JP2009282279A - 反射シートおよびバックライトユニット - Google Patents

Abstract

【課題】直下型バックライトユニットに適用した際の正面での輝度を高くでき、しかも輝度を均一化できる反射シートおよびバックライトユニットを提供する。
【解決手段】本発明の反射シート１は、シート状の支持体１０と、支持体１０の片面に設けられた金属層２０とを有し、金属層２０の表面に、蛇行した波状の凹凸パターン２１が形成され、凹凸パターン２１の最頻ピッチが１．０μｍを超え２０μｍ以下、平均深さが最頻ピッチを１００％とした際の１０％以上である。
【選択図】図１

Description

本発明は、例えば、液晶表示装置等に用いられる反射シート、およびバックライトユニットに関する。

液晶表示装置等には、光を反射させる金属層を有する反射シートと、該反射シートの金属層側に配設された光源とを具備する直下型バックライトユニットが設けられることがある。
一般に、反射シートとしては、例えば、プラスチックシート上に銀薄膜層を形成した反射シートが知られている（特許文献１参照）。この反射シートの銀薄膜層は金属光沢を有し、正反射成分が大きく、指向性が強いため、光の入射角と見る角度（受光角）が一致する場合には非常に明るくなるものの、見る角度（受光角）がずれると急激に暗くなる、つまり視野角が狭いという欠点を有している。
液晶表示装置では、画像全体が均一に明るいことが求められるため、直下型バックライトユニットの反射シートにおいては、光源からの光を反射させる際に拡散させる必要がある。

反射の際に光を拡散させる方法として、例えば、金属層が積層される高分子フィルムの表面を凹凸化して、反射特性（光の集中と分散）を制御する方法が知られている。凹凸化方法としては、
（１）高分子フィルム表面にエンボス加工を施して凹凸構造を形成した後、表面を溶剤で処理して滑らかにする方法、
（２）高分子フィルム表面にＳｉＯ₂などの粒子を高圧空気とともに吹き付けるサンドブラスト法、
（３）エッチング法などの化学的方法
などが挙げられる。
しかしながら、機械的物理的方法によりフィルム表面に凹凸形状を形成する（１），（２）の方法では、フィルムの材質が限定され、また、厚みをある程度厚くしなければならないという欠点がある。さらに、（２）の方法では、粒子の形状が不均一であるため、フィルムに形成された凹凸形状が激しくかつ不均一に荒れており、アルカリ溶液処理などで表面の一部を溶解しても、荒れを充分に均一化することができない。そのため、反射特性を充分に制御できていなかった。
また、（３）の化学的方法においても、フィルムの材質が限定され、また、処理後の洗浄、乾燥に手間を要するという問題を有していた。
つまり、（１）〜（３）の方法では、凹凸の形成方法自体に欠点がある上に、得られた反射シートの視野角が依然として狭いため、明るさ（輝度）が均一な反射特性を得ることができなかった。

視野角が広がるように反射の際の光を拡散させる反射シートとして、以下の特許文献２〜４に記載の反射シートが開示されている。
すなわち、特許文献２，３には、ポリエステルやアクリル系樹脂と有機粒子や無機フィラーとを含む混合液をフィルムに塗工して粗面化させ、その粗面化したフィルムに金属を蒸着したものが開示されている。
特許文献４には、複数の微小な柱状部集合体がドット状に複数設けられた基板の上に光反射薄膜を備えた反射シートが開示されている。

また、輝度を均一化する反射シートとして、特許文献５には、基板表面に直線的に形成された谷部に金属薄膜が被覆された反射シートが開示されている。
特開平２−１６９２４４号公報 特開平７−１８１３２３号公報 特開平１１−６４６１３号公報 特開２００１−１４１９１５号公報 特開２００１−１３３１０号公報

しかし、特許文献２〜４に記載の反射シートは、光の反射性能が不充分であり、また、直下型バックライトユニットに適用した際の正面での輝度が不充分であった。また、特許文献５に記載の反射シートでも、直下型バックライトユニットに適用した際の正面での輝度が不充分であった。そのため、特許文献２〜５に記載の反射シートは、直下型バックライトユニットに適したものではなかった。
以上のことから、直下型バックライトユニットに適用した際に正面での輝度を高くでき、しかも輝度を均一にできる反射シートが求められていた。
本発明は、前記事情を鑑みてなされたものであり、直下型バックライトユニットに適用した際の正面での輝度を高くでき、しかも輝度を均一化できる反射シートおよびバックライトユニットを提供することを目的とする。

本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意に検討を重ねた結果、金属層の表面に、蛇行した凹凸パターンが形成されていることで、光拡散性を有し、その光拡散性が適度な異方性を生じるようになり、光を適度に拡散させることを見出した。そして、その知見に基づき、さらに検討して、以下の反射シートを発明した。
すなわち、本発明は以下の態様を包含する。
［１］ シート状の支持体と、該支持体の片面に設けられた金属層とを有する反射シートであって、
金属層の表面に、蛇行した波状の凹凸パターンが形成され、該凹凸パターンの最頻ピッチが１．０μｍを超え２０μｍ以下、平均深さが最頻ピッチを１００％とした際の１０％以上であることを特徴とする反射シート。
［２］ 前記支持体の片面に、蛇行した波状の凹凸パターンが形成され、
前記金属層が、該支持体の凹凸パターンが形成された面に、略均一の厚みで積層されている［１］に記載の反射シート。
［３］ ［１］または［２］に記載の反射シートと、該反射シートの金属層側に配設された光源とを具備することを特徴とするバックライトユニット。

本発明の反射シートおよびバックライトユニットは、正面での輝度を高くでき、しかも輝度を均一化できる。

「反射シート」
本発明の反射シートの一実施形態について説明する。
図１に、本実施形態の反射シートを示す。本実施形態の反射シート１は、シート状で、片面に凹凸パターンが形成された支持体１０と、支持体１０の、凹凸パターンが形成された面に形成された金属層２０とを有し、金属層２０の表面に凹凸パターン２１が形成されたものである。
本実施形態における支持体１０のもう片方の面（以下、この面のことを裏面ということがある。）は凹凸パターンが形成されていない平滑な面である。

