TWI770133B - 撥液性組成物、撥液性片及該等之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種撥液性組成物、具有由該撥液性組成物所形成的撥液層之撥液性片及該等之製造方法，該撥液性組成物係含有：具有特定構造之4官能矽烷系化合物[成分(A)]及具有特定構造之3官能矽烷系化合物[成分(B)]、以及金屬觸媒[成分(C)]，且滿足式(I)：12≦x≦64[式(I)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]。

Description

撥液性組成物、撥液性片及該等之製造方法
本發明係關於撥液性組成物、撥液性片及該等之製造方法。
一般而言，期望於建築用窗玻璃、汽車用窗玻璃、車輛、飛機、船舶等之防風玻璃、水槽、船底窗、船底之防止海中生物附著用薄膜、隔音牆等之道路用面版、設置於浴室等的鏡、玻璃容器、玻璃裝飾品等之成形品的表面無附著水滴、傷痕、髒污等之妨礙視線者。 　　對於如此之成形品的表面，進行藉由以由撥液性物質所構成的皮膜被覆，或是藉由貼附撥液性片，而賦予撥水性、撥油性、滑液性等之撥液性。 　　例如，於專利文獻1中係揭示一種撥水膜被覆物品，其係藉由具有由無機化合物所形成的底層、與被覆該底層的表面，且由含氟化合物所形成的撥水膜之層合體，來被覆玻璃等之基材。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2010-285574號公報
[發明所欲解決之課題]
然而，專利文獻1記載的撥水性被覆物品，由於具有由含氟化合物所形成的撥水膜，因此就環境保護的觀點而言較不佳。 　　又，對於撥液性片所具有的撥液層亦要求層之面狀態或硬化性良好。 　　本發明係以提供硬化性及面狀態良好，且撥液性優異的撥液性組成物，以及具有由該撥液性組成物所形成之撥液層的撥液性片作為目的。 [用以解決課題之手段]
本發明者們發現以特定的含量比含有具有特定構造之4官能矽烷系化合物及具有特定構造之3官能矽烷系化合物，且進一步含有金屬觸媒的撥液性組成物係可解決前述課題，因而完成本發明。 　　亦即，本發明係提供下述[1]~[13]。 　　[1]一種撥液性組成物，其含有下述成分(A)~(C)，且滿足下述式(I)， 　　成分(A)：下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物
Figure 02_image001
[通式(a)中，R1 表示碳數1~6的烷基，X1 表示鹵素原子，存在複數個R1 及X1 的情形時，複數個R1 及X1 可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]， 　　成分(B)：下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物
Figure 02_image003
[通式(b)中，R2 表示碳數12~22的烷基，該烷基可具有取代基，R3 表示甲基，X2 表示鹵素原子，存在複數個X2 的情形時，複數個X2 可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]， 　　成分(C)：金屬觸媒，
Figure 02_image005
[x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]。 　　[2]如前述[1]之撥液性組成物，其中成分(C)為選自由鈦系觸媒、鋯系觸媒、鈀系觸媒、錫系觸媒、鋁系觸媒及鋅系觸媒所成群組中的至少1種。 　　[3]如前述[1]或[2]之撥液性組成物，其中相對於成分(A)及成分(B)之合計100莫耳%，成分(C)之含量為0.010莫耳%以上、50.000莫耳%以下。 　　[4]如前述[1]~[3]中任一項之撥液性組成物，其進而包含作為成分(D)之酸觸媒，相對於成分(A)及成分(B)之合計100莫耳%，成分(D)之含量為0.010莫耳%以上、1.000莫耳%以下。 　　[5]如前述[4]之撥液性組成物，其中成分(D)為選自由鹽酸、磷酸、乙酸、甲酸、硫酸、甲磺酸、乙二酸、對甲苯磺酸及三氟乙酸所成群組中的至少1種。 　　[6]如前述[1]~[5]中任一項之撥液性組成物，其中相對於該撥液性組成物之全量100質量%，前述撥液性組成物中之成分(A)、成分(B)及成分(C)的合計含量為50質量%以上、100質量%以下。 　　[7]如前述[1]~[6]中任一項之撥液性組成物，其進而滿足下述關係式(II)，
Figure 02_image007
[前述式中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)，y表示作為表示成分(B)之前述通式(b)中的R2 所選擇之烷基的碳數，且表示12~22之數]。 　　[8]一種撥液性片，其具有由如前述[1]~[7]中任一項之撥液性組成物所形成之撥液層。 　　[9]如前述[8]之撥液性片，其於基材上具有前述撥液層。 　　[10]如前述[8]之撥液性片，其具有以2枚剝離材夾持前述撥液層之構成。 　　[11]如[8]~[10]中任一項之撥液性片，其更具有黏著劑層。 　　[12]一種如前述[1]~[7]中任一項之撥液性組成物的製造方法，其至少具有下述步驟(i)， 　　步驟(i)：以滿足下述式(I)的方式，混合下述成分(A)~(C)的步驟； 　　成分(A)：下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物
Figure 02_image009
[通式(a)中，R1 表示碳數1~6的烷基，X1 表示鹵素原子，存在複數個R1 及X1 的情形時，複數個R1 及X1 可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]， 　　成分(B)：下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物
Figure 02_image011
[通式(b)中，R2 表示碳數12~22的烷基，該烷基可具有取代基，R3 表示甲基，X2 表示鹵素原子，存在複數個X2 的情形時，複數個X2 可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]， 　　成分(C)：金屬觸媒，
Figure 02_image013
[x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]。 　　[13]一種如前述[8]~[11]中任一項之撥液性片的製造方法，其具有下述步驟(1)及(2)， 　　步驟(1)：調配含有下述成分(A)~(C)，且滿足下述式(I)之撥液性組成物的步驟； 　　成分(A)：下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物
