JP2012022292A - 凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 - Google Patents
凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012022292A JP2012022292A JP2011044395A JP2011044395A JP2012022292A JP 2012022292 A JP2012022292 A JP 2012022292A JP 2011044395 A JP2011044395 A JP 2011044395A JP 2011044395 A JP2011044395 A JP 2011044395A JP 2012022292 A JP2012022292 A JP 2012022292A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concavo
- sheet
- convex pattern
- original plate
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Facsimile Heads (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
Abstract
【課題】一方向の異方性拡散性に優れる光学拡散体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた機能層とを備え、該機能層の表面に、表面から見た場合に略平行であるが蛇行している凹凸パターン１１が形成された凹凸パターン形成シート１０であって、凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下で略一定で、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０であり、且つ凹凸パターン形成シートの拡散角度の最大値が２５°以上５０°以下である。
【選択図】図１
【解決手段】樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた機能層とを備え、該機能層の表面に、表面から見た場合に略平行であるが蛇行している凹凸パターン１１が形成された凹凸パターン形成シート１０であって、凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下で略一定で、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０であり、且つ凹凸パターン形成シートの拡散角度の最大値が２５°以上５０°以下である。
【選択図】図１
Description
本発明は、凹凸パターン形成シート、光拡散シート等として用いられる光学シートおよび光拡散シートおよびそれらの製造方法に関する。
コピー機やＦＡＸ等に使用されているスキャナーの線状光源の置き換え用途でＬＥＤ点光源を直線状に複数配置したものが使用されている。
また、チューブ型蛍光灯の光源の置き換え用途でも、ＬＥＤ点光源を直線状に複数配置したものが使用されている。
また、チューブ型蛍光灯の光源の置き換え用途でも、ＬＥＤ点光源を直線状に複数配置したものが使用されている。
上記のように、線状光源を、複数配置されたＬＥＤのような点光源によって置き換える場合、例えばスキャナー光源用途では、ＬＥＤ同士の間の輝度低下による輝度ムラが発生しないように、ＬＥＤ点光源を隙間のないように並べる必要があるため、ＬＥＤを大量に使用しなければならない。ＬＥＤ真上とＬＥＤ間の輝度ムラを抑制するために、拡散子の入った拡散板や拡散シートを使用することもできるが、ＬＥＤの並列方向のみでなく、直交する方向にも光が拡散するため、輝度の低下を生じる。
また、チューブ型蛍光灯をＬＥＤ点光源で置き換える場合、ＬＥＤ光源を直視すると輝度が強すぎて目にダメージを与えるため、このような光源を、人間が直視する可能性のある場所で使用する場合は、拡散子の入った拡散板を使用することでＬＥＤ光を分散させることが必要となる。しかし、拡散板を使用すると、トータル照度の低下を生じる。
以上のように、線状光源をＬＥＤのような点光源で置き換える場合、輝度や照度の低下を引き起こすような拡散板を使用するより、表面凹凸、特に方向性を持った凹凸により、点光源を並列方向のみに拡散させることが有効である。
また、チューブ型蛍光灯をＬＥＤ点光源で置き換える場合、ＬＥＤ光源を直視すると輝度が強すぎて目にダメージを与えるため、このような光源を、人間が直視する可能性のある場所で使用する場合は、拡散子の入った拡散板を使用することでＬＥＤ光を分散させることが必要となる。しかし、拡散板を使用すると、トータル照度の低下を生じる。
以上のように、線状光源をＬＥＤのような点光源で置き換える場合、輝度や照度の低下を引き起こすような拡散板を使用するより、表面凹凸、特に方向性を持った凹凸により、点光源を並列方向のみに拡散させることが有効である。
また、前記方向性を持った凹凸を使用すると、異方性拡散の方向を変えることにより、点光源を縞状模様や螺旋模様にすることも可能であり、意匠性を高めることができる。
非特許文献１には、拡散方向や拡散性の制御の指標として拡散角度が記載されている。
しかし、非特許文献１には、照度や輝度の低下を生じさせずに点光源を線状光源化させるために適した拡散角度が見出されていない。
しかし、非特許文献１には、照度や輝度の低下を生じさせずに点光源を線状光源化させるために適した拡散角度が見出されていない。
また、凹凸により光の拡散や屈折を制御しようとする場合には、凹凸パターンのピッチが光の波長程度であると、干渉による着色が問題になり、またそのピッチが数１０μｍを超えると、輝線等として視認できてしまうおそれやモアレが発生するおそれがあるため、凹凸パターンのピッチを２０μｍ以下とすることが求められる。しかしながら、凹凸パターンのピッチが数１０μｍ〜数１００μｍであれば、切削等により安定に凹凸が形成することが可能であるが、２０μｍ以下では所望のピッチを得ることは困難であった。
レンズ拡散板・ＬＥＤ｜レンズ設計・拡散板ならオプティカルソリューションズ、[ｏｎｌｉｎｅ]、[平成２２年６月１１日検索]、インターネット＜ＵＲＬ：http://www.osc-japan.com/solusion/lsd＞
そこで、本発明は、一方向の異方性拡散性に優れる光学シートおよびその製造方法を提供することを課題とする。
本発明は、以下の態様を包含する。
［１］樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた機能層とを備え、該機能層の表面に、表面から見た場合に略平行であるが蛇行している凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下で略一定で、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０、且つ前記凹凸パターン形成シートの拡散角度の最大値が２５°以上５０°以下であることを特徴とする凹凸パターン形成シート。
[２]上記機能層が、樹脂からなる請求項１記載の凹凸パターン形成シート。
[３]上記機能層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が、１０℃以上である上記[１]〜[２]のいずれかに記載の凹凸パターン形成シート。
［１］樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた機能層とを備え、該機能層の表面に、表面から見た場合に略平行であるが蛇行している凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下で略一定で、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０、且つ前記凹凸パターン形成シートの拡散角度の最大値が２５°以上５０°以下であることを特徴とする凹凸パターン形成シート。
[２]上記機能層が、樹脂からなる請求項１記載の凹凸パターン形成シート。
[３]上記機能層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が、１０℃以上である上記[１]〜[２]のいずれかに記載の凹凸パターン形成シート。
［４］［１］〜［３］のいずれかに記載の凹凸パターン形成シートを備え、該凹凸パターン形成シートと同等の最頻ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された光拡散体を製造するための型として用いられる光拡散体製造用工程シート原版。
［５］［４］に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、該電離放射線硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
［６］［４］に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
［７］［４］に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
[８] 少なくとも直線状に配列された複数個のＬＥＤ点光源と、該ＬＥＤ点光源上に配置された[５]〜[７]のいずれかに記載の方法により製造された光拡散体とからなる線状、縞状または螺旋状から選ばれる１種であるＬＥＤ光源。
［５］［４］に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、該電離放射線硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
［６］［４］に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
［７］［４］に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
[８] 少なくとも直線状に配列された複数個のＬＥＤ点光源と、該ＬＥＤ点光源上に配置された[５]〜[７]のいずれかに記載の方法により製造された光拡散体とからなる線状、縞状または螺旋状から選ばれる１種であるＬＥＤ光源。
本発明の光拡散シートは、目的の光拡散性に優れる。
＜第１の実施形態＞
図示に従って実施形態の一例を説明する。
図１は、本発明に係る凹凸パターン形成シートの一例を示す拡大斜視図である。
図示に従って実施形態の一例を説明する。
図１は、本発明に係る凹凸パターン形成シートの一例を示す拡大斜視図である。
（凹凸パターン形成シート）