（凹凸パターン）
凹凸パターン２１は略一方向に沿った波状の凹凸を有し、その波状の凹凸が蛇行しているものである。また、本実施形態の凹凸パターン２１の凸部の先端は丸みを帯びている。
凹凸パターン２１の最頻ピッチＡは１μｍを超え２０μｍ以下、好ましくは１μｍを超え１０μｍ以下である。最頻ピッチＡが１μｍ未満であると、反射の際の光の拡散性が低くなり、２０μｍを超えると、正面にて所望の輝度が得られなくなる。
また、輝度をより均一化できる点では、凹凸パターン２１のピッチは不均一であることが好ましい。

凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢは最頻ピッチＡを１００％とした際の１０％以上（すなわち、アスペクト比０．１以上）であり、３０％以上（すなわち、アスペクト比０．３以上）であることが好ましい。平均深さＢが最頻ピッチＡを１００％とした際の１０％未満であると、所望の拡散性が得られず、輝度を均一化できなくなる。
また、平均深さＢは、凹凸パターン２１を容易に形成できる点から、好ましくは最頻ピッチＡを１００％とした際の３００％以下（すなわち、アスペクト比３．０以下）であり、より好ましくは２００％以下（すなわち、アスペクト比２．０以下）である。
ここで、底部２１ａとは、凹凸パターン２１の凹部の極小点であり、平均深さＢは、反射シート１を長さ方向に沿って切断した断面（図２参照）を見た際の、反射シート１全体の面方向と平行な基準線Ｌ_１から各凸部の頂部までの長さＢ_１，Ｂ_２，Ｂ_３・・・の平均値（Ｂ_ＡＶ）と、基準線Ｌ_１から各凹部の底部までの長さｂ_１，ｂ_２，ｂ_３・・・の平均値（ｂ_ＡＶ）との差（ｂ_ＡＶ−Ｂ_ＡＶ）のことである。
平均深さＢを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターンの断面の画像にて各底部の深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。

本発明における蛇行とは、隣り合った凸部同士のピッチが凹凸パターン２１の方向に沿ってばらついていることである。すなわち、本発明では、凹凸パターン２１が蛇行することによって、光拡散の異方性の高い光拡散体が得られるようになっている。ここで、凹凸パターン２１の配向のばらつきのことを配向度という。配向度が大きいほど、配向度がばらついていることを示す。この配向度は以下の方法で求められる。
まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等）に変換する。グレースケールのファイルの画像（図３参照）では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い（白度が高いところ程、凸部の頂部が高い）ことを表している。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図４にフーリエ変換後の画像を示す。図４の画像の中心から両側に広がる白色部分は凹凸パターン２１のピッチおよび向きの情報が含まれる。
次いで、図４の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ_２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図５参照）する。図５のプロットの横軸はピッチの逆数を、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Ｘの逆数が凹凸パターン２１の最頻ピッチを表す。
次いで、図４において、補助線Ｌ_２と値Ｘの部分にて直交する補助線Ｌ_３を引き、その補助線Ｌ_３上の輝度をプロット（図６参照）する。ただし、図６の横軸は、各種の凹凸構造との比較を可能にするため、Ｘの値で割った数値とする。図６の横軸は、凹凸の形成方向（図３における上下方向）に対する傾きの程度を示す指標（配向性）を、縦軸は頻度を表す。図６のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ_１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が凹凸パターンの配向度を表す。半値幅Ｗ_１が大きい程、蛇行していることを表す。

上記配向度が０．２以上であることで凹凸パターン２１が蛇行していることを意味するが、配向度は０．３〜１．０であることが好ましい。配向度が０．３以上であれば、該反射シート１の光拡散性が高くなり、輝度をより均一化できる。配向度が０．３〜１．０であれば、凹凸パターン２１のピッチのばらつきが大きいため、光拡散性がより高くなる。配向度が１．０を超えると、凹凸パターン２１の方向がある程度ランダムになるため、光拡散性は高くなるが、異方性が低くなる傾向にある。

なお、上記のようにフーリエ変換を利用して求めた凹凸パターン２１の最頻ピッチは平均ピッチと略同等となる。

（金属層）
金属層２０を構成する金属としては特に制限されず、例えば、銀、アルミニウムまたはこれらの合金などが挙げられる。
金属層２０には、他の微量の金属化合物が含まれてもよい。また、金属層２０は２層以上の層から形成されていても構わない。２層以上から形成される場合、最外層は防蝕性を有する層が好ましい。

本実施形態における金属層２０は厚みが略均一である。金属層２０の厚みは７０〜４００ｎｍが好ましく、１００〜３００ｎｍがより好ましく、１００〜２５０ｎｍが特に好ましい。金属層２０の厚みが７０ｎｍ以上であれば、金属層２０が充分な厚みを有し、所望の反射率が容易に得られる。しかし、４００ｎｍより厚くしても反射性能が向上しないため、無益である。
なお、金属層２０は、層表面が空気酸化されて空気酸化膜が形成されることがあるが、そのような金属層２０の表面が空気酸化された層も、金属からなる層とみなす。

本発明の反射シート１は、凹凸パターン２１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢが最頻ピッチＡを１００％とした際の１０％以上であるため、適度に光を拡散できる。また、本発明の反射シート１における凹凸パターン２１は蛇行した波状であるため、高い異方性が生じるようになっている。そのため、直下型バックライトユニットに適用した際の正面での輝度を高くでき、しかも輝度を均一化できる。

（その他の構成）
本発明の反射シートは、片面または両面に他の層を備えてもよい。例えば、反射シート１の、凹凸パターン２１が形成されている側の面に、その面の汚れを防止するために、フッ素樹脂またはシリコーン樹脂を主成分として含有する厚さ１〜５ｎｍ程度の防汚層を備えてもよい。
また、反射シート１の裏面には、厚さ５〜５００μｍの、透明樹脂製あるいはガラス製の反射シート支持部材が備えられていてもよい。
さらに、反射シート１の裏面に粘着剤層が形成されていてもよく、機能性を適宜持たせるために色素を含んでもよい。

また、本発明の反射シート１では、凹凸パターンの凸部の先端が尖っていても構わない。しかし、凹凸パターンの凸部の形状は拡散性がより高くなる点から、上記実施形態のように、先端が丸みを帯びていることが好ましい。