Figure 02_image015
[通式(a)中，R1 表示碳數1~6的烷基，X1 表示鹵素原子，存在複數個R1 及X1 的情形時，複數個R1 及X1 可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]， 　　成分(B)：下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物
Figure 02_image017
[通式(b)中，R2 表示碳數12~22的烷基，該烷基可具有取代基，R3 表示甲基，X2 表示鹵素原子，存在複數個X2 的情形時，複數個X2 可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]， 　　成分(C)：金屬觸媒，
Figure 02_image019
[x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]； 　　步驟(2)：將該撥液性組成物塗佈於基材或剝離材上，乾燥而形成撥液層之步驟。 [發明效果]
依據本發明，可提供硬化性及面狀態良好，且撥液性優異的撥液性組成物，以及具有由該撥液性組成物所形成之撥液層的撥液性片。
 [撥液性組成物]
本發明之撥液性組成物係以滿足後述之式(I)的方式包含：作為成分(A)之通式(a)表示之4官能矽烷系化合物、及作為成分(B)之通式(b)表示之3官能矽烷系化合物，進而包含作為成分(C)之金屬觸媒。
另外，本發明之撥液性組成物，較佳係進一步包含酸觸媒作為成分(D)，亦可在不損害本發明之效果的範圍內，含有成分(A)~(D)以外之其他的添加劑。
由本發明之撥液性組成物所形成的撥液層係面狀態及硬化性良好，而使撥液性，較佳為撥水性及液滑落性成為良好。
又，本發明之撥液性組成物係反應性良好，而生產性優異。
藉由撥液性組成物中之矽烷系化合物彼此之縮合反應進行，成為聚合物，而形成撥液層。本發明者們著眼於，針對藉由矽烷系化合物彼此的反應所得之聚合物的構造，使用作為具有碳數較多的烷基之3官能矽烷系化合物之成分(B)，藉此，來自成分(B)之單元中的烷基(通式(b)中之R2)的存在有助於撥液性之提昇。
另一方面，推測到，有著若來自成分(B)之單元變得密集，則因體積大的烷基之立體阻礙等，反應性會降低，撥液層之硬化性會降低，而導致面狀態惡化的傾向。
相同地，本發明者們亦著眼於，於來自成分(B)之單元之間，導入擔任間隔物的角色之來自作為4官能矽烷系化合物之成分(A)之單元。
但，於此情況中，亦可推測到，若來自成分(A)之單元增加，則推想有助於撥水性之提昇之來自成分(B)之單位會變得稀疏。進而，可推測到，有著存在於撥液層表面的羥基增加，撥液層之撥水性也會大幅降低的傾向。
因而，推想即使僅摻合成分(A)及成分(B)，通常，硬化性、面狀態、撥水性之任一者會成為犧牲，尤其，針對硬化性及面狀態與撥水性係成為代償的關係。
然而，本發明者們發現藉由滿足以下之要件，而可形成可兼具良好的硬化性及面狀態，以及優異的撥水性之撥液層。
亦即，於如滿足後述之特定之式(I)般的成分(A)及成分(B)之含量範圍內，針對來自成分(B)之單元中的長鏈烷基(通式(b)中之R2)及來自成分(B)之單元中的短鏈烷基(通式(b)中之R3)，分別選擇特定的碳數。
進而，藉由使用金屬觸媒作為成分(C)，而有效地進行成分(A)及成分(B)之縮合反應。
其結果，發現可形成展現前述各特性之撥液層，而完成本發明。
以下，針對本發明之撥液性組成物中所包含之各成分等進行說明。
＜成分(A)：通式(a)表示之4官能矽烷系化合物＞ 　　本發明之撥液性組成物係包含下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物作為成分(A)。
Figure 02_image021
[通式(a)中，R1 表示碳數1~6的烷基，X1 表示鹵素原子，存在複數個R1 及X1 的情形時，複數個R1 及X1 可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]。
作為可選擇作為R1 之烷基，可列舉例如：甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、sec-丁基、異丁基、tert-丁基、n-戊基、n-己基、新戊基、甲基戊基等。此等當中，就更提昇成分(A)之反應性的觀點而言，較佳為甲基、乙基、或n-丙基，更佳為甲基或乙基。 　　可選擇作為R1 之烷基雖亦可為直鏈或分支鏈之任一者，但較佳為直鏈。
作為可選擇作為X1 之鹵素原子，較佳為氯原子、溴原子、或碘原子，更佳為氯原子。 　　另外，前述通式(a)表示之矽烷系化合物，亦可單獨或將2種以上組合使用。 　　又，作為成分(A)，較佳係包含前述通式(a)中之p為4的矽烷系化合物。
就得到具有更良好的硬化性及撥液性之撥液層的觀點而言，相對於成分(A)及成分(B)之合計100莫耳%，撥液性組成物中之成分(A)之含量較佳為55.0莫耳%以上，更佳為65.0莫耳%以上，再更佳為75.0莫耳%以上，又再更佳為85.0莫耳%以上，又再更佳為90.0莫耳%以上，並且，較佳為99.0莫耳%以下，更佳為98.0莫耳%以下，再更佳為97.5莫耳%以下。 　　另外，該含量亦可由將各成分進行摻合時之摻合量算出。
＜成分(B)：通式(b)表示之3官能矽烷系化合物＞ 　　本發明之撥液性組成物係包含前述成分(A)，與作為成分(B)之下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物。
Figure 02_image023
[通式(b)中，R2 表示碳數12~22的烷基，該烷基可具有取代基，R3 表示甲基，X2 表示鹵素原子，存在複數個X2 的情形時，複數個X2 可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]。
通式(b)中，由於R3 為甲基，因此在以滿足後述之式(I)的方式含有成分(A)及成分(B)的情況，也可維持成分(A)與成分(B)之反應性，而可維持撥液層之良好的硬化性及面狀態。
可選擇作為R2 之烷基的碳數為12~22。 　　在以滿足後述之式(I)的方式含有成分(A)及成分(B)的情況，有著若該烷基之碳數未達12，則水滑落角會增加而撥水性降低的傾向。 　　若該烷基之碳數超過22，則成分(B)之反應性差。又，有著該烷基之碳數越增加，撥液性組成物越容易凝膠化的傾向。就如此之觀點而言，該烷基之碳數較佳為12以上20以下，更佳為12以上18以下。 　　另外，於前述可選擇作為R2 之烷基的碳數中，並不包含該烷基可具有之任意的取代基之碳數。
