CN101858994A - 低反射膜 - Google Patents

低反射膜 Download PDF

Info

Publication number
CN101858994A
CN101858994A CN200910160718A CN200910160718A CN101858994A CN 101858994 A CN101858994 A CN 101858994A CN 200910160718 A CN200910160718 A CN 200910160718A CN 200910160718 A CN200910160718 A CN 200910160718A CN 101858994 A CN101858994 A CN 101858994A
Authority
CN
China
Prior art keywords
low
reflection film
index layer
hard coat
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN200910160718A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101858994B (zh
Inventor
崔光辉
李文馥
徐正泰
严相烈
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Advanced Materials Korea Inc
Original Assignee
Toray Advanced Materials Korea Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Advanced Materials Korea Inc filed Critical Toray Advanced Materials Korea Inc
Publication of CN101858994A publication Critical patent/CN101858994A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101858994B publication Critical patent/CN101858994B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/022—Mechanical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C08L27/14—Homopolymers or copolymers of vinyl fluoride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L67/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C08L67/03—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the dicarboxylic acids and dihydroxy compounds having the carboxyl- and the hydroxy groups directly linked to aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
    • C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08J2327/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C08J2327/14—Homopolymers or copolymers of vinyl fluoride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C08J2367/03—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the dicarboxylic acids and dihydroxy compounds having the hydroxy and the carboxyl groups directly linked to aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/16—Applications used for films

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

本发明涉及低反射膜。更具体地，本发明提供包括在基底膜上的高折射率的硬涂覆层和低折射率层这两层结构的低反射膜。通过降低硬涂覆层和低折射率层的表面粗糙度，与常规的低反射膜相比，本发明的低反射膜改善了表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力。为此，根据本发明的低反射膜的特征在于，其设有至少在基底膜(10)的一侧上顺次设置的高折射率的硬涂覆层(20)和低折射率层(30)，其中低折射率层(30)的表面具有算术平均粗糙度为0.0001μm～0.005μm的细小的凸出和凹入部分。低折射率层(30)的特征在于其包括3～15重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的粘结剂树脂。

