JP4957926B2 - 化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤 - Google Patents
化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4957926B2 JP4957926B2 JP2009029077A JP2009029077A JP4957926B2 JP 4957926 B2 JP4957926 B2 JP 4957926B2 JP 2009029077 A JP2009029077 A JP 2009029077A JP 2009029077 A JP2009029077 A JP 2009029077A JP 4957926 B2 JP4957926 B2 JP 4957926B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- hardness
- coating agent
- flexibility
- agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 197
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims description 42
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 126
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 49
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 45
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 39
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 28
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 26
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 21
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 16
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims description 16
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 14
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 claims description 12
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 11
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 7
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 7
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 7
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 3
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 119
- 239000010408 film Substances 0.000 description 109
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 17
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 17
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 15
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 10
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009408 flooring Methods 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 6
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 5
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IEWZMCGHRZDVQY-UHFFFAOYSA-N CC(C)[Ti]C(C)C Chemical compound CC(C)[Ti]C(C)C IEWZMCGHRZDVQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 238000013006 addition curing Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical group CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-] KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 241000255925 Diptera Species 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010052428 Wound Diseases 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- MPFUOCVWJGGDQN-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;1,2-xylene Chemical compound CCCCO.CC1=CC=CC=C1C MPFUOCVWJGGDQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000002801 charged material Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000010227 cup method (microbiological evaluation) Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229940047135 glycate Drugs 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010416 ion conductor Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCCIMQKMMBVWHO-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid;titanium Chemical compound [Ti].CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O MCCIMQKMMBVWHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical compound C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Floor Finish (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