本実施形態では、図１に示すように、凹凸パターン形成シート１０の機能層の表面に、蛇行した波状の凹凸パターン１１が形成されている。
光拡散シートに用いる本実施形態の凹凸パターン形成シート１０では、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下であることが好ましく、１μｍを超え１０μｍ以下であることがより好ましい。最頻ピッチＡが１μｍ未満であると、可視光の波長以下となり、可視光が凹凸パターン１１にて屈折せずに光が透過してしまい、前記上限値を超えると、輝線として視認される場合があるからである。
本実施形態では、図１に示すように、凹凸パターン形成シート１０の機能層の表面に、蛇行した波状の凹凸パターン１１が形成されている。
光拡散シートに用いる本実施形態の凹凸パターン形成シート１０では、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下であることが好ましく、１μｍを超え１０μｍ以下であることがより好ましい。最頻ピッチＡが１μｍ未満であると、可視光の波長以下となり、可視光が凹凸パターン１１にて屈折せずに光が透過してしまい、前記上限値を超えると、輝線として視認される場合があるからである。
凹凸パターン１１の最頻ピッチＡに対する凹凸パターンの平均深さＢの比（Ｂ／Ａ、以下、アスペクト比という。）は０．１〜３．０であることが好ましく、０．３〜２．０であることがより好ましい。アスペクト比が０．１未満であると、目的の光学特性が得られないことがある。一方、アスペクト比が３．０より大きくなると、凹凸パターン形成シート１０の製造にて凹凸パターン１１を形成しにくくなる傾向にある。
ここで、平均深さＢとは、凹凸パターン１１の底部１１ａの平均深さのことである。
また、底部１１ａとは、凹凸パターン１1の凹部の極小点であり、平均深さＢは、凹凸パターン１１を短径方向に沿って切断した断面（図２照）を見た際の、凹凸パターン形成シート１０全体の面方向と平行な基準線Ｌ１から各凸部の頂部までの長さＢ１，Ｂ２，Ｂ３・・・の平均値（ＢＡＶ）と、基準線Ｌ１から各凹部の底部までの長さｂ１，ｂ２，ｂ３・・・の平均値（ｂＡＶ）との差（ｂＡＶ−ＢＡＶ）のことである。
平均深さＢを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターン１１の断面の画像にて各底部１１ａの深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。
ここで、平均深さＢとは、凹凸パターン１１の底部１１ａの平均深さのことである。
また、底部１１ａとは、凹凸パターン１1の凹部の極小点であり、平均深さＢは、凹凸パターン１１を短径方向に沿って切断した断面（図２照）を見た際の、凹凸パターン形成シート１０全体の面方向と平行な基準線Ｌ１から各凸部の頂部までの長さＢ１，Ｂ２，Ｂ３・・・の平均値（ＢＡＶ）と、基準線Ｌ１から各凹部の底部までの長さｂ１，ｂ２，ｂ３・・・の平均値（ｂＡＶ）との差（ｂＡＶ−ＢＡＶ）のことである。
平均深さＢを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターン１１の断面の画像にて各底部１１ａの深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。
本実施形態のように、凹凸パターン１１が一方向に沿っている場合の蛇行とは、以下の方法で求められる凹凸パターンの配向度が０．３以上になっていることである。この配向度は、凹凸パターンの配向のばらつきの指標であり、その値が大きいほど、配向がばらついている、すなわち隣り合ったパターンのピッチがパターンの方向に沿ってばらついており、光拡散の高い光拡散体として好ましいことを示す。
配向度を求めるためには、まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等）に変換する。グレースケールのファイルの画像（図３参照）では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い（白度が高いところ程、凸部の頂部が高い）ことを表している。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図４にフーリエ変換後の画像を示す。図４の画像の中心から両側に広がる白色部分は凹凸パターン１１のピッチおよび向きの情報が含まれる。
次いで、図４の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図５参照）する。図５のプロットの横軸はピッチの逆数を、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Ｘの逆数１／Ｘが凹凸パターン１１の最頻ピッチを表す。
次いで、図４において、補助線Ｌ２と値Ｘの部分にて直交する補助線Ｌ３を引き、その補助線Ｌ３上の輝度をプロット（図６参照）する。ただし、図６の横軸は、各種の凹凸構造との比較を可能にするため、Ｘの値で割った数値とする。図６の横軸は、凹凸パターンの形成方向（図３における上下方向）に対する傾きの程度を示す指標（配向性）を、縦軸は頻度を表す。図６のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が凹凸パターン１１の配向度を表す。半値幅Ｗ１が大きい程、蛇行して配向がばらついていることを表す。
配向度を求めるためには、まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等）に変換する。グレースケールのファイルの画像（図３参照）では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い（白度が高いところ程、凸部の頂部が高い）ことを表している。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図４にフーリエ変換後の画像を示す。図４の画像の中心から両側に広がる白色部分は凹凸パターン１１のピッチおよび向きの情報が含まれる。
次いで、図４の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図５参照）する。図５のプロットの横軸はピッチの逆数を、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Ｘの逆数１／Ｘが凹凸パターン１１の最頻ピッチを表す。
次いで、図４において、補助線Ｌ２と値Ｘの部分にて直交する補助線Ｌ３を引き、その補助線Ｌ３上の輝度をプロット（図６参照）する。ただし、図６の横軸は、各種の凹凸構造との比較を可能にするため、Ｘの値で割った数値とする。図６の横軸は、凹凸パターンの形成方向（図３における上下方向）に対する傾きの程度を示す指標（配向性）を、縦軸は頻度を表す。図６のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が凹凸パターン１１の配向度を表す。半値幅Ｗ１が大きい程、蛇行して配向がばらついていることを表す。
上記配向度が０．３未満であると、凹凸パターン１１の配向のばらつきが小さくなるため、光の拡散性が小さくなる。
また、配向度は１．０以下であることが好ましい。配向度が１．０を超えると、凹凸パターン１１の方向がある程度ランダムになるため、光拡散性は高くなるが、異方性が低くなる傾向にある。
配向度を０．３以上にするためには、例えば、後述する製造において、加熱収縮性フィルムと機能層とを適宜選択すればよい。
また、配向度が０．３以上の凹凸パターンが一表面に形成された金型を用いて透明樹脂を成形する方法を採用してもよい。
また、配向度は１．０以下であることが好ましい。配向度が１．０を超えると、凹凸パターン１１の方向がある程度ランダムになるため、光拡散性は高くなるが、異方性が低くなる傾向にある。
配向度を０．３以上にするためには、例えば、後述する製造において、加熱収縮性フィルムと機能層とを適宜選択すればよい。
また、配向度が０．３以上の凹凸パターンが一表面に形成された金型を用いて透明樹脂を成形する方法を採用してもよい。
（凹凸パターン形成シートの構成材料）
凹凸パターン形成シート１０の基材としては、可視光の透過率の高い（具体的には、可視光の全光線透過率が８５％以上）透明樹脂により構成される。
また、凹凸パターン形成シート１０には、耐熱性、耐光性を向上させる目的で、光透過率等の光学特性を損なわない範囲内で、添加剤を含有することができる。添加剤としては、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、光拡散剤などが挙げられる。中でも、光安定剤を添加することが好ましく、その添加量は、透明樹脂１００質量部に対して０．０３〜２．０質量部であることが好ましい。光安定剤の添加量が０．０３質量部以上であれば、その添加効果を充分に発揮できるが、２．０質量部を超えると、過剰量になり、不要なコストの上昇を招く傾向にある。
凹凸パターン形成シート１０の基材としては、可視光の透過率の高い（具体的には、可視光の全光線透過率が８５％以上）透明樹脂により構成される。
また、凹凸パターン形成シート１０には、耐熱性、耐光性を向上させる目的で、光透過率等の光学特性を損なわない範囲内で、添加剤を含有することができる。添加剤としては、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、光拡散剤などが挙げられる。中でも、光安定剤を添加することが好ましく、その添加量は、透明樹脂１００質量部に対して０．０３〜２．０質量部であることが好ましい。光安定剤の添加量が０．０３質量部以上であれば、その添加効果を充分に発揮できるが、２．０質量部を超えると、過剰量になり、不要なコストの上昇を招く傾向にある。
また、凹凸パターン形成シート１０には、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、無機化合物からなる無機光拡散剤、有機化合物からなる有機光拡散剤を含有させることができる。
無機光拡散剤としては、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸アルミ化ナトリウム、珪酸亜鉛、ガラス、マイカ等が挙げられる。
有機光拡散剤としては、スチレン系重合粒子、アクリル系重合粒子、シロキサン系重合粒子、ポリアミド系重合粒子等が挙げられる。これらの光拡散剤はそれぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、これらの光拡散剤は、優れた光散乱特性を得るために、花弁状又は球晶状等の多孔質構造とすることもできる。