Description

低反射膜
技术领域
本发明涉及低反射膜，并且更具体而言涉及包括设置于基底膜上的两个层即高折射率的硬涂覆层(hard coating layer)和低折射率层的低反射膜。通过将硬涂覆层和低折射率层的表面粗糙度调低，与常规的低反射膜相比，所述低反射膜的表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力得以改善。
背景技术
显示装置例如CRT、LCD和PDP将电信号作为图像显示在其屏幕上，其中通常使用高电压，所述高电压又在其表面上造成静电、电磁波和环境光反射，从而对使用者身体产生不利影响、使视觉效果下降或者还导致眼睛疲劳。因此，实现对显示装置周围物体的良好抗反射效果的低反射膜设置在显示装置的表面上以使屏幕具有质量上甚至更好的图像清晰度并且消除使用者的眼睛疲劳。
通常，显示装置中的低反射膜具有多层结构(如PCT No.JP2003-008535中所公开)。所公开的低反射膜的实例包括分别设置在基底膜上的如下结构：3层结构，即硬涂覆层、高折射率层和低折射率层(示于图2中)；4层结构，即硬涂覆层、中间折射率层、高折射率层和低折射率层(如图3中所示)；和5层结构，即硬涂覆层、高折射率层、低折射率层、高折射率层和低折射率层(如图4中所示)。
提供硬涂覆层以改善基底膜的硬度并且将其设置成与基底膜接触。提供高折射率层、低折射率层和中间折射率层以调节折射率并且将其设置在硬涂覆层上。在这种情况下，重要的是低折射率层的折射率低于比该低折射率层更靠近基底膜的各层的折射率，使得低反射膜能够完全反射外部环境光。
通常，低反射膜具有用于调节折射率的多层结构。然而，就低反射膜的生产率、成本和抗反射效果而言，有利的是所设置的层数较少。而且，由于低反射膜在显示装置中位于最外面，因此为了保护显示装置和进行精制，除了减少环境光的反射之外，另外的要求有抗刮伤性、保护不受污染、抗静电能力等。因此，已知具有超过一种功能的折射层。折射层的实例包括抗静电并且具有硬涂覆层功能的高折射率的硬涂覆层、以及耐污染的低折射率层。
然而，当生产具有一种或多种功能的折射率层时，对所使用的材料有限制并且将不可避免地选择和使用非常昂贵的材料，所述非常昂贵的材料又导致高的生产成本。而且，不利的是，与仅考虑折射率而生产的折射率层相比，所述折射层在所得光学性质特征即透光率、雾度和防UV特性方面下降。具体而言，对于高折射率的硬涂覆层，使用大量被选择用于实现大型显示装置中所要求的高折射率和抗静电能力的颗粒，使得硬涂覆层的表面粗糙度往往是大的。对于低折射率层，使用大量低折射率的颗粒以降低显示装置的所得反射率，使得低折射率层的表面粗糙度往往是大的。
近来，除了大型显示装置(例如LCD、PDP电视)之外，在小型手持装置(例如，便携式电话、PDA、PMP、游戏装置)领域中也已努力通过降低环境光的反射来增强能见度，尤其是户外能见度。
然而，当将可在市场上得到的用于大型显示装置的低反射膜应用于手持应用而不采取任何适应性措施时，出现下列问题。首先，与大型显示装置相比，在手持应用(尤其是使用触控面板的那些)中频繁地发生与使用者皮肤的接触。因此，与大型显示装置相比，由汗水、指纹污迹等导致的污染的可能性显著增加。由于这个缘故，应针对手持应用中的这种污染采取更多的措施。然而，用于大型显示装置的低反射膜在其表面上具有由用于满足上述固有光学特性的大量颗粒所产生的细小的凸出和凹入部分。表面上的这种凸出和凹入部分阻碍了污物(例如指纹污迹)的除去。而且，与大型显示装置的情况相比，在手持应用中，特别是在使用触控面板的情况下，由用于触摸的笔或者指甲等造成的冲击、和由用于实施该应用的其它材料所引起的接触发生得甚至更加频繁，使得与大型显示装置的情况相比，强烈要求高的表面硬度等级(即对与其它坚硬且粗糙的材料的接触的抗刮伤性)。
发明内容
本发明设计用于解决上述问题和满足本领域中的要求。本发明的目的是提供在抗刮伤性和指纹污迹容易除去以及降低的生产成本(由添加昂贵的
其中R(3)和R(4)各自为具有氟取代的烷基、烯基、烯丙基、甲基丙烯酰氧基或者(甲基)丙烯酰基的烃基，X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤素基团和酰氧基的能水解的取代基，c和d各自为0、1、2或3，并且同时(c+d)为1、2或3。
优选地，在用射线(光线)照射所述低反射膜500小时后，所述低反射膜的反射率增加量低于0.5％。
有益效果
根据本发明，在表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力以及降低的生产成本(由添加昂贵的金属氧化物造成的生产成本通常是高的)方面的效果出色。
附图说明
本发明的特征和优点将从参照附图进行说明的其优选实施方式的以下具体描述而变得明晰，其中：
图1为根据本发明实施方式的低反射膜的横截面；
图2为由硬涂覆层、高折射率层和低折射率层构成的3层结构的常规低反射膜的横截面；
图3为由硬涂覆层、中间折射率层、高折射率层和低折射率层构成的4层结构的常规低反射膜的横截面；
图4为由硬涂覆层、高折射率层、低折射率层、高折射率层和低折射率层构成的5层结构的常规低反射膜的横截面。
附图标记说明
10：基底膜
20：高折射率的硬涂覆层
30：低折射率层
100：基底膜
105：硬涂覆层
110：中间折射率层
120：高折射率层
130：低折射率层
具体实施方式
下文中，将参照本发明的实施方式和附图更详细地描述本发明。本领域技术人员应明晰，那些实施方式旨在更详细地说明本发明，并且本发明的范围不应受那些实施方式的限制。
本发明人努力解决上述的现有技术问题。结果，当将颗粒添加到硬涂覆树脂组分中以便调节硬涂覆层的折射率以形成其中将基底膜上的硬涂覆层调节为高折射率的高折射率的硬涂覆层时，观察到：通过控制包含于硬涂覆层中的最优颗粒尺寸和其含量比例以及消除导致在设置于该硬涂覆层上的低折射率层上形成过量的凸出和凹入部分的因素，获得了具有使得指纹污迹等的污染能够容易地除去的表面粗糙度并且对由与笔等的接触造成的刮伤具有耐受性的所得低反射膜。
图1为根据本发明实施方式的低反射膜的横截面。图1中的低反射膜是通过将高折射率的硬涂覆层20和低折射率层30顺次设置在基底膜10上而产生的。所述低反射膜可在基底膜10的相对侧上设置有保护膜、粘合剂层和离型膜(release film)。
根据本发明，通过降低高折射率的硬涂覆层和低折射率层的算术平均粗糙度(Ra)而提供在表面硬度、抗刮伤性等改进的物理性质以及改进的指纹污迹除去能力方面出色的低反射膜。而且，根据本发明，提供以低生产成本生产的低反射膜，而由添加昂贵的金属氧化物造成的生产成本通常是高的。
为了实现上述目的，本发明人力图找到解决方案并且因此发现所述目的可通过具有如下结构的抗反射膜而实现：高折射率的硬涂覆层20和低折射率层30顺次设置在基底膜的至少一侧上并且算术平均粗糙度(Ra)控制为0.0001μm～0.005μm。
根据本发明的低反射膜可通过如下而应用于图像显示装置：将该低反射膜粘附于图像显示装置的图像显示侧或者前面板的表面上。
优选地，根据本发明的低反射膜中的基底膜10具有高的透光率、和低的雾度值以便将其用作显示装置的构件(member)(本文中也称为‘显示构件’)。例如，400～800nm波长范围内的透光率优选为至少40％并且更优选为至少60％。雾度值优选不高于5％并且更优选不超过3％。如果未满足上述条件之一或全部两者，则当该膜用作显示构件时所显示的图像不太可能是清晰的。为了达到预期效果，就可生产的范围而言，透光率的上限约为99.5％并且雾度值的下限约为0.1％。
基底膜10不限于特定类型，并且可适当地选自通常用于已知塑料基底膜的树脂材料。用于基底膜10的树脂材料的实例包括具有选自如下的子单元(subunit)的聚合物或者共聚物：酯、乙烯、丙烯、二乙酸酯、三乙酸酯、苯乙烯、碳酸酯、甲基戊烯、砜、醚乙基酮、酰亚胺、氟、尼龙、丙烯酸酯、脂族烯烃等。优选具有选自如下的子单元的聚合物或者共聚物：酯，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯；乙酸酯，例如三乙酰纤维素；和丙烯酸酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯等。原因在于就所得膜的透明性、强度和均匀厚度而言它们是良好的。具体而言，就透明性、雾度值和机械性质而言，优选由具有酯子单元的聚合物构成的基底膜10。
这样的聚酯树脂的实例包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚α，β-二(2-氯苯氧基)乙烷-4，4’-二羧酸乙二醇酯等。在这些聚酯中，可共聚20摩尔％或者更少量的二羧酸组分或者二醇组分。在示例性的聚酯树脂中，通常考虑到品质、经济效果等，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。可使用一种类型的树脂或者两种或更多种类型树脂的组合。
