JP3466250B2 - 耐擦傷性、耐薬品性を有するプラスチックフィルム、その製造方法、及び偏光板 - Google Patents

耐擦傷性、耐薬品性を有するプラスチックフィルム、その製造方法、及び偏光板

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐擦傷性、耐薬品性の
ハードコート層を有するプラスチックフィルム、その製
造方法、及びそのフィルムを使用した偏光板に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶ディスプレイ等の表示体の表面に
は、光のシャッターの役目をする偏光素子フィルムが積
層された偏光板が設けられているが、偏光板自体が耐擦
傷性に劣るために、ガラス、透明プラスチック板、又は
透明プラスチックフィルム等の透明保護基板により保護
されていた。透明プラスチック板又は透明プラスチック
フィルム等のプラスチックからなる透明保護基板は傷が
つきやすいので、近年、偏光板の表面に機械的強度の高
い処理をすることが開発されている。このような技術と
して、例えば、特開平1−105738号公報に記載さ
れるものがある。
【0003】この公報には、偏光素子フィルムに貼合さ
れて偏光板を構成するための、耐擦傷性、耐薬品性、防
眩性が付与された透明保護基板、即ち、光制御用トリア
セチルセルロースフィルムが開示されている。このフィ
ルムは、未ケン化のトリアセチルセルロースフィルムの
一方の面に、紫外線硬化型エポキシアクリレート型樹脂
からなるハードコート層及びその他の層を設けることに
より耐擦傷性、耐薬品性にすぐれたトリアセチルセルロ
ースフィルムとしている。
【0004】ところで、トリアセチルセルロースフィル
ムをポリビニルアルコール等の偏光素子フィルムと貼合
させて偏光板とするにあたって、偏光素子フィルムとの
接着性を上げるため及び静電防止のためにケン化処理を
行なっていた。前記のようにハードコート処理及びその
他のコート処理(例えば、反射防止処理、帯電防止処理
等)を施したトリアセチルセルロースフィルムのケン化
処理をする場合には、これらのコート処理が施されたト
リアセチルセルロースフィルムにアルカリによるケン化
処理を行ない、その後、偏光素子フィルムと貼合させて
偏光板を製造するか、又はトリアセチルセルロースフィ
ルムに予めアルカリ処理行ない、その後、ハードコート
層を形成することによって得られたフィルムを偏光素子
フィルムに貼合させて偏光板を製造していた。
【0005】上記のケン化処理をトリアセチルセルロー
スフィルムに施すことにより、トリアセチルセルロース
フィルムの表面は官能基である−OAc(但し、Acは
アセチル基を表す)が−OHへ変換されることになり、
偏光素子との密着性が向上し、且つ静電防止の効果があ
るとされている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のトリアセチルセルロースフィルムのアルカリによる
ケン化処理においては、ハードコート処理されたトリア
セチルセルロースフィルムにケン化処理を行った場合、
ハードコート層及びその他の層(反射防止層、帯電防止
層等)がアルカリ溶液に浸食されその機能が充分に発揮
されないという問題があった。
【0007】また前記従来の予めケン化処理されたトリ
アセチルセルロースフィルム上にハードコート層及びそ
の他の層を形成するのに、ハードコート層が電離放射線
硬化型樹脂により形成された場合、そのハードコート層
がトリアセチルセルロースに対して密着性が悪いという
問題があった。
【0008】そこで、本発明はトリアセチルセルロース
フィルム上にハードコート層、及び例えば、反射防止層
等のその他の層を形成した耐擦傷性及び耐薬品性のプラ
スチックフィルムを製造するために、上記した問題点を
除去し、ハードコート層の密着性がよい耐擦傷性及び耐
薬品性を有するプラスチックフィルムを製造する方法を
提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るために本発明は、トリアセチルセルロースフィルムを
アルカリ溶液に浸漬してケン化処理し、得られたケン化
処理トリアセチルセルロースフィルム上にプライマー層
を形成し、前記プライマー層を介して、電離放射線硬化
型樹脂を塗布し、硬化させることによりハードコート層
を形成することを特徴とする耐擦傷性、耐薬品性を有す
るプラスチックフィルムの製造方法とするものである。
【0010】また本発明は、トリアセチルセルロースフ
ィルムをアルカリ溶液に浸漬してケン化処理し、得られ
たケン化処理トリアセチルセルロースフィルム上にプラ
イマー層を形成し、前記プライマー層を介して、電離放
射線硬化型樹脂を塗布し、硬化させることによりハード
コート層を形成し、前記ハードコート層上に反射防止層
を積層することを特徴とする耐擦傷性、耐薬品性を有す
るプラスチックフィルムの製造方法とするものである。
【0011】本発明において、電離放射線硬化型樹脂を
積層するためのプライマーは、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル及びイソシアネートを含むものから構成される
ことを特徴とする。
【0012】また本発明は、上記の各製造方法により製
造された耐擦傷性、耐薬品性を有するプラスチックフィ
ルムであることを特徴とする。
【0013】また本発明は、前記の耐擦傷性、耐薬品性
を有するプラスチックフィルムに偏光素子フィルムが積
層されてなる偏光板であることを特徴とする。
【0014】図1は本発明の耐擦傷性、耐薬品性を有す
るプラスチックフィルムの構成例を示す。1はケン化処
理されたトリアセチルセルロースフィルム、2はこのト
リアセチルセルロースフィルム1上に形成されたプライ
マー層、3はこのプライマー層2上に形成されたハード
コート層、4はこのハードコート層3上に形成された反
射防止層である。
【0015】本発明の構成をさらに詳細に説明する。本
発明の耐擦傷性、耐薬品性を有するプラスチックフィル
ムの製造方法は、トリアセチルセルロースフィルムに対
して、アルカリ溶液での浸漬処理、中和処理、乾燥処理
からなるケン化処理を施す。そのケン化処理されたトリ
アセチルセルロースフィルムの表面に、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル及びイソシアネートからなるプライ
マーを塗布し、硬化させる。さらにそのプライマーの硬
化塗膜上に、ハードコート層としての電離放射線硬化型
樹脂を積層する。本発明においては、このハードコート
層上にさらに反射防止層を設けることもできる。
【0016】ケン化処理:トリアセチルセルロースフィ
ルムにアルカリ処理(即ち、ケン化処理)を行なう目的
は、トリアセチルセルロースフィルム表面の−OAc基
(但し、Acはアセチル基を表す)を−OH基に変換す
ることにより、このトリアセチルセルロースフィルムと
偏光素子フィルムとを接着剤で接着するときの密着性を
高めるためである。
【0017】通常のアルカリ溶液が使用できるが、好ま
しくは、3N程度のKOHが用いられる。このアルカリ
溶液を用いた浸漬処理は、好ましくは60℃程度で1分
間前後行うことができる。この浸漬処理後の中和処理に
は、1N程度のHClが好適に用いられ、室温で約1分
間中和処理し、水洗浄を行い、乾燥処理する。
【0018】プライマー層:前記ケン化処理されたトリ
アセチルセルロースフィルム上に形成されるプライマー
層には、次の樹脂組成のプライマーが使用される。即
ち、ポリ塩化ビニル100重量部に対し0.1重量部以
上のポリ酢酸ビニル、好ましくは10重量部を共重合さ
せて得た共重合体に対し、ジイソシアネート化合物、特
に好ましくはキシリレンジイソシアネートを1〜20重
量部、好ましくは12重量部加えたものをプライマーと
する。このプライマーをケン化処理されたトリアセチル
セルロースフィルム上に塗布し、好ましくは60℃程度
で1分程度乾燥し、さらに40℃程度で数日間、例えば
3日間程度、エージングしてプライマー層を形成する。
形成されるプライマー層の膜厚は0.1〜5μm、好ま
しくは0.3〜1.0μmである。
【0019】ハードコート層:前記プライマー層の上に
形成されるハードコート層には、電離放射線硬化型樹脂
が用いられ、次に示される樹脂が使用できる。好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能
化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマーまたはプ
レポリマーが使用できる。
【0020】特に耐擦傷性を付与する目的のためには、
好適には、ポリエステルアクリレート及びポリウレタン
アクリレートから選ばれる1種又はその混合物が用いら
れる。ポリエステルアクリレート単独では塗膜が非常に
硬く、耐擦傷性塗膜を得るのに適しているが、その塗膜
は衝撃性が低くなる。これに対して、ポリウレタンアク
リレートは耐衝撃性に優れている。また、これらのポリ
エステルアクリレートとポリウレタンアクリレートを混
合することにより、それぞれの性質を加味したものが得
られ、特にポリエステルアクリレート100重量部に対
して、ポリウレタンアクリレートの配合割合を30重量
部以下にすると、塗膜のハード性を保ちながら、塗膜の
耐衝撃性を付与することができる。
【0021】前記電離放射線硬化型樹脂には反応性希釈
剤を含有させることができ、例えば、エチル(メタ)ア
クリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ス
チレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単
官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジ
オール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用でき
る。
【0022】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてn−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を混合する
のが、耐擦傷性、耐薬品性の塗膜を得るために好まし
い。
【0023】この電離放射線硬化型樹脂によるハードコ
ート層の膜厚は、耐擦傷性とするためには1〜10μ、
望ましくは3〜7μが好ましい。このハードコート層を
着色剤により着色してもよい。
【0024】反射防止層:上記のようにして得られたハ
ードコート層を有するプラスチックフィルムに、さらに
反射防止層を形成することにより、反射防止フィルムと
することができる。このような反射防止層の形成には、
低屈折率のMgF2 、SiO2 等の無機質材料や金属材
料で蒸着、スパッタリング、プラズマCVD等により薄
膜を単層又は多層形成するか、低屈折率のMgF2 、S
iO2 等の無機質材料や、金属材料等を含有させた低屈
折率の樹脂組成物の塗膜を単層又は多層形成することに
より行なう。
【0025】
【実施例】
〔実施例1〕トリアセチルセルロースフィルム(FT−
UV−80:商品名、富士写真フィルム株式会社製、厚
み80μm)を60℃に加温した3N KOH水溶液に
1分間浸漬し(ケン化処理)、その後水洗浄した。さら
に、室温の1N HCl水溶液に1分間浸漬し、その後
水洗浄を行ない中和した。
【0026】次に、塩ビ、酢ビ共重合体樹脂(PTSC
プライマー:商品名、大日精化株式会社製、ポリ塩化ビ
ニル:ポリ酢酸ビニル=9:1)100重量部に対し、
硬化剤としてXDI(キシリレンジイソシアネート)を
12重量部加えてなる樹脂組成物を、酢酸エチル/メチ
ルエチルケトン/トルエン=50:30:80からなる
混合溶剤に固形分濃度が15%となるように溶解して、
プライマーを調製した。このプライマーを、上記ケン化
処理されたトリアセチルセルロースフィルム上に、膜厚
1μm(乾燥)になるように塗工し、60℃で2分間乾
燥し、さらに40℃で3日間エージングしてプライマー
層を形成した。
【0027】上記プライマー層が形成されたトリアセチ
ルセルロースフィルム上に、電離放射線硬化型樹脂(E
XG−40−Bc:商品名、大日精化株式会社製、即
ち、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、セルロースプロピオ
ネートからなる樹脂組成物)を塗工し、電子線(5Mr
ad、10m/分)を照射して硬化させることにより、
膜厚7μmのハードコート層を形成した。このようにし
て得られた、ハードコート層の形成されたトリアセチル
セルロースフィルムのハードコート層密着性試験をゴバ
ン目クロスカット密着試験法により行なった。その結
果、100/100となり、剥離したものはなく、ハー
ドコート層の密着性に優れていることが分かった。
【0028】さらに、このハードコート層上に、MgF
2 を真空蒸着法により1000Åの蒸着膜を設けること
により、反射防止層を形成して、反射防止フィルムとし
た。この反射防止フィルムの全光線透過率は92.2で
あり、ヘイズ値は0.4であり、反射防止性、透明性が
共に優れていた。
【0029】次いで、この反射防止フィルムを接着剤を
用いてポリビニルアルコールフィルムからなる偏光素子
フィルムとドライラミネートして偏光板を製作した。
【0030】〔実施例2〜6〕プライマーの塗布量を、
0.90g/m2 、1.13g/m2 、1.35g/m
2 、1.58g/m2 、1.80g/m2 と変化させた
以外は、前記実施例1と同じ条件で、トリアセチルセル
ロースフィルムにハードコート層を形成した。さらに、
このハードコート層上に、MgF2 を真空蒸着法により
1000Åの蒸着膜を設けることにより、反射防止層を
形成して、実施例2〜6の反射防止フィルムとした。次
いで、この反射防止フィルムを接着剤を用いてポリビニ
ルアルコールフィルムからなる偏光素子フィルムとドラ
イラミネートして、実施例2〜6の偏光板を製作した。
【0031】本実施例2〜6の反射防止フィルムのハー
ドコート層(略語:HC層)の密着性、全光線透過率、
ヘイズ値を調べた。さらに、本実施例2〜6の偏光板に
対してトリアセチルセルロース(略語:TAC)の密着
性をゴバン目クロスカット密着試験によって調べた。そ
の結果を、下記の表1に示す。
【0032】〔比較例1〕ケン化処理を施していないト
リアセチルセルロースフィルムに、プライマーを塗布す
ることなく、直接、前記実施例1のハードコート層を形
成した。さらに、前記実施例1と同様にMgF2 の蒸着
膜を形成して、反射防止フィルムとした。次いで、この
反射防止フィルムを接着剤を用いてポリビニルアルコー
ルフィルムからなる偏光素子フィルムとドライラミネー
トして、比較例1の偏光板を製作した。
【0033】〔比較例2〕前記比較例1において、前記
実施例1と同じ条件でケン化処理を施したトリアセチル
セルロースフィルムを用いた他は、前記比較例1と同じ
条件で、比較例2の反射防止フィルム、偏光板を製作し
た。
【0034】上記比較例1及び比較例2の反射防止フィ
ルムのハードコート層(略語:HC層)の密着性、全光
線透過率、ヘイズ値を調べた。さらに、上記比較例1及
び比較例2の偏光板に対してトリアセチルセルロース
(略語:TAC)の密着性をゴバン目クロスカット密着
試験によって調べた。その結果を下記の表1に示す。
【0035】
【表1】
【0036】
【発明の効果】本発明によれば、ケン化処理トリアセチ
ルセルロースフィルム上にプライマー層を介して、電離
放射線硬化型樹脂を積層しているので、ハードコート層
を有するプラスチックフィルムは、ハードコート層の密
着性に優れる。このプラスチックフィルムのハードコー
ト層上にさらに反射防止層を形成した反射防止フィルム
は、透明性においても優れている。
【0037】トリアセチルセルロースフィルムに施され
るケン化処理が、プライマー層、ハードコート層、反射
防止層等の各層を形成する前に行なわれているので、前
記各層がアルカリにより浸食されて劣化することがな
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の耐擦傷性、耐薬品性を有するプラスチ
ックフィルムの構成例を示す。
【符号の説明】
1 ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィ
ルム 2 プライマー層 3 ハードコート層 4 反射防止層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉原 俊夫 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 山下 夏子 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 鈴木 裕子 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 岡 素裕 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−177801(JP,A) 特開 平1−105738(JP,A) 特開 昭56−50301(JP,A) 特開 昭62−161103(JP,A) 特開 昭55−114563(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 1/10

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1)トリアセチルセルロースフィルム
    をアルカリ溶液に浸漬してケン化処理し、 (2)得られたケン化処理トリアセチルセルロースフィ
    ルム上にプライマー層を形成し、 (3)前記プライマー層を介して、電離放射線硬化型樹
    脂を塗布し、硬化させることによりハードコート層を形
    成することを特徴とする耐擦傷性、耐薬品性を有するプ
    ラスチックフィルムの製造方法。
  2. 【請求項2】 (1)トリアセチルセルロースフィルム
    をアルカリ溶液に浸漬してケン化処理し、 (2)得られたケン化処理トリアセチルセルロースフィ
    ルム上にプライマー層を形成し、 (3)前記プライマー層を介して、電離放射線硬化型樹
    脂を塗布し、硬化させることによりハードコート層を形
    成し、 (4)前記ハードコート層上に反射防止層を積層するこ
    とを特徴とする耐擦傷性、耐薬品性を有するプラスチッ
    クフィルムの製造方法。
  3. 【請求項3】 プライマー層がポリ塩化ビニル、ポリ酢
    酸ビニル及びイソシアネートを含むものである請求項1
    又は2記載の耐擦傷性、耐薬品性を有するプラスチック
    フィルムの製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項1,2又は3記載の製造方法によ
    り製造された耐擦傷性、耐薬品性を有するプラスチック
    フィルム。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の耐擦傷性、耐薬品性を有
    するプラスチックフィルムに偏光素子フィルムが積層さ
    れてなる偏光板。
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