JPH09145903A

JPH09145903A - 反射防止フィルム

Info

Publication number: JPH09145903A
Application number: JP7331052A
Authority: JP
Inventors: Norinaga Nakamura; 典永中村; Natsuko Yamashita; 夏子山下; Yurie Oota; 友里恵太田; Motohiro Oka; 素裕岡
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1995-11-27
Filing date: 1995-11-27
Publication date: 1997-06-06

Abstract

(57)【要約】【課題】製造を容易に行うことができ、反射防止フィ
ルムの最表面層に耐擦傷性・耐候性等のハード性能を与
え、透明基材フィルムの変形に対しても最表面層におけ
るクラックの発生を防止することができる反射防止フィ
ルムを提供する。【解決手段】透明基材フィルム１上に、直接又は他の
層（例えば、接着剤層２）を介して、粒径５ｎｍ以上５
０ｎｍ以下、屈折率１．３５以上１．４５以下である超
微粒子を含有する電離放射線硬化型樹脂組成物を主体と
する低屈折率層３を形成する。該低屈折率層３の屈折率
は、該低屈折率層３に直接接する下層の屈折率よりも低
いものとする。防汚性能を付与するには、低屈折率層３
の電離放射線硬化型樹脂組成物にさらに界面活性剤を添
加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ワープロ、コンピ
ュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種
ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透
明プラスチック類サングラスレンズ、度付メガネレン
ズ、カメラ用ファインダーレンズ等の光学レンズ、各種
計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面の反
射防止に優れた反射防止フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、カーブミラー、バックミラー、ゴ
ーグル、窓ガラス、パソコン・ワープロ・プラズマディ
スプレイ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプ
レイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が用い
られており、これらの透明基板を通して物体や文字、図
形の視覚情報を観察する場合、あるいはミラーでは透明
基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これら
の透明基板の表面が光で反射して内部の視覚情報が見え
にくいという問題があった。

【０００３】この様な透明基板の反射を防止する方法と
しては、従来、ガラスやプラスチックの表面に反射防止
塗料を塗布する方法、ガラス・プラスチック基材等の透
明基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ₂やＳｉＯ
₂等の薄膜を蒸着やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法
等の気相法により形成する方法があった。

【０００４】前記ガラス上に形成された膜厚０．１μｍ
程度のＭｇＦ₂の薄膜を例にして更に説明する。入射光
が薄膜に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ₀と
し、この波長に対する反射防止膜の屈折率をｎ₀、反射
防止膜の厚みをｈ、および基板の屈折率をｎ_gとする
と、反射防止膜が光の反射を１００％防止し、光を１０
０％透過するための条件は、次の式（１）および式
（２）の関係を満たすことが必要であることは既に知ら
れている（サイエンスライブラリ物理学＝９「光学」
７０〜７２頁、昭和５５年，株式会社サイエンス社発
行）。

【０００５】

【数１】

【０００６】

【数２】ここでガラスの屈折率ｎ_g＝約１．５であり、ＭｇＦ₂
膜の屈折率ｎ₀＝１．３８、入射光の波長λ₀＝５５０
０Å（基準）と既に知られているので、これらの値を前
記式（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈは約０．
１μｍが最適であると計算される。

【０００７】前記式（１）によれば、光の反射を１００
％防止するためには、上層塗膜の屈折率がその下層塗膜
の屈折率の約平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことが分かる。このような原理を利用して、上層塗
膜の屈折率をその下層塗膜の屈折率よりも若干低い値と
なるようにして、光の反射防止を行うことが従来行われ
ていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
・プラスチック基材等の透明基板の表面に膜厚０．１μ
ｍ程度のＭｇＦ₂やＳｉＯ₂等の薄膜を蒸着、スパッタ
リング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する前
記従来の方法、プラスチックレンズ等のプラスチック製
品表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工してハードコート
層とし、得られたハードコート層上にＭｇＦ₂やＳｉＯ
₂等の薄膜を形成する従来の方法等によって得られる反
射防止フィルムにおいては、その製造に関して、複雑な
プロセス、大掛かりな装置等が必要であり、生産性が悪
いという欠点があった。また、得られた反射防止フィル
ムにおける最表面の耐摩耗性・耐候性等に欠けるという
欠点があった。

【０００９】また、表面に防汚性を付与するためには膜
の表面エネルギーを下げる必要があるため、気相法で最
表面の薄膜を形成した場合には、形成された薄膜に対し
てフッ素系等のガスを用いて再度、真空内で表面処理を
行う必要があった。

【００１０】更に、熱や湿気が上記従来の反射防止フィ
ルムにかかった場合、透明基板がプラスチックである場
合は特に、プラスチックの変形に最表面の薄膜が追随で
きず、クラックが入ってしまうという問題があった。

【００１１】一方、透明プラスチックフィルム上の最表
面に反射防止層を形成した前記従来の反射防止フィルム
は、前記したプラスチック製品の場合と同様に低屈折率
層の厚みが約０．１μｍ前後と薄いため、形成された反
射防止フィルムはハード性能に劣り、傷つきやすいとい
う問題があった。

【００１２】そこで、本発明の第一番目の目的は、製造
を容易に行うことができ、反射防止フィルムの最表面層
に耐擦傷性・耐候性等のハード性能を与え、透明プラス
チック基材フィルムの変形に対しても最表面層における
クラックの発生を防止することができる反射防止フィル
ムを提供することを目的とする。

