TWI453261B - 塗覆組成物及具有增強耐磨性與耐污性之塗覆膜 - Google Patents

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Description

塗覆組成物及具有增強耐磨性與耐污性之塗覆膜
本發明係關於一種塗覆組成物及塗覆膜，其可應用於如電視、電腦螢幕、膝上型電腦、行動電話及其相似物等顯示器。本發明係尤其關於一種具有極佳之耐磨損性與絕佳之抗污性(如指紋痕跡可移除性及抗塗寫性，以輕易移除如指紋或塗寫痕跡之油性成分的髒污)、及特別具有優秀可除塵性之塗覆組成物及塗覆膜。
本發明係主張2009年2月27日於韓國智慧財產局提出的韓國專利申請號10-2009-0017229、10-2010-0017432之優先權，其所揭露之內容均併入本發明中以供參酌。
在各種顯示器中，普遍存在的問題在於容易因指紋而造成影像變形或外觀品質降低。為解決此問題，含氟的表面處理劑可用於製備具出色抗污性的塗覆組成物及塗覆膜。然而，這些含氟的表面處理劑會因磨損或磨擦產生靜電，以致可除塵性或耐磨損性劣化。
在相關技術領域中，則已提出一些以下表面處理方法，以提供具傳導性之硬質塗覆膜。
第一種方法是一種將塗佈有傳導性無機顆粒的抗靜電層塗覆於基材而後再塗覆一硬塗覆層之方法。此時，塗佈的抗靜電層為0.1至1.0 μm，硬塗覆層的厚度為1至數十微米，硬塗覆層需要具有耐磨損性，抗靜電層不應劣化光穿透性。不過，前數兩層的層疊物難以滿足靜電性質、耐磨損性及光穿透性等全部性質。
第二種方法係為一種提供同時具有抗靜電性質的硬塗覆層之方法。將傳導性無機顆粒分散在含丙烯酸酯或矽氧烷樹脂之硬塗覆溶液中，以在單一塗佈中同時具有耐磨損性及抗靜電性。此時，傳導性無機顆粒的粒徑為100 nm以下，以防止光穿透性降低及霧度增加。此外，傳導性無機顆粒及樹脂的重量比必須適當控制，若傳導性無機顆粒的重量比高，則霧度增加或耐磨損性減少；若傳導性無機顆粒的重量比低，則無法達到足夠的抗靜電性。
因此，本發明的目的在於提供一種塗覆組成物及塗覆膜，其可在單一塗覆法中同時提供耐磨損性及抗污性、在膜摩擦時維持耐磨損性及抗污性、及具有絕佳除塵性及抗靜電性。
本發明提供一種塗覆組成物，其包括a)一含UV可固化官能基之黏合樹脂；b)一含氟化UV可固化官能基之化合物；c)一光起始劑；d)奈米尺寸顆粒；以及e)傳導性無機顆粒。
此外，本發明提供一種塗覆膜，其係使用本發明之塗覆組成物所製得，其包含a)一含UV可固化官能基之黏合樹脂；b)一含氟化UV可固化官能基之化合物；c)一光起始劑；d)奈米尺寸顆粒；以及e)傳導性無機顆粒。
再者，本發明提供一種塗覆膜之製備方法，其包含下列步驟：於一基材上塗佈本發明之塗覆組成物；以及乾燥及光固化經塗佈之該塗覆組成物。
此外，本發明提供一種顯示裝置，其包含本發明之塗覆膜。
本發明提供一種具有極佳之耐磨損性與絕佳之抗污性(如指紋痕跡可移除性及抗塗寫性，以輕易移除如指紋或塗寫痕跡之油性成分的髒污)、及特別具有優秀可除塵性之塗覆組成物及塗覆膜。
此外，藉由本發明塗覆組成物之單次塗佈法，塗覆膜可同時提供耐磨損性及抗污性，且在本發明之塗覆膜摩擦時可維持耐磨損性及抗污性。
本發明將詳述於後文。
本發明之塗覆組成物包括a)一含UV可固化官能基之黏合樹脂；b)一含氟化UV可固化官能基之化合物；c)一光起始劑；d)奈米尺寸顆粒；以及e)傳導性無機顆粒。
其中，a)含UV可固化官能基之黏合樹脂為一種可提供塗覆膜耐磨損性之主要成份，而b)含氟化UV可固化官能基之化合物則為一種能有效減少且移除如指紋等油性物質所造成之髒污之成分。
於本發明中，做為a)含UV可固化官能基之黏合樹脂，包含多官能基或單官能基單體或寡聚合物。黏合劑需具有高交聯密度以提升耐磨損性，但由於塗覆膜固化收縮可能造成破裂或錯誤貼合的情形發生，故需善加控制黏合劑之密度。
包含在a)含UV可固化官能基之黏合樹脂中之官能基無特殊限制，只要此官能基為UV可固化性即可，且其具體實施例可包含丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基及其相似物。