光拡散剤の含有量は、光透過性を損ないにくいことから、透明樹脂１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。
無機光拡散剤としては、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸アルミ化ナトリウム、珪酸亜鉛、ガラス、マイカ等が挙げられる。
有機光拡散剤としては、スチレン系重合粒子、アクリル系重合粒子、シロキサン系重合粒子、ポリアミド系重合粒子等が挙げられる。これらの光拡散剤はそれぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、これらの光拡散剤は、優れた光散乱特性を得るために、花弁状又は球晶状等の多孔質構造とすることもできる。
光拡散剤の含有量は、光透過性を損ないにくいことから、透明樹脂１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。
さらに、凹凸パターン形成シート１０には、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、微細気泡を含有させることができる。微細気泡は、光の吸収が少なく光透過率を低下させにくい。
微細気泡の形成方法としては、凹凸パターン形成シート１０に発泡剤を混入する方法（例えば、特開平５−２１２８１１号公報、特開平６−１０７８４２号公報に開示された方法）や、アクリル系発泡樹脂を発泡処理させて微細気泡を含有する方法（例えば、特開２００４−２８１２号公報に開示された方法）などを適用できる。さらに微細気泡は、より均一な面照射が可能となる点では、特定の位置に不均一に発泡させる方法（例えば、特開２００６−１２４４９９号公報に開示された方法）が好ましい。
なお、前記光拡散剤と微細発泡を併用することもできる。
微細気泡の形成方法としては、凹凸パターン形成シート１０に発泡剤を混入する方法（例えば、特開平５−２１２８１１号公報、特開平６−１０７８４２号公報に開示された方法）や、アクリル系発泡樹脂を発泡処理させて微細気泡を含有する方法（例えば、特開２００４−２８１２号公報に開示された方法）などを適用できる。さらに微細気泡は、より均一な面照射が可能となる点では、特定の位置に不均一に発泡させる方法（例えば、特開２００６−１２４４９９号公報に開示された方法）が好ましい。
なお、前記光拡散剤と微細発泡を併用することもできる。
（凹凸パターン形成シートの厚さ）
凹凸パターン形成シート１０の厚さは０．０２〜３．０ｍｍが好ましく、０．０５〜２．５ｍｍがより好ましく、０．１〜２．０ｍｍが特に好ましい。凹凸パターン形成シート１０の厚さが０．０２ｍｍ未満であると、凹凸パターン１１の深さよりも小さいことがあるため適当でなく、３．０ｍｍよりも厚いと凹凸パターン形成シート１０の質量が大きくなるため取り扱いにくくなるおそれがある。
凹凸パターン形成シート１０は２層以上の樹脂層から構成されていてもよい。凹凸パターン形成シート１０が２層以上の層から構成されている場合も、凹凸パターン形成シート１０の厚さは０．０２〜３．０ｍｍであることが好ましい。
凹凸パターン形成シート１０の厚さは０．０２〜３．０ｍｍが好ましく、０．０５〜２．５ｍｍがより好ましく、０．１〜２．０ｍｍが特に好ましい。凹凸パターン形成シート１０の厚さが０．０２ｍｍ未満であると、凹凸パターン１１の深さよりも小さいことがあるため適当でなく、３．０ｍｍよりも厚いと凹凸パターン形成シート１０の質量が大きくなるため取り扱いにくくなるおそれがある。
凹凸パターン形成シート１０は２層以上の樹脂層から構成されていてもよい。凹凸パターン形成シート１０が２層以上の層から構成されている場合も、凹凸パターン形成シート１０の厚さは０．０２〜３．０ｍｍであることが好ましい。
（凹凸パターン形成シートの拡散角度）
本発明の凹凸パターン形成シート１０は拡散角度の最大値が２５°以上であることが好ましい。拡散角度の最大値を２５°以上とすることで後述する点光源を線状光源化するために十分な拡散性が得られる。
さらに好ましくは、拡散角度の最大値を３０°〜５０°とする。拡散角度の最大値が５０°を超えると、拡散性が大きくなりすぎ、光源の照度が低下しすぎるため、望ましくない。
なお、ここで拡散角度とは、凹凸パターン形成シート１０の凹凸パターンが形成されていない側の面から、シート面の法線方向に沿って測定光を入射させ、凹凸パターンが形成された面から出射させ、その照度を測定する際、シート面の法線方向（この方向を出光角度０°とする）における相対照度を１とした場合に相対照度が０．５以上となる±の角度範囲である。例えば、出光角度が±１５°の範囲で相対照度が０．５以上である場合、拡散角度は３０°となる。
また、拡散角度の最大値とは、シート面内の全方向で拡散角度を測定した場合の、最大拡散角度である。
本発明の凹凸パターン形成シート１０は拡散角度の最大値が２５°以上であることが好ましい。拡散角度の最大値を２５°以上とすることで後述する点光源を線状光源化するために十分な拡散性が得られる。
さらに好ましくは、拡散角度の最大値を３０°〜５０°とする。拡散角度の最大値が５０°を超えると、拡散性が大きくなりすぎ、光源の照度が低下しすぎるため、望ましくない。
なお、ここで拡散角度とは、凹凸パターン形成シート１０の凹凸パターンが形成されていない側の面から、シート面の法線方向に沿って測定光を入射させ、凹凸パターンが形成された面から出射させ、その照度を測定する際、シート面の法線方向（この方向を出光角度０°とする）における相対照度を１とした場合に相対照度が０．５以上となる±の角度範囲である。例えば、出光角度が±１５°の範囲で相対照度が０．５以上である場合、拡散角度は３０°となる。
また、拡散角度の最大値とは、シート面内の全方向で拡散角度を測定した場合の、最大拡散角度である。
（使用方法）
上記凹凸パターン形成シート１０は、光拡散シートとして用いられる。具体的には、図７に示すように、凹凸パターン形成シート１０は、凹凸パターン１１が形成されていない側の面αに複数個の点光源２０を直線上に配置させて使用される。また、凹凸パターン形成シート１０の面α側に点光源２０を配置させることにより、凹凸パターン形成シート１０の面αから入光させた光を凹凸パターン面から出光させることができる。さらに、凹凸パターン形成シート１０内を通過した光を凹凸パターン１１にて点光源の並列方向に異方性拡散させて、点光源を線状光源化して、凹凸パターン１１が形成された側の面から出射させることができる。
上記凹凸パターン形成シート１０は、光拡散シートとして用いられる。具体的には、図７に示すように、凹凸パターン形成シート１０は、凹凸パターン１１が形成されていない側の面αに複数個の点光源２０を直線上に配置させて使用される。また、凹凸パターン形成シート１０の面α側に点光源２０を配置させることにより、凹凸パターン形成シート１０の面αから入光させた光を凹凸パターン面から出光させることができる。さらに、凹凸パターン形成シート１０内を通過した光を凹凸パターン１１にて点光源の並列方向に異方性拡散させて、点光源を線状光源化して、凹凸パターン１１が形成された側の面から出射させることができる。
また、上記凹凸パターン形成シート１０の主たる拡散方向を前記点光源の並列方向と直交する方向に配置させることにより、点光源を縞状模様にして、凹凸パターン１１が形成された側の面から出射させることができる。
さらに、上記凹凸パターン形成シート１０の主たる拡散方向を前記点光源の並列方向に対して３０〜６０°をなすように配置させることにより、点光源を螺旋模様にして、凹凸パターン１１が形成された側の面から出射させることができる。
図８は、前記凹凸パターン形成シートが配置されていないとき、および配置されているときのＬＥＤ点光源の外観写真である。
図８−１は、前記凹凸パターン形成シートを配置する前のＬＥＤ点光源、図８−２、３および４は前記凹凸パターン形成シートを配置することによりそれぞれ線状、縞状、螺旋状となったＬＥＤ点光源である。点光源を前記縞状模様や螺旋模様にすることにより意匠性を高めることができる。
さらに、上記凹凸パターン形成シート１０の主たる拡散方向を前記点光源の並列方向に対して３０〜６０°をなすように配置させることにより、点光源を螺旋模様にして、凹凸パターン１１が形成された側の面から出射させることができる。
図８は、前記凹凸パターン形成シートが配置されていないとき、および配置されているときのＬＥＤ点光源の外観写真である。
図８−１は、前記凹凸パターン形成シートを配置する前のＬＥＤ点光源、図８−２、３および４は前記凹凸パターン形成シートを配置することによりそれぞれ線状、縞状、螺旋状となったＬＥＤ点光源である。点光源を前記縞状模様や螺旋模様にすることにより意匠性を高めることができる。
（製造方法）
凹凸パターン形成シート１０を製造する方法の例について説明する。
凹凸パターン形成シート１０を製造する方法の例について説明する。
本発明の機能層１３は、樹脂、金属及び金属化合物が挙げられる。
機能層１３が、樹脂の場合、凹凸パターン形成シート、原版及び２次工程用成形物としても使用できるので好ましい。また、金属または金属化合物の場合、拡散角度を満足するものを得るために原版及び２次工程用成形物として使用できる。
機能層１３が、樹脂の場合、凹凸パターン形成シート、原版及び２次工程用成形物としても使用できるので好ましい。また、金属または金属化合物の場合、拡散角度を満足するものを得るために原版及び２次工程用成形物として使用できる。
また、機能層１３が、金属及び金属化合物の場合、機能層１３のヤング率を前記範囲にするためには、機能層１３を、金、アルミニウム、銀、炭素、銅、ゲルマニウム、インジウム、マグネシウム、ニオブ、パラジウム、鉛、白金、シリコン、スズ、チタン、バナジウム、亜鉛、ビスマスよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属で構成することが好ましい。
また、機能層１３を、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属化合物で構成することが好ましい。
ここで、ヤング率は、ＪＩＳ Ｚ ２２８０−１９９３の「金属材料の高温ヤング率試験方法」にて温度を２３℃に変更して測定した値である。硬質層が金属化合物からなる場合も同様である。
［第１の製造方法］
本実施形態の凹凸パターン形成シートの製造方法は、図８に示すように、樹脂製の基材である加熱収縮性フィルム１２の片面に、表面が平滑な樹脂製の機能層１３（以下、表面平滑機能層１３という。）を設けて積層シート１４を形成する工程（以下、第１の工程という。）と、加熱収縮性フィルム１２を加熱収縮させて、積層シート１４の少なくとも表面平滑機能層１３を折り畳むように変形させる工程（以下、第２の工程という。）とを有する方法である。
ここで、表面平滑機能層１３とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下の層である。
また、機能層１３を、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属化合物で構成することが好ましい。
ここで、ヤング率は、ＪＩＳ Ｚ ２２８０−１９９３の「金属材料の高温ヤング率試験方法」にて温度を２３℃に変更して測定した値である。硬質層が金属化合物からなる場合も同様である。
［第１の製造方法］
本実施形態の凹凸パターン形成シートの製造方法は、図８に示すように、樹脂製の基材である加熱収縮性フィルム１２の片面に、表面が平滑な樹脂製の機能層１３（以下、表面平滑機能層１３という。）を設けて積層シート１４を形成する工程（以下、第１の工程という。）と、加熱収縮性フィルム１２を加熱収縮させて、積層シート１４の少なくとも表面平滑機能層１３を折り畳むように変形させる工程（以下、第２の工程という。）とを有する方法である。
ここで、表面平滑機能層１３とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下の層である。
第１の工程
第１の工程にて、加熱収縮性フィルム１２の片面に機能層１３を設けて積層シート１４を形成する方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム１２の片面に、樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、加熱収縮性フィルム１２の片面に、あらかじめ作製した機能層１３を積層する方法などが挙げられる。
第１の工程にて、加熱収縮性フィルム１２の片面に機能層１３を設けて積層シート１４を形成する方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム１２の片面に、樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、加熱収縮性フィルム１２の片面に、あらかじめ作製した機能層１３を積層する方法などが挙げられる。
加熱収縮性フィルム１２としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系シ収縮フィルム、ポリスチレン系収縮フィルム、ポリオレフィン系収縮フィルム、ポリ塩化ビニル系収縮フィルム、ポリカーボネート系収縮フィルムなどを用いることができる。
加熱収縮性フィルム１２の中でも、４０〜７０％収縮するものが好ましい。５０〜７０％収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を４０％以上にでき、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、アスペクト比０．１以上の凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。
加熱収縮性フィルム１２の中でも、４０〜７０％収縮するものが好ましい。５０〜７０％収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を４０％以上にでき、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、アスペクト比０．１以上の凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。
また、以下の工程により凹凸パターン１１のアスペクト比を、３．０にすることができる。
加熱収縮性フィルム１２に加熱収縮性フィルム１２よりガラス転移温度が低いプライマー樹脂層を塗工し、該プライマー樹脂層の上に機能層１３を設けた積層シート１４を形成する。該積層シートを加熱収縮させることにより凹凸パターン形成シート１０を形成する。
加熱収縮後の加熱収縮性フィルム１２を凹凸パターン形成シート１０から剥離し、別の加熱収縮性フィルムを貼り合せ、積層シートを形成する。この積層シートを加熱収縮させることにより、加熱収縮性フィルム１枚分を加熱収縮させた場合より、平均深さＢを大きくすることが可能である。この工程を複数回繰り返すことで、凹凸パターン１１のアスペクト比を、３．０にすることができる。
加熱収縮性フィルム１２に加熱収縮性フィルム１２よりガラス転移温度が低いプライマー樹脂層を塗工し、該プライマー樹脂層の上に機能層１３を設けた積層シート１４を形成する。該積層シートを加熱収縮させることにより凹凸パターン形成シート１０を形成する。
加熱収縮後の加熱収縮性フィルム１２を凹凸パターン形成シート１０から剥離し、別の加熱収縮性フィルムを貼り合せ、積層シートを形成する。この積層シートを加熱収縮させることにより、加熱収縮性フィルム１枚分を加熱収縮させた場合より、平均深さＢを大きくすることが可能である。この工程を複数回繰り返すことで、凹凸パターン１１のアスペクト比を、３．０にすることができる。
また、機能層１３が、樹脂の場合、加熱収縮性フィルムを構成する樹脂（以後、第１の樹脂とも言う。）より、ガラス転移温度が１０℃以上高い樹脂（以後、第２の樹脂とも言う。）を少なくとも一種を含むように構成する。第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の関係にあることにより、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。
第２の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。
機能層１３の表面は、所望の凹凸パターン１１を容易に形成できることから、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下にする。
また、機能層１３の厚さは０．０５〜５．０μｍとすることが好ましく、０．１〜１．０μｍとすることがより好ましい。機能層１３の厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、機能層１３の厚さを０．０５μｍ未満とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、５．０μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、蛇行した波状の凹凸パターン１１をより容易に形成できることから、機能層１３のヤング率を０．０１〜３００ＧＰａにすることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａにすることがより好ましい。
また、機能層１３の厚さは０．０５〜５．０μｍとすることが好ましく、０．１〜１．０μｍとすることがより好ましい。機能層１３の厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、機能層１３の厚さを０．０５μｍ未満とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、５．０μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、蛇行した波状の凹凸パターン１１をより容易に形成できることから、機能層１３のヤング率を０．０１〜３００ＧＰａにすることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａにすることがより好ましい。
第２の工程
第２の工程にて、加熱収縮性フィルム１２を熱収縮させることにより、機能層１３に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン１１を形成させる。
加熱収縮性フィルム１２を加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられる。前述の拡散角度の最大値を２５°以上にするためには、第２の工程で、目標変形率を得るまでの加熱時間を１分より短くすることが好ましい。１分より短い加熱時間で加熱収縮フィルム１２を熱収縮させることにより、凹凸パターン１１のピッチのバラツキを大きくすることが可能となり、拡散角度の最大値を２５°以上にすることが可能となる。
第２の工程にて、加熱収縮性フィルム１２を熱収縮させることにより、機能層１３に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン１１を形成させる。
加熱収縮性フィルム１２を加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられる。前述の拡散角度の最大値を２５°以上にするためには、第２の工程で、目標変形率を得るまでの加熱時間を１分より短くすることが好ましい。１分より短い加熱時間で加熱収縮フィルム１２を熱収縮させることにより、凹凸パターン１１のピッチのバラツキを大きくすることが可能となり、拡散角度の最大値を２５°以上にすることが可能となる。
上記第１の製造方法では、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度では、機能層１３のヤング率が加熱収縮性フィルム１２より高くなる。そのため、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度で加工した際には、機能層１３は厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、機能層１３は加熱収縮性フィルム１２に積層されているため、加熱収縮性フィルム１２の収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、加熱収縮性フィルム１２を収縮させて、機能層１３を折り畳むように変形させることにより、凹凸パターン１１を形成できる。
上記のようにして得た凹凸パターン形成シート１０はそのまま光学シート特に光拡散シートとして用いることができる。その場合、加熱収縮性フィルム１２と機能層１３とによって光学シートが形成される。
［第２の製造方法］
第２の製造方法は、第１の製造方法で得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として、凹凸パターン形成シート１０を製造する方法である。
工程シート原版は、枚葉状であってもよいし、連続したシート状であるウェブ状であってもよい。
第２の製造方法は、第１の製造方法で得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として、凹凸パターン形成シート１０を製造する方法である。
工程シート原版は、枚葉状であってもよいし、連続したシート状であるウェブ状であってもよい。
第２の製造方法の具体的な方法としては、例えば、下記（ａ）〜（ｃ）の方法が挙げられる。
（ａ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
（ｂ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ａ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
（ｂ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
また、工程シート原版を用いて２次工程用成形物を作製し、その２次工程用成形物を用いて凹凸パターン形成シート１０を製造することもできる。２次工程用成形物を用いる具体的な方法としては、下記（ｄ）〜（ｆ）の方法が挙げられる。
（ｄ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、次いで、２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｅ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｆ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｅ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｆ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ａ）の方法の具体例について説明する。図９に示すように、まず、ウェブ状の工程シート原版１１０の凹凸パターン１１１が形成された面に、コーター１２０により未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂１１２を塗工する。次いで、該硬化性樹脂を塗工した工程シート原版１１０を、ロール１３０を通すことにより押圧して、前記硬化性樹脂を工程シート原版１１０の凹凸パターン１１１内部に充填する。その後、電離放射線照射装置１４０により電離放射線を照射して、硬化性樹脂を架橋・硬化させる。そして、硬化後の電離放射線硬化性樹脂を工程シート原版１１０から剥離させることにより、ウェブ状の凹凸パターン形成シート１０を製造することができる。
（ａ）の方法において、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面には、離型性を付与する目的で、未硬化の電離放射線硬化性樹脂塗工前に、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等からなる層を１〜１０ｎｍ程度の厚さで設けてもよい。
工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。
また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。
また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂を塗工した後には、樹脂、ガラス等からなる基材を貼り合わせてから電離放射線を照射してもよい。電離放射線の照射は、基材、工程シート原版の電離放射線透過性を有するいずれか一方から行えばよい。
（ｄ）の具体的な方法は、（ａ）の方法における工程シート原版を、該工程シート原版を用いて作製した２次工程用成形物に変更したこと以外は、上記（ａ）の方法と同様である。
（ｂ），（ｅ）の方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化の、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、（ｂ）の方法における硬化温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、硬化時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
また、（ｂ）の方法における硬化温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、硬化時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
（ｃ），（ｆ）の方法における透明熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＭＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＥＴ−Ｇ、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂などが挙げられる。これらの中でも、成形加工の観点からは、ＭＳ、ＰＭＭＡ、ＰＳ、ＣＯＰ、ＰＣが好ましく、吸湿性及びコストの観点からは、ＭＳのうちスチレン含有率が３０〜９０質量％のものがさらに好ましい。
これらの透明熱可塑性樹脂は単層もしくは多層構造とすることもできる。例えば、ＰＳ層の両面にＰＭＭＡ層を設けた３層構造の透明熱可塑性樹脂などを用いることができる。
さらに、前記透明熱可塑性樹脂の表面に、高屈折率の樹脂を設けたものを使用することもできる。高屈折率の樹脂としては、例えば、フルオレン系エポキシ化合物、フルオレン系アクリレート化合物、フルオレン系ポリエステル（ＯＫＰ）、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）、ポリジフェニルシラン（ＰＤＰＳ）などが挙げられる。
これらの透明熱可塑性樹脂は単層もしくは多層構造とすることもできる。例えば、ＰＳ層の両面にＰＭＭＡ層を設けた３層構造の透明熱可塑性樹脂などを用いることができる。
さらに、前記透明熱可塑性樹脂の表面に、高屈折率の樹脂を設けたものを使用することもできる。高屈折率の樹脂としては、例えば、フルオレン系エポキシ化合物、フルオレン系アクリレート化合物、フルオレン系ポリエステル（ＯＫＰ）、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）、ポリジフェニルシラン（ＰＤＰＳ）などが挙げられる。
（ｃ）の方法において、シート状の熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧する際の圧力、（ｆ）の方法において、シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧する際の圧力は１〜１００ＭＰａであることが好ましい。押圧時の圧力が１ＭＰａ以上であれば、凹凸パターンを高い精度で転写させることができ、１００ＭＰａ以下であれば、過剰な加圧を防ぐことができる。
また、（ｃ）の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、加熱時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
また、（ｆ）の製造方法での成形方法としては、プレス成形法以外に、例えば、射出成形法を適用することができる。
［第３の製造方法］
また、（ｃ）の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、加熱時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
また、（ｆ）の製造方法での成形方法としては、プレス成形法以外に、例えば、射出成形法を適用することができる。
［第３の製造方法］
機能層１３が、金属または金属化合物からなる場合は、以下に記載する部分以外は第１の製造方法と同様の方法により凹凸パターン形成シートが得られる。また、得られた凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、第２の製造方法と同様の方法を使用することにより光拡散体として使用可能な凹凸パターン形成シートが得られる。
第１の工程
第１の工程において、積層シート１４を形成する方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム１２の片面に金属や金属化合物を蒸着させる方法、加熱収縮性フィルム１２の片面に、あらかじめ作製した機能層１３を積層する方法などが挙げられる。
第１の工程において、積層シート１４を形成する方法としては、例えば、加熱収縮性フィルム１２の片面に金属や金属化合物を蒸着させる方法、加熱収縮性フィルム１２の片面に、あらかじめ作製した機能層１３を積層する方法などが挙げられる。
機能層１３が金属からなる場合には、層表面が空気酸化されて空気酸化膜が形成されることがあるが、本発明では、そのような金属層の表面が空気酸化された層も、金属からなる層とみなす。
この製造方法において、より容易に凹凸パターン１１を形成できることから、機能層１３のヤング率を０．１〜５００ＧＰａにすることが好ましく、１〜１５０ＧＰａにすることがより好ましい。
機能層１３のヤング率を前記範囲にするためには、機能層１３を、金、アルミニウム、銀、炭素、銅、ゲルマニウム、インジウム、マグネシウム、ニオブ、パラジウム、鉛、白金、シリコン、スズ、チタン、バナジウム、亜鉛、ビスマスよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属で構成することが好ましい。または、機能層１３を、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属化合物で構成することが好ましい。
ここで、ヤング率は、ＪＩＳ Ｚ ２２８０−１９９３の「金属材料の高温ヤング率試験方法」にて温度を２３℃に変更して測定した値である。機能層が金属化合物からなる場合も同様である。
機能層１３のヤング率を前記範囲にするためには、機能層１３を、金、アルミニウム、銀、炭素、銅、ゲルマニウム、インジウム、マグネシウム、ニオブ、パラジウム、鉛、白金、シリコン、スズ、チタン、バナジウム、亜鉛、ビスマスよりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属で構成することが好ましい。または、機能層１３を、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化銅、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化鉛、酸化ケイ素、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、硫化亜鉛、ガリウムヒ素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の金属化合物で構成することが好ましい。