【００１３】また、本発明の第二番目の目的は、前記第
一番目の目的に加えて、表面に真空処理せずに防汚処理
を施すことができる反射防止フィルムを提供することを
目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】前記した第一番目の目的
を達することができる、本発明の反射防止フィルムは、
透明基材フィルム上に、直接又は他の層を介して、粒径
５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、屈折率１．３５以上１．４５
以下である超微粒子を含有する電離放射線硬化型樹脂組
成物を主体とする低屈折率層が形成されて最表面層をな
し、且つ該低屈折率層は直接接する下層の屈折率よりも
低い屈折率層であることを特徴とする。

【００１５】低屈折率層を構成する電離放射線硬化型樹
脂に含有させる超微粒子の粒径が５ｎｍ未満だと超微粒
子の作製上困難となるので好ましくはなく、５０ｎｍを
越えると、塗膜の透明性が損なわれ白化現象が起こるの
で好ましくない。また該超微粒子の屈折率が１．３５未
満だと超微粒子の材料として適切なものがなく、また
１．４６を越えると、低屈折率層の直下の層の屈折率よ
りも屈折率を低く維持することが困難なので好ましくな
い。

【００１６】前記低屈折率層は、電離放射線硬化型樹脂
１００重量部に対し、超微粒子が３０重量部以上３００
重量部以下含有されていることが好ましい。超微粒子が
３０重量未満であると効果が発現しなく、３００重量部
を越えると塗膜の強度が低下するので好ましくない。

【００１７】低屈折率層における樹脂成分中、電離放射
線硬化型樹脂の割合は少なくとも２５重量％以上である
ことが好ましい。

【００１８】前記した第二番目の目的を達することがで
きる、本発明の反射防止フィルムは、前記第一番目の目
的を達成することができる反射防止フィルムの構成に加
えて、最表面層である低屈折率層に更に界面活性剤が添
加されてなることを特徴とする。界面活性剤を最表面層
である低屈折率層に含有させることにより、反射防止フ
ィルムの最表面の膜の自由エネルギーを下げることがで
き、そのため防汚効果が生ずる。

【００１９】前記した特徴を有する本発明の反射防止フ
ィルムの層構成を達成する手段は、種々の方法で達成で
きるが、代表的には、例えば、次のタイプＩ〜タイプII
I の三つのタイプを例示することができる。しかしなが
ら、本発明の反射防止フィルムはこれらの代表例に限定
されない。なお、後記する各タイプＩ〜III の反射防止
フィルムの最表面に形成されている低屈折率層は、各タ
イプ共、前記した屈折率の超微粒子、前記した組成の電
離放射線硬化型樹脂のとおりとなっており、且つ該低屈
折率層は、該低屈折率層が直接接する下層の屈折率より
も低い屈折率層を有している。

【００２０】本発明のタイプＩの反射防止フィルムは、
低屈折率層を、他の層（例えば、接着剤層）を介して、
透明基材フィルムにラミネートすることによって得るこ
とができる。該タイプＩの反射防止フィルムの製造方法
を離型フィルムを用いた製造方法により説明すれば、例
えば、離型フィルム上に、後記する他の層の屈折率より
低い屈折率の低屈折率層を形成し、離型フィルム上に形
成された層に対して他の層を介して透明基材フィルムと
ラミネートし、得られたラミネート物を硬化させた後、
前記離型フィルムを剥離する方法によって行うことがで
きる。

【００２１】本発明のタイプIIの反射防止フィルムは、
後記する接着剤層の屈折率以上の屈折率を有する高屈折
率層と該高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折
率層からなる積層体を形成し、この積層体を、接着剤層
を介して、前記高屈折率層を内側にして透明基材フィル
ムにラミネートすることによって得ることができる。該
タイプIIの反射防止フィルムの製造方法を離型フィルム
を用いた製造方法により説明すれば、例えば、離型フィ
ルム上に、後記する高屈折率層の屈折率より低い屈折率
の低屈折率層を形成し、得られた低屈折率層上に、後記
する接着剤層の屈折率以上の屈折率を有する高屈折率層
を形成し、離型フィルム上に形成された層に対して接着
剤層を介して透明基材フィルムとラミネートし、得られ
たラミネート物を硬化させた後、前記離型フィルムを剥
離する方法によって行うことができる。

【００２２】本発明のタイプIIの反射防止フィルムの別
の製造方法は、離型フィルム上に、後記する接着剤層の
屈折率以上の屈折率を有する高屈折率層を形成し、離型
フィルム上に形成された層に対して、接着剤層を介して
透明基材フィルムとラミネートし、得られたラミネート
物を硬化させた後、前記離型フィルムを剥離し、前記透
明基材フィルム上の高屈折率層上に、該高屈折率層の屈
折率よりも低い屈折率の低屈折率層を形成する方法によ
って行うことができる。

【００２３】本発明のタイプIII の反射防止フィルム
は、ハードコート層と、該ハードコート層上に設けられ
た該ハードコート層の屈折率より高い屈折率の高屈折率
層と、該高屈折率層上に設けられた該高屈折率層の屈折
率より低い屈折率の前記組成的特徴を有する低屈折率層
とからなる積層体を形成し、この積層体を、接着剤層を
介して、前記ハードコート層側を内側にして透明基材フ
ィルムにラミネートすることによって得ることができ
る。該タイプIII の反射防止フィルムの製造方法を離型
フィルムを用いた製造方法により説明すれば、例えば、
離型フィルム上に、後記する接着剤層の屈折率より低い
屈折率の低屈折率層を形成し、得られた低屈折率層上
に、接着剤層の屈折率よりも高い屈折率の高屈折率層を
形成し、得られた高屈折率層上に、ハードコート層を形
成し、離型フィルム上に形成された層に対して接着剤層
を介して透明基材フィルムとラミネートし、得られたラ
ミネート物を硬化させた後、前記離型フィルムを剥離す
る方法によって行うことができる。

