JPWO2007097454A1 - 微細凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 247
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 97
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 47
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 62
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 62
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 30
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 6
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 9
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 53
- 229920006300 shrink film Polymers 0.000 description 16
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 15
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 12
- -1 etc.) Polymers 0.000 description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 7
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 6
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 6
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 3
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- JZLWSRCQCPAUDP-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4,6-triamine;urea Chemical compound NC(N)=O.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JZLWSRCQCPAUDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNGYZEMWVAWWOB-VAWYXSNFSA-N 5-[[4-anilino-6-[bis(2-hydroxyethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-[(e)-2-[4-[[4-anilino-6-[bis(2-hydroxyethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-sulfophenyl]ethenyl]benzenesulfonic acid Chemical compound N=1C(NC=2C=C(C(\C=C\C=3C(=CC(NC=4N=C(N=C(NC=5C=CC=CC=5)N=4)N(CCO)CCO)=CC=3)S(O)(=O)=O)=CC=2)S(O)(=O)=O)=NC(N(CCO)CCO)=NC=1NC1=CC=CC=C1 CNGYZEMWVAWWOB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N benzoic anhydride Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 125000005068 thioepoxy group Chemical group S(O*)* 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
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- G02B5/0221—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure
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- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
- G02B5/0231—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having microprismatic or micropyramidal shape
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Abstract
Description
液晶ディスプレイなどの表示装置では、表示画面の大面積化の検討が進められている。これに伴い、大面積の光学フィルムを高精度で生産することが要求されるようになった。
リソグラフィー法は、高精細な加工が可能であるが、大面積への加工には向かず、また加工コストが高くなる場合がある。
一方、ホットエンボス技術やナノインプリント技術など表面に型を押し付ける方法は、高精度な微細構造の形成が可能となってきているが、該手法は、高精細・大面積の型の製造が難しく、型が高価である。この方法で得られた凹凸形状を有するフィルムは、構造が微細になるほど、擦れ等により傷が付きやすく、凹凸形状が潰れるおそれがあった。また、紫外線硬化樹脂などを用いて、表面に型を押し付ける方法で得られる表面に凹凸形状を有するフィルムは、使用条件などによりそりが発生することがあった。
また本発明の目的は、凹凸形状の凸部頂点間の距離、凸部の高さと幅との比(アスペクト比)、およびそれらの分布が自在に制御できる表面に微細凹凸形状を有する大面積のフィルムの製造方法を提供することにある。