作為可選擇作為R2 之烷基，可列舉例如：n-十二烷基、n-十三烷基、n-十四烷基、n-十五烷基、n-十六烷基、n-十七烷基、n-十八烷基、n-十九烷基、n-二十烷基、n-二十一烷基、n-二十二烷基等。 　　另外，作為可選擇作為R2 之烷基雖亦可為直鏈或分支鏈之任一者，但就提昇成分(B)之反應性及撥液層之硬化性的觀點而言，較佳為直鏈。
可選擇作為R2 之烷基亦可具有取代基。 　　作為如此之取代基，可列舉例如：氯原子、溴原子、碘原子等之鹵素原子；羥基；硝基；胺基；氰基；硫醇基；環氧基；環氧丙氧基；(甲基)丙烯醯氧基；環形成碳數3~12(較佳為環形成碳數6~10)之環烷基；環形成碳數6~12之芳基；包含選自由氮原子、氧原子、及硫原子之雜原子的環形成原子數6~12之雜芳基；碳數1~6(較佳為碳數1~3)之烷氧基；環形成碳數6~12之芳氧基等，此等之取代基亦可進一步取代。 　　但，可選擇作為R2 之烷基，較佳係不具有取代基之烷基。
作為可選擇作為X2 之鹵素原子，可列舉與上述之通式(a)中之可選擇作為X1 之鹵素原子相同者。 　　另外，前述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物，亦可單獨或將2種以上組合使用。 　　又，作為成分(B)，較佳係包含前述通式(b)中之q為3的3官能矽烷系化合物。
就提昇撥液層之撥液性的觀點而言，相對於成分(A)及成分(B)之合計100莫耳%，撥液性組成物中之成分(B)之含量較佳為1.0莫耳%以上，更佳為2.0莫耳%以上，再更佳為2.5莫耳%以上。又，就提昇撥液層之面狀態及硬化性的觀點而言，該含量較佳為45.0莫耳%以下，更佳為35.0莫耳%以下，再更佳為25.0莫耳%以下，又再更佳為15.0莫耳%以下，又再更佳為10.0莫耳%以下。另外，該含量亦可由將各成分進行摻合時之摻合量算出。
(針對關係式(I)) 　　前述撥液性組成物係於前述成分(A)及成分(B)之關係中，滿足下述之關係式(I)之撥液性組成物。
Figure 02_image025
前述式(I)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)。 　　若該x為12以上，則由撥液性組成物所形成的撥液層之硬化性、表面硬度優異。就如此之觀點而言，該x較佳為14以上，更佳為18以上，再更佳為20以上，又再更佳為24以上。 　　由於該x為64以下，因此藉由成分(B)中之R2 表示之烷基的存在，而使由撥液性組成物所形成的撥液層具有更良好的撥水性。就如此之觀點而言，該x較佳為54以下，更佳為48以下，再更佳為40以下，又再更佳為36以下。 　　另外，該莫耳比亦可由將各成分進行摻合時之摻合量算出。
(針對關係式(II)) 　　前述撥液性組成物，較佳係於前述成分(A)及成分(B)之關係中，進一步滿足下述之關係式(II)之撥液性組成物。
Figure 02_image027
前述式(II)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)，y表示作為表示成分(B)之前述通式(b)中的R2 所選擇之烷基的碳數，且表示12~22之數。
x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)。 　　如上述般，於由本發明之撥液性組成物形成撥液層的過程中，藉由該撥液性組成物中之各矽烷系化合物彼此之縮合反應，而成為聚合物。該聚合物係具有於來自成分(B)之單元之間，導入擔任間隔物的角色之來自成分(A)之單元的構造。因此，前述x之值越大，作為間隔物之成分(A)之摻合量越多，故，可推想來自成分(B)之單元之間的平均距離會變大。 　　也就是說，x之值係成為表示來自成分(B)之單元間之距離的指標。
又，y表示作為表示成分(B)之前述通式(b)中之R2 所選擇之烷基的碳數，且表示12~22之數。順帶一提，如上述般，在作為R2 所選擇之烷基為具有上述之取代基的情況，於y中並不包含該取代基之碳數。 　　y為12~22之數，如上述般，較佳為12~20之數，更佳為12~18之數。 　　另外，在成分(B)為由2種以上之前述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物所構成的情況，前述y之值係成為各化合物所具有之前述烷基的碳數之加權平均。 　　在此，變數「2y+1」，一般而言表示成分(B)所具有之構成烷基的碳原子之與氫原子或取代基之鍵結數，但，於本發明中係表示該烷基之大小(烷基之鏈長)的指標。
＜成分(C)：金屬觸媒＞ 　　本發明之撥液性組成物包含前述成分(A)及成分(B)，且進而包含作為成分(C)之金屬觸媒。在不含該金屬觸媒的情況，無法有效地促進成分(A)及成分(B)之縮合反應，而無法充分提昇由撥液性組成物所形成的撥液層之硬化性。 　　又，在不含成分(C)之撥液性組成物的情況，於較低溫下(130℃以下)情形時，無法充分地進行硬化反應。因此，例如，在想要於氯乙烯樹脂等之耐熱性為低的基材上形成由該撥液性組成物所形成之撥液層的情況，若想要在可抑制基材之熱收縮般的低溫下形成撥液層，則有撥液層之硬化性成為不充分之虞。相反地，在為了使硬化反應充分地進行，而想要在較高溫下(超過130℃)使其硬化的情況，則有導致基材產生熱收縮之虞。
作為該金屬觸媒較佳係選自由鈦系觸媒、鋯系觸媒、鈀系觸媒、錫系觸媒、鋁系觸媒及鋅系觸媒所成群組中的至少1種。
作為該金屬觸媒，較佳係無須光照射以展現觸媒作用的金屬觸媒。 　　另外，於本說明書中，該「無須光照射以展現觸媒作用的金屬觸媒」係指無須光照射以展現對於與前述成分(A)及成分(B)之縮合反應的觸媒作用的金屬觸媒。例如，氧化鈦(TiO2 )或氧化鋅(ZnO)等之藉由光照射而生成電子與電洞而產生氧化反應及還原反應之為了展現觸媒作用而必須光照射之一般被稱為光觸媒者係排除。 　　另外，在撥液層為含有前述「無須光照射以展現觸媒作用的金屬觸媒」的情況時，可避免有在使用光觸媒的情況時產生之疑慮的問題。該有在使用光觸媒的情況時產生之疑虞的問題，可列舉例如：起因於光觸媒本身為固形物，而撥液層之表面粗度變大所導致之撥水性的降低，或光觸媒之親水賦予效果導致之撥水性的降低，以及促進矽烷化合物之聚合物的水解導致之撥液層之耐久性的降低之問題。
作為前述鈦系觸媒，較佳係含有鈦原子之光觸媒以外的化合物，可列舉例如：鈦烷氧化物、鈦螯合物、鈦醯化物等，亦可為鈦之氫氧化物、乙酸鹽、碳酸鹽、硫酸鹽、硝酸鹽或氯化物等。 　　作為鈦烷氧化物，可列舉例如：四異丙氧化鈦、四正丁氧化鈦、丁氧化鈦二聚物、四-2-乙基己氧化鈦等。 　　作為鈦螯合物，可列舉例如：二異丙氧基雙(乙醯丙酮酸)鈦、四乙醯丙酮酸鈦等之乙醯丙酮酸鈦；二異丙氧基雙(乙基乙醯乙酸)鈦等之乙基乙醯乙酸鈦；二異丙氧基鈦雙(三乙醇胺化物)等之鈦三乙醇胺化物；四辛甘醇酸鈦、二辛氧基雙(辛甘醇酸)鈦、二-2-乙基己氧基鈦雙(2-乙基-3-羥基六氧化物)等之辛甘醇酸鈦；乳酸鈦、乳酸鈦銨鹽等。 　　作為鈦醯化物，可列舉例如：聚羥基硬脂酸鈦等。
作為前述鋯系觸媒，較佳係含有鋯原子之光觸媒以外的化合物，可列舉例如：鋯烷氧化物、鋯螯合物、鋯醯化物等，亦可為鋯之氫氧化物、乙酸鹽、碳酸鹽、硫酸鹽、硝酸鹽、或氯化物等。 　　作為鋯烷氧化物，可列舉例如：四正丙氧化鋯、四正丁氧化鋯等。 　　作為鋯螯合物，可列舉例如：三丁氧基單乙醯基丙酮酸鋯、四乙醯丙酮酸鋯等之乙醯丙酮酸鋯；二丁氧基雙(乙基乙醯乙酸)鋯等之乙基乙醯乙酸鋯；氯化鋯化合物、乳酸鋯銨鹽等。 　　作為鋯醯化物，可列舉例如：辛酸鋯化合物、硬脂酸鋯等。
作為前述鈀系觸媒，較佳係含有鈀原子之光觸媒以外的化合物，可列舉例如：鈀、氯化鈀、氫氧化鈀、鈀碳觸媒(Pd/C)等。
作為前述錫系觸媒，較佳係含有錫原子之光觸媒以外的化合物，可列舉例如：辛酸亞錫、二乙酸二丁基錫、二月桂酸二丁基錫、二丁基錫硫醇、二硫代羧酸二丁基錫、二馬來酸二丁基錫、二辛基錫硫醇、硫代羧酸二辛基錫等之有機錫化合物、或無機錫化合物。
作為前述鋁系觸媒較佳係含有鋁原子之光觸媒以外的化合物，可列舉例如：鋁之乙醯乙酸酯錯合物、或鋁之乙醯丙酮酸酯錯合物。 　　作為鋁之乙醯乙酸酯錯合物，可列舉例如：二異丙氧基鋁單油基乙醯乙酸酯、單異丙氧基鋁雙油基乙醯乙酸酯、單異丙氧基鋁單油酸酯單乙基乙醯乙酸酯、二異丙氧基鋁單月桂基乙醯乙酸酯、二異丙氧基鋁單硬脂基乙醯乙酸酯、二異丙氧基鋁單異硬脂基乙醯乙酸酯、單異丙氧基鋁單-N-月桂醯基-β-鋁氫化物單月桂基乙醯乙酸酯、鋁參乙醯丙酮酸酯等。 　　作為鋁之乙醯丙酮酸酯錯合物，可列舉例如：單乙醯丙酮酸鋁雙(異丁基乙醯乙酸酯)螯合物、單乙醯丙酮酸鋁雙(2-乙基己基乙醯乙酸酯)螯合物、單乙醯丙酮酸鋁雙(十二烷基乙醯乙酸酯)螯合物、單乙醯丙酮酸鋁雙(油基乙醯乙酸酯)螯合物等。
作為前述鋅系觸媒，較佳係含有鋅原子之光觸媒以外的化合物，可列舉例如：鋅-鉻氧化物、鋅-鋁氧化物、鋅-鋁-鉻氧化物、鋅-鉻-錳氧化物、鋅-鐵氧化物、鋅-鐵-鋁氧化物等。
另外，作為前述金屬觸媒，亦可單獨或將2種以上組合使用。 　　又，就有效地促進矽烷系化合物彼此之縮合反應，提昇由撥液性組成物所形成的撥液層之硬化性的觀點，以及作為即使在較低溫下(130℃以下)亦可進行硬化反應之防污性組成物的觀點而言，較佳係至少含有前述鈦系觸媒。 　　作為該鈦系觸媒，較佳為鈦螯合物，更佳為乙基乙醯乙酸鈦、乙醯丙酮酸鈦或辛甘醇酸鈦，再更佳為乙基乙醯乙酸鈦，又再更佳為二異丙氧基雙(乙基乙醯乙酸)鈦。
就提昇由撥液性組成物所形成的撥液層之硬化性的觀點，以及作為即使在較低溫下(130℃以下)亦可進行硬化反應之撥液性組成物的觀點而言，相對於成分(A)及成分(B)之合計100莫耳%，前述撥液性組成物中之成分(C)之含量較佳為0.010莫耳%以上，更佳為0.100莫耳%以上，再更佳為0.150莫耳%以上，又再更佳為0.300莫耳%以上，又再更佳為0.500莫耳%以上，又再更佳為1.000莫耳%以上。並且，該含量較佳為50.000莫耳%以下，更佳為30.000莫耳%以下，再更佳為20.000莫耳%以下，又再更佳為10.000莫耳%以下，又再更佳為6.000莫耳%以下，又再更佳為3.000莫耳%以下。 　　另外，該含量亦可由將各成分進行摻合時之摻合量算出。
＜成分(D)：酸觸媒＞ 　　本發明之撥液性組成物，就更提昇由撥液性組成物所形成的撥液層之硬化性的觀點而言，較佳係進一步包含酸觸媒作為成分(D)。 　　藉由於撥液性組成物中含有酸觸媒，而可促進成分(A)及成分(B)所具有之反應性官能基的水解。其結果，更加促進矽烷系化合物彼此之縮合反應，而可形成硬化性優異的撥液層。 　　作為前述酸觸媒，只要具有促進成分(A)及成分(B)之反應性官能基的水解之作用的成分則無特別限制。例如，就更加提昇由撥液性組成物所形成的撥液層之硬化性的觀點而言，較佳係包含選自由鹽酸、磷酸、乙酸、甲酸、硫酸、甲磺酸、乙二酸、對甲苯磺酸及三氟乙酸所成群組中的至少1種以上，更佳係包含鹽酸。 　　另外，作為前述酸觸媒，亦可單獨或將2種以上組合使用。
就更提昇由撥液性組成物所形成的撥液層之硬化性的觀點而言，相對於成分(A)及成分(B)之合計100莫耳%，撥液性組成物中之成分(D)之含量較佳為0.010莫耳%以上，更佳為0.030莫耳%以上，再更佳為0.050莫耳%以上，又再更佳為0.060莫耳%以上。並且，該含量較佳為1.000莫耳%以下，更佳為0.500莫耳%以下，再更佳為0.100莫耳%以下，又再更佳為0075莫耳%以下。 　　另外，該含量亦可由將各成分進行摻合時之摻合量算出。
＜其他添加劑＞ 　　於撥液性組成物中，除了成分(A)~成分(D)以外，亦可在不損害本發明之效果的範圍內，含有其他添加劑。 　　作為其他添加劑，可列舉例如：成分(B)以外之3官能矽烷系化合物、樹脂成分、硬化劑、抗老化劑、光安定劑、難燃劑、導電劑、抗靜電劑、可塑劑等。 　　相對於撥液性組成物之全量，此等添加劑之各別的含量較佳為0~20質量%，更佳為0~10質量%，再更佳為0~5質量%，又再更佳為0~2質量%。
作為成分(B)以外之3官能矽烷系化合物，可列舉例如下述通式(e)表示之(E)3官能矽烷系化合物。
Figure 02_image029
通式(e)中，R4 表示甲基。R5 表示碳數1~6之烷基，X3 表示鹵素原子。存在複數個R5 及X3 的情形時，複數個R5 及X3 可為相同，亦可為不同。r表示0~3之整數。 　　R5 、及X3 係各自獨立，且可列舉與前述之通式(a)中之R1 及X1 相同者，其適宜之樣態亦相同。 　　作為成分(E)，可列舉例如：甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷等。 　　在本發明中使用的組成物為含有成分(E)作為其他添加劑的情況，無關於前述之其他添加劑的含量範圍，相對於成分(B)及成分(E)之合計100莫耳%，組成物中之成分(E)之含量較佳為0.50莫耳%以上，更佳為0.80莫耳%以上，再更佳為1.00莫耳%以上，並且，較佳為30.00莫耳%以下，更佳為20.00莫耳%以下，再更佳為15.00莫耳%以下，又再更佳為10.00莫耳%以下。另外，該含量亦可由將各成分進行摻合時之摻合量算出。 　　作為樹脂成分並無特別限制，例如，作為黏結劑，可列舉：纖維素衍生物樹脂、丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、乙烯系樹脂等，成分(E)之縮合物等亦包含於樹脂成分中。