一般に塗膜の厚みと硬度の関係は、塗膜が厚いほど硬度測定値は高くなり、逆に塗膜が薄いほど硬度測定値は低い数値を示す。本願発明は、粘度が3cSt(mm2/s)以下で床面に塗布してその流動性により自己平滑性が安定して得られ、3〜7μmと薄いコーティング膜であるにも係らず、硬度が8Hを超える数値が得られるため、例えば、前記各引用文献と比べても、低粘度で硬度の高いコーティング膜である。
塩ビ系タイルなどに使用する場合にはコーティング膜に可撓性を付与さなければならないが、そのためには可撓性付与剤を添加する方法と、もう一つの方法はコーティング剤の薄膜化を図ることで可とう性を付与させる方法がある。一般的に膜厚が薄いほど塩ビタイルなどの変形に追従しやすくなる傾向にある。しかしながら薄膜化を図ると硬度が犠牲となるために、これを補うべく超微粒コロイダルシリカを使用して、薄膜にて高硬度の特性を有する材料とすることが可能となる。また、石材や塩ビタイルなどに塗布する場合、既に鏡面仕上げや光沢のある塩ビタイルなどに塗布する場合が多く、そのような場合にはコーティング剤の塗膜が厚くなりすぎ、かえって鏡面度や光沢値を落としてしまうことがある。従って超薄膜で自己流動性に優れ、尚且つ高硬度のコーティング剤が必要となる。また、塩ビタイルなどに塗布した場合、塗膜が厚いコーティング膜だと硬化収縮(架橋収縮)によりタイルの反りやクラックなどが発生し易くなる。また、塩ビタイルそのものに柔軟性(可撓性)があるために、その変形にある程度、追従できるような材料設計にしなければならない。
また、前述した通り、薄膜で高硬度、自己流動性に優れた材料とするため、アルコキシシランの混合物から生成したポリオルガノシロキサンだけで塗膜を形成した場合には、3官能、4官能のアルコキシシランの組合せにより、高硬度材料のコーティング膜を作ることは可能であるが、柔軟性がないために軟らかい塩ビタイルなどの変形によりクラックが発生してしまうことがある。高硬度でありながら、ある程度柔軟性(可撓性)を付与させる材料設計にしなければならない。従って、高硬度を得るために平均粒径5〜20nmの超微粒コロイダルシリカを加え、柔軟性を付与させるために可撓性用添加剤としてシリコーンアルコキシオリゴマー及び/又は2官能アルコキシシランを加えて、尚且つ薄膜の仕様としている。分かりやすく言うならば、パチンコ玉をボンドで固めているような構造で、パチンコ玉が超微粒シリカで、隙間を埋めているボンド役がシリコーンアルコキシオリゴマー及び/又は2官能アルコキシシランと考えてよい。さらに、選ばれる3官能、4官能のアルコキシシランの組み合わせにより、低粘度化(高自己流動性)が可能となる。
また、本発明で使用しているコロイダルシリカ中のシリカ粒子は5nm〜20nm程度と超微粒であり、このような超微粒シリカ粒子の隙間をボンド役のアルコキシシランなどが埋めるような構造となっている。旧来粒子径の大きいシリカを使用すると、この隙間の割合が大きく、アルコキシシランによってコーティング膜の硬度特性が決定される。
しかしながら超微粒のシリカ粒子を使用するとこの隙間の割合が狭くなり、シリカ粒子の硬度によって高硬度化が可能となる。床用として使用する場合には圧縮荷重が主な荷重となるためにシリカの占める割合が大きくなる程、コーティング膜の高硬度化が可能となる。一般的にこのシリカはモース硬度にすると6〜7程度で石英などと同じ位の硬度を有するために、シリカ粒子の占める割合が大きくなるにつれ、本コーティング膜の硬度は上昇する傾向にある。また、超微粒コロイダルシリカは粘度が低く、この超微粒コロイダルシリカをさらに水やアルコールなどで希釈して使用すると、さらに膜厚が3〜5μmと薄いにも係らず高硬度で超薄膜のコーティング剤が得られる。
一般的に使用されるウレタン樹脂やアクリル樹脂などを主原料にしたコーティング剤や高重合体のシリコーンなどは、コーティング剤の粘度が高いためにスプレーやローラーなどで基材に塗布しなければならない。しかしながら、本発明のコーティング剤はPタイルや塩ビシートなどの床用を主な目的としているために、市販のワックス用モップなどで塗布する仕様としなければならない。したがって、一般的なコーティング剤に比べて低粘度で自己平滑性(レベリング性)に優れていることが必要不可欠となる。本発明に使用されるアルコキシシランは分子量の小さい低粘度の材料を主原料としており、尚且つ超微粒コロイダルシリカを使用しているため、粘度が3cSt(mm2/s)以下で床面に塗布した時に3〜7μmと薄膜に自己平滑するため自己平滑性(レベリング性)に優れている。
(1)流動性(粘度;cSt(mm 2 /s);粘度の測定方法JIS K5600−2−2のフローカップ法に準じて行った。
(2)指触乾燥性(時間);JIS K5400に準ずる。塩ビシート面に塗布された後、塗面の中央に指先で軽く触れて、指先が汚れない状態に塗膜が形成されるまでの乾燥時間を示した。
(3)光沢度;JIS K5400に準ずる。鏡面光沢測定装置を用い、入射角と反射角とが60度の時の反射率を測定し、鏡面光沢度の基準面の光沢度を100とした場合の百分率で示した。
(4)鉛筆強度;JIS K−5400に準ずる。試験片を水平な台の上に塗膜面を上向きにして固定して約45度の角度で鉛筆を持ち、芯が折れない程度に出来るだけ強く塗膜面に押し付けながら、試験者の前方に均一な速さで約1cm位押し出して塗膜面を引っ掻く。塗膜面の破れに生じない最も硬い鉛筆の硬度記号を示した。
(5)塗布厚;試験片の施工前後の厚みをマイクロメーターか三次元測定機にて測定した。尚、測定は塗布後、約1日経過後のものについて行った。
(6)密着性;JIS K5400記載の碁盤目法に準じ、試験片の塗面に対し1cm2中に1mm2の碁盤目を100個切り、これにセロファンテープを圧着してから剥離し、100個のうちの残存数から、JIS K5400に示す10を最良評価点数に基づき判定した。
(7)クラックの有無;塩ビタイルに塗布後、常温25℃で約1週間放置して塩ビタイルの表面にクラックの発生があるかどうかを観察する。
Claims (3)
- コーティング剤全体の組成に対し、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランから選ばれる少なくとも1種以上の4官能アルコキシシランと、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシシランから選ばれる少なくとも1種以上の3官能アルコキシシランとの混合物を10〜45wt%と、平均径5〜20nmの超微粒コロイダルシリカ10〜50wt%と、化学床用として可撓性を付与させるためにシリコーンアルコキシオリゴマー及び/又は2官能のアルコキシシランを2〜20wt%と、前記超微粒コロイダルシリカとアルコキシシランとの結合剤として官能基がビニル基、エポキシ基、アミノ基の何れかを使用したシランカップリング剤0.5〜2.0wt%と、前記アルコキシシランの加水分解によって生成されるシラノールの縮合反応を促進させる触媒としてリン酸系触媒又はチタン系触媒を0.5〜5wt%とを配合してなる化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤。
- 前記コーティング剤の静電気特性を改善するためにイオン伝導剤、超微粒子の導電性酸化錫粉末、導電性酸化インジウム粉末及びそれを分散した 塗料から選ばれる少なくとも1種以上を0.1wt%〜5.0wt%添加した請求項1に記載の化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤。
- 粘度が3cSt(mm 2 /s)以下の請求項1又は2いずれかに記載の化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009029077A JP4957926B2 (ja) | 2009-01-16 | 2009-01-16 | 化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009029077A JP4957926B2 (ja) | 2009-01-16 | 2009-01-16 | 化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010163584A JP2010163584A (ja) | 2010-07-29 |