（反射シートの用途）
本発明の反射シートは、液晶表示装置、とりわけ直下型バックライトユニットを備える液晶表示装置に用いることができる。
また、反射率が高いことから、太陽電池の集光体材料として利用することもできる。また、ストロボ、信号表示、自動車のライト、蛍光灯、懐中電灯や高品位を求められるシャンデリア照明用リフレクターのほか、カーブミラーやバックミラー、スクリーンとして用いることができる。

「反射シートの製造方法」
反射シートの製造方法としては、蛇行した波状の凹凸パターンが片面に形成された支持体を作製し、支持体の凹凸パターンが形成された面に、厚みが均一の金属層を積層する方法（以下、第１の製造方法という。）、樹脂フィルムの片面に表面が平滑な金属層を積層し、得られた積層シートを、金属層を折り畳むように変形させて凹凸パターンを形成する方法（以下、第２の製造方法という。）が挙げられる。

＜第１の製造方法＞
第１の製造方法において、蛇行した波状の凹凸パターンが片面に形成された支持体の作製方法としては、
（ａ）樹脂製の基材の片面に、樹脂製の表面が平滑な層（以下、表面が平滑な層を表面平滑層という。）が積層された積層シートを、表面平滑層を折り畳むように変形させて、凹凸パターンが形成されたシート（支持体）を得る方法。この方法では、２つの樹脂層からなる支持体が得られる。
ここで、表面平滑層とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下の層である。
（ｂ）樹脂製の基材の片面に、金属製または金属化合物製の表面が平滑な層が積層された積層シートを、表面平滑層を折り畳むように変形させて、凹凸パターンが形成されたシート（支持体）を得る方法。この方法では、樹脂層と金属製または金属化合物製の層とからなる支持体が得られる。
（ｃ）上記（ａ）または（ｂ）の方法により得たシートを工程シート原版として、支持体を作製する方法。この方法では、１つの樹脂層からなる支持体が得られる。

第１の製造方法における金属層の積層方法としては、メッキ法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオン化蒸着法、イオンクラスタービーム蒸着法等の方法を適宜採用できる。

［（ａ）の方法］
支持体を作製する際の上記（ａ）の方法としては、例えば、下記（ａ−１）の方法が挙げられる。
（ａ−１）の方法は、図７に示すように、樹脂製の基材である加熱収縮性フィルム１１ａの片面に、樹脂製の表面平滑層１２ａを設けて積層シート１０ａを形成する工程（以下、第１の工程という。）と、加熱収縮性フィルム１１ａを加熱収縮させて、積層シート１０ａの少なくとも表面平滑層１２ａを折り畳むように変形させて、支持体１０を得る工程（以下、第２の工程という。）とを有する方法である。

・第１の工程
第１の工程にて、加熱収縮性フィルム１１ａの片面に表面平滑層１２ａを設けて積層シート１０ａを形成する方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム１１ａの片面に、第２の樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、加熱収縮性フィルム１１ａの片面に、あらかじめ作製した表面平滑層１２ａを積層する方法などが挙げられる。

加熱収縮性フィルム１１ａとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルムなどを用いることができる。
加熱収縮性フィルムの中でも、５０〜７０％収縮するものが好ましい。５０〜７０％収縮する加熱収縮性フィルムを用いれば、変形率を５０％以上にでき、凹凸パターン２１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢが最頻ピッチＡを１００％とした際の１０％以上の反射シート１を容易に製造できる。さらには、凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢが最頻ピッチＡを１００％とした際の１００％以上の反射シート１も容易に製造できる。
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。あるいは、（変形した長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。

加熱収縮性フィルム１１ａの厚みは０．３〜５００μｍであることが好ましい。加熱収縮性フィルム１１ａの厚みが０．３μｍ以上であれば、反射シート１が破損しにくくなり、５００μｍ以下であれば、反射シート１を容易に薄型化できる。

表面平滑層１２ａを構成する樹脂（以下、第２の樹脂という。）のガラス転移温度Ｔｇ_２と、加熱収縮性フィルム１１ａを構成する樹脂（以下、第１の樹脂という。）のガラス転移温度Ｔｇ_１との差（Ｔｇ_２−Ｔｇ_１）は１０℃以上であることが好ましく、２０℃以上であることがより好ましく、３０℃以上であることが特に好ましい。
（Ｔｇ_２−Ｔｇ_１）の差が１０℃以上であれば、Ｔｇ_２とＴｇ_１の間の温度で容易に加工できる。Ｔｇ_２とＴｇ_１の間の温度を加工温度とすると、加熱収縮性フィルム１１ａのヤング率が表面平滑層１２ａのヤング率より高くなる条件で加工でき、その結果、凹凸パターンを容易に形成できる。
また、Ｔｇ_２が４００℃を超えるような樹脂を使用することは経済性の面から必要に乏しく、Ｔｇ_１が−１５０℃より低い樹脂は存在しないことから、（Ｔｇ_２−Ｔｇ_１）は５５０℃以下であることが好ましく、２００℃以下であることがより好ましい。

第１の樹脂の種類にもよるが、第２の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。これらの中でも、防汚機能を兼ね備えた点で、フッ素樹脂が好ましい。
第２の樹脂は単独でも併用でもよく、配向度を高めるためには樹脂を２種以上併用することが好ましい。

第１の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_１は−１５０〜３００℃であることが好ましく、−１２０〜２００℃であることがより好ましい。ガラス転移温度Ｔｇ_１が−１５０℃より低い樹脂は存在せず、第１の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_１が３００℃以下であれば、加工温度（Ｔｇ_２とＴｇ_１の間の温度）に容易に加熱することができるためである。

加工温度における第１の樹脂のヤング率は０．０１〜１００ＭＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＭＰａであることがより好ましい。第１の樹脂のヤング率が０．０１ＭＰａ以上であれば、基材として使用可能な硬さであり、１００ＭＰａ以下であれば、表面平滑層１２ａが変形する際に同時に追従して変形可能な軟らかさである。
ここでいう加工温度は、熱収縮時の加熱温度のことである。また、ヤング率は、ＪＩＳ Ｋ ７１１３−１９９５に準拠して測定した値である。

第２の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_２は４０〜４００℃であることが好ましく、８０〜２５０℃であることがより好ましい。第２の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_２が４０℃以上であれば、加工温度を室温またはそれ以上にすることができて有用であり、ガラス転移温度Ｔｇ_２が４００℃を超えるような樹脂を第２の樹脂として使用することは経済性の面から必要性に乏しいためである。

