CN103293568B

CN103293568B - 一种防反射膜及其制备方法

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Publication number: CN103293568B
Application number: CN201310233298.6A
Authority: CN
Inventors: 张丽惠; 盖树人; 王广伟; 葛毅然; 孙蒙蒙
Original assignee: CHINA LUCKY GROUP Corp
Current assignee: CHINA LUCKY GROUP Corp
Priority date: 2013-06-13
Filing date: 2013-06-13
Publication date: 2015-10-28
Anticipated expiration: 2033-06-13
Also published as: CN103293568A

Abstract

一种防反射膜及其制备方法，所述防反射膜包括膜基材和膜基材至少一面上的低折射率层，所述的低折射率层由包括：（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物；（b）两种粒径不同的无机颗粒；（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂；（d）粘合剂树脂；（e）硅烷偶联剂和（f）光引发剂的涂布液涂布在膜基材的至少一面经固化而形成。本发明制备工艺简单，通过不同的梯度干燥，使低折层的孔隙率更高、折射率更低。所述防反射膜既具有良好的防反射性能又具有优异的耐刮擦性能，满足液晶显示器、等离子显示器、电致发光显示器等图像显装置防反射、耐刮擦等性能的需求。

Description

一种防反射膜及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种防反射膜及其制备方法。

背景技术

近年来，液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器(ELD)等图像显装置已经普遍应用在电视、电脑等领域。这些显示器在户外或光线明亮的场合使用时，由于外部光线在显示器表面的反射使显示器产生了图文显示不清晰和可视性极差的问题。为解决此类问题，通常将防反射膜放置在显示器的最外层利用光学干涉原理来降低反射率，从而提高画面质量。此外，由于防反射膜是用在显示装置的最外层，还应具有很好的耐刮擦性能。

防反射膜的制备可以分为干法和湿法两种。干法利用溅射、蒸镀等干法生产的防反射膜防反射效果良好，表面硬度、耐刮擦等性能优良，但因利用真空而出现生产成本高、不易大面积化等问题。

利用湿法制备防反射膜是通过在透明支撑物上形成低折射率层来制备，可以采用卷对卷式的涂布方式生产，能够大面积量产，可大幅降低制造成本，价格较低。已知的技术中，低折层设置由中空二氧化硅微粒与树脂构成的低折射率层而得到的防反射膜，但其存在如下问题：（1）中空粒子的制备工艺复杂、成本高；（2）采用中空粒子来降低涂层的折射率，中空粒子的外壳需要做成很薄的壁以实现较高的中空度来满足低折射率的需求，这样使得中空粒子的机械性能会较差，从而造成涂层的硬度、耐刮擦等性能下降。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种防反射膜，它既具有良好的防反射性能又具有优异的耐刮擦性能，满足液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器(ELD)等图像显示装置防反射、耐刮擦等性能的需求。

本发明要求解决的另一技术问题是提供一种防放射膜的制备方法。

为解决上述问题，本发明采用如下技术方案：

一种防反射膜，包括膜基材和膜基材至少一面上的低折射率层，所述低折射率层的制备原料包括：

（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物；

（b）两种粒径不同的无机颗粒；

（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂组合；

（d）粘合剂树脂；

（e）硅烷偶联剂；

（f）光引发剂；

将所述原料制备成涂布液、涂布在膜基材的至少一面经固化而形成。

上述防反射膜，所述涂布液中各组分的重量份为：

（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物 10～30份；

（b）两种粒径不同的无机颗粒 10～50份；

（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂 40～80份；

（d）粘合剂树脂 3～5份；

（e）硅烷偶联剂 5～10份；

（f）光引发剂 0.3～10份。

上述防反射膜，所述两种粒径不同的无机颗粒包括粒径为40～100纳米的无机颗粒和粒径为5～10纳米的无机颗粒。

上述防反射膜，所述粒径为40～100纳米的无机颗粒和粒径为4～10纳米的无机颗粒之间的重量比为10～40:100。

上述防反射膜，所述无机颗粒由选自硅、钛、铝中的至少一种元素的氧化物构成。

上述防反射膜，所述沸点在100℃以下有机溶剂和100℃以上的有机溶剂之间的重量比为10:90～40:60。

一种制备上述防反射膜的方法，包括膜基材和膜基材至少一面上的低折射率层，所述低折射率层的制备原料包括：

（b）两种粒径不同的无机颗粒；

（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂；

（d）粘合剂树脂；

（e）硅烷偶联剂；

（f）光引发剂；

将所述原料制备成涂布液、涂布在膜基材的至少一面，经梯度干燥后，再经紫外固化，得到防反射膜。

上述防反射膜，所述梯度干燥是指在70～80℃和100～130℃分别干燥30～60秒和5～20分钟。

与现有技术相比，本发明带来的有益效果为：

本发明通过采用两种粒径不同的无机颗粒的混合使用、以及不同沸点的有机溶剂的组合使用，使低折射层的孔隙均匀、折射率更低，并且通过使用含氟有机物和粘合剂树脂，一方面避免了无机颗粒的聚集，使无机颗粒在涂布液中分散均匀，保证了低折射层的表观质量，另一方面使防反射膜具有有益的耐刮擦性能。

本发明提供的制备方法工艺简单，通过不同的梯度干燥，使低折层的孔隙率更高、折射率更低。

具体实施方式

本发明中，含氟有机物的折射率为1.30～1.43，优选的是1.30～1.36，更优选的是1.30～1.34，该含氟有机物含有35～85 重量％的氟原子。如果含氟有机物的氟原子含量低于35重量%，则有机物的折射率偏高，造成涂层的折射率也较高，无法实现良好的防反射性能；如果含氟有机物的氟原子含量高于85重量%，则有机物在进行UV固化时会出现固化困难的情况，造成涂层的耐刮擦等机械性能差。含氟化合物优选是具有氟烷基的化合物。优选具有1～20 个碳原子氟烷基或氟化醚烷基，更优选5～15 个碳原子，并且可以具有线性结构( 例如，-CF₂CF₃、CH₂(CF₂)₈H、-CH₂(CF₂)₁₃CF₃、-CH₂CH₂(CF₂)₉)、或支化结构( 例如，-CH(CF₃)₂、-CH₂CF(CF₃)₅、-CH(CH₃)CF₂CF₃、-CH(CH₃)(CF₂)₉CF₂H)、或具有醚键( 例如，-CH₂OCH₂(CF₂)₃CF₃、-CH₂CH₂OCH₂(CF₂)₄H、-CH₂CH₂(OCF₂CF₂)₃H)。该化合物的一个分子中可以具有多个氟烷基。含氟化合物优选含有一个有利于与树脂交联的取代基，优选含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、芳基、肉桂酰基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、聚氧化烯基、羧基和氨基，更优选的是丙烯酰基、甲基丙烯酰基。

本发明中，无机颗粒可以是两种不同粒径无机颗粒的混合物，这两种粒径的无机颗粒的混合使用，大粒径无机颗粒支撑在小粒径无机颗粒的间隙中，这样使得在大粒径的无机颗粒周围形成更大的间隙，提高涂层的孔隙率，这样使得涂层折射率会更低。

所述无机颗粒是两种不同粒径无机颗粒的混合物，其中，较大粒径无机颗粒的粒径为40～100纳米，如果颗粒粒径大于100纳米，一方面会影响防反射膜的透过性，引起雾度上升，另一方面会在涂层表面形成突起，带来表观问题；如果颗粒粒径小于40纳米，则不能保证有效的支撑在小粒径的无机颗粒之间，不能形成所希望的有益间隙；较小粒径无机颗粒的粒径为5～10纳米，如果小于5纳米，则由于粒子的表面能高，容易在涂布液中聚集，而如果超过10纳米，和较大颗粒直径差值太小，则在较大颗粒周围不能产生更多的间隙；较大粒径无机颗粒和较小粒径无机颗粒的重量比是10～40:100，太低或太高均不能则在较大颗粒周围产生更多的间隙。本发明中所述的无机颗粒由选自硅、钛、铝中的至少一种元素的氧化物构成，例如：氧化铝、二氧化硅、氧化钛、无机含氟颗粒、碳酸钙等，优选氧化铝、二氧化硅、氧化钛，更优选二氧化硅。

本发明中，作为沸点为100℃以上的溶剂，可以是甲基异丁酮，甲基正丁酮，环己酮等酮类；乙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸异丁酯等酯类；1-甲氧基-2-2丙醇、正辛醇等醇类。优选甲基异丁酮、环己酮。

本发明中的溶剂由沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂组成，使用沸点100℃以下的有机溶剂，优选沸点60℃～100℃的有机溶剂，更优选沸点70℃～90℃的有机溶剂，这样可以使得在涂布后干燥时溶剂均匀挥发，得到均匀的空隙，从而使折射率变得更低。特别是沸点100℃以下的有机溶剂使用量与沸点100℃以上的有机溶剂的使用量，其比例10：90～40:60，控制此比例，即使其他各组分不发生变化，可在此范围内调整不同种沸点溶剂的比例则可以调整低折层的折射率。如果高于此比例在涂布干燥时溶剂挥发太多、太快，得不到均匀的空隙，不会得到理想的的折射率。如果低于此比例易导致涂布不均匀。这些有机溶剂选自市售公知的醇类如甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、异丙醇、三甲基甲醇、2-丁醇等；酮类如丙酮、丁酮等；酯类如甲酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸异丙酯等；醚类如乙醚、二异丙醚、丙醚等

本发明中，粘合剂树脂优选带有电子射线或辐射下可以聚合的官能团的树脂，更优选的是光聚合官能团。从其透明性考虑可以选自市售的新戊二醇丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1，6- 己二醇二( 甲基) 丙烯酸酯、丙氧基化1,6-己二醇二丙烯酸酯、丙二醇二( 甲基) 丙烯酸酯、三甘醇二( 甲基) 丙烯酸酯、二丙二醇二( 甲基) 丙烯酸酯、聚乙二醇二( 甲基) 丙烯酸酯、聚丙二醇二( 甲基) 丙烯酸酯)、季戊四醇二(甲基) 丙烯酸酯、 1，2，4- 环己烷四( 甲基) 丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯、季戊四醇四( 甲基) 丙烯酸酯、季戊四醇三( 甲基) 丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇四( 甲基) 丙烯酸酯、二季戊四醇六( 甲基) 丙烯酸酯、三季戊四醇三丙烯酸酯和三季戊四醇六丙烯酸酯等其中的一种或2中以上的混合物。

本发明中，硅烷偶联剂的有机反应官能团可以是丙烯酰基、乙烯基、氨基、环氧基、甲基丙烯酰氧基、巯基或脲基。本发明使用的硅烷偶联剂是1～3个可水解基团的，可水解基团可以是氯基、甲氧基、乙氧基、甲氧基乙氧基、乙酰氧基等，上述基团水解时即生成硅醇（Si(OH)₃），而与无机物质结合,形成硅氧烷。丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基的反应基可与含氟有机物质反应而结合。因此，通过使用硅烷偶联剂，可在无机物质和有机物质的界面之间架起“分子桥”，把两种性质悬殊的材料连接在一起提高复合材料的性能和增加粘接强度的作用，可获得极佳涂层的硬度和耐刮擦性。有机反应官能团优选丙烯酰基、乙烯基、氨基官能团的，更优选丙烯酰基；可水解基团优选甲氧基、乙氧基。作为带丙烯酰基有机反应官能团的可以是甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷，甲基丙烯酰氧丙基二甲氧基甲基硅烷、基丙烯酰氧丙基甲氧基二甲基硅烷、丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基丙基二乙氧基甲基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基甲氧基二甲基硅烷，优选甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷。

在本发明中，引发剂可以是市售的2，4，6，-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化磷（TPO），2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮（UV 1173），2-甲基-1-[4-甲硫基苯基]-2-吗啉基-1-丙酮（UV907），1-羟基-环已基-苯基甲酮（184），异丙基硫杂蒽酮（ITX ），安息香双甲醚（BDK ），4-(N,N-二甲氨基)苯甲酸乙酯（EPD），本发明使用的是上述引发剂其中的1种或2种以上的混合物。

为了到希望的指标和特性，可以添加其他助剂，如表面活性剂、流平剂、防静电剂、防污剂、滑爽剂等,例如X-22-164E（日本信越有机硅（株）制）、TSF4460（GE东芝硅酮（株）等。

本发明中，用作透明支持体的基材，没有特别的限制，优选聚对苯二甲酸乙二酯（PET），三乙酸纤维素（TAC）。对透明支持体的厚度，没有特别的限制，但考虑生产的可操作性，优选60～150微米厚的基材。为了提高低折射层与透明支持体的结合牢度，优选对透明支持体电晕处理。

本发明中，将涂布液涂布到透明基材的涂布方法，可是使用任意公知的方法，可以是刮刀涂布法、气刀涂布法、旋涂法、浸涂法、喷涂法、凹版辊涂布法、条缝涂布法、棒涂法等。

本发明中，将低折涂布液涂布后的干燥方式，优选2个或多个干燥温度梯度干燥方式去除溶剂，优选在70～80℃和100～130℃2个干燥温度梯度，分别去除沸点为100℃以下和100℃以上的有机溶剂，使低折层的孔隙率更高，得到折射率更低的低折层。再使用紫外线装置进行紫外光照射,使涂层固化，得到防反射膜。

下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。

实施例1

丙烯酸六氟丁酯（折射率1.39） 10 g，

5纳米二氧化硅 9.1 g，

40纳米二氧化硅 0.91 g，

PETA（季戊四醇丙烯酸酯） 3 g，

甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷 5 g，

引发剂184（1-羟基-环已基-苯基甲酮） 0.3 g，

X-22-164E (日本信越) 0.1 g，

丁酮 4 g，

1-甲氧基-2-2丙醇 36 g，

将折射率为1.39的10g丙烯酸六氟丁酯加入到由36g1-甲氧基-2-2丙醇和4g丁酮组成的混合溶剂中，搅拌溶解后，再依次加入5纳米二氧化硅9.1g、40纳米二氧化硅0.91g、PETA3.0g、甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷5.0g、引发剂184 0.3g、X-22-164E 0.1g，搅拌分散，得到防反射涂液。

将上述防反射涂布液均匀地涂布在厚度为80微米的聚对苯二甲酸乙二酯（PET）片基上，然后在80℃下干燥3分钟、130℃下固化20 分钟之后,在氮气保护下，使用紫外线装置以照射量200mJ/cm²的紫外光照射,使涂层固化，得到防反射膜。测其性能

实施例2

甲基丙烯酸六氟丁酯（折射率1.36） 20g，

10纳米二氧化硅 25g，

75纳米二氧化硅 5g，

PETA（季戊四醇丙烯酸酯） 3g，

DPHA（二季戊四醇六丙烯酸） 1g，

丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷 6g，

引发剂184 （1-羟基-环已基-苯基甲酮） 0.5g，

X-22-164E (日本信越) 0.5g，

丁酮 15g，

甲基异丁酮 35g，

将折射率为1.36的20g甲基丙烯酸六氟丁酯加入到由35g甲基异丁醇和15g丁酮组成的混合溶剂中，搅拌溶解后，再依次加入10纳米二氧化硅25g、75纳米二氧化硅5g、PETA3g、DPHA 1g、丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷6g、引发剂184 0.5g、X-22-164E 0.5g，搅拌分散，得到防反射涂液。

将上述防反射涂布液均匀地涂布在厚度为80微米的三醋酸纤维素（TAC）片基上，然后在80℃下干燥3分钟、100℃下固化20 分钟之后,在氮气保护下，使用紫外线装置以照射量200mJ/cm²的紫外光照射,使涂层固化，得到防反射膜。测其性能。

实施例3

LINC-2A（日本共荣社制，折射率1.40） 30g，

8纳米二氧化硅 15g，

50纳米二氧化硅 5g，

DPHA（二季戊四醇六丙烯酸） 5g，

甲基丙烯酰氧丙基二甲氧基甲基硅烷 7g，

引发剂184（1-羟基-环已基-苯基甲酮） 1.5g，

TPO（2,4,6,-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化磷） 1g，

X-22-164E (日本信越) 0.5g，

丁酮 32g，

环己酮 48g，

将折射率为1.4的30g LINC-2A加入到由48g环己酮和32g丁酮组成的混合溶剂中，搅拌溶解后，再依次加入8纳米二氧化硅15g、50纳米二氧化硅5g、DPHA5g、甲基丙烯酰氧丙基二甲氧基甲基硅烷7g、引发剂184 1.5g、X-22-164E 0.5g，搅拌分散，得到防反射涂液。

将上述防反射涂布液均匀地涂布在厚度为80微米的三醋酸纤维素（TAC）片基上，然后在70℃下干燥3分钟、150℃下固化20 分钟之后,在氮气保护下，使用紫外线装置以照射量200mJ/cm²的紫外光照射,使涂层固化，得到防反射膜。测其性能。

实施例4

LINC-3A（日本共荣社制，折射率1.43） 30g，

5纳米二氧化硅 32g，

70纳米二氧化硅 8g，

PETA（季戊四醇丙烯酸酯） 5g，

甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷 8g，

UV 1173（2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮） 5g，

TSF4460（GE东芝硅酮（株） 1g，

异丙醇 16g，

乙酸异丁酯 64g，

将折射率为1.43的30g LINC-3A加入到由64g乙酸异丁酯和16g异丙醇组成的混合溶剂中，搅拌溶解后，再依次加入5纳米二氧化硅32g、70纳米二氧化硅8g、PETA5g、甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷8g、引发剂UV 1173 5g、TSF4460 1g，搅拌分散，得到防反射涂液。

将上述防反射涂布液均匀地涂布在厚度为80微米的三醋酸纤维素（TAC）片基上，然后在70℃下干燥3分钟、100℃下干燥20 分钟之后,在氮气保护下，使用紫外线装置以照射量200mJ/cm²的紫外光照射,使涂层固化，得到防反射膜。测其性能。

实施例5

丙烯酸十二氟庚酯（折射率1.33） 30g，

10纳米二氧化硅 45.5g，

100纳米二氧化钛 4.5g，

PETA（季戊四醇丙烯酸酯） 3g，

季戊四醇四( 甲基) 丙烯酸酯 1g，

甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷 9g，

引发剂184（1-羟基-环已基-苯基甲酮） 8g，

X-22-164E (日本信越) 1g，

异丙醇 6g，

乙酸异丁酯 54g，

将折射率为1.33的30g丙烯酸十二氟庚酯加入到由54g乙酸异丁酯和6g异丙醇组成的混合溶剂中，搅拌溶解后，再依次加入10纳米二氧化硅45.5g、100纳米二氧化硅4.5g、PETA 3g、季戊四醇四( 甲基) 丙烯酸酯1g、甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基甲基硅烷9g、引发剂184 8g、X-22-164E 1g，搅拌分散，得到防反射涂液。

将上述防反射涂布液均匀地涂布在厚度为80微米的三醋酸纤维素（TAC）片基上，然后在80℃下干燥3分钟、130℃下干燥20 分钟之后,在氮气保护下，使用紫外线装置以照射量200mJ/cm²的紫外光照射,使涂层固化，得到防反射膜。测其性能。

实施例6

LINC-102A（日本共荣社制，折射率1.37） 25g，

30纳米二氧化硅 45.5g，

10纳米氧化铝 4.5g，

PETA（季戊四醇丙烯酸酯） 5g，

甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷 10g，

引发剂184（1-羟基-环已基-苯基甲酮） 10g，

TSF4460（GE东芝硅酮（株） 1g，

甲基异丁酮 12g，

异丙醇 28g，

将折射率为1.37的25g LINC-102A加入到由12g甲基异丁酮和28g异丙醇组成的混合溶剂中，搅拌溶解后，再依次加入30纳米二氧化硅45.5g、10纳米二氧化硅4.5g、PETA 5g、甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷10g、引发剂184 10g、TSF4460 1g，搅拌分散，得到防反射涂液。

比较例

甲基丙烯酸六氟丁酯聚合物（折射率1.33） 30g，

120纳米二氧化硅 60g，

PETA（季戊四醇丙烯酸酯） 2g，

甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷 4g，

引发剂184 （1-羟基-环已基-苯基甲酮） 11g，

X-22-164E(日本信越) 1g，

甲基异丁酮 30g，

将折射率为1.33的30g甲基丙烯酸六氟丁酯聚合物加入到30g甲基异丁酮溶剂中，搅拌溶解后，再依次加入120纳米二氧化硅60g、PETA 22g、甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷4g、引发剂184 11g、X-22-164E 1g，搅拌分散，得到防反射涂液。

将上述防反射涂布液均匀地涂布在厚度为80微米的三醋酸纤维素（TAC）片基上，并然后在80摄氏度下干燥3分钟，在氮气保护下，使用紫外线装置以照射量200mJ/cm²的紫外光照射,使涂层固化，得到防反射膜。测其性能。

表1：各实施例性能数据表

	折射率	反射率	雾度	硬度	耐刮擦次数
						实施例1	1.32	0.5%	0	2H	20次
实施例2	1.32	0.6%	0	2H	20次
						实施例3	1.33	0.2%	0	2H	20次
实施例4	1.31	0.1%	0	2H	20次
						实施例5	1.31	0.3%	0	2H	20次
实施例6	1.32	0.3%	0	2H	20次
						比较例	1.38	1.2%	0	1H	5次

表中，各项性能采用如下评价方法：

(1)折射率

采用美国FILMETRICS公司的膜厚仪，型号：F-20。

(2)反射率

将黑色油墨组合物涂在防反射膜背面，样片自然干燥5分钟，60℃烘60分钟，制得防反射膜试样。采用日本日立公司制造的分光光度计（型号：U-3000）测定反射率。

(3)铅笔硬度

铅笔硬度测试采用HG/T4249-2012《光学功能膜表面硬化膜硬度测试方法》标准。

(4) 雾度

雾度测试采用G/B2410-80《透明塑料透光率和雾度试验方法》标准。

(5)耐刮擦性

在200g负载下使用#0000钢丝绒往复运动，涂层膜的耐刮擦次数。

Claims

1.一种防反射膜，包括膜基材和膜基材至少一面上的低折射率层，其特征在于，所述低折射率层的制备原料包括：（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物；（b）两种粒径不同的无机颗粒；（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂；（d）粘合剂树脂；（e）硅烷偶联剂和（f）光引发剂；将所述原料制备成涂布液、涂布在膜基材的至少一面经固化而形成；

所述涂布液中各组分的重量份为：

（b）两种粒径不同的无机颗粒 10～50份；

（d）粘合剂树脂 3～5份；

（e）硅烷偶联剂 5～10份；

（f）光引发剂 0.3～10份；

将所述原料制备成涂布液、涂布在膜基材的至少一面，经梯度干燥后，再经紫外固化，得到防反射膜；

所述两种粒径不同的无机颗粒包括粒径为40～100纳米的无机颗粒和粒径为5～10纳米的无机颗粒；

所述40～100纳米的无机颗粒和粒径为5～10纳米的无机颗粒之间的重量比为10～40:100；

所述无机颗粒由选自硅、钛、铝中的至少一种元素的氧化物构成；

所述沸点在100℃以下有机溶剂和100℃以上的有机溶剂之间的重量比为10～40:90～60。

2.一种如权利要求1所述防反射膜的制备方法，它包括膜基材和膜基材至少一面上的低折射率层，其特征在于，所述低折射率层的制备原料包括：（a）折射率为1.30～1.43的含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的含氟有机物；（b）两种粒径不同的无机颗粒；（c）沸点在100℃以上的有机溶剂和沸点在100℃以下的有机溶剂；（d）粘合剂树脂；（e）硅烷偶联剂和（f）光引发剂；将所述原料制备成涂布液、涂布在膜基材的至少一面，经梯度干燥后，再经紫外固化，得到防反射膜。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述梯度干燥是指在70～80℃和100～130℃分别干燥30～60秒和5～20分钟。