JP2005146272A - 防汚膜被覆樹脂物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 反射防止フィルムのような透明樹脂基材の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、また付着しても容易に拭き取れ、高い耐擦傷性、耐候性を有する防汚膜を被覆した樹脂物品を、特殊な装置を必要とすることなく、高い生産効率で提供すること。
【解決手段】 透明樹脂基材の表面に設けた、少なくとも表面がシリカ質の樹脂または無機化合物の下地層の上に、ケイ素アルコキシド、フルオロアルキル基含有シラン化合物および酸を含有する塗布液を塗布し、乾燥することにより防汚層が形成された防汚膜被覆樹脂物品が得られる。
【選択図】 なし
【解決手段】 透明樹脂基材の表面に設けた、少なくとも表面がシリカ質の樹脂または無機化合物の下地層の上に、ケイ素アルコキシド、フルオロアルキル基含有シラン化合物および酸を含有する塗布液を塗布し、乾燥することにより防汚層が形成された防汚膜被覆樹脂物品が得られる。
【選択図】 なし
Description
本発明は防汚膜被覆樹脂物品、特にディスプレイの表示画面に用いられる透明樹脂基板または透明樹脂フィルムの表面に防汚性を付与した防汚膜被覆樹脂物品の製造方法に関する。
透明性を有するプラスチックは、光学的特性、軽量性、更に加工性が容易である、薄くすることが容易である等の色々な長所を活かして、液晶関連部材や光ディスクといった光学関連市場、フィルム市場でのニーズが高い。特にディスプレイ（液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ）表示画面では、主要材料として、ガラスとの組み合わせやプラスチック単独で使用されている。ディスプレイに使用する目的としては、防爆補助効果、帯電防止効果、透過率調整効果、反射防止効果、防汚効果などの付与であり、各種の機能を有した膜を組み合わせ、基材となる樹脂フィルム上に積層し形成したものをガラスに貼り付けて表示画面基板にしたもの、或いは透明樹脂シートに直接積層し、それ自体で表示画面基板にしたものがある。その一例としてＰＥＴフィルム上にハードコート膜、透明導電膜、反射防止膜、防汚膜をこの順番に積層したものが知られている。ここで防汚膜とはその表面に指紋等の汚れが付着しにくく、また一旦付着した場合も汚れの除去が容易である機能を付与した膜のことである。
防汚膜の技術としては、パーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとアルコキシシラン基を有する単量体との共重合体を二酸化珪素を主とする光学薄膜上に形成した光学物品が知られている（特許文献１）。また、特許文献２には、パーフルオロ基含有トリエトキシシランを溶質とする溶液に、パーフルオロ基含有燐酸エステルを触媒として加えたコーティング剤を表層部にＳｉＯ2層を有する反射防止膜上に塗布して防汚層を形成することが記載されている。特許文献３には、透明フィルム基材面上に反射防止層を有する反射防止フィルムの最上層に、パーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤を真空蒸着により成膜して防汚層を形成することが提案されている。また特許文献４には、表面を予め酸素を含むプラズマまたはコロナ雰囲気で処理して親水性化したり、あるいは、基材表面を酸素を含む雰囲気中で２００〜３００ｎｍ付近の波長の紫外線を照射して、親水性化処理を行ったプラスチック基材の表面に、シリコンアルコキシド（またはその加水分解物の単量体または１９量体以下の重合体）、フルオロアルキル基含有シラン化合物および酸を含有する溶液を塗布した後乾燥し、撥水性被膜を形成する撥水性物品の製造方法が記載されている。
特開平７−１６９４０号公報
特開２０００−３２７８１８号公報
特開２００１−１８８１０２号公報
特開平１１−７１６８２号公報
しかしながら、特許文献１の技術では、塗布後の反応に長時間かかるため生産効率が低くなるという問題がある。そして特許文献２および４の方法では、防汚性発現に時間がかかったり、防汚性能が低かったり、使用とともに防汚性が低下しやすいという問題がある。さらに特許文献３の技術では真空蒸着装置のような特殊な装置が必要である。
本発明は、反射防止フィルムのような透明樹脂基材の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、また、付着しても容易に拭き取れるように水滴の接触角が大きく、さらに水滴の転がり性が優れており、加えて高い耐擦傷性、耐候性を有する防汚膜を被覆した樹脂物品を、特殊な装置を必要とすることなく、高い生産効率で提供することを目的とする。
すなわち本発明は、透明樹脂基材の表面に設けた、少なくとも表面がシリカ質の樹脂または無機化合物の下地層の上に、ケイ素アルコキシド、フルオロアルキル基含有シラン化合物および酸を含有する塗布液を塗布し、乾燥して防汚層を形成する防汚膜被覆樹脂物品の製造方法である。
本発明において、透明樹脂基材の表面に少なくとも表面がシリカ質の樹脂または無機化合物の下地層が設けられる。樹脂下地層または無機化合物下地層の表面におけるＳｉＯ2またはＳｉ−Ｏの含有率は２０重量％以上であることが好ましい。この下地層の態様として以下の５種を挙げることができる。
［下地層１］
少なくとも表面がシリカ質の樹脂の下地層としてはシリカ質のハードコート層を挙げることができる。このハードコート層は、下記式（１）
Ｒ1 aＲ2 bＳｉ(ＯＲ3)4-a-b （１）
ここで、Ｒ1は炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数２〜１２のエポキシ基、炭素原子数６〜１２のアリル基またはハロゲン化アルキル基、炭素原子数５〜８のメタクリロキシアルキル基、炭素原子数２〜１０のウレイドアルキレン基、芳香族ウレイドアルキレン基、芳香族アルキレン基、メルカプトアルキレン基であり、Ｒ2は炭素原子数１〜６のアルキル基、アリール基、アルケニル基、ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリール基であり、Ｒ3は水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル基、アシル基、アルキルアシル基であり、ａは１，２または３であり、ｂは０，１または２である、
で表される化合物、
およびコロイダルシリカを含有するコーティング液を塗布、５０〜１３０℃で数秒〜５時間加熱することにより硬化して得られる。このハードコート層は１〜１０μｍの厚みを有することが好ましい。上記式（１）の化合物の中で、有機シラン化合物としては、例えばトリメチルメトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルジメチルメトキシシランのような単官能性シラン；ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメトキシジエトキシシランおよびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシランのような二官能性シラン：メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、およびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランのような三官能性シランを挙げることができる。これらの中で、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシランのようなアルキルトリアルコキシシランが特に好ましく用いられる。
［下地層１］
少なくとも表面がシリカ質の樹脂の下地層としてはシリカ質のハードコート層を挙げることができる。このハードコート層は、下記式（１）
Ｒ1 aＲ2 bＳｉ(ＯＲ3)4-a-b （１）
ここで、Ｒ1は炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数２〜１２のエポキシ基、炭素原子数６〜１２のアリル基またはハロゲン化アルキル基、炭素原子数５〜８のメタクリロキシアルキル基、炭素原子数２〜１０のウレイドアルキレン基、芳香族ウレイドアルキレン基、芳香族アルキレン基、メルカプトアルキレン基であり、Ｒ2は炭素原子数１〜６のアルキル基、アリール基、アルケニル基、ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリール基であり、Ｒ3は水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル基、アシル基、アルキルアシル基であり、ａは１，２または３であり、ｂは０，１または２である、
で表される化合物、
およびコロイダルシリカを含有するコーティング液を塗布、５０〜１３０℃で数秒〜５時間加熱することにより硬化して得られる。このハードコート層は１〜１０μｍの厚みを有することが好ましい。上記式（１）の化合物の中で、有機シラン化合物としては、例えばトリメチルメトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルジメチルメトキシシランのような単官能性シラン；ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメトキシジエトキシシランおよびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシランのような二官能性シラン：メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、およびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランのような三官能性シランを挙げることができる。これらの中で、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシランのようなアルキルトリアルコキシシランが特に好ましく用いられる。
各成分の配合割合は、上記式（１）で表される化合物１００重量部に対し、コロイダルシリカ４０〜９００重量部が好ましく、２５０〜５００重量部がより好ましい。アルコールのような液体媒体中に上記有効成分を所定量含む分散液として調整される。
上記のコロイダルシリカは、例えば１０〜５０重量％のＳｉＯ2（粒径１〜２００ｎｍ、好ましくは１〜１００ｎｍ）を有効成分とするコロイダルシリカゾルあるいは粒径１〜２００ｎｍ、より好ましくは１〜１００ｎｍの範囲にあるＳｉＯ2を含む複合酸化物微粒子に由来することができる。この複合酸化物はＳｉＯ2と金属酸化物の複合物であり、金属酸化物としては、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｉｎ及びＴｉよりなる群から選ばれる１種もしくは２種以上の金属酸化物を挙げることができる。具体例はＡｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＣｅＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｌａ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＷＯ3、ＺｒＯ2、ＰｄＯ2、Ｉｎ2Ｏ3及びＴｉＯ2がある。ＳｉＯ2を含む複合酸化物微粒子として、チタンとケイ素の複合酸化物微粒子（ＴｉＯ2・ＳｉＯ2）、チタンとセリウムとケイ素の複合酸化物微粒子（ＴｉＯ2・ＣｅＯ2・ＳｉＯ2）、チタンと鉄とケイ素の複合酸化物微粒子（ＴｉＯ2・Ｆｅ2Ｏ3・ＳｉＯ2）、チタンとジルコニウムとケイ素の複合酸化物微粒子（ＴｉＯ2・ＺｒＯ2・ＳｉＯ2）、チタンとアルミニウムとケイ素の複合酸化物微粒子（ＴｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2）などを挙げることができる。これらの複合酸化物微粒子中にＳｉＯ2成分が５モル％以上（モル比 ＳｉＯ2：金属酸化物＝０．５：９．５ 以上）含まれていることが好ましい。
前記複合酸化物は溶媒への分散性を高めるために有機シラン化合物で表面改質しても良い。有機シラン化合物の使用量は、複合酸化物微粒子重量に対し、好ましくは２０重量％以下である。表面処理は、処理に用いる有機シラン化合物が加水分解基をもったままで行っても、加水分解した後で行っても良い。この有機シラン化合物としては、例えばトリメチルメトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルジメチルメトキシシランのような単官能性シラン；ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメトキシジエトキシシランおよびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシランのような二官能性シラン：メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、およびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランのような三官能性シラン；テトラエチルオルソシリケートおよびテトラメチルオルソシリケートのような四官能性シランを挙げることができる。複合酸化物をかかるシラン化合物で処理する際には、例えば水、アルコールあるいはその他の有機媒体中で行うことが好ましい。
［下地層２］
前記シリカ質のハードコート層は、（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）アミノシランおよび（Ｃ）コロイダルシリカを含有するハードコート液を塗布、紫外線照射により得られる。このハードコート層は１〜１０μｍの厚みを有することが好ましい。
上記ハードコート液の各成分について説明する。
（Ａ）成分である多官能（メタ）アクリレートとは、分子内に少なくとも２個の水酸基およびすくなくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートである。なお本明細書において、アクリロイル基又はメタクリロイル基を（メタ）アクリロイル基と、アクリレート又はメタクリレートを（メタ）アクリレートと、アクリル酸又はメタクリル酸を（メタ）アクリル酸という。多官能（メタ）アクリレートとしては、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコーリジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ポリ（ブタンジオール）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリイソプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及びビスフェノールＡジメタクリレートの如きジアクリレート類；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシトリアクリレート及びトリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレートのようなトリアクリレート類；ペンタエリスリトールテトラアクリレート及びジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレートの如きテトラアクリレート類；並びにペンタエリスリトール（モノヒドロキシ）ペンタアクリレートのようなペンタアクリレート類を挙げることができる。多官能（メタ）アクリレートは１種または２種類以上一緒に用いられる。
前記シリカ質のハードコート層は、（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）アミノシランおよび（Ｃ）コロイダルシリカを含有するハードコート液を塗布、紫外線照射により得られる。このハードコート層は１〜１０μｍの厚みを有することが好ましい。
上記ハードコート液の各成分について説明する。
（Ａ）成分である多官能（メタ）アクリレートとは、分子内に少なくとも２個の水酸基およびすくなくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートである。なお本明細書において、アクリロイル基又はメタクリロイル基を（メタ）アクリロイル基と、アクリレート又はメタクリレートを（メタ）アクリレートと、アクリル酸又はメタクリル酸を（メタ）アクリル酸という。多官能（メタ）アクリレートとしては、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコーリジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ポリ（ブタンジオール）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリイソプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及びビスフェノールＡジメタクリレートの如きジアクリレート類；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシトリアクリレート及びトリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレートのようなトリアクリレート類；ペンタエリスリトールテトラアクリレート及びジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレートの如きテトラアクリレート類；並びにペンタエリスリトール（モノヒドロキシ）ペンタアクリレートのようなペンタアクリレート類を挙げることができる。多官能（メタ）アクリレートは１種または２種類以上一緒に用いられる。
（Ｂ）成分であるアミノシランはアミノ基または置換アミノ基を有するアルコキシシランである。好ましくは下記式（２）
ＸaＳｉ(Ｒ4(ＮＨＲ5)bＮＲ6Ｈ)4-a （２）
ここで、Ｘは炭素数１〜６のアルコキシル基であり、Ｒ4、Ｒ5は同一もしくは異なる２価の炭化水素基であり、Ｒ6は水素原子または１価の炭化水素基であり、ａは１〜３の整数であり、ｂは０または１〜６の整数で表される、
アミノ有機官能性シランである。式（２）中、ａは２または３であることが好ましく、そしてｂは０または１であることが好ましい。
式（２）で表されるアミノシランとしては、例えばｎー（２−アミノエチルー３−アミノプロピル）トリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン塩酸塩及びγ−アニリノプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。
（Ｃ）成分であるコロイダルシリカとしては前述のものを使用することができる。
ＸaＳｉ(Ｒ4(ＮＨＲ5)bＮＲ6Ｈ)4-a （２）
ここで、Ｘは炭素数１〜６のアルコキシル基であり、Ｒ4、Ｒ5は同一もしくは異なる２価の炭化水素基であり、Ｒ6は水素原子または１価の炭化水素基であり、ａは１〜３の整数であり、ｂは０または１〜６の整数で表される、
アミノ有機官能性シランである。式（２）中、ａは２または３であることが好ましく、そしてｂは０または１であることが好ましい。
式（２）で表されるアミノシランとしては、例えばｎー（２−アミノエチルー３−アミノプロピル）トリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン塩酸塩及びγ−アニリノプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。
（Ｃ）成分であるコロイダルシリカとしては前述のものを使用することができる。
このハードコート液は、多官能（メタ）アクリレートの重合のための光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、ラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤などを用いることができる。ラジカル光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン］、［１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン］、［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン］、［２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン］、［１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン］、［２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン］、［ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド］、［２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１］を例示することができる。また、カチオン光重合開始剤としては、フェニル−［ｍ−（２−ヒドロキシテトラデシクロ）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジアルキルヨードニウム，テトラキス（ペンタフルオロ フェニル）ボレート等が例示できる。
光重合開始剤の量は、ハードコート組成物の多官能（メタ）アクリレート１００重量部に対し０．１〜３０重量部が好ましく、より好ましくは１〜１５重量部である。
このハードコート液は、アミノシラン（Ｂ）の加水分解・縮重合のための加水分解触媒を含有することが好ましい。加水分解触媒としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、シュウ酸、（メタ）アクリル酸、塩酸、硝酸、硫酸などの酸触媒や、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム水溶液などの塩基性触媒が用いられる。これらの中で水溶液の形の酸触媒例えば酢酸、（メタ）アクリル酸が好ましく用いられる。添加する酸触媒の量は、アミノシラン（Ｂ）１００重量部に対して５〜３０重量部であることが好ましい。
このハードコート液は、上記多官能（メタ）アクリレート（Ａ）１００重量部に対し、好ましくはアミノ有機官能シラン（Ｂ）１．５〜５０重量部、好ましくは８〜２５重量部、コロイダルシリカ（Ｃ）（固形分）１０〜１５０重量部、好ましくは４０〜８５重量部を含有する。
［下地層３］
本発明において、少なくとも表面がシリカ質の無機化合物の下地層としては反射防止膜を挙げることができる。この反射防止膜としては、少なくとも１層の無機化合物膜層（１層の場合は酸化ケイ素膜、２層以上の場合は最上層は酸化ケイ素膜）を２０ｎｍ〜５０μｍの膜厚（２層以上の場合は合計膜厚）で形成させることができる。無機化合物としては、酸化珪素（二酸化珪素、一酸化珪素等）、金属酸化物［酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化トリウム、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ（インジウムースズ酸化物）等］、金属ハロゲン化物（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化ランタン、フッ化セリウム、フッ化リチウム、フッ化トリウム等）等をあげることができる。反射防止膜の被覆法としては、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、物理的気相成長法（ＰＶＤ法）が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法、ＰＶＤ法としては真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
本発明において、少なくとも表面がシリカ質の無機化合物の下地層としては反射防止膜を挙げることができる。この反射防止膜としては、少なくとも１層の無機化合物膜層（１層の場合は酸化ケイ素膜、２層以上の場合は最上層は酸化ケイ素膜）を２０ｎｍ〜５０μｍの膜厚（２層以上の場合は合計膜厚）で形成させることができる。無機化合物としては、酸化珪素（二酸化珪素、一酸化珪素等）、金属酸化物［酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化トリウム、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ（インジウムースズ酸化物）等］、金属ハロゲン化物（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化ランタン、フッ化セリウム、フッ化リチウム、フッ化トリウム等）等をあげることができる。反射防止膜の被覆法としては、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、物理的気相成長法（ＰＶＤ法）が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法、ＰＶＤ法としては真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
具体的な無機化合物膜層の構成は例えば次のようなものを挙げることができる。
真空蒸着法、スパッタリング法またはプラズマＣＶＤ法によるＴｉＯ2／ＳｉＯ2の積層膜の成膜（ＴｉＯ2層の上にＳｉＯ2層を積層。２層反射防止膜）
真空蒸着法、スパッタリング法またはプラズマＣＶＤ法によるＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2の積層膜の成膜（４層反射防止膜）
真空蒸着法、スパッタリング法またはプラズマＣＶＤ法によるＳｉＯ2／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2の積層膜の成膜（５層反射防止膜）
プラズマＣＶＤ法によるＳｉＯx膜の成膜（単層反射防止膜）
真空蒸着法、スパッタリング法またはプラズマＣＶＤ法によるＴｉＯ2／ＳｉＯ2の積層膜の成膜（ＴｉＯ2層の上にＳｉＯ2層を積層。２層反射防止膜）
真空蒸着法、スパッタリング法またはプラズマＣＶＤ法によるＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2の積層膜の成膜（４層反射防止膜）
真空蒸着法、スパッタリング法またはプラズマＣＶＤ法によるＳｉＯ2／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2の積層膜の成膜（５層反射防止膜）
プラズマＣＶＤ法によるＳｉＯx膜の成膜（単層反射防止膜）
［下地層４］
少なくとも表面がシリカ質の無機化合物の下地層として、シリカ微粒子からなる単層の反射防止層を挙げることができる。この単層反射防止層は次の低反射層液を塗布、加熱することにより厚み７０〜３５０ｎｍに形成させることができる。
少なくとも表面がシリカ質の無機化合物の下地層として、シリカ微粒子からなる単層の反射防止層を挙げることができる。この単層反射防止層は次の低反射層液を塗布、加熱することにより厚み７０〜３５０ｎｍに形成させることができる。
低反射層液は、（１）平均粒子径４０〜１０００ｎｍの非凝集シリカ微粒子および平均一次粒子径１０〜１００ｎｍの鎖状凝集シリカ微粒子の少なくとも１方からなる原料微粒子、（２）バインダーとして加水分解可能なアルコキシシラン、およびそのオリゴマー、あるいは下記式（４）で表されるアルコキシシランを１種類または複種類含み、さらに水および溶媒を混合し、前記（２）バインダーを前記微粒子、触媒存在下で加水分解し、次いで硬化触媒を添加した液である。
前記加水分解可能なアルコキシシランとしては、テトラエトキシシランのようなテトラアルコキシシランが用いられ、他のアルコキシシランとしては下記式（３）で表されるものを挙げることができる。
Ｒ7 aＲ8 bＳｉ（ＯＲ9）4-a-b （３）
ここで、Ｒ7は炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜１２のアリル基もしくはハロゲン化アルキル基、炭素原子数５〜８のメタクリロキシアルキル基、炭素原子数２〜１０のウレイドアルキレン基、グリシジルオキシ基で置換されたアルキル基で片末端にアルキル基を有するアルキレングリコール基、芳香族ウレイドアルキレン基、芳香族アルキレン基またはメルカプトアルキレン基であり、Ｒ8は炭素原子数１〜６のアルキル基、アリ-ル基、アルケニル基、ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリ-ル基であり、Ｒ9は水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、アシル基またはアルキルアシル基であり、ａ＝１，２または３であり、ｂ＝０，１または２で表される。そしてａ＋ｂは１，２または３である。
Ｒ7 aＲ8 bＳｉ（ＯＲ9）4-a-b （３）
ここで、Ｒ7は炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜１２のアリル基もしくはハロゲン化アルキル基、炭素原子数５〜８のメタクリロキシアルキル基、炭素原子数２〜１０のウレイドアルキレン基、グリシジルオキシ基で置換されたアルキル基で片末端にアルキル基を有するアルキレングリコール基、芳香族ウレイドアルキレン基、芳香族アルキレン基またはメルカプトアルキレン基であり、Ｒ8は炭素原子数１〜６のアルキル基、アリ-ル基、アルケニル基、ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリ-ル基であり、Ｒ9は水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、アシル基またはアルキルアシル基であり、ａ＝１，２または３であり、ｂ＝０，１または２で表される。そしてａ＋ｂは１，２または３である。
Ｒ10Ｏ−（（Ｒ10Ｏ）2−Ｓｉ-Ｏ）n−Ｒ10 （４）
ここでＲ10は炭素原子数１〜４のアルキル基であり、ｎ＝１〜２０であり、縮合体の構造としては鎖状構造、分岐状構造、環状構造を含む。
ここでＲ10は炭素原子数１〜４のアルキル基であり、ｎ＝１〜２０であり、縮合体の構造としては鎖状構造、分岐状構造、環状構造を含む。
シリカ微粒子とバインダーの重量比は、６０：４０〜９５：５の割合で配合される。さらに、前記低反射層液中の非凝集シリカ微粒子は、１．０〜１．２の長軸長さと短軸長さの比を有し、一次粒子径標準偏差は１．０〜１．５である。
［下地層５］
少なくとも表面がシリカ質の樹脂の下地層としてはケイ素樹脂のハードコート層を挙げることができる。このハードコート層は、下記式（５）
Ｒ1 aＲ2 bＳｉ(ＯＲ3)4-a-b （５）
ここで、Ｒ1は炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数２〜１２のエポキシ基、炭素原子数６〜１２のアリル基またはハロゲン化アルキル基、炭素原子数５〜８のメタクリロキシアルキル基、炭素原子数２〜１０のウレイドアルキレン基、芳香族ウレイドアルキレン基、芳香族アルキレン基、メルカプトアルキレン基であり、Ｒ2は炭素原子数１〜６のアルキル基、アリール基、アルケニル基、ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリール基であり、Ｒ3は水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル基、アシル基、アルキルアシル基であり、ａは１，２または３であり、ｂは０，１または２である、
で表される化合物、
およびテトラアルコキシシランを含有するコーティング液を塗布、５０〜１３０℃で数秒〜５時間加熱することにより硬化して得られる。このハードコート層は１〜１０μｍの厚みを有することが好ましい。上記式（５）の化合物については上記下地層１における式（１）についての説明がそのまま適用することができる。テトラアルコキシシランとしては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、もしくはその重合体（好ましくは１９量体以下）またはそれらの加水分解物を挙げるができる。
少なくとも表面がシリカ質の樹脂の下地層としてはケイ素樹脂のハードコート層を挙げることができる。このハードコート層は、下記式（５）
Ｒ1 aＲ2 bＳｉ(ＯＲ3)4-a-b （５）
ここで、Ｒ1は炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数２〜１２のエポキシ基、炭素原子数６〜１２のアリル基またはハロゲン化アルキル基、炭素原子数５〜８のメタクリロキシアルキル基、炭素原子数２〜１０のウレイドアルキレン基、芳香族ウレイドアルキレン基、芳香族アルキレン基、メルカプトアルキレン基であり、Ｒ2は炭素原子数１〜６のアルキル基、アリール基、アルケニル基、ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリール基であり、Ｒ3は水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル基、アシル基、アルキルアシル基であり、ａは１，２または３であり、ｂは０，１または２である、
で表される化合物、
およびテトラアルコキシシランを含有するコーティング液を塗布、５０〜１３０℃で数秒〜５時間加熱することにより硬化して得られる。このハードコート層は１〜１０μｍの厚みを有することが好ましい。上記式（５）の化合物については上記下地層１における式（１）についての説明がそのまま適用することができる。テトラアルコキシシランとしては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、もしくはその重合体（好ましくは１９量体以下）またはそれらの加水分解物を挙げるができる。
各成分の配合割合は、上記式（５）で表される化合物１００重量部に対し、テトラアルコキシシラン４０〜９００重量部が好ましく、２５０〜５００重量部がより好ましい。アルコールのような液体媒体中に上記有効成分を所定量含む液として調整される。
これらの下地層１〜５は２層構成、例えば防汚層のすぐ下の層として反射防止層（下地層３，４）を設け、更にその下の層としてハードコート層（下地層１、２、５）を設けることができる。
これらの下地層１〜５に、界面活性剤、アルカリ金属塩、導電性微粒子または電荷移動錯体を添加することによって下地層に更に帯電防止性または導電性を付与することができる。
界面活性剤としては、「エレクトロストリッパーQN」（陰イオン性）、「エレクトロストリッパーACｚ」（両性）、「エレクトロストリッパーF」、「エレクトロストリッパーEA」（非イオン性）、「アミート３０２」（非イオン性）、「ホモゲノールL-18」（特殊高分子）、「ホモゲノールL1820」（特殊高分子）（いずれも花王（株）製）や日本ユニカー（株）製の「FZ-2105」、「L-7604」、「L-77」、「L-7001」、「FZ-2123」、「FZ-2162」（全て非イオン系）が挙げられる。添加量は膜の有効成分100重量部に対し０．０５〜５０重量部が好ましい。
導電性微粒子としては、1〜１００ｎｍの粒子径を持つＡＴＯ（アンチモン−スズ酸化物）やＩＴＯの金属酸化物や銀等の金属が挙げられ、一般的に分散液の形になっている。添加量は膜の有効成分１００重量部に対して１〜８０重量部が好ましい。微粒子の形状は、球形、楕円形、繊維状、鱗片状のものが使われる。導電効率を上げるには、繊維状、鱗片状のものが好ましい。
電荷移動錯体としては、（株）ボロンインターナショナル製のホウ素系帯電防止剤であるハイボロン等が挙げられる。添加量は膜の有効成分１００重量部に対して１〜２０重量部が好ましい。
界面活性剤としては、「エレクトロストリッパーQN」（陰イオン性）、「エレクトロストリッパーACｚ」（両性）、「エレクトロストリッパーF」、「エレクトロストリッパーEA」（非イオン性）、「アミート３０２」（非イオン性）、「ホモゲノールL-18」（特殊高分子）、「ホモゲノールL1820」（特殊高分子）（いずれも花王（株）製）や日本ユニカー（株）製の「FZ-2105」、「L-7604」、「L-77」、「L-7001」、「FZ-2123」、「FZ-2162」（全て非イオン系）が挙げられる。添加量は膜の有効成分100重量部に対し０．０５〜５０重量部が好ましい。
導電性微粒子としては、1〜１００ｎｍの粒子径を持つＡＴＯ（アンチモン−スズ酸化物）やＩＴＯの金属酸化物や銀等の金属が挙げられ、一般的に分散液の形になっている。添加量は膜の有効成分１００重量部に対して１〜８０重量部が好ましい。微粒子の形状は、球形、楕円形、繊維状、鱗片状のものが使われる。導電効率を上げるには、繊維状、鱗片状のものが好ましい。
電荷移動錯体としては、（株）ボロンインターナショナル製のホウ素系帯電防止剤であるハイボロン等が挙げられる。添加量は膜の有効成分１００重量部に対して１〜２０重量部が好ましい。
本発明において、上述の下地層の上に防汚用塗布液を塗布し、室温で１０秒〜１０分間乾燥して１０〜１００ｎｍ厚み、好ましくは１０〜３０ｎｍ厚みの防汚層を形成する。この防汚用塗布液はケイ素アルコキシド、フルオロアルキル基含有シラン化合物および酸を含有する。ケイ素アルコキシドとしてはテトラエトキシシラン、テトラメトキシシランのようなテトラアルコキシシランもしくはその重合体（好ましくは１９量体以下）またはそれらの加水分解物が好ましく用いられる。
フルオロアルキル基含有のシラン化合物としては、フルオロアルキル基を含有し、かつ、アルコキシ基、アシロキシ基、またはクロロ基を含有するシラン化合物を好ましく使用することができる。例えば、下記化学式（６）、（７）で示される化合物を挙げることができる。これらのなかから、単独でまたは複数の化合物を組み合わせて使用することができる。
ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ11−ＳｉＸpＹ3-p （６）
（ここで、ｎは０から１２の整数、好ましくは３から１２の整数、Ｒ11は炭素原子数１〜１０の二価の有機基（例えばメチレン基、エチレン基）、または珪素原子および酸素原子を含む基、Ｘは炭素原子数１〜４の一価炭化水素基（例えばアルキル基、シクロアルキル基、アリル基）もしくはこれらの誘導体から選ばれる置換基、または水素、ｐは０、１または２、Ｙは炭素原子数が１〜４のアルコキシ基又はアシロキシ基）
（ここで、ｎは０から１２の整数、好ましくは３から１２の整数、Ｒ11は炭素原子数１〜１０の二価の有機基（例えばメチレン基、エチレン基）、または珪素原子および酸素原子を含む基、Ｘは炭素原子数１〜４の一価炭化水素基（例えばアルキル基、シクロアルキル基、アリル基）もしくはこれらの誘導体から選ばれる置換基、または水素、ｐは０、１または２、Ｙは炭素原子数が１〜４のアルコキシ基又はアシロキシ基）
ＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ12−ＳｉＸpＣｌ3-p （７）
（ここで、ｎは０から１２の整数、好ましくは３から１２の整数、Ｒ12はメチレン基、エチレン基、または珪素原子および酸素原子を含む基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキル基、アリル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換基、ｐは、０、１または２）
（ここで、ｎは０から１２の整数、好ましくは３から１２の整数、Ｒ12はメチレン基、エチレン基、または珪素原子および酸素原子を含む基、ＸはＨまたはアルキル基、シクロアルキル基、アリル基またはこれらの誘導体から選ばれる置換基、ｐは、０、１または２）
上記式（６）、式（７）で表されるシラン化合物の中で、Ｃ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、Ｃ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、Ｃ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3 およびＣ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃｌ2が特に好ましく用いられる。
防汚用塗布液に含有させる酸としては、塩酸、硝酸、酢酸のような揮発性酸が好ましく用いられる。
防汚用塗布液の溶媒としては、アルコール系の親水性溶媒、ケトン系の親水性溶媒などが好ましく用いられる。そのなかでもアルコール系、例えばメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノールのような炭素数が３以下の鎖式飽和１価アルコールは、常温における蒸発速度が大きいので、さらに好ましく用いられる。ケトン系の親水性溶媒としては、アセトンやメチルエチルケトンなどを挙げることができる。
防汚用塗布液は、好ましくは、
（Ａ）シリコンアルコキシドまたはその加水分解物
（シリカ換算） ０．０１〜２重量％、
（Ｂ）フルオロアルキル基含有シラン化合物
（シリカ換算） ０．００００１〜０．１５重量％、
（Ｃ）酸 ０．００１〜３規定、
および
（Ｄ）水 ０〜５重量％
を含有する。更に好ましくは
（Ａ）シリコンアルコキシドまたはその加水分解物
（シリカ換算） ０．０１〜２重量％、
（Ｂ）フルオロアルキル基含有シラン化合物
（シリカ換算） ０．００００１〜０．１５重量％、
（Ｃ）ハロゲン化水素酸 ０．００１〜３規定、
および
（Ｄ）水 ０〜５重量％、
ただし、酸／水の重量比が０．００２以上、好ましくは０．０２以上である、
を含有する。
（Ａ）シリコンアルコキシドまたはその加水分解物
（シリカ換算） ０．０１〜２重量％、
（Ｂ）フルオロアルキル基含有シラン化合物
（シリカ換算） ０．００００１〜０．１５重量％、
（Ｃ）酸 ０．００１〜３規定、
および
（Ｄ）水 ０〜５重量％
を含有する。更に好ましくは
（Ａ）シリコンアルコキシドまたはその加水分解物
（シリカ換算） ０．０１〜２重量％、
（Ｂ）フルオロアルキル基含有シラン化合物
（シリカ換算） ０．００００１〜０．１５重量％、
（Ｃ）ハロゲン化水素酸 ０．００１〜３規定、
および
（Ｄ）水 ０〜５重量％、
ただし、酸／水の重量比が０．００２以上、好ましくは０．０２以上である、
を含有する。
防汚用塗布液はアルコール系溶媒に上記（Ａ）〜（Ｃ）成分を溶解させることにより調製することができるが、クロロシリル基含有化合物とフルオロアルキル基含有シラン化合物を、アルコールおよび／または水分を含む溶媒に溶解し、前記クロロシリル基含有化合物のクロロ基を、アルコキシル基または水酸基に置換させることによっても調製することができる。
本発明において、上述の下地層と透明樹脂基材との接着性を向上させるために下地層と透明樹脂基材との間にプライマー層を設けることができる。また下地層と透明樹脂基材との間に帯電防止層を設けることができる。
このプライマー層としては、特に限定しないが、一般的に、ウレタン系、アクリル系、ウレタンアクリレート系、あるいは一部シラン化したものを主成分とし、有機溶媒で濃度調整したものが用いられる。市販品、例えばシリコンアクリル系プライマー液（ＣＰ７１０、日本エーアールシー（株）製）、ウレタン系プライマー液（ＣＰ６２０、日本エーアールシー（株）製）を用いることができる。
処理方法としては、プライマー層用処理液を、透明樹脂基材表面に塗布し、乾燥することにより得られる。このプライマー層の好ましい厚みは０．５〜５μｍである。プライマー層用処理液の溶媒としてはアルコール等の有機溶媒が用いられるが、水でもよい。
このプライマー層としては、特に限定しないが、一般的に、ウレタン系、アクリル系、ウレタンアクリレート系、あるいは一部シラン化したものを主成分とし、有機溶媒で濃度調整したものが用いられる。市販品、例えばシリコンアクリル系プライマー液（ＣＰ７１０、日本エーアールシー（株）製）、ウレタン系プライマー液（ＣＰ６２０、日本エーアールシー（株）製）を用いることができる。
処理方法としては、プライマー層用処理液を、透明樹脂基材表面に塗布し、乾燥することにより得られる。このプライマー層の好ましい厚みは０．５〜５μｍである。プライマー層用処理液の溶媒としてはアルコール等の有機溶媒が用いられるが、水でもよい。
本発明における防汚膜被覆樹脂物品に透明導電膜を設ける場合には、例えば前述の下地層の直下にＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物）の膜をスパッタリング法等により成膜することができる。
本発明により得られる防汚膜被覆樹脂物品の構造としては次のものが例示することができる。
（１）透明樹脂基材／プライマー／ハードコート／透明導電膜／反射防止膜／防汚膜
（２）透明樹脂基材／ハードコート／透明導電膜／反射防止膜／防汚膜
（３）透明樹脂基材／ハードコート／反射防止膜／防汚膜
（４）透明樹脂基材／反射防止膜／防汚膜
（５）透明樹脂基材／プライマー／反射防止膜／防汚膜
（６）透明樹脂基材／ハードコート／防汚膜
（７）透明樹脂基材／プライマー／ハードコート／防汚膜
（８）透明樹脂基材／ハードコート／反射防止（帯電防止）／防汚膜
（９）透明樹脂基材／ハードコート（導電性）／反射防止／防汚膜
（１）透明樹脂基材／プライマー／ハードコート／透明導電膜／反射防止膜／防汚膜
（２）透明樹脂基材／ハードコート／透明導電膜／反射防止膜／防汚膜
（３）透明樹脂基材／ハードコート／反射防止膜／防汚膜
（４）透明樹脂基材／反射防止膜／防汚膜
（５）透明樹脂基材／プライマー／反射防止膜／防汚膜
（６）透明樹脂基材／ハードコート／防汚膜
（７）透明樹脂基材／プライマー／ハードコート／防汚膜
（８）透明樹脂基材／ハードコート／反射防止（帯電防止）／防汚膜
（９）透明樹脂基材／ハードコート（導電性）／反射防止／防汚膜
本発明において透明樹脂基材の材質としては、トリアセチルセルロース樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリスチレン樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルスルホン樹脂、アリルジグリコールカーボネート樹脂等の透明樹脂をあげることができる。これらの透明樹脂製のシートおよびフィルム等が基材として用いられる。
本発明は、携帯電話導光板の光拡散処理膜、ディスプレイ（ノート型パソコン、モニター、ＰＤＰ、プロジェクションＴＶの前面板、ＰＤＡ）の最表面処理膜、タッチパネルモニターの最表面処理膜、携帯電話窓、高光学特性が要求される部位、自動車用透明部品などに用いられる。
本発明によれば、透明樹脂基材の表面に汚れが付着することを防止し、また、付着しても容易に拭き取れる、高い耐擦傷性、耐候性を有する防汚膜を被覆した樹脂物品が、特殊な装置を必要とすることなく、高い生産効率で得られる。
以下に実施例をあげて本発明の実施の形態を具体的に説明する。
実施例および比較例で用いた基材、反射防止層の形成法、各種コート層の形成法、評価方法等は次の通りである。
樹脂基材
（１）ポリカーボネート（ＰＣ）（商品名：ポリカエース 品番：ＥＣＫ−１００ 筒中プラスチック工業（株）製 ）シート厚み２ｍｍ。
（２）ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）（商品名：コスモシャイン Ａ４３００、東洋紡（株）製、フィルム厚さ１８８μｍ。
（３）シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）（商品名：ＺＥＯＮＯＲ 品番：１６００ 日本ゼオン（株）製 ）、フィルム厚さ１８８μｍ。
（４）ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（商品名：アクリライト 三菱レイヨン（株）製）、シート厚さ２ｍｍ。
樹脂基材
（１）ポリカーボネート（ＰＣ）（商品名：ポリカエース 品番：ＥＣＫ−１００ 筒中プラスチック工業（株）製 ）シート厚み２ｍｍ。
（２）ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）（商品名：コスモシャイン Ａ４３００、東洋紡（株）製、フィルム厚さ１８８μｍ。
（３）シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）（商品名：ＺＥＯＮＯＲ 品番：１６００ 日本ゼオン（株）製 ）、フィルム厚さ１８８μｍ。
（４）ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（商品名：アクリライト 三菱レイヨン（株）製）、シート厚さ２ｍｍ。
[反射防止層１の形成］
ＳｉＯ2は、高周波マグネトロンスパッタ法で、スパッタガスをＡｒガスとし、１．２μｍ/ｈｒとし成膜した。ＳｉＯ2膜の屈折率は１．４６であった。また、ＴｉＯ2は直流マグネトロンスパッタ法でスパッタガスをＡｒとＯ2の混合ガスとし、１．４μｍ/ｈｒの速度で成膜した。ＴｉＯ2膜の屈折率は２．３０であった。
第１層から順に、TiO2(nd=60nm)/SiO2(nd=40nm)/TiO2(nd=110nm)/SiO2(nd=140nm)の４層構造とした。なおカッコ内は光学膜厚（屈折率ｎ×物理膜厚ｄ）の値を示している。
ＳｉＯ2は、高周波マグネトロンスパッタ法で、スパッタガスをＡｒガスとし、１．２μｍ/ｈｒとし成膜した。ＳｉＯ2膜の屈折率は１．４６であった。また、ＴｉＯ2は直流マグネトロンスパッタ法でスパッタガスをＡｒとＯ2の混合ガスとし、１．４μｍ/ｈｒの速度で成膜した。ＴｉＯ2膜の屈折率は２．３０であった。
第１層から順に、TiO2(nd=60nm)/SiO2(nd=40nm)/TiO2(nd=110nm)/SiO2(nd=140nm)の４層構造とした。なおカッコ内は光学膜厚（屈折率ｎ×物理膜厚ｄ）の値を示している。
［反射防止層２の形成］
上記反射防止層１の形成と同様にして、第１層から順に、SiO2(40nm)/TiO2(20nm)/SiO2(40nm)/TiO2(300nm)/SiO2(90nm)の５層構造とした。なおカッコ内は光学膜厚である。
上記反射防止層１の形成と同様にして、第１層から順に、SiO2(40nm)/TiO2(20nm)/SiO2(40nm)/TiO2(300nm)/SiO2(90nm)の５層構造とした。なおカッコ内は光学膜厚である。
［反射防止層３の形成］
シリカ微粒子分散液（平均粒子径１１０ｎｍ、粒径の標準偏差１．３、長軸長さと短軸長さの比の平均値１．０３、固形分１５％、日本触媒（株）製 シーホスターＫＥ−Ｗ１０）５０ｇを撹拌しながら、プロピレングリコールモノメチルエーテル２０ｇ、濃塩酸１ｇを添加し、次いで、エチルシリケート４８（平均重合度ｎ＝８、コルコート（株）製）５．３ｇを添加し、２時間撹拌させたあと、２４時間静置し反応させた。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテル１６４ｇを添加し、更に硬化触媒として酢酸ナトリウムを添加し、撹拌し均一にする。その後、導電性界面活性剤としてＦＺ−２１０５（日本ユニカー（株）製）４ｇを添加し、低反射層液を得た。
スピンコートによりこの低反射層液を塗布し室温で乾燥して膜厚を１１０ｎｍとした。
シリカ微粒子分散液（平均粒子径１１０ｎｍ、粒径の標準偏差１．３、長軸長さと短軸長さの比の平均値１．０３、固形分１５％、日本触媒（株）製 シーホスターＫＥ−Ｗ１０）５０ｇを撹拌しながら、プロピレングリコールモノメチルエーテル２０ｇ、濃塩酸１ｇを添加し、次いで、エチルシリケート４８（平均重合度ｎ＝８、コルコート（株）製）５．３ｇを添加し、２時間撹拌させたあと、２４時間静置し反応させた。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテル１６４ｇを添加し、更に硬化触媒として酢酸ナトリウムを添加し、撹拌し均一にする。その後、導電性界面活性剤としてＦＺ−２１０５（日本ユニカー（株）製）４ｇを添加し、低反射層液を得た。
スピンコートによりこの低反射層液を塗布し室温で乾燥して膜厚を１１０ｎｍとした。
［反射防止層４の形成］
鎖状凝集シリカ微粒子分散液（平均一次粒子径２５ｎｍ、平均長さ１００ｎｍ、固形分１５％、日産化学（株）製 スノーテックスＯＵＰ）５６ｇを撹拌しながら、エタノール２０ｇ、濃塩酸１ｇを添加し、次いで、テトラエトキシシラン５．２ｇを添加し、２時間撹拌させたあと、その後２４時間静置し反応させた。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテル１６４ｇを添加し、更に硬化触媒としてアルミニウムアセチルアセトンを添加し、撹拌し均一にする。その後、ペインタッド１９（ダウ・コーニング・アジア製）４ｇを添加し、低反射層液を得た。スピンコートによりこの低反射層液を塗布し室温で乾燥して膜厚を１１０ｎｍとした。
鎖状凝集シリカ微粒子分散液（平均一次粒子径２５ｎｍ、平均長さ１００ｎｍ、固形分１５％、日産化学（株）製 スノーテックスＯＵＰ）５６ｇを撹拌しながら、エタノール２０ｇ、濃塩酸１ｇを添加し、次いで、テトラエトキシシラン５．２ｇを添加し、２時間撹拌させたあと、その後２４時間静置し反応させた。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテル１６４ｇを添加し、更に硬化触媒としてアルミニウムアセチルアセトンを添加し、撹拌し均一にする。その後、ペインタッド１９（ダウ・コーニング・アジア製）４ｇを添加し、低反射層液を得た。スピンコートによりこの低反射層液を塗布し室温で乾燥して膜厚を１１０ｎｍとした。
［プライマー層１の形成］
シリコンアクリル系プライマー液として耐候性プライマー（ＣＰ７１０、日本エーアールシー（株）製）を使用した。このプライマー液をスピンコート法により、硬化後の膜厚が約２μｍとなるように塗布し、１１０℃で約３０分間加熱することによりプライマー層１を作製した。
［プライマー層２の形成］
ウレタン系プライマー液として一般プライマー（ＣＰ６２０、日本エーアールシー（株）製）を使用した。このプライマー液をスピンコート法により、硬化後の膜厚が約２μｍとなるように塗布し、５０℃で３０分間加熱することによりプライマー層２を作製した。
シリコンアクリル系プライマー液として耐候性プライマー（ＣＰ７１０、日本エーアールシー（株）製）を使用した。このプライマー液をスピンコート法により、硬化後の膜厚が約２μｍとなるように塗布し、１１０℃で約３０分間加熱することによりプライマー層１を作製した。
［プライマー層２の形成］
ウレタン系プライマー液として一般プライマー（ＣＰ６２０、日本エーアールシー（株）製）を使用した。このプライマー液をスピンコート法により、硬化後の膜厚が約２μｍとなるように塗布し、５０℃で３０分間加熱することによりプライマー層２を作製した。
［ハードコート層１の形成］
平均粒子径２０ｎｍのコロイリダルシリカとして「スノーテックス O-40」(日産化学（株）製: 不揮発分４０％)１５０ｇ，メチルトリメトキシシラン１８３ｇを反応させた後、イソプロピルアルコール６４８g、酢酸１８ｇ、酢酸ナトリウム１ｇおよびフローコントロール剤として「ペイントアディティブ19」（ダウコーニング社製）０．１ｇを加え、撹拌して耐擦傷性を付与するためのハードコートコート液１を得た。
ハードコートコート液１をスピンコート法で、硬化後の膜厚が３μｍとなるように塗布し、１２０℃の温度で３０分間加熱しハードコート層１を作製した。
平均粒子径２０ｎｍのコロイリダルシリカとして「スノーテックス O-40」(日産化学（株）製: 不揮発分４０％)１５０ｇ，メチルトリメトキシシラン１８３ｇを反応させた後、イソプロピルアルコール６４８g、酢酸１８ｇ、酢酸ナトリウム１ｇおよびフローコントロール剤として「ペイントアディティブ19」（ダウコーニング社製）０．１ｇを加え、撹拌して耐擦傷性を付与するためのハードコートコート液１を得た。
ハードコートコート液１をスピンコート法で、硬化後の膜厚が３μｍとなるように塗布し、１２０℃の温度で３０分間加熱しハードコート層１を作製した。
［ハードコート層２の形成］
多官能（メタ）アクリレートとして１，６−ヘキサンジオールジアクリレート１２．４ｇ、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン１．６ｇ、２−メトキシプロパノール６．３ｇ、酢酸４．０ｇ、光重合開始剤としてベンゾフェノン０．８ｇ、コロイダルシリカとして「ＮＰＣ−ＳＴ−３０」（日産化学、ｎ−プロピルセロソルブ中に平均粒２０ｎｍのシリカ微粒子を分散。シリカ含有量３０重量％）２６．０ｇ、膜に可撓性を与えかつ膜の硬度を高めるためのエポキシアクリレートとして「エポキシエステル３００２Ｍ」（共栄社化学（株））５．０ｇ、および酢酸ブチル１４．５ｇをそれぞれ添加する。次に、フローコントロール剤［ペインタッド１９ダウコーニングアジア（株）製］０．１ｇを添加する。その後、２−メトキシプロパノール１００ｇを添加し、撹拌し均質に分散させて、耐擦傷性を付与するためのハードコート液２が得られた。
ハードコート液２をスピンコート法で硬化後の膜厚が５μｍとなるように塗布し、の後に出力１２０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプにより総紫外線照射エネルギーが１０００（ｍＪ／ｃｍ2）になるように１秒〜３０秒間照射して塗布膜を硬化してハードコート層２が得られた。なおこの総紫外線照射エネルギー値は積算光量計（型式：UIT-102 ウシオ電機株式会社製）で測定した。
多官能（メタ）アクリレートとして１，６−ヘキサンジオールジアクリレート１２．４ｇ、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン１．６ｇ、２−メトキシプロパノール６．３ｇ、酢酸４．０ｇ、光重合開始剤としてベンゾフェノン０．８ｇ、コロイダルシリカとして「ＮＰＣ−ＳＴ−３０」（日産化学、ｎ−プロピルセロソルブ中に平均粒２０ｎｍのシリカ微粒子を分散。シリカ含有量３０重量％）２６．０ｇ、膜に可撓性を与えかつ膜の硬度を高めるためのエポキシアクリレートとして「エポキシエステル３００２Ｍ」（共栄社化学（株））５．０ｇ、および酢酸ブチル１４．５ｇをそれぞれ添加する。次に、フローコントロール剤［ペインタッド１９ダウコーニングアジア（株）製］０．１ｇを添加する。その後、２−メトキシプロパノール１００ｇを添加し、撹拌し均質に分散させて、耐擦傷性を付与するためのハードコート液２が得られた。
ハードコート液２をスピンコート法で硬化後の膜厚が５μｍとなるように塗布し、の後に出力１２０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプにより総紫外線照射エネルギーが１０００（ｍＪ／ｃｍ2）になるように１秒〜３０秒間照射して塗布膜を硬化してハードコート層２が得られた。なおこの総紫外線照射エネルギー値は積算光量計（型式：UIT-102 ウシオ電機株式会社製）で測定した。
［透明導電膜の形成］
高周波（RF）-マグネトロンスパッタ装置で、ターゲットとしてＩＴＯを使用し、スパッタガスとしてAr＋O2 を使用し、基材温度を１３０℃として、膜形成速度：約1μｍ／ｈｒでＩＴＯ膜を形成した。
高周波（RF）-マグネトロンスパッタ装置で、ターゲットとしてＩＴＯを使用し、スパッタガスとしてAr＋O2 を使用し、基材温度を１３０℃として、膜形成速度：約1μｍ／ｈｒでＩＴＯ膜を形成した。
［防汚層１の形成］
エタノール １００ｇ（含有水分率０．３５重量％）に、３−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン（ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、信越シリコーン製）０．０２ｇを添加し、３０分間撹拌し、次いでテトラクロロシラン（ＳｉＣｌ4、 信越シリコーン製）１．０ｇを攪拌しながら添加し、撥水防汚性被膜形成用溶液を得た。この溶液は、重量比で表して、テトラクロロシランから由来するＳｉが１００に対し、３−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランから由来するＳｉが０．６の比率で含有し、約０．２規定の塩酸濃度、０．３５重量％の水分濃度を有しており、約０．７のｐＨを有していた。そしてこの溶液中のテトラエトキシランの重合体の重合度は１〜３であった。この溶液を湿度３０％、室温下でフローコート法にて塗布し、室温で約１分乾燥させて、約６０ｎｍの厚みの防汚層１が被覆された防汚膜被覆樹脂物品を得た。
エタノール １００ｇ（含有水分率０．３５重量％）に、３−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン（ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、信越シリコーン製）０．０２ｇを添加し、３０分間撹拌し、次いでテトラクロロシラン（ＳｉＣｌ4、 信越シリコーン製）１．０ｇを攪拌しながら添加し、撥水防汚性被膜形成用溶液を得た。この溶液は、重量比で表して、テトラクロロシランから由来するＳｉが１００に対し、３−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランから由来するＳｉが０．６の比率で含有し、約０．２規定の塩酸濃度、０．３５重量％の水分濃度を有しており、約０．７のｐＨを有していた。そしてこの溶液中のテトラエトキシランの重合体の重合度は１〜３であった。この溶液を湿度３０％、室温下でフローコート法にて塗布し、室温で約１分乾燥させて、約６０ｎｍの厚みの防汚層１が被覆された防汚膜被覆樹脂物品を得た。
［防汚層２の形成］
エタノール １００ｇ（含有水分率０．３５重量％）に、３−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン（ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、信越シリコーン製）０．０２ｇを添加し、３０分間撹拌し、次いでテトラエトキシシラン（Ｓｉ（OCH2CH3）4）１．２ｇを攪拌しながら添加し、次いで濃塩酸（35重量％、関東化学製）２ｇを撹拌しながら添加し、撥水防汚性被膜形成用溶液を得た。この溶液は、テトラエトキシシランから由来するＳｉが１００に対し、３−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランから由来するＳｉが０．６の比率で含有し、約０．２規定の塩酸濃度、１．６重量％の水分濃度を有しており、約０．７のｐＨを有していた。そしてこの溶液中のテトラエトキシランの重合体の重合度は１〜３であった。
この溶液を湿度３０％、室温下でフローコート法にて塗布し、室温で約１分乾燥させて、約６０ｎｍの厚みの防汚層２が被覆された防汚膜被覆樹脂物品を得た。
エタノール １００ｇ（含有水分率０．３５重量％）に、３−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン（ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、信越シリコーン製）０．０２ｇを添加し、３０分間撹拌し、次いでテトラエトキシシラン（Ｓｉ（OCH2CH3）4）１．２ｇを攪拌しながら添加し、次いで濃塩酸（35重量％、関東化学製）２ｇを撹拌しながら添加し、撥水防汚性被膜形成用溶液を得た。この溶液は、テトラエトキシシランから由来するＳｉが１００に対し、３−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランから由来するＳｉが０．６の比率で含有し、約０．２規定の塩酸濃度、１．６重量％の水分濃度を有しており、約０．７のｐＨを有していた。そしてこの溶液中のテトラエトキシランの重合体の重合度は１〜３であった。
この溶液を湿度３０％、室温下でフローコート法にて塗布し、室温で約１分乾燥させて、約６０ｎｍの厚みの防汚層２が被覆された防汚膜被覆樹脂物品を得た。
［評価方法］
以下に示す各実施例で得られた防汚膜被覆樹脂物品について、油性インク耐性、指紋耐性、耐摩耗性、接触角、転落角、反射率および表面粗さの評価方法は次の通りである。
１．油性インク耐性
（ａ）油性インキペンの付着性
拭き取り回数基材表面に油性インキペン（ZEBRA/マッキー極細）を用いて、長さ１ｃｍの直線を書き、その付き易さあるいは目立ち易さの目視判定を行った。判定基準を以下に示す。
○：油性インキペンが球状にはじいている。
×：油性インキペンがはじかず、書ける。
（ｂ）油性インキペンの拭き取り性
基材表面に付着した油性ペンをセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で拭き取り、その取れ易さの目視判定を行った。判定基準を以下に示す。また、拭き取れるまでの回数を測定した。
○：油性インキペンを完全に拭き取ることができる。
△：油性インキペンの拭き取り跡が残る。
×：油性インキペンを拭き取ることができない。
以下に示す各実施例で得られた防汚膜被覆樹脂物品について、油性インク耐性、指紋耐性、耐摩耗性、接触角、転落角、反射率および表面粗さの評価方法は次の通りである。
１．油性インク耐性
（ａ）油性インキペンの付着性
拭き取り回数基材表面に油性インキペン（ZEBRA/マッキー極細）を用いて、長さ１ｃｍの直線を書き、その付き易さあるいは目立ち易さの目視判定を行った。判定基準を以下に示す。
○：油性インキペンが球状にはじいている。
×：油性インキペンがはじかず、書ける。
（ｂ）油性インキペンの拭き取り性
基材表面に付着した油性ペンをセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で拭き取り、その取れ易さの目視判定を行った。判定基準を以下に示す。また、拭き取れるまでの回数を測定した。
○：油性インキペンを完全に拭き取ることができる。
△：油性インキペンの拭き取り跡が残る。
×：油性インキペンを拭き取ることができない。
２．指紋耐性
基材表面に付着した指紋をセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で拭き取り、その取れ易さの目視判定を行った。判定基準を以下に示す。また、拭き取れるまでの回数を測定した。
○：指紋を完全に拭き取ることができる。
△：指紋の拭き取り跡が残る。
×：指紋の拭き取り跡が拡がり、拭き取ることができない。
３．耐摩耗性
得られた防汚膜被覆樹脂物品の表面をセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で荷重２５０ｇ／ｃｍ2 で往復５０回擦る耐摩耗性試験を行い、その後に傷の有無の目視判定を行った。判定基準を以下に示す。
○：傷無し。
△：若干傷がついている。
×：著しく傷がついている。
また耐摩耗性試験後の接触角を測定した。
基材表面に付着した指紋をセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で拭き取り、その取れ易さの目視判定を行った。判定基準を以下に示す。また、拭き取れるまでの回数を測定した。
○：指紋を完全に拭き取ることができる。
△：指紋の拭き取り跡が残る。
×：指紋の拭き取り跡が拡がり、拭き取ることができない。
３．耐摩耗性
得られた防汚膜被覆樹脂物品の表面をセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で荷重２５０ｇ／ｃｍ2 で往復５０回擦る耐摩耗性試験を行い、その後に傷の有無の目視判定を行った。判定基準を以下に示す。
○：傷無し。
△：若干傷がついている。
×：著しく傷がついている。
また耐摩耗性試験後の接触角を測定した。
４．接触角、転落角測定方法
得られた防汚膜被覆樹脂物品について、水の接触角を接触角計（ＣＡ−ＤＴ、協和界面科学（株）製）を用いて、２ｍｇの重量の水滴による静的接触角（以下、ＣＡと記す場合あり）として測定した。なおこの接触角の値が大きいほど、静的な撥水性すなわち防汚性（汚れの付きにくさ）が優れていることを表している。
また水平に配置した防汚膜被覆樹脂物品の表面に直径５ｍｍの水滴を置き、防汚膜被覆樹脂物品を徐々に傾斜させて、その表面に置かれた水滴が転がり始めるときの傾斜角度（臨界傾斜角、転落角）を測定した。転落角が小さい程、動的な撥水性すなわち防汚性（汚れの落ちやすさ）が優れている。
５．反射率
光学特性測定：ＪＩＳ Ｒ３２１２に準拠して可視光線反射率（％）を測定した。この値が小さいほど反射防止性能が高いことを示す。
得られた防汚膜被覆樹脂物品について、水の接触角を接触角計（ＣＡ−ＤＴ、協和界面科学（株）製）を用いて、２ｍｇの重量の水滴による静的接触角（以下、ＣＡと記す場合あり）として測定した。なおこの接触角の値が大きいほど、静的な撥水性すなわち防汚性（汚れの付きにくさ）が優れていることを表している。
また水平に配置した防汚膜被覆樹脂物品の表面に直径５ｍｍの水滴を置き、防汚膜被覆樹脂物品を徐々に傾斜させて、その表面に置かれた水滴が転がり始めるときの傾斜角度（臨界傾斜角、転落角）を測定した。転落角が小さい程、動的な撥水性すなわち防汚性（汚れの落ちやすさ）が優れている。
５．反射率
光学特性測定：ＪＩＳ Ｒ３２１２に準拠して可視光線反射率（％）を測定した。この値が小さいほど反射防止性能が高いことを示す。
６.表面粗さ
本発明で得られた防汚膜被覆樹脂物品の防汚膜被膜は、その表面の平滑性が非常に優れているという特徴を有する。防汚膜被覆樹脂物品の表面粗さを、算術平均粗さ（Ｒａ）および十点平均粗さ（Ｒｚ）により測定する。表面粗さ特性Ｒａ、Ｒｚは、二次元で定義されるＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９８２を三次元に拡張した方法により測定することができる。
７.表面フッ素濃度
本発明で得られた防汚膜被覆樹脂物品の防汚膜表面のフッ素濃度を、ＦとＳｉの原子比（Ｆ／Ｓｉ）として、Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）により測定した。Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）の試験条件は、Ｘ線源として、モノクロ化したアルミニウムのＫα線を用いて、アノードエネルギー；１４８６．６ｅＶ、アノード出力；１５０Ｗ、加速電圧；１４ｋＶ、試料に対するＸ線入射角；４５度、分析面積；直径８００μｍの円、測定厚み；数ｎｍである。
本発明で得られた防汚膜被覆樹脂物品の防汚膜被膜は、その表面の平滑性が非常に優れているという特徴を有する。防汚膜被覆樹脂物品の表面粗さを、算術平均粗さ（Ｒａ）および十点平均粗さ（Ｒｚ）により測定する。表面粗さ特性Ｒａ、Ｒｚは、二次元で定義されるＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９８２を三次元に拡張した方法により測定することができる。
７.表面フッ素濃度
本発明で得られた防汚膜被覆樹脂物品の防汚膜表面のフッ素濃度を、ＦとＳｉの原子比（Ｆ／Ｓｉ）として、Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）により測定した。Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）の試験条件は、Ｘ線源として、モノクロ化したアルミニウムのＫα線を用いて、アノードエネルギー；１４８６．６ｅＶ、アノード出力；１５０Ｗ、加速電圧；１４ｋＶ、試料に対するＸ線入射角；４５度、分析面積；直径８００μｍの円、測定厚み；数ｎｍである。
［実施例１］
前記ポリカーボネートシート基材にプライマー層１を形成し、ついでその上にハードコート層１を形成し、更にその上に防汚層２を形成して、ＰＣシート／プライマー層１／ハードコート層１／防汚層２からなる防汚膜被覆樹脂物品を製造した。この物品について初期接触角（度）、転落角（度）、表面フッ素濃度（Ｆ／Ｓｉ）、可視光線反射率（％）、油性インク耐性（拭き取り性（カッコ内は拭き取り回数）および付着性）、指紋耐性（拭き取り性）、表面粗さ（算術平均粗さＲａ（ｎｍ）および十点平均粗さＲｚ（ｎｍ））および耐摩耗性（傷付き性および摩耗試験後接触角）を測定し、その結果を表１に示す。
前記ポリカーボネートシート基材にプライマー層１を形成し、ついでその上にハードコート層１を形成し、更にその上に防汚層２を形成して、ＰＣシート／プライマー層１／ハードコート層１／防汚層２からなる防汚膜被覆樹脂物品を製造した。この物品について初期接触角（度）、転落角（度）、表面フッ素濃度（Ｆ／Ｓｉ）、可視光線反射率（％）、油性インク耐性（拭き取り性（カッコ内は拭き取り回数）および付着性）、指紋耐性（拭き取り性）、表面粗さ（算術平均粗さＲａ（ｎｍ）および十点平均粗さＲｚ（ｎｍ））および耐摩耗性（傷付き性および摩耗試験後接触角）を測定し、その結果を表１に示す。
［実施例２〜８］
表１に示す樹脂基材に、表１に示すようにプライマー層、ハードコート層、機能膜（透明導電層）、反射防止層、防汚層をその順に形成して、防汚膜被覆樹脂物品を製造し、実施例１と同様に各種性能を測定し、その結果を表１に示す。
表１に示す樹脂基材に、表１に示すようにプライマー層、ハードコート層、機能膜（透明導電層）、反射防止層、防汚層をその順に形成して、防汚膜被覆樹脂物品を製造し、実施例１と同様に各種性能を測定し、その結果を表１に示す。
なお、実施例２でのハードコート層２の形成において使用したハードコート液２に代えて、ハードコート液２にさらにホウ素系帯電防止剤「ハイボロンＫＢ２１２」（有効成分１０％、ボロンインターナショナル製）３０ｇを添加して得た帯電防止ハードコート液を使用した他は実施例２と同様にして防汚膜被覆樹脂物品を製造した。帯電防止性能は、１０11〜１０12Ω/□を示した。その他の性能は、帯電防止を付与しない実施例２とほぼ同じ性能を示した。
また実施例５での反射防止層４の形成において使用した低反射層液に代えて、この低反射層液の調製で添加した「ペインタッド１９」４ｇに代えて界面活性剤「ＦＺ−２１０５」（日本ユニカー製）５ｇを添加した反射防止（帯電防止）液を使用した他は実施例５と同様にして防汚膜被覆樹脂物品を製造し。帯電防止性能は、１０12〜１０13Ω/□を示した。その他の性能は、帯電防止を付与しない実施例５とほぼ同じ性能を示した。
また実施例５での反射防止層４の形成において使用した低反射層液に代えて、この低反射層液の調製で添加した「ペインタッド１９」４ｇに代えて界面活性剤「ＦＺ−２１０５」（日本ユニカー製）５ｇを添加した反射防止（帯電防止）液を使用した他は実施例５と同様にして防汚膜被覆樹脂物品を製造し。帯電防止性能は、１０12〜１０13Ω/□を示した。その他の性能は、帯電防止を付与しない実施例５とほぼ同じ性能を示した。
［比較例１］
実施例２において形成した防汚層１に代えて、パーフルオロ基を含有した〔ＲｆＳｉ（ＯＥｔ）3 ：Ｒｆはパーフルオロ基、Ｅｔはエチル基〕で示されるシリコン系材料０．２重量％およびパーフルオロ基を含有した〔（Ｈ2 ＲｆＰＯ4 ）：Ｒｆはパーフルオロ基〕で示されるリン酸エステル７．０重量％を含有するアルコール溶液からなる塗布液を塗布し、６６℃で乾燥して防汚層を形成した他は実施例２と同様にして防汚膜被覆樹脂物品を製造し、実施例２と同様に各種性能を測定し、その結果を表１に示す。
実施例２において形成した防汚層１に代えて、パーフルオロ基を含有した〔ＲｆＳｉ（ＯＥｔ）3 ：Ｒｆはパーフルオロ基、Ｅｔはエチル基〕で示されるシリコン系材料０．２重量％およびパーフルオロ基を含有した〔（Ｈ2 ＲｆＰＯ4 ）：Ｒｆはパーフルオロ基〕で示されるリン酸エステル７．０重量％を含有するアルコール溶液からなる塗布液を塗布し、６６℃で乾燥して防汚層を形成した他は実施例２と同様にして防汚膜被覆樹脂物品を製造し、実施例２と同様に各種性能を測定し、その結果を表１に示す。
［比較例２］
実施例８において形成したハードコート層２に代えて、ハードコート層を形成させずに、表面を予め酸素を含むプラズマで処理して親水性化した樹脂基材を使用した他は実施例８と同様にして防汚膜被覆樹脂物品を製造し、実施例８と同様に各種性能を測定し、その結果を表１に示す。
実施例８において形成したハードコート層２に代えて、ハードコート層を形成させずに、表面を予め酸素を含むプラズマで処理して親水性化した樹脂基材を使用した他は実施例８と同様にして防汚膜被覆樹脂物品を製造し、実施例８と同様に各種性能を測定し、その結果を表１に示す。
Claims (10)
- 透明樹脂基材の表面に設けた、少なくとも表面がシリカ質の樹脂または無機化合物の下地層の上に、ケイ素アルコキシド、フルオロアルキル基含有シラン化合物および酸を含有する塗布液を塗布し、乾燥して防汚層を形成する防汚膜被覆樹脂物品の製造方法。
- 前記塗布液は、クロロシリル基含有化合物とフルオロアルキル基含有シラン化合物を、アルコールおよび／または水を含む溶媒に溶解し、前記クロロシリル基含有化合物のクロロ基をアルコキシル基または水酸基に置換したものである請求項１記載の製造方法。
- 前記塗布液は、テトラアルコキシシランもしくはその重合体またはそれらの加水分解物、フルオロアルキル基含有シラン化合物および酸をアルコール溶媒に溶解したものである請求項１記載の製造方法。
- 前記無機化合物の下地層は最表層がシリカである反射防止膜である請求項１記載の製造方法。
- 前記無機化合物の下地層はシリカ微粒子からなる反射防止膜である請求項１記載の製造方法。
- 前記樹脂の下地層はコロイダルシリカを含有するハードコート膜である請求項１記載の製造方法。
- 前記樹脂の下地層はケイ素樹脂からなるハードコート膜である請求項１記載の製造方法。
- 前記透明樹脂基材と前記下地層の間にプライマー層を設ける請求項１記載の製造方法。
- 前記透明樹脂基材と前記反射防止膜の間にハードコート層を設ける請求項４または５に記載の製造方法。
- 前記ハードコート層と前記反射防止膜の間に透明導電膜を設ける請求項９記載の製造方法。
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