。所述膜还部分由平均粒度小于约0.5微米的多个微粒组成。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述光学膜具有小于约3%的光学雾度以及小于约65%的光学清晰度。所述膜的结构化表面的至少90%具有小于约5度的倾斜度大小。

又一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述光学膜具有小于约1.5%的光学雾度以及小于约80%的光学清晰度。所述膜的结构化表面的至少80%具有小于约2.5度的倾斜度大小。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述光学膜具有小于约1%的光学雾度以及小于约90%的光学清晰度。所述膜的结构化表面的至少90%具有小于约4度的倾斜度大小。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述光学膜具有小于约20%的光学雾度以及小于约40%的光学清晰度。所述膜的结构化表面的至少90%具有小于约10度的倾斜度大小。

另一方面，本发明涉及一种具有第一结构化表面和第二结构化表面的光学膜。第一结构化表面具有多个棱柱结构，而且第二结构化表面与所述第一结构化表面相对并具有多个微结构。所述光学膜的有效透射率比具有类似构造但具有平滑的非结构化第二表面的膜的有效透射率小不到1%。

在单独的方面，本发明涉及一种光学膜叠堆，所述光学膜叠堆具有第一光学膜以及设置在所述第一光学膜上的第二光学膜，所述第二光学膜光学耦合到所述第一光学膜。所述第二光学膜具有结构化表面。与具有类似构造但第二光学膜具有平滑而非结构化表面的膜叠堆相比，所述膜叠堆的有效透射率小不到1%。

另一方面，本发明涉及一种具有随机分布在表面上的多个微结构的光学膜。所述光学膜的表面的50%具有介于约1度与5度之间的倾斜度。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述膜具有介于约75%与95%之间的光学清晰度以及介于约0%与1%之间的光学雾度。所述光学膜具有平均粒度小于0.5微米的多个微粒。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述膜具有介于约35%与70%之间的光学清晰度以及介于约1%与4%之间的光学雾度。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述膜具有介于约30%与55%之间的光学清晰度以及介于约4%与10%之间的光学雾度。所述光学膜具有平均粒度小于0.5微米的多个微粒。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述膜具有介于约25%与45%之间的光学清晰度以及介于约10%与18%之间的光学雾度。所述光学膜具有平均粒度小于0.5微米的多个微粒。

另一方面，本发明涉及一种用于照亮显示器的背光源。所述背光源具有光源、用于接收来自光源的光的第一光学膜，以及具有多个微结构的第二光学膜。所述第一光学膜设置在第二光学膜上并光学耦合到该第二光学膜。第二膜具有小于约85%的光学清晰度以及小于约3.5%的光学雾度。

另一方面，本发明涉及一种具有结构化表面的光学膜。所述表面的清晰度小于（（-3×光学雾度）+80%）。所述清晰度可能大于20%。

最后一方面，本发明涉及一种制备具有糙面精整层的膜的方法。所述方法包括提供被涂布基底，所述被涂布基底具有设置于所述基底上的可涂覆型材料，所述可涂覆型材料提供所述被涂布基底的第一主表面。所述方法还包括将所述可涂覆型材料的粘度从初始粘度变为第二粘度。所述被涂布基底穿过第一辊，以除去任何碎屑。所述被涂布基底的所述第一主表面接触至少一个正面辊（face-sideroller），以施加糙面精整层。任选地，所述可涂覆型材料进行硬化，从而得到所述膜。

附图说明

结合附图对本发明的各种实施例所做的以下详细说明将有利于更完整地理解和体会本发明，其中：

图1为光重新定向膜的示意性侧视图。

图2为用于测量有效透射率的光学系统的示意性侧视图。

图3为根据本发明的用于生成膜的系统的图示。

图4为根据本发明的用于生成膜的系统的一部分的近距离视图。

图5为根据本发明的用于生成膜的系统的一部分的近距离视图。

图6为另一个光重新定向膜的示意性侧视图。

图7为另一个光重新定向膜的示意性侧视图。

图8为多个微结构化膜的雾度值和清晰度值的图。

图9为多个微结构化膜的雾度值和清晰度值的图的近距离视图。

图10为微结构的示意性侧视图。

图11为根据本发明的膜表面的x倾斜度分布的坐标图。

图12为根据本发明的膜表面的y倾斜度分布的坐标图。

图13为根据本发明的膜表面的梯度大小分布的坐标图。

图14为根据本发明膜的表面的互补累积分布的坐标图。

图15为光重新定向膜的一部分的示意性侧视图。

图16A到图16D为根据本发明的膜表面的x和y轮廓的原子力显微图像和对应坐标图。

图17A到图17D为根据本发明的膜表面的x和y轮廓的相移干涉仪图像和对应坐标图。

图18为根据本发明的膜表面的膜的表面特征图的图像。

图19为根据本发明的膜的二维傅立叶光谱。

图20为通过傅立叶光谱获得的谱线轮廓图。

图21为通过傅立叶光谱的谱线轮廓的归一化总和。

图22为傅立叶光谱的尖峰轮廓。

图23为具有搜索线（searchline）的傅立叶光谱的尖峰轮廓。

图24A和图24B为傅立叶光谱的尖峰轮廓，示出了用于RR₁计算的比率区域。

图25为根据本发明的膜的雾度百分比与傅立叶RR₁值的坐标图。

图26为根据本发明的膜的SEM图像。

图27为根据本发明的膜的二维傅立叶光谱。

图28为根据本发明的膜的傅立叶光谱的尖峰轮廓。

具体实施方式

本发明整体涉及光学膜，该光学膜能够基本上提高显示系统的亮度，同时遮蔽和/或消除物理缺陷（例如刮痕）和不良的光学效应（例如波纹和颜色不均）。本发明所公开的光学膜消除或降低显示器对一个或多个常规膜（例如一个或多个漫射膜）的需要。本发明所公开的光学膜包括用于提高亮度的多个随机分布的微结构，以及用于改善显示器妆容的糙面表面。糙面表面会遮蔽、消除、和/或降低物理缺陷、波纹、颜色不均的可见度，并且基本上消除或减少与结构化表面物理接触的膜的刮痕。结构化表面的光学雾度在基本上保持亮度的范围内，并且结构化表面的光学清晰度在基本上遮蔽和/或消除缺陷的范围内。

本发明涉及具有位于表面上的多个随机取向的结构的膜。所考虑的结构具有极小的倾斜度，而且所述膜的制造可较低。所提出的膜可能具有大量的光学雾度和清晰度值。可以针对具体的雾度和清晰度值来确定这些值，从而根据需要提高光学系统的性能。

图1为光重新定向膜100的示意性侧视图，该光重新定向膜用于将入射光重新定向至所需方向。光重新定向膜100包括第一结构化表面110，所述第一结构化表面包括沿y方向延伸的多个微结构150。光重新定向膜100还包括第二结构化表面120，所述第二主表面与第一结构化表面110相对并且包括多个微结构160。

