JP3369684B2 - 反射防止フィルム及びその製造方法 - Google Patents
反射防止フィルム及びその製造方法Info
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- JP3369684B2 JP3369684B2 JP32117293A JP32117293A JP3369684B2 JP 3369684 B2 JP3369684 B2 JP 3369684B2 JP 32117293 A JP32117293 A JP 32117293A JP 32117293 A JP32117293 A JP 32117293A JP 3369684 B2 JP3369684 B2 JP 3369684B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カーブミラー、バック
ミラー、ゴーグル、窓ガラス及びパソコン・ワープロの
ディスプレイ等の各種表面の反射防止が必要とされる基
材に積層される反射防止膜自体、その反射防止膜を基材
フィルムに積層した反射防止フィルム、及びその製造方
法に関する。
ミラー、ゴーグル、窓ガラス及びパソコン・ワープロの
ディスプレイ等の各種表面の反射防止が必要とされる基
材に積層される反射防止膜自体、その反射防止膜を基材
フィルムに積層した反射防止フィルム、及びその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、反射防止が必要とされる基材上に
反射防止膜を形成する方法として、基材の屈折率よりも
低い屈折率を有する無機物又は有機物を塗布することに
より反射防止膜を形成する方法が、例えば、特公平４−
３５７２５号公報、特開昭６０−２１３９０１号公報等
により提案されている。これらの方法では、反射防止膜
の膜厚が薄く表面の強度がないため、基材上にハードコ
ート層を形成し、その上に反射防止膜を形成していた。
反射防止膜を形成する方法として、基材の屈折率よりも
低い屈折率を有する無機物又は有機物を塗布することに
より反射防止膜を形成する方法が、例えば、特公平４−
３５７２５号公報、特開昭６０−２１３９０１号公報等
により提案されている。これらの方法では、反射防止膜
の膜厚が薄く表面の強度がないため、基材上にハードコ
ート層を形成し、その上に反射防止膜を形成していた。
【０００３】このようなハードコート層には、従来、電
離放射線硬化型樹脂を塗工して電離放射線を照射してハ
ードコート層とするか、又は熱硬化性樹脂を塗工し、加
熱処理してハードコート層を形成していた。
離放射線硬化型樹脂を塗工して電離放射線を照射してハ
ードコート層とするか、又は熱硬化性樹脂を塗工し、加
熱処理してハードコート層を形成していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基材に
ハードコート層を形成し、さらに反射防止層を形成した
従来の反射防止膜は、ハードコート層と反射防止層との
間の界面の密着性が悪いため反射防止層の表面強度の低
下につながっていた。
ハードコート層を形成し、さらに反射防止層を形成した
従来の反射防止膜は、ハードコート層と反射防止層との
間の界面の密着性が悪いため反射防止層の表面強度の低
下につながっていた。
【０００５】また、熱硬化性樹脂によりハードコート層
を形成した場合、その膜の硬化に高い温度を必要とする
ため、耐熱性のない基材等に適用する場合には適さない
という問題があった。
を形成した場合、その膜の硬化に高い温度を必要とする
ため、耐熱性のない基材等に適用する場合には適さない
という問題があった。
【０００６】そこで本発明は、加熱の不要な電離放射線
硬化型樹脂を用いてハードコート層を形成し、その上に
反射防止層を形成した反射防止膜において、界面の密着
性の優れた反射防止膜自体、その反射防止膜を基材フィ
ルムに積層した反射防止フィルム、及びその製造方法を
提供することを目的とする。
硬化型樹脂を用いてハードコート層を形成し、その上に
反射防止層を形成した反射防止膜において、界面の密着
性の優れた反射防止膜自体、その反射防止膜を基材フィ
ルムに積層した反射防止フィルム、及びその製造方法を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るために本発明は、離型フィルム上に低屈折率の有機物
を含む樹脂組成物を塗布して反射防止層を形成し、一
方、透明基材フィルム上に電離放射線硬化型樹脂を塗布
し、前記電離放射線硬化型樹脂が溶剤で希釈されている
場合にはその溶剤を乾燥後に、又は溶剤で希釈されてい
ない場合にはそのままで前記工程で得られた反射防止層
が形成された離型フィルムを前記工程で得られた電離放
射線硬化型樹脂が塗布された基材フィルム上にラミネー
トし、得られたラミネート物に対して電離放射線を照射
して電離放射線硬化型樹脂を硬化させ、次いで硬化物に
添付されている離型フィルムを剥離することを特徴とす
る反射防止フィルムの製造方法とするものである。
るために本発明は、離型フィルム上に低屈折率の有機物
を含む樹脂組成物を塗布して反射防止層を形成し、一
方、透明基材フィルム上に電離放射線硬化型樹脂を塗布
し、前記電離放射線硬化型樹脂が溶剤で希釈されている
場合にはその溶剤を乾燥後に、又は溶剤で希釈されてい
ない場合にはそのままで前記工程で得られた反射防止層
が形成された離型フィルムを前記工程で得られた電離放
射線硬化型樹脂が塗布された基材フィルム上にラミネー
トし、得られたラミネート物に対して電離放射線を照射
して電離放射線硬化型樹脂を硬化させ、次いで硬化物に
添付されている離型フィルムを剥離することを特徴とす
る反射防止フィルムの製造方法とするものである。
【０００８】本発明の反射防止フィルムにおいては、透
明基材フィルム上に塗布される電離放射線硬化型樹脂
が、その塗膜の上にラミネートされる電離放射線硬化型
樹脂の塗膜と透明基材フィルムとの中間に位置し、基材
フィルムとの屈折率の差を±０．０２程度に調整するこ
とにより、反射防止フィルムに干渉縞が発生しないよう
にすることができる。
明基材フィルム上に塗布される電離放射線硬化型樹脂
が、その塗膜の上にラミネートされる電離放射線硬化型
樹脂の塗膜と透明基材フィルムとの中間に位置し、基材
フィルムとの屈折率の差を±０．０２程度に調整するこ
とにより、反射防止フィルムに干渉縞が発生しないよう
にすることができる。
【０００９】反射防止層：本発明の反射防止層に含まれ
る低屈折率の有機物には、フッ素原子の導入されたポリ
マー等の有機物がその屈折率が１．４５以下と低い点か
ら好ましく、特に好ましい有機物には、溶剤が使用でき
るため、その取扱いが容易であることからポリフッ化ビ
ニリデン（屈折率ｎ＝１．４０）が挙げられる。
る低屈折率の有機物には、フッ素原子の導入されたポリ
マー等の有機物がその屈折率が１．４５以下と低い点か
ら好ましく、特に好ましい有機物には、溶剤が使用でき
るため、その取扱いが容易であることからポリフッ化ビ
ニリデン（屈折率ｎ＝１．４０）が挙げられる。
【００１０】低屈折率の有機物にこのポリフッ化ビニリ
デンを用いた場合には、反射防止層の屈折率はほぼ１．
４０程度となるが、さらに反射防止層の屈折率を低くす
るためにはトリフルオロエチルアクリレート（屈折率ｎ
＝１．３２）のような低屈折率アクリレートを１０重量
部から３００重量部、好ましくは１００重量部から２０
０重量部添加してもよい。
デンを用いた場合には、反射防止層の屈折率はほぼ１．
４０程度となるが、さらに反射防止層の屈折率を低くす
るためにはトリフルオロエチルアクリレート（屈折率ｎ
＝１．３２）のような低屈折率アクリレートを１０重量
部から３００重量部、好ましくは１００重量部から２０
０重量部添加してもよい。
【００１１】なお、このトリフルオロエチルアクリレー
トは単官能型であり、そのため反射防止層に膜強度がで
ないので、さらに多官能アクリレート、例えば、電離放
射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート（略号：ＤＰＨＡ，４官能型）を添加するこ
とが望ましい。このＤＰＨＡによる膜強度は添加量が多
いほど高いが、反射防止層の屈折率を低くする観点から
はその添加量は少ない方がよく、１〜５０重量部、好ま
しくは５〜２０重量部添加することが推奨される。
トは単官能型であり、そのため反射防止層に膜強度がで
ないので、さらに多官能アクリレート、例えば、電離放
射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート（略号：ＤＰＨＡ，４官能型）を添加するこ
とが望ましい。このＤＰＨＡによる膜強度は添加量が多
いほど高いが、反射防止層の屈折率を低くする観点から
はその添加量は少ない方がよく、１〜５０重量部、好ま
しくは５〜２０重量部添加することが推奨される。
【００１２】ハードコート層：本発明では基材フィルム
に電離放射線硬化型樹脂が塗布されて形成された硬化膜
がハードコート層となる。このハードコート層は、その
上に形成される反射防止層に対して機械的強度を与える
ために形成される。
に電離放射線硬化型樹脂が塗布されて形成された硬化膜
がハードコート層となる。このハードコート層は、その
上に形成される反射防止層に対して機械的強度を与える
ために形成される。
【００１３】さらにこのハードコート層は、反射防止フ
ィルムに干渉縞が発生しないようにする役目を有する。
一般に干渉縞が出ないようにするためには、基材との屈
折率の差を±０．０２程度にするのが望ましく、例え
ば、Ｓｂ2 Ｏ5 やＳｎＯ5 のような超微粒子を添加した
り、ハロゲン含有アクリレートなどを添加し、屈折率を
調整する。また、基材フィルムがＰＥＴ（ｎ＝１．６
２）の場合には、ハードコート層の屈折率を１．６０〜
１．６４に調整する。ハードコート層の膜厚は１〜１０
μｍ、望ましくは３〜７μｍである。またハードコート
層を着色してもよい。
ィルムに干渉縞が発生しないようにする役目を有する。
一般に干渉縞が出ないようにするためには、基材との屈
折率の差を±０．０２程度にするのが望ましく、例え
ば、Ｓｂ2 Ｏ5 やＳｎＯ5 のような超微粒子を添加した
り、ハロゲン含有アクリレートなどを添加し、屈折率を
調整する。また、基材フィルムがＰＥＴ（ｎ＝１．６
２）の場合には、ハードコート層の屈折率を１．６０〜
１．６４に調整する。ハードコート層の膜厚は１〜１０
μｍ、望ましくは３〜７μｍである。またハードコート
層を着色してもよい。
【００１４】このハードコート層用の電離放射線硬化型
樹脂は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有する
もの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポ
リエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタ
ン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリ
ブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アル
コール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオ
リゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤として
エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）
アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニル
ピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、
例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプ
ロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するも
のが使用できる。
樹脂は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有する
もの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポ
リエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタ
ン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリ
ブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アル
コール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオ
リゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤として
エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）
アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニル
ピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、
例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプ
ロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するも
のが使用できる。
【００１５】特に好適には、ポリエステルアクリレート
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。
【００１６】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を混合する
のが好ましい。
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を混合する
のが好ましい。
【００１７】離型フィルム：プラスチックフィルム上に
シリコン樹脂、フッ素樹脂、アクリル−メラミン樹脂な
どの離型剤がコーティングされたもの、又は未コーティ
ングのものでも離型性のよいプラスチックフィルムが使
用される。
シリコン樹脂、フッ素樹脂、アクリル−メラミン樹脂な
どの離型剤がコーティングされたもの、又は未コーティ
ングのものでも離型性のよいプラスチックフィルムが使
用される。
【００１８】離型フィルムの表面に微細な凹凸が形成さ
れていると、得られる反射防止フィルムの表面に微細な
凹凸が形成されることになるので、反射防止の観点から
好ましい。
れていると、得られる反射防止フィルムの表面に微細な
凹凸が形成されることになるので、反射防止の観点から
好ましい。
【００１９】透明基材フィルム：本発明で使用される透
明基材フィルムには、ポリエステルフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテ
ルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテ
ルケトンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィル
ム、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセル
ロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィ
ルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系
樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム等が使用で
きるが、特に、トリアセチルセルロースフィルム、及び
一軸延伸ポリエステルフィルムが透明性に優れ、光学的
に異方性が無い点で好適に用いられる。
明基材フィルムには、ポリエステルフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテ
ルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテ
ルケトンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィル
ム、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセル
ロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィ
ルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系
樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム等が使用で
きるが、特に、トリアセチルセルロースフィルム、及び
一軸延伸ポリエステルフィルムが透明性に優れ、光学的
に異方性が無い点で好適に用いられる。
【００２０】厚みは、板状のものでもフィルム状のもの
でもよいが、通常は２５μｍ〜１０００μｍ程度のもの
が用いられる。
でもよいが、通常は２５μｍ〜１０００μｍ程度のもの
が用いられる。
【００２１】図１は、本発明の反射防止フィルムの製造
方法の製造工程を（ａ）〜（ｅ）の順に示している。図
中（ａ）は離型フィルム１上に低屈折率の有機物を含む
樹脂組成物を塗布して反射防止層２を形成した状態を示
す。（ｂ）は透明基材フィルム３上に電離放射線硬化型
樹脂を塗布して未硬化のハードコート層４が形成された
状態を示す。（ｃ）は低屈折率の反射防止層２と未硬化
のハードコート層４が向かい合うように（ａ）の積層物
と（ｂ）の積層物とをラミネートした状態を示す。
（ｄ）は得られたラミネート物に電離放射線を照射して
硬化させた状態を示す。（ｅ）は電離放射線硬化型樹脂
が硬化した後に離型フィルム１を剥離している状態を示
す。
方法の製造工程を（ａ）〜（ｅ）の順に示している。図
中（ａ）は離型フィルム１上に低屈折率の有機物を含む
樹脂組成物を塗布して反射防止層２を形成した状態を示
す。（ｂ）は透明基材フィルム３上に電離放射線硬化型
樹脂を塗布して未硬化のハードコート層４が形成された
状態を示す。（ｃ）は低屈折率の反射防止層２と未硬化
のハードコート層４が向かい合うように（ａ）の積層物
と（ｂ）の積層物とをラミネートした状態を示す。
（ｄ）は得られたラミネート物に電離放射線を照射して
硬化させた状態を示す。（ｅ）は電離放射線硬化型樹脂
が硬化した後に離型フィルム１を剥離している状態を示
す。
【００２２】この反射防止フィルムの下面には、粘着剤
が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは反射
防止すべき面に貼着することができる。
が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは反射
防止すべき面に貼着することができる。
【００２３】
【実施例】表面にアクリル−メラミン樹脂により処理さ
れている離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名，麗光株式
会社製）上にポリフッ化ビニリデン（ＬＣ−９００：商
品名，ダイキン工業株式会社製）１００重量部、トリフ
ルオロエチルアクリレート（ビスコート：商品名，大阪
有機株式会社製）１００重量部、ＤＰＨＡ１０重量部か
らなる樹脂組成物を膜厚が１００ｎｍ／ｄｒｙになるよ
うに塗工した。
れている離型フィルム（ＭＣ−１９：商品名，麗光株式
会社製）上にポリフッ化ビニリデン（ＬＣ−９００：商
品名，ダイキン工業株式会社製）１００重量部、トリフ
ルオロエチルアクリレート（ビスコート：商品名，大阪
有機株式会社製）１００重量部、ＤＰＨＡ１０重量部か
らなる樹脂組成物を膜厚が１００ｎｍ／ｄｒｙになるよ
うに塗工した。
【００２４】一方、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に電離放射線硬化型樹脂（メ−４２−２４００：商
品名，信越化学株式会社製）とＳｂ2 Ｏ5 ゾル（日産化
学株式会社製）を１：２に配合した塗料を膜厚が５μｍ
／ｄｒｙとなるように塗工した。
ム上に電離放射線硬化型樹脂（メ−４２−２４００：商
品名，信越化学株式会社製）とＳｂ2 Ｏ5 ゾル（日産化
学株式会社製）を１：２に配合した塗料を膜厚が５μｍ
／ｄｒｙとなるように塗工した。
【００２５】次いで、前記塗工された離型フィルムとこ
の電離放射線硬化型樹脂が塗工されたフィルムを両塗工
物が向かい合うようにラミネートして、電子線を４Ｍｒ
ａｄ，１０ｍ／ｍｉｎで照射して硬化を行ない、離型フ
ィルムを剥離した。
の電離放射線硬化型樹脂が塗工されたフィルムを両塗工
物が向かい合うようにラミネートして、電子線を４Ｍｒ
ａｄ，１０ｍ／ｍｉｎで照射して硬化を行ない、離型フ
ィルムを剥離した。
【００２６】得られた反射防止フィルムの全光線透過率
は９０％（但し、ポリエチレンテレフタレートフィルム
の全光線透過率は８７％）であり、その表面は爪スクラ
ッチでも傷がつかなかった。
は９０％（但し、ポリエチレンテレフタレートフィルム
の全光線透過率は８７％）であり、その表面は爪スクラ
ッチでも傷がつかなかった。
【００２７】
【発明の効果】本発明の製造方法により得られた反射防
止フィルムは、基材フィルムに形成されたハードコート
層と反射防止層との間の界面の密着性が優れ、その反射
防止フィルム表面の機械的強度が優れ、また干渉縞の発
生を防ぐことができる。
止フィルムは、基材フィルムに形成されたハードコート
層と反射防止層との間の界面の密着性が優れ、その反射
防止フィルム表面の機械的強度が優れ、また干渉縞の発
生を防ぐことができる。
【図１】本発明の反射防止フィルムの製造方法の製造工
程を（ａ）〜（ｅ）の順に示す。
程を（ａ）〜（ｅ）の順に示す。
１ 離型フィルム
２ 反射防止層
３ 透明基材フィルム
４ ハードコート層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 吉原 俊夫
東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号
大日本印刷株式会社内
(72)発明者 山下 夏子
東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号
大日本印刷株式会社内
(72)発明者 鈴木 裕子
東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号
大日本印刷株式会社内
(72)発明者 岡 素裕
東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号
大日本印刷株式会社内
(56)参考文献 特開 昭64−1527（ＪＰ，Ａ)
特開 昭64−51174（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 1/10 - 1/12
Claims (7)
- 【請求項１】 （１）離型フィルム上に低屈折率の有機
物を含む樹脂組成物を塗布して反射防止層を形成し、 （２）一方、透明基材フィルム上に電離放射線硬化型樹
脂を塗布し、 （３）前記電離放射線硬化型樹脂が溶剤で希釈されてい
る場合にはその溶剤を乾燥後に、又は溶剤で希釈されて
いない場合にはそのままで、前記工程で得られた反射防
止層が形成された離型フィルムを前記工程で得られた電
離放射線硬化型樹脂が塗布された基材フィルム上にラミ
ネートし、 （４）得られたラミネート物に対して電離放射線を照射
して電離放射線硬化型樹脂を硬化させ、 （５）硬化物に添付されている離型フィルムを剥離する
ことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項２】 前記離型フィルムはその表面に微細な凹
凸を有していることを特徴とする請求項１記載の反射防
止フィルムの製造方法。 - 【請求項３】 前記低屈折率の有機物は屈折率１．４５
以下のフッ素含有系ポリマーである請求項１又は２記載
の反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項４】 前記低屈折率の有機物を含む樹脂組成物
には電離放射線硬化型樹脂が含まれていることを特徴と
する請求項１、２又は３記載の反射防止フィルムの製造
方法。 - 【請求項５】 前記電離放射線硬化型樹脂が低屈折率ア
クリレートである請求項４記載の反射防止フィルムの製
造方法。 - 【請求項６】 前記低屈折率アクリレートが多官能アク
リレートである請求項５記載の反射防止フィルムの製造
方法。 - 【請求項７】 請求項１、２、３、４、５又は６記載の
製造方法により製造された反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32117293A JP3369684B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32117293A JP3369684B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07151905A JPH07151905A (ja) | 1995-06-16 |
| JP3369684B2 true JP3369684B2 (ja) | 2003-01-20 |
Family
ID=18129602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32117293A Expired - Fee Related JP3369684B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3369684B2 (ja) |
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1993
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