JP2005309399A - 光拡散フィルムの製造方法、反射防止フィルムおよびそれを用いた偏光板並びに液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】視認性を向上させる光拡散性能を損なうことなく、黒表示における表面白化がなく、粗大粒子による点欠陥がない生産収率のよい光拡散フィルムの製造方法、及びこの光拡散フィルム上に低屈折率層を設けた反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板、並びに上記反射防止フィルムまたは偏光板を具備した画像表示装置を提供する。
【解決手段】透光性樹脂中に透光性微粒子を含む光拡散層を塗設した光拡散フィルムであり、透光性微粒子が、光拡散層形成用塗布液に配合する前のエマルジョン状態または分散液状態で予め濾過処理がなされている光拡散フィルムの製造方法、この光拡散フィルムを用いた反射防止フィルム、このフィルムを用いた偏光板、及びこれら反射防止フィルムまたは偏光板を具備した画像表示装置。
【選択図】 図１

Description

この発明は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ等の画像表示体、特に好適に液晶ディスプレイに用いられ、反射防止性、視認性に優れた光拡散フィルムの製造方法、反射防止フィルムおよびそれを用いた偏光フィルム並びに液晶表示装置に関する。

一般に液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶表示装置においては、光学補償フィルムを偏光板と液晶セルの間に挿入し、表示品位の高い液晶表示装置が実現されている（例えば特許文献１及び２）。

ところが、上記液晶表示装置はパネルの下方向の階調反転が生じるという問題が残っていた。この問題に対しては、例えば特許文献３〜５には光拡散手段を視認側表面に設けることによって著しく表示品位が改善されることが記載されている。しかしながら、上記の方法を具体的手段として実施するには、高度に制御されたレンズ構造、あるいは回折構造を有する光拡散手段が必要であり、高価なものとなり、かつ大量生産が非常に困難であった。

安価であって、かつ大量生産も可能な光拡散フィルムに関しては、透明基材フィルムの表面に、透光性微粒子を含む樹脂を塗工して形成したものが挙げられる（例えば特許文献６及び７）。しかしながら透光性微粒子には粒子製造に起因する粗大粒子が含まれており、粗大粒子は光拡散フィルム作製時に点欠陥となり、光拡散フィルムの生産収率を下げる問題がある。そのため粗大粒子を精度よく除去する技術を見出すことが課題であった。

また外光の写り込みを防止するには、反射防止フィルムが一般に用いられる。反射防止フィルムは、外光の反射によるコントラスト低下や像の写り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する作用を有していて、ディスプレイの最表面に配置される。また反射防止フィルムの表面に適度な凹凸を設け、表面散乱の効果により外光の写り込みを抑えることもできる。しかしながら、表面散乱の効果が大きいと黒表示における表面白化が強くなる。一方、表面散乱の効果が小さいと上述した粗大粒子による点欠陥が顕著に認識できる問題があった。そのため過度な表面散乱による黒表示での表面白化がなく、黒のしまりが優れ、かつ粗大粒子を精度および効率よく除去して粗大粒子による点欠陥のない反射防止能を有する光拡散フィルムが望まれていた。

特開平８−５０２０６号公報（第１６−２０頁） 特開平７−１９１２１７号公報（第１０−１１頁） 特許第２８２２９８３号（第４−６頁） 特開２００１−３３７８３号公報（第９−１３頁） 特開２００１−５６４６１号公報（第６−１２頁） 特開平６−１８７０６号公報（第１０−１１頁） 特開平１０−２０１０３号公報（第５−６頁）

本発明の目的は、視野角（特に下方向視野角）が拡大し、観察方向の視角が変化してもコントラスト低下、階調反転、あるいは色相変化が抑止される等の視認性を向上させる光拡散性能を損なうことなく、黒表示における表面白化がなく、さらに粗大粒子による点欠陥がなく生産収率のよい光拡散フィルムの製造方法、及びこの光拡散フィルム上に低屈折率層を設けた反射防止フィルムを提供することである。
また、本発明の他の目的は、上記反射防止フィルムを用いて上記性能を有する偏光板を提供することである。
さらなる本発明の目的は、上記反射防止フィルムまたは偏光板を具備した画像表示装置を提供することである。

本発明者は、鋭意検討の結果、視野角拡大効果を狙った光拡散手段に用いる透光性微粒子や、外光の写り込みを抑止するために光拡散フィルム表面の凹凸を形成する透光性微粒子に含まれる粗大粒子が光拡散フィルム形成時に点欠陥として認識され、光拡散フィルムの生産収率を下げていることを突き止め、それは光拡散フィルムの表面散乱の効果が少なくなるほど顕著に認識できることも突き止めた。この事実に基づいて、さらに研究を重ねた結果、下記構成の光拡散フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置が提供され、本発明の上記目的が達成された。

１．透光性樹脂中に透光性微粒子を含む光拡散層を塗設することにより光拡散フィルムを製造する方法であって、該透光性微粒子を光拡散層形成用塗布液に配合する前に、該透光性微粒子のエマルジョン状態または分散液状態で予め濾過処理を行うことを特徴とする光拡散フィルムの製造方法。
２．濾過処理後の累積個数９９．９９％の粒子径が、濾過処理前の累積個数９９．９９％の粒子径より小さいことを特徴とする上記１に記載の光拡散フィルムの製造方法。
３．光拡散フィルムの平均表面粗さＲａが０．０１μｍ以上０．１０μｍ以下であることを特徴とする上記１または２に記載の光拡散フィルムの製造方法。
４．光拡散フィルムの光沢度が４５％以上であることを特徴とする上記１ないし３のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
５．透光性微粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上８．０μｍであることを特徴とする上記１ないし４のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
６．透光性微粒子の濾過処理を、濾過処理前の透光性微粒子の平均粒子径の２倍以上５倍以下の孔径を有するフィルターによって行うことを特徴とする上記１ないし５のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
７．濾過処理の濾過媒体が水であることを特徴とする上記１ないし６のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
８．光拡散フィルムのヘイズが１０％以上であることを特徴とする上記１ないし７のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
９．光拡散フィルムの表面ヘイズが１０％以下であることを特徴とする上記１ないし８のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
１０．上記１ないし９のいずれかに記載の方法で製造された光拡散フィルム。
１１．上記１０に記載の光拡散フィルムの光拡散層上に反射防止層として屈折率１．３１〜１．４５の低屈折率層が設けられていることを特徴とする反射防止フィルム。
１２．反射防止フィルムの平均表面粗さＲａが０．０１μｍ以上０．１０μｍ以下であることを特徴とする上記１１に記載の反射防止フィルム。
１３．光拡散フィルムの光沢度が４５％以上であることを特徴とする上記１１ないし１２のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１４．反射防止フィルムのヘイズが１０％以上であることを特徴とする上記１１ないし１３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１５．反射防止フィルムの表面ヘイズが１０％以下であることを特徴とする上記１１ないし１４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１６．上記１０に記載の光拡散フィルムまたは上記１１ないし１５に記載の反射防止フィルムが、偏光板の偏光子の２枚の保護フィルムのうちの一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
１７．上記１６に記載の偏光板が用いられていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
１８．上記１０に記載の光拡散フィルム、上記１１ないし１５のいずれかに記載の反射防止フィルム、上記１６に記載の偏光板を有するディスプレイ装置。

本発明によれば、視野角（特に下方向視野角）が拡大し、観察方向の視角が変化してもコントラスト低下、階調反転、あるいは色相変化が抑止される等の視認性を向上させる光拡散性能を損なうことなく、黒表示における表面白化がなく、さらに粗大粒子による点欠陥がなく生産収率のよい光拡散フィルムの製造方法、及びこの光拡散フィルム上に低屈折率層を設けた反射防止フィルムを提供することができる。
また、本発明によれば、上記反射防止フィルムを用いて上記性能を有する偏光板を提供することができる。
さらに、本発明によれば、上記反射防止フィルムまたは偏光板を具備した画像表示装置を提供することができる。

以下、本発明の製造方法により得られる光拡散フィルム、反射防止フィルム、反射防止フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置について詳細に説明する。
なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。

〔本発明の光拡散フィルム及び反射防止フィルムの概要〕
本発明の光拡散フィルムを最表面に使用する液晶表示装置において、表面の凹凸を大きくすればするほど、表面散乱の効果により外光の写りこみを抑えることができる。しかし表面凹凸を過度に大きくすると、黒表示において表面白化が強くなる。一方、本発明の光拡散フィルムには視野角拡大効果を狙った光拡散手段に用いる透光性微粒子や、外光の写り込みを抑止するために光拡散フィルム表面の凹凸を形成する透光性微粒子が添加されている。透光性微粒子の製造過程では平均粒子径よりはるかに大きい粗大粒子が生成し、光拡散フィルムに含まれる。この粗大粒子は光拡散フィルム表面の点欠陥として認識され、光拡散フィルムの生産収率を下げる問題を生じる。特に表面の凹凸が小さく、表面散乱の効果が小さければ小さいほど、粗大粒子による点欠陥は顕著に認識されやすくなる。

従って、黒表示において表面白化を抑えつつ、粗大粒子による点欠陥を認識させないためには、光拡散層に含有される透光性微粒子の粗大粒子が除去されていることが好ましく、除去処理方法としては安価で精度よく、効率的に除去できる濾過処理が最も好ましい。ここで濾過処理とは粗大粒子を除去することが目的であり、濾過処理後、透光性微粒子の粒子径分布での累積個数９９．９９％の粒子径が、濾過処理前の累積個数９９．９９％の粒子径より小さいことが、粗大粒子を除去することと同意である。濾過処理前後の累積個数９９．９９％の粒子径差は大きい程良いが０．０１μ以上であればよい。

通常、透光性微粒子は分散媒体中で合成され、濾過処理は透光性微粒子の製造後、粉体として取り出す前のエマルジョン状態で行なってもよく、またエマルジョン状態から粉体として取り出し、再度、溶剤など媒体に再分散させた分散液状態でもよい。再分散させた分散液状態では、選択した分散媒体によっては透光性微粒子の耐溶剤性を悪化させ、結果として、分散液粘度が増加し、濾過効率を悪化させることがあるため、粉体として取り出す前のエマルジョン状態での濾過処理が最も好ましい。透光性微粒子を含んだ光拡散層用塗布液での濾過処理は、粒子径の異なる２種類以上の透光性微粒子を用いた場合のフィルター孔径が限定されるため、好ましくない。
光拡散層に含有する透光性微粒子には粒子径の異なる２種以上の透光性微粒子を併用してもよく、より大きな粒子径の透光性微粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性微粒子で別の光学特性を付与することが可能である。２種の透光性微粒子を併用することで、表示品位に関わる視角特性と外光の写り込みを各々独自に最適化することができ、透光性樹脂微粒子の混合比により細かい設定が可能となり、１種類の場合よりも制御が可能となり、様々な設計が容易となる。独自に最適化するためには光拡散層用塗布液に含有する２種類の透光性微粒子の含有量が異なる。この含有量は粗大粒子頻度に対応するため、点欠陥を除去するための精密濾過と濾過効率の点で光拡散層用塗布液での濾過処理は好ましくない。

前記透光性微粒子において粗大粒子の除去処理を施されていなければ、粗大粒子による点欠陥が認識でき、光拡散フィルムの生産性を下げる。特に光拡散層に含有される透光性微粒子の粒子径分布での累積個数９９．９９％の粒子径が光拡散層の膜厚より大きい場合、点欠陥はより顕著に認識されやすくなる。

粒子径分布において累積個数９９．９９％の粒子径が前記光拡散層の厚みより小さいか、または大きい場合にはその差が１．５μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは累積個数９９．９９％の粒子径が光拡散層の厚みより小さいか、または大きい場合にはその差が１．０μｍ以下であり、最も好ましくは０．５μｍ以下である。
光拡散層に含有される透光性微粒子の粒子径分布における累積個数９９．９９％の粒子径が光拡散層の膜厚より１．５μｍ以上大きいと、粒子による点欠陥が認識されやすくなり、特に平均表面粗さが小さく、表面散乱が小さい時に顕著に認識できる。
一方、濾過を行う分散液には透光性微粒子が７％以上３０％以下含有していることが効率的に好ましい。濾過を行う分散液に含有される透光性微粒子が上記範囲であると、濾過量が適度で効率が良く、液体粘度も適正な値に維持され、良好な濾過性能を有する。より好ましくは濾過液において透光性微粒子の含有量が１０％以上２０％以下であり、最も好ましくは１３％以上１７％以下である。

透光性微粒子の粒子径分布における累積個数９９．９９％での粒子径測定は、ベックマン・コールターカンター製のMultisizer ２を用い、測定された粒子径と粒子個数の累積分布より算出される。累積個数９９．９９％の粒子径とは、透光性微粒子の粒子分布において、粒子径の小さいほうから個数を累積していき、粒子個数全体の９９．９９％になる粒子の粒子径を意味する。

透光性微粒子の平均粒子径は０．５μｍ以上８．０μｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が０．５μｍ以下の透光性微粒子を用いた場合、粒子の表面積が増大し、光拡散層用塗布液の粘度が増大し、塗布性が低下する問題が発生する。一方８．０μｍ以上の透光性微粒子を用いた場合、過度の表面散乱を抑制するために光拡散層の膜厚を過度に厚くする必要があり、その結果、ハンドリングに問題のあるカールが生じる。より好ましく１．０μｍ以上７．０μｍ以下であり、最も好ましくは１．５μｍ以上５μｍ以下である。粒子径測定は室温でMALVERN製マスターサイザーを用いて平均粒子径を測定した。測定溶剤としてメチルイソブチルケトンを使用した。

濾過処理に用いられるフィルターの孔径は、フィルター内での透光性微粒子の目詰まり防止及び所望の粗大粒子を除去する観点から、透光性微粒子の平均粒子径の２倍以上５倍以下が好ましい。
より効果的に、且つ精度よく所望の粗大粒子を除去するには、フィルターの孔径が２．５倍以上４倍以下であることが更に好ましい。また孔径の異なる数種類のフィルターを多段階で用いてもよい。多段階で使用する場合は孔径の大きいフィルターから順に小さくして濾過することが好ましい。
フィルター孔径とはその孔径と同じ粒子径の粒子がフィルターを通過して、９９．９８％以上補足される径のサイズである。フィルターの構造はデプス（深層濾過）型でもスクリーン（表面濾過）型などでもよく、特に限定されるものではないが、透光性微粒子の補足容量が多く、工業的に好ましいデプス型フィルターが好ましい。

濾過処理の濾過媒体は特に限定されるものではないが、透光性微粒子の耐溶剤性（低膨潤性）の観点から、濾過液としたときの粘度が低い水が最も好ましい。
光拡散フィルムを最表面に使用する液晶表示装置において黒表示において表面白化を抑えつつ、粗大粒子による点欠陥を認識させないためには、光拡散フィルム表面の過度な表面凹凸による表面光散乱性を抑制する必要があり、平均表面粗さＲａは、０．０１以上０．１０μｍ以下であることが好ましく、０．０２以上０．０８μｍ以下であることが更に好ましく、最も好ましくは、０．０３以上０．０７μｍ以下である。平均表面粗さＲａは、（株）小坂研究所製万能表面形状測定機を用い、光拡散フィルム上をなぞり、縦倍率１００００倍、横倍率５０倍、測定長２５ｍｍの条件で測定した。
また光拡散フィルムの表面散乱性は光沢度でも規定することができ、光沢度は４５％以上であることが好ましく、５０％以上であることが更に好ましく、最も好ましくは５５％以上である。光沢度は、日本電色工業（株）製の変角光沢計VG−１００１DPを用い、入射角６０°、受光角６０°の条件で測定した。
同様に光拡散フィルムの表面散乱性は表面ヘイズでも規定することができ、表面ヘイズは１０％以下であることが好ましく、７％以下であることが更に好ましく、最も好ましくは５％以下である。光拡散フィルムの表面ヘイズは、（全）ヘイズと内部ヘイズの差から求めることができる。（全）ヘイズは、日本電色工業（株）製のヘイズメーターMODEL １００１DPを用いて測定した。内部ヘイズは、光拡散フィルムの透光性微粒子のみを除去した塗布液を、光拡散フィルム上に塗布、乾燥、硬化して得られた表面凹凸のない光拡散フィルムに対して、（全）ヘイズと同様に測定することで求めた。

低屈折率層は、本発明の光拡散フィルムに反射防止能を付与する目的で、支持体上の架橋された光拡散層を設けた側の最外層に反射防止層として設けられる。この支持体上に光拡散層と低屈折率層が設けられたフィルムは本発明の反射防止フィルムである。低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．３１〜１．４５である。低屈折率層の屈折率は、下記数式（Ｉ）を満すことが好ましい。
数式（Ｉ）：（ｍλ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍλ／４）×１．３
数式（Ｉ）中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ₁は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、４５０〜６５０（ｎｍ）の範囲の値である。なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。

液晶ディスプレイの視認性を向上するため、視野角が拡大し、そして視角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化を抑制するため、本発明の光散乱フィルムおよび反射防止フィルムのヘイズは１０％以上が好ましい。特にVAモードの液晶表示装置に本発明の光散乱フィルムおよび反射防止フィルムを用いた時、VAモード特有の左右の色味変化を抑制できる。光拡散フィルムおよび反射防止フィルムのヘイズはヘイズメーターＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。

本発明の実施の一形態として好適な反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照しながら説明する。
図１に模式的に示される断面図は、本発明の反射防止フィルムの一例であり、反射防止フィルム１は、透明支持体２、光拡散層３、そして低屈折率層５の順序の層構成を有する。光拡散層３には、透光性微粒子４が分散しており、２種類以上の透光性微粒子が分散していてもよい。光拡散層３の透光性微粒子４以外の部分の素材の屈折率は１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層５の屈折率は１．３１〜１．４５の範囲にあることが好ましい。透明支持体として好ましく用いられるトリアセチルセルロースの屈折率は１．４８である。このように光拡散層の屈折率を高くすることで、低屈折率層の屈折率を１．３１〜１．４５の範囲でも反射防止効果に優れる。従って光拡散層の屈折率が小さすぎると反射防止性が低下し、大きすぎると、反射光の色味が強くなり、好ましくない。低屈折率層は最外層に塗設される。

〔光拡散層〕
光拡散層は、ハードコート性を付与するための透光性樹脂、防眩性や内部散乱性を付与するための透光性微粒子から形成され、高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含有してもよい。

透光性樹脂としては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、透光性樹脂ポリマーは架橋構造を有することが好ましい。

飽和炭化水素鎖を主鎖として有する透光性樹脂ポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有する透光性樹脂ポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。

高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
尚、本明細書において、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等の記載は、それぞれ「アクリロイル及び／又はメタクリロイル」、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、「アクリル酸及び／又はメタクリル酸」の意味を表す。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成することができる。

光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。

最新ＵＶ硬化技術（P．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
また特開平６−４１４６８号の段落３７に記載されているように、光重合開始剤を２種併用することも好ましく用いられる。

光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。

光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。

具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造を透光性樹脂ポリマーに導入してもよい。

架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有する透光性樹脂ポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

光拡散層内に使用する透光性樹脂微粒子としての具体例として、無機微粒子、有機樹脂微粒子などの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。

例えばポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、アクリル-スチレン共重合体、ポリウレタン、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機樹脂微粒子やシリコーン系微粒子、シリカやアルミナ、チタニアやジルコニア、酸化カルシウムや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機微粒子などがあげられる。

有機樹脂微粒子としては、架橋アクリル樹脂粒子、架橋アクリル−スチレン共重合体粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ジビニルベンゼン粒子等が好ましく用いられる。有機樹脂微粒子の作製方法としては、水性媒体中で重合性モノマーおよび架橋剤の乳化重合、ソープフリー重合、懸濁重合、シード重合、二段階膨潤重合、分散重合法等で得られる重合体からなる有機樹脂微粒子が好適に使用できる。

重合性モノマーには芳香族モノビニル化合物としてスチレン、エチルビニルベンゼン、α−メチルスチレン、フルオロスチレン、ビニルピリジン等がある。またシアン化ビニル化合物としてアクリロニトリル、メタクリロニトリル等、アクリル酸エステルモノマーとしてブチルアクリレート、２−エチルヘキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアミノエチルアクリレート等、メタクリル酸エステルモノマーとしてブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルエチルメタクリレート、メチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアミノエチルメタクリレート等、モノ又はジカルボン酸及びジカルボン酸の酸無水物としてアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸等、アミド系モノマーとしてアクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。これらの重合性モノマーのうち、アクリル酸エステルモノマーおよびメタクリル酸エステルモノマーが好ましく、特にメタクリル酸メチルが好ましい。また、重合性モノマーは２種類以上を組み合わせて用いることができる。

架橋剤には（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとして（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びグリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としてジビニルベンゼン、1,4 −ジビニロキシブタン、ジビニルスルホン等、アリル化合物としてジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、トリアリル（イソ）シアヌレート、トリアリルトリメリテート等、が挙げられる。これらの架橋性ビニル単量体は単独又は２種以上混合して用いることができる。

重合性モノマーおよび架橋剤の重合において好ましく用いることのできるラジカル重合開始剤としては、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、４，４′−アゾビス（４−シアノペンタン酸）、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系重合開始剤、過酸化ベンゾイル、ラウロイルパーオキシド、オクタノイルパーオキシド、３，３′，５−トリメチルヘキサノイルパーオキシド等の過酸化物等を挙げることができる。

重合性モノマーおよび架橋剤の重合において、生成する透光性樹脂微粒子の凝集、変形、融着を防ぎ、分散物の安定性を増加させる分散安定剤を用いることができる。重合溶媒には、アルコールなどの水以外の有機溶剤が存在していてもよい。

無機微粒子としてはシリカ粒子が好適に使用される。シリカ微粒子の作製方法としては、水性媒体中で有機ケイ素化合物の加水分解、さらに縮合するゾル−ゲル法等によって得られるシリカ粒子が好適に使用される。

上記有機ケイ素化合物として、下記一般式１で示される有機ケイ素化合物を好ましく挙げることができる。
一般式１：Ｒ¹ _ｍＳｉ（Ｘ）_４−ｍ
一般式１で表される有機ケイ素化合物は、加水分解性基Ｘを１〜４個有するものであり、加水分解性基Ｘとしては、水酸基、炭素数１〜５個のアルコキシ基、炭素数２〜５個のアシルオキシ基から選ばれる１価の基であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、アセトキシ基である。これらの加水分解性基は、水により加水分解し、さらに、縮合することによりポリシロキサンの生成が可能である。Ｒ¹は置換もしくは無置換
のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。

上記一般式１で表される化合物の具体例は、たとえば、次のとおりである。
ｍ＝０で示される化合物は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン化合物；テトラアセトキシシラン等のテトラアシルオキシシラン化合物等である。

ｍ＝１で示される化合物は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、３-グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン等のオルガノトリアルコキシシラン化合物、オルガノトリアセトキシシラン化合物等である。

ｍ＝２で示される化合物は、ジメトキシジメチルシラン、ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジフェニルシランジオール等のジオルガノジアルコキシシラン化合物等である。
ｍ＝３で示される化合物は、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、アセトキシトリメチルシラン、トリメチルシラノール等のトリオルガノアルコキシシラン等である。

前記一般式１で表される化合物としては、中でも、オルガノトリアルコキシシラン化合物、テトラアルコキシシラン化合物がより好ましい原料である。

以上述べたような加水分解・縮合可能な有機ケイ素化合物は、一種単独で、または、二種以上を混合して原料として使用することができる。単独使用できる前記有機ケイ素化合物は、一般式１におけるｍ＝１で示される化合物およびその誘導体からなる群から選ばれる化合物だけである。

２種以上併用される前記有機ケイ素化合物は、一般式１におけるｍ＝１で示される化合物およびその誘導体からなる群から選ばれる化合物と、一般式１におけるｍ＝０で示される化合物およびその誘導体からなる群から選ばれる化合物との両方またはいずれか一方を含む必要がある。

加水分解と縮合は、一括、分割、連続等、任意の方法を採ることができる。加水分解や縮合させるにあたり、アンモニア、尿素、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物等の触媒を用いてもよい。また、溶媒中には、水や触媒以外の有機溶剤が存在していてもよい。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸エチル等のエステル類；イソオクタン、シクロヘキサン等の（シクロ）パラフィン類；ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類等が単独で、または、混合して用いられる。

光拡散層に含有する透光性微粒子には、粒子径の異なる２種以上の透光性微粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性微粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性微粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性微粒子より小さな粒子径で、透光性樹脂の屈折率と異なる透光性微粒子を併用することにより大きく改善することができる。

上記透光性微粒子は、光拡散層中の透光性微粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ²となるように光拡散層に含有される。

光拡散層には、光拡散層の屈折率の調整、塗布液粘度の調整、膜強度の向上等のために、上記の透光性微粒子に加えて、無機フィラーを含有することができる。本発明に使用する無機フィラーの形状は、特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、棒状、不定形、中空等のいずれも好ましく用いられるが、球状であると分散性がよく、より好ましい。また、無機フィラーの種類についても特に制限されるものではないが、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなるものが好ましく、金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、Ｐｂ、ＺｒおよびＮｉ等が挙げられる。本発明における光拡散層に用いられる無機フィラーの好ましい例としては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ、ＡＴＯとＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。また逆に、高屈折率透光性微粒子を用いた光拡散層では光拡散層の屈折率を低目に保つためにＳｉＯ₂を用いることも好ましい。無機フィラーの平均粒径は０．２μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．１μｍ以下、更に好ましくは０．０６μｍ以下である。これらの無機フィラーの添加量は、光拡散層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、透光性樹脂に該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

本発明において、無機フィラーの凝集、沈降を抑制する目的で、塗布液に分散安定化剤を併用することも好ましい。分散安定化剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロース誘導体、ポリアミド、リン酸エステル、ポリエーテル、界面活性剤および、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等を使用することができる。特にフィラー表面に透光性樹脂と反応できる官能基を有するシランカップリング剤が硬化後の皮膜が強いため好ましい。分散安定化剤としてのシランカップリング剤の添加量は特に制限されるものではないが、例えば、無機フィラー１００質量部に対して、１質量部以上の値とするのが好ましい。また、分散安定化剤の添加方法も特に制限されるものではないが、予め加水分解したものを添加することもできるし、あるいは、分散安定化剤であるシランカップリング剤と無機フィラーとを混合後、さらに加水分解および縮合する方法を採ることができるが、後者の方がより好ましい。

本発明の光拡散層の透光性樹脂および無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、透光性樹脂及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

本発明の光拡散層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光拡散層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の光拡散フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。

フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体（「フッ素系ポリマー」と略記することもある）が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位及び下記（ii）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。

（ｉ）下記一般式２で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー

一般式２

一般式２中、Ｒ¹¹は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または‐Ｎ（Ｒ¹²）‐を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは２または３の整数を表す。Ｒ¹²は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。一般式２中のｍは１以上６以下の整数が好ましく、２が特に好ましい。一般式２中のｎは１〜３であって、１〜３の混合物を用いてもよい。

（ii）上記（ｉ）と共重合可能な下記一般式３で示されるモノマー

一般式３

一般式３中、Ｒ¹³は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは酸素原子、イオウ原子または‐Ｎ（Ｒ¹⁵）‐を表し、Ｒ¹⁵は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｙは酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、および−Ｎ（ＣＨ₃）−が好ましい。Ｒ¹⁴は置換基を有しても良い炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。Ｒ¹⁴のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。

本発明で界面活性剤としてのフッ素系ポリマーの合成に用いられるこれらの一般式２で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体の合計量に基づいて１０モル％以上であり、好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは２０〜６０モル％の範囲である。

上記フッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。更に、本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、効果の発現、塗膜の乾燥性、塗膜の性能（例えば反射率、耐擦傷性等）等を考慮して、塗布液に対して好ましくは０．００１〜５質量％の範囲であり、より好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。

以下、界面活性剤として用いられるフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。

しかしながら、上記のようなフッ素系ポリマーを使用することにより、光拡散層表面にフッ素原子を含有する官能基が偏析することにより光拡散層の表面エネルギーが低下し、上記光拡散層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止性能が悪化する問題が生じる。これは低屈折率層を形成するために用いられる塗布組成物の濡れ性が悪化するために低屈折率層の膜厚の目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。このような問題を解決するためには、フッ素系ポリマーの構造と添加量を調整することにより、光拡散層の表面エネルギーを好ましくは２０ｍＮ・ｍ^-1〜５０ｍＮ・ｍ^-1に、より好ましくは３０ｍＮ・ｍ^-1〜４０ｍＮ・ｍ^-1に制御することが効果的である。また、上記のような表面エネルギーを実現するためには、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるＦ／Ｃが０．１〜１．５であることが好ましい。

また光拡散層上に低屈折率層をオーバーコートする時点で表面エネルギーの低下を防げば、反射防止性能の悪化が防げる。光拡散層塗布時にはフッ素系ポリマーを用いて塗布液の表面張力を下げて面状均一性を高め、高速塗布による高生産性を維持し、光拡散層塗布後にコロナ処理、UV処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理といった表面処理手法を用いて、特に好ましいのはコロナ処理であるが、表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の光拡散層の表面エネルギーを上記範囲に制御することでも目的を達成することができる。

〔低屈折率層〕
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層には、低屈折率透光性樹脂として、含フッ素ポリマーを含む。含フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．１５、水に対する接触角９０〜１２０°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の低屈折率層には膜強度向上のための無機フィラーを用いることもできる。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に、溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマー単位を共重合により導入することもできる。フッ素原子を含有しないモノマー単位導入するための共重合可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

低屈折率層に特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることである。

低屈折率層に用いられる共重合体の好ましい形態として下記一般式４のものが挙げられる。

一般式４

一般式４中、Ｌは炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数２〜４の連結基を表し、直鎖構造であっても分岐構造であってもよく、また環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、およびＳから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。Ｌの好ましい例としては、＊−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ₂）₂−ＮＨ−＊＊，＊−（ＣＨ₂
）₄−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ₂）₆−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−＊
＊，＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表す。

一般式４中、Ｘは、水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、好ましくは水素原子である。

一般式４中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーから導かれる繰返し単位によって構成されていても良い。

好ましいビニルモノマーの例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。

ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成単位のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値である。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。

本発明の反射防止フィルムの低屈折率層に用いられる共重合体の特に好ましい形態として下記一般式５が挙げられる。

一般式５において、Ｘ、ｘ、ｙは一般式４と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式４におけるＡの例として説明したものが当てはまる。ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。

一般式４又は５で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に、前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。

以下に本発明で有用な共重合体の好ましい例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明に用いられる共重合体の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって（メタ）アクリロイル基を導入することにより行なうことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。

重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている。

上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独あるいは２種以上の混合物でも良いし、水との混合溶媒としても良い。

重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり０℃以下から１００℃以上まで可能であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行なうことが好ましい。

反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、０．０９８〜９．８ＭＰａ（１〜１００ｋｇ／ｃｍ²）、特に、０．０９８〜２．９ＭＰａ（１〜３０ｋｇ／ｃｍ²）程度が望ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。

得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。

次に本発明の低屈折率層中に、少なくとも一種類以上含有される無機フィラーについて、以下に記載する。無機フィラーの塗設量は、１ｍｇ／ｍ²〜１００ｍｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ²〜８０ｍｇ／ｍ²、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ²〜６０ｍｇ／ｍ²である。
該無機フィラーは、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。以上シリカ微粒子について述べたことは、他の無機フィラーについても適用される。ここで、無機フィラーの平均粒径はコールターカウンターにより測定される。

低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましく、該中空シリカ微粒子は屈折率が１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式（II）で算出される空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０%、さらに好ましくは２０〜６０%、最も好ましくは３０〜６０%である。
数式（II）：ｘ＝（４πａ³／３）／（４πｂ³／３）×１００
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定をおこなった。

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満であるシリカ微粒子（「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）の少なくとも１種を上記の粒径のシリカ微粒子（「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）と併用することが好ましい。小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。

シリカ微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいは透光性樹脂成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。上記カップリング剤は、低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。シリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。

本発明の反射防止フィルムを構成する光拡散層と低屈折率層のうちの少なくとも１層は、その層を形成する塗布液中にオルガノシラン化合物か、オルガノシラン化合物の加水分解物または部分縮合物、いわゆるゾル成分（以降このように称する）のいずれかを含有することが耐擦傷性の点で好ましい。特に低屈折率層は反射防止能と耐擦傷性を両立させるためにゾル成分を含有することが好ましい。このゾル成分は、塗布液を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成し上記層の透光性樹脂となる。また、該硬化物が重合性不飽和結合を有する場合、活性光線の照射により３次元構造を有する透光性樹脂が形成される。

オルガノシラン化合物は、下記一般式６で表されるものが好ましい。
一般式６：（Ｒ¹⁰）_m−Ｓｉ（Ｘ）_4-m
上記一般式６において、Ｒ¹⁰は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。Ｘは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数1〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ²ＣＯＯ（Ｒ²は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ₃ＣＯＯ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。ｍは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２であり、特に好ましくは１である。

Ｒ¹⁰あるいはＸが複数存在するとき、複数のＲ¹⁰あるいはＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ¹⁰に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

Ｒ¹⁰が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましく、中でも、下記一般式７で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。

一般式７

上記一般式７において、Ｒ¹は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。Ｙは単結合もしくは*−ＣＯＯ−**、*−ＣＯＮＨ−**又は*−Ｏ−**を表し、単結合、*−ＣＯＯ−**および*−ＣＯＮＨ−**が好ましく、単結合および*−ＣＯＯ−**が更に好ましく、*−ＣＯＯ−**が特に好ましい。*は＝Ｃ（Ｒ¹）−に結合する位置を、**はＬに結合する位置を表す。

Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

ｎは０または１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。Ｒ¹⁰は、一般式６の場合と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。Ｘは一般式６の場合と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

一般式６、一般式７の化合物は２種類以上を併用しても良い。以下に一般式６、一般式７で表される化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。

これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、および（Ｍ−５）が特に好ましい。

低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。

低屈折率層形成用組成物は、通常、液の形態をとり、前記含フッ素ポリマーと前記無機フィラーを好ましい構成成分とし、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を含有しても良く、適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。

低屈折率層の皮膜硬度の観点からは硬化剤等の添加剤を添加することは必ずしも有利ではないが、所望により設けられる高屈折率層との界面密着性等の観点から、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物等の硬化剤、あるいはシリカ等の無機フィラーを少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して０〜３０質量%の範囲であることが好ましく、０〜２０質量%の範囲であることがより好ましく、０〜１０質量％の範囲であることが特に好ましい。

防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には、低屈折率層形成用組成物全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。

シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および側鎖の少なくともいずれかに置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例 としては信越化学（株）製、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-164B、X22-164C、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(以上商品名)やチッソ（株）製、FM-0725、FM-7725、FM-4421、FM-5521、FM6621、FM-1121やGelest製DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182、DMS-H21、DMS-H31、HMS-301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221 (以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば−ＣＦ₂ＣＦ₃，−ＣＨ₂（ＣＦ₂）₄Ｈ，−ＣＨ₂（ＣＦ₂）₈ＣＦ₃，−ＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）₄Ｈ等）であっても、分岐構造（例えばＣＨ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ₂ＣＦ（ＣＦ₃）₂，ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＦ₂ＣＦ₃，ＣＨ（ＣＨ₃）（ＣＦ₂）₅ＣＦ₂Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えばＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₃，ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ₄Ｆ₈Ｈ，ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ₈Ｆ₁₇，ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。

フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、R−2020、M−2020、R−3833、M−3833(以上商品名)、大日本インキ（株）製、メガファックF−171、F−172、F−179A、ディフェンサMCF−300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックF−150(商品名)、東レダウコーニング（株）製、SH−3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。

光拡散層および低屈折率層形成用の塗布液に用いることのできる塗布溶媒は、例えば、沸点が１００℃以下の溶媒として、ヘキサン（沸点６８．７℃、以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、アセトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエチルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。

沸点が１００℃以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２−メチル−４−ペンタノン（＝ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタノール（１１７．７）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３）、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６）、ジメチルスルホキシド
（１８９）、などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン、である。

〔支持体〕
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。

トリアセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、特開平７−１１０５５号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、公開特許公報の特開昭６１−９４７２５号公報、特公昭６２−４３８４６号公報等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。

上記のような、トリアセチルセルロースを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。
ジクロロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調製する場合には、後述するような特殊な溶解法が必須となる。

第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロースが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。

第二の方法は、高温溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロースを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法において、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０質量％以下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布できないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却して常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアセテートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されている。

〔反射防止フィルムの形成方法〕
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、光拡散層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）やダイコート法により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。更に、ダイの構成を後述のように工夫したダイを使用して塗布を行うことが最も好ましい。
その後、光照射あるいは加熱して、光拡散層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これにより光拡散層が形成される。
次に、同様にして低屈折率層を形成するための塗布液を光拡散層上に塗布し、光照射あるいは加熱し低屈折率層が形成される。このようにして、本発明の反射防止フィルムが得られる。

［ダイコーターの構成］
図２は、本発明の実施の際に使用したスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター１０はバックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ１２に対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブ１２上に塗膜１４ｂを形成する。

スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、たとえば、図２に示されるような略円形でもよいし、又は半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。

ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、又はスロット開口部１６ａとは反対側の面の中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。

スロット１６は、ポケット１５からウェブ１２への塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。

スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は、先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブ１２の走行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。

図３は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は、本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は、従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブ１２との距離は等しい。なお、（Ｂ）において、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩＬＯが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度よく行うことができる。

上流側リップランド１８ａのランド長さＩＵＰは特に限定はされないが、１００μｍ〜１ｍｍの範囲が好ましく採用される。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩＬＯは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、更に好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。

下流側リップのランド長さＩＬＯが３０μｍよりも短い場合は、先端リップ１７のエッジ又はランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。

一方、下流側リップのランド長さＩＬＯが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。

更に、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブ１２に近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて、薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブ１２との距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、更に好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、最も好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。

スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブ１２の隙間ＧＬとは、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２の隙間を示す。

図４は、本発明の実施に使用された塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブ１２の走行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して充分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブ１２の間、サイドプレート４０ｂとウェブ１２の間にはそれぞれ隙間ＧＢ、ＧＳが存在する。

図５及び図６は、近接している減圧チャンバー４０とウェブ１２を示す断面図である。サイドプレート４０ｂとバックプレート４０ａは、図５のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図６のように適宜隙間を変えられるように、チャンバーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。

いかなる構造であっても、バックプレート４０ａとウェブ１２の間、サイドプレート４０ｂとウェブ１２の間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間ＧＢ、ＧＳと定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧＢとは、減圧チャンバー４０を図４のようにウェブ１２及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブ１２までの隙間を示す。

バックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧＢを、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブ１２との隙間ＧＬよりも大きくして設置するのが好ましい。これにより、バックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。

たとえば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブ１２との隙間ＧＬが３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブ１２の間の隙間ＧＢは１００μｍ以上５００μｍ以下とするのが好ましい。

［材質、精度］
ウェブ１２の走行方向側の先端リップ１７のウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が２０μｍ以内とすることが好ましい。

また、スロットダイの先端リップ１７の材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップ１７のウェブ走行方向における長さを３０〜１００μｍの範囲にしても、先端リップ１７の精度を満足できない。

したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップ１７を、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。

超硬合金としては、タングステンカーバイド（以下、ＷＣと称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることもできる。ＷＣ結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下が更に好ましい。

高精度な塗布を実現するためには、先端リップ１７のウェブ走行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、すなわち、隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以下になるように先端リップ１７とバックアップロール１１との真直度を出す。

本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくとも光拡散層乃至含フッ素ポリマーを含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。

マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本/インチが好ましく、１００〜３００本/インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍｍが好ましく、５〜２００μｍｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ/分であることが好ましく、１〜５０ｍ/分がより好ましい。

〔反射防止フィルムの偏光板、画像表示装置への適用〕
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。

本発明の反射防止フィルムは、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用される場合には、十分に接着させるためには透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と接着させる際に偏向膜と反射防止フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２０゜以下である。

アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の（１）及び（２）の２つの手段から選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。
（１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。

偏光板は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の反射防止フィルムは、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。

偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。

偏光子の２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学補償層を有し、該ディスコティック化合物と支持体とのなす角度が層の深さ方向において変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。
該角度は光学異方性層の支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。

偏光子の２枚の保護フィルムのうち、少なくとも１枚の保護フィルムの透明支持体が下記式（Ｉ）および（II）を満たすことが、液晶表示画面の斜め方向からの表示改良効果が高く好ましく、特に本発明の透明支持体が下記式（Ｉ）および（II）を満たすことが特に好ましい。
（Ｉ）：０≦Ｒｅ(630)≦１０、かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５
（II）：｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０、かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５

本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。

本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。

ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）28(1997)84５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

さらに、ベンド配向モードの液晶セル、光学異方層を含む偏光板を含めた全体として、波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍおよび波長６３０ｎｍのいずれの測定においても、下記式（１'）を満足する光学特性を有することが、液晶表示画面の斜め方向からの表示改良効果が高く好ましく、特に本発明の光拡散および反射防止フィルムを保護フィルムとした偏光板が下記式(１')をみたすことが特に好ましい。
式（１'）：０．０５＜（Δｎ×ｄ）／（Ｒｅ×Ｒｔｈ）＜０．２０
［式（１'）中、Δｎは液晶セル中の棒状液晶性分子の固有複屈折率であり；ｄはｎｍを単位とする液晶セルの液晶層の厚さであり；Ｒｅは光学異方層全体の面内レターデーション値であり；Ｒｔｈは光学異方層全体の厚み方向のレターデーション値である。

ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。

特にＶＡモードの液晶表示装置に対しては、特開２００３−７５６３８に記載されているように、位相差フィルムと光拡散フィルムとの組合せでコントラスト改良に加えて、更に階調特性の改良効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。

以下に実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（透光性微粒子分散液Ａの調製）
透光性微粒子として、シード重合法により製造された３．０μｍポリメチルメタクリレート系粒子を、粉体として取り出す前の水分散液ＭＸ３００Ｅ（綜研化学（株）製、粒子含有量２０質量％）の状態で、孔径３０μｍ、１５μｍ、１０μｍ、７μｍのカートリッジフィルター（日本ポール（株）製）を使用し、逐次、多段階で濾過した。濾過前のポリメチルメタクリレート系粒子の粒子径分布において累積個数９９．９９％粒子径は７．９μｍであったのに対して、７μｍのカートリッジフィルターで濾過した後の累積個数９９．９９％の粒子径は４．５μｍであり、粗大粒子が除去できたことを確認した。濾過された水分散液を固液分離で水を除去し、粒子表面に付着した分散剤を洗浄、除去した後、乾燥を行い、粉体としてポリメチルメタクリレート系粒子ＭＸＦ３００（綜研化学（株）製）を得た。その後、１７．５ｋｇのメチルイソブチルケトンにＭＸＦ３００を７．５ｋｇ加え、回転数５０００ｒｐｍ、分散時間３時間の条件でポリトロン分散を行い、３０質量％溶液の透光性微粒子分散液Ａを得た。平均粒子径測定はＭＡＬＶＥＲＮ製マスターサイザーを用いて、測定溶剤はメチルイソブチルケトンを使用した。平均粒子径は３．２μｍであった。

（透光性微粒子分散液Ｂの調製）
透光性微粒子として、シード重合法により合成された１．５μｍポリメチルメタクリレート系粒子を粉体として取り出す前の水分散液ＭＸ１５０Ｈ３Ｅ（綜研化学（株）製、粒子含有量１５質量％）状態で、孔径３０μｍ、１５μｍ、１０μｍ、７μｍ、５μｍのカートリッジフィルター（日本ポール（株）製）を使用し、逐次、多段階で濾過した。濾過前のポリメチルメタクリレート系粒子の粒子径分布において累積個数９９．９９％粒子径は ５．４μｍであったのに対して、５μｍのカートリッジフィルターで濾過した後の累積個数９９．９９％の粒子径は３．９μｍであり、粗大粒子が除去できたことを確認した。濾過された水分散液を固液分離で水を除去し、粒子表面に付着した分散剤を洗浄、除去した後、乾燥を行い、粉体としてポリメチルメタクリレート系ビーズＭＸＦ１５０Ｈ３ＣＦ（綜研化学（株）製）を得た。その後、１７．５ｋｇのメチルイソブチルケトンにＭＸＦ１５０Ｈ３ＣＦを７．５ｋｇ加え、回転数５０００ｒｐｍ、分散時間３時間の条件でポリトロン分散を行い、３０質量％溶液の透光性微粒子分散液Ｂを得た。平均粒子径は１．５μｍであった。

（透光性微粒子分散液Ｃの調製）
透光性微粒子分散液Ａにおいて、粒子製造後の水分散液の状態で濾過処理がされずに、粉体化されたＭＸ３００（綜研化学（株）製）を透光性微粒子分散液Ａと同様にしてメチルイソブチルケトンに分散させ、透光性微粒子分散液Ｃを得た。粒子径分布における累積個数９９．９９％の粒子径は７．９μｍであった。平均粒子径は３．２μｍであった。

（透光性微粒子分散液Ｄの調製）
透光性微粒子分散液Ａにおいて、フィルター孔径が３０μｍのカートリッジフィルター（日本ポール（株）製）のみで濾過された以外は透光性微粒子分散液Ａと全く同様にして調製された透光性微粒子分散液を透光性微粒子分散液Ｄとする。３０μｍのカートリッジフィルター（日本ポール（株）製）のみで濾過した後の、ポリメチルメタクリレート系ビーズの粒子径分布における累積個数９９．９９％の粒子径は７．７μｍであった。平均粒子径は３．２μｍであった。

（透光性微粒子分散液Ｅの調製）
透光性微粒子分散液Ｂにおいて、粒子製造後の水分散液の状態で濾過処理がされずに、粉体化されたＭＸ１５０Ｈ３（綜研化学（株）製）を透光性微粒子分散液Ｂと同様にしてメチルイソブチルケトンに分散させた後、孔径１０μｍおよび７μｍのカートリッジフィルター（日本ポール（株）製）を使用し、逐次、多段階で濾過し、透光性微粒子分散液Ｅとした。濾過前の粒子径分布において累積個数９９．９９％粒子径は５．４μｍであったのに対して、濾過した後の粒子径分布における累積個数９９．９％の粒子径は３．９μｍであり、平均粒子径は１．５μｍであった。

（透光性微粒子分散液Ｆの調製）
透光性微粒子として、シリカＫＥ−Ｐ１５０（日本触媒（株）製）を７．５ｋｇ、１７．５ｋｇのメチルエチルケトンに加え、回転数５０００ｒｐｍ、分散時間３時間の条件でポリトロン分散を行い、３０質量％溶液の透光性微粒子分散液をとした後、孔径１０μｍおよび７μｍのカートリッジフィルター（日本ポール（株）製）を使用し、逐次、多段階で濾過し、透光性微粒子分散液Ｆとした。濾過前のシリカ粒子の粒子径分布において累積個数９９．９９％粒子径は３．１μｍであったのに対して、濾過した後の粒子径分布における累積個数９９．９％の粒子径は２．２μｍであり、平均粒子径は１．５μｍであった。

（透光性微粒子分散液Ｇの調製）
透光性微粒子分散液Ｂにおいて、粒子製造後の水分散液の状態で濾過処理がされずに、粉体化されたＭＸ１５０Ｈ３（綜研化学（株）製）を透光性微粒子分散液Ｂと同様にしてメチルイソブチルケトンに分散させ、透光性微粒子分散液Ｇとした。粒子径分布における累積個数９９．９％の粒子径は５．４μｍであり、平均粒子径は１．５μｍであった。

（光拡散層用塗布液Ａの調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
＜光拡散層用塗布液組成＞
デソライトＺ７４０４ １００質量部
（ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液：ＪＳＲ（株）製）
ＤＰＨＡ（ＵＶ硬化性樹脂：日本化薬（株）製） ３１質量部
ＫＢＭ−５１０３（シランカップリング剤：信越化学工業（株）製）
１０質量部
透光性微粒子分散液Ａ（３０質量％ＭＩＢＫ分散物） １１．３質量部
透光性微粒子分散液Ｆ（３０質量％ＭＥＫ分散物） ２９．７質量部
ＭＥＫ ８．２質量部
ＭＩＢＫ ５．１質量部
光拡散層用塗布液Ａ中の粒子含有量は６．３質量％である。

（光拡散層用塗布液Ｂの調製）
光拡散層用塗布液Ａの塗布液組成において、透光性微粒子分散液ＡおよびＦの代わりに透光性微粒子分散液Ｂを５０．５重量部含む以外は光拡散層用塗布液Ａと同様に調製された塗布液を光拡散層用塗布液Ｂとする。光拡散層用塗布液Ｂ中の粒子含有量は７．４質量％である。

（光拡散層用塗布液Ｃの調製）
光拡散層用塗布液Ａの塗布液組成において、透光性微粒子分散液ＡおよびＦの代わりに透光性微粒子分散液Ｅを５０．５重量部含む以外は光拡散層用塗布液Ａと同様に調製された塗布液を光拡散層用塗布液Ｃとする。光拡散層用塗布液Ｃ中の粒子含有量は７．４質量％である。

（光拡散層用塗布液Ｄの調製）
光拡散層用塗布液Ａの塗布液組成において、透光性微粒子分散液Ａの代わりに同量の透光性微粒子分散液Ｃが含まれる以外は光拡散層用塗布液Ａと同様に調製された塗布液を光拡散層用塗布液Ｄとする。光拡散層用塗布液Ｄ中の粒子含有量は６．３質量％である。

（光拡散層用塗布液Ｅの調製）
光拡散層用塗布液Ａの塗布液組成において、透光性微粒子分散液Ａの代わりに同量の透光性微粒子分散液Ｄが含まれる以外は光拡散層用塗布液Ａと同様に調製された塗布液を光拡散層用塗布液Ｅとする。光拡散層用塗布液Ｅ中の粒子含有量は６．３質量％である。

（光拡散層用塗布液Ｆの調製）
光拡散層用塗布液Ａの塗布液組成において、透光性微粒子分散液ＡおよびＦの代わりに透光性微粒子分散液Ｇを５０．５重量部含む以外は光拡散層用塗布液Ａと同様に調製された塗布液を光拡散層用塗布液Ｆとする。光拡散層用塗布液Ｆ中の粒子含有量は７．４質量％である。

（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３（商品名）；信越化学工業社製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１８００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

（低屈折率層用塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、その後、孔径１μｍｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
＜低屈折率層用塗布液組成＞
オプスターＪＮ７２２８Ａ １００質量部
（熱架橋性含フッ素ポリマー組成液：ＪＳＲ（株）製）
ＭＥＫ−ＳＴ
（シリカ分散物 平均粒径１５ｎｍ：日産化学（株）製） ４．３質量部
ＭＥＫ−ＳＴの粒径違い品 ５．１質量部
（シリカ分散物 平均粒径４５ｎｍ：日産化学（株）製）
ゾル液ａ ２．２質量部
ＭＥＫ １５．０質量部
シクロヘキサノン ３．６質量部

実施例１
〔反射防止フィルムの作製、偏光板の作製、液晶表示装置への適用〕
（光拡散層の形成）
支持体としてトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、光拡散層用塗布液Ａを線数１３５本／インチ、深度６０μｍｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度１０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、光拡散層を形成し、巻き取った。硬化後、光拡散層の厚さが３．４μｍｍとなるようにグラビアロール回転数を調整した。

（低屈折率層の形成）
上記光拡散層を塗設した支持体を再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液を線数２００本／インチ、深度３０μｍｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度１０ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で１２分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、低屈折率層を形成して、巻き取った。硬化後の低屈折率層の厚さが１００ｎｍとなるようにグラビアロール回転数を調整した。
以上の工程により、反射防止フィルムが得られた。

（反射防止フィルムの鹸化処理）
１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した反射防止フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。

（反射防止フィルム付き偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。鹸化処理済みの反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、反射防止フィルムの支持体側（トリアセチルセルロース）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。

（バックライト側偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。市販のトリアセチルセルロースフィルム（富士写真フイルム（株）製 フジタックＴＤ８０Ｕ）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムＷＶＳＡ １２Ｂ（富士写真フイルム製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアセテートフィルムが偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにしてバックライト側偏光板を作製した。

ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を、それぞれ光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側に貼り付けた。またバックライト側には、光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介してバックライト側偏光板を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。

実施例２
実施例１において、光拡散層用塗布液Ａの代わりに光拡散層用塗布液Ｂに変更した以外は、全く同様に、光拡散フィルム、反射防止フィルムおよび偏光板を作製し、偏光板を液晶表示装置へ貼り付けた。

実施例３
実施例１において、光拡散層用塗布液Ａの代わりに光拡散層用塗布液Ｃに変更した以外は、全く同様に、光拡散フィルム、反射防止フィルムおよび偏光板を作製し、偏光板を液晶表示装置へ貼り付けた。

実施例４
実施例１において、光拡散層の膜厚を２．７μｍに変更した以外は、全く同様に、光拡散フィルム、反射防止フィルムおよび偏光板を作製し、偏光板を液晶表示装置へ貼り付けた。

実施例５
実施例１において、光拡散層用塗布液Ａの代わりに光拡散層用塗布液Ｅに変更した以外は、全く同様に、光拡散フィルム、反射防止フィルムおよび偏光板を作製し、偏光板を液晶表示装置へ貼り付けた。

比較例１
実施例１において、光拡散層用塗布液Ａの代わりに光拡散層用塗布液Ｄに変更した以外は、全く同様に、光拡散フィルム、反射防止フィルムおよび偏光板を作製し、偏光板を液晶表示装置へ貼り付けた。

比較例２
実施例１において、光拡散層用塗布液Ａの代わりに光拡散層用塗布液Ｆに変更した以外は、全く同様に、光拡散フィルム、反射防止フィルムおよび偏光板を作製し、偏光板を液晶表示装置へ貼り付けた。

比較例３
比較例１において、光拡散層の膜厚を２．７μｍに変更した以外は、全く同様に、光拡散フィルム、反射防止フィルムおよび偏光板を作製し、偏光板を液晶表示装置へ貼り付けた。

〔評価方法〕
実施例及び比較例で作製した光拡散フィルム、反射防止フィルム、液晶表示装置について、下記の項目の評価を行った。結果を表１及び表２に示した。
（１）粗大粒子による点欠陥の評価
上記作製した光拡散フィルムにおいて、１．３４ｍ×５．００ｍの範囲を透過光で目視により粗大粒子による点欠陥を数えた。
（２）鏡面反射率の測定
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５度における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止フィルムの反射防止性を評価した。
（３）平均表面粗さＲａの測定
反射防止フィルムの平均表面粗さＲａを、（株）小坂研究所製万能表面形状測定機を用い、光拡散フィルム上をなぞり、縦倍率１００００倍、横倍率５０倍、測定長２５ｍｍの条件で測定した。
（４）表面白化の評価
作製した上記液晶表示装置の、黒表示の状態での表面白化を目視で評価した。
黒表示の表面の黒に締りがあり、白味を感じない。 ：○
黒表示の表面にわずかに白味を感じる。 ：△
黒表示の表面が白くぼやけ、強く白味を感じる。 ：×
（５） 光沢度の測定
上記光拡散および反射防止フィルムを変角光沢計VG−１００１DP（商品名、日本電色工業(株)製）を用いて、６０°入射、６０°受光の条件で測定し、光沢度を得た。
（６）ヘイズおよび内部ヘイズの測定
上記光拡散フィルムをヘイズメーターＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（商品名、日本電色工業（株）製）を用いて測定しヘイズ値を求めた。また各光拡散塗布液中の透光性微粒子分散液を除去した以外は全く同様に調整した塗布液を、光拡散フィルムに塗布、乾燥、硬化して得られた表面凹凸のない光拡散フィルムに対してもヘイズ測定し、これを各光拡散フィルムの内部ヘイズ値とした。表面ヘイズ値は上記のヘイズ値と内部ヘイズの差を、表面ヘイズとした。

表１に示される結果から以下のことが明らかである。
実施例１〜３はいずれも黒表示における表面白化がなく、黒のしまりに優れ、且つ粗大粒子による点欠陥がなく、更に低屈折率層を設けることで、反射防止性が良好であった。実施例４は、点欠陥はないものの、膜厚が小さく、平均表面粗さが大きいため、わずかに黒表示における表面白化があり、黒のしまりが劣る。実施例５は濾過による粗大粒子の除去効果は認められるものの、濾過フィルター径が大きいため、粗大粒子の捕捉が十分でなく、点欠陥が観察された。実施例１および５に対して比較例１では濾過により粗大粒子が除去されていないため、顕著に点欠陥が多く観察できた。比較例２も同様に実施例２および３に対して、点欠陥が多く観察できた。比較例３は膜厚が小さいため、平均表面粗さが大きく、表面散乱が強くなり、点欠陥は認識しにくくなるが、黒表示における表面白化があり、黒のしまりが劣る。
また光拡散層用塗布液Ａ〜Ｄ中のシランカップリング剤ＫＢＭ−５１０３の代わりに、シランカップリング剤Ｘ−４０−２６７１Ｇ(信越化学工業（株）製)に変更した以外は、実施例１と全く同様に、光拡散フィルムおよび反射防止フィルムを作製したところ、塗布液安定性が向上し、生産性高くフィルムが得られた。
また低屈折率層用塗布液中の熱架橋性含フッ素ポリマー組成液ＪＮ−７２２８Ａの代わりに、熱架橋性含フッ素ポリマー組成液ＪＴＡ−１１３[ＪＳＲ（株）製]に変更した以外は、実施例１と全く同様に、反射防止フィルムを作製したところ、耐擦傷性が向上したフィルムが得られた。

実施例６
（分散液Ａ−１の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。

（低屈折率層用塗布液（Ｌ−１）の調製）
オプスターＪＴＡ１１３（熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６％）：ＪＳＲ(株)製）７８３．３質量部（固形分として４７．０質量部）に対して、分散液A−１を１９５質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）、コロイダルシリカ分散物（シリカ、ＭＥＫ?ＳＴの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）３０．０質量部（固形分として９．０質量部）、ゾル液ａ１７．２質量部（固形分として５．０質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して塗布液（Ｌ−１）を調製した。

実施例１に記載の低屈折率層用塗布液の代わりに、上記低屈折率層用塗布液Ｌ−１に変更した以外は、実施例１と全く同様に、反射防止フィルムを作製したところ、鏡面反射率をより低下させた視認性の高いフィルムが得られた。

実施例７
（ダイコーターの構成）
図３に示されるスロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩＵＰが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩＬＯが５０μｍで、スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。
上流側リップランド１８ａとウェブ１２の隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２の隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２との隙間ＧＬを５０μｍに設定した。
また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブ１２との隙間ＧＳ、及びバックプレート４０ａとウェブ１２との隙間ＧＢはともに２００μｍとした。

（反射防止フィルムの作製）
超音波除塵器で、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の塗布側表面を除電処理した上に、光拡散層用塗布液塗布液Aを前記ダイコーターを用いて３０ｍ／ｍｉｎの塗布速度で、９．５ｃｃ／ｍ^２の塗布量で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．５ｋＰａとした。塗布液Aの塗布に於いては、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２との隙間ＧＬを７０μｍにして塗布を行った。塗布されたウェブはその後６０℃で乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて巻き取り、厚さ３．４μｍの光拡散層を形成した。上記の光拡散層の上に、低屈折率層用塗布液を前記ダイコーターを用いて３０ｍ／ｍｉｎの塗布速度、５．２ｃｃ／ｍ^２の塗布量で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．５５ｋＰａとした。塗布されたウェブはその後１２０℃で６０秒乾燥の後、更に１４０℃で５分乾燥させてから、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ/ｃｍ^２、照射量９００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４５、膜厚１００ｎｍ）を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。

上記ダイコート法を用いた塗布条件にて反射防止フィルムを作製し、評価したところ、実施例1と同様の結果が得られた上、非常に生産性高くフィルムが得られた。

本発明の実施の形態に係る反射防止フィルムを示す概略断面図である。 本発明を実施したスロットダイコーターの断面図である。 （Ａ）は本発明を実施したスロットダイコーターの断面図であり、（Ｂ）は従来のスロットダイコーターの断面図である。 本発明を実施したスロットダイ及び周辺装置の斜視図である。 本発明を実施した塗布装置のウェブ及び減圧チャンバーの断面図である。 本発明の別の実施態様である塗布装置のウェブ及び減圧チャンバーの断面図である。

符号の説明

１ 光拡散フィルム
２ 透明基材フィルム
３ 光拡散層
４ 透光性微粒子
５ 低屈折率層
１２ ウェブ
１３ スロットダイ
１７ 先端リップ
１８ａ 上流側リップランド
１８ｂ 下流側リップランド
４０ 減圧チャンバー
４０ａ バックプレート
ＩUP 上流側リップランド長さ
ＩLO 下流側リップランド長さ

Claims (18)

1. 透光性樹脂中に透光性微粒子を含む光拡散層を塗設することにより光拡散フィルムを製造する方法であって、該透光性微粒子を光拡散層形成用塗布液に配合する前に、該透光性微粒子のエマルジョン状態または分散液状態で予め濾過処理を行うことを特徴とする光拡散フィルムの製造方法。
2. 濾過処理後の累積個数９９．９９％の粒子径が、濾過処理前の累積個数９９．９９％の粒子径より小さいことを特徴とする請求項１に記載の光拡散フィルムの製造方法。
3. 光拡散フィルムの平均表面粗さＲａが０．０１μｍ以上０．１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光拡散フィルムの製造方法。
4. 光拡散フィルムの光沢度が４５％以上であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
5. 透光性微粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上８．０μｍであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
6. 透光性微粒子の濾過処理を、濾過処理前の透光性微粒子の平均粒子径の２倍以上５倍以下の孔径を有するフィルターによって行うことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
7. 濾過処理の濾過媒体が水であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
8. 光拡散フィルムのヘイズが１０％以上であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
9. 光拡散フィルムの表面ヘイズが１０％以下であることを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
10. 請求項１ないし９のいずれかに記載の方法で製造された光拡散フィルム。
11. 請求項１０に記載の光拡散フィルムの光拡散層上に反射防止層として屈折率１．３１〜１．４５の低屈折率層が設けられていることを特徴とする反射防止フィルム。
12. 反射防止フィルムの平均表面粗さＲａが０．０１μｍ以上０．１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１１に記載の反射防止フィルム。
13. 光拡散フィルムの光沢度が４５％以上であることを特徴とする請求項１１ないし１２のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
14. 反射防止フィルムのヘイズが１０％以上であることを特徴とする請求項１１ないし１３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
15. 反射防止フィルムの表面ヘイズが１０％以下であることを特徴とする請求項１１ないし１４いずれかに記載の反射防止フィルム。
16. 請求項１０に記載の光拡散フィルムまたは請求項１１ないし１５のいずれかに記載の反射防止フィルムが、偏光板の偏光子の２枚の保護フィルムのうちの一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
17. 請求項１６に記載の偏光板が用いられていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
18. 請求項１０に記載の光拡散フィルム、請求項１１ないし１４のいずれかに記載の反射防止フィルム、請求項１５に記載の偏光板を有するディスプレイ装置。

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