光重新定向膜100还包括基底层170，所述基底层170设置在相应的第一结构化表面110和第二结构化表面120之间，并且包括第一主表面172和相对的第二主表面174。光重新定向膜100还包括：棱柱层130，该棱柱层设置在基底层的第一主表面172上并且包括光重新定向膜的第一主表面110；以及具有主表面142的结构化层140，该结构化层设置在基底层的第二主表面174上并且包括光重新定向膜的结构化表面120。

示例性光重新定向膜100包括三个层130、170和140。通常，光重新定向膜可具有一个或多个层。例如，在一些情况下，光重新定向膜可具有包括相应的第一主表面110和第二主表面120的单个层。又如，在一些情况下，光重新定向膜可具有多个层。例如，在这种情况下，基底170可具有多个层。也可以理解，膜的各层可理解为分开的膜。因此，结构100可以理解为膜叠堆。在此类实施例中，棱柱结构化层130可以理解为第一光学膜。类似地，结构化层140可以理解为设置在第一光学膜上并且光学耦合到该第一光学膜的第二光学膜。

微结构150主要被设计成沿所需方向（例如沿正z方向）来重新定向入射到光重新定向膜的主表面120上的光。在示例性光重新定向膜100中，微结构150为棱柱线性结构。通常，微结构150可为任何类型的微结构，所述微结构能够通过（例如）折射入射光的一部分并且循环利用入射光的不同部分来重新定向光。例如，微结构150的横截面轮廓可为或包括弯曲和/或分段的线性部分。例如，在一些情况下，微结构150可为沿y方向延伸的线性圆柱形透镜。

每个线性棱柱微结构150均包括顶角152和从公共基准面（例如主平面表面172等）测得的高度154。在一些情况下，例如，当希望减少光学耦合或光耦合（wet-out）和/或提高光重新定向膜的耐久性时，棱柱微结构150的高度可沿y方向变化。例如，棱柱线性微结构151的棱柱高度沿y方向变化。在这种情况下，棱柱微结构151具有沿y方向变化的局部高度、最大高度155以及平均高度。在一些情况下，棱柱线性微结构（例如线性微结构153）沿y方向具有恒定高度。在这种情况下，微结构具有等于最大高度和平均高度的恒定局部高度。

在一些情况下，例如，当希望减少光学耦合或光耦合时，线性微结构中的一些线性微结构较短，并且线性微结构中的一些线性微结构较高。例如，线性微结构153的高度156小于线性微结构157的高度158。或者，糙面层140的表面上的微结构160也可以在高度上有所变化，以减少光学耦合或光耦合。

顶角或二面角152可具有应用中可能需要的任何值。例如，在一些情况下，顶角152可在约70度至约110度，或约80度至约100度，或者约85度至约95度的范围内。在一些情况下，微结构150的相等顶角可（例如）在约88或89度至约92或91度范围内，或者可为约90度。

棱柱层130可具有应用中可能需要的任何折射率。例如，在一些情况下，棱柱层的折射率在约1.4至约1.8，或约1.5至约1.8，或者约1.5至约1.7的范围内。在一些情况下，棱柱层的折射率不小于约1.5，或不小于约1.55，或不小于约1.6，或不小于约1.65，或者不小于约1.7。

在一些情况下，例如，当光重新定向膜100用于液晶显示系统时，光重新定向膜100可增加或提高显示器的亮度。在这种情况下，光重新定向膜具有大于1的有效透射率（ET）或相对增益。如本文所用，“有效透射率”为显示系统中存在处于适当位置的膜的显示系统亮度与不存在处于适当位置的膜的显示器亮度的比率。

可使用光学系统200来测量有效透射率，图2中示出了该光学系统的示意性侧视图。光学系统200以光轴250为中心，并且包括通过发射或出射表面212发射朗伯光215的中空朗伯光箱210，线性光吸收型偏振器220以及光检测器230。光箱210由通过光纤270连接至光箱内部280的稳定宽带光源260照亮。即将由光学系统测量的ET测试样本放置在光箱与吸收型线性偏振器之间的位置240处。

可通过以下方式来测量光重新定向膜100的ET：将光重新定向膜放置在位置240处，其中线性棱柱150面向光检测器且微结构160面向光箱。然后，通过光检测器来测量透过线性吸收型偏振器的光谱加权轴向亮度I₁（沿光轴250的亮度）。然后，移除光重新定向膜，并且在不存在置于位置240处的光重新定向膜的情况下测定光谱加权亮度I₂。ET为比率I₁/I₂。ET0为当线性棱柱150沿平行于线性吸收型偏振器220的偏振轴的方向延伸时的有效透射率，并且ET90为当线性棱柱150沿垂直于线性吸收型偏振器的偏振轴的方向延伸时的有效透射率。平均有效透射率（ETA）为ET0和ET90的平均值。

本文所公开的测量的有效透射率值是利用用于光检测器230的SpectraScan^TMPR-650光谱色度计（可得自美国中部查兹沃斯的光研究公司（PhotoResearch,Inc,Chatsworth））测得的。光箱210是总反射率为约85%的特氟隆立方体。

在一些情况下，例如，当将光重新定向膜100用于显示系统以增加亮度并且线性棱柱具有大于约1.6的折射率时，光重新定向膜的平均有效透射率（ETA）不小于约1.5，或不小于约1.55，或不小于约1.6，或不小于约1.65，或不小于约1.7，或不小于约1.75，或不小于约1.8。

在一些情况下，与具有类似构造但具有平滑的非结构化表面而非微结构化第二表面的光学膜或光学叠堆相比，上述光学膜或光学叠堆的平均有效透射率小不超过约2%或小约1%或小约0.5%。如本文所用，“类似构造”实际上是除了所提到的例外情况（例如，此处，平滑的非结构化第二表面而非微结构化第二表面）以外，在所有方面都相同的构造。在一些情况下，与具有相同构造但具有平滑的非结构化第二表面而非微结构化第二表面的光学膜或光学叠堆相比，上述光学膜或光学叠堆的平均有效透射率更大。在一些实施例中，微结构化表面的平均有效透射率比具有平滑第二表面的类似叠堆大至少0.5%或至少1.0%或至少1.5%。

如本文所用，光学雾度被定义为偏离法向大于2.5度的透射光与总透射光的比率。本文所公开的雾度值是使用Haze-GardPlus雾度计（可得自马里兰州银泉的毕克-加特纳（BYK-Gardiner,SilverSprings,Md.））按照ASTMD1003中所述的工序测得的。如本文所用，光学清晰度是指比率(T₁-T₂)/(T₁+T₂)，其中T₁为偏离法向1.6至2度的透射光，T₂为离开法向0至0.7度的透射光。本文所公开的清晰度值是使用得自毕克-加特纳（BYK-Gardiner）的Haze-GardPlus雾度计测得的。

光学结构化表面上的微结构160主要用于隐藏不良的物理缺陷（例如刮痕等）和/或光学缺陷（例如，源于显示器或照明系统中的灯的不良亮点或“热”点等），但所述微结构对光重新定向膜重新定向光和提高亮度的能力不产生或产生极小的不利影响。在一些情况下，包括微结构160的结构化表面的光学雾度小于约20%，或小于约10%，或小于约7.5%，或小于约5%，或小于约3.5%，或小于约3%，或小于约2%，或小于约1.5%，或小于约1%。在一些情况下，所述表面具有介于约0与1%之间的光学雾度，或介于约4%与10%之间的光学雾度，或介于约10%与18%之间的光学雾度。

在一些情况下，包括微结构160的结构化表面的光学清晰度小于约90%，或小于约80%，或小于约75%，或小于约70%，或小于约65%，或小于约60%，或小于约55%，或小于约50%，或小于约45%，或小于约40%。在一些情况下，所述表面的光学清晰度介于约75%与95%之间，或介于约35%与70%之间，或介于约30%与55%之间，或介于约25%与45%之间。在一些情况下，结构化表面的光学清晰度小于函数：（-3×光学雾度）+80%。所述结构的光学清晰度也可以小于函数（-3×光学雾度）+80%，但大于20%。

大量所公开的光学表面的光学雾度值的和光学清晰度值应理解成能够作为彼此显示的给定膜的性质，即，应理解成能够独立控制。例如，给定的结构化表面可以具有小于90%的光学清晰度以及小于10%的光学雾度，或者小于90%的光学清晰度以及小于5%的光学雾度。此外，给定的结构化表面可以具有小于5%的光学雾度以及小于70%的光学清晰度。

参考图15可以更好地理解微结构的高度。通常，微结构160可具有任何高度和任何高度分布。高度本身可以定义为沿着正交于材料底部142的平面190，从区域中的表面局部最低处185到微结构阵列的相邻尖峰（局部最高处）195a或195b的距离（例如，192a、192b）。高度并不是从非局部最低处的局部低处（例如，187）开始测量的。在给定表面上的尖峰的多个高度192的情况下，可以确定平均高度（其中平均高度等于所有尖峰的总高度除以尖峰的数量，例如，(192a+192b)/2）。在一些情况下，微结构160的平均高度不大于约10μm，或不大于约7.5μm，或不大于约5μm，或不大于约2.5μm。

如上所述，本发明描述的糙面膜也可以理解为具有随机布置在膜表面上的微结构。对于减少产生由周期性结构引起的波纹干涉图案而言，这种随机较为重要。一种测量表面随机性的有用方法是生成表面值的傅立叶光谱。参考图18到图24可以理解用于测量傅立叶光谱并得出随机性测量的方法。图18示出了根据本发明的膜的表面特征图。表面特征数据（即，高度值）可导入精密的计算和操纵程序，例如Matlab。据此可计算傅立叶光谱，并可以生成二维光谱，例如，如图19所示。图27的光谱实际上是从下文所示的实例中得到的。随后，可在一系列方向上确定通过二维光谱的线轮廓，如图20所示。由于光谱具有对称性，因此只必须对一半的光谱进行研究。

根据轮廓的长度而且有可能根据fx和fy方向上不相等的频率步长（frequencystep）来对每个线轮廓中的总信号进行计算、归一化，如图21所示。最大谱线轮廓2110选自此归一化总和。然后，绘出傅立叶光谱的谱线轮廓（沿最大信号的方向）。对光谱进行中值滤波，以除去峰值对以下步骤的影响。图22中示出傅立叶光谱。还示出了中值滤波后的光谱。此时，用户在光谱中尖峰左边的最小值处或附近选择一点，便可找到局部最小值。根据此局部最小值2340，如图23所示，从局部最小值2340直至光谱的下方画出一系列测试线段以便视觉化，而且针对每个线段上的每个点，计算光谱与测试线段之间的距离，并且针对最靠近的50%的点计算距离的总和。根据搜索线的长度对这些值进行归一化。

所得曲线中的最小值对应于最靠近光谱的测试线。此线被视作与光谱相切。在图24A和图24B中，将此切线应用到坐标图。沿着此切线执行搜索，以找到最靠近光谱的部分。此位置是切线部分2420。尖峰左边的局部最小值和切线位置界定尖峰的界限，并且它们之间的线界定基线。尖峰与切线之间的区域（图24A中的阴影区域2410）与切线下方区域（图24B中的阴影区域2430）的比率用于规定表面特征的周期性强度。以线性（并非log₁₀）单位来计算这些区域。出于本发明的目的，尖峰与切线之间的区域与切线下方区域的比率可以称为RR₁。

图25示出了根据本发明的糙面膜的多个不同RR₁值的图。在此坐标图中，示出了RR₁值与给定膜的雾度值。在一些实施例中，RR₁值小于2。在一些实施例中，RR₁值小于1。在一些实施例中，RR₁甚至可以小于0.5。这些值中的每个值可以理解为对应于非常随机的布置（或非周期性阵列）。RR₁值越小，微结构的阵列就越没有周期性。此坐标图可用于显示具有本文所公开的给定雾度值的至少一些膜的周期性（或缺少周期性）。例如，对于雾度值小于约20%，或小于约10%，或小于约7.5%，或小于约5%，或小于约3%，或小于约1.5%的本发明的给定膜，所述膜的RR₁值可以小于2或小于1。

在许多实施例中，可能有用的是包括基底层170。所述基底不仅可以用于结构目的，而且可以用于产生微结构化表面以及使微结构化表面成形的工艺。微结构化表面可以根据第2009/0029054号共同拥有的美国专利申请中所述的方法生成，所述专利申请以全文引用的方式并入本文中。因此，基底170可以是适于用作基底的多种材料中的任何材料，包括挠性材料，例如编织材料、针织材料、膜（例如，聚合物薄膜）、非编织物、金属薄片、金属箔、玻璃等。在最终膜产品旨在用于光学显示器等光学应用的一些实施例中，将部分基于预期用途所需的学和机械性质来选择基底材料。合适的光透射光学膜包括（但不限于）多层光学增亮膜（例如，反射型或吸收型）、偏振膜、漫射膜和补偿膜。机械性质可包括柔韧性、尺寸稳定性和抗冲击性。在一些实施例中，可能需要光学清晰材料（例如，透明材料）。合适的光学清晰材料的实例包括光学清晰的聚酯膜、三醋酸酯（TAC）膜、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚碳酸酯、醋酸纤维素、聚（甲基丙烯酸甲酯）、聚烯烃，诸如双轴取向聚丙烯（BOPP）以及同时双轴取向聚丙烯（S-BOPP）。基底170可以包括以下物质或由以下物质构成：聚酰胺、聚酰亚胺、酚醛树脂、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、环氧树脂等等。