在根据本发明的低反射膜中基底膜10的厚度不限于特定值，但是其通常为5～800μm，并且优选为10～250μm。基底膜10可为通过将两种或更多种膜以已知方式结合而制得的膜。
而且，在形成高折射率的硬涂覆层20之前，可对基底膜10进行表面处理(例如，电晕放电、辉光放电、火焰处理、蚀刻、或者粗糙化)。而且，为了促进粘合，可在对基底膜的表面进行涂覆得到底胶(primer)层(例如，用聚氨酯、聚酯、聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚环氧丙烯酸酯、钛酸酯化合物等涂覆)之后形成高折射率的硬涂覆层20。特别地，就改善的粘合性、良好的耐久性(例如耐热性、防潮性)等而言，基底膜的优选实例是通过涂覆包含交联粘结剂和通过将丙烯酸类化合物接枝到具有亲水性基团的聚酯树脂上而产生的共聚物的组合物作为底胶而制造的。
在根据本发明的低反射膜中高折射率的硬涂覆层20形成于基底膜10之上，其中所述层20必须含有(甲基)丙烯酸酯化合物。所述(甲基)丙烯酸酯化合物通过用光化射线对其进行照射而进行自由基聚合从而改善了所制造的膜的耐溶剂性或硬度。具体而言，所述(甲基)丙烯酸酯化合物的实例包括：单官能丙烯酸酯化合物，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯。而且，尤其优选一个分子中具有两个或者更多个(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，因为它们改善了所制造的膜的耐溶剂性。所述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的具体实例包括：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等。以上单体可单独使用或者以两种或更多种类型的单体的组合使用。
为了改善硬涂覆层的硬度，在用于形成本发明中高折射率的硬涂覆层20的结构中的树脂组分可包括无机颗粒，例如硅酸烷基酯和其水解产物、胶态二氧化硅、干二氧化硅、湿二氧化硅和氧化钛、或者分散在胶体中的二氧化硅颗粒等。
高折射率的硬涂覆层20的厚度根据需要适当选择，但是通常为1μm～50μm、且优选为2μm～30μm。如果硬涂覆层20的厚度小于1μm，则所得膜的表面硬度不足，从而不利地导致容易产生刮伤。如果该厚度大于50μm，则所得膜的透明性可能降低，从而使膜的雾度值升高。所不期望的还有，固化的膜脆弱，使得当所述膜折叠和弯曲时在高折射率的硬涂覆层20上可能容易出现裂纹。
当形成本发明中的硬涂覆层20时，可使用引发剂以促进所涂布的粘结剂组分的固化。使用引发剂通过自由基反应、阴离子反应、阳离子反应等引发或者促进所涂布的粘结剂组分的聚合和/或交联反应，并且在本发明中可使用常规已知的光聚合引发剂。具体地，引发剂的实例包括：硫化物，例如甲基二硫代氨基甲酸钠硫化物(sodium methyldithiocarbamate sulfide)、二苯基单硫醚、一硫化二苯并噻唑、二硫化二苯并噻唑等；噻吨酮衍生物，例如噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮等；偶氮化合物，例如腙、偶氮二异丁腈等；重氮化合物，例如苯基重氮盐等；芳族羰基化合物，例如安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、二苯甲酮、二甲基氨基二苯甲酮、米蚩酮、苄基蒽醌、叔丁基蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-氯蒽醌等；二烷基氨基苯甲酸酯，例如，对-二甲基氨基甲基苯甲酸酯、对-二甲基氨基乙基苯甲酸酯、对-二甲基氨基丁基苯甲酸酯、对-二乙基氨基异丙基苯甲酸酯等；过氧化物，例如过氧化苯甲酰、过氧化二叔丁基、过氧化二枯基、氢过氧化枯烯等；吖啶衍生物，例如9-苯基吖啶、9-对-甲氧基苯基吖啶、9-乙酰基氨基吖啶、苯并吖啶等；吩嗪衍生物，例如9，10-二甲基苯并吩嗪、9-甲基苯并吩嗪、10-甲氧基苯并吩嗪等；喹喔啉衍生物，例如6，4’，4”-三甲氧基-2，3-二苯基喹喔啉等；2，4，5-三苯基咪唑二聚体、2-硝基芴、2，4，6-三苯基吡喃
Figure B2009101607186D0000081
四氟硼酸盐、2，4，6-三(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、3，3’-羰基双香豆素、硫代米蚩酮、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、寡(2-羟基-2-甲基-1-(4-(1-甲基乙烯基)苯基)丙酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮等。
而且，当形成本发明中的硬涂覆层20时，胺化合物可共存于光聚合引发剂中以避免引发剂的敏感性由于氧抑制而降低。所述胺化合物不限于特定类型，并且可为脂族胺化合物或者芳族胺化合物，只要它们是非挥发性的。所述胺化合物的实例有三乙醇胺、甲基二乙醇胺等。
根据本发明的低反射膜中的硬涂覆层20的必要组分为粘结剂组分和上述光聚合引发剂，并且如果需要可包括任何添加剂，例如，阻聚剂、固化催化剂、抗氧化剂、分散剂、流平剂、硅烷偶联剂等。
为了使硬涂覆层20的结构组分导电，所述层可进一步包含导电聚合物(例如聚吡咯和聚苯胺)和有机金属化合物(例如金属醇化物和螯形化合物)。为了改善硬涂覆层20的表面硬度，所述层可进一步包含作为结构组分的无机颗粒，例如硅酸烷基酯和其水解产物、胶态二氧化硅、干二氧化硅、湿二氧化硅和氧化钛、或者分散在胶体中的二氧化硅颗粒等。
接着，根据本发明的低反射膜的低折射率层30形成在高折射率的硬涂覆层20上并且主要包括含氟化合物。
本发明中使用的含氟化合物优选通过热或者电离辐射而交联。交联的含氟化合物可为具有不饱和基团的含氟单体、或者具有交联基团的含氟聚合物、或者具有含氟单体和提供交联基团的单体子单元的含氟共聚物。
具体而言，优选在其骨架中具有乙烯基醚结构的含氟共聚物。优选所述含氟共聚物具有：至少30重量％的氟含量，和具有通过聚苯乙烯换算的数均分子量为至少500并且优选为至少5000的具有氟的烯烃链。这样的含氟共聚物是通过使包含含氟化合物和乙烯基醚化合物的能固化的组合物聚合而获得的。优选地，其通过使包含含氟烯烃化合物、能与所述含氟烯烃化合物共聚的乙烯基醚化合物、以及反应性乳化剂(如果需要，则混合)的能固化的组合物聚合而获得。优选的是，用于形成含氟共聚物的所述能固化的组合物包含所述反应性乳化剂作为一个组分。使用所述反应性乳化剂组分使得所述含氟共聚物能够以良好的涂覆和流平性能良好地进行涂覆。优选所述反应性乳化剂具体为非离子型反应性乳化剂。
在包含在所述低折射率层30中的所述含氟共聚物中，源自所述含氟烯烃化合物的包含氟的结构单元的比例为20～70摩尔％、优选为25～65摩尔％、且更优选为30～60摩尔％。如果源自所述含氟烯烃化合物的结构单元的比例低于20摩尔％，则所获得的含氟共聚物中的氟含量有可能太小，使得所获得的低折射率层30的折射率没有所需要的那样足够低。同时，如果源自所述含氟烯烃化合物的结构单元高于70摩尔％，则所获得的低折射率层30不是优选的，因为涂覆液的均匀性恶化并且因此难以形成涂覆的膜，且所述层30具有降低的透明性并且不是如所需要的那样紧密粘附于基底上。
在所述含氟共聚物中，源自具有乙烯基醚结构的化合物组分的结构单元的比例为10～70摩尔％、优选为15～65摩尔％并且更优选为30～60摩尔％。如果源自具有乙烯基醚结构的化合物组分的结构单元的比例小于10摩尔％，则涂覆液的均匀性恶化并且因此难以形成均匀涂覆的膜。如果该比例高于70摩尔％，则该低折射率层30不是优选的，因为其可能具有降低的光学性质，例如在透明性和低折射率方面具有降低的光学性质。优选的是，使用具有反应性官能团例如羟基或者环氧基团的单体作为具有所述乙烯基醚结构的化合物组分，这是因为在将所获得的能固化的树脂组合物用作涂覆材料时，经固化的膜的强度得到改善。具有羟基或者环氧基团的单体与单体总量的比为0～20摩尔％、优选为1～20摩尔％、且更优选为3～15摩尔％。如果该比高于20摩尔％，则所获得的低折射率层30可能在光学性质方面恶化并且可产生脆弱的固化膜。在包含反应性乳化剂的含氟共聚物中，源自所述反应性乳化剂组分的子单元的比例通常为0～10摩尔％并且优选为0.1～5摩尔％。如果该比例高于10摩尔％，则所获得的低折射率层30可能是粘性的，并且因此不是优选的，因为不易对其进行操作并且该涂覆材料的防潮性降低。
而且，本发明中的低折射率层30的特征在于：其含有3～15重量份的空心二氧化硅颗粒，基于100重量份的粘结剂树脂。在这种情况下，少于3重量份的空心二氧化硅颗粒含量导致折射率升高，从而造成反射率升高。超过15重量份的空心二氧化硅颗粒含量导致表面的凸出和凹入部分的算术平均粗糙度值Ra升高，从而不利的是使反射率提高，并且还使表面硬度、抗刮伤能力和指纹污迹除去能力下降，而且由于包含昂贵的空心二氧化硅颗粒还使生产成本提高。