JP4957926B2 true JP4957926B2 (ja) | 2012-06-20 |
Family
ID=42580004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009029077A Active JP4957926B2 (ja) | 2009-01-16 | 2009-01-16 | 化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4957926B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014129081A1 (ja) * | 2013-02-20 | 2014-08-28 | 株式会社九州ハイテック | 積層型無機系保護コーティング塩化ビニル系タイル及びそのコーティング方法 |
WO2016175208A1 (ja) * | 2015-04-30 | 2016-11-03 | リンテック株式会社 | 防汚性組成物、防汚性シート、及び防汚性シートの製造方法 |
EP3093279A1 (en) | 2015-05-11 | 2016-11-16 | Kyushu Hightec Corporation | Maintenance-free stone tile, coating agent therefor, and method for producing the tile |
WO2017057402A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | リンテック株式会社 | 防汚性シートの製造方法 |
WO2017057403A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | リンテック株式会社 | 防汚性シートの製造方法 |
US10858538B2 (en) | 2015-10-05 | 2020-12-08 | Kyushu Hightec Corporation | Flame-retardant chemical floor material and aqueous protective coating agent therefor |
EP4206272A1 (en) | 2021-12-28 | 2023-07-05 | Kyushu High Tech. Co., Ltd | Inorganic glass coating agent |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9206335B2 (en) | 2008-10-10 | 2015-12-08 | 3M Innovation Properties Company | Silica coating for enhanced hydrophilicity |
WO2010143645A1 (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-16 | 石原産業株式会社 | 常温硬化性近赤外線遮蔽コーティング剤及びそれを用いた近赤外線遮蔽膜並びにその製造方法 |
CN101857772B (zh) * | 2010-06-22 | 2012-09-12 | 北京红狮漆业有限公司 | 抗划伤纳米水性陶瓷无机-有机聚合物涂料及其应用 |
JP5876247B2 (ja) * | 2011-08-08 | 2016-03-02 | 日東電工株式会社 | 無機酸化物粒子含有シリコーン樹脂シート |
WO2013145616A1 (ja) | 2012-03-29 | 2013-10-03 | キヤノン株式会社 | 電子写真用部材の製造方法及びコーティング液 |
JP6080072B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2017-02-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 金属塗装用コーティング剤組成物 |
JP6080071B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2017-02-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 金属塗装用コーティング剤組成物 |
KR102265903B1 (ko) * | 2014-02-26 | 2021-06-16 | 엘지전자 주식회사 | 가시광선용 광촉매를 포함하는 코팅용 조성물 및 이를 포함한 제품 |
JP6348737B2 (ja) * | 2014-03-14 | 2018-06-27 | シーバイエス株式会社 | 床用コーティング剤組成物およびそれを用いた床構造体 |
WO2016047568A1 (ja) * | 2014-09-22 | 2016-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 抗菌シート、抗菌コート、積層体、抗菌液 |
KR102632023B1 (ko) * | 2015-07-16 | 2024-01-31 | 린텍 가부시키가이샤 | 방오성 조성물, 방오성 시트 및 방오성 시트의 제조 방법 |
JP6645094B2 (ja) * | 2015-09-28 | 2020-02-12 | リンテック株式会社 | 防汚性シートの製造方法 |
KR102479607B1 (ko) * | 2016-06-29 | 2022-12-20 | 린텍 가부시키가이샤 | 방오성 조성물 용액, 및 그 제조 방법 |
JP6393016B1 (ja) * | 2017-02-16 | 2018-09-19 | 関西ペイント株式会社 | コーティング組成物及び表面保護被膜形成方法 |
JP6389582B1 (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-12 | リンテック株式会社 | 撥液性組成物、撥液性シート及びそれらの製造方法 |
US20200377760A1 (en) * | 2017-04-12 | 2020-12-03 | Yushiro Chemical Industry Co., Ltd. | Floor coating material, method for coating floor, and method for producing floor structure |
JP6986408B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2021-12-22 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 膜形成用液組成物の製造方法 |
KR102376890B1 (ko) * | 2021-12-29 | 2022-03-22 | 중앙방수기업 주식회사 | Pvc 수지 조성물 및 이를 이용한 내충격성이 우수한 pvc 엠보싱 방수시트 제조방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2574061B2 (ja) * | 1989-11-27 | 1997-01-22 | 松下電工株式会社 | 有機溶液型コーティング用組成物、塗装された無機質硬化体およびその製造方法 |
JP2000219845A (ja) * | 1999-02-01 | 2000-08-08 | Teijin Chem Ltd | 表面を保護された透明プラスチック成形体 |
JP4576811B2 (ja) * | 2003-08-19 | 2010-11-10 | パナソニック電工株式会社 | 機能性建築部材の製造方法 |