【００２４】本発明のタイプIII の反射防止フィルムの
別の製造方法は、離型フィルム上に、後記する接着剤層
の屈折率よりも高い屈折率の高屈折率層を形成し、得ら
れた高屈折率層上に、ハードコート層を形成し、離型フ
ィルム上に形成された層に対して接着剤層を介して透明
基材フィルムとラミネートし、得られたラミネート物を
硬化させた後、前記離型フィルムを剥離し、前記透明基
材フィルム上の高屈折率層上に、該高屈折率層の屈折率
よりも低い屈折率の低屈折率層を形成する方法によって
行うことができる。なお、タイプIII の反射防止フィル
ムにおいてはハードコート層は、低屈折率層と基材フィ
ルム間にある任意の層に設けることができる。

【００２５】前記本発明の反射防止フィルムの製造方法
において、低屈折率層を離型フィルム側から透明基材フ
ィルム側に転写させる場合、その低屈折率層に含有され
る電離放射線硬化型樹脂の硬化のタイミングは、透明基
材フィルムとのラミネート前、或いは後の何れでも行う
ことができる。表面に微細な凹凸を有する離型シートを
用いて上記各転写処理を行った場合には、得られた低屈
折率層の表面に微細な凹凸が付与されることになり、反
射防止フィルムにさらに防眩効果も付与することができ
る。

【００２６】本発明の反射防止フィルムにおける前記高
屈折率層は、それ自身がハード性能を有してもよい。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下に本発明を更に詳しく説明す
る。

【００２８】反射防止フィルム：図１は本発明のタイプ
Ｉの反射防止フィルムを示し、１は透明基材フィルムで
あり、この透明基材フィルム１上に接着剤層２を介し
て、低屈折率層３が形成されている。図２は本発明のタ
イプIIの反射防止フィルムを示し、タイプＩの反射防止
フィルムにおける接着剤層２と低屈折率層３との間に、
さらに高屈折率層４が設けられている。図３は本発明の
タイプIII の反射防止フィルムを示し、タイプIIの反射
防止フィルムにおける接着剤層２と高屈折率層４との間
に、さらにハードコート層５が設けられている。

【００２９】反射防止フィルムの製造方法：（１）タイプＩの反射防止フィルムの製造方法図４は本発明のタイプＩの反射防止フィルムの製造方法
の一例を示すプロセス図である。

【００３０】図４（ａ）は、離型フィルム６上に、低屈
折率層３を形成した状態を示す。低屈折率層３の形成
は、粒径５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、屈折率１．３５以上
１．４５以下の超微粒子が含有されている電離放射線硬
化型樹脂組成物であって、電離放射線硬化型樹脂１００
重量部に対して超微粒子が３０重量部以上３００重量部
以下含有された電離放射線硬化型樹脂組成物を用いて塗
布して形成する。

【００３１】図４（ｂ）は、前記低屈折率層３を接着剤
からなる接着剤層２を介して透明基材フィルム１とラミ
ネートしようとする状態を示す。この接着剤層２の形成
は接着剤を透明基材フィルム１側或いは低屈折率層３側
に塗布により形成することができる。接着剤はそのまま
で、又は溶媒に溶解或いは分散させて使用する。

【００３２】図４（ｃ）は、ラミネート物から離型フィ
ルム６を剥離して、離型フィルム６上の塗膜を透明基材
フィルム１側に転写している状態を示し、転写されたフ
ィルムが本発明のタイプＩの反射防止フィルムとなる。

【００３３】（２）タイプIIの反射防止フィルムの製造
方法図５は本発明のタイプIIの反射防止フィルムの一番目の
製造方法の一例を示すプロセス図である。図５（ａ）
は、離型フィルム６上に、前記タイプＩの反射防止フィ
ルムの製造方法で用いたものと同じ電離放射線硬化型樹
脂組成物を塗布して低屈折率層３を形成し、さらに得ら
れた低屈折率層３上に高屈折率層４を形成した状態を示
す。

【００３４】図５（ｂ）は、離型フィルム６上に前記工
程で形成された各層を接着剤からなる接着剤層２を介し
て透明基材フィルム１とラミネートしようとする状態を
示す。この接着剤層２の形成は接着剤を透明基材フィル
ム１側或いは高屈折率層４側に塗布して形成することが
できる。接着剤はそのまま或いは溶媒に溶解、分散させ
て使用する。

【００３５】図５（ｃ）は、ラミネート物から離型フィ
ルム６を剥離して離型フィルム６上の塗膜を透明基材フ
ィルム１側に転写している状態を示し、転写されたフィ
ルムが本発明のタイプIIの反射防止フィルムとなる。

【００３６】図６は本発明のタイプIIの反射防止フィル
ムの二番目の製造方法の一例を示すプロセス図である。
図６（ａ）は、離型フィルム６上に、高屈折率層４を形
成した状態を示す。

【００３７】図６（ｂ）は、前記高屈折率層４に対して
接着剤からなる接着剤層２を介して透明基材フィルム１
とラミネートしようとする状態を示す。この接着剤層２
の形成は接着剤を透明基材フィルム１側或いは高屈折率
層４側に塗布により形成することができる。接着剤はそ
のまま或いは溶媒に溶解、分散させて使用する。

【００３８】図６（ｃ）は、ラミネート物から離型フィ
ルム６を剥離して、離型フィルム６上の塗膜を透明基材
フィルム１側に転写している状態を示す。

【００３９】図６（ｄ）は、露出された高屈折率層４上
に、前記タイプＩの反射防止フィルムの製造方法で用い
たものと同じ電離放射線硬化型樹脂組成物を塗布して低
屈折率層３を形成した状態を示し、本発明のタイプIIの
反射防止フィルムとなる。

【００４０】（３）タイプIII の反射防止フィルムの製
造方法図７は本発明のタイプIII の反射防止フィルムの一番目
の製造方法の一例を示すプロセス図である。図７（ａ）
は、離型フィルム６上に、前記タイプＩの反射防止フィ
ルムの製造方法で用いたものと同じ電離放射線硬化型樹
脂組成物を塗布して低屈折率層３を形成し、さらに得ら
れた低屈折率層３上に高屈折率層４を形成し、さらにそ
の上にハードコート層５を形成した状態を示す。

【００４１】図７（ｂ）は、離型フィルム６上に前記工
程で形成された各層を接着剤からなる接着剤層２を介し
て透明基材フィルム１とラミネートしようとする状態を
示す。この接着剤層２の形成は接着剤を透明基材フィル
ム１側或いはハードコート層５側に塗布して形成するこ
とができる。接着剤はそのまま或いは溶媒に溶解、分散
させて使用する。

【００４２】図７（ｃ）は、ラミネート物から離型フィ
ルム６を剥離して離型フィルム６上の塗膜を透明基材フ
ィルム１側に転写している状態を示し、転写されたフィ
ルムが本発明のタイプIII の反射防止フィルムとなる。

【００４３】図８は本発明のタイプIII の反射防止フィ
ルムの二番目の製造方法の一例を示すプロセス図であ
る。図８（ａ）は、離型フィルム６上に、高屈折率層４
を形成し、さらにその上にハードコート層５を形成した
状態を示す。

【００４４】図８（ｂ）は、離型フィルム６上に前記工
程で形成された各層を接着剤からなる接着剤層２を介し
て透明基材フィルム１とラミネートしようとする状態を
示す。この接着剤層２の形成は接着剤を透明基材フィル
ム１側或いはハードコート層５側に塗布により形成する
ことができる。接着剤はそのまま或いは溶媒に溶解、分
散させて使用する。

【００４５】図８（ｃ）は、ラミネート物から離型フィ
ルム６を剥離して、離型フィルム６上の塗膜を透明基材
フィルム１側に転写している状態を示す。図８（ｄ）
は、露出された高屈折率層４上に、前記タイプＩの反射
防止フィルムの製造方法で用いたものと同じ電離放射線
硬化型樹脂組成物を塗布して低屈折率層３を形成した状
態を示し、本発明のタイプIII の反射防止フィルムとな
る。

【００４６】上記の本発明の反射防止フィルムの各製造
方法において、接着剤としてウレタン系の接着剤を用い
た場合、ウレタン系接着剤は溶液状態で塗工し、溶媒を
除去した後、ラミネーションを行う時点では粘着性を示
しているため、ラミネート直後でもある程度の接着強度
を有するが、ラミネーションを行うロールを４０〜８０
℃に加温することによってラミネート直後の接着強度を
より向上させることができるので好ましい。また、反射
防止フィルムの透明基材フィルムとハードコート層間を
十分な接着強度とするには、接着剤層は乾燥厚みで０．
５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍであることが必
要である。

【００４７】離型フィルム：一般的にシート上にシリコ
ン、フッ素、アクリル−メラミンなど離型処理を施した
もの、または、未処理のものが使用される。その表面は
凹凸を有していてもよく、この場合、最終製品の表面に
凹凸が形成されるので、得られる反射防止フィルムに更
に防眩効果を付与することができる。

【００４８】透明基材フィルム：反射防止フィルムに適
した透明基材フィルムには、透明性のあるフィルムであ
ればよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、
ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレート
セルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、
ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィ
ルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ト
リメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィル
ム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等が使用できる
が、特に、トリアセチルセルロースフィルム、及び一軸
延伸ポリエステルが透明性に優れ、光学的に異方性が無
い点で好適に用いられる。その厚みは、通常は８μｍ〜
１０００μｍ程度のものが好適に用いられる。

【００４９】低屈折率層：低屈折率層は、少なくとも低
屈折率層に直接接する下層（タイプI では接着剤層、タ
イプIIとタイプIII では高屈折率層）の屈折率よりも低
いことが必要である。低屈折率層は粒径５ｎｍ以上５０
ｎｍ以下、屈折率１．３５以上１．４５以下である超微
粒子が含有されている電離放射線硬化型樹脂層からな
り、該超微粒子が添加された電離放射線硬化型樹脂を主
体とする樹脂組成物の塗布により形成される。

【００５０】低屈折率層の厚みは、反射防止効果を発揮
させるためには約０．１μｍ前後の薄膜で形成する必要
がある。その理由は、低屈折率層の屈折率は前記式
（１）又は式（２）に示した関係を有することが反射防
止効果を高める上で望ましいからである。

【００５１】前記屈折率及び粒径の超微粒子としては、
例えば、ＬｉＦ（屈折率１．４）、ＭｇＦ₂（屈折率
１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ₃（屈折率１．４）、Ａｌ
Ｆ₃（屈折率１．４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（氷晶石、屈折
率１．３３）、ＳｉＯ_X（ｘ：１．５０≦ｘ≦２．０
０）（屈折率１．３５〜１．４８）等の超微粒子が使用
される。前記屈折率及び粒径の超微粒子を用いた低屈折
率層の形成方法は、該超微粒子を電離放射線硬化型樹脂
を主体とする樹脂に添加したものを塗布し単層又は多層
の塗膜を形成して行うことができる。

【００５２】また、電離放射線硬化型樹脂を主体とする
樹脂の屈折率を調整する目的で、電離放射線硬化型樹脂
に対して、低屈折率熱可塑性ポリマー等の低屈折率有機
物が添加されてもよい。このような低屈折率熱可塑性ポ
リマーには、フッ素原子の導入されたフッ素系ポリマー
がその屈折率が１．４５以下と低いので好ましい。主鎖
がフッ素変性されたポリマーには、例えば、ＰＴＦＥ、
ＰＶＤＦ、ＰＶＦなどが挙げられ、またフッ素を有する
モノマーには、例えば、ＣＦ₂＝ＣＦ₂、ＣＨ₂＝ＣＦ
₂、ＣＦ₂＝ＣＨＦなどが挙げられ、またこれらモノマ
ーを重合したもの、これらをブロックポリマー化したも
のも使用できる。

【００５３】側鎖がフッ素変性されたポリマーについて
は、溶剤可溶な主鎖に対してグラフトポリマー化したも
のが挙げられるが、特に、溶剤が使用できる樹脂として
その取扱いが容易であることからポリフッ化ビニリデン
（屈折率ｎ＝１．４０）が好ましい低屈折率熱可塑性ポ
リマーの例として挙げられる。低屈折率熱可塑性ポリマ
ーとしてこのポリフッ化ビニリデンを用いた場合には、
低屈折率層の屈折率はほぼ１．４０程度となるが、さら
に低屈折率層の屈折率を低くするためにはトリフルオロ
エチルアクリレート（屈折率ｎ＝１．３２）のような低
屈折率アクリレートを、電離放射線硬化型樹脂１００重
量部に対して１０重量部から３００重量部、好ましくは
１００重量部から２００重量部添加してもよい。

【００５４】なお、このトリフルオロエチルアクリレー
トは単官能型であり、そのため低屈折率層の膜強度が十
分ではない場合があるので、さらに多官能アクリレー
ト、例えば、電離放射線硬化型樹脂であるジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート（略号：ＤＰＨＡ，４官
能型）を添加することにより強度が上がる。このＤＰＨ
Ａによる膜強度は添加量が多いほど高いが、低屈折率層
の屈折率を低くする観点からはその添加量は少ない方が
よく、１〜５０重量部、好ましくは５〜２０重量部添加
することが推奨される。

【００５５】前記低屈折率層に使用される電離放射線硬
化型樹脂には、次のものが挙げられる。好ましくは、ア
クリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低
分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹
脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリ
チオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合
物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポ
リマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリ
レート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレ
ン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能
モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオー
ル（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリ
レート等を比較的多量に含有するものが使用できる。

【００５６】特に好適には、ポリエステルアクリレート
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。

【００５７】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を
混合するのが好ましい。

【００５８】本発明の反射防止フィルムにおける低屈折
率層の硬化には、通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方
法、即ち、電子線または紫外線の照射によって硬化する
ことができる。例えば、電子線硬化の場合にはコックロ
フトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コ
ア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の
各種電子線加速器から放出される５０〜１０００Ｋｅ
Ｖ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有
する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧
水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キ
セノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発す
る紫外線等が利用できる。

【００５９】高屈折率層：さらに反射防止性能を向上さ
せるため、低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率の高屈
折率層を低屈折率層の下層に形成することが好ましい。
高屈折率層の厚みは約０．１μｍ前後の薄膜で形成する
と反射防止効果におてい有利である。高屈折率層の形成
方法には、例えば、後記する高屈折率を有する材料の薄
膜を真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の
薄膜形成方法により形成してもよく、或いは、高屈折率
層を形成するためのバインダー樹脂中に、高屈折率の金
属や金属酸化物を添加した樹脂組成物を塗布することに
より、高屈折率層を容易に形成することができる。前記
塗布による成膜にはバインダー樹脂中に、下記に列挙す
る高屈折率を有する微粒子を分散して用いてもよい。或
いは、前記高屈折率層に使用されるバインダー樹脂自体
に高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いてもよ
い。即ち、

【００６０】高屈折率層用のバインダー樹脂に、高屈
折率を有する微粒子を分散させたものを用いる。高屈折率層用のバインダー樹脂を構成する分子或いは
原子として、屈折率の高い成分を多く導入した原子を含
んだ屈折率の高い樹脂を用いる。

【００６１】前記高屈折率を有する材料としては、例え
ば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ₂（屈折率２．
３〜２．７）、ＣｅＯ₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ₂Ｏ
₅（屈折率１．７１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率１．
９５）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈
折率１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａｌ₂
Ｏ₃（屈折率１．６３）等が挙げられる。

【００６２】また、前記屈折率を向上させる成分の分子
及び原子としては、芳香族環、Ｆ以外のハロゲン原子、
Ｓ、Ｎ、Ｐの原子等が挙げられる。

【００６３】ハードコート層：本明細書において、「ハ
ードコート層」或いは「ハード性を有する」とは、ＪＩ
ＳＫ５４００で示される鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬
度を示すものをいう。ハードコート層を構成する材料
は、無機材料、有機材料問わず何でも用いることができ
る。無機材料をハードコート層材料とする場合には、例
えば、ゾル−ゲル法によって複合酸化物の膜を形成して
もよい。ハードコート層材料が有機材料の場合には、バ
インダー樹脂には、透明性のあるものであればどのよう
な樹脂（例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放
射線硬化型樹脂等）でも使用することができる。ハード
性能を付与するためには、ハードコート層の厚みは０．
５μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上とすることによ
り、硬度を維持することができ、反射防止フィルムにハ
ード性能を付与することができる。

【００６４】また、ハードコート層の硬度をより向上さ
せるために、ハードコート層に使用するバインダー樹脂
には、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び／又は
電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。生産
性、エネルギー効率、離型フィルムの熱ダメージ等を考
慮すると、電離放射線硬化型樹脂をハードコート層のバ
インダー樹脂に用いることが最適である。前記電離放射
線硬化型樹脂には、前記低屈折率層に使用した場合と同
様な電離放射線硬化型樹脂を用いることができる。

【００６５】前記熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、
尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グ
アナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン
−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が
使用され、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合
開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を
加えて使用する。

【００６６】ハードコート層に、特に、屈曲性を付与す
るためには、電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し
溶剤乾燥型樹脂を１重量部以上１００重量部以下含ませ
てもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性
樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶
剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使
用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエステ
ルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物を
使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリメ
タクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸ブ
チルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができ
る。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂と
の屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、
特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において
有利である。

【００６７】ハードコート層にバインダー樹脂として電
離放射線硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方
法は、前記の低屈折率層の硬化方法と同様に行うことが
できる。

【００６８】反射防止性能の向上のためには、透明基材
フィルムよりもハードコート層の屈折率が高いことが好
ましい。ハードコート層を高屈折率とするためには、前
記高屈折率層で述べた手法により行うことができる。ま
た、各層間の界面の反射を防止するためには、高屈折率
層の屈折率をハードコート層の屈折率よりも高い屈折率
とすることが好ましい。

【００６９】接着剤層：低屈折率層と透明基材フィルム
の間に強固な着強を形成し、かつ、反射防止フィルムの
十分な硬度や耐久性を付与するためには、接着剤の架橋
密度を上げ、層間の密着性を高め、硬度の高い接着剤層
とすることが重要であり、そのためには、硬化後のガラ
ス転移温度が２０℃以上となる接着剤を用いることが望
ましい。このようなガラス転移温度を持つ接着剤は、ウ
レタン系接着剤を挙げることができ、特に、ウレタン系
接着剤中にイソシアネート基を有する化合物を１０％以
上含有させるか、或いは接着剤中に電離放射線硬化型樹
脂を含有させることによって調製することができる。接
着剤中に電離放射線硬化型樹脂を含有させる場合には、
その電離放射線硬化型樹脂の添加量は、ラミネート時に
要する初期タックが失われない範囲とすることが重要で
ある。

【００７０】このようにするためには、接着剤に含有さ
れる電離放射線硬化型樹脂の量が全体の１０〜９０％で
あることが望ましく、さらに望ましくは３０〜７０％で
ある。その理由は、電離放射線硬化型樹脂の量が１０％
未満であると、架橋密度を十分に上げられず、耐久性が
付与できず、硬化後のガラス転移温度も２０℃以上にな
らないからである。また、その量が９０％を越えるとラ
ミネート時のＴＡＣ性（粘性）が失われ、貼り合わせが
不可となるからであり、さらに基材との層間密着性も悪
くなり、所望の接着性が得られなくなるからである。

【００７１】接着剤層に使用される接着剤として、特
に、ウレタン系接着剤、例えば、湿気硬化型（１液
型）、熱硬化型（２液型）等の反応硬化型ウレタン系接
着剤を用いることが好ましい。即ち、湿気硬化型では、
ポリイソシアネート化合物のオリゴマー、プレポリマ
ー、熱硬化型では、ポリイソシアネート化合物のモノマ
ー、オリゴマー、プレポリマーと、ポリオール化合物の
オリゴマー、プレポリマーを混合して用いることができ
る。これらの反応硬化型ウレタン系接着剤を用いる場
合、ラミネートの後に、室温から８０℃程度の温度下で
エージング処理を施すことが、反射防止フィルムに熱的
影響を与えないために望ましい。

【００７２】透明基材フィルムにＯＨ基が含まれている
場合、例えば、アルカリ処理されたトリアセチルセルロ
ースフィルム等の場合、ウレタン系接着剤中のイソシア
ネート基が透明基材フィルム等とのＯＨ基と反応し、強
固な接着となる。

【００７３】本発明において接着剤に含有させることが
できるイソシアネート基を有する化合物には、トリレン
ジイソシアネート（ＴＤＩ）、３，３’−トリレン−
４，４’−イソシアネート、ジフェニルメタン４，４’
−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリフェニルメタン
ｐ，ｐ' ，ｐ" −トリイソシアネート（Ｔ．Ｍ）、２，
４−トリレンダイマー（ＴＴ）、ナフタレン−１，５−
ジイソシアネート、トリス（４−フェニルイソシアネー
ト）チオホスフェート、クルード（ＭＤＩ）、ＴＤＩ三
量体、ジシクロヘキサメタン４，４’−ジイソシアネー
ト（ＨＭＤＩ）、水素添加ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）、メタキ
シリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサヒドロメ
タキシリレンジイソシアネート（ＨＸＤＩ）、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、トリメチルプロパン−１−メ
チル−２−イソシアノ−４−カババメート、ポリメチレ
ンポリフェニルイソシアネート、３，３' −ジメトキシ
４，４’−ジフェニルジイソシアネート、ジフェニルエ
ーテル２，４，１’−トリイソシアネート、ｍ−キシリ
レンジイソシアネート（ＭＸＤＩ）、ポリメチレンポリ
フェニルイソシアネート（ＰＡＰＩ）等が挙げられる。

【００７４】本発明で使用される接着剤に含有させるこ
とができる電離放射線硬化型樹脂には、前記低屈折率層
に使用されるような電離放射線硬化型樹脂が使用でき
る。

【００７５】界面活性剤：低屈折率層中に含有すること
ができる界面活性剤には、表面層の防汚性を付与する目
的には、フッ素系ポリマー、ケイ素化合物が挙げられる
が、特に塗膜内部での安定性を考慮すると、フッ素系ポ
リマーが好ましい。

【００７６】偏光板及び液晶表示装置：本発明の反射防
止フィルムの下面には、粘着剤が塗布されていてもよ
く、この反射防止フィルムは反射防止すべき対象物、例
えば、偏光素子に貼着して偏光板とすることができる。

【００７７】この偏光素子には、よう素又は染料により
染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、
ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタール
フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィ
ルム等を用いることができる。このラミネート処理にあ
たって接着性を増すため及び静電防止のために、反射防
止フィルムの透明基材フィルムが例えば、トリアセチル
セルロースフィルムである場合には、トリアセチルセル
ロースフィルムにケン化処理を行う。このケン化処理は
トリアセチルセルロースフィルムにハードコートを施す
前または後のどちらでもよい。

【００７８】図９に本発明の反射防止フィルムが使用さ
れた偏光板の一例を示す。図中１１は反射防止性を有す
る本発明の反射防止フィルムであり、トリアセチルセル
ロースフィルム（略：ＴＡＣフィルム、本発明でいう透
明基材フィルムに相当する）７／接着剤層２／高屈折率
層４／低屈折率層３からなる層構成となっている。該反
射防止フィルム１１が偏光素子８上にラミネートされて
おり、一方、偏光素子８の他面にはＴＡＣフィルム９が
ラミネートされている。また偏光素子８の両面に本発明
の反射防止フィルム１１がラミネートされてもよい。

【００７９】図１０に本発明の反射防止フィルムが使用
された液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子１０上
に、図９に示した偏光板、即ち、ＴＡＣフィルム９／偏
光素子８／反射防止フィルム１１からなる層構成の偏光
板がラミネートされており、また液晶表示素子１０の他
方の面には、ＴＡＣフィルム９／偏光素子８／ＴＡＣフ
ィルム９からなる層構成の偏光板がラミネートされてい
る。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子
と偏光板との間に、位相差板が挿入される。

【００８０】

【実施例】

〔実施例１〕低屈折率超微粒子として住友セメント
（株）製のＭｇＦ₂超微粒子分散液（粒径２０ｎｍ，屈
折率１．３８）を３０重量部、日本合成ゴム（株）製の
フッ素系ポリマー（主鎖フッ素変性ポリマーｎ＝１．
３９、商品名：ＫＺ５００２）を７０重量部、ＤＰＨＡ
（日本化薬製）を３０重量部、フッ素系高分子界面活性
剤（日本油脂製モディパーＦ２００：商品名）を１０重
量部を混合し、メチルイソブチルケトン溶剤で固型分５
％に調整して低屈折率層用樹脂組成物とした。

【００８１】一方、住友セメント（株）製高屈折率超微
粒子（ＺｒＯ₂：ｎ＝１．９０）を４０重量部、三菱油
化製酸無水物変性アクリレート（ＨＮ）を１０重量部混
合した溶液をハードコート層用樹脂組成物とし、該ハー
ドコート層用樹脂組成物を５μｍ／ｄｒｙになるように
８０μのＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム上
に形成し、塗膜に対して電子線を１０Ｍｒａｄ照射し高
屈折率のハードコート層とした。このハードコート層上
に前記の低屈折率樹脂を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙになる
ように塗工し、得られた塗膜に対して電子線を５Ｍｒａ
ｄ照射し樹脂を硬化させた。

【００８２】かくして得られた反射防止フィルムの全光
線透過率は９５％（ＴＡＣフィルム自体は９２％）、鉛
筆硬度は２Ｈであり、反射防止効果及び高度とも優れて
いた。

【００８３】〔実施例２〕離型フィルムとしてアクリル
・メラミン処理を施した厚さ５０μｍのポリエステルフ
ィルム（ＭＣ−１９：商品名、麗光（株）製）を用意
し、該離型フィルム上に、ＺｒＯ₂超微粒子トルエン分
散液（住友大阪セメント（株）製，粒径２０ｎｍ）２０
０重量部と、ポリエステルアクリレート（ＨＮ−５Ａ：
商品名，三菱化学（株）製）１００重量部を混合してな
る高屈折率ハードコート層用樹脂を膜厚４μｍ／ｄｒｙ
となるように塗工した。得られた塗膜上に電子線を５Ｍ
ｒａｄ照射し塗膜を硬化した。その塗膜上にウレタン系
接着剤（Ｌ６６０：商品名，ＤＩＣ社製）を膜厚５μｍ
／ｄｒｙとなるように塗工し、溶媒を乾燥した。

【００８４】得られた塗膜の形成された離型フィルム
と、別に用意したケン化処理が施されたトリアセチルセ
ルロースフィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商品名、富士写
真フィルム（株）製、厚さ８０μｍ）とを前記離型フィ
ルム上の塗膜面を内側にしてラミネートし、４０℃で３
日間エージングした。その後、離型フィルムを剥離し、
剥離した面へ、ＭｇＦ₂超微粒子トルエン分散液（住友
大阪セメント（株）製，粒径１０ｎｍ）を１００重量部
とＤＰＨＡ（東亜合成（株）製）１００重量部を混合し
た溶液を膜厚１００ｎｍ／ｄｒｙとなるように塗工し、
次いで得られた塗膜に電子線を５Ｍｒａｄ照射して本実
施例２の反射防止フィルムを得た。得られた反射防止フ
ィルムは鉛筆硬度２Ｈであり、その光学特性は、５５０
ｎｍの光に対する反射率が１．５％、ヘイズ０．４％で
あった。これに対して、上記の反射防止処理を行わな
い、未処理の前記ケン化処理済トリアセチルセルロース
フィルムの反射率は４．０％であった。この結果を下記
の表１に示す。

【００８５】〔比較例１〜４〕前記実施例２の反射防止
フィルムの製造方法において、ＭｇＦ₂の粒径及びその
配合を下記の表１に示すものに変えた以外は同じように
して、比較例１〜４の反射防止フィルムを得た。また、
得られた反射防止フィルムの、反射率、ヘイズ、鉛筆硬
度を下記の表１に示す。

【００８６】

【表１】

【００８７】表１によれば、本発明により得られた反射
防止フィルムは、比較例１〜４のものよりも硬度が高
く、また反射防止効果に優れていることがわかる。

【００８８】〔実施例３〕前記実施例２で用いたものと
同じ離型フィルム上に、前記実施例２で用いたものと同
じＺｒＯ₂超微粒子トルエン分散液４５重量部と同じく
ポリエステルアクリレート１重量部を混合してなるハー
ドコート層用樹脂を膜厚７５ｎｍ／ｄｒｙとなるように
塗工し、次いで電子線を２Ｍｒａｄ照射した。その塗膜
上にポリエステルアクリレート（ＥＸＧ−１２：商品
名，大日精化（株）製）を４μｍ／ｄｒｙとなるように
塗工し、次いで得られた塗膜上に、前記実施例２で用い
たものと同じウレタン系接着剤を膜厚５μ／ｄｒｙとな
るように塗工した。その後、前記実施例２と同じように
して、ケン化処理済フィルムとラミネートし、エージン
グし、離型フィルムを剥離した後、ＭｇＦ₂超微粒子ト
ルエン分散液を塗工し、電子線を照射して本実施例３の
反射防止フィルムを得た。得られた反射防止フィルムの
光学特性は、５５０ｎｍの光に対する反射率が０．２％
であった。

【００８９】

【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、最表面層
である低屈折率層に耐擦傷性・耐候性等のハード性能が
与えられているので、反射防止フィルム全体として耐擦
傷性、耐候性に優れたものとなる。

【００９０】本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層
が無機物のみから製造されたものではなく、電離放射線
硬化型樹脂組成物の塗布により形成されているので、透
明基材フィルムの変形に対して、最表面層におけるクラ
ックの発生を防止することができる。

【００９１】本発明の反射防止フィルムは、その形成方
法が塗布により得られるので、スパッタリング、蒸着、
プラズマＣＶＤ法等の真空法に比べて、反射防止フィル
ムの製造を容易に行うことができる。

【００９２】本発明の反射防止フィルムは、前記各効果
に加えて、表面に真空処理を行わない比較的簡単な手段
により、防汚機能を与えることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のタイプＩの反射防止フィルムを示す。

【図２】本発明のタイプIIの反射防止フィルムを示す。

【図３】本発明のタイプIII の反射防止フィルムを示
す。

【図４】本発明のタイプＩの反射防止フィルムの製造方
法の一例を示プロセス図である。

【図５】本発明のタイプIIの反射防止フィルムの一番目
の製造方法の一例を示すプロセス図である。

【図６】本発明のタイプIIの反射防止フィルムの二番目
の製造方法の一例を示すプロセス図である。

【図７】本発明のタイプIII の反射防止フィルムの一番
目の製造方法の一例を示すプロセス図である。

【図８】本発明のタイプIII の反射防止フィルムの二番
目の製造方法の一例を示すプロセス図である。

【図９】本発明の反射防止フィルムが使用された偏光板
の一例を示す。

【図１０】本発明の反射防止フィルムが使用された液晶
表示装置の一例を示す。

【符号の説明】

１透明基材フィルム２接着剤層３低屈折率層４高屈折率層５ハードコート層６離型フィルム７，９ＴＡＣフィルム８偏光素子１０液晶表示素子１１反射防止フィルム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者岡素裕東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材フィルム上に、直接又は他の層
を介して、粒径５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、屈折率１．３
５以上１．４５以下である超微粒子を含有する電離放射
線硬化型樹脂組成物を主体とする低屈折率層が形成され
て表面層をなし、且つ該低屈折率層は直接接する下層の
屈折率よりも低い屈折率であることを特徴とする反射防
止フィルム。
【請求項２】前記低屈折率層は、電離放射線硬化型樹
脂１００重量部に対し、前記超微粒子が３０重量部以上
３００重量部以下含有されていることを特徴とする請求
項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】前記低屈折率層は、界面活性剤が添加さ
れてなることを特徴とする請求項１又は２記載の反射防
止フィルム。
【請求項４】請求項１、２、又は３記載の反射防止フ
ィルムにおいて、表面が微細な凹凸を有することを特徴
とする反射防止フィルム。