KR20070105901A - 반사방지막 제조방법 및 장치 - Google Patents

반사방지막 제조방법 및 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20070105901A
KR20070105901A KR1020070040777A KR20070040777A KR20070105901A KR 20070105901 A KR20070105901 A KR 20070105901A KR 1020070040777 A KR1020070040777 A KR 1020070040777A KR 20070040777 A KR20070040777 A KR 20070040777A KR 20070105901 A KR20070105901 A KR 20070105901A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
refractive index
temperature
film
low refractive
Prior art date
Application number
KR1020070040777A
Other languages
English (en)
Inventor
카즈히로 시모다
히로카즈 니시무라
마코토 사토
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20070105901A publication Critical patent/KR20070105901A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

반사방지막은 투명지지체, 상기 지지체 상에 적층된 하나 이상의 광학기능층, 및 상기 광학기능층상에 적층되고 광학기능층보다 굴절률이 낮은 저굴절률층을 포함한다. 이를 제조하는 반사방지막 제조장치는 광학기능층의 표면을 저굴절률층형성용 액으로 도포하여 도포층을 형성하는 코터를 포함한다. 드라이어는 도포층의 건조를 촉진한다. 히터는 드라이어로부터의 도포층을 제1온도에서 경화한 다음, 제1온도 보다 높은 제2온도에서 상기 도포층을 경화하여 저굴절률층을 형성한다. 바람직하게는 제1온도와 제2온도의 차이는 1~50℃이다. 또한 자외선을 히터로 경화한 후에 저굴절률층에 조사한다.

Description

반사방지막 제조방법 및 장치 {ANTI-REFLECTION FILM PRODUCING METHOD AND APPARATUS}
도 1은 광학막 제조장치의 개략도.
도 2a는 웹 또는 베이스막의 단면도.
도 2b는 반사방지막의 단면도.
도 3은 다른 바람직한 반사방지막의 단면도.
본 발명은 반사방지막 제조방법 및 장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 반사방지막 제조방법과 하드코트층을 갖는 고품질의 반사방지막을 용이하게 제조할 수 있는 장치에 관한 것이다.
광학소자로서 광학막은 LCD(액정 디스플레이, liquid crystal display), PDP(플라즈마 디스플레이 패널, plasma display panel), ELD(전기발광 디스플레이 패널, electroluminescence display panel) 및 CRT(음극선관, cathode ray tube) 등 이미지 디스플레이 패널의 주요 구성요소로서 사용되고 있다. 공지 기술에 따른 광학막은 투명지지체, 광학기능층, 및 물리적 강도를 갖는 보호층을 포함한다. 보 호층은 광학막의 고내찰상성을 유지한다. 그 층들의 재료 및 병합은 반사방지막, 방현막, 광학보상막, 피막보호막 등 각종 형태의 광학막을 형성하도록 선택적으로 결정된다.
반사방지막은 디스플레이 패널의 인지에 적합한 선명한 시인성(視認性)을 상승시키기 위해 사용된다. 디스플레이 패널은 사람의 눈으로 직접 관찰되기 때문에, 색결함 및 색 얼룩 등 반사방지막의 외관결함이 억제되어야 한다. 디스플레이 패널 분야에서 스크린의 대형화, 고휘도화 및 고정밀화 추세에 따라 반사방지막에 요구되는 품질은 점점 더 높아지고 있다.
반사방지막의 중요 특성은 이미지 디스플레이 사용을 고려하여 내찰상성, 내마모성, 잔류 지문, 수적의 자국 등에 대한 방진성을 포함한다. 이들 중 내찰상성은, 디스플레이 표면이 긁힌 항구적 결함은 이미지 디스플레이 패널의 화상품질을 저하시키기 때문에 중요하다. 이러한 면에서 일본특허공개 평9-145903호는 고내찰상성을 얻기 위해서 광학적 경화 수지 조성물에서 형성되고 미립자를 함유하는 저굴절률층이 외층으로서 배치된 반사방지막의 예를 개시하고 있다.
일반적으로, 반사방지막은 소정 용액을 지지체에 도포하고, 그 도포층을 건조하여 형성된다. 우수한 품질의 도포층 외에, 제조 시간 등의 단축에 의한 고생산성이 중요하다. 그 결과, 도포액 도포를 촉진하고 건조시간을 단축시킬 목적으로 도포액은 기능층용 화합물과 유기 용제의 혼합물로 제조된다. 그러나, 수송의 충격 또는 진동 혹은 바람직하지 않은 공기유입에 의해 도포 후에 도포층은 즉시 변동하거나 불균일하게 건조되며, 도포층의 불균일한 두께는 외관 결함을 야기한다.
국제공개공보 2005-063484호(일본특허공개 2005-257786호에 상응)는 고내찰상성 및 고방진성을 부여하고 또한 고생산성의 반사방지막에 대한 제안을 개시하고 있다. 상기 특허의 반사방지막 도포층은 첨가제 및 경화성 수지의 미립자, 불소 화합물, 계면활성을 갖는 실리콘 화합물 등을 포함한다. 전리방사선을 도포층에 조사하여 저굴절률층을 형성한다.
또한, 반사방지막의 다층구조는 폭넓게 사용되며, 지지체, 하드코트층 및 저굴절률층을 포함한다. 층간 계면에 대한 고밀착성은 광산란을 방지함으로써 반사방지효과를 위해 요구된다. 일본특허공개 2003-311911호는 층간 밀착성이 높은 반사방지막의 제조를 개시하고 있다. 지지층 다음 층에 있어서, 반응성 관능기를 갖는 경화성 수지가 사용된다. 또한 경화조건이 조정된다.
일본특허공개 평9-145903호와 2003-311911호에 따라서 고내찰상성 및 층간 계면상 고밀착성을 갖는 반사방지막을 얻을 수 있다. 그러나, 방진성 및 생산성은 높아질 수 없다. 상기 3건의 특허 기술은 모두 광학기능층상의 보호층 표면에 분말 같은 백색 물질이 발생하여 외관의 품질을 저하시키는 문제가 있다. 선행기술에 따르면 고내찰상성을 갖고 외관의 결함이 감소된, 고생산성의 반사방지막을 생산하는 것이 불가능하다.
상기 문제점을 고려하여, 본 발명의 목적은 반사방지막 제조방법과 하드코트층을 갖는 고품질의 반사방지막을 용이하게 제조할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 상기한 목적과 다른 목적 및 이점을 달성하기 위해서 반사방지막을 제조하는 반사방지막 제조방법을 제공하고, 상기 반사방지막은 투명지지체, 상기 지지체 상에 적층된 하나 이상의 광학기능층, 및 상기 광학기능층 상에 적층되고 광학기능층보다 저굴절률을 갖는 저굴절률층을 포함한다. 반사방지막 제조방법은 광학기능층 표면을 저굴절률층형성용 액으로 도포하여 도포층을 형성하는 도포공정을 포함한다. 반사방지막 제조방법은 도포층의 건조를 촉진하는 건조공정을 포함한다. 경화공정은 건조 촉진 후 도포층을 열경화하여 저굴절률층을 형성한다. 그 경화공정은 제1경화온도에서 도포층을 가열하는 제1가열공정을 포함한다. 제2가열공정에서, 상기 도포층은 제1온도보다 높은 제2경화온도에서 가열한다.
또한, 경화공정 후에 저굴절률층에 전리방사선의 조사공정이 있다.
제1온도와 제2온도의 차이는 1℃ 이상 50℃ 이하이다.
건조공정에 있어서, 건조기체를 도포층에 공급한다. 제1 및 제2가열공정에 있어서, 각각 제1 및 제2온도에서 조절된 가열기체를 도포층에 공급한다.
광학기능층은 계면활성을 갖는 불소 화합물과 실리콘 화합물 중 적어도 하나를 함유한다.
광학기능층은 방현기능층이다.
광학기능층은 굴절률이 1.58 이상 2.0 이하이다.
저굴절률층은 굴절률이 1.31 이상 1.45 이하이다.
또한, 반사방지막은 광학기능층과 저굴절률층 중의 적어도 하나에 함유된 투 광성 미립자를 더 포함한다.
제1온도는 70℃ 이상 110℃ 이하이다.
제2온도는 100℃ 이상 160℃ 이하이다.
적어도 하나의 광학기능층은 적어도 제1층 및 제2층이 지지체로부터 순차적으로 배치된다.
반사방지막은 제2층에 함유된 투광성 미립자를 더 함유한다.
제1층과 제2층은 적어도 제1층 내지 제3층이다.
제1 및 제2가열공정 각각에 있어서, 수송용 U자형 벤드를 갖는 다수의 수송롤러(transport rollers)는 반사방지막의 웹(web)을 가이드하는데 사용된다.
또한, 반사방지막 제조용 반사방지막 제조장치를 제공하고, 그 반사방지막은 투명지지체, 그 지지체 상에 적층되는 하나 이상의 광학기능층, 및 상기 광학기능층상에 적층되고 광학기능층보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층을 포함한다. 반사방지막 제조장치는 광학기능층표면을 저굴절률층 형성용 액으로 도포하여 도포층을 형성하는 코터(coater)를 포함한다. 드라이어는 도포층의 건조를 촉진한다. 히터는 드라이어로부터의 도포층을 제1온도에서 경화한 다음, 제1온도보다 높은 제2온도에서 도포층을 경화하여 저굴절률층을 형성한다.
드라이어는 수송된 반사방지막의 웹 통과 및 건조기체를 도포층에 공급하기 위한 건조챔버를 포함한다. 히터는 수송된 웹의 통과, 및 각각 제1 및 제2온도에서 조절된 가열기체를 도포층에 공급하기 위한 제1 및 제2가열챔버를 포함한다.
또한, 수송용 U자형 벤드를 갖는 다수의 웹 가이드용 수송롤러는 제1 및 제2 가열챔버 각각에 포함된다.
그러므로, 두 개의 경화온도를 사용하기 때문에 하드코트층을 갖는 고품질의 반사방지막을 용이하게 제조할 수 있다.
본 발명의 상기 목적과 이점은 첨부된 도면과 연관하여 하기 상세한 설명을 볼 때 더욱 명확해 질 것이다.
본 발명에 따른 반사방지막의 제조를 설명한다. 본 발명은 이하 기술된 실시예에 한정되지 않는다. 도 1에는 광학막 제조시스템(10)을 도시하였다.
광학막 제조시스템(10)은 폴리머막 수송기(13), 코터(14), 드라이어(16), 히터(18), 자외선 경화램프(21), 권취기(23)를 포함한다. 폴리머막 수송기(13)는 베이스막(11)으로서 폴리머막의 웹을 공급한다. 코터(14)는 웹(11)에 도포액을 공급하여 도포한다. 드라이어(16)는 다수의 패스롤러(pass rollers)(15)를 포함하고, 도포층을 건조한다. 히터(18)는 열경화를 위해 도포층에 열을 가하고 제1가열챔버(18a)와 제2 가열챔버(18b)를 포함하며, 격벽(17)은 히터(18)의 내부를 분할한다. 자외선 경화램프(21)는 반사방지막(20)을 얻기 위한 최종 경화용으로 자외선을 도포층에 조사한다. 권취기(23)는 반사방지막(20)을 감는다. 또한, 광학막 제조시스템(10)은 다수의 수송롤러(25)와 먼지제거장치(26)를 포함한다.
코터(14)는 웹 또는 베이스막(11)용 경로하에 마이크로 그라비아롤(14a)과 용액조(도시하지 않음)를 포함한다. 마이크로 그라비아롤(14a)은 그라비아 패턴을 갖는다. 마이크로 그라비아롤(14a)은 웹(11)의 일면에 도포액을 도포하는데 사용된다. 용액조는 마이크로 그라비아롤(14a) 아래에 설비되어 있고 마이크로 그라비아 롤(14a)의 표면이 용액과 접촉하도록 배치된다. 닥터블레이드(doctor blade)(도시하지 않음)는 마이크로 그라비아롤(14a) 근처에 설비되어, 마이크로 그라비아롤(14a)로부터의 잉여 용액을 제거한다. 마이크로 그라비아롤(14a)에 공급되는 용액의 양은 조절될 수 있다.
드라이어(16)는 수송용 건조챔버(16b)와 건조기체소스(dry gas source)를 갖는 배기챔버(16c)를 포함한다. 건조챔버(16b)와 배기챔버(16c) 간에 애퍼쳐판(aperture panel)(16a)이 설비되어 유량을 조절한다. 애퍼쳐판(16a)은 금속으로 형성되고, 다수의 개구(openings)를 포함하며, 기체가 흐르는 상태에서 건조챔버(16b)와 배기챔버(16c) 간의 칸막이이다. 애퍼쳐판(16a)의 바람직한 예는 금속 매쉬, 펀칭 금속(punching metal) 등이다. 애퍼쳐판(16a)의 개구율은 50% 이하이고, 바람직하게는 20% 이상 40% 이하이다. 실시예에서, 개구율이 30%이고 규격이 300매쉬인 금속 매쉬가 사용된다. 애퍼쳐판(16a)은 웹 또는 베이스막(11)의 표면으로부터 10㎜ 간격으로 설비하는 것이 바람직하다.
다수의 패스롤러(15)는 웹 또는 베이스막(11)의 지지 및 수송을 위한 건조챔버(16b)에 설비된다. 패스롤러(15)는 탈착이 가능하고, 용이하게 교환할 수 있는 것이 바람직하다. 웹(11)상에 도포된 액의 잉여 용제양은 20% 이상 45% 이하이고, 웹(11)은 패스롤러(15)의 제거에 의한 비접촉식으로 수송된다. 이것은 웹(11)이 수송되는 동안 평면성을 저하시키지 않는데 효과적이다.
배기도관과 급기도관(도시하지 않음)은 배기챔버(16c)와 연결되어 있다. 배기도관은 배기챔버(16c)에서 공기를 배출시킨다. 건조기체소스로서, 급기도관은 웹 또는 베이스막(11)의 폭방향으로 배기도관의 반대편에 위치한다. 배기챔버(16c)의 공기는 배기도관과 급기도관을 사용하여 순환된다. 건조기체소스는 가열건조공기를 급기도관을 통해 배기챔버(16c)에 도입하여 내부 온도를 적절하게 조정한다. 따라서, 건조챔버(16b)에서 수송된 웹(11)의 도포층의 건조가 촉진될 수 있다. 건조용 건조기체는 공기를 제외한 어떠한 기체이어도 좋고, 목적에 따라 적절하게 선택할 수 있다.
기체 소스로서 기체플로우덕트(30a, 30b)는 온도 제어를 위해서 히터(18)내 격벽(17)에 의해 분할된 가열챔버(18a, 18b) 내부와 연결되어 있다. 격벽(17)의 재료와 형태는 한정되지 않는다. 격벽(17)용으로 바람직한 재료는 열전도성이 낮다. 온도제어를 위해서, 조절가능한 히터가 조절된 수준에서 내부온도 세팅에 사용될 수 있다. 광학막 제조시스템(10)에서, 수송롤러(25)는 웹 또는 베이스막(11)의 지지 및 수송을 위해서 배치된다. 수송롤러(25)의 위치와 수는 한정되지 않고, 목적에 따라서 결정할 수 있다.
광학막 제조시스템(10)에서 광학막의 제조는 이하에 설명한다.
우선, 웹 또는 베이스막(11)은 폴리머막수송기(13)로부터 운반된다. 도 2a에서 웹(11)은 투명지지체(41) 및 광학기능층(43)을 포함한다. 광학기능층(43)은 제1층(43a) 또는 하드코트층을 포함하고, 제2층(43b) 또는 방현하드코트층을 포함한다. 투광성 미립자(45) 또는 미소구체는 제2층(43b)에 함유된다. 웹(11)의 재료 및 구조는 한정되지 않는다. 웹(11)용 지지체(41)는 시판되는 폴리머막일 수 있다. 제1층(43a) 및 제2층(43b)의 유형은 한정되지 않는다. 그러나, 실시예의 제1층(43a) 은 하드코트층이고, 제2층(43b)은 반사방지막(20)을 얻기 위한 방현하드코트층이다. 투광성 미립자(45)는 이하 상세히 설명한다.
수송롤러(25)가 웹 또는 베이스막(11)을 폴리머막 수송기(13)로부터 미리 운반하는 동안, 먼지 제거기(26)에 의해서 웹(11)에 기체를 불어넣는다. 웹(11) 상에 먼지 또는 기타 이물질 또는 불순물을 제거할 수 있다. 도포막을 형성하는 동안 먼지의 적층 가능성이 효과적으로 감소될 수 있다. 먼지 제거기(26)의 위치, 수 등은 한정되지 않는다. 그러나, 먼지 제거기(26) 위치는 코터(14)보다 상류층이고, 상술한 효과의 극대화 면에서 코터(14)에 아주 가까운 것이 바람직하다.
먼지 제거 후에 웹 또는 베이스막(11)은 수송되고 코터(14)로 용액을 도포한다. 코터(14)의 마이크로 그라비아롤(14a)은 웹(11)의 수송방향과 반대방향으로 회전한다. 마이크로 그라비아롤(14a)의 그라비아 패턴은 적정양의 도포액을 공급한다. 마이크로 그라비아롤(14a)이 웹(14)과 접촉하면, 용액이 웹(11)에 전사되어, 의도하는 웹(11) 표면상에 도포층을 용이하게 형성한다. 실시예에 있어서, 웹(11)은 용액을 도포하여 광학기능층(43)보다 굴절률이 낮은 저굴절률층을 형성한다.
마이크로 그라비아롤(14a) 상에 형성된 그라비아 패턴의 선의 수는 50/인치 이상 800/인치 이하이고, 바람직하게는 100/인치 이상 300/인치 이하이다. 그라비아 패턴의 심도는 1μ 이상 600μ 이하이고, 바람직하게는 5μ이상 200μ이하이다. 마이크로 그라비아롤(14a)의 회전속도는 3rpm 이상 800rpm 이하이고, 바람직하게는 5rpm 이상 200rpm 이하이다. 웹 또는 베이스막(11)의 수송속도는 0.5m/분 이상 100m/분 이하이고, 바람직하게는 1m/분 이상 50m/분 이하이다. 그러므로, 웹(11)의 표면을 큰 불균일 없이 규격화된 두께로 도포할 수 있다.
도포액의 양은 한정되지 않고, 웹 또는 베이스막(11)상에 도포층의 목표두께와 뭉침(crawling) 결함 생성의 방지를 고려하여 결정될 수 있다. 양이 너무 많으면 뭉침 결함이 웹상(11)에 발생할 수 있거나, 건조시간이 너무 길어질 수 있다. 또한, 도포층이 너무 두꺼운 경우에 동일한 문제가 발생할 수 있다. 이 문제를 해결하기 위해서, 도포액의 양은 베이스막의 1㎡당 1㎖ 이상 40㎖ 이하이고, 특히 2㎖/㎡ 이상 25㎖/㎡ 이하이다. 도포층의 두께는 바람직한 층 특성을 얻기 전에 건조시간이 너무 오래 소요되는 것을 방지하기 위해서 0.01μ 이상 20μ 이하이고, 바람직하게는 0.05μ이상 10μ이하이다.
드라이어(16) 중에서 이동된 웹 또는 베이스막(11)은 건조챔버(16b)를 통해서 도포면의 반대인 웹(11)의 후면과 패스롤러(15)가 접촉하여 패스롤러(15)에 의해서 지지되고 건조된다. 드라이어(16)의 송풍관(blower conduit)(도시하지 않음)은 조정된 온도에서 드라이어(16)에 건조기체를 유입하여 드라이어(16)의 내부온도를 적절히 조정한다. 초기 건조는 도포층의 건조를 촉진시킬 수 있다. 드라이어(16)의 내부온도는 20℃ 이상 120℃ 이하이고, 바람직하게는 25℃ 이상 100℃ 이하이다. 도포층의 건조는 열수축없이 진행할 수 있다. 드라이어(16)의 내부온도가 20℃ 미만이면, 도포액의 용제가 충분히 증발하지 않는다. 용제를 많이 함유하는 도포층은 히터(18)에서 가열된다. 그 결과, 도포층의 용제는 히터(18)에서 급격하게 증발하여서 건조 또는 두께에 있어서 상당한 불균일에 기인한 외관결함이 심하게 발생한다. 드라이어(16)의 내부온도가 120℃를 초과하면, 도포층의 용제는 드라 이어(16)에서 급격히 증발한다. 도포층의 열수축이 쉽게 발생한다. 형성된 층은 첨가제가 용제의 증발과 함께 증발할 수 있어서 목적한 특성을 얻지 못할 수 있다.
온도조정기가 패스롤러(15)와 연결되는 것이 롤러 표면의 온도 조절에 바람직하다. 이것은 도포층을 효과적으로 건조시킬 수 있게 한다. 구체적으로, 패스롤러(15)의 롤러 표면 온도는 도포층의 건조에 있어 불균일을 억제하기 위해서 드라이어(16)의 내부온도 수준으로 조절되어야 한다.
건조챔버(16b)의 기체 유량은 0.1m/s 이상 1.5m/s 이하이다. 유량은 0.1m/s 이상 1.0m/s 이하인 것이 바람직하고, 0.2m/s 이상 1.0m/s 이하가 더욱 바람직하다. 이것은 형성시에 외관결함을 방지함으로써 드라이어(16)에서 도포층을 초기에 고효율로 적절하게 건조할 수 있게 한다. 유량이 0.1m/s 이하이면, 매우 낮은 효율성 때문에 도포층의 초기건조는 불충분하다. 히터(18)에서 용제를 많이 함유한 도포층을 건조되어서 용제가 급격히 증발하여 도포층에서 건조 또는 두께의 불균일이 발생한다. 충분한 건조를 위해 건조챔버(16b)가 매우 길다면, 제조 비용이 매우 높아지거나, 건조효율이 매우 낮아질 것이다. 유량이 1.5m/s를 초과하면, 도포층의 두께 불균일이 발생하기 쉽다.
도포층 초기 건조 후에 웹 또는 베이스막(11)은 드라이어(16)로부터 히터(18)로 수송된다. 기체플로우덕트(30a, 30b)를 통해서 공급된 건조기체로서의 건조 공기가 그 기체 온도를 조정한다. 가열 건조 기체가 유입되어 가열챔버(18a 및 18b)의 내부온도를 소정 범위내로 조절한다.
제1가열챔버(18a)의 제1온도는 70℃ 이상 110℃ 이하가 바람직하다. 더욱 바 람직하게는, 제1온도는 90℃ 이상 100℃ 이하이다. 제2가열챔버(18b)의 제2온도는 100℃ 이상 160℃ 이하인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 제2온도는 100℃ 이상 140℃ 이하이다. 히터(18)에서 제2온도를 제1온도보다 더 높게 한다. 제1온도와 제2온도의 바람직한 차이는 1℃ 이상 50℃ 이하이다. 본 발명에서는 초기 건조 후에 적어도 두 가지 온도에서 도포층을 건조하여 저굴절률층을 형성한다. 따라서, 도포층의 경화 후의 반응은 첨가제의 용출 및 방출을 억제하면서 도포층의 열가소성을 촉진시킬 수 있다. 상당한 경도의 도포층을 얻을 수 있고 첨가제의 방출로 인한 분말상의 백색 침전물 생성을 억제할 수 있다. 그 결과, 고내찰상성을 가지며 외관결함이 없는 저굴절률층의 형성이 가능하다.
제1온도가 70℃ 미만이거나 또는 제2온도가 100℃ 미만이면, 도포층의 열경화 촉진에 있어 열이 충분하지 않다. 적절한 경화를 위해 웹 또는 베이스막(11)의 수송속도를 낮추거나 수송경로를 길게 하면, 심각한 문제가 발생한다. 예를 들면, 수송시간의 장시간화에 의해서 생산성이 낮아진다. 웹(11)은 장시간 히터(18)에 체류하면 열손상을 입을 수 있다. 또한, 장치의 대형화에 따라 제조비용이 높아진다. 제1온도가 110℃ 이상이거나 제2온도가 160℃ 이하이면, 도포층에 함유된 첨가제가 용출에 의해 도포층상에 방출되어 도포층의 열수축에 의한 주름, 줄무늬 등의 결함을 발생시키기 쉽다.
드라이어(16)의 바람직한 내부 온도는 상술한 바와 같이 20~120℃이다. 그러나, 드라이어(16)와 히터(18)의 제1 또는 제2온도의 관계는 한정되지 않고 목적에 따라 적절하게 결정될 수 있다.
히터(18)에 의해 저굴절률층의 표면상에 초기 경화된 웹 또는 베이스막(11)에 자외선을 조사한다. 전리방사선을 조사함으로써 극히 고경도를 갖는 층을 얻을 수 있는데, 경화가 경도를 강화하기 때문이다. 본 발명의 전리방사선은 표면의 물질을 이온화하는 자외선, 전자빔방사선, X선, 감마선, 고속중성자방사선, 고속하전입자 등이다. 최종적으로 반사방지막(20)은 권취기(23)에 의해서 말린다. 반사방지막(20)의 최종형태는 롤이거나 벌크, 또는 시트이거나 다른 형태일 수 있다.
도 2b에서, 저굴절률층(46)은 상기 방법에 의해 형성된 반사방지막(20)의 웹 또는 베이스막(11)상에 형성된다. 반사방지막(20)은 초기 건조 후에 열경화한다. 저굴절률층(46)은 열경화후 자외선 경화로 형성된다. 그러므로, 반사방지막(20)은 외관결함이 없고 고내찰상성을 가질 수 있다.
본 발명의 반사방지막을 설명한다. 지지체(41)는 투명한 막이고, 폴리머로 형성되며, 다수의 도포층을 형성하기에 적절하다. 폴리머의 예로는 셀룰로오스 에스테르, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 노보넨 수지, 및 비정질 폴리올레핀을 포함한다. 이들 중에서, 바람직한 예는 셀룰로오스 에스테르로서 트리아세틸 셀룰로오스, 및 폴리에스테르로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리에틸렌 나프탈레이트를 포함한다. 특히, 트리아세틸 셀룰로오스(TAC)가 바람직하다.
광학기능층(43)은 광학적으로 작용하고, 바인더, 중합 개시제, 분산제 또는 다른 폴리머로 형성된 층 성분을 적어도 하나는 포함한다. 광학기능층(43)은 2 이상의 층 성분을 갖는 다층구조를 가질 수 있다. 실시예에서는 제1층(43a)과 제2 층(43b)을 포함한다. 기능층을 구성하는 층 성분의 예로는 광확산층, 중굴절률층, 고굴절률층, 광학보상층, 방현기능층 등이다. 광학기능층(43)에 포함된 층 성분은 동일 조성물의 재료이거나 또는 다른 조성물의 재료일 수 있다. 광학기능층(43)은 목적에 따라 그 예들에서 선택하여 형성될 수 있다. 특히, 방현기능층은 반사방지 확보를 위해 함유하여야 한다.
광학기능층(43)용으로 바람직한 바인더는 주쇄로서 포화 탄화수소쇄 또는 폴리에테르쇄를 함유하는 폴리머이다. 모노머의 구조, 방향족환의 존재유무, 할로겐원자의 존재유무, 황, 인, 질소 등을 선택적으로 결정함으로써, 형성된 층의 굴절률을 조절하기 위해 다양한 물질을 선택할 수 있다.
광투과성미립자(45)를 제2층(43b)에 첨가한다. 광투과성미립자(45)에서 광투과성이란 용어는 여기서 가시광영역의 흡수가 없는 특성에 대해서 사용한다. 광투과성미립자(45)의 첨가는 광투과성미립자(45)의 광투과성 때문에 층의 굴절률을 용이하게 조절할 수 있게 하고, 층의 방현성을 조절할 수 있다. 광투과성미립자(45)에 있어서, 미국 특허 2004/240070호 0085단락(일본특허공개 2003-302506호, 단락 0044에 상응함)은 본 발명에서 사용될 수 있는 구체적 예를 개시하고 있다. 광투과성미립자(45) 재료는 형성된 층의 굴절률의 차이를 고려하여 적절하게 선택될 수 있다.
광투과성미립자는 굴절률, 입자직경 등의 차이를 고려하여 선택적으로 사용되어 형성된 층의 다양한 특성을 조절한다. 큰 직경의 광투과성미립자가 사용되는 경우, 층의 반사방지성이 용이하게 조정될 수 있다. 작은 직경의 광투과성미립자가 사용되는 경우, 층의 굴절률이 용이하게 조정될 수 있다. 형태, 크기 등이 차이가 있는 광투광성미립자의 2 이상의 예를 병용하여 사용하는 것이 바람직하다. 휘도의 균일성을 저하시키는 막표면의 요철이 잔존하는 경우, 그 문제는 적절히 결정된 입자직경의 광투과성미립자를 사용함으로써 해결할 수 있다.
광학기능층(43)은 적절하게 입자의 재료를 선택하여 형성한다. 광학기능층(43)의 굴절률은 1.58 이상 2.0 이하인 것이 바람직하다. 저굴절률층(46)의 굴절률은 1.31 이상 1.45 이하이다. 이렇게 형성된 광학기능층(43)은 고방현성을 갖는다. 저굴절률층(46)은 고경도와 내찰상성의 표면을 갖는다. 이들 층을 갖는 반사방지막(20)은 고방현성, 고내찰상성, 및 고방진성 및 방오성을 갖는 광학막이다. 광학기능층(43)과 저굴절률층(46) 중의 적어도 하나는 광투과성미립자를 함유하여야 한다. 광학기능층(43)이 다수의 층 성분으로 구성된 다층형태로서, 이들 층 중에서 적어도 하나는 광투과성미립자를 포함할 수 있다.
광투과성미립자용 재료의 예는 티타늄, 지르코늄, 알루미늄, 인듐, 아연, 주석, 및 안티몬의 산화물을 적어도 하나 포함한다. 금속산화물의 평균입자직경은 0.2μ 이하이고, 바람직하게는 0.1μ이하이고, 더욱 바람직하게는 0.06μ 이하이다. 산화물의 구체적인 예는 TiO2, ZrO2, Al2O3, In2O3, ZnO, SnO2, Sb2O3, ITO 및 SiO2를 포함한다. 이들 중 바람직한 예는 고굴절률의 면에서 TiO2와 ZrO2이다. 바람직하게는, 광투과성미립자의 표면은 바인더에서 분산성과 상용성을 향상시키기 위해서 실란 커플링제와 티타늄 커플링제로 처리할 수 있다. 첨가하는 광투과성미립 자의 비는 첨가하는 목적층의 총질량에 대하여 10~90%이고, 바람직하게는 20~80%, 더욱 바람직하게는 30~75%이다.
방현성을 목적으로 하는 입자는 평균입자직경이 1μ이상 10μ이하인 필러입자보다 큰 매트(matte)입자이다. 매트 입자의 예는 실리카입자, 이산화티탄입자, 및 아크릴입자 등의 수지입자, 가교 아크릴입자, 폴리스티렌입자, 가교 스티렌 입자, 멜라민 수지입자 및 벤조구아나민 수지입자를 포함한다. 매트입자의 특히 바람직한 예는 실리카입자, 가교 아크릴입자, 가교 스티렌입자를 포함한다. 매트입자의 형태는 한정되지 않으나, 구형 또는 무정형일 수 있다. 입자직경 또는 형태의 차이를 갖는 2종 이상의 매트입자를 병합하여 사용할 수 있다. 매트 입자의 함량은 방현기능층용 층 1㎡당 10㎎ 이상 2,000㎎ 이하가 바람직하다. 함량은 100㎎ 이상 1,400㎎ 이하가 더욱 바람직하다.
매트 입자는 층 중에 균일하게 분산되는 것이 바람직하다. 크기에 있어서, 매트입자는 동일한 직경을 가질 수 있다. 이들에 함유되어 평균 직경보다 20%이상 큰 입자인 라지매트입자(large matte particle)의 비는 1% 이하이어야 하고 0.1% 이하인 것이 바람직하다. 따라서, 사용하는 매트입자는 동일한 입자직경과 층 중에 균일한 분산을 위해서 가장 높은 정도로 분급되어야 한다. 굴절률조정용 입자는 방현성 부여용 입자의 직경보다 작은 범위의 입자직경을 갖는다. 상기 입자는 광파장보다 충분히 작은 직경을 갖기 때문에 광투과시에 광산란이 없다.
광학기능층은 바람직하게는 계면활성을 갖는 불소 화합물과 실리콘 화합물에서 선택된 적어도 하나의 화합물을 함유할 수 있다. 이는 광학기능층에 고방오성 및 미끄럼성(slipping property)을 부여할 수 있다. 층형성 재료의 전체 고형분 함량에서 불소 또는 실리콘 화합물의 양은 한정되지 않으나, 0.01~20중량% 이상이 바람직하다. 불소 또는 실리콘 화합물의 양은 특히 0.05~10중량%이고, 더욱 바람직하게는 0.1~5중량%이다.
불소 화합물의 예는 플루오로알킬기를 함유한다. 플루오로알킬기는 바람직하게는 탄소수 1~20을 갖는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~10이다. 플루오로알킬기는 직쇄, 분기쇄, 지환식 구조를 가질 수 있고 에테르결합을 포함할 수 있다. 또한, 한 분자는 2 이상의 플루오로알킬기를 함유할 수 있다.
바람직한 불소 화합물은 상용성 및 광학기능층과 저굴절률층간의 계면에 밀착성을 위한 치환기를 갖는 예이다. 치환기의 예는 2종 이상이거나 1종만일 수 있다. 그러나 치환기의 수는 2종 이상이어야 한다. 치환기의 바람직한 예는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기, 아릴기, 신나모일기, 에폭시기, 옥세타닐기, 히드록시기, 폴리옥시알킬렌기, 카르복실기, 및 아미노기이다. 그러한 불소 화합물은 불소원자 없는 화합물과 불소원자를 함유하는 화합물로 형성된 공중합체일 수 있고, 다수의 예의 모노머로 형성된 올리고머일 수 있다. 분자량은 한정되지 않는다. 불소 화합물의 불소원자의 양은 한정되지 않으나 20중량% 이상이 바람직하다. 불소원자의 양은 특히 30~70중량%이고, 바람직하게는 40~70중량%이다.
바람직한 실리콘 화합물은 말단기 및 측쇄, 또는 반복단위로서 복수의 디메틸 실릴옥시를 함유하는 화합물의 말단기 및 측쇄 중의 하나에 치환기를 갖는 예이다. 반복단위를 갖는 그 화합물은 디메틸 실릴옥시 외에 다음 단위를 포함할 수 있 다. 치환기의 예는 2종 이상이거나 1종만일 수 있다. 그러나 치환기의 수는 2 이상이어야 한다. 치환기의 바람직한 예는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기, 아릴기, 신나모일기, 에폭시기, 옥세타닐기, 히드록시기, 플루오로알킬기, 폴리옥시알킬렌기, 카르복실기, 및 아미노기이다. 용이한 취급면에서 화합물의 바람직한 분100,000 이하이다. 분자량은 50,000 이하인 것이 바람직하고, 3,000~30,000이 더욱 바람직하다. 실리콘 화합물의 실리콘원자의 양은 한정되지 않으나, 18중량% 이상이 바람직하고, 특히 25~37.8중량%이며, 더욱 바람직하게는 30~37중량%이다.
도 3은 광학막제조시스템(10)에서 제조용 반사방지막의 다른 예를 도시하고 있다. 도 3에서 반사방지막(55)은 지지체(41), 광학기능층(53) 및 저굴절률층(56)을 포함한다. 지지체(41)의 번호는 도 2a와 2b에서 기술한 것과 동일하다. 광학기능층(53)은 투명지지체(51)에서 연달아 적층된 제1층(53a), 제2층(53b) 및 제3층(53c)인 층 성분을 포함한다. 층 특성은 바인더, 미립자 등의 유형을 적당히 선택함으로써 결정될 수 있다. 제1층(53a)의 예는 하드코트층이다. 제2층(53b)의 예는 중굴절률층이다. 제3층(53c)의 예는 고굴절률층이다. 이러한 조합에 따라서, 반사방지막(55)은 반사방지특성이 매우 클 수 있다.
상기 실시예에서, 도포법은 그라비아 코팅법이다. 그러나, 당해 기술분야에서 공지된 다른 도포법을 사용할 수 있다. 도포법의 예는 딥코팅법, 에어나이프(air knife)코팅법, 커튼(curtain)코팅법, 롤러코팅법, 와이어바(wire-bar)코팅법, 마이크로 그라비아 코팅법 등의 그라비아 코팅법, 또는 압출코팅법(미국특허 제2,681,294호 참조)을 포함한다. 이들 중 바람직한 방법은 와이어바코팅법, 마이 크로 그라비아코팅법, 또는 압출코팅법이다. 특히, 마이크로 그라비아코팅법이 바람직하다.
실시예의 히터(18)는 챔버를 두 개 갖는다. 그러나, 히터(18)의 구획형태는 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 다수의 드라이어를 병합하여 사용할 수 있고, 서로 별도의 방식으로 내부온도를 조정하는 조정기를 가질 수 있다. 그러므로, 다수의 드라이어 세트가 사용될 수 있고, 연속적으로 배치될 수 있다.
상기 실시예에서, 경화를 위해 자외선을 조사한다. 자외선 대신에 또는 자외선에 더하여 전자빔이 경화를 위한 전리방사선으로서 사용될 수 있다. 그 결과, 저굴절률층 조사용으로 자외선 소스 및 전자빔 소스 등의 다수의 전리방사선 소스가 사용될 수 있고 연속적으로 배치될 수 있다. 전리방사선 소스의 위치, 수 및 다른 특징은 설비에 적절하게 결정될 수 있다.
자외선 조사 소스의 예는 고압수은램프, 크세논램프, 금속할라이드램프, 퓨전램프, 자외선발광다이오드(UV LEDs), 및 당해 기술분야에서 공지된 다른 장치를 포함한다. 또한, 다양한 종류의 전리방사선용 소스 중의 하나가 사용될 수 있다. 충분한 경화는 웹 또는 베이스막에 대한 손상을 감소시킴으로서 조사를 촉진시킨다. 자외선의 양은 30mJ 이상 800mJ 이하일 수 있고, 바람직하게는 50mJ 이상 300mJ 이하이다. 전리방사선에 있어서, 가속전자압은 80kV 이상 300kV 이하가 바람직할 수 있다.
국제공개공보 2005-063484호 22 및 23쪽(일본특허공개 2005-257786호 0061단락에 상응함)에 제안된 다양한 실시예는 본 발명과 병합하여 사용할 수 있고, 그 실시예는 지지체, 광학기능층 및 저굴절률층을 형성할 수 있는 경화성 수지, 미립자, 중합 개시제, 분산제, 및 다른 첨가제, 및 다양한 층형성법을 포함한다.
본 발명의 반사방지막은 패널형 편광판용 보호막으로서 바람직하게 사용될 수 있다. 패널형 편광판은 그 사이에 편광판막이 배치된 두 개의 보호막으로 구성되어 있다. 보호막 중의 적어도 하나는 본 발명의 반사방지막을 사용하는 것이 바람직하다. 이것은 반사방지막을 보호막으로 사용하기 때문에 패널형 편광판의 제조비용을 절감할 수 있다. 또한 반사방지막은 최상층으로서 배치된다. 고내찰상성과 방오성의 패널형 편광판을 얻을 수 있으며, 이는 외부 빛의 원하지 않는 반사를 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 두 개의 보호막 중 제1막은 반사방지막이고, 제2막은 광학 이방성층을 갖는 광학보상막인 것이 바람직하다. 그러한 광학보상막은 광학이방성층을 갖는 광학기능층으로 형성될 수 있다. 또한, 광학보상층은 위상차막이라 칭해지며, 액정 디스플레이 패널의 시야각 특성을 개선할 수 있다.
본 발명의 반사방지막이 편광판용 보호막으로서 사용되기 때문에, 반사방지막은 TN형, STN형, VA형, IPS형, OCB형을 포함하는 투과형, 반사형, 및 반투과형 등의 모든 유형의 액정 디스플레이 패널에 사용될 수 있다.
본 발명의 편광막은 공지의 편광막일 수 있고, 흡수축이 그의 길이방향에 대해서 평행도 아니고 수직도 아닌 연속적인 편광막에서 잘라낸 편광막일 수 있다. 편광막은 막의 양단을 텐터클립(tenter clips) 또는 다른 지지기기로 지지하면서 거기에 장력을 적용하여 연속적으로 공급된 폴리머막을 연신하여 얻는다. 바람직한 연신방법에 있어서, 막의 양단이 지지된 상태의 막 진행방향으로 굽어지는 편광막 은 텐터클립 또는 지지기기의 수송방향으로 막의 양말단 사이에 3% 미만의 속도차이로 막의 폭방향의 1.1~20배 연신한다. 막의 양단의 지지 공정의 종료시에 막의 진행방향은 막이 연속적으로 신장하는 방향에 대하여 20~70°각도로 기울어진다. 이 경사각은 고생산성의 면에서 45°가 바람직하다.
본 발명의 반사방지막은 LCD, PDP(플라즈마 디스플레이 패널, plasma display panel), ELD(전기발광 디스플레이 패널, electroluminescence display panel) 및 CRT(음극선과, cathode ray tube)중의 어느 디스플레이 패널에서도 사용될 수 있다. 디스플레이 표면상에 투명한 지지체를 적층함으로써 투명지지체를 갖는 반사방지막을 디스플레이 패널의 디스플레이 표면에 접착하는 것이 가능하며, 이로써 고화질의 디스플레이 패널을 얻을 수 있다.
또한, 국제공개공보 2005-063484호의 43~44쪽(일본특허공개 2005-257786호의 0067단락부터의 내용에 상응함)부터의 부분은 본 발명의 반사방지막을 적용할 수 있는 편광막, 폴리머막, 디스플레이 패널 등의 예를 개시하고 있다.
실시예 1~9 및 비교예 1~7의 다수의 조건에 따라서 실험하였다. 실시예 2~9 및 비교예 1~7는 실시예 1에서 기본적으로 사용된 제조법을 반복하였다. 차이점만을 상세히 설명한다.
[실시예 1]
[폴리머막의 제조]
Fuji Photo Film사가 제조한 트리아세틸 셀룰로오스막 TD80U를 광학기능층 형성용 용액 A로 코터(14)에 의하여 도포한 다음, 드라이어(16)로 100℃에서 40초 동안 건조하였다. 코터(14)는 닥터블레이드 및 135선/인치와 심도 60μ의 그라비아 패턴을 갖는 직경 50㎜의 마이크로 그라비아롤(14a)을 포함하였다. 코터(14)의 이동속도를 20m/분으로 조정하였다. 질소 퍼지(purge)하에서 160W/cm의 공기냉각금속할라이드램프(Eyegraphics사 제조)를 사용하였다. 400mW/㎠의 강도와 250mJ/㎠의 양으로 도포층에 자외선을 조사하여 광학막을 얻었다. 경화된 광학기능층 A는 두께가 약 3.4μ이다. 광학기능층 A를 갖는 웹 또는 베이스막은 롤 형태로 감아서 광산란막으로서의 웹 또는 베이스막 롤을 얻었다.
[광학막의 제조]
도 1의 광학막제조시스템(10)을 광학막 제조에 사용하였다. 우선, 얻은 웹 또는 베이스막의 표면을 저굴절률층 형성용 용액 A로 코터(14)에 의해서 도포한 다음, 드라이어(16)로 120℃에서 150초 동안 건조하였다. 코터(14)는 닥터블레이드 및 200선/인치와 심도 30μ의 그라비아 패턴을 갖는 직경 50㎜의 마이크로 그라비아롤(14a)을 포함하였다. 마이크로 그라비아롤(14a)에 대해서 코터(14)의 회전속도는 30rpm, 이동속도는 20m/분으로 조정하였다. 히터(18)의 제1가열챔버(18a)는 95℃로 조절하였다. 히터(18)의 제2가열챔버(18a)는 105℃로 조절하였다. 각 가열챔버(18a 및 18b)에서 5분의 건조시간으로 도포층을 경화하였다. 질소 퍼지하에서 240W/cm의 공기냉각금속할라이드램프(Eyegraphics사 제조)를 자외선 경화램프로서 사용하였다. 400mW/㎠의 강도와 900mJ/㎠의 양으로 자외선 경화램프(21)에 의해서 도포층에 자외선을 조사하여 광학막을 얻었다. 광학막의 저굴절률층은 두께가 100㎚(0.1μ)이었다.
[광학기능층형성용 용액A]
다음 화합물을 혼합하고 교반하여서 혼합 용액 A1을 제조하였다.
용액 No.1 100질량부(고형분 함량 61질량%, 이산화지르코늄(지르코니아)함량 70%이고, 중합성 모노머와 중합 개시제 성분을 함유한 JSR사가 제조지르코니아 함유 UV 경화형 하드코트용액 DeSolite Z7404(상표명));
용액 No.2 30질량부(디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, Nippon Kayaku사가 제조한 DPHA(상표명));
메틸 이소부틸 케톤 21질량부;
메틸 에틸 케톤 6질량부;
실란 커플링제 A 98질량부(Shin-Etsu Chemical사가 제조한 아크릴로일 옥시프로필 트리메톡시 실란 KBM-5103(상표명)).
Fuji Photo Film사가 제조한 트리아세틸 셀룰로오스막 TD80UF를 혼합용액 A1으로 도포하여서 도포층을 형성하고 자외선으로 경화하였다. 도포층의 굴절률을 측정하여 1.61임을 알았다.
다음으로 입자분산액 A 35질량부를 혼합 용액 A1에 첨가하였다. 상기 입자분산액 A는 분급강화가교 PMMA 입자(굴절률 1.49의 Soken Chemical & Engineering 사 제조의 MXS-300)를 함유하고, 평균 입자직경은 3.0μ이다. 첨가된 용액에, 입자분산액 B 90질량부를 첨가하여 혼합용액 A2를 얻었다. 상기 입자분산액 B는 실리카 입자(굴절률 1.46의 Nippon Shokubai사가 제조한 SEAHOSTAR KE-P 150)를 함유하고, 평균입자직경이 1.5μ이다. 혼합용액 A2는 공극 직경이 30μ인 폴리프로필렌 여과 기로 여과하여서 광학기능층 또는 광산란성 하드코트층 형성용 용액 A를 제조하였다. 입자분산액 A는 폴리트론 호모지나이저(Polytron homogenizer)로 10,000rpm에서 20분 동안 메틸이소부틸 케톤 분산액을 분산하여 얻은 분산액이고, 상기 메틸이소부틸 케톤 분산액은 PMMA 입자를 30질량% 함유하였다. 입자분산액 B는 폴리트론 호모지나이저로 10,000rpm에서 30분 동안 메틸에틸 케톤 분산액을 분산시켜 얻은 분산액으로, 메틸에틸 케톤 분산액은 실리카 입자를 30질량% 함유하였다.
[저굴절률층 형성용 용액 A]
하기 화합물을 혼합조에 부어 교반한 다음 공극 직경이 1μ인 폴리프로필렌 여과기로 여과하여서 저굴절률층 형성용 용액 A를 제조하였다.
열가교성 불소함유 폴리머(JSR사 제조 OPSTER JN-7228A)의 폴리머 용액 No.1 100질량부;
나노입자의 실리카 분산액 A 또는 실리카 졸(Nissan Chemical Insudtries사 제조, 평균입자직경 15㎚의 MEK-ST) 4.3질량부;
나노입자의 실리카 분산액 B 또는 실리카 졸(Nissan Chemical Insudtries사 제조, 평균입자직경 45㎚의 MEK-ST 바리안트(variant)) 5.1질량부;
후술할 졸 용액 E 2.2질량부;
메틸에틸 케톤 15.0질량부;
시클로헥사논 3.6질량부.
[졸 용액 E]
반응기는 교반기 및 환류냉각기를 갖는다. 상기 반응기에 메틸에틸 케톤 120 질량부, 실란 커플링제 A 100질량부, 및 디이소프로폭시 알루미늄 에틸 아세토아세테이트(Hope Chemical사 제조) 3질량부를 공급하였다. 이들을 혼합하여 혼합물을 얻었다. 이온교환수 30질량부를 상기 혼합물에 첨가하여 60℃에서 4시간 동안 반응시켰다. 다음으로 혼합물을 실온에서 냉각시켜 졸 용액 E를 얻었다. 졸 용액 E는 질량평균분자량이 1,800이었다. 올리고머 또는 폴리머로서 분자량이 1,000~20,000 이상인 졸 용액 E의 성분은 100질량부이었다. 기체크로마토그래피 분석을 실시하여 원료로서 실란 커플링제 A의 성분이 졸 용액 E에 존재하지 않음을 알았다.
[실시예 2]
제2가열챔버(18b)를 110℃로 조절한 것 외에는 실시예 1을 반복하여 광학막을 제조하였다.
[실시예 3]
광학막을 하기 공정에 의하여 제조하였고, 저굴절률층용 용액 B로 도포하고, 이를 건조하여서 광학막을 얻었다. 광학막 형성 공정은 실시예 1을 반복하였다.
[폴리머막의 제조]
실시예 1의 것과 동일한 트리아세틸 셀룰로오스막을 110선/인치의 선수와 65μ의 심도의 그라비아 패턴을 갖는 직경이 50㎜인 마이크로 그라비아롤과 닥터블레이드로 그라비아롤 회전 속도 45rpm 및 수송속도 30m/분의 조건하에서 광학기능층용 용액 B로 도포하고, 도포한 것을 60℃에서 150초 동안 건조하였다. 그 후에, 질소 퍼지하에서 400mW/㎠의 강도와 250mJ/㎠의 양으로 160W/cm의 공기냉각금속할라이드램프(Eyegraphics사 제조)를 사용하여 자외선을 조사하여서 광학기능층용 용액 B를 경화하였다. 그래서 방현성 하드코트층으로서 광학기능층 B가 형성되었다. 경화된 광학기능층 B는 두께가 6μ이었다. 광학기능층 B를 갖는 웹 또는 베이스막은 롤형태로 감아서, 방현성 하드코트막으로서 웹 또는 베이스막 롤을 얻었다.
[광학기능층 형성용 용액 B]
하기 화합물을 혼합하였다.
용액 No.3 50질량부, 즉 펜타 에리트리톨 트리아크릴레이트 및 펜타 에리트리톨 테트라아크릴레이트의 혼합물(Nippon Kayaku사 제조, PETA);
톨루엔의 38.5질량부;
중합 개시제 A(Ciba Specialty Chemicals사 제조, Irgacure 184) 2질량부.
혼합물은 교반하여서 혼합 용액 B1을 제조하였다. Fuji Photo Film사가 제조한 트리아세틸 셀룰로오스막 TD80UF를 혼합 용액 B로 도포하여 도포층을 형성하고, 이를 자외선으로 경화하였다. 도포층의 굴절률을 측정하여 1.51임을 알았다.
다음으로 입자분산액 C의 1.7질량부를 상기 혼합 용액 B1에 첨가하였다, 상기 입자분산액 C는 폴리스티렌 입자(굴절률 1.60의 Soken Chemical & Engineering사가 제조한 SX-350)를 함유하고 평균입자직경이 3.5μ이었다. 첨가된 용액에, 입자분산액 D 13.3질량부를 첨가하여 혼합 용액 B2를 얻었다. 상기 입자분산액 D는 아크릴 스티렌 입자(Soken Chemical & Engineering사가 제조, 굴절률 1.55)를 함유하고 평균입자직경이 3.5μ이었다. 혼합용액 B2에, 불소계 표면개질제(FP-13, 일본특허공개 2005-283849호의 0080단락에 따라서 질량평균분자량이 14,000) 0.75질량부, 및 실란 커플링제 A의 10질량부를 첨가하여서 방현성 하드코트층으로서 저굴절 률층용 용액 B를 얻었다. 입자분산액 C는 10,000rpm으로 20분 동안 폴리트론 호모지나이저로 톨루엔의 혼합용액을 분산시켜 얻은 분산액이고, 상기 혼합용액은 톨루엔과 폴리스티렌 입자 30질량%를 함유하였다. 입자분산액 D는 톨루엔과 아크릴 스티렌 입자 30질량%를 함유한 혼합용액이다.
[저굴절률층 형성용 용액 B]
하기 화합물을 혼합조에 넣고 교반한 다음 공극 직경이 1μ인 폴리프로필렌 여과기로 여과하여서 저굴절률층 형성용 용액 B를 제조하였다.
열가교성 불소함유 폴리머(JSR사 제조, OPSTER JTA-113)의 폴리머 용액 No.2 100질량부;
실리카 분산액 A 4.3질량부;
실리카 분산액 B 5.1질량부;
졸 용액 E 2.2질량부;
메틸에틸 케톤 15.0질량부;
시클로헥사논 3.6질량부.
[실시예 4]
제2가열챔버(18b)를 110℃로 조절한 것 외에는 실시예 3을 반복하여 광학막을 제조하였다.
[실시예 5]
저굴절률층 형성용 용액 C를 사용한 것, 및 제2가열챔버(18b)를 100℃로 조절한 것 외에는 실시예 3을 반복하였다. 광학막을 제조하였다.
[저굴절률층 형성용 용액 C]
하기 화합물을 혼합조에 넣고 교반하여 혼합용액을 얻고, 공극 직경이 1μ인 폴리프로필렌 여과기로 여과하여 저굴절률층 형성용 용액 C를 제조하였다.
폴리머 용액 No.2 100질량부;
실리카 분산액 A 4.3질량부;
실리카 분산액 B 5.1질량부;
졸 용액 E 2.2질량부;
메탄올 10.0질량부;
메틸에틸 케톤 5.0질량부;
시클로헥사논 3.6질량부.
[실시예 6]
저굴절률층 형성용 용액 C를 사용한 것 외에는 실시예 3을 반복하여서 광학막을 제조하였다.
[실시예 7]
저굴절률층 형성용 용액 C를 사용한 것, 및 제2가열챔버(18b)를 110℃로 조절한 것 외에는 실시예 3을 반복하였다.
[실시예 8]
광학기능층 형성용 용액 C를 사용한 것 외에는 실시예 3을 반복하였다. 방현성 하드코트층으로서 광학기능층 C를 갖는 베이스막을 제조하였다. 다음으로 저굴절률층 형성용 용액 B를 사용한 것 외에는 실시예 1을 반복하였다. 고굴절률막으로 서 광학막을 제조하였다. 경화후 광학기능층 C의 두께는 6μ이였다.
[광학기능층 형성용 용액 C]
하기 화합물을 혼합조에 넣고 교반하여 혼합용액을 얻고, 공극 직경이 0.4μ인 폴리프로필렌 여과기로 여과하여서 고굴절률의 광학기능층 형성용 용액 C를 제조하였다.
이산화티탄 분산액 88.9 질량부;
용액 No.2 58.9질량부;
중합 개시제 B(Ciba Specialty Chemical사 제조, Irgacure 907) 3.1 질량부;
광감제 (Nippon Kayaku사 제조, Kayacure DETX) 1.1질량부;
메틸에틸 케톤 482.4질량부;
시클로헥사논 1,869.8질량부.
이산화티탄 분산액은 하기 방법으로 제조하였다.
[이산화티탄 분산액]
질량평균입자직경 70㎚용 다이노밀(Dyno Mill)에 의해 하기 물질을 분산시켜 분산액을 제조하였다.
미립자 분산액 F(Ishihara Sangyo Kaisha사 제조 MPT-0129C, 90.5:3.0:4.0:0.5의 질량비로 TiO2, Co3O4, Al2O3 및 ZrO2 함유)의 257.1 질량부;
분산제 A 38.6질량부;
시클로헥사논 704.3질량부.
[실시예 9]
제2가열챔버(18b)를 110℃로 조절한 것 외에는 실시예 8을 반복하여서 광학막을 제조하였다.
[비교예 1]
히터(18)를 사용하지 않은 것 외에 실시예 1을 반복하여서 광학막을 제조하였다. 하나의 챔버만을 갖는 히터를 히터(18) 대신에 가열용으로 사용하였다. 도포층을 갖는 폴리머막을 온도 105℃에서 10분 동안 히터로 가열하였다.
[비교예 2]
히터(18)를 사용하지 않은 것 외에 실시예 3을 반복하여 광학막을 제조하였다. 하나의 챔버만을 갖는 히터를 히터(18) 대신에 가열용으로 사용하였다. 도포층을 갖는 폴리머막을 온도 105℃에서 10분 동안 히터로 가열하였다.
[비교예 3]
히터(18)를 사용하지 않은 것 외에 실시예 5를 반복하여 광학막을 제조하였다. 하나의 챔버만을 갖는 히터를 히터(18) 대신에 가열용으로 사용하였다. 도포층을 갖는 폴리머막을 온도 95℃에서 10분 동안 히터로 가열하였다.
[비교예 4]
히터(18)를 사용하지 않은 것 외에 실시예 5를 반복하여 광학막을 제조하였다. 하나의 챔버만을 갖는 히터를 히터(18) 대신에 가열용으로 사용하였다. 도포층을 갖는 폴리머막을 온도 100℃에서 10분 동안 히터로 가열하였다.
[비교예 5]
히터(18)를 사용하지 않은 것 외에 실시예 5를 반복하여 광학막을 제조하였다. 하나의 챔버만을 갖는 히터를 히터(18) 대신에 가열용으로 사용하였다. 도포층을 갖는 폴리머막을 온도 105℃에서 10분 동안 히터로 가열하였다.
[비교예 6]
히터(18)를 사용하지 않은 것 외에 실시예 5를 반복하여 광학막을 제조하였다. 하나의 챔버만을 갖는 히터를 히터(18) 대신에 가열용으로 사용하였다. 도포층을 갖는 폴리머막을 온도 108℃에서 10분 동안 히터로 가열하였다.
[비교예 7]
히터(18)를 사용하지 않은 것 외에 실시예 8을 반복하여 광학막을 제조하였다. 하나의 챔버만을 갖는 히터를 히터(18) 대신에 가열용으로 사용하였다. 도포층을 갖는 폴리머막을 온도 105℃에서 10분 동안 히터로 가열하였다.
실시예와 비교예에 의해서 제조된 광학막에 대하여 평가를 실시하였다. 그 결과, 샘플은 하기한 바와 같은 감화(saponification)에 따라서 얻은 감화된 광학막이었다.
[감화]
우선, 수산화 나트륨의 수용액 1.5몰/ℓ을 제조하여서 55℃를 유지하였다. 또한, 희황산 수용액 0.01몰/ℓ을 제조하여 35℃를 유지하였다. 광학막을 이 수산화나트륨 수용액에 2분간 침지한 다음, 수산화나트륨을 씻어내기 위해서 물에 침지한다. 이 후로, 세척한 광학막을 1분 동안 희황산에 침지한 다음 희황산을 씻어 내기 위해서 물에 침지한다. 광학막을 120℃로 조절한 드라이어에서 건조시켜서 감화 하였다.
[1. 평균 반사율]
Hitachi Seisakusyo사가 제조한 분광광도계 U4100을 사용하여 입사각 5°, 380~780㎚(가시광) 파장영역에서 샘플의 분광반사율을 측정하였다. 450~650㎚에서 평균반사율을 광학막의 평균반사율로서 얻었다.
[2. 내찰상성 평가]
후술하는 조건 하에서 JSPS계(일본학술진흥회, Japan Society of the Promotion of Science) 마찰견뢰도마찰시험기 AB-301(상표명, Tester Sangyo사 제조)의 진동형으로 샘플의 마찰시험을 하였다. 다음으로 저굴절률층을 갖는 제1면에 반대쪽인 샘플의 제2면을 유성 검정잉크로 도포하였다. 제1면을 육안으로 관찰하여서, 반사광에 의해 마찰된 부분에서 발견된 찰상을 광학막 내찰상성으로서 3등급으로 평가하였다.
A : 매우 주의깊게 관찰하는 경우라도 찰상을 발견할 수 없기 때문에 제품으로서 완전함.
B : 아주 가벼운 찰상만이 발견되었기 때문에 제품으로 가능함.
F : 명확하게 인지할 수 있는 찰상이 발견되었기 때문에 제품으로 불가능함.
[마찰시험의 조건]
환경 조건 : 25℃, 60%RH;
마찰기구 : 샘플과 접촉하는 1×1cm의 시험말단부를 Bemcot M-3(Asahi Kasei사 제조)로 감싸고, 밴드로 고정하였다.
이동거리 : 편도 13cm;
마찰속도 : 13cm/s;
하중 : 200g/㎠;
말단의 접촉면적 : 1×1cm;
마찰 횟수 : 앞뒤로 250.
[3. 백색분의 우연발생]
저굴절률층을 갖는 제1면에 반대인 샘플의 제2면을 유성 검정잉크로 도포하였다. 다음으로 광원의 광을 제1면에 조사하였다. 제1면상에 육안으로 인지가능한 백색분으로 인한 결함을 다음 3등급으로 평가하였다. 광원은 삼파장형광램프와 인공태양광램프이다.
A : 백색분 결함이 없기 때문에 제품으로서 완전함.
B : 매우 엷게 백색분이 발견되었기 때문에 제품으로 가능함.
F : 전체면상에 백색분 결함이 발견되었기 때문에 제품으로 불가능함.
실시예와 비교예에 따른 평가 결과는 표1과 2에 나타내었다.
기능층형성용용액 저굴절률층형성용 용액 평균반사율 (%) 내찰상성 백색분 우연발생
실시예 1 A A 1.4 A A
실시예 2 A A 1.4 A A
실시예 3 B B 1.2 A A
실시예 4 B B 1.2 A A
실시예 5 B C 1.2 A A
실시예 6 B C 1.2 A A
실시예 7 B C 1.2 A A
실시예 8 C B 0.8 A A
실시예 9 C B 0.8 A A
기능층형성용용액 저굴절률층형성용 용액 평균반사율 (%) 내찰상성 백색분 우연발생
비교예 1 A A 1.4 A F
비교예 2 B B 1.2 A F
비교예 3 B C 1.2 F A
비교예 4 B C 1.2 B A
비교예 5 B C 1.2 A B
비교예 6 B C 1.2 A F
비교예 7 C B 0.8 A F
결국, 광학막은 고굴절률에서 고평균반사율, 고내찰상성, 및 백색분 등의 외관결함이 억제되는 등의 고품질로 제조되었음을 알 수 있다.
본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 그의 바람직한 실시예에 의해서 충분히 설명하였으나, 당해 분야의 기술을 갖고 있는 자들에게 다양한 변화와 변경이 가능함이 명백하다. 그러므로, 이들 변화 및 변경이 본 발명의 범위를 벗어난 것이 아니라면, 본 발명의 범위에 속하는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (18)

  1. 투명지지체, 상기 지지체 상에 적층되는 하나 이상의 광학기능층, 및 상기 광학기능층 상에 적층되고 상기 광학기능층 보다 굴절률이 낮은 저굴절률층을 포함하는 반사방지막을 제조하는 반사방지막 제조방법에 있어서,
    상기 광학기능층을 저굴절률층형성용 액으로 도포하여 도포층을 형성하는 도포공정;
    상기 도포층의 건조를 촉진하는 건조공정;
    건조 촉진 후 상기 도포층을 열경화하여 저굴절률층을 형성하는 경화공정;을 포함하는 제조공정에서, 상기 경화 공정은
    상기 도포층을 경화를 위한 제1경화온도에서 가열하는 제1가열 공정;
    제1온도 보다 높은 경화를 위한 제2경화온도에서 상기 도포층을 가열하는 제2가열 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 경화공정 후 상기 저굴절률층에 전리방사선을 조사하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 제1온도와 제2온도의 차이는 1℃ 이상 50℃ 이하인 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 건조공정에서 건조기체를 상기 도포층에 적용하고;
    상기 제1가열 및 제2가열 공정에서 조정된 가열기체를 각각 상기 제1온도 및 제2온도에서 상기 도포층에 적용하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  5. 제3항에 있어서, 상기 광학기능층은 계면활성을 갖는 불소 화합물 및 실리콘 화합물 중 하나 이상을 함유하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 광학기능층은 방현기능층인 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 광학기능층의 굴절률은 1.58 이상 2.0 이하인 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 저굴절률층의 굴절률은 1.31 이상 1.45 이하인 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 반사방지막은 상기 광학기능층 및 저굴절률층 중의 하나 이상에 투광성 미립자를 함유하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  10. 제3항에 있어서, 상기 제1온도는 70℃ 이상 110℃ 이하인 것을 특징으로 하 는 반사방지막 제조방법.
  11. 제3항에 있어서, 상기 제2온도는 100℃ 이상 160℃ 이하인 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  12. 제3항에 있어서, 상기 하나 이상의 광학기능층은 상기 지지체로부터 하나 이상의 제1층 및 제2층이 연속적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 반사방지막은 상기 제2층에 함유된 투광성 미립자를 더 함유된 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 제1층 및 제2층은 적어도 제1층 내지 제3층인 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  15. 제3항에 있어서, 상기 제1가열 및 제2가열 공정에서 수송용 U자형 벤드를 갖는 다수의 수송롤러를 사용하여 상기 반사방지막의 웹을 가이드하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조방법.
  16. 투명지지체, 상기 지지체 상에 적층되는 하나 이상의 광학기능층, 및 상기 광학기능층 상에 적층되고 상기 광학기능층 보다 굴절률이 낮은 저굴절률층을 포함하는 반사방지막을 제조하는 반사방지막 제조장치에 있어서,
    상기 광학기능층의 표면을 상기 저굴절률층형성용 액으로 도포하여 도포층을 형성하는 코터;
    상기 도포층의 건조를 촉진하는 드라이어; 및
    상기 드라이어로부터 상기 도포층을 제1온도에서 경화한 다음, 상기 제1온도 보다 높은 제2온도에서 상기 도포층을 경화하여 상기 저굴절률층을 형성하는 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 드라이어는 수송된 상기 반사방지막의 웹 통과, 및 상기 도포층에 건조기체를 공급하기 위한 건조챔버를 포함하고;
    상기 히터는 수송된 웹의 통과, 및 제1온도와 제2온도 각각에서 상기 도포층에 조절된 가열기체의 공급을 위한 제1가열챔버 및 제2가열챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 웹의 가이드를 위해 상기 제1가열챔버 및 제2가열챔버 각각에 포함된 수송용 U자형 벤드를 갖는 복수의 수송롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막 제조장치.
KR1020070040777A 2006-04-26 2007-04-26 반사방지막 제조방법 및 장치 KR20070105901A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006122062A JP5202819B2 (ja) 2006-04-26 2006-04-26 反射防止フィルムの製造方法
JPJP-P-2006-00122062 2006-04-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070105901A true KR20070105901A (ko) 2007-10-31

Family

ID=38648012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070040777A KR20070105901A (ko) 2006-04-26 2007-04-26 반사방지막 제조방법 및 장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7722921B2 (ko)
JP (1) JP5202819B2 (ko)
KR (1) KR20070105901A (ko)
CN (1) CN101063720A (ko)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2006270252B2 (en) 2005-07-14 2012-08-30 Stryker Corporation Head unit, having a head band and a ventilation unit, for a medical/surgical personal protection system
JP4984824B2 (ja) * 2006-10-26 2012-07-25 豊田合成株式会社 発光装置
JP2009262542A (ja) * 2008-03-31 2009-11-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 艶消し樹脂フィルム
US8043665B2 (en) * 2008-11-03 2011-10-25 Xerox Corporation Method of controlling gloss in UV curable overcoat compostitions
US20170031525A1 (en) 2010-05-14 2017-02-02 Racing Optics, Inc. Touch screen shield
WO2013095015A1 (ko) * 2011-12-20 2013-06-27 제일모직 주식회사 필름 적층체의 제조 방법 및 이로부터 형성된 필름 적층체
JP5834048B2 (ja) * 2013-05-24 2015-12-16 富士機械工業株式会社 両面塗工装置
CN103293568B (zh) * 2013-06-13 2015-10-28 中国乐凯集团有限公司 一种防反射膜及其制备方法
US9295297B2 (en) 2014-06-17 2016-03-29 Racing Optics, Inc. Adhesive mountable stack of removable layers
EP4220243A3 (en) 2016-07-28 2023-11-01 Racing Optics, Inc. Low reflectance optical web
US10306840B1 (en) * 2018-01-19 2019-06-04 Adam J. Mueller Reinforced agricultural silage covers
US11585962B2 (en) 2018-10-19 2023-02-21 Racing Optics, Inc. Transparent covering having anti-reflective coatings
EP3917768A4 (en) 2019-02-01 2022-10-26 Racing Optics, Inc. THERMOFORMED WINDSHIELD STACK WITH INTEGRATED MOLDABLE FOOT MOLD
US11846788B2 (en) 2019-02-01 2023-12-19 Racing Optics, Inc. Thermoform windshield stack with integrated formable mold
US11346989B2 (en) 2019-03-15 2022-05-31 Hoya Optical Labs Of America, Inc. Mesogen polarizer
US11364715B2 (en) 2019-05-21 2022-06-21 Racing Optics, Inc. Polymer safety glazing for vehicles
US11648723B2 (en) 2019-12-03 2023-05-16 Racing Optics, Inc. Method and apparatus for reducing non-normal incidence distortion in glazing films
US11548356B2 (en) 2020-03-10 2023-01-10 Racing Optics, Inc. Protective barrier for safety glazing
US11490667B1 (en) 2021-06-08 2022-11-08 Racing Optics, Inc. Low haze UV blocking removable lens stack
US11307329B1 (en) 2021-07-27 2022-04-19 Racing Optics, Inc. Low reflectance removable lens stack
US11709296B2 (en) 2021-07-27 2023-07-25 Racing Optics, Inc. Low reflectance removable lens stack
US11933943B2 (en) 2022-06-06 2024-03-19 Laminated Film Llc Stack of sterile peelable lenses with low creep
US11808952B1 (en) 2022-09-26 2023-11-07 Racing Optics, Inc. Low static optical removable lens stack

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09145903A (ja) 1995-11-27 1997-06-06 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム
FR2759360B1 (fr) * 1997-02-10 1999-03-05 Commissariat Energie Atomique Materiau polymerique inorganique a base d'oxyde de tantale notamment a indice de refraction eleve, mecaniquement resistant a l'abrasion, son procede de fabrication et materiau optique comprenant ce materiau
JP3849232B2 (ja) * 1997-06-12 2006-11-22 東レ株式会社 光学薄膜、反射防止性物品および反射防止方法
JP4147370B2 (ja) 1999-12-17 2008-09-10 富士フイルム株式会社 塗布膜の乾燥方法及び装置
JP2003315505A (ja) * 2002-02-25 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルムの製造方法
US20050095420A1 (en) * 2002-03-22 2005-05-05 Institut Fur Neue Materialien Gem. Gmbh Plastic film with a multilayered interference coating
JP2003311911A (ja) 2002-04-25 2003-11-06 Nitto Denko Corp 複層フィルムの製造方法、反射防止フィルム、光学素子および画像表示装置
WO2004056495A1 (en) * 2002-12-17 2004-07-08 Vision-Ease Lens, Inc. Rapid, thermally cured, back side mar resistant and antireflective coating for ophthalmic lenses
JP4503271B2 (ja) * 2003-11-28 2010-07-14 東レ・ダウコーニング株式会社 シリコーン積層体の製造方法
JP2005201986A (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
TWI388876B (zh) 2003-12-26 2013-03-11 Fujifilm Corp 抗反射膜、偏光板，其製造方法，液晶顯示元件，液晶顯示裝置，及影像顯示裝置
JP4393232B2 (ja) 2004-03-09 2010-01-06 富士フイルム株式会社 反射防止フィルムの製造方法
JP4553237B2 (ja) * 2004-06-07 2010-09-29 日東電工株式会社 防眩性反射防止フィルム、光学素子および画像表示装置
JP2006048025A (ja) * 2004-07-07 2006-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルムおよびその製造方法
JP2006095443A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd グラビア塗布方法、装置、及び光学フィルム
JP2006334561A (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 塗布膜の乾燥方法
US20070048457A1 (en) * 2005-08-25 2007-03-01 Fuji Film Corporation Producing method of film having coated layer, film having coated layer, optical film, polarizing plate and liquid crystal display

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007293102A (ja) 2007-11-08
CN101063720A (zh) 2007-10-31
US7722921B2 (en) 2010-05-25
JP5202819B2 (ja) 2013-06-05
US20070253062A1 (en) 2007-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20070105901A (ko) 반사방지막 제조방법 및 장치
JP5505309B2 (ja) 光学シート
JP5100226B2 (ja) 反射防止フィルムの製造方法および反射防止フィルム
US8220940B2 (en) Antiglare film, antireflection film, polarizing plate and image display device
JP5725216B2 (ja) 光学シート
JP2010122560A (ja) 光学シートの製造方法及び光学シート
US20090080082A1 (en) Liquid crystal display device
JP5163259B2 (ja) 光学シートの評価方法
KR20110066104A (ko) 복층 필름 및 그 제조 방법
JP5405781B2 (ja) 光学シートの製造方法
JP2009092974A (ja) 防眩フィルム
JP2014112257A (ja) 光学シート
JP5399024B2 (ja) 光学シートの選別方法
JP2012185290A (ja) 防眩性フィルムの製造方法
JP2010128108A (ja) 光学シートの製造方法及び光学シート
JP2010128256A (ja) 光学シートの製造方法及び光学シート
JP5493317B2 (ja) 光学シートの外光の反射によるコントラスト低下防止方法
JP5439769B2 (ja) 光学シートの製造方法
JP2010128106A (ja) 光学シートの製造方法及び光学シート
JP5460032B2 (ja) 光学シートの選別方法
JP5531388B2 (ja) 光学シートの製造方法
JP2010128180A (ja) 光学シートの製造方法及び光学シート
JP2010152080A (ja) 防眩フィルム
JP2014059585A (ja) 光学シート
JP2010122452A (ja) 光学シートの製造方法及び光学シート

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application