丙烯酸酯之例子包括二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate)、季戊四醇四丙烯酸酯(pentaerythritol tetraacrylate)、季戊四醇三丙烯酸酯(pentaerythritol triacrylate)、三丙烯酸三亞甲基丙酯(trimethylenepropyl triacrylate)、乙二醇二丙烯酸酯(ethyleneglycol diacrylate)、己二醇二丙烯酸酯(hexanediol diacrylate)、丙烯酸乙酯(ethyl acrylate)、丙烯酸乙己酯(ethylhexyl acrylate)、丙烯酸丁酯(butyl acrylate)、丙烯酸羥乙酯(hydroxyethyl acrylate)及其相似物。
有用的丙烯酸酯寡聚合物之例子包括胺甲酸乙酯變性丙烯酸酯寡聚合物(urethane denatured acrylate oligomer)、環氧丙烯酸酯寡聚合物(epoxy acrylate oligomer)、乙醚丙烯酸酯寡聚合物(ether acrylate oligomer)及其相似物，且丙烯酸酯官能基數目較佳為2-6。於此，寡聚合物之分子量較佳係介於1,000-10,000範圍內。
此外，甲基丙烯酸酯之例子包括三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(trimethylolpropane trimethacrylate)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(ethyleneglycol dimethacrylate)、丁二醇二甲基丙烯酸酯(butanediol dimethacrylate)、甲基丙烯酸六乙酯(hexaethyl methacrylate)、甲基丙烯酸丁酯(butyl methacrylate)及其相似物，且亦可使用甲基丙烯酸寡聚合物。
乙烯基之例子包括二乙烯苯(divinyl benzene)、苯乙烯(styrene)、對甲苯乙烯(paramethyl styrene)及其相似物。
在本發明中，做為提供指紋痕跡可移除性的成分，該b)含氟化UV可固化官能基之化合物應包括氟，以減少並移除由如指紋等油性成分所造成之髒污；此外，其無特殊限制，只要其具有UV可固化官能基即可。
詳細而言，亦可使用含全氟基(perfluoro group)之丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、以及乙烯。其中，該含氟化UV可固化官能基之化合物較佳具有1-6個UV可固化官能基。詳而言之，含氟化UV可固化官能基之化合物可選自由下式1至9所示之化合物所組群組，但本發明之範圍並不侷限於此。亦可使用同時具有UV可固化官能基與氟基之材料。
[式1]
[式2]
[式3]
[式4]
[式5]
[式6]
[式7]
[式8]
[式9]
於上式1至9中，X及Y係各自獨立為F或CF3 ，Z為H或CH3 ，a、j及m係各自為1至16範圍內之整數，c、k及n係各自為0至5範圍內之整數，b、d、e、f及g係各自為0至200範圍內之整數，h及i係各自為0至16範圍內之整數，而PFPE之結構如下所示。
基於100重量份之含UV可固化官能基之黏合樹脂，該b)含氟化UV可固化官能基之化合物，其含量較佳係介於0.5-20重量份之範圍內。若其含量低於0.5重量份，則難以達到抗污性；若其含量超過20重量份，則耐磨損性可能會減少，同時無法更加提升抗污性。