加工温度における第２の樹脂のヤング率は０．０１〜３００ＧＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａであることがより好ましい。第２の樹脂のヤング率が０．０１ＧＰａ以上であれば、第１の樹脂の加工温度におけるヤング率より充分な硬さが得られ、凹凸パターンが形成された後、凹凸パターンを維持するのに充分な硬さであり、ヤング率が３００ＧＰａを超えるような樹脂を第２の樹脂として使用することは経済性の面から必要性に乏しいためである。

加工温度における第１の樹脂と第２の樹脂とのヤング率の差は、凹凸パターンを容易に形成できることから、０．０１〜３００ＧＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａであることがより好ましい。

また、表面平滑層１２ａが樹脂からなる場合、その厚さは、０．０５μｍを超え５．０μｍ以下、好ましくは０．１〜１．０μｍとする。表面平滑層１２ａの厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン２１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、表面平滑層１２ａの厚さを０．０５μｍ以下とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、５．０μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、表面平滑層１２ａの厚さは連続的に変化していても構わない。表面平滑層１２ａの厚さが連続的に変化している場合には、圧縮後に形成される凹凸パターン２１のピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。

表面平滑層１２ａが金属または金属化合物からなる場合、その厚さは、０．０１μｍを超え、０．２μｍ以下、好ましくは０．０５〜０．５μｍとする。表面平滑層１２ａの厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン２１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、表面平滑層１２ａの厚さを０．０５μｍ未満であると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、０．５μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、表面平滑層１２ａの厚さは連続的に変化していても構わない。表面平滑層１２ａの厚さが連続的に変化している場合には、圧縮後に形成される凹凸パターン２１のピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。

・第２の工程
第２の工程にて、加熱収縮性フィルム１１ａを熱収縮させることにより、表面平滑層１２ａに、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターンを形成させる。
加熱収縮性フィルム１１ａを加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱水に通す方法が好ましい。
加熱収縮性フィルム１１ａを熱収縮させる際の加熱温度は、使用する加熱収縮性フィルムの種類および目的とする凹凸パターン２１のピッチならびに底部２１ａの深さに応じて適宜選択することが好ましい。

この（ａ−１）の方法では、表面平滑層１２ａの厚さが薄いほど、表面平滑層１２ａのヤング率が低いほど、凹凸パターン２１の最頻ピッチＡが小さくなり、加熱収縮性フィルム１１ａの変形率が高いほど、平均深さＢが深くなる。したがって、凹凸パターン２１を所定の最頻ピッチＡ、平均深さＢにするためには、前記条件を適宜選択する必要がある。

このような支持体の製造方法では、表面平滑層１２ａを構成する第２の樹脂が加熱収縮性フィルム１１ａを構成する第１の樹脂よりガラス転移温度が１０℃以上高いため、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度では、表面平滑層１２ａのヤング率が加熱収縮性フィルム１１ａより高くなる。その上、表面平滑層１２ａの厚さを０．０５μｍを超え５．０μｍ以下としているため、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度で加工した際には、加熱収縮性フィルム１１ａの収縮による応力が全体に均一にかかる。そのため、表面平滑層１２ａは厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。
したがって、本製造方法によれば、表面平滑層１２ａを折り畳むように変形させることにより、凹凸パターンが形成された支持体１０を簡便にかつ大面積に作製できる。しかも、この製造方法によれば、容易に、凹凸パターン２１の最頻ピッチＡを、１μｍを超え２０μｍ以下、凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢを、最頻ピッチＡを１００％とした際の１０％以上にできる。

なお、上記（ａ−１）の製造方法では、加熱収縮性フィルム１１ａに、加熱収縮性フィルム１１ａよりガラス転移温度が低いプライマー樹脂層を塗工し、該プライマー樹脂層の上に表面平滑層１２ａを設けて積層シートを形成してもよい。この方法によれば、容易に、凹凸パターン２１の平均深さＢを、最頻ピッチＡを１００％とした際の３００％にできる。
また、加熱収縮後の加熱収縮性フィルム１１ａを積層シート１０ａから剥離し、別の加熱収縮性フィルム１１ａを貼り合せ、新たな積層シート１０ａを形成して加熱収縮させてもよい。このようにした場合、表面平滑層１２ａをより折り畳むことができるから、平均深さＢをより大きくでき、この工程を複数回繰り返すことで、凹凸パターン２１の平均深さＢを、最頻ピッチＡを１００％とした際の３００％にすることができる。

（ａ）の方法は、上記（ａ−１）の方法に限定されず、下記（ａ−２）〜（ａ−５）の方法であってもよい。
（ａ−２）樹脂フィルム１１ａの片面の全部に、樹脂製の表面平滑層１２ａを設けて積層シート１０ａを形成し、積層シート１０ａ全体を表面に沿った一方向に圧縮する方法。ここで、樹脂フィルム１１ａのガラス転移温度が室温未満の場合には、積層シート１０ａの圧縮は室温で行い、樹脂フィルム１１ａのガラス転移温度が室温以上の場合には、積層シート１０ａの圧縮は、樹脂フィルム１１ａのガラス転移温度以上、樹脂製の表面平滑層１２ａのガラス転移温度未満で行う。
（ａ−３）樹脂フィルム１１ａの片面の全部に、樹脂製の表面平滑層１２ａを設けて積層シート１０ａを形成し、積層シート１０ａを一方向に延伸し、延伸方向に対する直交方向を収縮させて、樹脂製の表面平滑層１２ａを表面に沿った一方向に圧縮する方法。ここで、樹脂フィルム１１ａのガラス転移温度が室温未満の場合には、積層シート１０ａの延伸は室温で行い、樹脂フィルム１１ａのガラス転移温度が室温以上の場合には、積層シート１０ａの延伸は、樹脂フィルム１１ａのガラス転移温度以上、樹脂製の表面平滑層１２ａのガラス転移温度未満で行う。
（ａ−４）未硬化の電離放射線硬化性樹脂により形成された加熱収縮性フィルム１１ａに、樹脂製の表面平滑層１２ａを積層して積層シート１０ａを形成し、電離放射線を照射して加熱収縮性フィルム１１ａを硬化させることにより収縮させて、加熱収縮性フィルム１１ａに積層された樹脂製の表面平滑層１２ａを表面に沿った少なくとも一方向に圧縮する方法。
（ａ−５）溶媒を膨潤させて膨張させた加熱収縮性フィルム１１ａに、樹脂製の表面平滑層１２ａを積層して積層シート１０ａを形成し、加熱収縮性フィルム１１ａ中の溶媒を乾燥し、除去することにより収縮させて、加熱収縮性フィルム１１ａに積層された樹脂製の表面平滑層１２ａを表面に沿った少なくとも一方向に圧縮する方法。