如上所述，微结构化表面可以根据第2009/0029054号共同拥有的美国专利申请所述的方法生成。这样，结构化表面可以通过以基底上的初始涂层开始的方法而形成。所述涂层的粘度从第一粘度变为第二粘度。粘度变化可以理解为从更似液体且能够进行涂布的第一粘度转变为更坚固且因而能够至少暂时保持一定结构的第二粘度。在粘度变化之后，涂层会与正面辊接触，从而将微结构化涂饰剂施加在该涂层上。随后任选地使所述涂层硬化。因此，所用的基底可以是能够硬化的基底。参考图3可更好地理解此方法。根据此实施例，微结构化表面随后将具有某些所需的材料性质。根据此结构制成的微结构化糙面膜可以被描述为由辊产生的糙面光学结构。

图3中示意性示出用于对膜进行结构化的设备，即设备300。如图所示，在至少一个实施例中，通过涂层涂布器312将涂层涂到基底310。通常最初可以为液态的涂层的粘度在增稠站314处进行调节。实现这种粘度变化（从第一粘度变成第二粘度）的方式可以为，从树脂溶液中除去挥发性溶剂，冷却100%的固体树脂，使树脂部分交联，加热粘度极高的树脂，组合这些技术中的两个或多个技术，或采用其他方法。在粘度变化之后，得到涂层316。这通常可以通过将基底和涂层滚动穿过转化站318而实现，所述转化站一般是辊或辊隙。图4示出了此辊隙的近距离视图。该辊隙具有供膜316滚动穿过的正面辊340和支撑辊350。被涂布基底的第一主表面与正面辊接触。通过辊隙拉去涂层的一部分，从而使剩余部分形成微结构化表面。图案化涂层320在可能未达到固态时离开转化站。因此，如图3所示，它被送过固化站330。固化可以采用任何数量的合适方法来执行，包括UV固化、热固化、电子束固化、环氧树脂固化、另外的溶剂去除或其他方法。固化站步骤产生了具有锁在位置322的图案的膜。

在某些实施例中，可以将诱导辊隙（decoynip）添加到图3所示的方法中。图5示出了这样的构造。在此实施例中，膜510首先穿过诱导辊隙520，然后进入转化站辊隙530。在大污垢微粒到达转化站辊隙的情况下可能需要这种构造。在这种情况下，添加诱导辊隙可以先除去并收集污垢，然后再进行结构化和转化。表面的结构同样锁在固化站540处的位置中。

如上所述，诱导辊隙用于收集和除去液态涂层中造成缺陷的碎屑和微粒，例如污垢。装置用于在清洁度低的环境中提高结构化过程的鲁棒性(robustness)。与转换站辊隙相比，诱导辊隙对微粒具有相同或更高的亲和力。诱导辊隙从液体涂层除去碎屑（否则这些碎屑将被捕集在转化站辊隙上），从而不会不利地影响所制备的最终结构化涂层。从诱导辊隙到转化站辊隙的距离可根据制造环境的清洁度而改变。

适用于本发明的可涂覆型材料可以包括多种成膜材料中的任何材料。在一些实施例中，可涂覆型材料为由溶剂中的一种或多种聚合物和/或低聚物构成的聚合物材料。在一些实施例中，可涂覆型材料为一种或多种溶剂中的一种或多种单体、低聚物和/或聚合物的混合物。在其他实施例中，可涂覆型材料包括一种或多种溶剂中的上述低聚物、单体和/或聚合物，以及一定体积的微粒或纳米粒子。在某些实施例中，可涂覆型材料可包括光引发剂、交联剂、抗静电化合物，以及其他活性材料。

纳米粒子可进行表面改性，这是指以下事实，即纳米粒子具有改性表面，从而（例如）纳米粒子提供稳定的分散体。“稳定的分散体”指这样的分散体：其中胶态纳米粒子在处于例如室温（约20至22℃）等环境条件以及大气压力但无极端电磁力的情况下，静置一段时间（例如，约24小时）后不会发生团聚。

经表面改性的胶态纳米粒子可任选地存在于用作本文中的可涂覆型组合物的聚合物涂料中，其中纳米粒子的量能有效地提高成品或光学元件的耐久性。本文中所述的经表面改性的胶态纳米粒子可具有多种所需的属性，包括例如：纳米粒子与可涂覆型组合物的相容性，以使得纳米粒子在可涂覆型组合物内形成稳定的分散体；纳米粒子与可涂覆型组合物的反应性，从而使得所述复合物更耐用；以及低影响或未固化组合物的粘度。可使用表面改性的组合来控制组合物的未固化和固化性质。经表面改性的纳米粒子可改善可涂覆型组合物的光学和物理性质，例如，提高树脂的机械强度，在提高可涂覆型组合物中固体体积载量的同时使粘度变化最小化，以及在提高可涂覆型组合物中固体体积载量的同时保持光学清晰度。

在一些实施例中，纳米粒子为经表面改性的纳米粒子。合适的经表面改性的胶态纳米粒子可包括氧化物微粒。对于给定的材料，纳米粒子可以在已知的粒度分布上具有一系列粒度。在一些实施例中，平均粒度可以在约1nm至约100nm范围内。粒度和粒度分布可以采用已知的方式确定，包括（例如）用透射电子显微镜（TEM）进行确定。合适的纳米粒子可包括多种材料中的任何材料，例如选自氧化铝、氧化锡、氧化锑、二氧化硅、氧化锆、二氧化钛以及上述两者或更多者的组合的金属氧化物。经表面改性的胶态纳米粒子可基本上完全凝聚。

在一些实施例中，二氧化硅纳米粒子的粒度可为约5nm至约75nm。在一些实施例中，二氧化硅纳米粒子的粒度可为约10nm至约30nm。二氧化硅纳米粒子可以约10phr至约100phr的量存在于可涂覆型组合物中。在一些实施例中，二氧化硅纳米粒子可以约25phr至约80phr的量存在于可涂覆型组合物中，而在其他实施例中，二氧化硅纳米粒子可以约30phr至约70phr的量存在于可涂覆型组合物中。适用于本发明的可涂覆型组合物的二氧化硅纳米粒子可以产品名NALCO胶态二氧化硅从伊利诺伊州纳波维尔的纳尔科化学公司（NalcoChemicalCo.(Naperville,Ill.)）商购获得。合适的二氧化硅产品包括NALCO产品1040、1042、1050、1060、2327和2329。合适的热解法二氧化硅产品包括（例如）可得自德国哈瑙的德固赛公司（DeGussaAG）的以商品名AEROSIL系列OX-50、-130、-150和-200出售的产品，以及可得自伊利诺伊州塔斯科拉的卡博特公司（CabotCorp.(Tuscola,Ill.)）的CAB-O-SPERSE2095、CAB-O-SPERSEA105和CAB-O-SILMS。对纳米微粒进行表面处理可在可涂覆型组合物（例如聚合物树脂）中提供稳定的分散体。优选地，表面处理使纳米粒子稳定，以使得这些微粒很好地分散在可涂覆型组合物中并得到基本上均质的组合物。此外，纳米粒子可在其表面的至少一部分上用表面处理剂进行改性，以使得稳定的微粒可在固化过程中与可涂覆型组合物发生共聚或反应。

许多糙面膜包括足够大的微粒，以使得微粒作为形成微结构的主要原因。图6示出了这样的膜。在此类实施例中，光学膜800具有机械耦合到微结构化层860的基底或第一膜850。在此实施例中，微粒830分散在粘结剂840中。可以注意到，微粒830的粒度在比例上非常接近微结构870的实际宽度或高度。本发明提供具有微粒的结构化表面160。然而，相对于涂层的厚度，本发明的微粒较小，因此不作为形成微结构的主要原因。糙面涂层的光学性质（例如，雾度、清晰度和透射率）部分由微粒的粒度相对于涂层厚度，以及这些微粒的密度和分布进行控制。图7示出了根据本发明设计的膜的实例。此处，光学膜或膜叠堆900具有机械地耦合到微结构化层960的基底层或第一膜950。微粒930分散在粘结剂940中。很明显，所有点（尤其是微结构970的尖峰）处的层厚度远大于微粒930的厚度。更具体地讲，光学膜中微粒的粒度小于0.5微米，或者在一些实施例中，小于0.2微米，或小于0.1微米。

在一些实施例中，结构化表面将具有介于约1.50与1.70之间的折射率。在其他实施例中，结构化表面可以具有从低达约1.17到高达约1.8的折射率。

参考图8和图9，可以更好地理解雾度和清晰度性能。图8提供根据本发明产生的多个膜的完整雾度和清晰度光谱。该图是通过与十三个其他的结构化膜相比较而示出的，以便示出优于其他结构化膜的性能优点。膜1是3M珠涂布的糙面膜。膜2是PET上具有图案化白墨的膜。膜3是Keiwa100-BMUIS膜。膜4是珠涂布的糙面膜。膜5是微粒珠涂布的糙面膜。膜6是Kimoto100TL4膜。膜7是通过对膜表面进行火焰压花而生成的糙面膜。膜8是使用电沉积生成的微复制型糙面膜。膜9是通过应用和除去挤出型可剥离表层而具有纹理的膜。膜10是微复制型糙面膜。膜11是具有位于凹版涂层中的分散珠的糙面膜。膜12是微复制型经加工的糙面膜。膜13是DaiNipponDNPM268Y膜。可以通过参考图8和图9而清楚地注意到，根据本发明的大量膜显示出非常低的雾度值和高的清晰度值。为了最好地理解这种性能，可以参考图9。此图提供0%到20%按比例的雾度百分比，以及0%到100%的清晰度范围。

图9清楚地显示了本发明达到而其他膜未达到的性能水平。例如，一方面可以将所述膜理解为具有小于50%的光学清晰度值以及小于10%的光学雾度值。另一方面，可以将本发明的膜理解为具有小于约7.5%的光学雾度以及小于约60%的光学清晰度。一种或两种其他膜（例如3M微粒糙面）可能处于此性能范围内。然而，任何这样的膜是可区分的，因为当前的膜是通过结构化表面显示此性能的，所述结构化表面的粒度小于约0.5微米或小于约0.2微米。另一方面，可以将本发明的膜理解为具有小于约5%的光学雾度以及小于约70%的光学清晰度，其中膜的结构化表面同样由粒度小于约0.5微米或小于约0.2微米的微粒组成。

又一实施例中，如图8所示并且在图9中更清楚地示出，本发明的膜具有小于约3%的光学雾度以及小于约65%或75%的光学清晰度。另一方面，可以将所述膜理解为具有小于约1.5%的光学雾度以及小于约80%的光学清晰度。再一方面，可以将所述膜理解为具有小于约1%的光学雾度以及小于约90%的光学清晰度。另外，可以将所述膜理解为具有小于约20%的光学雾度以及小于约40%的光学清晰度。

用另一种方式，可以将本发明的膜理解为具有介于约75%与95%之间的光学清晰度以及介于约0%与1%之间的光学雾度，其中所述膜由平均粒度小于约0.5微米的微粒组成。另外，所述膜可以具有介于约35%与70%之间的光学清晰度以及介于约1%与4%之间的光学雾度。所述膜可以具有介于约30%与55%之间的光学清晰度以及介于约4%与10%之间的光学雾度，其中所述膜由平均粒度小于约0.5微米的微粒组成。在另一个实施例中，所述膜同样由平均粒度小于约0.5微米的微粒组成，其中所述膜的光学清晰度值介于约25%与45%之间并且光学雾度值介于约10%与18%之间。

又一方面，在将结构化表面描述为第二膜并且将基底描述为第一膜的情况下，第二膜具有小于约85%的光学清晰度以及小于约3.5%的光学雾度。

图10为糙面层140的一部分的示意性侧视图。具体地讲，图10示出了结构化表面120中的微结构160。微结构160具有在整个微结构表面上的倾斜度分布。例如，微结构在位置510处具有倾斜度θ，其中θ为垂直于位置510处的微结构表面（α=90度）的法线520和与相同位置处的微结构表面相切的切线530之间的角度。倾斜度θ也为切线530和糙面层的主表面142之间的角度。

为了最好地理解微结构的倾斜度，首先沿着x方向得到结构化表面120的倾斜度，然后沿着y方向得到该倾斜度，从而得到：

公式1：以及

公式2：

其中H(x,y)=表面的高度轮廓。

平均x倾斜度和y倾斜度通过以每个像素为中心的6微米间隔来进行评估。在不同的实施例中，只要使用恒定的间隔，便可以选择更小的微米间隔，例如2微米、或3微米。根据x倾斜度和y倾斜度数据，有可能确定梯度大小。这可以理解成：

公式3：

随后，平均梯度大小能够通过以每个像素为中心的6μm×6μm的框进行评估。在0.5度的面元大小（binsize）内得到梯度大小。梯度大小分布可以写为N_G。应当理解，为了得到x倾斜度、y倾斜度的角度值以及对应于上述值的梯度大小角度，应取公式1、2和3中的这些值的反正切。为了更好地理解表面的实质，较为有用的是，定义互补累积分布（F_CC(θ)）。这提供大于或等于角θ的梯度大小的一小部分。它定义为

公式4： $F_{\mathrm{cc}}\left(\mathrm{\θ}\right)=\frac{\underset{q=\mathrm{\θ}}{\overset{\∞}{\mathrm{\Σ}}}{N}_G\left(\mathrm{\θ}\right)}{\underset{q=0}{\overset{\∞}{\mathrm{\Σ}}}{N}_G\left(\mathrm{\θ}\right)}$

因此，当指出某一百分比的结构化表面具有小于约某一度数的倾斜度大小时，该数字得自公式4中的F_CC(θ)。梯度大小对应于x和y倾斜度的组合，因此，梯度大小可理解为总倾斜度大小。应当理解，术语“梯度大小”和“倾斜度大小”在本说明书中可以互换使用并且这些术语应理解为具有相同的意思。

针对本发明的许多实施例，计算X倾斜度分布和Y倾斜度分布。这些膜的雾度值为0.7%、1.2%、1.6%、8%、23%、40%和80%。图11提供根据本发明制备的这七种膜的x倾斜度分布。图12提供同样的七种膜的y倾斜度分布。如从这两个坐标图中明显看出，膜表面的大部分在x和y方向上都具有非常小的倾斜度。具有最低雾度值（那些1.6%及以下的雾度值）的膜在x倾斜度分布和y倾斜度分布上也都具有属于0度倾斜度的区域的最高归一化计数值。根据类似的数据，有可能针对根据本发明制备的七种不同膜，通过上述公式得出梯度大小分布。图13示出了梯度大小分布。同样，该坐标图示出了倾斜度极低的每个膜的大量表面。最大的三个尖峰针对的是1.6%雾度、1.2%雾度和0.7%雾度的雾度值。此数据可以通过对应的互补累积梯度分布（F_CC(θ)）而得以更好理解。图14示出了F_CC坐标图。据此，有可能根据膜的给定雾度值来确定表面的各倾斜度。因此，倾斜度低于给定数的膜表面的百分比可以根据膜的各雾度值进行量化。

根据这种理解，膜表面的倾斜度可以理解为与雾度值相关联。因此，对于雾度值小于约10%的膜，所述膜可以具有至少85%的结构化表面，该结构化表面具有小于约7.5度的倾斜度大小。在其他膜中，95%的结构化表面具有小于约10度的倾斜度大小。此外，95%的结构化表面可以具有小于约5度的倾斜度大小。

在膜的雾度值小于约7.5%的情况下，90%的结构化表面可以具有小于约7.5度的倾斜度大小。在这种相同雾度值的膜中，97%的结构化表面可以具有小于约10度的倾斜度大小。此外，95%的结构化表面可以具有小于约5度的倾斜度大小。

在膜的雾度值小于约5%的情况下，85%的结构化表面可以具有小于约5度的倾斜度大小。在这种雾度值相同的情况下，90%的结构化表面可以具有小于约5度或小于约4度的倾斜度。

在本说明的另一方面中，在膜的雾度值小于约3%的情况下，至少90%的结构化表面可以具有小于约5度的倾斜度大小，或者至少95%的结构化表面可以具有小于约5度的倾斜度大小。

在膜的雾度值小于约1.5%的情况下，至少80%的结构化表面可以具有小于约2.5度的倾斜度大小。在这种相同雾度值的膜中，至少98%的结构化表面可以具有小于约5度的倾斜度大小。

在膜的光学雾度值小于约1%的情况下，至少90%的结构化表面可以具有小于约4度的倾斜度大小，或者99%的结构化表面可以具有小于约5度的倾斜度大小。

在光学雾度小于约20%的实施例中，至少90%的结构化表面可以具有小于约7度或小于约10度的倾斜度大小。

另一方面，至少50%的光学膜可以理解为具有介于约1度与5度之间的倾斜度。

实例

图16A和图16C示出了根据本发明的特定膜沿着x和y轮廓的原子力显微图像。图16B和图16D分别提供膜的对应X和Y轮廓。图中所示的特定膜具有0.7%的光学雾度以及70.9%的光学清晰度。可以注意到，X和Y轮廓（图16B和图16D）中所示的膜的随机分布和随机高度发生变化。此外，尽管此轮廓坐标图似乎具有较大倾斜度，但是x轴和y轴上的比例极度不成比例。Y轮廓的最陡倾斜度在大约300μm到350μm的侧向范围上从大约+0.35μm的高度水平移动到-0.95μm。这等同于只有-.026的负比降，并且将还等同于从膜平面算起的较小角度。由于y/x等于倾斜度和倾斜度角的切线，因此反正切（.026）提供一定角度。更具体地讲，反正切（.026）提供1.49度的角度。

图17A和图17C示出了根据本发明的给定膜的另一个图像。在此图中，沿着x和y轮廓获取膜的Wyko相移干涉仪图像。所述膜具有1.4%的光学雾度值以及69.6%的光学清晰度值。尽管所示的x和y轮廓（分别如图17B和图17D所示）似乎示出更大的倾斜度，但是同样这些轴在比例上是不成比例的，从而使得在x方向上侧向移动30μm（270μm到300μm）会引起1.5μm的z变化（-1.0到+0.5）（见图17B）。在y轮廓上可找到竖直偏差的大体相同比例。上述x轮廓计算示出了0.05的倾斜度，这等于2.86度的角度（同样根据反正切计算）。

还测量了根据本发明生成的膜的另一个样本。图26示出了表面的扫描电镜图像。经测量，所述样本具有2.47%的雾度值以及59.1%的光学清晰度值。根据上述傅立叶计算方法，针对膜轮廓生成傅立叶光谱。图27示出了此样本的一个光谱。从此光谱中，同样根据上述方法且如图18到图24A和图24B所示，可生成样本的尖峰轮廓，如图28所示。据此，有可能确定膜轮廓的傅立叶比率RR₁值为0.65。

项1.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于约10%的光学雾度；

小于约50%的光学清晰度；以及

其中至少85%的所述结构化表面具有小于约7.5度的倾斜度大小。

项2.根据项1所述的光学膜，其中在所述结构化表面上的结构具有小于约10μm的平均高度。

项3.根据项1所述的光学膜，其中所述结构化表面由能够硬化的基底构成。

项4.根据项1所述的光学膜，其中所述结构化表面具有介于约1.50与1.70之间的折射率。

项5.根据项1所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.5微米的多个微粒。

项6.根据项5所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.2微米的多个微粒。

项7.根据项6所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.1微米的多个微粒。

项8.根据项7所述的光学膜，其中所述微粒是经表面改性的。

项9.根据项1所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述光学清晰度小于约45%。

项10.根据项1所述的光学膜，其中至少95%的所述结构化表面具有小于约10度的倾斜度大小。

项11.根据项1所述的光学膜，其中至少95%的所述结构化表面具有小于约5度的倾斜度大小。

项12.根据项1所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于2的RR₁值。

项13.根据项12所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于1的RR₁值。

项14.根据项1所述的光学膜，其还包括基底，所述结构化表面设置在基底上，而且所述结构化表面和基底各自具有折射率。

项15.根据项14所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述折射率小于所述基底的所述折射率。

项16.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于约7.5%的光学雾度；

小于约60%的光学清晰度；

其中至少90%的所述结构化表面具有小于约7.5度的倾斜度大小；以及

其中所述光学膜包括平均粒度小于约0.5微米的多个微粒。

项17.根据项16所述的光学膜，其中所述多个微粒具有小于约0.2微米的平均粒度。

项18.根据项17所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.1微米的多个微粒。

项19.根据项18所述的光学膜，其中所述微粒是经表面改性的。

项20.根据项16所述的光学膜，其中所述结构化表面上的结构具有小于约7.5μm的平均高度。

项21.根据项16所述的光学膜，其中至少97%的所述结构化表面具有小于约10度的倾斜度大小。

项22.根据项16所述的光学膜，其中至少95%的所述结构化表面具有小于约5度的倾斜度大小。

项23.根据项16所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述光学清晰度小于约55%。

项24.根据项16所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于2的RR₁值。

项25.根据项24所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于1的RR₁值。

项26.根据项16所述的光学膜，其还包括基底，所述结构化表面设置在所述基底上，而且所述结构化表面和基底各自具有折射率。

项27.根据项26所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述折射率小于所述基底的所述折射率。

项28.根据项26所述的光学膜，其中所述结构化表面具有介于约1.50与1.70之间的折射率。

项29.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于约5%的光学雾度；

小于约70%的光学清晰度；

其中至少85%的所述结构化表面具有小于约5度的倾斜度大小；以及

其中所述光学膜包括平均粒度小于约0.5微米的多个微粒。

项30.根据项29所述的光学膜，其中所述多个微粒具有小于约0.2微米的平均粒度。

项31.根据项30所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.1微米的多个微粒。

项32.根据项31所述的光学膜，其中所述微粒是经表面改性的。

项33.根据项29所述的光学膜，其中所述结构化表面上的结构具有小于约5μm的平均高度。

项34.根据项29所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述光学清晰度小于约60%。

项35.根据项29所述的光学膜，其中至少90%的所述结构化表面具有小于约4度的倾斜度。

项36.根据项29所述的光学膜，其中至少90%的所述结构化表面具有小于约5度的倾斜度大小。

项37.根据项29所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于2的RR₁值。

项38.根据项37所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于1的RR₁值。

项39.根据项29所述的光学膜，其还包括基底，所述结构化表面设置在所述基底上，而且所述结构化表面和基底各自具有折射率。

项40.根据项39所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述折射率小于所述基底的所述折射率。

项41.根据项39所述的光学膜，其中所述结构化表面具有介于约1.50与1.70之间的折射率。

项42.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于约3%的光学雾度；

小于约65%的光学清晰度；以及

其中至少90%的所述结构化表面具有小于约5度的倾斜度大小。

项43.根据项42所述的光学膜，其中所述结构化表面上的结构具有小于2.5μm的平均高度。

项44.根据项42所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述光学清晰度小于约60%。

项45.根据项42所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.5微米的多个微粒。

项46.根据项45所述的光学膜，其中所述多个微粒具有小于约0.2微米的平均粒度。

项47.根据项46所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.1微米的多个微粒。

项48.根据项47所述的光学膜，其中所述微粒是经表面改性的。

项49.根据项42所述的光学膜，其中至少95%的所述结构化表面具有小于约5度的倾斜度大小。

项50.根据项39所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于2的RR₁值。

项51.根据项50所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于1的RR₁值。

项52.根据项52所述的光学膜，其还包括基底，所述结构化表面设置在所述基底上，而且所述结构化表面和基底各自具有折射率。

项53.根据项52所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述折射率小于所述基底的所述折射率。

项54.根据项52所述的光学膜，其中所述结构化表面具有介于约1.50与1.70之间的折射率。

项55.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于约1.5%的光学雾度；

小于约80%的光学清晰度；

其中至少80%的所述结构化表面具有小于约2.5度的倾斜度大小。

项56.根据项55所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述光学清晰度小于约75%。

项57.根据项55所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.5微米的的多个微粒。

项58.根据项57所述的光学膜，其中所述多个微粒具有小于约0.2微米的平均粒度。

项59.根据项58所述的光学膜，其中所述光学膜还包括平均粒度小于约0.1微米的多个微粒。

项60.根据项59所述的光学膜，其中所述微粒是经表面改性的。

项61.根据项55所述的光学膜，其中至少98%的所述结构化表面具有小于约5度的倾斜度大小。

项62.根据项55所述的光学膜，其中所述结构化表面上的结构分布成使得所述膜具有小于2的RR₁值。

项63.根据项62所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于1的RR₁值。

项64.根据项55所述的光学膜，其还包括基底，所述结构化表面设置在所述基底上，而且所述结构化表面和基底各自具有折射率。

项65.根据项64所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述折射率小于所述基底的所述折射率。

项66.根据项64所述的光学膜，其中所述结构化表面具有介于约1.50与1.70之间的折射率。

项67.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于约1%的光学雾度；

小于约90%的光学清晰度；

其中至少90%的所述结构化表面具有小于约4度的倾斜度大小。

项68.根据项67所述的光学膜，其中至少99%的所述结构化表面具有小于约5度的倾斜度大小。

项69.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于约20%的光学雾度；

小于约40%的光学清晰度；以及

其中至少90%的所述结构化表面具有小于约10度的倾斜度大小。

项70.根据项69所述的光学膜，其中所述结构化表面上的结构分布成使得所述膜具有小于2的RR₁值。

项71.根据项70所述的光学膜，其中所述结构化表面上的所述结构分布成使得所述膜具有小于1的RR₁值。

项72.根据项69所述的光学膜，其中至少90%的所述结构化表面具有小于约7度的倾斜度大小。

项73.一种光学膜，其包括：

第一结构化表面，其包括多个棱柱结构；以及

第二结构化表面，其与所述第一结构化表面相对并且包括多个微结构，

其中所述光学膜的有效透射率比具有类似构造但具有平滑的非结构化第二表面的膜的有效透射率小不到1%。

项74.根据项73所述的光学叠堆，其中与具有类似构造但第二光学膜具有平滑而非结构化表面的膜相比，所述膜的所述有效透射率更大。

项75.根据项73所述的膜，其中所述膜具有至少约1.5的光学增益。

项76.根据项73所述的膜，其中所述第二结构化表面具有小于约20%的光学雾度以及小于约40%的光学清晰度。

项77.根据项73所述的膜，其中所述第二结构化表面具有小于约10%的光学雾度以及小于约50%的光学清晰度。

项78.根据项73所述的膜，其中所述第二结构化表面具有小于约7.5%的光学雾度以及小于约60%的光学清晰度。

项79.根据项73所述的膜，其中所述第二结构化表面具有小于约5%的光学雾度以及小于约70%的光学清晰度。

项80.根据项73所述的膜，其中所述第二结构化表面具有小于约3%的光学雾度以及小于约75%的光学清晰度。

项81.根据项73所述的膜，其中所述第二结构化表面具有小于约1.5%的光学雾度以及小于约80%的光学清晰度。

项82.根据项73所述的膜，其中所述第二结构化表面具有小于约1%的光学雾度以及小于约90%的光学清晰度。

项83.根据项73所述的膜，其中所述第一和第二结构化表面由不同的材料构成。

项84.一种光学膜叠堆，其包括：

第一光学膜；以及

第二光学膜，其设置在所述第一光学膜上并且光学耦合到所述第一光学膜；

其中所述第二光学膜包括结构化表面；以及

另外其中与具有类似构造但第二光学膜具有平滑而非结构化表面的膜叠堆相比，所述膜叠堆的有效透射率小不到1%。

项85.根据项84所述的膜叠堆，其中与具有类似构造但第二光学膜具有平滑而非结构化表面的膜叠堆相比，所述膜叠堆的所述有效透射率更大。

项86.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第一光学膜包括增亮膜。

项87.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第一光学膜包括偏振器。

项88.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第一光学膜包括聚碳酸酯、PET、TAC或S-BOPP。

项89.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第一光学膜包括多个层。

项90.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第一光学膜包括反射型偏振器。

项91.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第一光学膜具有第一折射率，而且所述第二光学膜具有小于所述第一折射率的第二折射率。

项92.根据项84所述的膜叠堆，其还包括设置在所述第一光学膜与所述第二光学膜之间的第三光学膜。

项93.根据项84所述的膜叠堆，其中所述膜叠堆具有至少约1.5的光学增益。

项94.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第二膜的所述结构化表面具有小于约20%的光学雾度以及小于约40%的光学清晰度。

项95.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第二膜的所述结构化表面具有小于约10%的光学雾度以及小于约50%的光学清晰度。

项96.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第二膜的所述结构化表面具有小于约7.5%的光学雾度以及小于约60%的光学清晰度。

项97.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第二膜的所述结构化表面具有小于约5%的光学雾度以及小于约70%的光学清晰度。

项98.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第二膜的所述结构化表面具有小于约3%的光学雾度以及小于约75%的光学清晰度。

项99.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第二膜的所述结构化表面具有小于约1.5%的光学雾度以及小于约80%的光学清晰度。

项100.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第二膜的所述结构化表面具有小于约1%的光学雾度以及小于约90%的光学清晰度。

项101.根据项84所述的膜叠堆，其中所述第一膜具有小于约2%的光学雾度。

项102.一种光学膜，其包括：

随机分布在所述光学膜的表面上的多个微结构，其中随机分布的是小于2的傅立叶RR₁值；

其中所述光学膜的所述表面的50%具有介于约1度与5度之间的倾斜度。

项103.根据项102所述的光学膜，其中随机分布的是小于1的RR₁值。

项104.一种光学膜，其包括结构化表面，其中所述光学膜具有介于约75%与95%之间的光学清晰度以及介于约0%与1%之间的光学雾度，所述光学膜包括平均粒度小于约0.5微米的多个微粒。

项105.一种光学膜，其包括结构化表面，其中所述光学膜具有介于约35%与70%之间的光学清晰度以及介于约1%与4%之间的光学雾度。

项106.一种光学膜，其包括结构化表面，其中所述光学膜具有介于约30%与55%之间的光学清晰度以及介于约4%与10%之间的光学雾度，所述光学膜包括平均粒度小于约0.5微米的多个微粒。

项107.一种光学膜，其包括结构化表面，其中所述光学膜具有介于约25%与45%之间的光学清晰度以及介于约10%与18%之间的光学雾度，所述光学膜包括平均粒度小于约0.5微米的多个微粒。

项108.一种用于照亮显示器的背光源，其包括：

光源；

从所述光源接收光的第一光学膜；以及

第二光学膜；所述第一光学膜设置在所述第二光学膜上并光学耦合到所述第二光学膜，并且包括多个微结构，

其中第二膜的光学清晰度小于约85%，而且所述第二膜的光学雾度小于约3.5%。

项109.一种光学膜，其包括结构化表面，其中所述结构化表面的光学清晰度小于（（-3×光学雾度）+80%）。

项110.根据项109所述的光学膜，其中所述结构化表面的所述光学清晰度大于20%。

项111.一种制备具有糙面精整层的膜的方法，所述方法包括：

提供被涂布基底，所述被涂布基底包括设置在基底上的可涂覆型材料，所述可涂覆型材料提供所述被涂布基底的第一主表面；

将所述可涂覆型材料的粘度从初始粘度变为第二粘度；

使所述被涂布基底穿过第一辊，以除去任何碎屑；

使所述被涂布基底的所述第一主表面与至少一个正面辊接触，以施加糙面精整层；以及

任选地使所述可涂覆型材料硬化，从而得到所述膜。

以上引用的所有专利、专利申请以及其他出版物均以如同全文复制的方式引入本文以供参考。虽然为了有助于说明本发明的各个方面而在上文详细描述了本发明的具体实例，但应当理解，这并不旨在将本发明限于实例中的具体内容。相反，本发明的目的在于涵盖所附权利要求书限定的本发明的精神和范围内的所有修改形式、等同形式和替代形式。

Claims (10)

1.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于10％的光学雾度；

小于50％的用于透射光的光学清晰度；以及

其中至少85％的所述结构化表面具有小于7.5度的倾斜度大小。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其中所述结构化表面上的结构分布成使得所述光学膜具有小于2的RR₁值。

3.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于7.5％的光学雾度；

小于60％的光学清晰度；

其中至少90％的所述结构化表面具有小于7.5度的倾斜度大小；以及

其中所述光学膜包括平均粒度小于0.5微米的多个微粒。

4.根据权利要求3所述的光学膜，其中所述结构化表面上的结构分布成使得所述光学膜具有小于2的RR₁值。

5.一种光学膜，其包括结构化表面，所述结构化表面具有

小于3％的光学雾度；

小于65％的用于透射光的光学清晰度；以及

其中至少90％的所述结构化表面具有小于5度的倾斜度大小。

6.根据权利要求5所述的光学膜，其中所述结构化表面上的结构分布成使得所述光学膜具有小于2的RR₁值。

7.一种光学膜，其包括：

第一结构化表面，其包括多个棱柱结构；以及

第二结构化表面，其与所述第一结构化表面相反并且包括多个微结构，其中所述第二结构化表面是权利要求1至5中任一权利要求所述的光学膜的结构化表面，

其中所述光学膜的有效透射率比具有类似构造但具有平滑的非结构化第二表面的膜的有效透射率小不到1％。

8.根据权利要求7的所述光学膜，其中与具有类似构造但第二光学膜具有平滑而非结构化表面的膜相比，所述光学膜的所述有效透射率更大。

9.一种光学膜，其包括：

随机分布在所述光学膜的表面上的多个微结构，其中随机分布的是小于2的傅立叶RR₁值；

其中所述光学膜的所述表面的50％具有介于1度与5度之间的倾斜度，并且

所述表面是权利要求1、3、5中任一权利要求所述的光学膜的结构化表面。

10.一种制备具有糙面精整层的膜的方法，所述方法包括：

提供被涂布基底，所述被涂布基底包括设置在基底上的可涂覆型材料，所述可涂覆型材料提供所述被涂布基底的第一主表面；

将所述可涂覆型材料的粘度从初始粘度变为第二粘度；

使所述被涂布基底穿过第一辊，以除去任何碎屑；

使所述被涂布基底的所述第一主表面与至少一个正面辊接触，以施加糙面精整层；以及

任选地使所述可涂覆型材料硬化，从而得到所述膜，

其中，所述膜具有结构化表面，所述结构化表面具有小于65％的用于透射光的光学清晰度和小于3％的光学雾度。