該c)光起始劑並無特殊限制，只要為可被紫外光分解之起始劑即可。詳細例子可包含α-羥基酮之Irgacure 127、Irgacure 184、Darocure 1173、及Irgacure 2959，α-胺基酮之Irgacure 369、Irgacure 379、Irgacure 907、及Irgacure 1300，苄基基二甲基縮酮(benyl dimethylketal)之Irgacure 651、單醯基氧化膦(monoacylphosphine)之Darocure TPO，及其相似物。基於100重量份之該含UV可固化官能基之黏合樹脂，c)光起始劑的含量較佳係介於1-20重量份之範圍內。如果c)光起始劑的含量低於1重量份，由於固化率低，故難以達到耐磨損性；若c)光起始劑的含量高於20重量份，則交聯密度減少以致耐磨損性減少。
該d)奈米尺寸顆粒係提供膜抗塗寫性之成分並與本發明塗覆組成物之其他成份混合，其平均粒徑較佳介於0.5-50 nm範圍內，更佳係介於5-50 nm範圍內，以確保其光透性。
若d)奈米尺寸顆粒的粒徑低於0.5 nm，則會使抗塗寫性降低；若粒徑超過50 nm，則可能會製得不透光的塗覆膜。此外，粒徑0.5 nm以上之d)奈米尺寸顆粒可提供出色的抗塗寫性，但相較於粒徑為0.5 nm，粒徑大於5 nm更可大幅提升抗塗寫性。
該d)奈米尺寸顆粒的製造材料可選自二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氟化鎂、及其相似物。
此外，d)奈米尺寸顆粒可進行表面處理，以提升其與a)含UV可固化官能基之黏合樹脂之相容性及顆粒分散性。
舉例而言，可使用選自矽烷偶聯劑、環氧化合物、含羥基之化合物、異氰酸酯化合物及其他分散劑等材料，對d)奈米尺寸顆粒進行表面處理。
基於100重量份之a)含UV可固化官能基之黏合樹脂，d)奈米尺寸顆粒之含量較佳係介於0.5-50重量份之範圍內。若d)奈米尺寸顆粒的含量低於0.5重量份，則會減少抗塗寫性；若含量超出50重量份，則會減少抗污性。
做為達到可除塵性及抗靜性的成份，其為該e)傳導性無機顆粒，較佳的粒徑介於0.5-100 nm的範圍，以確保光透性。
若該e)傳導性無機顆粒的粒徑超出100 nm，則可能會獲得不透光的塗覆膜；若粒徑低於0.5 nm，則除塵性及抗靜電性會降低。
該e)傳導性無機顆粒可使用傳導性金屬氧化物填充物來形成，其選自氧化銦錫(tin-doped indium oxide，ITO)、氧化錫銻(antimony-doped tin oxide，ATO)、氧化鋅銻(antimony-doped zinc oxide，AZO)、氧化錫(SnO2 )及氧化鋅(ZnO2 )。
此外，該e)傳導性無機顆粒可進行表面處理，以提升其與a)含UV可固化官能基之黏合樹脂之相容性及顆粒分散性。
舉例而言，可使用選自矽烷偶聯劑、環氧化合物、含羥基之化合物、異氰酸酯化合物及其他分散劑等材料，對該e)傳導性無機顆粒進行表面處理。
基於100重量份之a)含UV可固化官能基之黏合樹脂，該e)傳導性無機顆粒之含量較佳係介於超過0.5重量份至50以下重量份之範圍內。若該e)傳導性無機顆粒的含量為0.5重量份以下，則難以獲得可除塵性；若含量超出50重量份，則會減少抗污性。
為了塗覆性質，本發明之塗覆組成物除了上述成分之外，可更包括一溶劑。溶劑之種類及含量並無特殊限制，但為了塗覆性質，基於100重量份之a)含UV可固化官能基之黏合樹脂，溶劑的使用量較佳於10-1000重量份的範圍。
醇類、烷類、醚類、環烷類、芳香族有機溶劑、或其相似物可作為溶劑。詳細而言，可使用甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、乙二醇、二丙酮醇、2-乙氧乙醇、2-甲氧乙醇、2-丁氧乙醇、丙二醇單甲醚、己烷、庚烷、環己烷、乙醯丙酮、二甲基酮、甲乙酮、甲基異丁酮、甲苯、苯、二甲苯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、二甲基甲醯胺、四氫呋喃、及其相似物，但本發明之範圍並不侷限於此。
本發明之塗覆組成物可塗佈在基板上，而基板並無特殊限制，可使用塑膠膜。該膜可包含聚酯、三醋酸纖維素、烯烴共聚物、以及聚甲基丙烯酸甲酯。
塗覆組成物可使用本技術領域一般習知之塗佈方法塗佈在基板上，且塗佈法類型之例子包括雙輥或三輥反向塗佈法、凹版印刷塗佈法(gravure coating)、微凹版印刷塗佈法、模具式塗佈法(die coating)、簾塗法(curtain coating)、刮刀塗佈法、浸沾式塗佈法、淋塗法(flow coating)、及其相似方法。
使用上述方法所塗佈之膜，較佳於乾燥後使用光量介於0.05-2 J/cm2 範圍內之紫外光進行照射以固化；且特別當固化在氮氣下進行時，因表面固化度增加而可提升指紋可移除性。
塗佈組成物之塗佈厚度較佳係介於0.5-300μm範圍內，且更佳係介於10-300μm範圍內。當塗佈厚度增加，則可提升耐磨損性，但可能會因固化收縮而造成膜發生捲曲或破裂。
同時，本發明的塗覆膜可使用本發明的塗覆組成物來製造，如此其可包含a)一含UV可固化官能基之黏合樹脂；b)一含氟化UV可固化官能基之化合物；c)一光起始劑；d)奈米尺寸顆粒；以及e)傳導性無機顆粒。在具體實施裡的全部描述也適用於此。
使用本發明的塗覆組成物製得之塗覆膜，具有極佳之耐磨損性與絕佳之抗污性(如指紋痕跡可移除性及抗塗寫性，以輕易移除如指紋或塗寫痕跡之油性成分的髒污)、及特別具有優秀可除塵性。
本發明之塗覆膜厚度較佳係介於0.5-30μm範圍內，且更佳係介於10-30μm範圍內。
此外，於本發明塗覆膜之至少一側可提供有一基板。
本發明塗覆膜的應用範圍沒有特別限制，只要有對耐磨損性及抗污性有需要即可適用。舉例而言，其可適用於顯示裝置。此塗覆膜可直接塗覆於目標裝置的零件上，如顯示裝置，或可於塗覆膜形成在基板上後應用在與基板連接之目標裝置上。本發明的塗覆膜可適用於液晶顯示器(LCD)、有機發光顯示器(OLED)及電漿顯示器(PDP)，但本發明的範疇不以此為限。
同時，本發明塗覆膜的生產方法可包括以下步驟：將本發明的塗覆組成物塗覆於基板上；以及乾燥及光固化該經塗覆的塗覆組成物。在具體實施裡的全部描述也適用於此。
同時，本發明的顯示裝置可包含選自液晶顯示器(LCD)、有機發光顯示器(OLED)及電漿顯示器(PDP)之任一者；及本發明之塗覆膜。
於此，將塗覆組成物塗覆於基材上所形成的塗覆膜，可貼附於該顯示裝置，或者該顯示裝置可直接由該塗覆組成物塗覆。
具體而言，為具有抗污性及耐磨損性，將塗覆組成物塗覆於基板所形成的塗覆膜，為可分離地用於顯示器(如行動電話視窗或膝上型電腦)，或者可貼附於顯示裝置(如偏光膜或PDP濾光膜)。
本發明顯示裝置的舉例包括如TV、電腦用螢幕、膝上型電腦、行動電話及類似物之顯示器，但不限於此。
具體而言，TV、電腦用螢幕及行動電話可包括顯示裝置，及本發明的塗覆膜，其係可裝設於該顯示裝置的表面。此外，顯示裝置可由主體殼體支持，該殼體形成於TV、電腦用螢幕及行動電話的外觀。
膝上型電腦可包含電腦主體及可旋轉式地固定於電腦主體的顯示主體，且顯示主體可包括形成圖像的顯示裝置及裝設於顯示裝置表面之本發明塗覆膜。
後文，藉由下述實施例，而可更加了解本發明，但並非視為侷限本發明。
於本實施例中，如下所述，在製得塗覆組成物及塗覆膜後，利用下述方法評估耐磨損性、指紋痕跡可移除性、抗塗寫性及表面能等物理性質。
塗覆膜耐磨損性係在500 g負重下，以鉛筆硬度進行評估。
塗覆膜之指紋痕跡可移除性則使用下述方法評估。配製人造指紋溶液，並塗佈在橡皮圖章上。接著，於塗覆膜表面上按壓橡皮圖章，並乾燥10分鐘。而後，使用紗布移除塗覆膜上指紋，並以肉眼評估殘留之指紋。這裡所使用之人造指紋溶液係使用JIS K 2246所製備。
至於塗覆膜之抗塗寫性，則是使用油性筆在塗覆膜上畫上兩條5 cm的線，然後使用細纖維乾淨織布擦拭後，以肉眼檢視筆跡。重複進行上述步驟直到可觀察到筆跡，並紀錄重複次數。
使用DSA 100(由KRUSS製造)測量水及二碘甲烷之接觸角來評估表面能。
實施例1
取100 g之二季戊四醇六丙烯酸酯、10 g之含全氟單官能基丙烯酸酯(其具式1結構，X=F、Y=F、Z=H、h=6、i=1，無其他成分)、5g之光起始劑Irgacure 184、10 g之二氧化矽顆粒(其平均粒徑為20 nm，且使用甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷(methacryloxy propyltrimethoxy silane)對其表面處理)、10 g之氧化鋅銻(AZO，由Nissan製造，粒徑約為20 nm)以及100 g之甲乙酮相互混合，然後攪拌塗覆組成物1小時，使各個成分彼此間充分混合。使用雙輥反向塗佈，將上述方法所配製之塗覆組成物塗佈在三醋酸纖維素膜上，並使固化厚度為10μm。將所塗佈的膜置於60℃烘箱中乾燥2分鐘，並使用聚合泵燈以1 J/cm2 之光源密度進行紫外光照射，以製得具指紋痕跡可移除性之耐磨損性塗覆膜。
實施例2
本實施例之塗覆膜係使用如實施例1所述之相同方法製作，除了使用在實施例1中所使用之氧化鋅銻20 g(AZO，由Nissan製造，粒徑約為20 nm)。
實施例3
本實施例之塗覆膜係使用如實施例1所述之相同方法製作，除了使用20 g之氧化錫(由Nissan製造，粒徑約為20 nm)取代氧化鋅銻。
實施例4
本實施例之塗覆膜係使用如實施例1所述之相同方法製作，除了使用20 g之氧化銦錫(ITO，由Nissan製造，粒徑約為100 nm)取代氧化鋅銻。
比較例1
本實施例之塗覆膜係使用如實施例1所述之相同方法製作，除了不使用在實施例1中所使用之氧化鋅銻。
比較例2
本實施例之塗覆膜係使用如實施例1所述之相同方法製作，除了使用在實施例1中所使用之氧化鋅銻100 g。
比較例3
本實施例之塗覆膜係使用如實施例1所述之相同方法製作，除了不使用二氧化矽。
比較例4
本實施例之塗覆膜係使用如實施例1所述之相同方法製作，除了使用在實施例1所使用之氧化鋅銻約0.5 g。
接下來，對於上述所製得之塗覆膜進行表面抗性、鉛筆硬度、指紋痕跡可移除性、表面能以及抗塗寫性等進行評估。而評估結果如下表1所示。
如表1所示，可知包含所有奈米尺寸顆粒及傳導性無機顆粒之塗覆膜，具有更佳的抗磨損性及抗靜電性(見實施例1至4、比較例1及比較例3)。
此外，即使傳導性無機顆粒包含於其中，但過量的傳導性無機顆粒仍會造成耐磨損性及抗污性降低的問題(比較例2)。當沒有(比較例1)或僅有少量(比較例4)之傳導性無機顆粒包含其中時，則會發現不良的抗靜電性。

Claims (21)

  1. 一種塗覆組成物，包括：a)一含UV可固化官能基之黏合樹脂；b)一含氟化UV可固化官能基之化合物；c)一光起始劑；d)奈米尺寸顆粒；以及e)傳導性無機顆粒，其係選自由氧化銦錫(tin-doped indium oxide，ITO)、氧化錫銻(antimony-doped tin oxide，ATO)、氧化鋅銻(antimony-doped zinc oxide，AZO)、氧化錫(SnO2 )及氧化鋅(ZnO2 )；且其中該b)含氟化UV可固化官能基之化合物係包含一選自由下式1至9所示之化合物所組群組之化合物： [式6] [式8] 於式1至9中，X及Y係各自獨立為F或CF3 ，Z為H或CH3 ，a、j及m係各自為1至16範圍內之整數，c、k及n係各自為0至5範圍內之整數，b、d、e、f及g係各自為0至200範圍內之整數，h及i係各自為0至16範圍 內之整數，而PFPE之結構如下所示：
  2. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中基於100重量份之該a)含UV可固化官能基之黏合樹脂中，該e)傳導性無機顆粒的含量範圍為超過0.5重量份至50重量份以下。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中基於100重量份之該a)含UV可固化官能基之黏合樹脂中，該b)含氟化UV可固化官能基之化合物的含量係介於0.5-20重量份之範圍內，該c)光起始劑之含量係介於1-20重量份之範圍內，該d)奈米尺寸顆粒之含量係介於0.5-50重量份之範圍內，以及該e)傳導性無機顆粒之含量係介於超過0.5重量份至50重量份以下之範圍內。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中該a)含UV可固化官能基之黏合樹脂係包含丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、或乙烯基之多官能基或單官能基單體或寡聚合物。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中該b)含氟化UV可固化官能基之化合物係包含一選自由含全氟基之丙烯酸酯、含全氟基之甲基丙烯酸酯及含全氟基之乙烯所組群組之化合物。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中該d)奈米尺寸顆粒之粒徑係介於0.5-50nm範圍內。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中該d)奈米尺寸顆粒係選自由二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、以及氟化鎂所組群組。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中該d)奈米尺寸顆粒係使用一選自由矽烷偶聯劑、環氧化合物、含羥基之化合物、以及異氰酸酯化合物所組群組之材料，進行表面處理。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中該e)傳導性無機顆粒之粒徑係介於0.5-100nm範圍內。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之塗覆組成物，其中該e)傳導性無機顆粒係使用一選自由矽烷偶聯劑、環氧化合物、含羥基之化合物、以及異氰酸酯化合物所組群組之材料，進行表面處理。
  11. 如申請專利範圍第3項所述之塗覆組成物，基於100重量份之該a)含UV可固化官能基之黏合樹脂中，更包括：10至1000重量份之溶劑。
  12. 一種塗覆膜，其係使用如申請專利範圍第1至11項中任一項所述之塗覆組成物所製得，包括：a)一含UV可固化官能基之黏合樹脂；b)一含氟化UV可固化官能基之化合物；c)一光起始劑；d)奈米尺寸顆粒；以及e)傳導性無機顆粒。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之塗覆膜，其中該膜之厚度係介於0.5-300μm範圍內。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之塗覆膜，其中於該塗覆膜之至少一側係提供有一基板。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之塗覆膜，其中該基板係由一選自由聚酯、三醋酸纖維素、烯烴共聚物、以及聚甲基丙烯酸甲酯所組群組之材料所製成。
  16. 一種塗覆膜之製備方法，包含下列步驟：於一基材上塗佈如申請專利範圍第1至11項中任一項所述之塗覆組成物；以及乾燥及光固化經塗佈之該塗覆組成物。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之製備方法，其中該基板係由一選自由聚酯、三醋酸纖維素、烯烴共聚物、以及聚甲基丙烯酸甲酯所組群組之材料所製成。
  18. 如申請專利範圍第16項所述之製備方法，其中該塗覆組成物之塗佈厚度係介於0.5-300μm範圍內。
  19. 如申請專利範圍第16項所述之製備方法，其中該光固化係使用0.05-2J/cm2 範圍內之紫外光光量進行照射。
  20. 一種顯示裝置，包括：如申請專利範圍第12項所述之塗覆膜。
  21. 如申請專利範圍第20項所述之顯示裝置，其中該顯示裝置包括液晶顯示器(LCD)、有機發光顯示器(OLED)及電漿顯示器(PDP)中任一者。
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