KR100633177B1 (ko) * | 2005-03-24 | 2006-10-12 | 김정하 | pH 조절을 이용한 상온건조 무기도료 조성물과 그제조방법 및 용도 |
JP2006307124A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Kyushu Hi-Tech:Kk | 常温硬化型無機質コーティング膜及びコーティング剤 |
-
2009
- 2009-01-16 JP JP2009029077A patent/JP4957926B2/ja active Active
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6065247B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-01-25 | 株式会社九州ハイテック | 積層型無機系保護コーティング塩化ビニル系タイル及びそのコーティング方法 |
WO2014129081A1 (ja) * | 2013-02-20 | 2014-08-28 | 株式会社九州ハイテック | 積層型無機系保護コーティング塩化ビニル系タイル及びそのコーティング方法 |
JPWO2016175208A1 (ja) * | 2015-04-30 | 2017-09-21 | リンテック株式会社 | 防汚性組成物、防汚性シート、及び防汚性シートの製造方法 |
WO2016175208A1 (ja) * | 2015-04-30 | 2016-11-03 | リンテック株式会社 | 防汚性組成物、防汚性シート、及び防汚性シートの製造方法 |
EP3093279A1 (en) | 2015-05-11 | 2016-11-16 | Kyushu Hightec Corporation | Maintenance-free stone tile, coating agent therefor, and method for producing the tile |
US10351479B2 (en) | 2015-05-11 | 2019-07-16 | Kyushu Hightec Corporation | Maintenance-free stone tile, coating agent therefor, and method for producing the tile |
WO2017057402A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | リンテック株式会社 | 防汚性シートの製造方法 |
WO2017057403A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | リンテック株式会社 | 防汚性シートの製造方法 |
JPWO2017057402A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-10-05 | リンテック株式会社 | 防汚性シートの製造方法 |
JPWO2017057403A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-10-05 | リンテック株式会社 | 防汚性シートの製造方法 |
TWI712660B (zh) * | 2015-09-28 | 2020-12-11 | 日商琳得科股份有限公司 | 防污性薄片的製造方法 |
US10858538B2 (en) | 2015-10-05 | 2020-12-08 | Kyushu Hightec Corporation | Flame-retardant chemical floor material and aqueous protective coating agent therefor |
EP4206272A1 (en) | 2021-12-28 | 2023-07-05 | Kyushu High Tech. Co., Ltd | Inorganic glass coating agent |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010163584A (ja) | 2010-07-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4957926B2 (ja) | 化学床保護用可撓性付与常温硬化型無機質コーティング剤 | |
JP6823141B2 (ja) | 防曇膜つき透明物品 | |
JP6010299B2 (ja) | 紫外線吸収膜形成用塗布液および紫外線吸収ガラス物品 | |
US9604250B2 (en) | Refinish coating system and repairing method for automotive resin glazing | |
JP2010202731A (ja) | 紫外線遮蔽性シリコーンコーティング組成物及び被覆物品 | |
WO2007119517A1 (ja) | 金属酸化物微粒子含有ポリシロキサン組成物およびその製造方法 | |
JP6975375B2 (ja) | コーティング剤組成物 | |
JP5448301B2 (ja) | コーティング組成物及び樹脂積層体 | |
JP2011052202A (ja) | コーティング組成物及びその製造方法 | |
JP2006117718A (ja) | 耐擦傷性表面被膜形成用シリコーンコーティング組成物及びそれを用いた被覆物品 | |
JP2005298573A (ja) | 防汚性コーティング剤及び被覆物品 | |
JP5421513B2 (ja) | 硬化膜、樹脂積層体及びコーティング組成物 | |
JP5337360B2 (ja) | コーティング組成物、硬化膜及び樹脂積層体 | |
JP2005097527A (ja) | 表面処理剤、表面処理方法及び該方法により処理された物品 | |
JP6775171B2 (ja) | 難燃性化学床用水性保護コーティング剤 | |
JP2005126461A (ja) | 親水化処理された樹脂成形品 | |
JP5710178B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物およびハードコートフィルムまたはシート | |
JP6080074B2 (ja) | セラミックコーティング剤組成物およびその塗装品 | |
JP7267343B2 (ja) | 積層体 | |
KR20190006940A (ko) | 비점착성이 우수한 오염 방지용 코팅제 조성물 | |
JP6942849B1 (ja) | 積層体 | |
JP7383855B2 (ja) | 無機質ガラスコーティング剤 | |
JP4350412B2 (ja) | 汚染防止塗装方法 | |
JP7055051B2 (ja) | 積層体塗膜 | |
JP2007242759A (ja) | 太陽電池カバー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20110425 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110425 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20110804 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120306 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20180330 Year of fee payment: 6 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4957926 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |