JP4985161B2 - 光学素子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
液晶ディスプレイなどの表示装置では、表示画面の大面積化と、装置の薄型化の検討が進められている。これに伴い、大面積で多機能の光学フィルムの開発が望まれるようになってきている。
しかしながら、異なる光学機能間での干渉を避けて複数の機能を完全に兼備させるためには複雑な設計を要する。またより複雑な光学機能を兼ね合わせた、広い面積の光学部材は、製造方法が煩雑な場合が多く、製造コストがかさみ、汎用性のある光学部材として使うことができなかった。
(1) 光学機能層と基層とを含む積層体からなり、 光学機能層と基層との界面が褶曲しており、 該光学機能層の表面に褶曲に対応する起伏を有する光学素子。
(2) 光学機能層が、光反射防止層、回折格子層、偏光分離層、および位相差層からなる群から選ばれる少なくとも一つの層である、前記の光学素子。
(3) 光学機能層の表面の起伏は、頂点間の平均距離が50nm〜50μmである、前記の光学素子。
2,12:光学機能層(光学機能膜)
本発明の光学素子は、光学機能層と基層とを含む積層体からなり、光学機能層と基層との界面が褶曲しており、該光学機能層の表面に褶曲に対応する起伏を有するものである。
基層は、通常、樹脂や、ゴム若しくはエラストマーで形成されている。基層の平均厚さは、通常5μm〜1mm、好ましくは20〜200μmである。
波形の頂点間の距離の変動係数は、80%以下となっていることが好ましい。なお、この変動係数は、頂点間の距離の平均値に対する該距離の標準偏差の割合(=標準偏差/平均値×100)である。波形の稜線が一つの方向に略平行に配置されたものでは、頂点間の距離の変動係数は40%以下が好ましく、30%以下がさらに好ましい。頂点間の距離の変動係数が小さいことは、波形の周期性が高いことを意味する。
また、起伏面に、褶曲に対応するマクロ凹凸形状よりも短い頂点間の平均距離を有するミクロ突起を設けることによって、各種光学機能を付与できる、ミクロ突起のパターンとしては、ホログラムパターン、格子パターンなどが挙げられる。
光学機能層の厚さは、以下のようにして計測できる。フィルムを周期性が強い方向で垂直に切断し超薄切片を得、透過電子顕微鏡にて超薄切片を写真撮影する。撮影した画像から光学機能層の厚さを、凸部頂点および凹部底点のそれぞれ少なくとも15点以上で計測し、それら計測値から、平均値、標準偏差、変動係数を算出する。
材料特性を利用した光学機能層としては、例えば、(1)ディスコティック液晶化合物やネマチック液晶化合物などの光学異方性材料などを塗布し、所望の配向(例えば、光学異方性化合物が螺旋状に配向したコレステリック配向、光学異方性化合物の配向方向が膜面に対して一定角度を持って配向した均一チルト配向や膜面に対する角度が厚さ方向で変化するハイブリッドチルト配向)にし、その配向を固定させて得られる膜;(2)高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜とを交互に積層してなる膜;(3)微粒子などの光拡散材をマトリックスに分散させてなる膜;(4)面内等方性薄膜と面内異方性薄膜とを多数積層させた膜;(5)蛍光性材料からなる膜;などが挙げられる。(1)の膜によって、円偏光反射又は円偏光分離機能(輝度向上機能)、位相差機能(視野角拡大、色相調整などの光学補償機能)などを付与できる。(2)の膜によって、光の反射防止機能などを付与できる。(3)の膜によって光拡散機能を付与できる。(4)の膜によって直線偏光反射または直線偏光分離機能(輝度向上機能)などを付与できる。(5)の膜によって、発光機能などを付与できる。
本発明の光学素子の製造方法は、フィルム基材の少なくとも一方の表面に光学機能膜を形成して積層フィルムを得る工程、及び該積層フィルムを面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて光学機能膜を褶曲させる工程を含むものである。
本発明の製造方法に用いるフィルム基材は、光学機能膜を積層させた後に、面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させることができるものであれば特に限定されない。例えば、フィルム基材自身が加熱などの手段によって収縮するものであってもよいし、一軸延伸させたときに延伸方向に直交する方向が収縮するものであってもよい。このフィルム基材と後述する光学機能膜の収縮差によって、光学機能膜と基材との界面が褶曲して、光学機能膜に皺がより起伏が形成される。
樹脂としては、スチレン系樹脂、アクリル樹脂、メタクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂(例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなど)、ポリフェニレンエーテル系樹脂(例えば、2,6−キシレノールの重合体など)、セルロース誘導体(例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類など)、シリコーン樹脂(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなど)などが挙げられる。
フィルム基材の材料は、これらのうち、製造が容易な点から熱可塑性樹脂が好ましい。
延伸処理する方法としては、ロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法;テンター延伸機を用いて横方向に一軸延伸する方法等の一軸延伸法;固定するクリップの間隔を開いての縦方向の延伸と同時に、ガイドレールの広がり角度により横方向に延伸する同時二軸延伸法や、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸した後、その両端部をクリップ把持してテンター延伸機を用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法;横又は縦方向に左右異なる速度の送り力若しくは引張り力又は引取り力を付加できるようにしたテンター延伸機を用いてフィルムの幅方向に対して任意の角度θの方向に連続的に斜め延伸する方法;などが挙げられる。
延伸に用いる装置として、例えば、縦一軸延伸機、テンター延伸機、バブル延伸機、ローラー延伸機等が挙げられる。
延伸倍率は、使用するフィルムの引張り特性に応じて、起伏中の凸部が所望するアスペクト比になるように適宜選択すればよい。なお、ここで言うアスペクト比とは起伏中の凸部の垂直断面形状の高さと幅との比(=高さ/幅)である。なお、凸部の垂直断面の形状が長方形または正方形以外のときには、アスペクト比を求めるときの凸部の幅は凸部の高さの1/2の高さにおける凸部の幅である。
次に、フィルム基材の少なくとも一方の表面に光学機能膜を形成する。光学機能膜の収縮率は、フィルム基材を収縮させる条件下において、フィルム基材の収縮率の20%以下であることが好ましく、10%以下であることがさらに好ましい。光学機能膜の収縮率が大きすぎると褶曲が生じず、表面に起伏を形成しない場合がある。フィルム基材上に形成された光学機能膜は、本発明の光学素子を構成する光学機能層になる。
薄膜を構成する無機物質としては、金属;金属酸化物や金属窒化物などの金属化合物;非金属;非金属酸化物などの非金属化合物などが挙げられ、具体的には、アルミニウム、珪素、マグネシウム、パラジウム、白金、亜鉛、錫、ニッケル、銀、銅、金、アンチモン、イットリウム、インジウム、ステンレス鋼、クロム、チタン、タンタル、ジルコニウム、ニオブ、ランタン、セリウム、等の金属若しくは非金属;またはこれらの酸化物や窒化物;又はそれらの混合物が挙げられる。本発明の製造方法で得られるフィルムを光学素子として使用する場合には、可視光を透過する無機物質を選択することが好ましく、その具体的な例としてITO、In2O3、SnO2、SiO2、CuI、TiO2、ZrO2等が挙げられる。これらのうち、薄膜の柔軟性という観点からSiO2が好ましい。
本発明の製造方法においては、フィルム基材表面に光学機能膜を形成する前に、光学機能膜の褶曲を引き起こさせるための構造(褶曲誘起構造)をフィルム基材の表面に形成すること、又はフィルム基材表面に光学機能膜を形成した後で且つ該基材を収縮させる前に、該光学機能膜の褶曲を引き起こさせるための構造(褶曲誘起構造)を光学機能膜に形成することを含むことが、凹凸形状の頂点間の距離の均一性を向上させたい場合には、好ましい。
褶曲誘起構造は一定間隔の位置に形成されることが好ましい。褶曲誘起構造の間隔は、所望する起伏の頂点間の距離とは直接に関係無いので、所望の起伏頂点間の距離よりも狭くても、広くても良いが、起伏の頂点間の所望距離の0.05倍〜100倍の褶曲誘起構造の間隔にすることが好ましい。
式〔2):ΔM=(M0−M1)/M0×100 (M0:主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、M1:主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ)
式〔3〕:ΔL>0
式〔4〕:−(ΔL×0.3)≦ΔM≦ΔL
式〔5〕:−(ΔL×0.2)≦ΔM≦(ΔL×0.2)
脂環式オレフィン樹脂(日本ゼオン社製、ZEONOR1420、ガラス転移温度136℃)のペレットを、窒素を流通させた熱風乾燥機を用いて、100℃で4時間乾燥した。次いでこのペレットを、50mmφのスクリューを備えたTダイ式フィルム溶融押出成形機を使用して、溶融樹脂温度260℃で押出し成形することにより、幅650mm、厚さ188μmのフィルムを製造し、両端25mmずつをトリミングして幅600mmの脂環式オレフィン樹脂からなる原反フィルムを得た。
幅600mmの原反フィルムの両端をクリップに把持させて、テンター延伸機内に導入し、温度150℃でフィルム幅方向に1.2倍、フィルム流れ方向に1倍の延伸倍率になるように横一軸延伸し、延伸機から出た延伸フィルムをクリップから外し、両端を連続的にトリミングして幅700mmのフィルム基材1を得た。
幅600mmの原反フィルムの両端をクリップに把持させて、テンター延伸機内に導入し、温度150℃でフィルム幅方向に2倍、フィルム流れ方向に1倍の延伸倍率になるように横一軸延伸し、延伸機から出た延伸フィルムをクリップから外し、両端を連続的にトリミングして幅1000mmのフィルム基材2を得た。
幅600mmの原反フィルムを、縦一軸延伸装置を用い、温度145℃で縦方向に1.3倍に延伸した。この延伸フィルムの両端をクリップに把持させて、テンター延伸機内に導入し、温度150℃でフィルム幅方向に1.6倍、フィルム流れ方向に1倍の延伸倍率になるように横一軸延伸し、延伸機から出た延伸フィルムをクリップから外し、両端を連続的にトリミングしてフィルム基材3を得た。
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(NKエステル AD−TMP、新中村化学社製) 90重量部、光重合開始剤(イルガキュア−907、チバガイギー社製) 10重量部、および酢酸ブチル 900重量部をホモジナイザーで混合し均一な溶液を得、これを1μmのフィルタで濾過して、紫外線硬化性樹脂溶液を調製した。
コンデンサ、温度計、攪拌機および滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、フッ素系溶媒AK−225(旭硝子社製、1,1,1,2,2−ペンタフルオロ−3,3−ジクロロプロパン:1,1,2,2,3−ペンタフルオロ−1,3−ジクロロプロパン=1:1.35(モル比)の混合溶媒) 50重量部、および化1で表される光学活性を有する反応性カイラル剤 5.22重量部を仕込み、窒素気流中で45℃に温度を調整した。
次いで、濃度10重量%の過酸化ジペルフルオロ−2−メチル−3−オキサヘキノイルのAK225溶液 6.58重量部を窒素気流中で5分間かけてフラスコに滴下した。滴下終了後、さらに5時間、45℃で、窒素気流中で反応させた。反応生成物をロータリーエバポレーターを用いて濃縮し、ヘキサン中に濃縮液を滴下することにより、樹脂を沈殿させた。
次いで、沈殿した樹脂をろ過し、ろ紙に残った樹脂を乾燥させることにより光学活性(旋光性)を有する末端フッ化アルキル基含有重合体(化合物A) 3.5重量部(収率60%)を得た。化合物Aは、数平均分子量が4,000(重量平均分子量/数平均分子量=1.77)、フッ素含有量が5.89重量%であった。分子量はテトラヒドロフランを展開溶媒とするゲルパーミエーションクロマトグラフで測定した。
負の固有複屈折値を有する材料としてスチレン−無水マレイン酸共重合体(ダイラークD332,ノバケミカル社製)、透明樹脂材料として脂環式オレフィンポリマー(ZEONOR1020、日本ゼオン社製)を用意した。
二台の押出し機の出口側に、溶融物がダイ中で一体に組み合わされるような押出ダイを備えた多層押出機を用いて、スチレン−無水マレイン酸共重合体および脂環式オレフィンポリマーそれぞれを溶融させフィルターを通してダイに供給して、脂環式オレフィンポリマー層−スチレン−無水マレイン酸共重合体層−脂環式オレフィンポリマー層の構成を成した積層フィルムを得た。積層フィルムは、走査式厚さ計による測定で、平均厚さが300μm、厚さむらが平均厚さの2.5%であった。
正の固有複屈折値を有する材料として脂環式オレフィンポリマー(ZEONOR1020、日本ゼオン社製)および負の固有屈折値を有する材料としてスチレン−無水マレイン酸共重合体(ダイラークD332,ノバケミカル社製)を用いて、前記位相差素子Eと同様の方法によって3層構造の積層フィルムを得た。該積層フィルムは、走査式厚さ計による測定で、平均厚さが120μm、厚さむらが平均厚さの2.2%であった。
該積層フィルムを縦一軸延伸装置を用いて125℃で縦方向に1.7倍延伸して、広帯域1/4波長板を得た。広帯域1/4波長板は、測定波長450nm、550nm、および650nmにおける面内レタデーションReと、測定波長との比が、それぞれ0.235、0.250、および0.232であった。
フィルム基材1の表面をコロナ放電により改質した。製造例2で得た紫外線硬化性樹脂溶液をグラビアコーターを用いて、フィルム基材1の改質面に乾燥膜厚0.4μmになるように塗布し、80℃で5分間乾燥させた。超高圧水銀ランプで紫外線を積算光量400mJ/cm2で照射し紫外線硬化性樹脂を硬化させ、得られたフィルムをロール状に巻き取った。
前記フィルムから50mm×50mmのフィルム片を切り出し、該フィルム片の硬化樹脂膜側表面にアルゴンガス存在下で出力400Wでスパッタリングして厚さ400nmのSiO2膜を形成した。SiO2膜表面に感光性樹脂をスピンコーターで塗布し、アルゴンレーザー(波長351nm)を用いたレーザー干渉露光装置で、三方向から入射角度40度で露光した。感光性樹脂膜を溶剤で現像し、縦横に配列した微細な形状を有するマスク層を形成した。
分光光度計(日本分光社製、紫外可視近赤外分光光度計V−570)を用いて、入射角度5度における反射率を測定した。550nmの光に対して0.9%の反射率であった。
温度140℃の温風を循環させた乾燥機に前記フィルムを入れ、フィルムを収縮させて、光学フィルム1を得た。
コリメート光を光学フィルム1に入射させ、その透過出射光の角度依存性を測定した。結果を図6に示した。光学フィルム1は周期性のある方向(図6中の実線)に回折及び散乱を示し、それと直交する方向(図6中の破線)には全く散乱しない異方散乱性を示すフィルムであった。
8mm×8mm×60mmのステンレス鋼製シャンクに、ロウ付けされた0.2mm×1mm×1mmの直方体単結晶ダイヤモンドの、0.2mm×1mmの面全面に、集束イオンビーム加工装置SMI3050(セイコーインスツルメンツ社製)を用いてアルゴンイオンビームで集束イオンビーム加工を行い、長さ1mmの辺に平行な幅1μm、高さ500nmの断面矩形の突起をピッチ2μmで形成した切削工具を作製した。
なお。集束イオンビーム加工による切削工具の作製、ニッケル−リン無電解めっき面の切削加工は、温度20.0±0.2℃、振動制御システム(昭和サイエンス社製)により0.5Hz以上の振動変位が10μm以下に管理された恒温低振動室内で行った。
温度140℃の温風を循環させた乾燥機に前記フィルムを入れ、フィルムを収縮させて、光学フィルム2を得た。
フィルム基材3を100mm×50mmの大きさに切り出し、フィルム表面をプラズマ放電処理した。ポリビニルアルコール 10重量部および水 371重量部からなる配向膜用塗布液をフィルム基材3の片面に塗布、乾燥し、厚さ1μmの配向膜を形成した。フィルム基材の長手方向に対して平行な方向に配向膜表面をラビング処理した。
配向膜の上に、液晶化合物(化2) 8.2重量部、光重合開始剤(化3) 0.3重量部、 製造例3で得られた化合物A 1.9重量部、およびメチルエチルケトン 24.0重量部からなる液晶塗布液をバーコーターを用いて塗布し、室温で10秒間乾燥し、100℃のオーブンで2分間加熱して配向を熟成させ、次いで紫外線を30秒間照射して、厚さ5.0μmのコレステリック液晶からなる円偏光分離層を備えたフィルムを作製した。
該円偏光分離層の断面をSEM観察したところ、層法線方向に螺旋軸を有し、厚さ方向にコレステリックピッチが連続的に変化した構造を有していた。
光学フィルム3は、フィルム基材と円偏光分離層との界面が褶曲しており、この褶曲に対応するように積層された円偏光分離層の表面に起伏が形成されている。円偏光分離層の厚さの変動係数は4%であった。円偏光分離層の表面に形成された起伏は、図3に示すように、不規則で複雑なフラクタル様の形状をなしており、頂点間の距離の平均値(Xp)が5.4μm、標準偏差(σp)が4.48μm、σp/Xpが0.83であった。また、円偏光分離層は収縮前の螺旋構造が収縮後もそのままの螺旋構造で残っていた。
コリメート光を光学フィルム3に入射し、出射光の角度依存性を測定した。その結果を図9に示した。光学フィルム3は周期性のある方向(図9中の実線)に強い散乱を示し、それと直交する方向(図9中の破線)には弱い散乱を示す異方散乱性フィルムであった。
Claims (5)
- 光学機能層と基層とを含む積層体からなり、
光学機能層と基層との界面が褶曲しており、該褶曲の波形の頂点が尾根状に連なり且つ該尾根の途中に分岐を有し、
該光学機能層の表面に褶曲に対応する起伏を有する光学素子。 - 光学機能層が、光反射防止層、回折格子層、偏光分離層、および位相差層からなる群から選ばれる少なくとも一つの層である、請求項1に記載の光学素子。
- 光学機能層の表面の起伏は、頂点間の平均距離が50nm〜50μmである、請求項1に記載の光学素子。
- 光学機能層が、
光学異方性材料を塗布し、配向し、その配向を固定させて得られる膜、
面内等方性薄膜と面内異方性薄膜とを多数積層させた膜、
蛍光性材料からなる膜、 又は
表面ミクロ形状を利用したもの
である、請求項1に記載の光学素子。 - フィルム基材の少なくとも一方の表面に、収縮率が該フィルム基材の収縮率の20%以下である光学機能膜を形成して積層フィルムを得る工程、および該積層フィルムを面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて光学機能膜を褶曲させる工程を含む光学素子の製造方法。
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