而且，优选在根据本发明的低折射率层30中除了氟化共聚物之外还混合了交联化合物，并且这是有效的，因为其提供给定的能够固化的性质以改善可固化特性。
所述交联化合物的实例包括：氨基化合物、季戊四醇、多元酚、二醇、硅酸烷基酯和具有羟基的化合物(例如其水解产物)等。用作交联化合物的氨基化合物为具有能够与所述含氟化合物中的羟基或者环氧基团反应的氨基(例如羟烷基氨基或者烷氧基烷基氨基)的化合物，所述化合物总共具有两个或者更多个来自任一个或者全部两个上述氨基的基团。具体而言，所述氨基化合物的实例包括三聚氰胺化合物、脲化合物、苯并胍胺化合物、和甘脲化合物。已知三聚氰胺化合物为具有其中氮原子与三嗪环结合的结构的化合物，例如三聚氰胺、烷基三聚氰胺、羟甲基三聚氰胺、烷氧基甲基三聚氰胺等。它们之中，优选在一个分子中总共具有两个或者更多个如下基团的化合物，所述基团为羟甲基和烷氧基甲基中的任一个或者全部两者。具体而言，优选通过使三聚氰胺与甲醛在碱性条件下反应而获得的羟甲基三聚氰胺、烷氧基甲基三聚氰胺或者其衍生物。具体而言，优选烷氧基甲基三聚氰胺，因为在能固化的树脂组合物中获得了良好的保存稳定性和良好的反应性能。对用作交联化合物的羟甲基三聚氰胺和烷氧基甲基三聚氰胺没有特别限制，并且可使用以文献“Plastic Material[8]Urea Melamine Resin(由Nitgan High School Newspaper Publishing出版)”中所述的方式获得的各种树脂。脲化合物的实例除了脲之外还有羟甲基乌龙(uron)和烷氧基甲基乌龙，它们具有多羟甲基脲、从其衍生的烷氧基甲基脲和乌龙环。对于脲衍生物化合物，可使用以上文献中所述的各种树脂。
这种交联化合物的量为3～70重量份、优选为3～50重量份且更优选为5～30重量份，基于100重量份的含氟共聚物。如果该交联化合物的量小于3重量份，则可能得不到通过涂覆和固化形成的膜的所需耐久性水平。如果该量超过70重量份，则在与含氟共聚物的反应中难以避免凝胶化并且经固化的膜不是低折射率的使得所得固化膜可能没有所需要的那样坚固。
优选低折射率层30含有二氧化硅颗粒和/或硅烷偶联剂、和/或具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂以增强表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力。
所述二氧化硅颗粒组分优选包括干二氧化硅、湿二氧化硅和分散在胶体中的二氧化硅颗粒，更优选包括分散在胶体中的二氧化硅颗粒。所述二氧化硅颗粒的平均初级粒径(球等效直径：BET定律)通常为0.001～0.2μm、且优选为0.001～0.005μm。如果平均粒径落在该优选范围内，则低折射率层30的透明性不降低并且表面硬度容易得到改善。而且，二氧化硅颗粒的形状优选为球形或者空心圆柱形。对于二氧化硅颗粒，可使用各自具有不同平均粒径的两种或者更多种颗粒组分。二氧化硅颗粒可经表面处理。对于表面处理，可采用例如等离子体放电或者电晕放电的物理表面处理或者使用偶联剂的化学表面处理，但是优选采用化学处理。对于化学处理，优选使用硅烷偶联剂。以固体物质计，来自二氧化硅颗粒的组分的比例为3～50％、优选为3～40％、更优选为3～15％。如果来自二氧化硅颗粒的组分的比例落在该优选范围内，则所获得的低折射率层30具有所需水平的表面硬度和抗刮伤性，并且还具有良好的光学特性，例如在透明性、低折射率等方面具有良好的光学特性。
所述硅烷偶联剂组分为由化学式1表示的化合物或者其水解产物。
[化学式1]
R(1)aR(2)bSiX4-(a+b)
此处，R(1)或R(2)为具有烷基、烯基、烯丙基或卤素基团、环氧基团、氨基、巯基、甲基丙烯酰氧基、氰基等的烃基。X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤素基团和酰氧基的能水解的取代基。在以上化学式1中，a和b各自为0、1或2，并且(a+b)为1、2或3。以固体物质计，源自该硅烷偶联剂的组分的比例为5～70％、优选为15～65％、且更优选为20～60％。当源自该硅烷偶联剂的组分落在以上优选范围内时，所获得的低折射率层30具有所需水平的表面硬度和抗刮伤性，并且还具有良好的光学特性，例如在透明性、低反射率等方面具有良好的光学特性。
具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂为由化学式2表示的化合物或者其水解产物。
[化学式2]
R(3)cR(4)dSiX4-(c+d)，
此处，R(3)或R(4)为具有氟取代的烷基、烯基、烯丙基、甲基丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰基等的烃基。X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤素基团和酰氧基的能水解的取代基。在以上化学式2中，c和d各自为0、1、2或3，并且(c+d)为1、2或3。
以固体物质计，源自具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂的组分的比例为20～90％、优选为25～80％、且更优选为30～70％。当源自具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂的组分的比例落在以上优选范围内时，所获得的低折射率层30具有所需水平的表面硬度，并且还具有良好的光学特性，例如在透明性、低反射率等方面具有良好的光学特性。
当形成本发明中的低折射率层30时，可使用固化催化剂以促进涂覆液的固化。优选的固化催化剂为用于促进硅烷偶联剂缩合的催化剂，例如酸性化合物。优选的示意性酸性化合物为路易斯酸性化合物。示意性路易斯酸性化合物为金属烷氧基化物，例如乙酰乙酸铝(acetacetoxy aluminum)、或者金属螯合物。适当选择固化催化剂的量，但是其通常为0.1～10重量份，基于100重量份的硅烷偶联剂。
当形成本发明中的低折射率层30时，如果需要，可添加各种添加剂，例如阻聚剂、抗氧化剂、分散剂、流平剂等。
为了在根据本发明的低反射膜中产生高度透明的性质，优选将所述膜的雾度值保持低于3.0％、且优选地低于2.7％。如果雾度值高于3.0％，则不大可能获得叠层膜的所需水平的透明性。
而且，为了使低折射率层30具有所需水平的表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力，必须在低折射率层的表面上形成细小的凸出和凹入部分。认为，通过凸出和凹入部分引起的表面粗糙度、表面硬度和抗刮伤性之间的关系由以下机理造成。即，当用一块钢丝棉滑过细小的凸出和凹入部分时，这块钢丝棉仅与所滑过的凸出部分接触。因此，算术平均粗糙度值Ra越大，则高的凸出部分相应地对钢丝棉滑过的抑制作用越大，使得表面硬度和抗刮伤性降低。结果，算术平均粗糙度值Ra越小，则表面硬度和抗刮伤性改善得越多。必须的是，低折射率层30的表面的算术平均粗糙度值Ra为0.0001μm～0.025μm。其优选为0.0001μm～0.010μm，且更优选为0.0001μm～0.005μm。高于规定范围的低折射率层30的表面的算术平均粗糙度值Ra导致所述层30的雾度值升高，从而导致透明性下降。凸出和凹入部分的算术平均粗糙度值Ra高于规定范围时，难以改善表面硬度和抗刮伤性。为了在本发明中的低折射率层30的表面上形成细小的凸出和凹入部分，优选含有无机颗粒，例如胶态二氧化硅、干二氧化硅、湿二氧化硅、氧化钛、玻璃珠、氧化铝、碳化硅、氮化硅等，胶态二氧化硅颗粒等。更优选含有胶态二氧化硅颗粒。具体而言，优选所述细小的凸出和凹入部分可由平均粒径为0.001～0.005μm的二氧化硅颗粒形成。
为了使本发明的低折射率层30的表面具有低的反射率，优选该折射率与高折射率的硬涂覆层20和低折射率层30的厚度的乘积为目标光线(通常为可见光线)波长的1/4。因此，在硬涂覆层20和低折射率层30中，厚度与折射率n的乘积的四倍优选落在380和780nm之间。即，优选折射率(n)与硬涂覆层20和低折射率层30的厚度(d)之间的关系落在以下方程1的范围内：
[方程1]
n·d＝λ/4，
其中λ表示可见光线的波长，通常380nm≤λ≤780nm。
为了使本发明的低反射膜为低反射率的，优选硬涂覆层20的厚度为1～50μm、且更优选为2～30μm。低折射率层30的厚度范围优选为0.01～1.0μm、且更优选为0.05～0.12μm。如果硬涂覆层20和低折射率层30各自的厚度不在规定范围内，则不可能满足以上方程1，并且在低折射率层30侧上的叠层膜表面不是低反射率的。
而且，为了使本发明的低折射率层30侧上的叠层膜表面是低反射率的，低折射率层30的折射率比硬涂覆层20的折射率小，即低折射率层30的折射率/硬涂覆层20的折射率优选小于1.0且更优选为0.6～0.95。低折射率层30的折射率优选不大于1.47、且更优选为1.40～1.45。通过增加二氧化硅等颗粒的含量，折射率小于1.40的树脂导致表面的凸出和凹入部分的算术平均粗糙度值Ra提高，由此不利地使表面硬度、抗刮伤能力等性质下降，并且此外大于1.47的折射率导致高的反射率。
下文中，将具体描述在表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力方面出色的低反射膜的制造方法。
根据本发明的低反射膜可通过至少在基底膜10的一侧上顺次设置含有(甲基)丙烯酸酯化合物的高折射率的硬涂覆层20和含有氟化物化合物的低折射率层30而制造。在本发明中，高折射率的硬涂覆层20和低折射率层30可通过如下形成：生产其中将各组分优选地分散在溶剂中的溶液；将所述溶液涂布于基底膜上；然后干燥和固化所得膜。
混入用于形成本发明的高折射率的硬涂覆层20的溶剂以改善本发明中各组分的涂覆或者印刷性能、以及溶解粘结剂组分，并且其不限于特定类型，其为常规已知的任何类型的有机溶剂，只要其可以溶解粘结剂组分。具体而言，就本发明中组合物的粘度稳定性以及干燥性能而言，优选具有60～180℃沸点的有机溶剂。这样的有机溶剂的实例有：甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、叔丁醇、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、丙二醇单甲醚、环己酮、乙酸丁酯、异丙基丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、二乙酰基丙酮、乙酰丙酮等。它们可单独使用或者以其两种或者更多种类型的组合使用。
而且，可对有机溶剂的量进行选择，使得可获得具有取决于涂覆装置或者印刷装置的合适的粘度水平的组合物以获得良好的操作性能，但是通常该量不超过所述组合物固体密度中的60重量％，且优选不超过50重量％。通常，将光聚合引发剂加入到其中将粘结剂组分溶解在有机溶剂中的溶液中以使该光聚合引发剂均匀地溶解在其中。
而且，当形成低折射率层30时，将主要由含氟化合物组成的能固化的组合物分散在选自如下的至少一种类型的溶剂中：甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、叔丁醇、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、丙二醇单甲醚、环己酮、乙酸丁酯、异丙基丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、二乙酰基丙酮、和乙酰丙酮。然后优选地涂布所得混合物，以通过使以其所涂覆的膜干燥和固化而形成低折射率层30。在这种情况下，溶剂的量可根据组合物的所需粘度水平、固化膜的所需厚度、干燥温度等条件而变化。
而且，优选根据本发明的设置膜的层结构至少在基底膜10的一侧上包括含有(甲基)丙烯酸酯化合物的高折射率的硬涂覆层20和含有氟化物化合物的低折射率层30。而且，优选的是，为了在基底膜10的一侧上形成多个高折射率的硬涂覆层20，将低折射率层30设置在所述膜10的相同侧上的最外面的表面上以形成多个低折射率层30。任选地，在基底膜10上与高折射率的硬涂覆层20的相反侧上，可形成底胶层和透明传导层。还任选地，可在树脂层的表面上形成防潮层和保护层。优选防潮层和保护层的厚度不大于20nm以便不影响抗反射性。
具有根据本发明的低反射膜的用于显示装置的膜可通过如下制造：在叠层膜的低反射率层30上形成粘合剂层，然后将保护膜粘附于该粘合剂层上。所述粘合剂层不限于特定类型，只要其通过粘附性实现粘附。
用于形成粘合剂层的粘合剂可以是基于橡胶的、基于乙烯基聚合的、基于缩聚的、基于热固性树脂的、和基于有机硅的等。它们之中，示例性的橡胶粘合剂为基于丁二烯-苯乙烯共聚物(SBR)的、基于丁二烯-丙烯腈共聚物(NBR)的、基于氯丁二烯聚合物的、基于异丁烯-异戊二烯共聚物(丁基橡胶)的等。示例性的基于乙烯基聚合物的粘合剂为基于丙烯酸类树脂的、基于苯乙烯树脂的、基于乙酸乙烯酯-乙烯共聚物的和基于氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物的等。示例性的基于缩聚的粘合剂为基于聚酯树脂的。示例性的基于热固性树脂的粘合剂为基于环氧树脂的、基于氨基甲酸酯树脂的、基于福尔马林树脂的等。所述树脂可单独使用或者以其两种或者更多种类型的组合使用。
而且，所述粘合剂可为溶剂型或者非溶剂型。为了形成粘合剂层，可采用常规技术，例如用上述粘合剂涂覆。而且，所述粘合剂层可包括着色剂。这容易通过将含有例如颜料或者染料的着色剂混合在粘合剂中而实现。在含有着色剂的情况下，优选的是，对于根据本发明的叠层膜，550nm处的透光率落在40％和80％之间。而且，当根据本发明的叠层膜用于等离子体显示器时，对于透射光需要中性灰色或者发蓝的灰色，并且对于显示器需要改进的发射光色纯度和对比度。因此，其通过使用这种含有颜料的粘合剂层而实现。
构成保护膜的树脂材料不限于特定类型，并且可从用于已知塑料基底膜的树脂材料中选择。用于保护膜的树脂材料的实例包括酯、乙烯、丙烯、二乙酸酯、三乙酸酯、苯乙烯、碳酸酯、甲基戊烯、砜、醚乙基酮、尼龙、丙烯酸酯、具有选自脂环族烯烃的子单元的聚合物或者共聚物。它们之中，优选使用具有选自如下的子单元的聚合物或者共聚物：基于乙烯的，例如聚乙烯等；基于丙烯的；基于酯的，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯等。具体地，就透明性和机械性质而言，优选由具有基于酯的子单元的聚合物构成的基底。
具有根据本发明的低反射膜的用于显示器的滤光器通过如下获得：将叠层膜施加于显示器(例如，LCD、PDP、ELD(电致发光显示器)、或者CRT、PDA)的屏幕的显示表面和/或前面板的表面上，其中将低反射膜施加于显示表面上并且粘合剂层置于该叠层膜和显示表面之间。
通过将根据本发明的低反射膜粘附于LCD、PDP、ELD、或者CRT、PDA等的显示屏上的显示侧上，还获得了具有低反射膜的显示器，其中粘合剂层置于该叠层膜和显示屏表面之间。
将这样生产的叠层膜紧密粘附于显示屏表面和/或前面板表面的方法不限于特定类型，并且其用于将粘合剂层涂布到显示构件或者基底膜10上、以干燥粘合剂膜，然后使用压辊等使显示构件和膜10与该叠层膜结合使得低折射率层30作为表面层，其中粘合剂层置于基底膜10和显示构件之间。通过所述方法获得了具有低反射膜的用于显示器的滤光器和具有该低反射膜的显示器。
下文中，将参照本发明的优选实施例更详细地描述本发明，但是本领域技术人员应明晰本发明不受这些实施例的限制。
实施例1
形成高折射率的硬涂覆层20
通过如下方法制备用于制造高折射率的硬涂覆层的溶液：将光引发剂(100％的固体)(IRGACURE-184，可得自Ciba Specialty Chemicals Co.)加入到通过将含有丙烯酸酯的高折射率的硬涂覆树脂(100％的固体，UV-9100B，可得自Japan Synthetic Chemical Industry Co.)溶解在异丙醇(IPA)中而获得的混合物中，然后均匀地混合以上物质(低聚物∶IPA∶光引发剂＝48.8重量％∶48.8重量％∶2.4重量％)。在这种情况下，加入到混合物中的光引发剂的量为硬涂覆树脂组分的量的0.05倍。用microgravia涂布机将均匀混合的溶液涂布到厚度为100μm的聚酯膜(Lumirror，可得自Toray Co.)基底10的表面上。在将所得涂覆膜在80℃下干燥5分钟之后，用0.5J/cm2的紫外线对其进行辐照以使该涂覆层固化，从而形成厚度约为2.0μm并且具有算术平均粗糙度(Ra)为0.003μm的细小的凸出和凹入部分的高折射率的硬涂覆层20。
形成低折射率层30
将氟化共聚物(含氟烯烃/乙烯基醚共聚物)涂料(10％的固体)(TU2263，可得自JSP Co.，5重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的粘结剂树脂)溶解在异丙醇中(氟化共聚物∶异丙醇＝8.2重量％∶91.8重量％)。用microgravia涂布机将通过混合以上物质而获得的所得涂覆溶液涂布在高折射率的硬涂覆层20的表面上至约112～116nm的厚度。在将所得涂覆膜在80℃下干燥5分钟后，用0.5J/cm2的紫外线对其进行辐照以使该涂覆层固化，从而形成厚度约为0.1μm并且具有算术平均粗糙度(Ra)为0.003μm的细小的凸出和凹入部分的低折射率层30。
实施例2
形成高折射率的硬涂覆层20
通过如下方法制备用于制造高折射率的硬涂覆层的溶液：将光引发剂(100％的固体)(IRGACURE-184，可得自Ciba Specialty Chemicals Co.)加入到通过将含有丙烯酸酯的高折射率的硬涂覆树脂(100％的固体，UV-9100B，可得自Japan Synthetic Chemical Industry Co.)溶解在异丙醇(IPA)中而获得的混合物中，然后均匀地混合以上物质(低聚物∶IPA∶光引发剂＝48.8重量％∶48.8重量％∶2.4重量％)。在这种情况下，加入到混合物中的光引发剂的量为硬涂覆树脂组分的量的0.05倍。用microgravia涂布机将均匀混合的溶液涂布到厚度为100μm的聚酯膜(Lumirror，可得自Toray Co.)基底10的表面上。在将所得涂覆膜在80℃下干燥5分钟之后，用0.5J/cm2的紫外线对其进行辐照以使该涂覆层固化，从而形成厚度约为2.0μm并且具有算术平均粗糙度(Ra)为0.003μm的细小的凸出和凹入部分的高折射率的硬涂覆层20。
形成低折射率层30
将氟化共聚物(含氟烯烃/乙烯基醚共聚物)涂料(10％的固体)(TU2207，可得自JSP Co.，10重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的粘结剂树脂)溶解在异丙醇中(氟化共聚物∶异丙醇＝8.2重量％∶91.8重量％)。用microgravia涂布机将通过混合以上物质而获得的所得涂覆溶液涂布在高折射率的硬涂覆层20的表面上至约112～116nm的厚度。在将所得涂覆膜在80℃下干燥5分钟后，用0.5J/cm2的紫外线对其进行辐照以使该涂覆层固化，从而形成厚度约为0.1μm并且具有算术平均粗糙度(Ra)为0.005μm的细小的凸出和凹入部分的低折射率层30。
对比例1
形成高折射率的硬涂覆层20
通过如下方法制备用于制造高折射率的硬涂覆层的溶液：将11.1重量％的含有硬涂覆树脂和光引发剂的涂料(50％的固体，KZ7528，可得自JSRCo.)与88.9重量％的含有平均粒径为20～40nm且分散在异丙醇中的氧化铟锡(ITO)颗粒的溶液(25％的固体，50926-11-9，可得自SIGMA-ALDRICH Co.)均匀混合。在这种情况下，溶液中ITO颗粒的量等于硬涂覆树脂组分的量。用microgravia涂布机将均匀混合的溶液涂布到厚度为100μm的聚酯膜(Lumirror，可得自Toray Co.)基底10的表面上。在将所得涂覆膜在80℃下干燥5分钟之后，用1.0J/cm2的紫外线对其进行辐照以使该涂覆层固化，从而形成厚度约为2.0μm并且具有算术平均粗糙度(Ra)为0.015μm的细小的凸出和凹入部分的高折射率的硬涂覆层20。
形成低折射率层30
将氟化共聚物(含氟烯烃/乙烯基醚共聚物)涂料(10％的固体)(TU2263，可得自JSR Co.，5重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的粘结剂树脂)溶解在异丙醇中(氟化共聚物∶异丙醇＝8.2重量％∶91.8重量％)。用microgravia涂布机将通过混合以上物质而获得的所得涂覆溶液涂布在高折射率的硬涂覆层20的表面上至约112～116nm的厚度。在将所得涂覆膜在80℃下干燥5分钟后，用0.5J/cm2的紫外线对其进行辐照以使该涂覆层固化，从而形成厚度约为0.1μm并且具有算术平均粗糙度(Ra)为0.015μm的细小的凸出和凹入部分的低折射率层30。
对比例2
形成高折射率的硬涂覆层20
通过如下方法制备用于制造高折射率的硬涂覆层的溶液：将11.1重量％的含有硬涂覆树脂和光引发剂的涂料(50％的固体，KZ7528，可得自JSRCo.)与88.9重量％的含有平均粒径为20～40nm且分散在异丙醇中的氧化铟锡(ITO)颗粒的溶液(25％的固体，50926-11-9，可得自SIGMA-ALDRICH Co.)均匀混合。在这种情况下，溶液中ITO颗粒的量为硬涂覆树脂组分的量的两倍。用microgravia涂布机将均匀混合的溶液涂布到厚度为100μm的聚酯膜(Lumirror，可得自Toray Co.)基底10的表面上。在将所得涂覆膜在80℃下干燥5分钟之后，用1.0J/cm2的紫外线对其进行辐照以使该涂覆层固化，从而形成厚度约为2.0μm并且具有算术平均粗糙度(Ra)为0.025μm的细小的凸出和凹入部分的高折射率的硬涂覆层20。
形成低折射率层30
将氟化共聚物(含氟烯烃/乙烯基醚共聚物)涂料(10％的固体)(TU2189，可得自JSR Co.，40重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的粘结剂树脂)溶解在异丙醇中(氟化共聚物∶异丙醇＝8.2重量％∶91.8重量％)。用microgravia涂布机将通过混合以上物质而获得的所得涂覆溶液涂布在高折射率的硬涂覆层20的表面上至约112～116nm的厚度。在将所得涂覆膜在80℃下干燥5分钟后，用0.5J/cm2的紫外线对其进行辐照以使该涂覆层固化，从而形成厚度约为0.1μm并且具有算术平均粗糙度(Ra)为0.037μm的细小的凸出和凹入部分的低折射率层30。
下文中，将参照根据以上实施例和对比例制造的低反射膜来描述评价该膜的特性的方法。
[实验1：测量透光率]
该实验使用可得自Sugashikenki Co.的雾度读取计算机进行。
[实验2：测量反射率]
使用可购自Hitachi Keisoku，Japan的分光光度计U-3410测量反射率。用一张320～400的防水砂纸对样品膜的不同于待测量的侧面的那个侧面进行均匀破坏，并且向该侧面涂布黑色涂覆液以消除来自该侧面的反射。在入射光在低折射率层30侧的表面上成6～10°的角度下进行测量。这种情况下的反射率表示在380nm≤λ≤780nm的波长范围下的最小值。
[实验3：测量表面硬度(铅笔硬度)]
使用HEIDON(可购自Shinkokagakusa Co.)，根据JIS K-5400测量表面硬度。
[实验4：评价抗刮伤性(钢丝棉硬度)]
当通过施加250gf/cm2的负荷使一块#0000钢丝棉来回蹭10次时，观察损伤的数目。根据损伤数目，将硬度分为以下等级：(等级5：无损伤；等级4：1～5个损伤；等级3：5～10个损伤；等级2：超过10个损伤；和等级1：整个表面上都有损伤)。
[实验5：评价指纹污迹除去能力]
所有样品上的指纹污迹除去能力是通过用无光泽黑色墨水对低反射膜的背面进行处理，然后用手指慢慢按压并且接触该低反射膜的表面以产生指纹污迹，然后用一块布等对其前后擦拭5次以除去所述污迹，根据残留的指纹污迹的程度而确定的。在下表1中，“○”表示未留下指纹污迹，“△”表示留下稍微可见的指纹污迹，和“×”表示留下清晰可见的指纹污迹。
下表1显示用于确定上述特性的实验的结果。
表1
Figure B2009101607186D0000201
根据实施例1和2的低反射膜中的高折射率的硬涂覆层是使用含有丙烯酸酯的硬涂覆树脂制造的并且在固化后呈现出0.003μm的算术平均粗糙度(Ra)。根据对比例1和2的低反射膜中的高折射率的硬涂覆层含有氧化铟锡(ITO)颗粒，其量分别与包含在具有硬涂覆树脂和光引发剂的涂料中的硬涂覆树脂的量相等和为其两倍。在使该层固化之后，算术平均粗糙度(Ra)分别为0.015μm和0.025μm。
而且，使用改进的涂料制造的低反射率层的算术平均粗糙度(Ra)分别为0.003μm和0.005μm，而当该算术平均粗糙度(Ra)增加到如对比例1中那样的0.015μm时，表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力下降。当该算术平均粗糙度(Ra)进一步增加至如对比例2中的0.037μm时，反射率可显著下降，因为折射率随着高折射率的硬涂覆层中氧化铟锡(ITO)颗粒的含量的提高而增大，并且折射率可随着低折射率层中空心二氧化硅含量的提高而降低。然而，由于透光率急剧下降，该膜作为显示元件的应用受到限制，并且指纹污迹除去能力的丧失导致品质下降。
在上表1中可见，根据本发明的低反射膜具有在基底膜上的硬涂覆层和低折射率层的连续2层结构，其中将所述硬涂覆层的折射率调节为高折射率。可看出，与根据对比例制造的膜相比，根据实施例制造的低反射膜的表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力出色，因为高折射率的硬涂覆层和低折射率层具有细小的凸出和凹入部分并且这些部分的算术平均粗糙度(Ra)得到控制。
因此，在根据本发明的低反射膜与具有多层结构的现有技术低反射膜相比物理性能得到改善的同时，其生产率得到改进并且生产成本有利地降低，因为避免了包含昂贵的氧化铟锡(ITO)颗粒。因此，本发明可为显示装置提供改进的低反射膜，在显示装置中，高硬度的低反射膜适用于大型平板电视的前面板如等离子体显示面板、液晶电视的前面板、或者所使用的其中采用触摸屏的小型移动显示装置。
从以上描述，应观察到，本领域技术人员在不偏离本发明的真实精神和范围的情况下，可进行各种修改和变化。应理解，前述描述旨在说明而不是限制由权利要求所限定的本发明的范围。
权利要求中的附图标记不限制这些权利要求的保护范围。动词“包括”和该动词的变化形式的使用不排除存在除权利要求中所述的要素之外的要素。要素前的冠词“一个(a)”或者“一种(an)”的使用不排除存在多个(种)这样的要素。