相對於該撥液性組成物中之全有效成分100質量%，撥液性組成物中之成分(A)、成分(B)及成分(C)之合計含量較佳為50質量%以上，更佳為65質量%以上，再更佳為80質量%以上，又再更佳為90質量%以上，又再更佳為95質量%以上，又再更佳為99質量%以上，並且，較佳為100質量%以下。 　　另外，該含量亦可由將各成分進行摻合時之摻合量算出。 　　另外，於本發明中，撥液性組成物中之有效成分係指於該撥液性組成物中所包含之成分中，排除不直接參與反應的溶媒(水或有機溶媒)之液體成分，及常溫下為固形的成分。
又，在使用成分(D)的情況，相對於該撥液性組成物中之全有效成分100質量%，撥液性組成物中之成分(A)、成分(B)、成分(C)及成分(D)之合計含量較佳為50質量%以上，更佳為65質量%以上，再更佳為80質量%以上，又再更佳為90質量%以上，又再更佳為95質量%以上，又再更佳為99質量%以上，並且，較佳為100質量%以下。又，該含量更佳為100質量%。 　　另外，該含量亦可由將各成分進行摻合時之摻合量算出。
＜撥液性組成物之被塗佈體＞ 　　作為塗佈本發明之撥液性組成物的對象物，只要是撥液性為必要之物則無特別限制，但，可適宜使用於玻璃、金屬、合金、半導體、橡膠、布、塑膠、陶瓷、木材、紙、纖維等，可更適宜使用於玻璃、金屬。又，亦可適宜使用於金屬氧化膜或樹脂塗敷面。 　　在將該撥液性組成物塗佈於被塗佈體的情況，較佳係溶解於有機溶媒中，作為溶液的形態，並以周知之塗佈方法進行塗佈。 　　作為該有機溶媒，可列舉例如：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、異丙醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、礦油精等。 　　作為將前述撥液性組成物塗佈於被塗佈體的方法並無特別限制，可列舉例如：旋轉塗佈法、噴塗法、棒塗法、刀塗法、輥刀塗佈法、輥塗佈法、刮刀塗佈法、浸塗法、簾塗佈法、模具塗佈法、凹版塗佈法等。
[撥液性組成物之製造方法] 　　本發明之撥液性組成物之製造方法係至少具有下述步驟(i)。 　　步驟(i)：以滿足下述式(I)的方式，混合下述成分(A)~(C)的步驟； 　　成分(A)：下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物
Figure 02_image031
[通式(a)中，R1 表示碳數1~6的烷基，X1 表示鹵素原子，存在複數個R1 及X1 的情形時，複數個R1 及X1 可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]， 　　成分(B)：下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物
Figure 02_image033
[通式(b)中，R2 表示碳數12~22的烷基，該烷基可具有取代基，R3 表示甲基，X2 表示鹵素原子，存在複數個X2 的情形時，複數個X2 可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]， 　　成分(C)：金屬觸媒，
Figure 02_image035
[式(I)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]。
成分(A)~成分(C)之摻合順序，較佳係摻合成分(A)及成分(B)之後，再摻合成分(C)。 　　又，如前述般，前述撥液性組成物亦可進一步摻合成分(D)，在摻合成分(D)的情況，較佳係摻合成分(A)及成分(B)之後，摻合成分(D)，然後，再摻合成分(C)。或是，亦可對於成分(A)及成分(B)分別預先摻合成分(D)，將該等混合之後，再摻合成分(C)。 　　成分(A)、成分(B)、成分(C)及因應需要而摻合的成分(D)之摻合方法並無特別限制，亦可摻合將各成分以後述之有機溶媒等進行稀釋者。
[撥液性片] 　　前述撥液性組成物係可適宜使用於撥液性片。本發明之撥液性片，只要具有由上述之本發明之撥液性組成物所形成之撥液層者，則無特別限制。 ＜撥液性片之構成＞ 　　第1圖係作為本發明之撥液性片的實施樣態之一例之具有基材的撥液性片之剖面圖。 　　作為具有基材之撥液性片，可列舉例如：如第1圖(a)所示之於基材12上具有撥液層11的撥液性片1a。 　　又，亦可作為如第1圖(b)所示之於基材12之與具有撥液層11之面相反側之面上進一步設置黏著劑層13及剝離材14的撥液性片1b。 　　另外，亦可於此撥液性片1a、1b之撥液層11上，為了保護保存時之撥液層，而進一步設置剝離材。
第2圖係作為本發明之撥液性片的實施樣態之一例之不具有基材的撥液性片之剖面圖。 　　作為不具有基材之撥液性片，可列舉例如：如第2圖(a)所示之具有以2枚剝離材14、14’夾持撥液層11的構成的撥液性片2a。 　　又，亦可作為如第2圖(b)所示之於如第2圖(a)所示之構成中，進一步於撥液層11與剝離材14’之間設置黏著劑層13的撥液性片2b。
＜撥液層＞ 　　本發明之撥液性片所具有之撥液層係由上述之本發明之撥液性組成物所形成。 　　作為該撥液層之厚度，較佳為0.001μm以上，更佳為0.005μm以上，再更佳為0.01μm以上，又再更佳為0.05μm以上，又再更佳為0.10μm以上。又，該厚度，較佳為40μm以下，更佳為25μm以下，再更佳為15μm以下，又再更佳為5.0μm以下，又再更佳為1.0μm以下，又再更佳為0.80μm以下。
又，前述撥液層之水接觸角，較佳為70°以上，更佳為80°以上，再更佳為95°以上，又再更佳為100°以上。又，該水接觸角，較佳為179°以下，更佳為170°以下，再更佳為160°以下。 　　又，前述撥液層之水滑落角，較佳為25°以下，更佳為20°以下，再更佳為15°以下。又，該水滑落角，較佳為0.001°以上，更佳為0.002°以上。 　　另外，前述厚度、水接觸角及水滑落角可分別藉由後述之實施例中記載的方法來測定。
＜基材＞ 　　作為本發明之撥液性片之一樣態中使用的基材，可列舉例如：紙基材、樹脂薄膜、樹脂薄片、將紙基材以樹脂進行疊層的基材、玻璃薄片、金屬箔、金屬薄片、及多孔質基材等，可因應於撥液性片的用途而適當選擇。 　　作為構成紙基材的紙，可列舉例如：薄紙、中質紙、優質紙、含浸紙、塗料紙、銅版紙、硫酸紙、玻璃紙等。 　　作為構成樹脂薄膜或樹脂薄片的樹脂，可列舉例如：聚乙烯、聚丙烯等之聚烯烴系樹脂；聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物等、乙烯-甲基丙烯酸共聚物之乙烯系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等之聚酯系樹脂；聚苯乙烯；丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物；三乙酸纖維素；聚碳酸酯；聚胺基甲酸酯、丙烯酸變性聚胺基甲酸酯等之胺基甲酸酯系樹脂等。
作為將紙基材以樹脂進行疊層的基材，可列舉：將前述紙基材以聚乙烯等之熱塑性樹脂進行疊層的層壓紙等。 　　此等之基材當中，較佳係樹脂薄膜或樹脂薄片，更佳係由聚酯系樹脂所構成之樹脂薄膜或樹脂薄片，再更佳係由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)所構成之樹脂薄膜或樹脂薄片。 　　作為金屬箔或金屬薄片並無特別限制，可列舉例如：由鋁、鎳、不鏽鋼、銅、鈦、或是鎢等之各種金屬所構成之金屬箔或金屬薄片。 　　作為多孔質基材，只要具有多數個孔的基材即可，可列舉例如：選自由纖維薄片、多孔質薄膜、多孔質薄片、多孔質纖維、多孔質管、粒狀體、及發泡體所成群組中的至少1種。此等當中，較佳係選自由纖維薄片、多孔質薄膜及多孔質薄片所成群組中的至少1種，更佳係纖維薄片。 　　作為該纖維薄片，可列舉例如：織布、不織布、針織等之各種纖維薄片，較佳係含有選自由有機纖維及無機纖維所成群組中的至少1種之纖維薄片，更佳係含有選自由合成纖維及玻璃纖維所成群組中的至少1種之纖維薄片，再更佳係至少含有玻璃纖維之玻璃纖維薄片。
作為該有機纖維，可列舉例如：聚乙烯、聚丙烯等之聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚乳酸等之聚酯系樹脂；耐隆6、耐隆66等之脂肪族聚醯胺；對系或間系醯胺等之全芳香族聚醯胺；聚乙烯醇(PVA)；前述之由樹脂所紡絲的前述合成纖維、以及NBKP、LBKP、馬尼拉麻漿(abaca pulp)等之各種天然紙漿。 　　作為該無機纖維，可列舉例如：玻璃纖維；由氧化鋁、氧化鋁-二氧化矽、氧化鋯等之陶瓷原料所構成之陶瓷纖維；由鐵、銅、鋁、不鏽鋼等所構成之金屬纖維。 　　又，在前述玻璃纖維薄片為含有玻璃纖維與合成纖維的情況，合成纖維較佳為PVA纖維。
作為本發明之撥液性薄片之一樣態中使用的基材，就提昇與撥液層或後述之耐候層之密著性的觀點而言，亦可使用於上述之基材的表面上設置底塗層的附底塗層之基材。 　　作為構成底塗層的成分，可列舉例如：聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂等，此等之樹脂亦可單獨或將2種以上組合使用。 　　又，作為本發明之撥液性薄片之一樣態中使用的基材，亦可使用於上述之基材的表面上或附底塗層之基材的表面上，進一步設置由高分子紫外線吸收劑所構成之耐候層的附耐候層之基材(亦可於耐候層與基材之間具有底塗層)。作為該高分子紫外線吸收劑係具有於聚合物構造內共價鍵結有紫外線吸收骨架的構造者，較佳係重量平均分子量為5,000以上者，更佳為10,000以上。
又，在本發明之撥液性片之一樣態中使用的基材為樹脂薄膜或樹脂薄片的情況，就提昇與撥液層之密著性的觀點而言，亦可因應需要而對於此等樹脂薄膜或樹脂薄片的表面，施行氧化法或凹凸化法等之表面處理。 　　作為氧化法並無特別限定，可列舉例如：電暈放電處理法、電漿處理法、鉻酸氧化(濕式)、火焰處理、熱風處理、臭氧/紫外線照射處理等。 　　又，作為凹凸化法並無特別限定，可列舉例如：噴砂法、溶劑處理法等。 　　此等之表面處理雖因應於基材之種類來適當選定，但就與撥液層之密著性提昇的觀點，及操作性的觀點而言，較佳為電暈放電處理法。 　　又，亦可使用於前述之各種基材的表面蒸鍍有金屬的金屬蒸鍍薄膜或金屬蒸鍍薄片。作為該金屬並無特別限制，可列舉例如：鋁、鎳、鐵、銅、金、銀、鉻等之各種金屬及該等之碳化物、氧化物或氮化物等。
基材之厚度雖因應於撥液性片的用途而適當設定，但就操作性及經濟性的觀點而言，較佳為10~ 250μm，更佳為15~200μm，再更佳為20~150μm。 　　另外，於本發明使用的基材中亦可進一步含有上述之高分子紫外線吸收劑以外之紫外線吸收劑、光安定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、助滑劑、抗結塊劑、著色劑等。
＜剝離材＞ 　　作為本發明之撥液性片之一樣態中使用的剝離材，可使用經兩面剝離處理的剝離薄片、或經單面剝離處理的剝離薄片等，可列舉於剝離材用之基材上塗佈剝離劑者等。 　　作為剝離材用的基材，可列舉例如：可使用作為本發明之撥液性片之一樣態所具有的基材之紙基材、樹脂薄膜、樹脂薄片、將紙基材以樹脂進行疊層的基材等。 　　作為剝離劑，可列舉例如：聚矽氧系樹脂、烯烴系樹脂、異戊二烯系樹脂、丁二烯系樹脂等之橡膠系彈性體、長鏈烷基系樹脂、醇酸系樹脂、氟系樹脂等。 　　剝離材之厚度雖無特別限制，但較佳為10~200μm，更佳為25~150μm。 　　另外，在具有以2枚剝離材夾持前述撥液層之構成的情況，該2枚剝離材可彼此相同亦可不同。
＜黏著劑層＞ 　　在本發明之撥液性片具有黏著劑層的情況，作為構成該黏著劑層之黏著劑係可因應於撥液性片的用途而適當選擇。 　　作為具體的黏著劑，可列舉例如：丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚酯系黏著劑、藉由紫外線等之能量線而硬化的硬化型黏著劑等。 　　此等之黏著劑，亦可單獨或將2種以上組合使用。 　　黏著劑層之厚度雖無特別限制，但較佳為1~100μm，更佳為5~80μm。
[撥液性片之製造方法]
本發明之撥液性片的製造方法係具有下述步驟(1)及(2)。
步驟(1)：調配含有下述成分(A)~(C)，且滿足下述式(I)之撥液性組成物的步驟；
成分(A)：下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物Si(OR1)p(X1)4-p (a)
[通式(a)中，R1表示碳數1~6的烷基，X1表示鹵素原子，存在複數個R1及X1的情形時，複數個R1及X1可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]，
成分(B)：下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物R2Si(OR3)q(X2)3-q (b)
[通式(b)中，R2表示碳數12~22的烷基，該烷基可具有取代基，R3表示甲基，X2表示鹵素原子，存在複數個X2的情形時，複數個X2可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]，
成分(C)：金屬觸媒，式(I)：12≦x≦64
[式(I)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]。
步驟(2)：將該撥液性組成物塗佈於基材或剝離材 上，乾燥而形成撥液層的步驟
另外，在將本發明之撥液性組成物進行塗佈的情況，較佳係溶解於有機溶媒中，作為溶液的形態，並以周知之塗佈方法塗佈於基材或剝離材上。
作為該有機溶媒，可列舉例如：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、異丙醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、礦油精等。
作為塗佈方法，可列舉例如：旋轉塗佈法、噴塗法、棒塗法、刀塗法、輥刀塗佈法、輥塗佈法、刮刀塗佈法、浸塗法、簾塗佈法、模具塗佈法、凹版塗佈法等。
在形成塗膜之後，針對該塗膜之乾燥溫度及乾燥時間，並無特別限制，可適當設定。
另外，本發明之撥液性組成物係即使在130℃以下之較低溫下亦可進行硬化反應，在使用聚氯乙烯等之耐熱性低的基材的情況時，可抑制該基材之熱收縮。
因此，就如此之觀點、及生產性之觀點而言，作為該乾燥溫度，較佳為10~130℃，更佳為20~120℃，再更佳為40~110℃，又再更佳為50~95℃。
另外，亦可於所形成之撥液層上，為了保護保存時之撥液層的表面，而進一步層合剝離材。
進而，亦可藉由於基材或所形成的撥液層上貼合形成於另一剝離材上的黏著劑層，而製造如第1圖(b)之撥液性片1b或第2圖(b)之撥液性片2b般的附黏著劑層之撥液性片。
[實施例] 實施例1~6、比較例1及2 (1)撥液性組成物之調配
以表1所示之種類及摻合比(有效成分比、莫耳%)來摻合成分(A)及成分(B)，並添加乙醇進行稀釋，而得到有效成分濃度1.3M之溶液。於該溶液中以表1所示之摻合比(有效成分比、莫耳%)摻合作為成分(D)之鹽酸，並進行1分鐘攪拌。攪拌後，靜置15分鐘。
接著，以表1所示之摻合比(有效成分比、莫耳%)來摻合作為成分(C)之二異丙氧基雙(乙基乙醯乙酸)鈦，而調配撥液性組成物之溶液。
(2)撥液性片之製作
作為基材，使用於單面設置有底塗層的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(東洋紡股份有限公司製、製品名「COSMOSHINE A-4100」、厚度50μm)。於該附底塗層之基材的底塗層上，使用麥勒棒來塗佈如前述般調配的撥液性組成物之溶液而形成塗膜。
接著，將該塗膜以80℃進行2分鐘乾燥，而製作具有表1所示之厚度的撥液層之撥液性片。
在本實施例及比較例之撥液性組成物的調配時使用之表1記載的各成分之詳細內容係如以下所述。
<成分(A)：4官能矽烷系化合物>
．「TEOS」：四乙氧基矽烷、前述通式(a)中，p=4、R1=乙基(碳數：2)之4官能矽烷系化合物。
<成分(B)：3官能矽烷系化合物>
．「十二烷基三甲氧基矽烷」：前述通式(b)中之q=3、R2=n-十二烷基(碳數：12)、R3=甲基(碳數：1)之3官能矽烷系化合物。
．「十六烷基三甲氧基矽烷」：前述通式(b)中之q=3、R2=n-十六烷基(碳數：16)、R3=甲基(碳數：1)之3官能矽烷系化合物。
．「十八烷基三甲氧基矽烷」：前述通式(b)中之q=3、R3=n-十八烷基(碳數：18)、R3=甲基(碳數：1)之3官能矽烷系化合物。
<成分(B)以外之3官能矽烷系化合物>
．「十二烷基三乙氧基矽烷」：前述通式(b)中之q=3、R2=n-十二烷基(碳數：12)、R3=乙基(碳數：2)之3官能矽烷系化合物。
<成分(C)：金屬系觸媒>
．「鈦系觸媒」：Matsumoto Fine Chemical股份有限公司製、商品名「ORGATIX TC-750」、異丙氧基雙(乙基乙醯乙酸)鈦。
＜成分(D)：酸觸媒＞ 　　･「鹽酸」：0.01M鹽酸。
針對實施例及比較例所調配的撥液性組成物及由該撥液性組成物所形成之撥液層的特性，根據以下的方法進行評估。將結果顯示於表1。
＜撥液性組成物之反應性＞ 　　針對實施例及比較例所調配的撥液性組成物，根據以下的基準來評估反應性。硬化完成之判斷係以目視觀察用手指摩擦實施例及比較例所製作的撥液性片之撥液層的表面20次之後的撥液層，將與手指摩擦之前比較無變化的情況判斷為「已硬化」。 　　A：製成撥液性片(以80℃進行2分鐘乾燥)之後立即硬化。 　　B：製成撥液性片(以80℃進行2分鐘乾燥)之後雖非立即硬化，但製成後在23℃ 50%RH之條件下保管，經過1小時後硬化。 　　C：製成撥液性片(以80℃進行2分鐘乾燥)之後，在23℃ 50%RH下經過24小時後硬化。 　　D：為了製成撥液性片而進行乾燥(以80℃進行2分鐘乾燥)之後，在23℃ 50%RH下即使經過24小時亦無硬化。
＜撥液層之厚度＞ 　　撥液層之厚度係以分光橢圓偏光計(J. A. Woollam公司製、商品名「M-2000」)進行測定。 ＜撥液層之面狀態＞ 　　在實施例及比較例製作撥液性片之後，立即目視觀察撥液性片之剝液層的表面，依據以下的基準，來評估撥液層之面狀態。 　　A：透明。 　　B：確認到些許混濁。 　　C：產生混濁而變得不透明。
＜撥液層之硬化性＞ 　　以目視觀察用手指摩擦實施例及比較例所製作的撥液性片之撥液層的表面20次之後的撥液層，依據以下的基準，來評估撥液層之硬化性。 　　･A：與手指摩擦之前相比無觀察到變化。 　　･B：雖有少量變白，但為可許容的程度。 　　･C：變白。 　　･D：由撥液性組成物所構成的塗膜無硬化，而無法形成撥液層。 　　另外，針對撥液層之硬化性的評估為「C」及「D」者，由於是不能供使用者，因此未進行以下所示之各評估。
＜撥液層之水接觸角＞ 　　撥液層之水接觸角係使用協和界面科學股份有限公司製之全自動接觸角測定裝置(製品名「DM-701」)，針對各實施例及各比較例所製作之撥液性片的撥液層表面，作為對於水2μL之接觸角來進行測定。
＜撥液層之水滑落角＞ 　　將各實施例及各比較例所製作的撥液性片藉由沾水而載置於成為傾斜角0°的試料台(玻璃板)上。接著，在將純水14μL滴下於前述撥液性片的撥液層表面來形成液滴之後，使前述試料台傾斜時，將液滴之後退角移動時之試料台的傾斜角作為水滑落角。
Figure 02_image043
由表1，可確認到，實施例1~6之撥液性組成物係反應性優異。若該反應性良好，則例如，在將撥液性片進行量產時，在將撥液性片捲繞成捲狀的情況等時，可抑制未硬化狀態之撥液層轉印於撥液層薄片之剝離材背面的問題、撥液層之平滑性降低、或阻斷性降低的問題。 　　又，由實施例1~6之撥液性組成物所形成的撥液層係面狀態及硬化性良好。並且，可確認到，水接觸角為大，水滑落角為小，撥水性及水滑落性亦優異。 　　另一方面，可確認到，比較例1及2之撥液性組成物係反應性差。 　　又，由比較例1之撥液性組成物所形成的撥液層，由於表示成分(B)之前述通式(b)中的R3 表示之烷基並非甲基，因此成為面狀態及硬化性差的結果。 　　又，由比較例2之撥液性組成物所形成的撥液層，由於未使用成分(C)，因此成為面狀態及硬化性差的結果。 　　因此，具有比較例1及2之撥液層的撥液性片係判斷為無法供使用者，且關於面狀態及硬化性之評估以外的評估並未進行。 [產業上之可利用性]
本發明之撥液性組成物係反應性良好，由該撥液性組成物所形成之撥液層係面狀態及硬化性良好，而撥水性及水滑落性良好。 　　因此，具有該撥液層的本發明之撥液性片係適宜作為例如用以防止水滴、或傷痕、髒污等之妨礙視線者附著於建築用窗玻璃、汽車用窗玻璃、車輛、飛機、船舶等之防風玻璃、水槽、船底窗、船底之防止海中生物附著用薄膜、隔音牆等之道路用面版、設置於浴室等的鏡、玻璃容器、玻璃裝飾品等之成形品的表面之撥液性片。
1a、1b、2a、2b‧‧‧撥液性片11‧‧‧撥液層12‧‧‧基材13‧‧‧黏著劑層14、14’‧‧‧剝離材
[第1圖] 係作為使用本發明之撥液性組成物溶液所得之撥液性片的一例之具有基材的撥液性片之剖面圖。
[第2圖]係作為使用本發明之撥液性組成物溶液所得之撥液性片的一例之不具有基材的撥液性片之剖面圖。

Claims (13)

  1. 一種撥液性組成物，其含有下述成份(A)~(C)，且滿足下述式(I)，成分(A)：下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物Si(OR1)p(X1)4-p (a)[通式(a)中，R1表示碳數1~6的烷基，X1表示鹵素原子，存在複數個R1及X1的情形時，複數個R1及X1可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]；成分(B)：下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物R2Si(OR3)q(X2)3-q (b)[通式(b)中，R2表示n-十五烷基、n-十六烷基、n-十七烷基、n-十八烷基、n-十九烷基、n-二十烷基、n-二十一烷基或n-二十二烷基，該等烷基可具有取代基，R3表示甲基，X2表示鹵素原子，存在複數個X2的情形時，複數個X2可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]；成分(C)：金屬觸媒；式(I)：12≦x≦64[式(I)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]。
  2. 如請求項1之撥液性組成物，其中成分(C)為選自由鈦系觸媒、鋯系觸媒、鈀系觸媒、錫系觸媒、鋁系觸媒及鋅 系觸媒所成群組中的至少1種。
  3. 如請求項1或2之撥液性組成物，其中相對於成分(A)及成分(B)之合計100莫耳%，成分(C)之含量為0.010莫耳%以上、50.000莫耳%以下。
  4. 如請求項1或2之撥液性組成物，其進而包含作為成分(D)之酸觸媒，相對於成分(A)及成分(B)之合計100莫耳%，成分(D)之含量為0.010莫耳%以上、1.000莫耳%以下。
  5. 如請求項4之撥液性組成物，其中成分(D)為選自由鹽酸、磷酸、乙酸、甲酸、硫酸、甲磺酸、乙二酸、對甲苯磺酸及三氟乙酸所成群組中的至少1種。
  6. 如請求項1或2之撥液性組成物，其中相對於該撥液性組成物之全量100質量%，前述撥液性組成物中之成分(A)、成分(B)及成分(C)的合計含量為50質量%以上、100質量%以下。
  7. 如請求項1或2之撥液性組成物，其進而滿足下述關係式(II)，式(II)：x>2y+1[式(II)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫 耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)，y表示作為表示成分(B)之前述通式(b)中的R2所選擇之烷基的碳數]。
  8. 一種撥液性片，其具有由如請求項1~7中任一項之撥液性組成物所形成之撥液層。
  9. 如請求項8之撥液性片，其於基材上具有前述撥液層。
  10. 如請求項8之撥液性片，其具有以2枚剝離材夾持前述撥液層之構成。
  11. 如請求項8~10中任一項之撥液性片，其更具有黏著劑層。
  12. 一種如請求項1~7中任一項之撥液性組成物的製造方法，其至少具有下述步驟(i)，步驟(i)：以滿足下述式(I)的方式，混合下述成分(A)~(C)的步驟；成分(A)：下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物Si(OR1)p(X1)4-p (a)[通式(a)中，R1表示碳數1~6的烷基，X1表示鹵素原子，存在複數個R1及X1的情形時，複數個R1及X1可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]； 成分(B)：下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物R2Si(OR3)q(X2)3-q (b)[通式(b)中，R2表示n-十五烷基、n-十六烷基、n-十七烷基、n-十八烷基、n-十九烷基、n-二十烷基、n-二十一烷基或n-二十二烷基，該等烷基可具有取代基，R3表示甲基，X2表示鹵素原子，存在複數個X2的情形時，複數個X2可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]；成分(C)：金屬觸媒；式(I)：12≦x≦64[式(I)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]。
  13. 一種如請求項8~11中任一項之撥液性片的製造方法，其具有下述步驟(1)及(2)，步驟(1)：調配含有下述成分(A)~(C)，且滿足下述式(I)之撥液性組成物的步驟；成分(A)：下述通式(a)表示之4官能矽烷系化合物Si(OR1)p(X1)4-p (a)[通式(a)中，R1表示碳數1~6的烷基，X1表示鹵素原子，存在複數個R1及X1的情形時，複數個R1及X1可為相同，亦可為不同，p表示0~4之整數]，成分(B)：下述通式(b)表示之3官能矽烷系化合物R2Si(OR3)q(X2)3-q (b) [通式(b)中，R2表示n-十五烷基、n-十六烷基、n-十七烷基、n-十八烷基、n-十九烷基、n-二十烷基、n-二十一烷基或n-二十二烷基，該等烷基可具有取代基，R3表示甲基，X2表示鹵素原子，存在複數個X2的情形時，複數個X2可為相同，亦可為不同，q表示0~3之整數]，成分(C)：金屬觸媒，式(I)：12≦x≦64[式(I)中，x表示成分(A)之莫耳量相對於成分(B)之莫耳量的比[(A)/(B)](莫耳比)]；步驟(2)：將該撥液性組成物塗布於基材或剝離材上，乾燥而形成撥液層之步驟。
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