(1) フィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成して積層体を得る工程、および
該積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて薄膜を褶曲させる工程を含む、
表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
(2) 主たる収縮方向の収縮率ΔLを式〔1〕、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔMを式〔2〕で表した時、ΔLおよびΔMが式〔3〕および式〔4〕を満たす、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
式〔1〕:ΔL=(L0−L1)/L0×100 (L0:主たる収縮方向の収縮前の長さ、L1:主たる収縮方向の収縮後の長さ)
式〔2〕:ΔM=(M0−M1)/M0×100 (M0:主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、M1:主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ)
式〔3〕:ΔL>0
式〔4〕:−(ΔL×0.3)≦ΔM≦ΔL
(3) ΔLおよびΔMが式〔5〕を満たす、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
式〔5〕:−(ΔL×0.2)≦ΔM≦(ΔL×0.2)
(4) 微細な凹凸形状が、面内でストライプ状に細長く伸びた構造である、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
(5)微細な凹凸形状は、凸部の頂点間の距離の変動係数が40%以下である、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
(7) 前記薄膜が無機物質からなるものであり、かつ前記薄膜の厚さが1nm〜500nmである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
(8) 前記薄膜が有機物質からなるものであり、かつ前記薄膜の厚さが100nm〜50μmである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
(10) 微細な凹凸形状の凸部の頂点間の平均距離が50nm〜50μmである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
(11) フィルム基材が、面内の少なくとも一つの方向に分子配向しているフィルムである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
(13) 第二層の平均厚さが、微細凹凸形状Aの平均高さの10%〜100%である、前記の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
(14) 第二層の厚さの変動係数が20%以下である、前記の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
(15) 微細な凹凸形状Aは、凸部の頂点間の距離の変動係数が80%以下である、前記の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
(16) 微細な凹凸形状Aは、2次元フーリエ変換して得られる空間周波数のパワースペクトルが一の方向に分布している、前記の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
(17) 微細な凹凸形状Aが、面内でストライプ状に細長く伸びた構造である、前記の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
(18) 微細な凹凸形状Aは、凸部の頂点間距離の変動係数が40%以下である、前記の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
(19) ヘイズが50%以上であることを特徴とする、前記の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
(20) 前記の製造方法で得られる微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
(21) 前記の微細な凹凸形状Aを有するフィルムを含んでなる光学素子。
本発明の微細な凹凸形状を持つフィルムは、耐擦傷性が良好で、そりも少なく、光学素子として好適である。
2,12:第二層(薄膜)
3,13:フィルム基材
4:紫外線硬化層
本発明の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法は、フィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成して積層板を得る工程、及び該積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて薄膜を褶曲させる工程を含むものである。
本発明の製造方法に用いるフィルム基材は、薄膜を積層させた後に、面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させることができるものであれば特に限定されない。例えば、フィルム基材自身が加熱などの手段によって収縮するものであってもよいし、一軸延伸させたときに延伸方向に直交する方向が収縮するものであってもよい。
樹脂としては、スチレン系樹脂、アクリル樹脂、メタクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂(例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなど)、ポリフェニレンエーテル系樹脂(例えば、2,6−キシレノールの重合体など)、セルロース誘導体(例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類など)、シリコーン樹脂(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなど)などが挙げられる。
フィルム基材の材料は、これらのうち、製造が容易な点から熱可塑性樹脂が好ましい。
延伸処理する方法としては、ロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法;テンター延伸機を用いて横方向に一軸延伸する方法等の一軸延伸法;固定するクリップの間隔を開いての縦方向の延伸と同時に、ガイドレールの広がり角度により横方向に延伸する同時二軸延伸法や、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸した後、その両端部をクリップ把持してテンター延伸機を用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法;横又は縦方向に左右異なる速度の送り力若しくは引張り力又は引取り力を付加できるようにしたテンター延伸機を用いてフィルムの幅方向に対して任意の角度θの方向に連続的に斜め延伸する方法;などが挙げられる。
延伸倍率は、使用するフィルムの引張り特性に応じて、所望する凹凸形状のアスペクト比になるように適宜選択すればよい。なお、ここで言うアスペクト比とは凹凸形状中の凸部の垂直断面形状の高さと幅との比(=高さ/幅)である。なお、凸部の垂直断面の形状が長方形または正方形以外のときには、アスペクト比を求めるときの凸部の幅は凸部の高さの1/2の高さにおける凸部の幅である。
次に、フィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成する。薄膜の収縮率は、フィルム基材を収縮させる条件下において、フィルム基材の収縮率の20%以下であることが好ましく、10%以下であることがさらに好ましい。薄膜の収縮率が大きすぎると微細な凹凸形状が形成しない場合がある。
本発明に用いる無機薄膜は無機物質からなるものである。薄膜を構成する無機物質としては、金属;金属酸化物や金属窒化物などの金属化合物;非金属;非金属酸化物などの非金属化合物などが挙げられ、具体的には、アルミニウム、珪素、マグネシウム、パラジウム、白金、亜鉛、錫、ニッケル、銀、銅、金、アンチモン、イットリウム、インジウム、ステンレス鋼、クロム、チタン、タンタル、ジルコニウム、ニオブ、ランタン、セリウム、等の金属若しくは非金属;またはこれらの酸化物や窒化物;又はそれらの混合物が挙げられる。本発明の製造方法で得られるフィルムを光学素子として使用する場合には、可視光を透過する無機物質を選択することが好ましく、その具体的な例としてITO、In2O3、SnO2、SiO2、CuI、TiO2、ZrO2等が挙げられる。これらのうち、薄膜の柔軟性という観点からSiO2が好ましい。
有機薄膜は、フィルム基材を収縮させる温度条件下での収縮率が、フィルム基材の収縮率より小さいものであることが好ましい。
有機薄膜の平均厚さは、100nm〜50μmであることが好ましい。100nmより薄すぎると凹凸形状が形成しづらくなり、50μmより厚すぎるとアスペクト比の制御が難しくなる。有機薄膜を用いると、凸部頂点間の平均距離が500nm〜50μmの微細な凹凸形状が容易に得られる。
有機薄膜としては、微細な凹凸形状のアスペクト比の制御が容易な場合があるため、硬化性樹脂薄膜を用いることが好ましい。
本発明の製造方法においては、フィルム基材表面に薄膜を形成する前に、薄膜の褶曲を引き起こさせるための構造(褶曲誘起構造)をフィルム基材の表面に形成すること、又はフィルム基材表面に薄膜を形成した後で且つ該基材を収縮させる前に、該薄膜の褶曲を引き起こさせるための構造(褶曲誘起構造)を薄膜に形成することを含むことが、凹凸形状の凸部の頂点間の距離の均一性を向上させたい場合には、好ましい。
該構造は、基材が収縮したときに薄膜の褶曲を引き起こさせる構造であれば特に限定されず、例えば、ラビング処理やその他の方法で表面に付けた傷、インクジェットプリンターや印刷機等で載せたインク印、エンボス加工やインプリントなどで付与した凹凸などが挙げられる。
褶曲誘起構造は一定間隔の位置に形成されることが好ましい。褶曲誘起構造の間隔は、所望する凹凸形状の凸部頂点間の距離とは直接に関係無いので、所望の凹凸形状の凸部頂点間の距離よりも狭くても、広くても良いが、凹凸形状の凸部頂点間の所望距離の0.05倍〜100倍の褶曲誘起構造の間隔にすることが好ましい。
式〔2):ΔM=(M0−M1)/M0×100 (M0:主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、M1:主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ)
式〔3〕:ΔL>0
式〔4〕:−(ΔL×0.3)≦ΔM≦ΔL
式〔5〕:−(ΔL×0.2)≦ΔM≦(ΔL×0.2)
本発明の製造方法によって、下記のような微細な凹凸形状を有するフィルムが容易に得られる。
本発明のフィルムは、表面に微細凹凸形状Bを有する第一層と、前記凹凸形状Bの上に積層され且つ前記凹凸形状Bの形状に対応するように褶曲している第二層とを含んでなる、凸部の頂点間の平均距離が50nm〜50μmである微細な凹凸形状Aを有するフィルムである。
なお、図6は、樹脂フィルム表面をエンボス加工して得られる凹凸形状を示すものである。また図7は、紫外線硬化性樹脂などを用いて型を押し付けて得られる凹凸形状を示すものである。
脂環式オレフィン樹脂(日本ゼオン社製、ZEONOR1420、ガラス転移温度136℃)のペレットを、窒素を流通させた熱風乾燥機を用いて、100℃で4時間乾燥した。次いでこのペレットを、50mmφのスクリューを備えたTダイ式フィルム溶融押出成形機を使用して、溶融樹脂温度260℃で押出し成形することにより、幅650mm、厚さ188μmのフィルムを製造し、両端25mmずつをトリミングして幅600mmの脂環式オレフィン樹脂からなる原反フィルムを得た。
幅600mmの原反フィルムの両端をクリップに把持させて、テンター延伸機内に導入し、温度150℃でフィルム幅方向に1.5倍、フィルム流れ方向に1倍の延伸倍率になるように横一軸延伸し、延伸機から出た延伸フィルムをクリップから外し、両端を連続的にトリミングして幅800mmのフィルム基材1Aを得た。
フィルム基材1Aから40mm角の試験片を切り出し、切り出した試験片の中央部において、複屈折計測装置(王子計測機器(株)、KOBRA−21ADH)を用いてフィルム基材の位相差を測定することにより配向角を計測した。フィルム基材1Aは、幅方向に分子配向していることが確認された。
上記の幅600mmの原反フィルムを、縦一軸延伸装置を用いて温度145℃で縦方向に1.3倍に延伸した。延伸されたフィルムをテンター延伸(横一軸延伸)装置に送り温度150℃で横方向に1.6倍延伸し、フィルム基材1Bを得た。フィルム基材1Bから40mm角の試験片を切り出し、切り出した試験片の中央部において、複屈折計測装置[王子計測機器(株)、KOBRA−21ADH]を用いて配向角を計測した。フィルム基材1Bは、幅方向に分子配向していることが確認された。
上記の幅600mmの原反フィルムを、縦一軸延伸装置を用い、温度145℃で縦方向に1.5倍に延伸し、フィルム基材1Cを得た。フィルム基材1Cから40mm角の試験片を切り出し、切り出した試験片の中央部において、複屈折計測装置[王子計測機器(株)、KOBRA−21ADH]を用いて配向角を計測した。フィルム基材1Cは、流れ方向に分子配向していることが確認された。
脂環式オレフィン樹脂(日本ゼオン社製、ZEONOR1600、ガラス転移温度163℃)のペレットをシクロヘキサンに溶解し、濃度2重量%の脂環式オレフィン樹脂溶液を得た。
この樹脂溶液を支持フィルムにバーコーターで塗布し、100℃で30分間乾燥して薄膜を得た。該薄膜を支持フィルムから剥がし、10cm角に裁断し、140℃で1時間放置した。放置後、辺の長さを計測した。該薄膜の収縮率は0.8%(=[裁断後の長さ(10cm)−140℃放置後の長さ]/10cm×100)であった。
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(商品名:NKオリゴ U−6HA、新中村化学社製) 30重量部、ブチルアクリレート 40重量部、イソボルニルメタクリレート(商品名:NKエステル1B、新中村化学社製) 30重量部、および2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン 10重量部をホモジナイザーで混合し、次いでトルエンで濃度20重量%に希釈して、紫外線硬化性樹脂溶液を調製した。
この紫外線硬化性樹脂溶液を支持フィルムにバーコーターで塗布し、80℃で5分間乾燥させ、次いで紫外線を照射(積算光量300mJ/cm2)し、樹脂を硬化させ薄膜を得た。製造例2と同様に薄膜の収縮率を計測したところ、収縮率は1.4%であった。
フィルム基材1A上に、成膜カソードを備えたフィルム巻き取り式真空成膜装置を用いて、スパッタリング法によって厚さ10nmのSiO2層を成膜し積層フィルムを得た。次いでSiO2層表面をフィルム流れ方向にラビング処理した。走査型電子顕微鏡で観察したところ、SiO2層表面にフィルム流れ方向に沿った線状の傷が一様に付いていた。
走査電子顕微鏡像を画像解析ソフト(SoftImagingSystem製、AnlySIS)を用いて、2次元高速フーリエ変換し、空間周波数のパワースペクトル分布を求め、周期性を強く示す方向を読み取った。この方向にウルトラミクロトームを用いて切断し、その断面を走査型電子顕微鏡(日立製作所製、S−4700)で写真撮影した。この写真撮影をフィルム幅方向および流れ方向に少なくとも10cm以上離れた3箇所の点で行った。走査型電子顕微鏡写真像から、凸部頂点間距離を30点計測した。凸部頂点間の平均距離は124nm、凸部頂点間の距離の変動係数は3.6%であった。また、アスペクト比は2.1であった。
分光光度計(日本分光製、紫外可視近赤外分光光度計V−570)を用い偏光分離性能を調べた。波長550nmにおけるp偏光透過率が83%、s偏光透過率が0.3%と良好な偏光分離性能を示した。
フィルム基材1A上に、製造例2で得られた樹脂薄膜用溶液をダイコーターを用いて塗布し、100℃の温風乾燥炉中で30分間乾燥させて、薄膜を形成し積層フィルムを得た。薄膜の平均厚さは13.4μmであった。
次に積層フィルムを温度140℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔL=32%、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔM=0.2%で収縮させた。
収縮フィルムを、実施例1と同様の方法で表面観察したところ、ストライブ状に細長く伸びた微細な凹凸形状が形成されており、凸部頂点間の距離は、平均が12.7μm、変動係数が19.2%であった。アスペクト比は0.59であった。凹凸形状下の薄膜(第二層)の厚さは、平均が12.4μm、変動係数が5.4%であった。第二層の平均厚さは凹凸形状の平均高さの75.2%であった。
濁度計(日本電色製 NDH2000型)にてへイズを計測したところ、85%であった。
得られた収縮フィルムに、スポット径2mmのコリメート光をフィルム法線方向から入射させ、透過してきた光の出射角度と輝度との関係を測定した。該収縮フィルムが散乱特性と回折特性を有することを確認できた。
該収縮フィルムを、10cm角に切断し、60℃、85%RHの環境下に500時間放置したが、そりは生じなかった。
フィルム基材1A上に、製造例3で得られた溶液を、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで、80℃で5分間乾燥させ、紫外線を照射(積算光量300mJ/cm2)し、樹脂を硬化させ、薄膜を形成し積層フィルムを得た。この積層フィルムを、ロール状に巻き取った。硬化後の薄膜の平均厚さは903nmであった。
次に該積層フィルムを温度140℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔL=31%、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔM=0.1%で収縮させた。
濁度計(日本電色製 NDH2000型)にてへイズを計測したところ、69%であった。
得られた収縮フィルムに、スポット径2mmのコリメート光を法線方向から入射し、透過してきた光の出射角度と輝度との関係を測定した。該収縮フィルムが強い回折特性を示すことが確認できた。
フィルム基材1B上に、製造例3で得られた溶液を塗布し、80℃で5分間乾燥し、次いで紫外線を照射して樹脂を硬化させ薄膜を形成し積層フィルムを得た。硬化後の薄膜の平均厚さは2.4μmであった。第二層の平均厚さは凹凸形状の平均高さの50.1%であった。
次に積層フィルムを温度140℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔL=36%、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔM=20%で収縮させた。
濁度計(日本電色製 NDH2000型)にてへイズを計測したところ、82%であった。
凹凸形状が形成された面にスチールウール♯0000をあて、荷重0.05MPaで10回往復させた。その後、表面状態を目視で観察したが、傷は認められず、往復前と同じであった。
フィルム基材1C上に、製造例3で得られた溶液を塗布し、80℃で5分間乾燥し、さらに紫外線を照射して樹脂を硬化させて薄膜を形成し積層フィルムを得た。硬化後の薄膜の平均厚さは584nmであった。
次に該積層フィルムを温度140℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔL=30%、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔM=−9.2%で収縮させた。
濁度計(日本電色製 NDH2000型)にてへイズを計測したところ、54%であった。
SiO2層成膜後に行ったラビング処理をSiO2層成膜前に行った他は、実施例1と同様にして凹凸形状を有するフィルムを作製した。形成された凹凸形状は、実施例1と同様であることが確認された。
原反フィルムをA4サイズに裁断した。このフィルムに、凸部頂点間の距離が10.0μm、凸部の高さが10μm、凸部断面形状が三角形をした、ストライプ状に細長く伸びた構造を有する金型を用いて、金型温度200℃で、5分間ホールドして熱インプリントした。図6に示すような断面形状が三角で、面内にストライプ状に細長く伸びた微細な凹凸形状を持ち、凸部頂点間距離のの変動係数が0.1%のフィルムを得た。
濁度計(日本電色製 NDH2000型)にてへイズを計測したところ、32%であった。
凹凸形状が形成された面にスチールウール♯0000をあて、荷重0.05MPaで10回往復させた。その後、表面状態を目視で観察したところ、はっきりと確認できる傷が多数見られた。
原反フィルムをA4サイズに裁断した。このフィルムに、東洋合成工業社製のPAK−01をバーコーターで乾燥膜厚5μmになるように塗布し、80℃で5分間乾燥させた。
比較例1で用いた金型を塗布面に押し当て、フィルム側から紫外線を照射(積算光量300mJ/cm2)し、樹脂を硬化させた。金型を外し、図7に示すような断面構造の微細凹凸構造を有するフィルムを得た。
濁度計(日本電色製 NDH2000型)にてへイズを計測したところ、32%であった。
得られたフィルムを、10cm角に切断し、60℃、85%RHの環境下に500時間放置したところ、周辺部にそりが生じた。
特開2003−266570号公報に記載の方法に従い、メチルエチルケトンにポリエステル樹脂(東洋紡バイロン500) 100重量部、メラミン樹脂(会社名大日本インキ製) 20重量部、およびパラトルエンスルホン酸 0.25重量部を溶解して塗布液を調製した。
この塗布液をポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ100μm)の上にバーコーターで乾燥厚さ5μmになるように塗布し、100℃で5分間乾燥し薄膜を形成させた。このフィルムを直径が0.3mの円筒に巻きつけ、180℃のオーブン中に1分間放置した。
得られたフィルムを走査型電子顕微鏡観察したところ、わずかにうねったような凸形状が見られた。実施例1と同様にして表面形状を計測すると、凸部頂点間の距離は平均が16.7μm、変動係数が82.1%であった。アスペクト比は0.1であった。
該フィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルム層表面は元の平らな形状を維持しており、硬化性樹脂層のみが変形している構造を有していた。
濁度計(日本電色製 NDH2000型)にてへイズを計測したところ、25%であった。
得られたフィルムを、10cm角に裁断し、60℃、85%RHの環境下に500時間放置したところ、周辺部にそりが生じた。
Claims (21)
- フィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成して積層体を得る工程、および
該積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて薄膜を褶曲させる工程を含む、表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。 - 主たる収縮方向の収縮率ΔLを式〔1〕、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔMを式〔2〕で表した時、ΔLおよびΔMが式〔3〕および式〔4〕を満たす、請求項1に記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
式〔1):ΔL=(L0−L1)/L0×100 (L0:主たる収縮方向の収縮前の長さ、L1:主たる収縮方向の収縮後の長さ)
式〔2):ΔM=(M0−M1)/M0×100 (M0:主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、M1:主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ)
式〔3〕:ΔL>0
式〔4〕:−(ΔL×0.3)≦ΔM≦ΔL - ΔLおよびΔMが式〔5〕を満たす、請求項2に記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
式〔5〕:−(ΔL×0.2)≦ΔM≦(ΔL×0.2) - 微細な凹凸形状が、面内でストライプ状に細長く伸びた構造である、請求項3に記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
- 微細な凹凸形状は、凸部の頂点間の距離の変動係数が40%以下である、請求項1〜4のいずれかに記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
- 前記薄膜の厚さが1nm〜50μmである、請求項1〜5のいずれかに記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
- 前記薄膜が無機物質からなるものであり、かつ前記薄膜の厚さが1nm〜500nmである、請求項1〜5のいずれかに記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
- 前記薄膜が有機物質からなるものであり、かつ前記薄膜の厚さが100nm〜50μmである、請求項1〜5のいずれかに記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
- 前記有機物質が硬化性樹脂であり、硬化性樹脂からなる薄膜を形成する時の熱処理温度をフィルム基材のガラス転移温度より5℃以上低くする、請求項8に記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
- 微細な凹凸形状の凸部の頂点間の平均距離が50nm〜50μmである、請求項1〜9のいずれかに記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
- フィルム基材が、面内の少なくとも一つの方向に分子配向しているフィルムである、請求項1〜10のいずれかに記載の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
- 表面に微細な凹凸形状Bを有する第一層と、前記凹凸形状Bの上に積層され且つ前記凹凸形状Bの形状に対応するように褶曲している第二層とを含んでなる、凸部の頂点間の平均距離が50nm〜50μmである微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- 第二層の平均厚さが、微細な凹凸形状Aの平均高さの10%〜100%である、請求項12に記載の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- 第二層の厚さの変動係数が20%以下である、請求項12に記載の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- 微細な凹凸形状Aは、凸部の頂点間の距離の変動係数が80%以下である、請求項12に記載の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- 微細な凹凸形状Aは、2次元フーリエ変換して得られる空間周波数のパワースペクトルが一つの方向に分布している、請求項12〜15のいずれかに記載の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- 微細な凹凸形状Aが、面内でストライプ状に細長く伸びた構造である、請求項12〜16のいずれかに記載の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- 微細な凹凸形状Aは、凸部の頂点間距離の変動係数が40%以下である、請求項12〜17に記載の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- ヘイズが50%以上であることを特徴とする、請求項12〜18のいずれかに記載の微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の製造方法で得られる微細な凹凸形状Aを有するフィルム。
- 請求項12〜20のいずれかに記載の微細な凹凸形状Aを有するフィルムを含んでなる光学素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008501781A JP5176950B2 (ja) | 2006-02-27 | 2007-02-27 | 微細凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006050644 | 2006-02-27 | ||
JP2006050644 | 2006-02-27 | ||
JP2008501781A JP5176950B2 (ja) | 2006-02-27 | 2007-02-27 | 微細凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法 |
PCT/JP2007/053589 WO2007097454A1 (ja) | 2006-02-27 | 2007-02-27 | 微細凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007097454A1 true JPWO2007097454A1 (ja) | 2009-07-16 |
JP5176950B2 JP5176950B2 (ja) | 2013-04-03 |
Family
ID=38437489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008501781A Active JP5176950B2 (ja) | 2006-02-27 | 2007-02-27 | 微細凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5176950B2 (ja) |
WO (1) | WO2007097454A1 (ja) |
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- 2007-02-27 JP JP2008501781A patent/JP5176950B2/ja active Active
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WO2007097454A1 (ja) | 2007-08-30 |
JP5176950B2 (ja) | 2013-04-03 |
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