ここで、ヤング率は、ＪＩＳ Ｚ ２２８０−１９９３の「金属材料の高温ヤング率試験方法」にて温度を２３℃に変更して測定した値である。機能層が金属化合物からなる場合も同様である。
機能層１３の厚さは０．０１μｍを超え０．２μｍ以下、好ましくは０．０２〜０．１μｍとする。機能層１３の厚さを前記範囲とすることにより、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、機能層１３の厚さが０．０１μｍ未満であると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、０．２μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、機能層１３の厚さは連続的に変化していても構わない。機能層１３の厚さが連続的に変化している場合には、圧縮後に形成される凹凸パターン１１のピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。
また、機能層１３の厚さは連続的に変化していても構わない。機能層１３の厚さが連続的に変化している場合には、圧縮後に形成される凹凸パターン１１のピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。
第２の工程
以上説明した凹凸パターン形成シートの製造方法では、金属または金属化合物からなる機能層１３が、加熱収縮性フィルム１２よりヤング率が桁違いに大きいため、加熱収縮性フィルム１２より硬い機能層１３を熱圧縮した際に、厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、機能層１３は加熱収縮性フィルム１２に積層されているため、加熱収縮性フィルム１２の収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、本発明によれば、機能層１３を折り畳むように変形させて、光拡散体を製造するための工程シートとして性能に優れた凹凸パターン形成シート１０を簡便に、かつ、大面積で製造できる。
しかも、この製造方法によれば、容易に、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、１μｍを超え２０μｍ以下、凹凸パターン１１のアスペクト比を０．１以上にできる。
以上説明した凹凸パターン形成シートの製造方法では、金属または金属化合物からなる機能層１３が、加熱収縮性フィルム１２よりヤング率が桁違いに大きいため、加熱収縮性フィルム１２より硬い機能層１３を熱圧縮した際に、厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、機能層１３は加熱収縮性フィルム１２に積層されているため、加熱収縮性フィルム１２の収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、本発明によれば、機能層１３を折り畳むように変形させて、光拡散体を製造するための工程シートとして性能に優れた凹凸パターン形成シート１０を簡便に、かつ、大面積で製造できる。
しかも、この製造方法によれば、容易に、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、１μｍを超え２０μｍ以下、凹凸パターン１１のアスペクト比を０．１以上にできる。
上述した第１、第２および第３の製造方法により得た凹凸パターン形成シート１０はそのまま光学シートとして用いてもよいし、透明樹脂製またはガラス製の補強用の基板に接着剤を介して貼り合わせて最終的な光学シートとしてもよい。
なお、本発明の凹凸パターン形成シートは、上述した実施形態のものに限定されない。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。また、特に断らない限り、例中の「部」および「％」は各々「質量部」および「質量％」を表わす
（実施例１）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、トルエンに希釈したポリメチルメタクリレート（ポリマーソース株式会社製Ｐ４８３１−ＭＭＡ、ガラス転移温度１００℃）を厚さが２μｍになるようにバーコーターにより塗工し、機能層を形成して積層シートを得た。
次いで、その積層シートを８０℃で５０秒間加熱することにより、加熱前の長さの５０％に熱収縮させ（すなわち、変形率５０％で変形させ）、機能層形成面に、収縮方向に対して直交方向に沿って波状の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートを得た。得られた凹凸パターン形成シートは収縮方向の拡散性が大きな異方性拡散シートであった。
この凹凸パターン形成シートの、光拡散体としての性能を次のように評価した。すなわち、ＧＥＮＥＳＩＡ ＧｏｎｉｏＦａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ（ジェネシア社製）を用いて、拡散角度を測定した。その結果、収縮方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は５０°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散シートの拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していた。
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、トルエンに希釈したポリメチルメタクリレート（ポリマーソース株式会社製Ｐ４８３１−ＭＭＡ、ガラス転移温度１００℃）を厚さが２μｍになるようにバーコーターにより塗工し、機能層を形成して積層シートを得た。
次いで、その積層シートを８０℃で５０秒間加熱することにより、加熱前の長さの５０％に熱収縮させ（すなわち、変形率５０％で変形させ）、機能層形成面に、収縮方向に対して直交方向に沿って波状の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートを得た。得られた凹凸パターン形成シートは収縮方向の拡散性が大きな異方性拡散シートであった。
この凹凸パターン形成シートの、光拡散体としての性能を次のように評価した。すなわち、ＧＥＮＥＳＩＡ ＧｏｎｉｏＦａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ（ジェネシア社製）を用いて、拡散角度を測定した。その結果、収縮方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は５０°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散シートの拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していた。
（実施例２）
実施例１により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光学素子を得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面にエポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の２次工程シートと接していない面に厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、その硬化物を２次工程シートから剥離することにより、異方性拡散シートを得た。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、工程シート原版の収縮方向に対応する方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は３８°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散シートの拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していた。
また、前記異方性拡散シートを拡散性が大きな方向と前記ＬＥＤ光源の配列方向が直交するように配置したところ、ＬＥＤ点光源が縞状模様となった。
さらに、前記異方性拡散シートを拡散性が大きな方向と前記ＬＥＤ点光源の配列方向が４５°をなすように配置したところ、ＬＥＤ点光源が螺旋模様となった。
実施例１により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光学素子を得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面にエポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の２次工程シートと接していない面に厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、その硬化物を２次工程シートから剥離することにより、異方性拡散シートを得た。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、工程シート原版の収縮方向に対応する方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は３８°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散シートの拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していた。
また、前記異方性拡散シートを拡散性が大きな方向と前記ＬＥＤ光源の配列方向が直交するように配置したところ、ＬＥＤ点光源が縞状模様となった。
さらに、前記異方性拡散シートを拡散性が大きな方向と前記ＬＥＤ点光源の配列方向が４５°をなすように配置したところ、ＬＥＤ点光源が螺旋模様となった。
（実施例３）
実施例１により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして異方性拡散体を得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートを射出成形装置のスタンパーとして同装置の金型に設置し、前記射出成形機にポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ）を流しこみ射出成形を行うことにより、厚さ２ｍｍの異方性光拡散体を得た。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、工程シート原版の収縮方向に対応する方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は４２°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散体の拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していた。
実施例１により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして異方性拡散体を得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートを射出成形装置のスタンパーとして同装置の金型に設置し、前記射出成形機にポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ）を流しこみ射出成形を行うことにより、厚さ２ｍｍの異方性光拡散体を得た。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、工程シート原版の収縮方向に対応する方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は４２°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散体の拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していた。
（実施例４）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−１０Ｓ）の片面に、アルミニウムを厚さが０．０５μｍになるように真空蒸着させ、機能層を形成して積層シートを得た。
次いで、その積層シートを１００℃で５０秒間加熱することにより、加熱前の長さの６０％に熱収縮させ（すなわち、変形率４０％に変形させ）、機能層形成面に、収縮方向に対して直交方向に沿って波状の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートを得た。収縮方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は３５°であった。
次いで得られた凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして異方性拡散体を得た。
すなわち、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートを射出成形装置のスタンパーとして同装置の金型に設置し、前記射出成形機にポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ）を流しこみ射出成形を行うことにより、厚さ２ｍｍの異方性光拡散体を得た。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、前記収縮方向に対応する方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は３０°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散体の拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していた。
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−１０Ｓ）の片面に、アルミニウムを厚さが０．０５μｍになるように真空蒸着させ、機能層を形成して積層シートを得た。
次いで、その積層シートを１００℃で５０秒間加熱することにより、加熱前の長さの６０％に熱収縮させ（すなわち、変形率４０％に変形させ）、機能層形成面に、収縮方向に対して直交方向に沿って波状の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートを得た。収縮方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は３５°であった。
次いで得られた凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして異方性拡散体を得た。
すなわち、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートを射出成形装置のスタンパーとして同装置の金型に設置し、前記射出成形機にポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ）を流しこみ射出成形を行うことにより、厚さ２ｍｍの異方性光拡散体を得た。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、前記収縮方向に対応する方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は３０°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散体の拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していた。
（比較例１）
粒径２μｍのポリシロキサン重合体の架橋物からなる微粒拡散子１部が混合されたポリメチルメタクリレート樹脂を成形し厚さ２ｍｍのシートを得た。得られたポリメチルメタクリレートシートは拡散性に方向性のない等方性拡散シートであった。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、拡散角度は面内で同一で２２°であった。
一方の面より、一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、もう一方の面から観察したところ、点光源同士はつながって見えたが、ＬＥＤ点光源は、直線状に配列された方向の直交方向にも広がり線状光源化してはいなかった。また、実施例１〜４と比較して、平均照度の低下が大きかった。
粒径２μｍのポリシロキサン重合体の架橋物からなる微粒拡散子１部が混合されたポリメチルメタクリレート樹脂を成形し厚さ２ｍｍのシートを得た。得られたポリメチルメタクリレートシートは拡散性に方向性のない等方性拡散シートであった。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、拡散角度は面内で同一で２２°であった。
一方の面より、一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、もう一方の面から観察したところ、点光源同士はつながって見えたが、ＬＥＤ点光源は、直線状に配列された方向の直交方向にも広がり線状光源化してはいなかった。また、実施例１〜４と比較して、平均照度の低下が大きかった。
（比較例２）
積層シートを加熱前の長さの４０％に熱収縮させた（すなわち、変形率６０％で変形させた）こと以外は、実施例１と同様の方法を用いて凹凸パターン形成シートを得た。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、収縮方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は６０°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散体の拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していたが、実施例１〜４と比較して、平均照度の低下が大きかった。
積層シートを加熱前の長さの４０％に熱収縮させた（すなわち、変形率６０％で変形させた）こと以外は、実施例１と同様の方法を用いて凹凸パターン形成シートを得た。
実施例１と同様の方法で拡散角度を測定したところ、収縮方向の拡散角度すなわち拡散角度の最大値は６０°であった。
凹凸パターンが形成された面の反対面より、前記異方性拡散体の拡散性が大きな方向に一直線に複数配列されたＬＥＤ光源を照射し、凹凸パターンが形成された面から観察したところ、ＬＥＤ点光源同士がつながり、線状光源化していたが、実施例１〜４と比較して、平均照度の低下が大きかった。
１０ 凹凸パターン形成シート
１１ 凹凸パターン
１１ａ 底部
１２ 加熱収縮性フィルム
１３ 機能層
１４ 積層シート
２０ 点光源
１１０ ウェブ状の工程シート原版
１１１ 凹凸パターン
１１２ 未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂
１２０ コーター
１３０ ロール
１４０ 電離放射線照射装置
１１ 凹凸パターン
１１ａ 底部
１２ 加熱収縮性フィルム
１３ 機能層
１４ 積層シート
２０ 点光源
１１０ ウェブ状の工程シート原版
１１１ 凹凸パターン
１１２ 未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂
１２０ コーター
１３０ ロール
１４０ 電離放射線照射装置
Claims (8)
- 樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた機能層とを備え、該機能層の表面に、表面から見た場合に略平行であるが蛇行している凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの最頻ピッチが１μｍを超え２０μｍ以下で略一定で、最頻ピッチＡに対する凹凸の平均深さＢの比（Ｂ／Ａ）が０．１〜３．０であり、且つ凹凸パターン形成シートの拡散角度の最大値が２５°以上５０°以下であることを特徴とする凹凸パターン形成シート。
- 前記機能層が、樹脂からなる請求項１記載の凹凸パターン形成シート。
- 前記機能層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が、１０℃以上である請求項１〜２のいずれかに記載の凹凸パターン形成シート。
- 請求項１〜３のいずれかに記載の凹凸パターン形成シートを備え、該凹凸パターン形成シートと同等の最頻ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された光拡散体を製造するための型として用いられる光拡散体製造用工程シート原版。
- 請求項４に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、該電離放射線硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
- 請求項４に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
- 請求項４に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
- 少なくとも直線状に配列された複数個のＬＥＤ点光源と、該ＬＥＤ点光源上に配置された請求項５〜請求項７のいずれかに記載の方法により製造された光拡散体とからなる線状、縞状または螺旋状から選ばれる１種であるＬＥＤ光源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011044395A JP2012022292A (ja) | 2010-06-14 | 2011-03-01 | 凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010135493 | 2010-06-14 | ||
| JP2010135493 | 2010-06-14 | ||
| JP2011044395A JP2012022292A (ja) | 2010-06-14 | 2011-03-01 | 凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012022292A true JP2012022292A (ja) | 2012-02-02 |
Family
ID=45776595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011044395A Pending JP2012022292A (ja) | 2010-06-14 | 2011-03-01 | 凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012022292A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013182269A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Oji Holdings Corp | 光拡散体および光源ユニット |
| JP2014026736A (ja) * | 2012-07-24 | 2014-02-06 | Oji Holdings Corp | 照明装置 |
| JP2014099302A (ja) * | 2012-11-14 | 2014-05-29 | Kurabo Ind Ltd | 樹脂製照明カバー |
| JP2018136574A (ja) * | 2014-05-23 | 2018-08-30 | 王子ホールディングス株式会社 | 表面微細凹凸シート、表示装置用照明ユニットおよび表示装置 |
| WO2020195736A1 (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 積層体の製造方法、機能性シートの製造方法および積層体 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6180701A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-24 | 株式会社小糸製作所 | 車輛用灯具 |
| JP2008010227A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Koito Mfg Co Ltd | 車両用灯具 |
| JP2008077899A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Osram-Melco Ltd | Ｌｅｄランプ |
| WO2008102487A1 (ja) * | 2007-02-21 | 2008-08-28 | Oji Paper Co., Ltd. | 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法 |
| JP2008299072A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Nippon Zeon Co Ltd | 光拡散フィルム |
-
2011
- 2011-03-01 JP JP2011044395A patent/JP2012022292A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6180701A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-24 | 株式会社小糸製作所 | 車輛用灯具 |
| JP2008010227A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Koito Mfg Co Ltd | 車両用灯具 |
| JP2008077899A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Osram-Melco Ltd | Ｌｅｄランプ |
| WO2008102487A1 (ja) * | 2007-02-21 | 2008-08-28 | Oji Paper Co., Ltd. | 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法 |
| JP2008299072A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Nippon Zeon Co Ltd | 光拡散フィルム |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013182269A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Oji Holdings Corp | 光拡散体および光源ユニット |
| JP2014026736A (ja) * | 2012-07-24 | 2014-02-06 | Oji Holdings Corp | 照明装置 |
| JP2014099302A (ja) * | 2012-11-14 | 2014-05-29 | Kurabo Ind Ltd | 樹脂製照明カバー |
| JP2018136574A (ja) * | 2014-05-23 | 2018-08-30 | 王子ホールディングス株式会社 | 表面微細凹凸シート、表示装置用照明ユニットおよび表示装置 |
| WO2020195736A1 (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 積層体の製造方法、機能性シートの製造方法および積層体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI448736B (zh) | 凹凸圖案形成片及其製造方法 | |
| JP4683011B2 (ja) | 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、光拡散体、光拡散体製造用工程シート原版ならびに光拡散体の製造方法 | |
| JP5391529B2 (ja) | 凹凸パターン形成シートの製造方法 | |
| JP5391539B2 (ja) | 光学シートとその製造方法 | |
| JP2012022292A (ja) | 凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 | |
| JP5637074B2 (ja) | 凹凸パターン形成シートの製造方法、転写成形用スタンパの製造方法ならびに光拡散体の製造方法 | |
| JP2008304651A (ja) | 凹凸パターン形成シートの製造方法および凹凸パターン形成シート | |
| JP6274102B2 (ja) | 光拡散性シート | |
| JP5682841B2 (ja) | 光拡散体製造用工程シート原版および光拡散体の製造方法 | |
| JP5522287B2 (ja) | 光学シートおよびその工程シート原版 | |
| JP5135539B2 (ja) | 拡散導光体およびバックライトユニット | |
| JP5168256B2 (ja) | 凹凸パターン形成シート、光拡散体および光拡散体製造用工程シート原版およびそれらの製造方法 | |
| JP6536312B2 (ja) | 表面微細凹凸体 | |
| JP5277842B2 (ja) | 光拡散シート | |
| JP5636907B2 (ja) | 凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、凹凸パターン形成シート複製用工程シート原版、光学素子、２次工程用成形物、複製シート | |
| JP5858113B2 (ja) | 凹凸パターン形成シート、光拡散体、光拡散体製造用スタンパの原版、光拡散体製造用スタンパ | |
| JP6255676B2 (ja) | 光拡散シートの製造方法および光拡散体の製造方法 | |
| JP5764963B2 (ja) | 光拡散体用凹凸パターン形成ロールモールド及び光拡散体の製造方法 | |
| JP5135555B2 (ja) | 凹凸パターン形成シート、光学シートおよび輝度調整シートおよびそれらの製造方法 | |
| JP5884790B2 (ja) | 凹凸パターン形成シートの製造方法、光拡散体製造用工程シート原版ならびに光拡散体の製造方法 | |
| JP2018120145A (ja) | 採光シート及び採光装置 | |
| JP2016066075A (ja) | 表面微細凹凸体とその照度曲線を求める方法 | |
| JP2016066050A (ja) | 表面微細凹凸体および表面微細凹凸体の製造方法 | |
| JP2010097108A (ja) | 光拡散シートおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131202 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140618 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140624 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140822 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140924 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150203 |