（ａ−２）の方法において、積層シート１０ａを形成する方法としては、例えば、樹脂フィルム１１ａの片面に、樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、樹脂フィルム１１ａの片面に、あらかじめ作製した表面平滑層１２ａを積層する方法などが挙げられる。

積層シート１０ａ全体を表面に沿った一方向に圧縮する方法としては、例えば、積層シート１０ａの一端部とその反対側の端部とを、万力等により挟んで圧縮する方法などが挙げられる。

（ａ−３）の方法において、積層シート１０ａを一方向に延伸する方法としては、例えば、積層シート１０ａの一端部とその反対側の端部とを、引っ張って延伸する方法などが挙げられる。
（ａ−４）の方法において、電離放射線硬化性樹脂としては紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂などが挙げられる。
（ａ−５）の方法において、溶媒は第１の樹脂の種類に応じて適宜選択される。溶媒の乾燥温度は溶媒の種類に応じて適宜選択される。
（ａ−２）〜（ａ−５）の方法における樹脂製の表面平滑層１２ａにおいても、（ａ−１）の方法で用いるものと同様の成分を用いることができ、同様の厚さとすることができる。また、積層シート１０ａの形成方法は、（ａ−１）の方法と同様に、加熱収縮性フィルム１１ａまたは樹脂フィルム１１ａの片面に樹脂の溶液または分散液を塗工し、溶媒を乾燥させる方法、加熱収縮性フィルム１１ａまたは樹脂フィルム１１ａの片面に、あらかじめ作製した樹脂製の表面平滑層１２ａを積層する方法を適用できる。

［（ｂ）の方法］
支持体を作製する際の上記（ｂ）の方法としては、例えば、下記（ｂ−１）の方法が挙げられる。
（ｂ−１）の方法は、図７に示すように、樹脂フィルム１１ｂの片面に、金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂを設けて積層シート１０ｂを形成する工程と、樹脂フィルム１１ｂを加熱収縮させて積層シート１０ｂの少なくとも表面平滑層１２ｂを折り畳むように変形させる工程とを有する方法である。
この方法において使用される樹脂フィルム１１ｂは、（ａ−１）の方法で使用される加熱収縮性フィルム１１ａと同様である。

本製造方法においては、より容易に凹凸パターンが形成することから、表面平滑層１２ｂのヤング率を０．１〜５００ＧＰａにし、１〜１５０ＧＰａにすることが好ましい。ここで、ヤング率は、ＪＩＳ Ｚ ２２８０−１９９３の「金属材料の高温ヤング率試験方法」にて温度を２３℃に変更して測定した値である。
表面平滑層１２ｂのヤング率を前記範囲にするためには、表面平滑層１２ｂを、金、アルミニウム、銀、炭素、銅、ゲルマニウム、インジウム、マグネシウム、ニオブ、パラジウム、鉛、白金、シリコン、スズ、チタン、バナジウム、亜鉛、ビスマスよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属で構成することが好ましい。
または、表面平滑層１２ｂを、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属化合物で構成することが好ましい。

また、本製造方法においては、表面平滑層１２ｂの厚さは０．０１μｍを超え０．２μｍ以下、好ましくは０．０２〜０．１μｍとする。表面平滑層１２ｂの厚さを前記範囲とすることにより、凹凸パターン２１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、表面平滑層１２ｂの厚さが０．０１μｍ以下であると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、０．２μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
なお、表面平滑層１２ｂは、層表面が空気酸化されて空気酸化膜が形成されることがあるが、そのような表面平滑層１２ｂの表面が空気酸化された層も、金属からなる層とみなす。

（ｂ−１）の方法では、積層シート１０ｂを変形させる際には、表面平滑層１２ｂを５％以上の変形率で変形させることが好ましい。表面平滑層１２ｂを５％以上の変形率で変形させれば、凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢを、容易に最頻ピッチＡを１００％とした際の１０％以上にできる。
さらには、表面平滑層１２ｂを５０％以上の変形率で変形させることがより好ましい。表面平滑層１２ｂを５０％以上の変形率で変形させれば、凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢを、最頻ピッチＡを１００％とした際の１０％以上にできる。さらには、凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢを、容易に最頻ピッチＡを１００％とした際の１００％以上にできる。

上記（ｂ−１）の方法でも、樹脂フィルム１１ｂを収縮させた際には、金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂは厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。したがって、本製造方法によれば、表面平滑層１２ｂを折り畳むように変形させることにより、片面に凹凸パターンが形成された支持体１０を簡便にかつ大面積に作製できる。しかも、この製造方法によれば、容易に、凹凸パターン２１の最頻ピッチＡを、１μｍを超え２０μｍ以下、凹凸パターン２１の底部２１ａの平均深さＢを、最頻ピッチＡを１００％とした際の１０％以上にできる。

（ｂ−１）の方法においても、樹脂フィルム１１ｂと表面平滑層１２ｂとの間に、密着性を向上させて微細な構造を形成することを目的として、プライマー層を形成してもよい。

また、（ｂ）の方法は、上記（ｂ−１）の方法に限定されず、下記（ｂ−２）〜（ｂ−５）の方法であってもよい。
（ｂ−２）樹脂フィルム１１ｂの片面の全部に、金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂを設けて積層シート１０ｂを形成し、積層シート１０ｂ全体を表面に沿った一方向に圧縮する方法。
（ｂ−３）樹脂フィルム１１ｂの片面の全部に、金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂを設けて積層シート１０ｂを形成し、積層シート１０ｂを一方向に延伸し、延伸方向に対する直交方向を収縮させて、金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂを表面に沿った一方向に圧縮する方法。
（ｂ−４）未硬化の電離放射線硬化性樹脂により形成された加熱収縮性フィルム１１ｂに、金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂを積層して積層シート１０ｂを形成し、電離放射線を照射して加熱収縮性フィルム１１ｂを硬化させることにより収縮させて、加熱収縮性フィルム１１ｂに積層された金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂを表面に沿った少なくとも一方向に圧縮する方法。
（ｂ−５）溶媒を膨潤させて膨張させた加熱収縮性フィルム１１ｂに、金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂを積層して積層シート１０ｂを形成し、加熱収縮性フィルム１１ｂ中の溶媒を乾燥し、除去することにより収縮させて、加熱収縮性フィルム１１ｂに積層された金属製または金属化合物製の表面平滑層１２ｂを表面に沿った少なくとも一方向に圧縮する方法。

（ｂ−２）の方法において、積層シート１０ｂを形成する方法としては、例えば、樹脂フィルム１１ｂの片面に、樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、樹脂フィルム１１ｂの片面に、あらかじめ作製した表面平滑層１２ｂを積層する方法などが挙げられる。

積層シート１０ｂ全体を表面に沿った一方向に圧縮する方法としては、例えば、積層シート１０ｂの一端部とその反対側の端部とを、万力等により挟んで圧縮する方法などが挙げられる。

（ｂ−３）の方法において、積層シート１０ｂを一方向に延伸する方法としては、例えば、積層シート１０ｂの一端部とその反対側の端部とを、引っ張って延伸する方法などが挙げられる。
（ｂ−４）の方法において、電離放射線硬化性樹脂としては紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂などが挙げられる。
（ｂ−５）の方法において、溶媒は加熱収縮性フィルム１１ｂの種類に応じて適宜選択される。溶媒の乾燥温度は溶媒の種類に応じて適宜選択される。

［（ｃ）の方法］
（ｃ）の方法は、具体的には、（ａ）の方法または（ｂ）の方法により得た凹凸パターンが形成されたシートを工程シート原版として用いて、凹凸パターンを有する支持体１０を新たに作製する方法である。
工程シート原版は、枚葉状であってもよいし、連続したシート状であるウェブ状であってもよい。工程シート原版は、これを支持するための樹脂製または金属製の支持用部材をさらに備えてもよい。

工程シート原版を用いて支持体１０を新たに作製する具体的な方法としては、例えば、下記（ｃ−１）〜（ｃ−３）の方法が挙げられる。
（ｃ−１）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本製造方法では、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
（ｃ−２）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ−３）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の熱可塑性樹脂を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。

また、工程シート原版を用いて２次工程用成形物を作製し、その２次工程用成形物を用いて支持体を新たに作製することもできる。２次工程用成形物としては、例えば、２次工程シートが挙げられる。また、２次工程用成形物としては、工程シート原版を丸めて円筒の内側に貼り付け、その円筒の内側にロールを挿入した状態でめっきし、円筒からロールを取り出して得ためっきロールが挙げられる。
２次工程用成形物を用いる具体的な方法としては、下記（ｃ−４）〜（ｃ−６）の方法が挙げられる。

（ｃ−４）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層（凹凸パターン転写用材料）を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、次いで、２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ−５）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層（凹凸パターン転写用材料）を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ−６）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層（凹凸パターン転写用材料）を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。

（ｃ−１）の方法の具体例について説明する。図８に示すように、まず、ウェブ状の工程シート原版１１０の凹凸パターン１１２ａが形成された面に、コーター１２０により未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂１１２ｃを塗工する。次いで、該硬化性樹脂を塗工した工程シート原版１１０を、ロール１３０を通すことにより押圧して、前記硬化性樹脂を工程シート原版１１０の凹凸パターン１１２ａ内部に充填する。その後、電離放射線照射装置１４０により電離放射線を照射して、硬化性樹脂を架橋・硬化させる。そして、硬化後の電離放射線硬化性樹脂を工程シート原版１１０から剥離させることにより、ウェブ状の支持体１５０を製造することができる。

（ｃ−１）の方法において、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面には、離型性を付与する目的で、未硬化の電離放射線硬化性樹脂塗工前に、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等からなる層を１〜１０ｎｍ程度の厚さで設けてもよい。
工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。
また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。

未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂を塗工した後には、樹脂、ガラス等からなる基材を貼り合わせてから電離放射線を照射してもよい。電離放射線の照射は、基材、工程シート原版の電離放射線透過性を有するいずれか一方から行えばよい。

硬化後の電離放射線硬化性樹脂のシートの厚みは０．１〜１００μｍとすることが好ましい。硬化後の電離放射線硬化性樹脂のシートの厚みが０．１μｍ以上であれば、充分な強度を確保でき、１００μｍ以上であれば、充分な可撓性を確保できる。

上記図８に示す方法では、工程シート原版がウェブ状であったが、枚葉のシートであってもよい。枚葉のシートを用いる場合、枚葉のシートを平板状の型として使用するスタンプ法、枚葉のシートをロールに巻きつけて円筒状の型として使用するロールインプリント法等を適用できる。また、射出成形機の型の内側に枚葉の工程シート原版を配置させてもよい。
しかし、これら枚葉のシートを用いる方法において、支持体を大量生産するためには、凹凸パターンを形成する工程を多数回繰り返す必要がある。電離放射線硬化性樹脂と工程シート原版との離型性が低い場合には、多数回繰り返した際に凹凸パターンに目詰まりが生じ、凹凸パターンの転写が不完全になる傾向にある。
これに対し、図８に示す方法では、工程シート原版がウェブ状であるため、大面積で連続的に凹凸パターンを形成させることができるため、繰り返し製造しなくても、必要な量の支持体を短時間に製造できる。

（ｃ−２），（ｃ−５）の方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化の、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、（ｃ−２）の方法における硬化温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、硬化時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。

（ｃ−３），（ｃ−６）の方法において、熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等が挙げられる。
シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧する際の圧力は１〜１００ＭＰａであることが好ましい。押圧時の圧力が１ＭＰａ以上であれば、凹凸パターンを高い精度で転写させることができ、１００ＭＰａ以下であれば、過剰な加圧を防ぐことができる。
また、（ｃ−３）の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、加熱時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。

（ｃ−１）〜（ｃ−３）の方法の中でも、加熱を省略でき、工程シート原版の凹凸パターンの変形を防止できる点で、電離放射線硬化性樹脂を使用する（ｃ−１）の方法が好ましい。

（ｃ−４）〜（ｃ−６）の方法においては、金属製の２次工程用成形物の厚さを５０〜５００μｍ程度とすることが好ましい。金属製の２次工程用成形物の厚さが５０μｍ以上であれば、２次工程用成形物が充分な強度を有し、５００μｍ以下であれば、充分な可撓性を確保できる。
（ｃ−４）〜（ｃ−６）の方法では、熱による変形が小さい金属製シートを工程シートとして用いるため、支持体用の材料として、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用できる。

なお、（ｃ−４）〜（ｃ−６）では工程シート原版の凹凸パターンを金属に転写させて２次工程用成形物を得たが、樹脂に転写させて２次工程用成形物を得てもよい。その場合に使用できる樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリスルホン、（ｃ−１）の方法で使用する電離放射線硬化性樹脂などが挙げられる。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、（ｃ−１）の方法と同様に、電離放射線硬化性樹脂の塗工、硬化、剥離を順次行って、２次工程用成形物を得る。

上述のようにして得た反射シートには、凹凸パターンの形成された面と反対の面に粘着剤層を設けても構わない。
また、工程シート原版として用いた反射シートあるいは２次工程用成形物を剥離せずに保護層として用い、反射シートの使用直前に保護層を剥離してもよい。

＜第２の製造方法＞
第２の製造方法は、上記第１の製造方法における（ｂ）の方法によって支持体を作製する方法と同様である。ただし、加熱収縮性フィルムまたは樹脂フィルム１１ｂが支持体、折り畳まれた表面平滑層１２ｂが金属層２０に該当する。
（ｂ）の方法により得られた支持体は、金属層の表面に蛇行した波状の凹凸パターンが形成されたシートであるから、そのまま反射シートとして使用できる。

「バックライトユニット」
本発明のバックライトユニットの一実施形態について説明する。
図９に、本実施形態のバックライトユニットを示す。本実施形態のバックライトユニット１００は、直下型のものであり、反射シート１と、反射シート１に対向して配設された拡散板２と、反射シート１と拡散板２との間に配設された複数の光源３，３と、反射シート１および光源３を収容するハウジング４とを備えるものである。
反射シート１は、金属層２０が拡散板２に対向するように配置されているから、光源３は反射シート１の金属層２０側に配設されている。
拡散板２としては、例えば、透明な微粒子を含有するシート、表面に凹凸が形成されたシートなどが挙げられる。
光源３としては、例えば、蛍光管、冷陰極管、ＬＥＤなどが挙げられる。

このバックライトユニット１００では、光源３からの光が直接または一旦反射シート１で反射して拡散板２に達し、拡散板２でさらに拡散されて、バックライトユニット１００から出射する。ここで、光源３から反射シート１に達した光は、金属層２０の表面で反射される。金属層２０の表面には、蛇行した波状の凹凸パターン２１が形成されているため、反射の際には、適度な拡散性で光を拡散させることができる。したがって、バックライトユニット１００を備えた画像表示装置等では、輝度を均一にしつつ高くできる。

以下の例におけるヤング率は、引っ張り試験機（テスター産業社製ＴＥ−７００１）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１１３−１９９５に準拠して測定した値である。特に温度を記載していない場合には、２３℃における値である。

（実施例１）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、トルエンに希釈したポリメチルメタクリレート（ポリマーソース株式会社製Ｐ４８３１−ＭＭＡ、ガラス転移温度１００℃、表１中では、「ＰＭＭＡ」と表記する。）を厚さが２００ｎｍになるようにバーコーターにより塗工し、表面平滑層を形成して積層シートを得た。
次いで、その積層シートを８０℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させ（すなわち、変形率６０％で変形させ）、片面に、収縮方向に対して直交方向に沿って周期的を有する波状の凹凸パターンを有するシートを得た。
さらに、アルミニウムを厚さが１７５ｎｍになるように真空蒸着させて、反射シートを得た。
なお、ポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルムおよびポリメチルメタクリレートの８０℃におけるヤング率はそれぞれ５０ＭＰａ、１ＧＰａであった。

（実施例２）
トルエンに希釈したポリメチルメタクリレートの代わりにトルエンに希釈したポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ、ガラス転移温度１００℃、表１中では、「ＰＳ」と表記する。）を塗工した以外は実施例１と同様にして反射シートを得た。
なお、ポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルムおよび該ポリスチレンの８０℃におけるヤング率はそれぞれ、５０ＭＰａ、１ＧＰａであった。

（実施例３）
ポリスチレンの塗工厚さを２．５μｍにした以外は実施例２と同様にして反射シートを得た。

（実施例４）
ポリスチレンの塗工厚さを３．５μｍにした以外は実施例２と同様にして反射シートを得た。

（実施例５）
ポリスチレンの塗工厚さを０．０５μｍにした以外は実施例２と同様にして反射シートを得た。

（実施例６）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、アルミニウムを厚さが０．０５μｍになるように真空蒸着し、表面平滑層を形成して積層シートを得た。
次いで、その積層シートを１００℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させ（すなわち、変形率６０％で変形させ）、片面に、収縮方向に対して直交方向に沿って周期的を有する波状の凹凸パターンを有するシートを得た。
さらに、アルミニウムを厚さが１７５ｎｍになるように真空蒸着させ、金属層を形成させて、反射シートを得た。

（実施例７）
表面平滑層のアルミニウムを厚みが０．１５μｍになるように真空蒸着した以外は実施例５と同様にして反射シートを得た。

（実施例８）
表面平滑層のアルミニウムを厚みが０．０１５μｍになるように真空蒸着した以外は実施例５と同様にして反射シートを得た。

（実施例９）
実施例１で得た凹凸パターンを有するシートを工程シートの原版として用いて、以下のようにして反射シートを得た。
すなわち、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物（表１中では、「ＵＶ硬化樹脂」と表記する。）を厚さ２μｍになるように塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の工程シート原版と接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を工程シート原版から剥離し、さらに、アルミニウムを厚さが１７５ｎｍになるように真空蒸着させ、反射シートを得た。

（実施例１０）
アルミニウムを厚さが８０ｎｍになるように真空蒸着させて表面平滑層を形成し、アルミニウムを９５ｎｍ真空蒸着させて金属層を形成した以外は実施例２と同様にして反射シートを得た。この反射シートの耐傷性を調べたところ、他実施例よりも良好であった。

（比較例１）
ポリスチレン塗工厚さを６μｍにして表面平滑層を形成した以外は実施例２と同様にして反射シートを得た。

（比較例２）
表面平滑層のアルミニウムの厚さを０．３μｍにした以外は実施例５と同様にして反射シートを得た。

（比較例３）
ポリスチレン塗工厚さを０．０４μｍにして表面平滑層を形成した以外は実施例２と同様にして反射シートを得た。

（比較例４）
表面平滑層のアルミニウムの厚さを０．００９μｍにした以外は実施例５と同様にして反射シートを得た。

（比較例５）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、アルミニウムを厚さが０．０５μｍになるように真空蒸着してアルミニウム蒸着フィルムを得た。該アルミニウム蒸着フィルムを比較用サンプルとした。

（評価）
実施例１〜９および比較例１〜５の反射シートの上面を、原子間力顕微鏡（日本ビーコ社製ナノスコープIII）により撮影した。
実施例１〜１０および比較例１〜４の反射シートでは、原子間力顕微鏡の画像にて凹凸パターンの深さを１０箇所で測定し、それらを平均して平均深さを求めた。

また、凹凸パターンの配向度を以下のようにして求めた。
まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイルに変換した（図３参照）。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図４にフーリエ変換後の画像を示す。次いで、図４の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ_２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図５参照）した。次いで、図５において、補助線Ｌ_２と値Ｘ（最頻ピッチ）の部分にて直交する補助線Ｌ_３を引き、その補助線Ｌ_３上の輝度をプロット（図６参照）する。そして、図６のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ_１より凹凸パターンの配向度を求めた。それらの値を表１に示す。

また、実施例１〜１０、比較例１〜５の反射シートについて、変角光度計（（株）ジェネシア製、ＧＯＮＩＯ Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ）を用いて評価した。その際、反射散乱モード、光源は白色ＬＥＤ、光源用電源は１２Ｖの条件で測定した。この反射面に、入射角４５°で光を照射し、受光部を０〜９０°の範囲で移動させることにより反射光強度の角度依存性を測定した。その結果を表１に示す。なお、今回、角度依存性を比較するために、各実施例及び比較例のデータにおいてピークの高さを８５％に揃えて規格化した。

また、反射シートの輝度を、スガ試験機（株）デジタル変角光沢度計（型式ＵＧＶ−４Ｄ）を用いて測定した。
具体的には、光源を、入射角が試料面の法線に対して４５°になるように固定し、入射光と同一平面内で受光角を変化させた。このとき光源と受光器は、試料面の法線を挟んで対峙している。光源側には１０ｍｍ×１５ｍｍのスリットを、受光器側には３ｍｍ×６ｍｍのスリットを配置した。なお、比較用の黒色ガラスには一時標準面として用いられている黒色ガラスを用いた。
視野角０°における輝度とは、法線に対して受光角４５°における輝度を、また視野角マイナス１５°における輝度とは受光角３０°における輝度を、視野角プラス１５°におけるとは受光角６０°における輝度をそれぞれ示す。その評価結果を表２に示す。

直下型のもので、反射シートと、反射シートに対向して配設された拡散板と、反射シートと拡散板との間に配設された複数の冷陰極管と、反射シート及び冷陰極管を収容するハウジングを備えるバックライトユニットを使用し、以下のように評価した。その評価結果を表１に示す。
○：輝度ムラがなく、明るく、最も良好なもの。
△：輝度ムラがなく、明るく、良好なもの。
×：輝度ムラがあり、暗く、不良なもの。

積層シートの表面平滑層を折り畳むように変形させ、金属層を積層した実施例１〜８，１０では、反射シートを容易に製造できた。
さらに、実施例１〜８，１０の反射シートは、凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下、底部の平均深さが前記最頻ピッチを１００％とした際の１０％以上になり、反射シートとして適したものであった。実施例１〜８にて、上記のような最頻ピッチおよび平均深さが得られたのは、表面平滑層の厚みが０．０５μｍを超え５μｍ以下で、変形率を１０％以上としたためである。
また、実施例１で得た凹凸パターンを有するシートを工程シートとして用いた実施例９の製造方法によれば、凹凸パターンを有するシートと同等の最頻ピッチおよび平均深さの凹凸パターンを有する反射シートを簡便に製造できた。
実施例１〜１０の反射シートでは、適度の光拡散性を有していたため、反射光強度（輝度）の角度分布が適度に広く、しかも充分な輝度が得られた。

凹凸パターンの最頻ピッチが２０μｍを超える比較例１および比較例２の反射シートでは、反射光の角度分布（視野角）が広すぎて、正面方向での輝度が低下した。
凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍ以下の比較例３および比較例４の反射シート、反射面が凹凸の無い鏡面である比較例５の反射シートでは、反射の際の光拡散性が低く、反射光の角度分布が狭かった。

本発明の反射シートの一実施形態の一部を拡大して示す拡大斜視図である。 図１の反射シートを、凹凸パターンの形成方向と直交方向に切断した際の断面図である。 凹凸パターンの表面を表面光学顕微鏡により撮影して得た画像の、グレースケール変換画像である。 図３の画像をフーリエ変換した画像である。 図４の画像における円環の中心からの距離に対する輝度をプロットしたグラフである。 図４の画像における補助線Ｌ_３上の輝度をプロットしたグラフである。 反射シートの第１の製造方法における積層シートを示す断面図である。 支持体の製造方法の一例を説明する図である。 本発明のバックライトユニットの一実施形態を示す断面図である。

符号の説明

１ 反射シート
１０ 支持体
１０ａ，１０ｂ 積層シート
１１ａ，１１ｂ 加熱収縮性フィルム
１２ａ，１２ｂ 表面平滑層
２０ 金属層
２１ 凹凸パターン
２１ａ 底部

Claims (3)

1. シート状の支持体と、該支持体の片面に設けられた金属層とを有する反射シートであって、
   金属層の表面に、蛇行した波状の凹凸パターンが形成され、該凹凸パターンの最頻ピッチが１．０μｍを超え２０μｍ以下、平均深さが最頻ピッチを１００％とした際の１０％以上であることを特徴とする反射シート。
2. 前記支持体の片面に、蛇行した波状の凹凸パターンが形成され、
   前記金属層が、該支持体の凹凸パターンが形成された面に、略均一の厚みで積層されている請求項１に記載の反射シート。
3. 請求項１または２に記載の反射シートと、該反射シートの金属層側に配設された光源とを具備することを特徴とするバックライトユニット。

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