Claims (11)

1.低反射膜，其特征在于至少在基底膜(10)的一侧上顺次设置高折射率的硬涂覆层(20)和低折射率层(30)，其中所述低折射率层(30)的表面具有算术平均粗糙度(Ra)为0.0001μm～0.005μm的细小的凸出和凹入部分。
2.权利要求1的低反射膜，其特征在于所述低折射率层(30)包括3～15重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的粘结剂树脂。
3.权利要求1的低反射膜，其特征在于所述低反射膜的雾度低于3％。
4.权利要求1的低反射膜，其特征在于所述低反射膜具有等于或者大于3H的表面硬度。
5.权利要求1的低反射膜，其特征在于所述低反射膜的水接触角等于或者大于80°。
6.权利要求1的低反射膜，其特征在于所述高折射率的硬涂覆层(20)的厚度为1～50μm并且所述低折射率层(30)的厚度为0.01～1.0μm。
7.权利要求1的低反射膜，其特征在于所述低折射率层(30)包括在其骨架中具有乙烯基醚结构的氟化共聚物。
8.权利要求7的低反射膜，其特征在于所述低折射率层(30)进一步包括粒径为0.001μm～0.2μm的二氧化硅颗粒。
9.权利要求1-8中任一项的低反射膜，其特征在于所述低折射率层(30)包括由以下化学式1表示的硅烷偶联剂或者其水解产物或反应物：
[化学式1]
R(1)aR(2)bSiX4-(a+b)，
其中R(1)和R(2)各自为具有烷基、烯基、烯丙基、卤素基团、环氧基团、氨基、巯基、甲基丙烯酰氧基或者氰基的烃基，X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤素基团和酰氧基的能水解的取代基，a和b各自为0、1或2，并且同时(a+b)为1、2或3。
10.权利要求9的低反射膜，所述低折射率层(30)进一步包括氟化化合物，例如由以下化学式2表示的具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂或者水解产物：
[化学式2]
R(3)cR(4)dSiX4-(c+d)，
其中R(3)和R(4)各自为具有氟取代的烷基、烯基、烯丙基、甲基丙烯酰氧基或者(甲基)丙烯酰基的烃基，X为选自烷氧基、烷氧基烷氧基、卤素基团和酰氧基的能水解的取代基，c和d各自为0、1、2或3，并且同时(c+d)为1、2或3。
11.权利要求1-8中任一项的低反射膜，其特征在于，在用射线照射所述低反射膜500小时后，所述低反射膜的反射率增加量低于0.5％。
CN2009101607186A 2009-04-10 2009-07-17 低反射膜 Active CN101858994B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR31177/09 2009-04-10
KR1020090031177A KR20100112740A (ko) 2009-04-10 2009-04-10 저반사 필름

