JP2003315505A - 反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、十分な反射防止性能を有し
ながら、塗布面状故障の無い、製品得率の高い、優れた
反射防止フィルムを供給することである。 【解決手段】 透明支持体上に、少なくとも１層のハー
ドコート層と、最外に位置する低屈折率層それぞれの塗
布液を塗布し、乾燥することで形成する反射防止フィル
ムの製造方法において、いずれのハードコート層および
低屈折率層も、塗布液を塗布した後、１０℃以上４０℃
以下に保たれた第一の乾燥部にて、塗布膜のセットを終
了させることを特徴とする反射防止フィルムの製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィルム
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】防眩性反射防止フィルムは一般に、陰極
管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤ
Ｐ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置に
おいて、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り
込みを防止するために、表面突起による光の散乱と、薄
膜干渉によって、反射率を低減する機能を有しており、
ディスプレイの最表面に配置される。

【０００３】一般に塗布製膜によって作製される反射防
止フィルムは、ディスプレイの最表面に配置される点か
ら、光学・物理諸性能と共に、外観面状不良や点欠陥が
無いことは、その製品の品質を決める重要な因子となっ
ている。

【０００４】反射防止フィルムを構成する主な原料は、
有機溶剤に対する溶解性や分散性が得やすいことから、
塗布液は水系よりもむしろ、有機溶剤系が選択される。

【０００５】この際、乾燥条件が適切でないと、ブラッ
シング、ムラ、スジ、ハジキなどの外観・欠陥故障が発
生し、製品得率を落とすばかりか、品質を悪化させる原
因となり得る。特に、反射防止フィルムに対する、面状
品質、性能品質の要求レベルは非常に高いため、製造条
件のひとつである乾燥条件の選択は大変重要であった。

【０００６】また、上記のような光学機能層を溶剤塗布
により付与する場合、乾燥遅延や乾燥中の液組成変動等
により、塗液中に添加されている粒子の凝集や、表面形
状の変化、層の構成成分の相分離等により、反射率、防
眩性、ギラツキ等の性能の悪化が生じる。

【０００７】このような課題に対して、従来の技術とし
て、紫外線硬化樹脂と反応開始剤と溶液からなる塗液を
希釈塗布し、溶剤乾燥前に、強制乾燥する方法が例示さ
れている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、こ
の例示の方法は、塗布液の端部からの裏面への裏回りを
避けるため、１００℃の熱風を裏面から吹きつけ強制乾
燥させており、本発明の反射防止フイルムに適用した場
合、乾燥ムラが大きく適さなかった。

【０００８】

【特許文献１】特許第２５２３５７４号公報（第６ペー
ジ実施例２）

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、十分
な反射防止性能を有しながら、塗布面状故障の無い、製
品得率の高い、優れた反射防止フィルムを供給すること
である。また、反射率、防眩性、ギラツキ等の性能の悪
化のない反射防止フイルムを供給することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】我々は鋭意検討を進めた
結果、反射防止フィルムを製膜する際にそれぞれの層を
どのような条件でセットさせるかが極めて重要であるこ
とがわかった。本発明において塗布膜をセットさせると
は、乾燥によって塗布液の流動が実質的になくなること
を意味し、塗布液の流動が実質的になくなるとは、塗布
液溶剤が蒸発することで、塗布液中の固形分濃度が上が
り、これに従い塗布液の液粘度が上昇し、周囲の風や重
力、フィルムの搬送の上下動によって塗布液が移動しな
くなることを意味するものであり、実際にはラインを途
中で強制停止し、どの地点から流動が無くなっているか
を目視で確認することができる。本発明によれば、塗布
液塗工後の温度を、１０℃〜４０℃に保つことにより、
溶剤の強制乾燥による急激な乾燥を避けつつ、徐々にセ
ット状態に持っていくことができ、本発明の目的を達成
できる。具体的には、下記構成の反射防止フィルムの製
造方法により、上記目的が達成される。

【００１１】（１）透明支持体上に、少なくとも１層の
ハードコート層と、最外に位置する低屈折率層それぞれ
の塗布液を塗布し、乾燥することで形成する反射防止フ
ィルムの製造方法において、いずれのハードコート層お
よび低屈折率層も、塗布液を塗布した後、１０℃以上４
０℃以下に保たれた第一の乾燥部にて、塗布膜のセット
を終了させることを特徴とする反射防止フィルムの製造
方法。 （２）上記製造方法において、第１乾燥部の温度が、ハ
ードコート層および低屈折率層の塗布液の主溶剤の沸点
よりも１０℃以上低いことを特徴とする（1）記載の反
射防止フィルムの製造方法。 （３）上記製造方法において、いずれかの層の第一の乾
燥が、塗布後３０秒以内に開始されることを特徴とする
（１）または（２）記載の反射防止フィルムの製造方
法。 （４）上記製造方法において、いずれかの層の第一の乾
燥部の温度が塗工部温度より２℃以上３０℃以下高いこ
とを特徴とする（1）〜（３）のいずれかに記載の反射
防止フィルムの製造方法。 （５）該ハードコート層の少なくとも１層が、防眩性ハ
ードコート層であることを特徴とする（１）〜（４）の
いずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。 （６）該防眩性ハードコート層に含有される無機微粒子
フィラーが、粒径１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲のジルコニ
ウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、
アンチモン、ケイ素のうちより選ばれる少なくとも１つ
の金属酸化物からなり、該防眩性ハードコート層に含有
される防眩性付与粒子が、粒径２μｍ〜７μｍの範囲
の、有機高分子粒子または/更に無機粒子であり、更
に、該防眩性ハードコート層に含有される、防眩性付与
に寄与しない、層内に含有される粒子が、粒径１μｍ〜
５μｍの範囲の、有機高分子粒子または/更に無機粒子
であることを特徴とする（５）に記載の防眩性反射防止
フィルムの製造方法。 （７）該防眩性ハードコート層において、有機樹脂と該
無機フィラーの複合体の屈折率に対し、該防眩性付与粒
子または／更に該層内に含有される粒子の屈折率が、
０．０５〜０．１５の範囲で異なることを特徴とする
（５）または（６）に記載の防眩性反射防止フィルムの
製造方法。 （８）該ハードコート層と、低屈折率層の間に、中屈折
率層、高屈折率層を有することを特徴とする（１）〜
（４）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方
法。 （９）該透明支持体がトリアセチルセルロースであるこ
とを特徴とする（１）〜（８）のいずれかに記載の反射
防止フィルムあるいは防眩性反射防止フィルムの製造方
法。 （１０）低屈折率層の屈折率が１．３８〜１．４９であ
ることを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の
反射防止フィルムあるいは防眩性反射防止フィルムの製
造方法。 （１１）（１）〜（１０）のいずれかに記載の製造方法
で製造された反射防止フィルムあるいは防眩性反射防止
フィルムを、偏光板における偏光子の２枚の保護フィル
ムのうちの一方に用いたことを特徴とする偏光板。 （１２）前記偏光板における偏光子の２枚の保護フィル
ムのうちの前記反射防止フィルム、または前記防眩性反
射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んで
なる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光
学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物
からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコティ
ック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して
傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面
と該表面保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の
深さ方向において変化していることを特徴とする（１
１）に記載の偏光板。 （１３）（１１）または（１２）に記載の偏光板の、該
反射防止フィルムまたは 該防眩性反射防止フィルムとは反対側の保護フィルム
に、λ／４板を配置したことを特徴とする、反射防止機
能を有する円偏光板。 （１４）上記偏光板の偏光子が、連続的に供給されるポ
リマーフィルムの両端を 保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸する方法
において、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．
０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行
速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程
の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質
延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィ
ルム進行方向をフィルム両端を保持させた状態で屈曲さ
せてなる延伸方法によって製造された偏光子であること
を特徴とする（１１）〜（１３）のいずれかに記載の偏
光板。 （１５）（１）〜（１０）のいずれかに記載の製造方法
で製造された反射防止フィルムあるいは防眩性反射防止
フィルム、または（１１）〜（１４）に記載の反射防止
フィルム付き偏光板あるいは防眩性反射防止フィルム付
き偏光版を、ディスプレイの最表面に用いたことを特徴
とするディスプレイ装置。 （１６）（１１）〜（１４）のいずれかに記載の偏光板
を少なくとも１枚有するＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、
ＯＣＢのモードの透過型、反射型、または半透過型のデ
ィスプレイ装置。 （１７）（１１）〜（１４）のいずれかに記載の偏光板
を少なくとも１枚有する透過型または半透過型のディス
プレイ装置であり、視認側とは反対側の偏光板とバック
ライトとの間に、偏光選択層を有する偏光分離フィルム
を配置することを特徴とするディスプレイ装置。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態として好適
な防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照
しながら説明する。

【００１３】図１に模式的に示される態様は本発明の反
射防止フィルムの一例であり、この場合、反射防止フィ
ルム１は、透明支持体２、防眩性ハードコート層３、そ
して低屈折率層４の順序の層構成を有する。防眩性ハー
ドコート層３には、透光性粒子である防眩性付与粒子
５、あるいは更に、透光性粒子である内部散乱付与粒子
６が分散している。

【００１４】本発明の反射防止フィルムは、透明支持体
上に、少なくとも１層のハードコート層を有し、さらに
その上に最外層の低屈折率層を有するが、防眩性を持た
せるためにはハードコート層を防眩性ハードコート層と
してもよいし、ハードコート層上に防眩層を設けてもよ
い。また、防眩性ハードコート層を平滑なハードコート
層の上にを設けてもよい。それにより、フィルム強度を
あげることができる。防眩性を必要としない用途の反射
防止フィルムに対しては、防眩性ハードコート層３を設
けず、平滑なハードコート層としておけば良い。

【００１５】また、本発明に用いられる反射防止フィル
ムとして、ハードコート層と低屈折率層の間に、中屈折
率層、高屈折率層等を設け、薄膜の干渉による３層構成
の反射防止フィルムとしても良い。この時、中屈折率
層、高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学膜
厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してｎ
λ／４前後、またはその倍数であることが好ましいこと
が特開昭５９-５０４０１号公報に記載されている。

【００１６】特に、低反射率且つ反射光の色味が低減さ
れた反射率特性を実現するためには、設計波長λ（＝５
００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折
率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）を
それぞれ満足することが好ましい。

【００１７】 ｌλ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜ｌλ／４×１．００ （Ｉ）

【００１８】 ｍλ／４×０．７５＜ｎ２ｄ２＜ｍλ／４×０．９５ （ＩＩ）

【００１９】 ｎλ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜ｎλ／４×１．０５ （ＩＩＩ）

【００２０】式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の
屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎ
ｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率
であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であ
り、ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、
そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。さら
に、例えばトリアセチルセルロース（屈折率：１．４
９）からなるような屈折率が１．４５〜１．５５の透明
支持体に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は
１．８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折
率であることが好ましく、例えばポリエチレンテレフタ
レート（屈折率：１．６６）からなるような屈折率が
１．５５〜１．６５の透明支持体に対しては、ｎ１は
１．６５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ３
は１．３５〜１．４５の屈折率であることが好ましい。

【００２１】本発明の製造方法について以下に説明す
る。本発明の反射防止フィルムの製造のための工程の一
例を図４に示した。図４の工程において、ロール状の支
持体フィルムを送り出す１ａ、塗布液を塗布する塗工部
２ａ、ムラが発生しないように溶剤を揮発させる第１乾
燥部３ａ、加熱により溶剤を除去・加熱硬化等を行う第
２乾燥部４ａ、塗膜を熱、電離放射線等により硬化させ
る工程５ａ、塗工したフィルムを巻き取る工程６ａ等が
行われる。ただし本発明はこれに限定されるものではな
い。本発明では透明支持体上に、反射防止フィルムの構
成層となるハードコート層および低屈折率層をそれぞれ
の塗布液で塗布し、乾燥する際に、塗布後、１０℃以上
４０℃以下に保たれた第一の乾燥部３ａにて、塗布膜の
セットを終了させることが必要である。第一の乾燥部の
温度が４０℃を越えると、乾燥性が急激に激しくなり、
外観面状、欠陥への影響を与えるようになる。乾燥部の
温度が低すぎると（１０℃未満）、乾燥時間が遅れ、長
い乾燥ゾーンが必要となるデメリットがあることや、未
乾による工程の反転ロールや、巻き取り後のフィルム裏
面への転写が問題となる。第一の乾燥部の温度について
は、好ましくは１５℃以上４０℃以下、より好ましくは
１８℃以上３５℃以下である。また、乾燥後期で温度を
徐々に上げていくような乾燥温度パターンをつけること
も好ましい。また、第１乾燥部の乾燥温度は、反射防止
フィルムの構成層となるハードコート層および低屈折率
層のそれぞれの塗布液の主溶剤の沸点よりも１０℃以下
低いことが塗膜の急激な乾燥による乾燥ムラを避けるた
め好ましい。より好ましい温度は、１５℃以下、特に好
ましくは２０℃以下低いことである。これらの構成層の
主溶剤の内容は、後述する。第１乾燥部での温度制御は
塗工後すぐ〜３０秒以内にはじめることが望ましい。よ
り好ましくは０．５秒〜２０秒以内、特に好ましくは１
秒〜１５秒以内である。温度制御を実施する時間は、塗
布液の濃度や使用している塗布液溶剤にもよるが、５秒
〜１２０秒以内、より好ましくは１０秒〜１００秒、特
に好ましくは、２０秒〜９０秒である。第１乾燥部での
温度制御は、塗膜中の残留溶剤量が多い時点ではじめる
ことが効果が大きい。塗膜中の残留溶剤が、塗工時の１
０質量％以下となると液の流動性はほとんどなくなるた
め、塗工時の溶剤量の１０質量％になる以前に実施する
ことが必要である。より好ましくは残留溶剤量３０質量
％以前、特に好ましくは５０質量％以前である。本発明
の第１乾燥部の温度は、塗工部の温度より２℃以上、３
０℃以下高い温度が望ましい。これは、塗膜の温度に対
し、第１乾燥部の温度が高いことで、溶剤の揮発が促進
され、塗膜粘度が上がり易いためと考えられる。温度差
が２℃以下の場合には、乾燥促進効果は少なく、３０℃
以上では、乾燥の温度差が大きすぎることによる乾燥ム
ラが生じ易い。より好ましくは、３℃以上２５℃以下、
特に好ましくは５℃以上２０℃以下である。塗工部の温
度としては、８℃〜３５℃の範囲が好ましい。より好ま
しくは１５℃〜３０℃、特に好ましくは１８℃〜２５℃
である。第１乾燥部における温度制御は、風によるムラ
を抑えながら実施することが望ましい。このための方法
としては、塗布面の風速を抑える方法、裏面からの送風
による加温、赤外線ヒーター等による加温、第１乾燥室
全体を熱伝導等により加温する方法等がある。また、初
期乾燥部には、風除けのためのカバー等をつけることも
好ましい。初期乾燥ゾーンでの塗膜面にあたる風の風速
は０．５ｍ／ｓ以下であることが好ましい。より好まし
くは０．３ｍ／ｓ以下、特に好ましくは０．２ｍ／ｓ以
下である。塗布膜がセットし、塗布液の流動が終了した
塗膜に対しては、巻き取り後に改めて、あるいは１０℃
以上４０℃以下に保たれた第一の乾燥部以降巻き取りま
でに、更に高い温度での乾燥（第二乾燥部４ａ）を行な
い、フィルム中の残留の溶剤量を低減することは、搬送
ラインにある反転ロールや巻取り後のフィルム裏面への
転写、あるいは製膜したフィルムの膜強度、溶剤の泣き
出し防止の点で望ましい。第二の乾燥部の温度は、選択
した塗布液溶剤の沸点に対して設定することが好まし
く、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度
〜塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度＋
２０℃の間が好ましく、塗布液中に含まれる最も沸点の
低い溶剤の沸点温度＋２０℃〜塗布液中に含まれる最も
沸点の高い溶剤の沸点温度＋２０℃がより好ましい。
第２乾燥部の温度は５０℃以上１４０℃以下、特に好ま
しくは６０℃以上、１２０℃以下である。加熱時間とし
ては、１５秒以上３０分以内が好ましい。より好ましく
は２０秒以上１５分以下、特に好ましくは３０秒以上１
０分以下である。第１乾燥部と第２乾燥部の間や第２乾
燥部の後、場合によっては、第２乾燥部の中間に、塗膜
を硬化する工程５ａを付与することも好ましい。塗膜の
硬化方法としては、加熱による熱硬化、もしくは、Ｕ
Ｖ、電子線等の電離放射線照射による方法が考えられ
る。熱硬化は、第２の乾燥部での加熱時に反転ロール等
を設置し、加熱時間を長くすることで達成可能である。
電離放射線照射は、照射を連続で実施できる設備を、工
程中の必要な場所に設けることが好ましい。本発明の乾
燥条件は、少なくとも1層のハードコート層と、低屈折
率層に適用することが必須であるが、中屈折率層、高屈
折率層等、その他の構成層の乾燥条件に適用することも
好ましい。

【００２２】本発明の防眩性ハードコート層について以
下に説明する。防眩性ハードコート層はハードコート性
を付与するためのバインダー、防眩性や内部散乱性を付
与するための透光性粒子、および高屈折率化、架橋収縮
防止、あるいは高強度化のための無機微粒子フィラー、
などから形成される。防眩性ハードコート層の、透光性
粒子以外の部分の屈折率は１．４８〜１．７０の範囲に
あることが好ましい。

【００２３】バインダーとしては、飽和炭化水素鎖また
はポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであるこ
とが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリ
マーであることがさらに好ましい。また、バインダーポ
リマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水
素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、
エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭
化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバイ
ンダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和
基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。高屈折
率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フ
ッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒
素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが
好ましい。

【００２４】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シ
クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニ
ルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベ
ンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチル
エステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニ
ルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用して
もよい。

【００２５】高屈折率モノマーの具体例としては、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタク
リロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用し
てもよい。

【００２６】これらのエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開
始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行う
ことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモ
ノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、
マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製
し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱
による重合反応により硬化して防眩性反射防止フィルム
を形成することができる。光ラジカル重合開始剤として
は、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミ
ヒラーのベンゾイルベンゾエート、−アミロキシムエス
テル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチ
オキサントン類等が挙げられる。特に、光開裂型の光ラ
ジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重
合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（P．159，発行
人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１
年発行）に記載されている。市販の光開裂型の光ラジカ
ル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイ
ルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が挙げられ
る。光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対
して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ま
しく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。光
重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感
剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンお
よびチオキサントンを挙げることができる。

【００２７】ポリエーテルを主鎖として有するポリマー
は、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。
多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるい
は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱に
より行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合
物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および
無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支
持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応によ
り硬化して防眩性反射防止フィルムを形成することがで
きる。

【００２８】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を
有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導
入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバイ
ンダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例に
は、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オ
キサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジ
ン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレ
ン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノ
アクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロー
ル、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランの
ような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するための
モノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基
のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を
用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基
は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結
果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能
基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱すること
によって架橋構造を形成することができる。

【００２９】防眩性ハードコート層には、防眩性や内部
散乱性付与の目的で、平均粒径が１〜１０μｍ、好まし
くは１．５〜７．０μｍ、より好ましくは２．０〜６．
０μｍの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子または有
機高分子（樹脂）粒子が含有される。透光性微粒子の屈
折率としては、透光性粒子以外の部分の防眩性ハードコ
ート層の屈折率はとの関係で選択すべきであるが、１．
４０〜１．８０の範囲にあることが好ましい。上記透光
性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子（例えば日
本触媒（株）製シーホスタシリーズ 屈折率＝１．４
３）、アルミナ粒子（例えば住友化学工業（株）製スミ
コランダムシリーズ 屈折率＝１．６４）、ＴｉＯ₂粒
子等の無機化合物の粒子、あるいは 架橋アクリル粒子
（例えば綜研化学（株）製ＭＸシリーズ 屈折率＝１．
４９）、架橋スチレン粒子（例えば綜研化学（株）製Ｓ
Ｘシリーズ 屈折率＝１．６１）、架橋メラミン粒子、
架橋ベンゾグアナミン粒子（例えば日本触媒（株）製エ
ポスターシリーズ 屈折率＝１．６８）等の樹脂粒子が
好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子が好ま
しい。透光性粒子の形状は、真球あるいは不定形のいず
れも使用できるが、表面突起形状が揃う真球状粒子が好
ましい。また、異なる２種以上の透光性粒子を併用して
用いてもよい。素材種が２種類以上でも、粒径が２種類
以上でも、その制限は無い。上記透光性粒子は、形成さ
れた防眩性ハードコート層中の含有量が、好ましくは１
００〜１０００ｍｇ／ｍ ²、より好ましくは３００〜８
００ｍｇ／ｍ²となるように防眩性ハードコート層に含
有される。また、透光性粒子のうち、防眩性を付与する
粒子は、防眩層の厚みよりも大きな粒径の粒子が効率的
で好ましい。一方、防眩層の屈折率とは異なる、内部散
乱に寄与する粒子は、この防眩性を付与する粒子であっ
ても構わないし、または/更に防眩性付与に寄与せず、
層内に埋め込まれる粒子であってもよい。防眩性を高め
すぎないために、この場合は、防眩層の厚みよりも小さ
な粒径の粒子であることが好ましい。本請求項で記載の
光散乱性を発現させるためには、防眩性を付与する粒子
の粒径は、好ましくは３μｍ〜７μｍ、より好ましくは
４〜６μｍであり、内部散乱性を付与する粒子の粒径は
好ましくは２〜５μｍ、より好ましくは３〜４μｍであ
る。散乱性を調整するために、粒径は同じでも、屈折率
の異なる粒子を複数種混合して用いても良い。上記の様
に好ましい範囲はあるが、本発明に記載の要件を満たせ
ば、含有量、粒径に特に制限はない。

【００３０】防眩性ハードコート層には、防眩層の屈折
率を調整するために、上記の透光性粒子とは別に、珪
素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウ
ム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくと
も１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ
以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．
０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好
ましい。無機フィラー形状は特に制限されるものではな
く、例えば、球状、板状、繊維状、棒状、不定形、中空
等のいずれも好ましく用いられるが、球状が分散性がよ
り良く好ましい。この無機フィラーは、その充填量によ
りカール防止、表面硬度向上にも寄与できる。無機フィ
ラーを防眩層が含有する場合、防眩層の屈折率は、防眩
層を構成する透明樹脂と無機フィラー各々の屈折率とこ
れらの混合比率で決まる。防眩層の屈折率と前記透光性
粒子のうちの内部散乱粒子との屈折率差は、０．０５〜
０．１５が好ましい。０．０５未満であれば内部散乱性
が低く、多くの体積の内部散乱粒子を含有しなければな
らず、防眩性反射防止膜の膜強度の低下の懸念があるた
め、好ましくない。一方、０．１５を超えると、散乱光
の散乱角度が大きくなるため、文字ボケが激しくなる方
向であり、反射防止フィルムとして好ましくない。最も
好ましくは、屈折率差は０．０７〜０．１３である。防
眩層ハードコート層と透光性粒子の屈折率の大小は、特
に制限はないが、文字ボケをより少なくするためには、
上記記載の屈折率差の範囲内で、防弦層ハードコート層
の屈折率を低くする方が好ましいし、防眩性反射防止フ
ィルムとして、より反射率を低くするためには、防眩層
ハードコート層の屈折率を高くする方が好ましく、設計
コンセプトによって適宜選択される。

【００３１】防眩性ハードコート層に用いられる無機フ
ィラーの具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴ
Ｏ、ＳｉＯ ₂等が挙げられる。ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、およ
びＺｒＯ₂が無機フィラーの中で、取り扱い性の点で特
に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリン
グ処理又はチタンカップリング処理されることも好まし
く、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を
有する表面処理剤が好ましく用いられる。これらの無機
フィラーの添加量は、防眩性ハードコート層の全質量の
１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２
０〜７０％であり、特に好ましくは３０〜５０％であ
る。尚、このような無機フィラーは、粒径が光の波長よ
りも十分小さいために散乱が生じず、樹脂バインダーに
該フィラーが分散した複合体は、前述の通り、光学的に
均一な物質として振舞う。

【００３２】本発明の、樹脂バインダーからなる防眩性
ハードコート層あるいは、樹脂バインダーが無機フィラ
ーを含有した防眩性ハードコート層の屈折率は、１．４
８〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは
１．５０〜１．６５である。屈折率を上記範囲とするに
は、前述の通り、樹脂バインダー及び無機フィラーの種
類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択す
るかは、予め実験的に容易に知ることができる。

【００３３】本発明の防眩性ハードコート層は、特に塗
布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するた
めに、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、
あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有
することができる。特にフッ素系の界面活性剤は、より
少ない添加量において、本発明の防眩性反射防止フィル
ムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良す
る効果が現れるため、好ましく用いられる。フッ素系の
界面活性剤の好ましい例としては、スリーエム社製のフ
ロラードＦＣ−４３１等のパーフルオロアルキルスルホ
ン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガフ
ァックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７
６ＰＦ等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が
挙げられる。シリコーン系の界面活性剤としては、エチ
レングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー
等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリ
ジメチルシロキサン等が挙げられる。

【００３４】しかしながら、上記のような界面活性剤を
使用することにより、防眩層表面にＦ原子を含有する官
能基、および／またはＳｉ原子を有する官能基が偏析す
ることにより、防眩層の表面エネルギーが低下し、上記
防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射
防止性能が悪化する問題が起こりえる。これは低屈折率
層を形成するために用いられる塗布組成物の濡れ性が悪
化するために低屈折率層の膜厚の目視では検知できない
微小なムラが悪化するためと推定される。このような問
題を解決するためには、フッ素系および／またはシリコ
ーン系の界面活性剤の構造と添加量を調整することによ
り、防眩層の表面エネルギーを好ましくは２５ｍＮ・ｍ
^-1〜７０ｍＮ・ｍ^-1に、より好ましくは３５ｍＮ・ｍ^-1
〜７０ｍＮ・ｍ^-1に制御することが効果的であり、さら
に後述するように低屈折率層の塗布溶剤を５０〜１００
質量パーセントが１００℃以下の沸点を有するものとす
ることが効果的であること検討の中で見出した。また、
上記のような表面エネルギーを実現するためには、Ｘ線
光電子分光法で測定したＦ原子由来のピークとＣ原子由
来のピークの比であるＦ／Ｃが０．４０以下、および／
またはＳｉ原子由来のピークとＣ原子由来のピークの比
であるＳｉ／Ｃが０．３０以下であることが必要である
こともわかっている。

【００３５】本発明の防眩性ハードコート層の膜厚は１
〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、更
に好ましくは３〜５μｍである。膜厚が薄すぎると、防
眩性反射防止フィルムとしての表面硬度が低下する、好
ましい範囲の透光性粒子を含有できなくなる、といった
弊害が生じ、一方、膜厚が厚すぎると、塗液中のバイン
ダー成分の比率が高くなり、液粘度上昇による塗布性不
良といった弊害が生じるためである。

【００３６】本発明の防弦性反射防止フィルムの表面突
起形状は、防眩性や内部散乱性を付与する透光性微粒
子の素材種、粒径、添加量、更には樹脂、あるいは樹
脂と無機フィラーの複合体から成る防眩層の厚み、塗
布液の溶剤組成、Ｗｅｔ塗布量、乾燥条件、電離
線硬化樹脂に対する硬化条件など、が制御因子として挙
げることができ、この中で、の影響が大きい。我々
が検討を進めた結果、同じ防眩性を与える、防眩性反射
防止フィルムであっても、このトータルの防眩性を発現
するための、ひとつひとつの表面突起形状が異なると、
ディスプレイ電源ＯＦＦ時あるいは、液晶の黒表示の時
に、表面散乱性の違いで、外観状の黒の締まり（逆にい
うと、白味）が異なることがわかった。表面突起の突起
傾斜角が大きいと、広角域への表面散乱性が強くなるた
め、黒の締まりが損なわれ、白っぽくなり、高級感が失
われる。黒の締まりは、突起傾斜角度分布の角度の小さ
い側から９５％頻度の角度とよく相関があることを明確
にし、好ましくは２０°以下、より好ましくは１５°以
下、更に好ましくは１３°以下である。また、防眩性に
よく相関する、平均の表面突起傾斜角度は、より好まし
くは１〜５°、より好ましくは１．５〜４．５°、更に
好ましくは２〜４°である。本発明の製造方法で製造す
る場合、上記、、などは重要な影響因子となるた
め、表面形状制御と、面状・欠陥制御との両立が容易と
なる条件選択が望ましい。

【００３７】本発明に係る低屈折率層、ハードコート
層、その他の構成層を形成するために用いる塗布液の溶
剤としては、各層の構成成分の溶解性、添加している粒
子等の安定性、塗工する下地層への溶解・拡散性、乾燥
工程での乾燥性、粘度調整等の観点から適宜選択でき
る。溶剤の組成としては、単独および混合のいずれでも
よいが、乾燥性、粘度等を調整するために、適宜混合す
ることがより好ましい。特に、高沸点の溶剤と、低沸点
の溶剤を混合することは好ましい方法である。また、本
発明の塗布液における主溶剤とは、塗布液中に含まれる
溶剤のうち、最も質量比の大きい溶剤のことをしめす。

【００３８】低沸点溶剤（沸点が１００℃以下の溶剤と
する）としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃、
以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シク
ロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの
炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホル
ム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジ
クロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８
７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．
５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロ
フラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．
２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．
１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、ア
セトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエチルケ
トン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．
５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８
２．４）、１−プロパノール（９７．２）、２−ブタノ
ール（９９．５）、ｔ−ブタノール（８２．５）などの
アルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオ
ニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭
素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エス
テル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケ
トン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。

【００３９】高沸点溶剤（沸点が１００℃以上の溶剤と
する）としては、例えば、オクタン（１２５．７）、ト
ルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラク
ロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３
１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテ
ル（１４２．４）、酢酸ブチル（１２６）、酢酸イソブ
チル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２
−メチル−４−ペンタノン（＝ＭＩＢＫ、１１５．
９）、２−オクタノン（１７３）、１−ブタノール（１
１７．７）、ｉｓｏ―ブタノール(１０７．９)、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル（１２０）、ジアセ
トンアルコール（１６８）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（１５３）、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１
６６）、ジメチルスルホキシド（１８９）、などがあ
る。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−
ペンタノン、等である。本発明の防眩性ハードコート層
の溶剤組成としては、沸点１００℃以上の溶剤が、塗布
液中の全溶剤の１％〜９０％、より好ましくは、塗布液
中の全溶剤の３％〜８０％含まれることが好ましい。沸
点１００℃以上の溶剤が全く無いと、乾燥時にブラッシ
ング面状が起きやすくなる。また、反射防止フィルムを
構成する原料の溶解性、分散性が得られる点から、ケト
ン系溶剤が好ましく、メチルエチルケトン(沸点８０
℃)、シクロヘキサノン（沸点１５６℃）、ジアセトン
アルコール（沸点１６８℃）、メチルイソブチルケトン
（沸点１１３℃）、アセトン（沸点５６℃）などが挙げ
られる。また、Ｗｅｔ塗布量は、塗布方式からの制限も
受けるが、３ｃｃ/ｍ²〜２０ｃｃ/ｍ²、より好ましくは
３ｃｃ/ｍ²〜１０ｃｃ/ｍ²である。あまりＷｅｔ塗布量
が少なすぎると、必要な固形分塗設量を得るための塗布
液の粘度が高くなり塗布性（スジなど）に影響が出やす
くなることから好ましくなく、Ｗｅｔ塗布量が多くなり
すぎると、乾燥しにくくなり不利となる。塗布液の固形
分濃度は、３％以上６０％以下が好ましく、５％以上５
０％以下が更に好ましい。また、乾燥条件因子について
は適宜選択されるが、乾燥風の温度、給気/排気バラン
ス、ベースの温度、塗布液の温度などを制御する。

【００４０】本発明の防眩性反射防止フィルムでは、フ
ィルム強度向上の目的で防眩性を持たない、いわゆる平
滑なハードコート層も好ましく用いられ、透明支持体と
防眩性ハードコート層もしくは透明支持体と低、中、高
屈折率層の間に塗設される。

【００４１】平滑なハードコート層について説明する。
平滑なハードコート層に用いる素材は、防眩性を付与す
るための透光性粒子を用いないこと以外は、防眩性ハー
ドコート層において挙げたものと同様であり、樹脂バイ
ンダー、あるいは、樹脂バインダーと無機フィラーの混
合体から形成される。

【００４２】本発明の平滑なハードコート層では、無機
フィラーとして、強度および汎用性の点でシリカ、アル
ミナが好ましく、特にシリカが好ましい。また該無機フ
ィラーは表面をシランカップリング処理されることが好
ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能
基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。

【００４３】これらの無機フィラーの添加量は、ハード
コート層の全質量の１０〜９０％であることが好まし
く、より好ましくは２０〜７０％であり、特に好ましく
は３０〜５０％である。平滑なハードコート層の膜厚は
１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、
更に好ましくは３〜５μｍである。

【００４４】本発明の低屈折率層について以下に説明す
る。本発明の防眩性反射防止フィルムの低屈折率層の屈
折率は、１．３８〜１．４９が好ましく、より好ましく
は１．３８〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率
層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好
ましい。

【００４５】 ｍλ／４×０．７＜ｎ１ｄ１＜ｍλ／４×１．３ 数式（Ｉ）

【００４６】式中、ｍは正の奇数であり、ｎ₁は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５
０ｎｍの範囲の値である。なお、上記数式（Ｉ）を満た
すとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ
（正の奇数、通常１である）が存在することを意味して
いる。

【００４７】本発明の低屈折率層を形成する素材につい
て以下に説明する。低屈折率層には、低屈折率バインダ
ーとして、動摩擦係数０．０３〜０．１５、水に対する
接触角９０〜１２０°の熱または電離放射線により架橋
する含フッ素ポリマー、および膜強度向上のための無機
フィラー、が好ましく用いられる。

【００４８】低屈折率層に用いられる架橋性の含フッ素
ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化
合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−
テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素
モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位と
する含フッ素ポリマーが挙げられる。含フッ素モノマー
単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類
（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、
テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘ
キサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメ
チル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸
の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類
（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２
０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビ
ニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフル
オロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入
手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピ
レンである。

【００４９】架橋反応性付与のための構成単位としては
グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエ
ーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を
有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カル
ボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有
するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール
（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビ
ニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレ
イン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単
位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）ア
クリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位
（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作
用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

【００５０】また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応
性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の
透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマ
ーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位
には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、
プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン
等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチ
ルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エ
チレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導
体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α
−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニ
ルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビ
ニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド
類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘ
キシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アク
リロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

【００５１】上記のポリマーに対しては特開平１０−２
５３８８号および特開平１０−１４７７３９号に記載の
ごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

【００５２】本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、
パ‐フルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニ
ルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架
橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル
反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性
基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応
性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０mo
l%を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜
６０mol%の場合である。

【００５３】また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性
を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されてい
ることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制
限はないが例えば特開平１１−１８９６２１号、同１１
−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号に記
載のごとくシリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシ
ロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２
−２５１５５５号、同２−３０８８０６号に記載のごと
くシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフ
ト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらのポリ
シロキサン成分はポリマー中の０.５〜１０質量％であ
ることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％であ
る。

【００５４】防汚性付与に対しては上記以外にも反応性
基含有ポリシロキサン（例えばKF-100T,X-22-169AS,KF-
102,X-22-3701IE,X-22-164B,X-22-5002,X-22-173B,X-22
-174D,X-22-167B,X-22-161AS(以上商品名、信越化学工
業社製)、AK-5,AK-30,AK-32（以上商品名、東亜合成社
製）、サイラプレーンFM0275,サイラプレーンFM0721(以
上チッソ社製)等）を添加する手段も好ましい。この際
これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０.５
〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に
好ましくは１〜５質量％の場合である。

【００５５】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレ
ン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチ
ルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリル
アミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シ
クロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

【００５６】低屈折率層に用いられる無機フィラーとし
ては低屈折率のものが好ましく用いられ、好ましい無機
フィラーは、シリカ、フッ化マグネシウムであり、特に
シリカが好ましい。該無機フィラーの平均粒径は０．０
０１〜０．２μｍであることが好ましく、０．００１〜
０．０５μｍであることがより好ましい。フィラーの粒
径はなるべく均一（単分散）であることが好ましい。該
無機フィラーは粒子径の異なる２種類のフィラーを併用
しても良い。特に粒子径が０．０２〜０．０５μｍの無
機フィラーと粒子径が０．０１μｍ以下の無機フィラー
を併用することにより、反射率と耐擦傷性を両立させる
ことができる。粒子径の異なる２種類の無機フィラーそ
れぞれの添加量の割合は、欲しい反射率と耐擦傷性のバ
ランスにより０〜１の間を自由に変化させることが可能
である。反射率を低減させたい場合には粒子径の小さな
無機フィラーが大部分を占めることが好ましく、耐擦傷
性を強化したい場合には粒子径の大きな無機フィラーの
割合を上げてゆくことが好ましい。該無機フィラーの添
加量は、低屈折率層の全質量の５〜７０質量％であるこ
とが好ましく、１０〜５０質量％であると更に好まし
く、１５〜３０質量％が特に好ましい。

【００５７】該無機フィラーは表面処理を施して用いる
ことも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理
やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリン
グ剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング
剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、後述す
る一般式（１）の化合物も含めたオルガノアルコキシメ
タル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤）が好ましく用いられる。該無機フィラーがシ
リカの場合はシランカップリング処理が特に有効であ
る。一般式（１）の化合物は、低屈折率層の無機フィラ
ーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ
表面処理を施すために用いても良いし、該層塗布液調製
時にさらに添加剤として添加して該層に含有させても良
い。

【００５８】本発明の反射防止フィルムのハードコート
層（防眩性を有しているものも含む）および低屈折率層
のうちの少なくとも１層に、下記一般式（１）の化合物
が含有されることが、耐擦傷性に対して好ましい。この
化合物は、アルコキシシリル基が加水分解していない状
態、もしくはオルガノシラン化合物の加水分解物／また
はその部分縮合物、いわゆるゾル成分（以降このように
称する）の状態で含有される。これらのオルガノシラン
化合物は、特にゾル成分で含有されることが好ましい。
一般式（１）（Ｒ¹）ｍ−Ｓｉ（ＯＲ²）ｎ 一般式（１）式中、Ｒ¹は置換もしくは無置換のアルキ
ル基もしくは、アリール基を表す。Ｒ²は置換もしくは
無置換のアルキル基もしくはアシル基を表す。ｍは０〜
３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合
計は４である。一般式（１）で表される化合物について
説明する。一般式（１）においてＲ¹は置換もしくは無
置換のアルキル基もしくはアリール基を表す。アルキル
基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ヘキシル、ｔ−ブチル、sec−ブチル、ヘキシル、デシ
ル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好
ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１
６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基と
してはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフ
ェニル基である。置換基としては特に制限はないが、ハ
ロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト
基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチ
ル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル
等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘ
テロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコ
キシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシ
ルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アル
キルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチ
オ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−
プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシ
リル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセ
トキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ
等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基
（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバ
モイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル
等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルア
ミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が好ま
しい。これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプ
ト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アル
コキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であ
り、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ
基（アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）、重
合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルア
ミノ）である。またこれら置換基は更に置換されていて
も良い。Ｒ²は置換もしくは無置換のアルキル基もしく
はアシル基を表す。アルキル基、アシル基ならびに置換
基の説明はＲ¹と同じである。Ｒ²として好ましくは無置
換のアルキル基もしくは無置換のアシル基であり、特に
好ましくは無置換のアルキル基である。ｍは０〜３の整
数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４
である。Ｒ¹もしくはＲ²が複数存在するとき、複数のＲ
¹もしくはＲ²はそれぞれ同じであっても異なっていても
良い。ｍとして好ましくは０、１、２であり、特に好ま
しくは１である。以下に一般式（１）で表される化合物
の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。

【００５９】

【化１】

【００６０】

【化２】

【００６１】

【化３】

【００６２】

【化４】

【００６３】

【化５】

【００６４】

【化６】

【００６５】これらの具体例の中で、（１）、（１
２）、（１８）、（１９）等が特に好ましい。

【００６６】また、本発明のオルガノシラン化合物は、
加水分解・縮合反応によりゾル化した状態で用いること
も好ましい。ゾル化は、無溶媒でも、溶媒中でも行うこ
とができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用
いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化
水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適
である。ゾル化の溶媒はオルガノシランと触媒を溶解さ
せるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは
塗布液の一部として用いることが工程上好ましく、含フ
ッ素樹脂などのその他の素材と混合した場合に、溶解性
あるいは分散性を損なわないものが好ましい。

【００６７】このうち、アルコール類としては、例えば
１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることがで
き、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽
和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類
の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
ピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチル
アルコール、sec −ブチルアルコール、tert−ブチルア
ルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエ
ーテルなどを挙げることができる。

【００６８】また、芳香族炭化水素類の具体例として
は、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類
の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
ど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケト
ンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げ
ることができる。これらの有機溶媒は、１種単独である
いは２種以上を混合して使用することもできる。該反応
における固形分の濃度は特に限定されるものではないが
通常１％〜90％の範囲であり、好ましくは20％〜70％の
範囲である。オルガノシランの加水分解・縮合反応は、
触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒として
は、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、
ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機
酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア
等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機
塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブト
キシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられ
るが、ゾル液の製造安定性やゾル液の保存安定性の点か
ら、酸触媒（無機酸類、有機酸類）が好ましい。無機酸
では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐ
Ｋa値(25℃))が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫
酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好
ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下
の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５
以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュ
ウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が
特に好ましい。加水分解・縮合反応は、通常、オルガノ
シランの加水分解性基１モルに対して０．３〜２モル、
好ましくは０．５〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存
在下あるいは非存在下に、そして好ましくは触媒の存在
下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われ
る。加水分解性基がアルコキシドで触媒が有機酸の場合
には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを
供給するために、水の添加量を減らすことができ、オル
ガノシランのアルコキシド基１モルに対する水の添加量
は、０〜２モル、好ましくは０〜１．５モル、より好ま
しくは、０〜１モル、特に好ましくは、０〜０．５モル
である。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に
水を添加しない場合も好適である。触媒の使用量は、触
媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して０．０１〜
１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、触媒
が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量
が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対し
て０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％
であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性
基に対して１〜５００モル％、好ましくは１０〜２００
モル％であり、より好ましくは２０〜２００モル％であ
り、更に好ましくは５０〜１５０モル％であり、特に好
ましくは５０〜１２０モル％である。反応は２５〜１０
０℃で撹拌することにより行われるがオルガノシランの
反応性により適宜調節されることが好ましい。

【００６９】一般式１の化合物の適宜な添加量は、該化
合物が加水分解していない場合、該化合物を含有する層
の全固形分の１〜３００質量％が好ましく、３〜２００
質量％がより好ましく、５〜１００質量％が最も好まし
い。オルガノシランのゾルの場合の適宜な含有量は、添
加する層によっても異なるが、低屈折率層の添加量は含
有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ま
しく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質
量％が特に好ましい。低屈折率層以外の光学薄膜層への
添加量は、含有層（添加層）の全固形分の０．００１〜
５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好
ましく、０．０５〜１０質量％が更に好ましく、１〜５
質量％が特に好ましい。また、低屈折率層においては、
含フッ素樹脂に対するオルガノシランのゾルの使用量
は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がよ
り好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３
０質量％が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効
果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加した
り、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくな
い。以上のように一般式（１）で表される化合物はこれ
らハードコート層乃至低屈折率層の少なくとも１層の塗
布液に含有せしめて塗設することが好ましい。

【００７０】本発明に係る低屈折率層を形成するために
用いる塗布液の溶剤としては、先に述べた溶剤を用いる
ことができる。溶剤は、単独および混合のいずれでもよ
いが、混合のときは、沸点が１００℃以下の溶媒が５０
〜１００％であることが好ましく、より好ましくは８０
〜１００％、より好ましくは９０〜１００％、さらに好
ましくは１００％である。沸点が１００℃以下の溶媒が
５０％以下であると、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布
面状が悪化し、塗布膜厚にもムラが生じるため、反射率
などの光学特性も悪化する。沸点が１００℃以下の溶媒
を多く含む塗布液を用いる事により、この問題は解決す
る。

【００７１】次に本発明の中、高屈折率層について以下
に説明する。本発明の中屈折率層および高屈折率層は、
屈折率の高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性の
モノマー、開始剤、もしくは前述のオルガノシラン化合
物及び／またはゾル、および溶媒を含有する塗布組成物
を塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線によ
る硬化させることによって形成される。無機微粒子とし
ては、 Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物
から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物からなるもの
が好ましい。このようにして形成された中屈折率層およ
び高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗
布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れ
る。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するため
に、特開平１１-１５３７０３号公報や米国特許ＵＳ６
２１０８５８Ｂ１等に記載されているような、多官能
（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メ
タ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれるこ
とが好ましい。

【００７２】無機微粒子の平均粒径は、コールターカウ
ンター法で測定したときの平均粒径で１から１００ｎｍ
であることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大
きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好まし
くない。１００ｎｍ以上では、バインダとの屈折率差に
起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。高屈折
率層および中屈折率層のヘイズは、３％以下であること
が好ましく、１％以下であることがより好ましく、０．
５％以下であることが更に好ましい。

【００７３】本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支
持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好
ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとし
ては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロー
ス、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フィル
ム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＬ，ＴＤ８０ＵＦ、６０μｍ
ＴＡＣ、Ｔ４０ＵＺ、ＦＴＵＶ５０Ｆなど）、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリ
スチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アー
トン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン
（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙
げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好
ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。トリ
アセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。
単層のトリアセチルセルロースは、公開特許公報の特開
平７−１１０５５等で開示されているドラム流延、ある
いはバンド流延等により作成され、後者の複数の層から
なるトリアセチルセルロースは、公開特許公報の特開昭
６１−９４７２５、特公昭６２−４３８４６等で開示さ
れている、いわゆる共流延法により作成される。すなわ
ち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメ
タン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタ
ノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル
等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチ
ルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じ
て可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促
進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）
を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するド
ラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称
する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単
層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステル
ドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上であ
る程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から
剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させ
て溶剤を除去することからなる方法である。

【００７４】上記のような、トリアセチルセルロースを
溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的
である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤は
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含ま
ないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機
溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好
ましくは２質量％未満）であることを意味する。ジクロ
ロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリアセチ
ルセルロースのドープを調整する場合には、後述するよ
うな特殊な溶解法が必須となる。

【００７５】第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以
下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）
で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々
に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ま
しくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−
２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却す
る。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−
７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０
〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、
トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さ
らに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、
さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５
０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロース
が流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけ
でもよし、温浴中で加温してもよい。

【００７６】第二の方法は、高温溶解法と称され、以下
に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、
各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロー
スを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法におい
て、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０質量％以
下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、
なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混
合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２
４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に
好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１
９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布で
きないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却
する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却して
常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセ
ルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やライン
を、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却
水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。ジクロ
ロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセ
ルロースアセテートフィルムおよびその製造法について
は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２
００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７
４５号と略す）に記載されている。

【００７７】本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置
に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレ
イの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセ
ルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィル
ムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本
発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用い
ることがコストの上では好ましい。

【００７８】本発明の反射防止フィルム付きの偏光板
は、透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外
層を形成した後、鹸化処理を実施することにより得られ
る。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中
に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカ
リ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が
残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に
浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。鹸化
処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透
明支持体の表面が親水化される。親水化された表面は、
ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性
を改良するのに特に有効である。また、親水化された表
面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と
接着させる際に偏向膜と反射防止フィルムの間に塵埃が
入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効であ
る。鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支
持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるよう
に実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以
下、特に好ましくは２０゜以下である。

【００７９】本発明の反射防止フィルム付きの偏光板
は、偏光層の２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚
に上記反射防止フィルムを用いてなる。本発明の反射防
止フィルムを最表面に使用することにより、外光の映り
込み等が防止され、高精細適性のある、防汚性、耐擦傷
性等も優れた偏光板とすることができる。また、本発明
の偏光板において反射防止フィルムが保護フィルムを兼
ねることで、製造コストを低減できる。

【００８０】本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面
保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体
の反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリ
によって鹸化処理することが必要であることは前記で述
べた通りである。アルカリ鹸化処理の具体的手段として
は、以下の２つから選択することができる。汎用のトリ
アセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる
点で（１）が優れているが、防眩性反射防止フィルム面
まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解され
て、膜が劣化する懸念がある点、鹸化処理液成分の乾固
物が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合に
は、特別な工程となるが、（２）が優れる。（１）透明
支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少な
くとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処
理する。（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前
または後に、アルカリ液を該防眩性反射防止フィルムの
防眩性反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に
塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該
フィルムの裏面だけを鹸化処理する。

【００８１】本発明の反射防止フィルムは以下の方法で
形成することができるが、この方法に制限されない。ま
ず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製
される。次に、ハードコート層を形成するための塗布液
を、リバースグラビア法（グラビアコート法、マイクロ
グラビアコート法などに分類される）、ディップコート
法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラ
ーコート法、ワイヤーバーコート法、エクストルージョ
ンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）に
より透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイク
ログラビアコート法が特に好ましい。その後、光照射あ
るいは加熱して、ハードコート層を形成するためのモノ
マーを重合して硬化する。これによりハードコート層が
形成される。ここで、必要であれば前記ハードコート層
を防眩性ハードコート層とし塗布の前に同様な方法で平
滑なハードコート層塗布および硬化を行えばよい。次
に、同様にして低屈折率層を形成するための塗布液をハ
ードコート層上に塗布し、光照射あるいは加熱し低屈折
率層が形成される。このようにして、本発明の反射防止
フィルムが得られる。

【００８２】本発明の反射防止フィルムの各層を塗設す
る際に用いるマイクログラビアコート法とは、直径が約
１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周
にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持
体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロ
ールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面か
らドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落とし
て、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある
位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗
工することを特徴とするコート法である。ロール形態の
透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体
の一方の側に、少なくともハードコート層乃至含フッ素
ポリマーを含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイ
クログラビアコート法によって塗工することができる。

【００８３】マイクログラビアコート法による塗工条件
としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパター
ンの線数は５０〜８００本/インチが好ましく、１００
〜３００本/インチがより好ましく、グラビアパターン
の深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍが
より好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒ
ｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであるこ
とがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００
ｍ/分であることが好ましく、１〜５０ｍ/分がより好ま
しい。

【００８４】このようにして形成された本発明の反射防
止フィルムは、ヘイズ値が１０〜７０％、好ましくは３
０〜５０％の範囲にあり、そして４５０ｎｍから６５０
ｎｍの平均反射率が２．２％以下、好ましくは１．９％
以下である。

【００８５】本発明の反射防止フィルムが、上記範囲の
ヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の
劣化を伴なわずに良好な反射防止性が得られる。

【００８６】本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装
置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のようなディスプレイ
装置に適用することができる。本発明の反射防止フィル
ムは透明支持体を有しているので、透明支持体側をディ
スプレイ装置の画像表示面に接着して用いられる。

【００８７】また、本発明の反射防止フィルムは、偏光
子、透明支持体およびディスコティック液晶の配向を固
定した光学異方層から構成される光学補償フィルム、並
びに光散乱層からなる偏光板と組み合わせて用いられる
ことが好ましい。さらには偏光板における偏光子の２枚
の保護フィルムのうちの反射防止フィルム以外のフィル
ムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学
補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティッ
ク構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する
層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表
面保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコ
ティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面との
なす角度が、光学異方層の深さ方向において変化してい
る偏光板がより好ましい。光散乱層からなる偏光板は、
例えば特開平１１−３０５０１０号公報等に記載があ
る。さらに詳述すると、本発明の反射防止フィルムは、
偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、
ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステッ
トネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント
（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプ
ティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等
のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示
装置に好ましく用いることができる。特にＴＮモードや
ＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１
−１０００４３等に記載されているように、視野角拡大
効果を有する光学補償フィルムを、偏光子の裏表２枚の
保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対
側の面に用いることにより、１枚の偏光板の厚みで反射
防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが
でき、特に好ましい。

【００８８】偏光膜としては、いかなる偏光膜をも適用
することができる。例えばポリビニルアルコール系フィ
ルムを連続的に供給し、その両端を保持手段により保持
しつつ張力を付与して延伸する際、フィルムの一方端の
実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌
跡Ｌ１と、もう一端の実質保持開始点から実質保持解除
点までの保持手段の軌跡Ｌ２が、左右の実質保持解除点
の距離Ｗに対し、下記式（２）の関係にあると共に、左
右の実質保持開始点を結ぶ直線は、保持工程に導入され
るフィルムの中心線と略直交するものとし、左右の実質
保持解除点を結ぶ直線は、次工程に送り出されるフィル
ムの中心線と略直交するようにして延伸したものであっ
てもよい（図２参照。米国特許公開２００２−８８４０
Ａ１参照。） 式（２） ｜Ｌ２−Ｌ１｜＞０．４Ｗ

【００８９】また、透過型または半透過型の液晶表示装
置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選
択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３M（株）
製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さら
に視認性の高い表示装置を得ることができる。また、λ
／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板
や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面およ
び内部からの反射光を低減するのに用いることができ
る。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明
の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表
示装置に適用できる。

【００９０】本発明を詳細に説明するために、以下に実
施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。

【００９１】

【実施例】[実施例１] （防眩性ハードコート層用塗布液の調製）市販シリカ
含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＫＺ７３１
７、ＪＳＲ（株）製、固形分濃度約７２％、固形分中Ｓ
ｉＯ₂含率約３８％、重合性モノマーＤＰＨＡ、重合開
始剤含有）６１．３質量部をメチルイソブチルケトン
８．４質量部で希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化
して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。さらに
この溶液に、平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒
子（商品名：ＳＸ−３５０Ｈ、綜研化学（株）製）の２
５％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機
にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を１１．
０質量部加え、次いで、平均粒径５μｍの架橋ポリスチ
レン粒子（商品名：ＳＸ−５００Ｈ、綜研化学（株）
製、屈折率１．６１）の２５％メチルイソブチルケトン
分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０
分分散した分散液を１４．４質量部加えた。更に、３−
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５
１０３信越化学工業（株）製）を４．９質量部加えた。
本塗布液の溶剤組成は、ＭＥＫ（沸点７９．６℃）／Ｍ
ＩＢＫ（沸点１１５．９℃）＝３／７であった。上記混
合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、防眩性ハードコート層の塗布液を調製した。

【００９２】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）屈折率
１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）５５．２質量部
に、コロイダルシリカ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径
１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）
４．８質量部、メチルエチルケトン２８．０質量部、シ
クロヘキサノン２．８質量部、３−アクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３信越化学工業
（株）製）を９．２質量部を添加、攪拌の後、孔径１μ
ｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率
層用塗布液Ａを調製した。本塗布液の溶剤組成はＭＥＫ
／シクロヘキサノン（沸点１５５．７℃）＝９７／３で
あった。

【００９３】防眩性ハードコート層用塗布液、低屈折
率層用塗布液Ａ、それぞれを図４に示したような塗布機
を用いて、以下のようにして塗布した。積層の組み合わ
せは表１に記載の通りに行った。 （１）防眩性ハードコート層の塗設 ８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（Ｔ
ＡＣ−ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）をロ
ール形態で巻き出して、上記の防眩性ハードコート層用
塗布液を線数１１０本/インチ、深度３５μｍのグラ
ビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビア
ロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回
転数４０ｒｐｍ、搬送速度１０ｍ/分の条件で塗布し
た。この時の塗工部の温度は１８℃であった。第一（最
初）の乾燥ゾーン内で３０℃２分の乾燥の後、更に以降
の乾燥ゾーン内で１００℃、２分の乾燥の後、酸素濃度
０．１％以下の窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メ
タルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を
用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、乾燥膜厚
４．０μｍの防眩性ハードコート層を形成し、巻き取っ
た。上記第一の乾燥ゾーン内の風速は、最大で０．２ｍ
／ｓであり、乾燥ゾーン内で塗布膜はセットしているこ
とが確認された。防眩層ハードコート層の屈折率は、
１．５１であった。 （２）低屈折率層の塗設 該防眩性ハードコート層を塗設したフイルムを再び巻き
出して、上記低屈折率層用塗布液Ａを線数２００本/イ
ンチ、深度３５μｍのグラビアパターンを有する直径５
０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを
用いて、グラビアロール回転数４０ｒｐｍ、搬送速度１
０ｍ/分の条件で塗布した。この時の塗工部の温度は１
８℃であった。最初の乾燥ゾーン内で３０℃２分の乾燥
の後、以降の乾燥ゾーン内で１００℃で２分乾燥の後、
続けて１４０℃で８分間後加熱し、さらに酸素濃度０．
１％以下の窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタル
ハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用い
て、照度４００ｍＷ／ｃｍ ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射し、続けて１４０℃で８分間後加熱し、
厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、巻き取っ
た。上記第一の乾燥ゾーン内の風速は、最大で０．３ｍ
／ｓであり、乾燥ゾーン内で塗布膜はセットしているこ
とが確認された。低屈折率層の屈折率は、１．４３であ
った。（実施例試料１の防眩性反射防止フィルムの完
成）

【００９４】

【表１】

【００９５】（防眩性反射防止フィルムの鹸化処理）実
施例試料１について、以下の処理を行った。１．５Ｎの
水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５０℃に保温した。
更に、０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製した。 作製し
た防眩性反射防止フィルムを、上記の水酸化ナトリウム
水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウ
ム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水
溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十
分に洗い流した。更に、この防眩性反射防止フィルムを
１００℃の温度で十分に乾燥させた。このようにして、
鹸化処理済み防眩性反射防止フィルムを作製した。これ
により、実施例試料１の防眩性反射防止フィルム裏面の
ＴＡＣは、鹸化処理されることで、親水化された。

【００９６】(防眩性反射防止フィルムの偏光板作成、
実装)次に、鹸化処理した実施例試料１を用いて、防眩
性反射防止偏光板を作成した。更に、市販の高精細タイ
プのノートＰＣ（（株）ＤＥＬＬ社製、１５インチＵＸ
ＧＡノートＰＣ）の、外面の防眩性反射防止フィルム
を、粘着層ごときれいに剥がし、改めて粘着層を鹸化さ
れた裏面ＴＡＣに付与し、防眩性反射防止層が外面に向
くようにして、張り合わせ、実装させた。

【００９７】(防眩性反射防止フィルムの評価)得られた
フィルムについて、以下の項目の評価を行った。

【００９８】（１）外観面状 作製した防眩性反射防止フィルムを、（株）ＤＥＬＬ社
製１５インチＵＸＧＡノートＰＣに実装し、タングステ
ン光にて、詳細な外観検査した。 外観の面状に全く問題無し ：○ 実用上問題無いが、弱いムラを検出 ：△ やや強いムラを検出 ：× かなり強いムラを検出 ：×× また、塗布層の残留溶剤量が多く、工程内の反転ロール
に塗膜成分が転写し、接着跡として見えたものも（Ｎ．
Ｇ．）×と判定した。 （２）防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ ²）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ：△ 蛍光灯がほとんどぼけない ：× （３）ギラツキ評価 作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 ほとんどギラツキが見られない ：○ わずかにギラツキがある ：△ 目で識別できるサイズのギラツキがある ：× （４）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、積分球測定による分光反
射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分球
平均反射率を用いた。

【００９９】[実施例試料、比較例試料]実施例試料１に
準じ、添加溶剤や原料素材の溶剤成分を調整により、防
眩性ハードコート層についてはＭＥＫ／酢酸エチル（沸
点５７．８℃）＝２／８の塗布液、低屈折率層について
は、アセトン（沸点５６．１℃）／ＭＥＫ＝６／４、ジ
クロロメタン（沸点３９．８℃）／ＭＥＫ＝６／４、お
よびＭＥＫ／ジアセトンアルコール（沸点１６８℃）＝
９５／５の塗布液を作成し、前記表１に記載した通りの
塗布液溶剤にすること、並びに、防眩性ハードコート層
及び低屈折率層の塗工の際の塗布部以降最初の乾燥部の
温度を変更すること以外は、実施例試料１と全く同じに
して作成した試料を実施例試料２〜２２、比較例試料１
〜１０とする。

【０１００】次に、実施例試料１〜２２、比較例試料１
〜１０の鹸化処理したフィルムを、偏光板と貼り合わせ
て防眩性反射防止付き偏光板を作製し、この偏光板を用
いて防眩性反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置
を作製したところ、実施例試料１〜２２は外光の映り込
みがないために優れたコントラストが得られ、外観の面
状が非常に良好であり、優れた視認性と外観を有する液
晶表示装置となった。一方、比較例試料１〜１０は、塗
布部から最初の乾燥部の温度が４０℃を越えると、外観
面状が悪化してくるようになり、１０℃未満であると、
セットが終了しておらず、未乾の為の反転ロールでの接
着跡が見えるようになったため、いずれもディスプレイ
装置として不適当であった。また、第１乾燥部の温度
を、防眩性ハードコート塗布液の主溶剤の沸点並以上の
８０℃、１００℃にした比較例７、８では、外観のムラ
が特にひどく、本反射防止膜形成法として適しなかっ
た。また、低屈折率層において、沸点の低いジクロロメ
タンを主溶剤とした場合には、第１乾燥部を沸点より５
℃低い３５℃にしたときにはムラが強めで、１５℃低い
２５℃にした場合外観は良化した。

【０１０１】［実施例３１〜４４］ （オルガノシランのゾル組成物aの調製）攪拌機、還流
冷却器を備えた反応器、アクリロイルオキシプロピルト
リメトキシシラン１６１部、シュウ酸 １２３部、エタ
ノール４１５部を加え混合したのち、７０℃で５時間反
応させた後、室温まで冷却しオルガノシランのゾル組成
物aを得た。

【０１０２】（防眩性ハードコート層用塗布液の調
製）市販シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソラ
イトＺ７５２６の溶剤組成変更品、ＪＳＲ社製、固形分
濃度約７２％、固形分中ＳｉＯ₂含率約３８％、重合性
モノマー、重合開始剤含有）２７２ｇ、ジペンタエリス
リトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）９１質量部、オルガノシランのゾル組成物a
を１９．６ｇを加え、さらにメチルイソブチルケトン２
６．２ｇで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して
得られた塗膜の屈折率は１．５２であった。さらにこの
溶液に平均粒径３．５μｍの分級強化架橋ポリスチレン
粒子（商品名：ＳＸＳ−３５０Ｈ、綜研化学（株）製）
の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分
散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した分散液を４
４ｇ加え、次いで、平均粒径５μｍの分級強化架橋ポリ
スチレン粒子（商品名：ＳＸＳ−５００Ｈ、綜研化学
（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポ
リトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した
分散液を５７．８ｇ加えた。本塗布液の溶剤組成はＭＥ
Ｋ／ＭＩＢＫ＝３／７であった。上記混合液を孔径３０
μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハ
ードコート層の塗布液を調製した。

【０１０３】（防眩性ハードコート層用塗布液の調
製）市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デ
ソライトＺ７４０４、ＪＳＲ社製、固形分濃度約６１．
２％、固形分中ＺｒＯ₂含率約６９．６％、重合性モノ
マー、重合開始剤含有）９５．２ｇ、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）２８．８ｇ、アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン（ＫＢＭ５１０３（商品名）；信越化学工業
社製）を９．６ｇを加え、さらにメチルイソブチルケト
ン２０．１ｇ、メチルエチルケトン５．４ｇで希釈し
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．６２であった。本塗布液の溶剤組成は、ＭＥ
Ｋ／ＭＩＢＫ＝１／９であった。さらにこの溶液に平均
粒径1.5μｍのシリカ粒子（商品名：シーホスターKE-P1
50、日本触媒（株）製）の３０％メチルイソブチルケト
ン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２
０分分散した分散液を２９．５ｇ加え、次いで、平均粒
径３μｍの分級強化架橋ポリメタアクリル酸メチル粒子
（商品名：ＭＸＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０
％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機に
て１００００ｒｐｍで３０分分散し、1週間経時させた
分散液を１１．３ｇ加えた。上記混合液を孔径３０μｍ
のポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハード
コート層の塗布液を調製した。

【０１０４】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）屈折率
１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１７７ｇにシリ
カゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形
分濃度３０％、日産化学社製）７．０ｇ、シリカゾル
（MEK-STの粒子径違い品、平均粒径５０nm、固形分濃度
２５%、日産化学社製）８．２ｇ、オルガノシランのゾ
ル組成物a ４．０ｇおよびメチルエチルケトン９０
ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径
１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈
折率層用塗布液Ｂを調製した。本塗布液の溶剤組成はＭ
ＥＫ／シクロヘキサノン＝９７／３であった。

【０１０５】上記の防眩性ハードコート層、、低屈
折率層Ｂについて、それぞれを実施例１に記載の方法に
したがって実施例３１から４４のように塗布を行った。
この時、乾燥条件は、塗工部温度、乾燥ゾーンの温度、
ゾーンの配置、塗布速度等を適宜変更して行った。この
時の積層、乾燥条件の組み合わせは表２に記載のとおり
である。なお、防眩性ハードコート液を用いた実施例
試料４１〜４４は、防眩性が低く（△レベル）なるよう
に塗布厚調整して塗布をした。以上のように作成した防
眩性反射防止フィルムを、実施例１と同様にけん化処
理、偏光板作成、実装を行い、評価を行った。

【０１０６】この結果、実施例試料３１〜４４は外光の
映り込みがなく、優れたコントラストが得られ、外観の
面状が良好であった。特に塗工部から第１乾燥部にはい
るまでの時間は３０秒より短い場合がよく、第１乾燥部
の温度は、塗工部より２℃以上高い場合が面状、反射
率、ギラツキが良く、優れた視認性と外観を有する液晶
表示装置となった。

【０１０７】

【表２】

【０１０８】［実施例５１］ （ハードコート層用塗布液の調製）ジペンタエリスリト
ールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトン
と２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解し
た。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０
７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解する
まで攪拌した後に、４５０質量部のＭＥＫ−ＳＴ（平均
粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ₂
ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）
を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロ
ピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハード
コート層用塗布液を調製した。 （二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタン超微粒子
（ＴＴＯ-５５Ｂ、石原テクノ（株）製）３０質量部、
ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、興人
（株）製）１質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤
（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＭ-２１、日本化薬（株）製）６
質量部およびシクロヘキサノン６３質量部を、サンドグ
ラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径
が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物を調
製した。

【０１０９】（中屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン７５質量部およびメチルエチルケトン１９質量部
に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）０．１１質量部および光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解し
た。さらに、二酸化チタン分散物３．１質量部およびジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）２．１質量部を加え、室温で３０分
間撹拌した後、孔径０．４μｍのプロファイルスター
０．４μｍ（日本ポール社（株）製）で濾過して、中屈
折率層用塗布液を調製した。

【０１１０】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン５４質量部およびメチルエチルケトン１８質量部
に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）０．１３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解し
た。さらに、二酸化チタン分散物２６．４質量部および
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）１．６質量部を加え、室温で３
０分間撹拌した後、孔径０．４μｍのプロファイルスタ
ー０．４μｍ（日本ポール社（株）製）で濾過して、高
屈折率層用塗布液Ａを調製した。

【０１１１】（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）屈折率
１．４２であり、熱架橋性含フッ素樹脂の６質量パーセ
ントのメチルエチルケトン溶液（ＪＮ-７２２８、ＪＳ
Ｒ（株）製）を溶媒置換して、メチルイソブチルケトン
８５質量％、２-ブタノール１５質量％からなる混合溶
媒中に固形分１０質量％を含有するポリマー溶液を得
た。このポリマー溶液７０質量部にＭＥＫ-ＳＴ（平均
粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ₂
ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）
１０質量部、オルガノシランゾル組成物Ａ２．１７質量
部、およびメチルイソブチルケトン４２質量部およびシ
クロヘキサノン２８質量部を添加、攪拌の後、孔径０．
４μｍのプロファイルスター０．４μｍ（日本ポール社
（株）製）でろ過して、低屈折率層用塗布液Ｃを調製し
た。 （反射防止フィルムの作成）上記のハードコート層、中
屈折率層、高屈折率層、低屈折率層について、それぞれ
を実施例１に記載の塗布、乾燥方法にしたがって塗布を
行った。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィ
ルム（ＴＡＣ-ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）
製、屈折率：１．４７）に、ハードコート層用塗布液
を、グラビアコーターを用いて塗布し、第一（最初）の
乾燥ゾーン内で３０℃２分の乾燥の後、更に以降の乾燥
ゾーン内で１００℃、２分の乾燥の後、酸素濃度０．１
％以下の窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハ
ライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用い
て、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。上
記第一の乾燥ゾーン内の風速は、最大で０．２ｍ／ｓで
あり、乾燥ゾーン内で塗布膜はセットしていることが確
認された。このハードコート層は屈折率１．５１、膜厚
６μｍであった。続いて、上記の中屈折率層用塗布液を
グラビアコーターを用いて塗布し、ハードコートと同条
件で乾燥、硬化し、中屈折率層（屈折率：１．６３、膜
厚：６７ｎｍ）を設けた。中屈折率層の上に、上記の高
屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて同様に塗
布、乾燥、硬化し、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜
厚：１０７ｎｍ）を設けた。さらに高屈折率層の上に、
上記の低屈折率層用塗布液Ｃをグラビアコーターを用い
て塗布し、第一（最初）の乾燥ゾーン内で３０℃２分の
乾燥の後、１２０℃で１分間乾燥した後に、酸素濃度
０．１％以下の窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メ
タルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を
用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射し、さらに１２０℃で８分間、塗
布層を熱硬化させ、低屈折率層（屈折率：１．４３、膜
厚：８６ｎｍ）を設けた。このようにして反射防止フィ
ルム５１を作成した。以上のように作成した反射防止フ
ィルムを、実施例１と同様にけん化処理、偏光板作成、
実装を行い、評価を行った。その結果、実施例試料５１
は外光の映り込みがなく、優れたコントラストが得ら
れ、外観の面状が良好であった。

【０１１２】［実施例試料１Ａ］偏光膜を以下の方法で
作製した。ＰＶＡフィルムをヨウ素２．０ｇ／ｌ、ヨウ
化カリウム４．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて２４０秒
浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて
６０秒浸漬後、図２３の形態のテンター延伸機に導入
し、５．３倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し図２
の如く屈曲させ、以降幅を一定に保った。８０℃雰囲気
で乾燥させた後テンターから離脱した。左右のテンター
クリップの搬送速度差は、０．０５％未満であり、導入
されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの
中心線のなす角は、４６゜であった。ここで｜Ｌ１−Ｌ
２｜は０．７ｍ、Ｗは０．７ｍであり、｜Ｌ１−Ｌ２｜
＝Ｗの関係にあった。テンター出口における実質延伸方
向Ａｘ−Ｃｘは、次工程へ送られるフィルムの中心線２
２に対し４５゜傾斜していた。テンター出口におけるシ
ワ、フィルム変形は観察されなかった。さらに、ＰＶＡ
（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着
剤として鹸化処理した富士写真フイルム（株）製フジタ
ック（セルローストリアセテート、レターデーション値
３．０ｎｍ）と貼り合わせ、さらに８０℃で乾燥して有
効幅６５０ｍｍの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収
軸方向は、長手方向に対し４５゜傾斜していた。この偏
光板の５５０ｎｍにおける透過率は４３．７％、偏光度
は９９．９７％であった。さらに図３の如く３１０×２
３３ｍｍサイズに裁断したところ、９１．５％の面積効
率で辺に対し４５゜吸収軸が傾斜した偏光板を得た。次
に、実施例試料１の鹸化処理したフィルムを、上記偏光
板と貼り合わせて防眩性反射防止付き偏光板を作製し
た。この偏光板を用いて防眩性反射防止層を最表層に配
置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込み
がないために優れたコントラストが得られ、優れた視認
性と外観を有するディスプレイ装置となった。

【０１１３】［実施例試料１Ｂ］上記実施例試料１Ａの
４５°吸収軸が傾斜した偏光板作製の中の、「富士写真
フイルム（株）製フジタック（セルローストリアセテー
ト、レターデーション値３．０ｎｍ）」の代わりに実施
例試料１の鹸化処理したフィルムを張り合わせて防眩性
反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて防
眩性反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製
したところ、実施例試料１同様に、外光の映り込みがな
いために優れたコントラストが得られ、優れた視認性と
外観を有するディスプレイ装置となった。

【０１１４】［実施例試料１Ｃ］上記実施例試料１を、
１．５規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬し
たあと中和、水洗してフィルムの裏面のトリアセチルセ
ルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムに
ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作
製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製し
た。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜側が
最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノー
トパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分
離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバッ
クライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板
と貼り代えたところ、外光の映り込みがないために優れ
たコントラストが得られ、優れた視認性と外観を有する
液晶表示装置となった背景の映りこみが極めて少なく、
表示品位の非常に高いディスプレイ装置が得られた。

【０１１５】［実施例試料１Ｄ］上記実施例試料１を貼
りつけた透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セ
ル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の
液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単
位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該
ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面との
なす角度が、光学異方層の深さ方向において変化してい
る光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビュ
ーフィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）
を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、優れた
視認性と外観を有し、且つ、上下左右の視野角が非常に
広く、極めて良好な表示品位の高いディスプレイ装置が
得られた。

【０１１６】［実施例試料１Ｅ］実施例試料１を、有機
ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合
わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、極めて
視認性の高い、良好な外観のディスプレイ装置が得られ
た。

【０１１７】［実施例１Ｆ］実施例試料１を用いて、片
面反射防止フィルム付き偏光板を作製し、偏光板の反射
防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わ
せ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたと
ころ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射が
カットされ、極めて視認性の高い、良好な外観のディス
プレイ装置が得られた。

【０１１８】[実施例１Ｇ]実施例試料１Ｄの８０μｍＴ
ＡＣ支持体を、富士写真フイルム（株）製の４０μｍＴ
ＡＣに変えた以外は、全く同じにして作製した試料を実
施例試料１Ｇとする。この実施例試料１Ｇは、非常に薄
く 携帯端末、ノートＰＣ等の薄手化に効果的な反射防
止フィルム付き偏光板を有した優れたディスプレイ装置
であった。

【図面の簡単な説明】

【図１】 防眩性反射防止フィルムの層構成を示す断面
模式図である。

【図２】 実施例で使用のテンター延伸機の概略図であ
る。

【図３】 実施例で行った偏光膜の裁断を示す模式図で
ある。

【図４】 本発明の製造方法における塗布機の模式図で
ある。

【符号の説明】

１ 防眩性反射防止フィルム ２ 透明支持体 ３ 防眩性ハードコート層 ４ 低屈折率層 ５ 防眩性付与粒子 ６ 内部散乱性付与粒子 （イ） フィルム導入方向 （ロ） 次工程へのフィルム搬送方向 （ａ） フィルムを導入する工程 （ｂ） フィルムを延伸する工程 （ｃ） 延伸フィルムを次工程へ送る工程 Ａ１ フィルムの保持手段への噛み込み位置とフィルム
延伸の起点位置（実質保持開始点：右） Ｂ１ フィルムの保持手段への噛み込み位置（左） Ｃ１ フィルム延伸の起点位置（実質保持開始点：左） Ｃｘ フィルム離脱位置とフィルム延伸の終点基準位置
（実質保持解除点：左） Ａｙ フィルム延伸の終点基準位置（実質保持解除点：
右） ｜Ｌ１−Ｌ２｜ 左右のフィルム保持手段の行程差 Ｗ フィルムの延伸工程終端における実質幅 θ 延伸方向とフィルム進行方向のなす角 １１ 導入側フィルムの中央線 １２ 次工程に送られるフィルムの中央線 １３ フィルム保持手段の軌跡（左） １４ フィルム保持手段の軌跡（右） １５ 導入側フィルム １６ 次工程に送られるフィルム １７、１７’ 左右のフィルム保持開始（噛み込み）点 １８、１８’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点 ２１ 導入側フィルムの中央線 ２２ 次工程に送られるフィルムの中央線 ２３ フィルム保持手段の軌跡（左） ２４ フィルム保持手段の軌跡（右） ２５ 導入側フィルム ２６ 次工程に送られるフィルム ２７、２７’ 左右のフィルム保持開始（噛み込み）点 ２８、２８’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点 ８１ 偏光板吸収軸 ８２ 長手方向 １ａ 送り出し部 ２ａ 塗布部 ３ａ 第１乾燥部 ４ａ 第２乾燥部 ５ａ 硬化部、反転ロール ６ａ 巻き取り部

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA04 AA06 AA15 BB28 CC03 CC06 CC09 CC21 CC23 CC24 CC26 CC42 DD02 DD06 DD12 4F100 AK01A AK01B AR00C BA03 BA07 BA10A BA10C CC00B CC00C EG002 EH462 EJ863 GB41 JK12B JM02B JN01A JN18C

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に、少なくとも１層のハー
   ドコート層と、最外に位置する低屈折率層それぞれの塗
   布液を塗布し、乾燥することで形成する反射防止フィル
   ムの製造方法において、いずれのハードコート層および
   低屈折率層も、塗布液を塗布した後、１０℃以上４０℃
   以下に保たれた第一の乾燥部にて、塗布膜のセットを終
   了させることを特徴とする反射防止フィルムの製造方
   法。
2. 【請求項２】 上記製造方法において、第１乾燥部の温
   度が、ハードコート層および低屈折率層の塗布液におけ
   る主溶剤の沸点よりも１０℃以上低いことを特徴とする
   請求項１記載の反射防止フィルムの製造方法。