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101858994A true CN101858994A (zh) 2010-10-13
CN101858994B CN101858994B (zh) 2013-09-11

Family

ID=42945005

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2009101607186A Active CN101858994B (zh) 2009-04-10 2009-07-17 低反射膜

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR20100112740A (zh)
CN (1) CN101858994B (zh)
TW (1) TWI408406B (zh)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103293568A (zh) * 2013-06-13 2013-09-11 中国乐凯集团有限公司 一种防反射膜及其制备方法
CN103364851A (zh) * 2012-04-10 2013-10-23 精工爱普生株式会社 光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法
CN103364850A (zh) * 2012-04-10 2013-10-23 精工爱普生株式会社 光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法
CN103563116A (zh) * 2011-05-31 2014-02-05 欧司朗光电半导体有限公司 光电子器件和用于制造光电子器件的方法
CN104822522A (zh) * 2012-11-27 2015-08-05 东丽薄膜先端加工股份有限公司 硬涂膜及透明导电性膜
CN105068703A (zh) * 2015-08-01 2015-11-18 贵州达沃斯光电有限公司 集成式电容触摸面板及其制作方法
CN106575179A (zh) * 2014-09-08 2017-04-19 株式会社大赛璐 防水印膜及触摸面板显示器
CN107884979A (zh) * 2017-09-30 2018-04-06 惠州市德赛西威汽车电子股份有限公司 一种低反射率的显示器
CN108597651A (zh) * 2018-06-05 2018-09-28 江西和信化研纳米材料有限公司 一种透明导电膜
CN109891271A (zh) * 2016-10-25 2019-06-14 富士胶片株式会社 防反射膜、偏振片、图像显示装置及防反射物品
CN110794584A (zh) * 2018-08-01 2020-02-14 肖特股份有限公司 具有两个涂覆层分组的光学层状复合材料及其在增强现实中的应用
JP2021513673A (ja) * 2018-06-29 2021-05-27 エルジー・ケム・リミテッド 光学積層体およびディスプレイ装置
US11609363B2 (en) 2019-09-27 2023-03-21 Schott Ag Layered optical composite having a reduced content of highly refractive layers and its application in augmented reality
US11789284B2 (en) 2018-08-01 2023-10-17 Schott Ag Optical layered composite having a coating thickness below a threshold and its application in augmented reality

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101271469B1 (ko) * 2010-11-16 2013-06-05 도레이첨단소재 주식회사 터치스크린 패널용 산화방지 필름 및 이를 채용한 터치스크린 패널
KR101523821B1 (ko) 2012-10-30 2015-05-28 (주)엘지하우시스 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 표면 에너지가 조절된 반사 방지 필름
KR101507208B1 (ko) * 2012-11-07 2015-04-07 (주)엘지하우시스 실록산 화합물을 포함하는 초친수성 반사방지 코팅 조성물, 이를 이용한 초친수성 반사방지 필름 및 이의 제조방법
JP6244678B2 (ja) * 2013-06-12 2017-12-13 大日本印刷株式会社 タッチパネル付光学積層体、偏光板及び画像表示装置
KR102017789B1 (ko) 2015-12-03 2019-09-03 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
CN110537116B (zh) * 2017-04-20 2021-10-29 信越化学工业株式会社 防反射构件及其制造方法
KR20230056615A (ko) 2021-10-20 2023-04-27 (주)월드튜브 저반사 보호 필름
KR102542408B1 (ko) 2022-12-02 2023-06-14 율촌화학 주식회사 저반사 코팅층을 포함하는 저반사 필름 및 그 제조 방법

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI274662B (en) * 2002-03-29 2007-03-01 Toray Industries Laminated film, filter for display and display
KR101312064B1 (ko) * 2006-02-08 2013-09-25 동우 화인켐 주식회사 저반사 필름 및 그 제조방법
JP4911710B2 (ja) * 2007-03-30 2012-04-04 日東電工株式会社 複屈折性フィルム、積層フィルム、及び画像表示装置
JP5232403B2 (ja) * 2007-05-10 2013-07-10 日東電工株式会社 光学積層フィルム、及び長尺光学積層フィルムの製造方法、及び液晶表示装置

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103563116A (zh) * 2011-05-31 2014-02-05 欧司朗光电半导体有限公司 光电子器件和用于制造光电子器件的方法
US9190628B2 (en) 2011-05-31 2015-11-17 Osram Oled Gmbh Optoelectronic component and method for producing an optoelectronic component
CN103364851A (zh) * 2012-04-10 2013-10-23 精工爱普生株式会社 光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法
CN103364850A (zh) * 2012-04-10 2013-10-23 精工爱普生株式会社 光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法
CN104822522A (zh) * 2012-11-27 2015-08-05 东丽薄膜先端加工股份有限公司 硬涂膜及透明导电性膜
CN103293568A (zh) * 2013-06-13 2013-09-11 中国乐凯集团有限公司 一种防反射膜及其制备方法
CN103293568B (zh) * 2013-06-13 2015-10-28 中国乐凯集团有限公司 一种防反射膜及其制备方法
CN106575179A (zh) * 2014-09-08 2017-04-19 株式会社大赛璐 防水印膜及触摸面板显示器
CN106575179B (zh) * 2014-09-08 2019-12-24 株式会社大赛璐 电容式触摸面板显示器
CN105068703A (zh) * 2015-08-01 2015-11-18 贵州达沃斯光电有限公司 集成式电容触摸面板及其制作方法
CN109891271A (zh) * 2016-10-25 2019-06-14 富士胶片株式会社 防反射膜、偏振片、图像显示装置及防反射物品
CN107884979A (zh) * 2017-09-30 2018-04-06 惠州市德赛西威汽车电子股份有限公司 一种低反射率的显示器
CN107884979B (zh) * 2017-09-30 2020-10-16 惠州市德赛西威汽车电子股份有限公司 一种低反射率的显示器
CN108597651A (zh) * 2018-06-05 2018-09-28 江西和信化研纳米材料有限公司 一种透明导电膜
JP2021513673A (ja) * 2018-06-29 2021-05-27 エルジー・ケム・リミテッド 光学積層体およびディスプレイ装置
JP7238242B2 (ja) 2018-06-29 2023-03-14 エルジー・ケム・リミテッド 光学積層体およびディスプレイ装置
CN110794584A (zh) * 2018-08-01 2020-02-14 肖特股份有限公司 具有两个涂覆层分组的光学层状复合材料及其在增强现实中的应用
US11789284B2 (en) 2018-08-01 2023-10-17 Schott Ag Optical layered composite having a coating thickness below a threshold and its application in augmented reality
US11609363B2 (en) 2019-09-27 2023-03-21 Schott Ag Layered optical composite having a reduced content of highly refractive layers and its application in augmented reality

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100112740A (ko) 2010-10-20
TWI408406B (zh) 2013-09-11
TW201037348A (en) 2010-10-16
CN101858994B (zh) 2013-09-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101858994B (zh) 低反射膜
TWI400476B (zh) 具有優異之刮擦抗性及表面滑動性質的抗反射膜
KR100918916B1 (ko) 광학용 적층필름
TWI274662B (en) Laminated film, filter for display and display
KR101870473B1 (ko) 반사 방지 필름, 반사 방지 필름의 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치
CN100358710C (zh) 硬涂层薄膜、防反射薄膜以及图像显示装置
JP3679976B2 (ja) ディスプレイ用貼着フィルム
JP4853813B2 (ja) 反射防止積層体
US9857505B2 (en) Laminate body and manufacturing method thereof
CN105143322A (zh) 塑料膜
TW516318B (en) Display front panel having an anti-reflection layer
WO2007105394A1 (ja) 帯電防止性ハードコートフィルム
CN111712534B (zh) 抗反射膜、偏光板和显示装置
JP2008127413A (ja) ハードコート剤及び反射防止フィルム
JP2003145689A (ja) 積層フィルム、画像表示保護フィルムおよびそれを用いた画像表示装置
JP2017207699A (ja) 耐指紋性反射防止フィルム
KR101642774B1 (ko) 투명 도전성 필름 및 이를 이용한 투명 전극 부재
CN101315431B (zh) 虹现象减少且具有优化的抗反射效果的抗反射膜
JP2010186020A (ja) 防眩性反射防止フィルム
JP2007246699A (ja) ハードコート剤及び反射防止フィルム
KR100966546B1 (ko) 적층필름, 디스플레이용 필터 및 디스플레이
JP2002283509A (ja) 積層フィルム及びその製造方法
JP2007245622A (ja) ハードコート層用組成物及び積層体
JP2007314594A (ja) ハードコート層形成用組成物及び積層体
JP2005313450A (ja) 反射防止フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant