CN106575179A - 防水印膜及触摸面板显示器 - Google Patents
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Abstract
在内部具有空隙层的电容式触摸面板显示器中,在经由所述空隙层而对置的表面的至少一个表面叠层为透明的、表面具有由10μm×10μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra1为0.7nm以上且低于5nm、且由500μm×500μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra2为10~50nm的凹凸结构的防水印膜。特别是在经由空隙层而对置的表面中,可以在触摸面板的前侧的表面叠层防水印膜。该膜在内部具有空隙层的电容式触摸面板显示器中防止水印的产生,并且即使为高精细显示装置,也可以抑制眩光。
Description
技术领域
本发明涉及一种防水印膜及具备该膜的电容式触摸面板显示器,上述防水印膜叠层于内部具有空隙层的电容式触摸面板显示器中的隔着上述空隙层而对置的表面的至少一个表面上。
背景技术
伴随作为人机接口的电子显示器的进步,对话型的输入系统正在普及,其中,将触摸面板(坐标输入装置)与显示器一体化的装置在ATM(自动柜员机)、商品管理、户外工作(外交、销售)、向导显示、娱乐设备等中被广泛使用。液晶显示器等轻质、薄型显示器可以无键盘,发挥其特长,因此,在移动设备中使用触摸面板的情况增加。触摸面板为通过手指或圆珠笔等输入方法挤压指定位置,由此在计算机等中输入指定的信息等的装置,通过位置检测的方法可以分类为光学方式、超声波方式、电容式、电阻膜方式等。
这些方式中,电容式为利用静电容量的变化进行位置的检测的方式,但近年来,从功能性优异方面考虑,采用ITO栅极方式的投影型电容式触摸面板在智能手机、便携电话、电子纸、平板电脑(PC)、手写平板、游戏设备等移动设备中被采用而受到瞩目。特别是在智能手机或平板型个人计算机PC等中,高精细的显示装置也开始普及,对于这些设备,要求高度的透明性或防眩性等光学特性。另外,开发有在显示面板的像素数为全高清电视机的4倍的高分辨率的电视机(4K电视机)的显示器中搭载有触摸面板的电视机、或在建筑领域或医疗领域中被利用的高分辨率的笔输入设备。作为这种设备的触摸面板显示器的显示面(上部透明电极),使用透明材料,作为透明材料,从透明性或耐热性优异方面考虑,使用玻璃材料。但是,玻璃材料由于容易破裂,由于下落等而破碎且碎片容易飞散,因此,需要采用即使开裂、碎片也不飞散的对策。因此,作为防止由玻璃材料形成的上部电极(玻璃盖板)的开裂导致的碎片的飞散的方法,已知有将由不易开裂的塑料形成的膜(玻璃碎片的防飞散膜)贴附于玻璃盖板的内侧(背侧或内层)的方法。
防飞散膜通常由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜等透明树脂层、和叠层于该透明树脂层的一个表面且用于与玻璃盖板一体化的粘合层[OCA(光学透明级压敏胶)膜等]、和叠层于上述透明树脂层的另一个表面且用于防止生产工序或流通工序中损伤的产生的透明硬涂(CHC)层形成。例如,在采用ITO栅极方式的电容式触摸面板中,在配设于最表面的玻璃盖板的内侧(背侧或内层面)叠层ITO(氧化铟-氧化锡系复合氧化物)膜,但对于该ITO膜贴附上述防飞散膜的粘合层,CHC层侧配设于液晶显示器(LCD)或有机电致发光(EL)显示器(OLED)等显示元件(显示单元)。CHC层和显示元件有时隔着透明粘合层等而一体化,但从生产率等方面考虑,使粘接层(隔板)介于CHC层及显示元件的端部(周缘部或外框部)之间并一体化,在硬涂层和液晶层之间形成空隙(空间层)的方法正在普及。并且,近年来,在PC平板等中,由于轻质化及薄壁化的要求大,因此,使用仅1张玻璃基板作为上部电极的玻璃盖板(玻璃基板)的1张玻璃型也正在普及。但是,在设有这种空间层(空间部)的ITO栅极方式的电容式触摸面板(特别为1张玻璃型)中,用手指或圆珠笔等与显示面接触时,上部电极容易弯曲,CHC层和显示元件的表面(LCD中的偏光层等)密合而不分离,产生变黑的现象(黑点)。该现象被称为水印(WM),对于该现象,以往的触摸面板中,在硬涂层中配合微米级的粒子,在表面形成微米级的凹凸结构,通过制成防水印(AWM)层,抑制AWM层和显示元件表面的密合,防止WM的产生。但是,伴随近年来的触摸面板显示器的高精细化,具有含有粒子的AWM层的防飞散膜产生眩光,可视性降低。特别是如果增大凸部的高度,则AWM特性提高,另一方面,容易产生眩光,处于难以兼具AWM性和光学特性的平衡(trade-off)的关系。
日本特许第5440747号公报(专利文献1)中公开有:在具备显示装置和在与该显示装置之间设有缝隙而配置的电容式触摸面板的电容式带触摸面板显示装置中,将隔着上述缝隙而对置的上述显示装置的表面或上述电容式触摸面板的表面的表面粗糙度调整为1.5nm以上400nm以下。该文献的实施例中,使用含有多官能(甲基)丙烯酸酯及粒径100nm的胶态二氧化硅的硬涂层形成组合物来制作保护片,利用该保护片形成表面粗糙度50~300nm的凹凸结构。另外,该文献的比较例中,制作具有表面粗糙度为1nm的凹凸结构的保护片,明确地产生牛顿环,偏振片也粘附。
但是,即使在该电容式带触摸面板显示装置中,在近年来的进行了高精细化的平板型PC等中也产生眩光,光学特性不充分。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特许第5440747号公报(权利要求、实施例)
发明内容
发明所要解决的技术问题
因此,本发明的目的在于,提供一种防水印膜及具备该膜的电容式触摸面板显示器,所述防水印膜在内部具有空隙层的电容式触摸面板显示器中,防止水印的产生,且即使为高精细显示装置,也可以抑制眩光。
本发明的其它目的在于,提供一种可以对包含玻璃盖板的触摸面板显示器的玻璃的破裂导致的玻璃碎片的飞散进行抑制的防水印膜及具备该膜的电容式触摸面板显示器。
本发明的进一步其它目的在于,提供一种为低雾度、透明性优异,并且也具有耐擦伤性的防水印膜及具备该膜的电容式触摸面板显示器。
用于解决技术问题的技术方案
本发明人等为了完成所述课题而深入研究的结果发现,通过在形成电容式触摸面板显示器的内部所含的空隙层的内表面上,叠层下述防水印膜,即使为根据现有技术常识认为不显现防水印性的低的Ra,通过具有微小的凹凸结构,并同时具有相当于大波浪的凹凸结构,由此可以防止水印的产生,可以兼具防水印特性和高精细显示装置中的眩光的抑制,完成了本发明,所述防水印膜是透明的,且表面具有由10μm×10μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra1为0.7nm以上且低于5nm,且由500μm×500μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra2为10~50nm的微小的凹凸结构。
即,本发明的防水印膜为在内部具有空隙层的电容式触摸面板显示器中叠层于隔着所述空隙层而对置的表面的至少一个表面上的防水印膜,所述防水印膜是透明的,并且表面上具有凹凸结构,所述凹凸结构由10μm×10μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra1为0.7nm以上且低于5nm,且由500μm×500μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra2为10~50nm。所述防水印膜可以为包含透明树脂层和防水印层的透明叠层膜,所述防水印层叠层于该透明树脂层的一个表面上,且由含有固化性树脂、热塑性树脂及平均一次粒径1~50nm的金属氧化物粒子的固化性组合物的固化物形成,并且所述防水印膜的表面具有由10μm×10μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra1为0.8nm以上且低于1.5nm的凹凸结构。所述固化性树脂含有具有4官能以下的聚合性基团的固化性树脂和具有5官能以上的聚合性基团的固化性树脂,热塑性树脂为纤维素衍生物,金属氧化物微粒可以为选自含锑的氧化锡、氧化锑、氧化锡及氧化锌中的至少一种。
本发明的防水印膜在具有凹凸结构一侧的表面上可以进一步叠层有低折射率层,在与具有凹凸结构的一侧相反一侧的表面上可以进一步叠层有粘接层。本发明的防水印膜的具有凹凸结构的一侧的表面的水接触角可以为65~80°。
本发明中,也包含内部具有空隙层、且在隔着所述空隙层而对置的表面的至少一个表面上叠层有所述防水印膜的电容式触摸面板显示器。本发明的触摸面板显示器可以在隔着空隙层而对置的表面中位于触摸面板正面侧的表面上叠层有防水印膜。本发明的触摸面板的所述空隙层和显示器表面之间所含的透明基板可以为仅1张。该透明基板可以为厚度50~3000μm的玻璃板。
发明的效果
本发明中,在形成电容式触摸面板显示器(特别为1张玻璃型的显示器)的内部所含的空隙层的内表面叠层防水印膜,所述防水印膜为透明的,且表面具有由10μm×10μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra1为0.7nm以上且低于5nm,且由500μm×500μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra2为10nm以上且低于50nm的凹凸结构,因此,防止水印的产生,且即使为高精细显示装置,也可以抑制眩光。另外,在隔着空隙层而对置的表面中的触摸面板的正面侧的表面上叠层防水印膜时,可以对包含玻璃盖板的触摸面板显示器的玻璃的破裂导致的玻璃碎片的飞散进行抑制。并且,由特定的固化性组合物的固化物形成时,雾度低,透明性优异,同时耐擦伤性也可以提高。
具体实施方式
[防水印膜的特性]
本发明的防水印(AWM)膜叠层于在内部具有空隙层的电容式触摸面板显示器中的隔着上述空隙层而对置的表面的至少一个表面上,可以叠层于触摸面板的正面侧的表面,也可以叠层于背侧的表面。叠层于触摸面板的正面侧的表面时,可以用作相对于具有玻璃盖板的触摸面板的防止玻璃碎片飞散的膜。
本发明的AWM膜即使为在表面具有比较小的凹凸结构,其为由10μm×10μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra1为0.7nm以上且低于5nm(例如0.75nm以上且低于2nm),特别是低于1.5nm的微小的凹凸结构,也可以显现AWM性,可以为优选0.8nm以上且低于1.5nm,进一步优选0.9~1.48nm(特别为0.95~1.45nm)左右。Ra1过小时,AWM性降低,其过大时,在高精细显示器中容易产生眩光。该凹凸结构形成于AWM膜的最表面即可,例如,低折射率层形成于最表面时,低折射率层具有这种Ra1即可。
本发明的AWM膜除上述微细的凹凸结构之外,还具有更大的凹凸结构(波浪),即使为由500μm×500μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra2为10~50nm(例如11~45nm),特别是40nm以下的微小的凹凸结构,也可以显现AWM性,可以优选12~44nm左右,进一步优选13~40nm左右。Ra2过小时,AWM性降低,过大时,在高精细显示器中容易产生眩光。该凹凸结构形成于AWM膜的最表面即可,例如,低折射率层形成于最表面时,低折射率层具有这种Ra2即可。本发明中,除作为微细的凹凸结构的上述Ra1之外,通过在这样的范围内具有作为波浪结构的Ra2,可以兼具AWM性和眩光的抑制。
予以说明,本发明中,Ra1及Ra2可以通过以JIS B0601为基准的方法进行测定。
本发明的AWM膜为透明的,在厚度100μm中,以JIS K7361为基准的总光线透射率例如为70~100%左右,优选为80~100%(例如85~99%)左右,进一步优选为90~98%(特别为92~96%)左右。
本发明的AWM膜的雾度也小,在厚度100μm中,以JIS K7136为基准的雾度率例如为0.2~1.5%左右,优选为0.25~1%左右,进一步优选为0.3~0.6%(特别为0.4~0.5%)左右。本发明中,通过具有这种低的雾度值,即使在高精细显示器中也可以抑制眩光,可以提高可视性。
就本发明的AWM膜的透射像鲜明度而言,在使用0.5mm宽度的光学梳的情况下,例如为80~100%左右,优选为85~99%左右,进一步优选为88~98%(特别为90~97%)左右。透射像鲜明度在上述范围时,直进透射光的散射少,因此,即使在将透明叠层膜配设于高精细显示装置的情况下,来自各自的像素的散射也变少,可以防止眩光。
透射像鲜明度为将透过膜的光的模糊或变形定量化的尺度。透射像鲜明度通过使来自膜的透射光移动的光学梳而进行测定,利用光学梳的明暗部的光量算出值。即,膜使透射光模糊的情况下,在光学梳上进行成像的狭缝的像变粗,因此,透过部中的光量成为100%以下,另一方面,光在不透射部泄漏,因此,成为0%以上。透射像鲜明度的值C利用下式由光学梳的透明部的透射光最大值M和不透明部的透射光最小值m进行定义。
C(%)=[(M-m)/(M+m)]×100
即,C的值越接近于100%,由于透明叠层膜产生的像的模糊越小[参考文献;须贺、三田村,涂装技术,1985年7月号]。
本发明的AWM膜的反射率低,可以为10%以下,例如为0.1~8%左右,优选为0.5~6%左右,进一步优选为1~5%左右。
本发明的AWM膜的表面的润湿性优异,具有凹凸结构的侧的表面的水接触角为80°以下(例如65~80°),例如为69~80°左右,优选为70~75°左右,进一步优选为71~74°左右。水接触角过低时,润滑性降低,因此,耐擦伤性有可能降低。AWM膜的最表面具有该水接触角即可,例如在最表面形成低折射率层的情况下,低折射率层具有这种水接触角即可。予以说明,本发明中,水接触角可以使用自动/动态接触角计进行测定,详细而言,可以用后述的实施例中记载的方法进行测定。
[AWM膜的材质及结构]
如果AWM膜具有上述特性,则材质没有特别限定,可以为无机材料,也可以为有机材料,但从挠性等机械特性优异方面考虑,优选树脂中的有机材料,从机械特性或生产率等方面考虑,特别优选包含透明树脂层和下述防水印(AWM)层的透明叠层膜,所述防水印层叠层于该透明树脂层的一个表面且表面具有满足上述的算术平均粗糙度Ra1和Ra2的凹凸结构。
(AWM层)
AWM层可以由固化性组合物的固化物形成,所述固化性组合物含有固化性树脂、热塑性树脂及平均一次粒径1~100nm的金属氧化物粒子。
(A)固化性树脂
作为固化性树脂(固化性单体或固化性树脂前体),为具有由于热或活性能量线(紫外线或电子束等)等而反应的官能团的化合物,可以使用通过热或活性能量线等进行固化或交联而能够形成树脂(特别为固化或交联树脂)的各种固化性化合物。作为上述固化性树脂,可以例示例如:热固化性化合物或树脂[具有环氧基、聚合性基团、异氰酸酯基、烷氧基甲硅烷基、硅烷醇基等的低分子量化合物(例如环氧类树脂、不饱和聚酯类树脂、聚氨酯类树脂、聚硅氧烷类树脂等)等]、能够通过活性光线(紫外线等)而固化的光固化性化合物(光固化性单体、低聚物等紫外线固化性化合物等)等,光固化性化合物可以为EB(电子束)固化性化合物等。予以说明,本发明中,有时将可以为光固化性单体、低聚物或低分子量的光固化性树脂等光固化性化合物简称为“光固化性树脂”。
在光固化性化合物中包含例如单体、低聚物(或树脂、特别是低分子量树脂)。单体可以分类为例如具有1个聚合性基团的单官能单体和具有至少2个聚合性基团的多官能单体。
作为单官能单体,可举出例如:(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸类单体、乙烯基吡咯烷酮等乙烯基类单体、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸金刚烷基酯等具有交联环式烃基的(甲基)丙烯酸酯等。
在多官能单体中包含具有2~8左右的聚合性基团的多官能单体,作为2官能单体,可举出例如:乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯等亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯;二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚氧四亚甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯等(聚)氧亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯;三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、金刚烷二(甲基)丙烯酸酯等具有交联环式烃基的二(甲基)丙烯酸酯等。
作为3~8官能单体,可举出例如:甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
作为低聚物或树脂,可以例示:双酚A-环氧化物加成体的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸环氧酯(双酚A型(甲基)丙烯酸环氧酯、酚醛清漆型(甲基)丙烯酸环氧酯等)、聚酯(甲基)丙烯酸酯(例如脂肪族聚酯型(甲基)丙烯酸酯、芳香族聚酯型(甲基)丙烯酸酯等)、(聚)聚氨酯(甲基)丙烯酸酯(聚酯型聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚型聚氨酯(甲基)丙烯酸酯等)、聚硅氧烷(甲基)丙烯酸酯等。在这些(甲基)丙烯酸酯低聚物或树脂中可以含有上述聚合物成分中的(甲基)丙烯酸类树脂的项中所例示的共聚性单体。这些光固化性化合物可以单独使用或两种以上组合而使用。
并且,从提高AWM层的强度方面等考虑,固化性树脂可以含有氟原子或无机粒子。作为含氟固化性化合物,可举出上述单体及低聚物的氟化物,例如氟化烷基(甲基)丙烯酸酯[例如全氟辛基乙基(甲基)丙烯酸酯或三氟乙基(甲基)丙烯酸酯等]、氟化(聚)氧亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯[例如氟乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、氟丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等]、含氟环氧树脂、聚氨酯类树脂等。作为含有无机粒子的固化性化合物,可以例示例如表面具有聚合性基团的无机粒子(例如用具有聚合性基团的硅烷偶联剂修饰了表面的二氧化硅粒子等)等。作为表面具有聚合性基团的纳米尺寸的二氧化硅粒子,例如由JSR(株)制市售的多官能混合系UV固化剂(Z7501)。
优选的固化性树脂为能够在短时间内固化的光固化性化合物,例如紫外线固化性化合物(可以为单体、低聚物或低分子量的树脂等)、EB固化性化合物。特别是实用上有利的固化性树脂为紫外线固化性树脂。
另外,本发明中,为了提高AWM层的耐擦伤性,固化性树脂含有具有2官能以上(例如2~10官能左右)的聚合性基团的固化性树脂,优选3官能以上(例如3~8官能左右),特别优选多官能(甲基)丙烯酸酯,例如3官能以上(特别为4~8官能)的(甲基)丙烯酸酯(例如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等)。
并且,本发明中,为了在AWM层的表面形成特定的表面凹凸结构,优选组合具有4官能以下(优选2~4官能左右、进一步优选3~4官能左右)的聚合性基团的固化性树脂和具有5官能以上(例如5~10官能左右、优选5~8官能左右、进一步优选5~7官能左右)的聚合性基团的固化性树脂。特别是可以组合2~4官能(甲基)丙烯酸酯[特别是季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等3~4官能(甲基)丙烯酸酯]和5~8官能(甲基)丙烯酸酯[特别是二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等5~7官能(甲基)丙烯酸酯]。
具有4官能以下的聚合性基团的固化性树脂(例如2~4官能(甲基)丙烯酸酯)和具有5官能以上的聚合性基团的固化性树脂(例如5~10官能(甲基)丙烯酸酯)的重量比例为前者/后者=99/1~1/99左右,优选90/10~10/90左右,进一步优选70/30~30/70(特别为60/40~40/60)左右。本发明中,通过以这样的比例对官能团数的固化性树脂进行组合,可以不损害机械特性而在AWM层的表面形成特定的凹凸结构。
作为固化性树脂的分子量,考虑与后述的热塑性树脂的相容性,为5000以下(例如100~5000)左右,优选为2000以下(例如200~2000)左右,进一步优选为1000以下(例如300~1000)左右。分子量为在凝胶渗透色谱(GPC)中测得的以聚苯乙烯计的重均分子量,低分子可以由分子式算出。
固化性组合物可以根据固化性树脂的种类而含有固化剂。例如在热固化性树脂中可以含有胺类、多元羧酸类等固化剂,在光固化性树脂中可以含有光聚合引发剂。作为光聚合引发剂,可以例示惯用的成分、例如苯乙酮类或苯丙酮类、苯偶酰类、苯偶姻类、二苯甲酮类、噻吨酮类、酰基氧化膦类等。光固化剂等固化剂的含量相对于固化性树脂100重量份为0.1~20重量份左右,优选为0.5~10重量份左右,进一步优选为1~8重量份(特别为1~5重量份)左右,可以为3~8重量份左右。
并且,固化性树脂可以含有固化促进剂。例如光固化性树脂可以含有光固化促进剂,例如叔胺类(二烷基氨基苯甲酸酯等)、膦类光聚合促进剂等。
(B)热塑性树脂
相对于AWM层,为了提高柔软性等机械特性而配合热塑性树脂,优选不具有参与固化性树脂进行固化反应的反应性基团(特别为烯属性不饱和键等聚合性基团)的树脂。
作为这种热塑性树脂,可以例示例如:苯乙烯类树脂[聚苯乙烯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸类单体的共聚物、AS树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物等]、(甲基)丙烯酸类树脂[聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸酯-苯乙烯共聚物(MS树脂等)、(甲基)丙烯酸-(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸异冰片酯等]、有机酸乙烯酯酯类树脂[乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙酸乙烯酯-氯乙烯共聚物、乙酸乙烯酯-(甲酯)丙烯酸酯共聚物、聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯醇缩乙醛树脂等]、乙烯基醚类树脂(聚乙烯基甲醚、聚乙烯基乙醚、聚乙烯基丙醚、聚乙烯基叔丁醚等)、含卤树脂[聚氯乙烯、聚偏二氟乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、偏二氯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物等]、烯烃类树脂[聚乙烯、聚丙烯等烯烃的均聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、脂环式烯烃类树脂等]、聚碳酸酯类树脂(双酚A型聚碳酸酯等)、聚酯类树脂(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚C2-4亚烷基芳酯、C2-4亚烷基芳酯类共聚酯等非结晶性聚酯等)、聚酰胺类树脂(聚酰胺46、聚酰胺6、聚酰胺66、聚酰胺610、聚酰胺612、聚酰胺11、聚酰胺12等脂肪族聚酰胺等)、热塑性聚氨酯树脂(聚酯型聚氨酯类树脂等)、聚砜类树脂(聚醚砜、聚砜等)、聚苯醚类树脂(2,6-二甲苯酚的聚合物等)、纤维素衍生物(纤维素酯等)、聚硅氧烷树脂(聚二甲基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷等)、橡胶或弹性体(聚丁二烯、聚异戊二烯等二烯类橡胶、苯乙烯-丁二烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、丙烯酸橡胶、聚氨酯橡胶、聚硅氧烷橡胶等)等。这些热塑性树脂可以单独使用或两种以上组合而使用。
这些热塑性树脂中,使用苯乙烯类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、脂环式烯烃类树脂、聚酯类树脂、纤维素衍生物等,但从透明性及耐热性优异,并且可以提高柔软性等机械特性方面考虑,优选纤维素衍生物。
在纤维素衍生物中包含纤维素酯类、纤维素醚类、纤维素氨基甲酸酯类。
作为纤维素酯类,可以例示例如:脂肪族有机酸酯(二乙酸纤维素、三乙酸纤维素等乙酸纤维素;丙酸纤维素、丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素等C2-6酰化物等)、芳香族有机酸酯(纤维素邻苯二甲酸酯、纤维素苯甲酸酯等C7-12芳香族羧酸酯)、无机酸酯类(例如磷酸纤维素、硫酸纤维素等)等。纤维素酯类可以为乙酸/硝酸纤维素酯等混合酸酯。
作为纤维素醚类,可以例示例如:氰基乙基纤维素;羟基乙基纤维素、羟基丙基纤维素等羟基C2-4烷基纤维素;甲基纤维素、乙基纤维素等C1-6烷基纤维素;羧甲基纤维素或其盐、苄基纤维素、酰基烷基纤维素等。作为纤维素氨基甲酸酯类,可以例示例如纤维素苯基氨基甲酸酯等。
这些纤维素衍生物可以单独使用或两种以上组合而使用。这些纤维素衍生物中,优选纤维素酯类,特别是二乙酸纤维素、三乙酸纤维素、丙酸纤维素、丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素等纤维素C2-6纤化物。其中,在溶剂中的溶解性高及容易制备涂敷液方面,可以通过少量的添加而容易地调节涂敷液的粘度,并且,为了抑制涂敷液中微粒的过度的凝聚从而提高保存稳定性,优选二乙酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素等纤维素C2-4纤化物(特别为乙酸丙酸纤维素等乙酸纤维素C3-4酰化物)。
相对于固化性树脂100重量份,热塑性树脂的比例例如为0.1~30重量份,优选为0.1~10重量份(例如0.3~5重量份)左右,进一步优选为0.5~3重量份(特别为0.8~2重量份)左右。相对于金属氧化物微粒100重量份,热塑性树脂的比例例如为100~1000重量份,优选为150~500重量份,进一步优选为200~400重量份左右。本发明中,通过调整热塑性树脂的比例,可以调整耐擦伤性和冲击吸收性或缓冲性等机械特性的平衡,如果在该范围,则两者的平衡优异。
(C)金属氧化物微粒
本发明中,通过在AWM层中配合金属氧化物微粒,通过产生对流且树脂成分中的金属氧化物的分布变得不均匀而树脂成分隆起,可以在AWM层的表面形成微小的凹凸结构,所述微小的凹凸结构能够对水印的产生进行抑制,并且能够对眩光的产生进行抑制。该金属氧化物微粒的透明性及耐擦伤性优异,并且在其上形成低折射率层的情况下,可以提高与低折射率层的密合性。
作为构成金属氧化物微粒的金属氧化物,可举出例如:周期表IVB族金属氧化物(例如氧化钛、氧化锆等)、VB族金属氧化物(氧化钒等)、VIB族金属氧化物(氧化钼、氧化钨等)、VIIB族金属氧化物(氧化锰等)、VIIIB金属氧化物(氧化镍、氧化铁等)、IB族金属氧化物(氧化铜等)、IIB族金属氧化物(氧化锌等)、IIIA族金属氧化物(氧化铝、氧化铟等)、IVA族金属氧化物(氧化锡等)、VA族金属氧化物(氧化锑等)等。
这些金属氧化物微粒可以单独使用或两种以上组合而使用。这些金属氧化物微粒中,优选含有锑、锡、锌的金属氧化物、例如三氧化锑、四氧化锑、五氧化锑、含锑的氧化锡(锑掺杂氧化锡)、氧化锡、氧化锌等,特别优选由选自含锑的氧化锡、氧化锑、氧化锡及氧化锌构成的组中的至少一种形成的微粒(特别为含锑的氧化锡粒子(ATO粒子))。
金属氧化物微粒可以为分散于溶剂中的分散液的形态。作为溶剂,可举出例如:水、醇类(甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、环己醇等低级醇等)、酮类(丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯等)、醚类(二乙基醚、二噁烷、四氢呋喃等)、脂肪族烃类(己烷等)、脂环式烃类(环己烷等)、芳香族烃类(苯等)、卤化碳类(二氯甲烷、二氯乙烷等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等)、乙酸溶纤剂类、酰胺类(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等。这些溶剂可以单独使用或两种以上组合而使用。这些溶剂中,使用乙醇或异丙醇等低级醇(例如以重量比计,为乙醇/异丙醇=90/10~50/50(特别为80/20~60/40)左右的混合溶剂)。分散液中的金属氧化物微粒的浓度例如为0.1~50重量%左右,优选为1~40重量%左右,进一步优选为5~30重量%左右。为了使其分散于这些溶剂,可以对金属氧化物微粒的表面进行惯用的表面处理。
金属氧化物微粒的形状没有特别限定,可举出球状、椭圆体状、多角体状(多角锤状、正方体状、长方体状等)、板状、棒状、不定形等,从在表面形成均匀的凹凸结构方面考虑,优选大致球状等各向同性形状。
金属氧化物微粒的个数平均一次粒径例如为1~50nm左右,优选为1.5~40nm(例如2~30nm)左右,进一步优选为3~15nm(特别为5~10nm)左右。一次粒径过小时,容易难以在AWM层的表面形成凹凸结构,其过大时,难以在形成微小的凹凸结构,并且比光的波长大,有可能成为眩光的产生原因。本发明中,通过不使用粒径大的粒子而使用纳米尺寸的粒子在特定的条件下制造,可以形成微小的凹凸结构。
予以说明,本发明中,个数平均一次粒径可以基于粒度分布计,例如动态光散射法,使用粒度测定装置(大塚电子(株)制“PAR-III”),用惯用的方法进行测定。
相对于固化性树脂100重量份,金属氧化物微粒的比例例如为0.05~10重量份左右,优选为0.1~5重量份左右,进一步优选为0.15~3重量份(特别为0.2~1重量份)左右。微粒的比例过少时,容易难以在AWM层的表面形成凹凸结构,其过多时,难以形成微小的凹凸结构。本发明中,即使微粒的比例少,也可以形成能够实现AWM性的凹凸结构。
(D)其它添加剂
在AWM层可以含有各种添加剂,例如其它微粒(有机微粒、无机微粒等)、流平剂、稳定剂(抗氧化剂、紫外线吸收剂等)、表面活性剂、水溶性高分子、填充剂、交联剂、偶联剂、着色剂、阻燃剂、润滑剂、蜡、防腐剂、粘度调整剂、增粘剂及消泡剂等。添加剂的比例例如相对于AWM层整体为0.01~10重量%(特别为0.1~5重量%)左右。
本发明中,理由不确定,但不使用微粒的凝聚剂(例如日本特开2009-265143号公报中记载的凝聚剂等),少量的金属氧化物微粒在AWM层中适当地凝聚而成为核,在干燥工序中通过对流作用使金属氧化物微粒和固化前的树脂成分在一起,并在AWM层的表面凝聚并形成凸部。因此,可以形成具有AWM性、且能够抑制眩光的微小的凹凸结构。因此,AWM层实质上不含有凝聚剂。予以说明,推定这种本发明中的作用与固化性树脂、热塑性树脂及溶剂的种类、配合比例等有关。
AWM层的厚度(平均厚度)例如为0.5~30μm左右,优选为0.8~20μm左右,进一步优选为1~10μm(特别为2~5μm)左右。
(透明树脂层)
作为透明树脂层(或基材层),可以利用挠性高且耐开裂性优异的透明树脂形成的塑料膜或片(未拉伸或拉伸塑料膜)。作为透明树脂,可以使用与上述AWM层中所例示的热塑性树脂同样的树脂。作为优选的透明树脂,可举出例如:纤维素衍生物[三乙酸纤维素(TAC)、二乙酸纤维素等乙酸纤维素等]、聚酯类树脂[PET、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚芳酯类树脂等]、聚砜类树脂[聚砜、聚醚砜等]、聚醚酮类树脂[聚醚酮、聚醚醚酮等]、聚碳酸酯类树脂(双酚A型聚碳酸酯等)、聚烯烃类树脂(聚乙烯、聚丙烯等)、环状聚烯烃类树脂[TOPAS(トパス)(注册商标)、ARTON(アートン)(注册商标)、ZEONEX(ゼオネックス)(注册商标)等]、含卤素树脂(聚偏氯乙烯等)、(甲基)丙烯酸类树脂(聚甲基丙烯酸甲酯类树脂等)、苯乙烯类树脂(聚苯乙烯等)、乙酸乙烯酯或乙烯醇类树脂(聚乙烯醇等)等。由这些透明树脂形成的塑料膜可以进行单轴或双轴拉伸。
在光学上各向异性的透明塑料膜中含有例如,聚酯、纤维素衍生物类等,从耐热性或透明性等平衡优异方面考虑,特别优选由PET或PEN等聚C2-4亚烷基芳酯形成的膜。并且,透明树脂层可以为进行了双轴拉伸的膜。
透明树脂层可以含有上述AWM层的项中所例示的惯用的添加剂(例如紫外线吸收剂等)。添加剂的比例例如相对于透明树脂层整体为0.01~10重量%(特别为0.1~5重量%)左右。
透明树脂层的厚度(平均厚度)例如可以从5~1000μm左右,优选15~500μm左右,进一步优选20~300μm(特别为30~100μm)左右的范围中选择。
(低折射率层)
为了降低AWM膜(特别为AWM层)表面的反射率并提高向外部的透射光的透射率,本发明的AWM膜可以在具有上述的算术平均粗糙度Ra的凹凸结构的表面(具有凹凸结构的侧的表面)上,特别是透明叠层膜的AWM层上进一步叠层低折射率层。并且,详细的机制不清楚,但通过叠层低折射率层,可以提高AWM性。
低折射率层可以使用惯用的低折射率层、例如日本特开2001-100006号公报、日本特开2008-58723号公报中记载的低折射率层等。低折射率层通常由低折射率树脂或AWM层的项中所例示的固化性树脂和含氟化合物或低折射率的无机填料的组合等构成。
作为低折射率树脂,可举出例如:甲基戊烯树脂、二乙二醇双(碳酸烯丙酯)树脂、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚氟乙烯(PVF)等氟树脂等。
另外,低折射率层通常优选含有含氟化合物或低折射率的无机填料,使用含氟化合物或低折射率的无机填料时,可以根据期望使低折射率层的折射率降低。
作为上述含氟化合物,可举出具有氟原子和基于热或活性能量线(紫外线或电子束等)等而反应的官能团(交联性基团或聚合性基团等固化性基团等),从而基于热或活性能量线等进行固化或交联,可形成含氟树脂(特别为固化或交联树脂)的含氟树脂前体。
作为这种含氟树脂前体,可以例示例如:含氟原子的热固化性化合物或树脂[与氟原子同时具有反应性基团(环氧基、异氰酸酯基、羧基、羟基等)、聚合性基团(乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯酰基等)等的低分子量化合物]、通过活性光线(紫外线等)可固化的含氟原子的光固化性化合物或树脂(光固化性含氟单体或低聚物等紫外线固化性化合物等)等。
作为上述热固化性化合物或树脂,可以例示例如:至少使用含氟单体得到的低分子量树脂、例如使用含氟多元醇(特别为二醇)代替作为构成单体的多元醇成分的一部分或全部而得到的环氧类含氟树脂;同样地,使用含氟原子的多元醇和/或含氟原子的聚羧酸成分代替多元醇和/或聚羧酸成分的一部分或全部而得到的不饱和聚酯类含氟树脂;使用含氟原子的多元醇和/或聚异氰酸酯成分代替多元醇和/或聚异氰酸酯成分的一部分或全部而得到的聚氨酯类含氟树脂等。这些热固化性化合物或树脂可以单独使用或组合两种以上而使用。
在上述光固化性化合物中含有例如单体、低聚物(或树脂、特别是低分子量树脂),作为单体,可以例示例如:对应于上述AWM层的项中例示的单官能性单体及多官能性单体的含氟原子的单体[(甲基)丙烯酸的氟化烷基酯等含氟原子的(甲基)丙烯酸类单体、氟烯烃类等乙烯基类单体等单官能性单体;1-氟-1,2-二(甲基)丙烯酰氧基乙烷等氟化亚烷基二醇的二(甲基)丙烯酸酯等]等。另外,作为低聚物或树脂,可以使用对应于上述防眩层的项中例示的低聚物或树脂的含氟原子的低聚物或树脂等。这些光固化性化合物可以单独使用或组合两种以上而使用。
低折射率层中的含氟化合物的比例例如相对于低折射率层整体可以为1重量%以上,例如为5~90重量%左右。
作为低折射率的无机填料,例如可以使用上述日本特开2001-100006号公报中记载的填料等,但优选二氧化硅或氟化镁等低折射率的填料,特别优选二氧化硅。二氧化硅可以为日本特开2001-233611号公报、日本特开2003-192994号公报等所记载的中空二氧化硅。中空二氧化硅不仅透射率的提高效果大,而且AWM性的提高效果也优异。
无机填料的个数平均粒径为100nm以下,优选为80nm以下(例如10~8nm),进一步优选为20~70nm左右。
低折射率层中的低折射率的无机填料的比例例如相对于低折射率层整体可以为1重量%以上,例如为5~90重量%左右。另外,低折射率的无机填料可以利用偶联剂(钛偶联剂、硅烷偶联剂)进行表面改性。并且,为了提高涂膜强度,低折射率层可以含有其它无机填料。
作为低折射率层的折射率,例如为1.3~1.5左右,优选为1.35~1.45左右。本发明中,折射率可以在波长633nm中使用Metricon Prism Coupler进行测定。
低折射率层的厚度例如为50~1000nm左右,优选为60~500nm左右,进一步优选为70~300nm(特别为80~200nm)左右。
(粘接层)
本发明的AWM膜可以在形成有具有上述的算术平均粗糙度Ra的凹凸结构的表面的背面(与具有凹凸结构的一侧相反侧的表面),特别是透明叠层膜的情况下,在透明树脂层的没有叠层AWM层一侧的表面进一步叠层粘接层。作为粘接层,由能够与触摸面板的电极或偏振片等一体化的透明粘合剂树脂形成即可。作为透明粘合剂树脂,可以例示例如惯用的粘接性树脂或粘合性树脂等。
作为粘接性树脂,可举出例如:热塑性树脂(聚烯烃、环状聚烯烃、丙烯酸树脂、苯乙烯类树脂、乙酸乙烯酯类树脂、聚酯、聚酰胺、热塑性聚氨酯等)、热固化性树脂(环氧树脂、酚醛树脂、聚氨酯、不饱和聚酯、乙烯酯树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、多官能(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、聚硅氧烷(甲基)丙烯酸酯、聚硅氧烷树脂、氨基树脂、纤维素衍生物等)等。这些粘接性树脂可以单独使用或组合两种以上而使用。
作为粘合性树脂,可举出例如:萜烯树脂、松香类树脂、石油树脂、橡胶类粘合剂、改性聚烯烃、丙烯酸类粘合剂、聚硅氧烷类粘合剂等。这些粘合性树脂可以具有交联性基团(异氰酸酯基、羟基、羧基、氨基、环氧基、羟甲基、烷氧基甲硅烷基等)。这些粘合性树脂可以单独使用或组合两种以上而使用。
这些透明粘合剂树脂中,从光学特性及适用性优异方面考虑,优选丙烯酸类粘合剂、聚硅氧烷类粘合剂(特别为丙烯酸类粘合剂)。
作为丙烯酸类粘合剂,例如可以使用由以丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸C2-10烷基酯为主成分的丙烯酸类共聚物构成的粘合剂。作为丙烯酸类共聚物的共聚性单体,可举出例如:(甲基)丙烯酸类单体[例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、缩水甘油(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺等]、聚合性腈化合物[例如(甲基)丙烯腈等]、不饱和二羧酸或其衍生物(例如马来酸酐、衣康酸等)、乙烯酯类(例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等)、乙烯基芳香族类(例如苯乙烯等)等。
作为聚硅氧烷类粘合剂,例如可以使用将聚硅氧烷橡胶成分[由一官能的R3SiO1/2(式中,R表示甲基等烷基、苯基等芳基等。以下相同)和四官能的SiO2形成的MQ树脂等]及聚硅氧烷树脂成分(二官能的R2SiO单独、或组合有二官能的R2SiO和一官能的R3SiO1/2的油状或橡胶状成分等)溶解于有机溶剂而形成的粘合剂等。上述聚硅氧烷橡胶成分可以进行交联。
粘接层可以含有上述AWM层的项中所例示的惯用的添加剂(例如紫外线吸收剂等)。添加剂的比例例如相对于粘接层整体为0.01~10重量%(特别为0.1~5重量%)左右。
粘接层的厚度(平均厚度)例如为1~100μm左右,优选为2~80μm左右,进一步优选为3~70μm(特别为5~50μm)左右。
[AWM膜的制造方法]
本发明的AWM膜只要可以在一个表面形成具有上述的算术平均粗糙度Ra的凹凸结构即可,没有特别限定,可以利用惯用的膜成形方法等。AWM膜由透明叠层膜形成的情况下,例如可以经过在透明树脂层的一个表面涂布固化性组合物的涂布工序,将涂布的固化性组合物干燥后,照射活性能量线,从而进行固化的固化工序而制造。
在涂布工序中,固化性组合物通常由含有上述固化性树脂、热塑性树脂、金属氧化物微粒和溶剂的混合液(特别为均匀溶液等的液状组合物)构成。优选的方式中,作为上述混合液,使用含有光固化性树脂、热塑性树脂、金属氧化物微粒、光聚合引发剂和可溶解上述光固化性树脂及热塑性树脂的溶剂的组合物。
溶剂可以根据上述固化性树脂及热塑性树脂的种类及溶解性而选择,只要是至少能够均匀地溶解固体成分(固化性树脂、热塑性树脂、反应引发剂、其它添加剂)的溶剂即可。作为这种溶剂,可以例示例如:酮类(丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等)、醚类(二噁烷、四氢呋喃等)、脂肪族烃类(己烷等)、脂环式烃类(环己烷等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤化碳类(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇类(乙醇、异丙醇、丁醇、环己醇等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙二醇单甲基醚(1-甲氧基-2-丙醇)等)、乙酸溶纤剂类、亚砜类(二甲基亚砜等)、酰胺类(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等。这些溶剂可以单独使用或组合两种以上而使用,可以为混合溶剂。这些溶剂中,优选甲基乙基酮或环己酮等酮类、丁醇或1-甲氧基-2-丙醇等醇类,可以将这些物质进行混合。例如,可以将上述酮类和上述醇类以前者/后者=90/10~10/90左右,优选80/20~40/60左右、进一步优选70/30~50/50左右的比例(重量比)进行混合。并且,可以将酮类、甲基乙基酮等链烷酮类和环己酮等环链烷酮类以前者/后者=95/5~50/50(特别为90/10~70/30)左右的比例(重量比)进行混合。另外,可以将丁醇等链烷醇和1-甲氧基-2-丙醇等溶纤剂类以前者/后者=5/95~50/50(特别为10/90~30/70)左右的比例(重量比)进行混合。本发明中,通过将溶剂适当组合,可以控制金属氧化物微粒的凝聚的程度。本发明中,特别是通过以这样的比例组合溶剂,可以形成具有微细的凹凸结构和波浪结构的表面结构。
混合液中的溶质(固化性树脂、热塑性树脂、金属氧化物微粒、反应引发剂、其它添加剂)的浓度可以在不损害流延性或涂敷性等的范围内选择,例如为1~80重量%左右,优选5~60重量%左右,进一步优选15~40重量%(特别为20~40重量%)左右。
作为涂布方法,可举出惯用的方法、例如辊涂机、气刀涂布机、刮板涂布机、棒式涂布机、反向涂布机、棒涂机、缺角轮涂布机、浸渍/挤压涂布机、点胶涂布机、凹版涂布机、微凹版涂布机、丝网涂布机法、浸渍法、喷雾法、旋转器法等。这些方法中,通用棒涂机法或凹版涂布机法等。予以说明,如果需要,则可以多次涂布涂布液。
涂布工序中,进一步将上述混合液进行流延或涂布之后,使溶剂蒸发。溶剂的蒸发通常根据例如溶剂的沸点、在40~150℃左右、优选50~120℃左右、进一步优选60~100℃左右的温度下进行。
本发明中,涂敷液虽然不含有凝聚剂,但是,可以推定为:纳米尺寸的金属氧化物微粒在涂敷液中适当地凝聚而成为核,通过伴随溶剂的蒸发而产生的对流作用,使金属氧化物微粒和固化前的树脂成分在一起,并在表面凝聚而形成凸部。
固化工序中,将涂布的固化性组合物通过活性光线(紫外线、电子束等)或热等而进行最终地固化,形成AWM层。固化性树脂的固化可以根据固化性树脂的种类组合加热、光照射等。
加热温度可以从适当的范围、例如50~150℃左右中选择。光照射可以根据光固化成分等种类而选择,通常可以利用紫外线、电子束等。使用的曝光源通常为紫外线照射装置。
作为光源,例如紫外线的情况下,可以使用Deep UV灯、低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、卤灯、激光光源(氦-镉激光、准分子激光等光源)等。照射光量(照射能量)因涂膜的厚度而不同,可以从10~10000mJ/cm2(例如50~8000mJ/cm2)左右的范围中选择,例如可以为10~5000mJ/cm2左右,优选30~3000mJ/cm2左右,进一步优选50~1000mJ/cm2左右。
予以说明,如果需要,光照射可以在惰性气体气氛中进行。特别是利用光固化的情况下,不仅可以通过使固化性树脂固化而立即固定化,而且,也可以抑制低聚物等低分子成分由于热而从透明树脂层的内部析出。并且,可以对AWM层赋予耐擦伤性。
在AWM层上进一步形成低折射率层的情况下,通常可以通过用与上述AWM层同样的方法对涂敷液进行涂布或流延,然后,使用活性光线或热等进行固化而形成。
予以说明,本发明中,通过将低折射率层在干燥温度(用于使溶剂蒸发的温度)比较高温下进行干燥,可以形成具有微细的凹凸结构和波浪结构的表面结构。就干燥温度而言,可以根据溶剂的沸点,例如在40~200℃左右,优选60~180℃左右、进一步优选80~150℃(特别为100~140℃)左右的温度下进行。
本发明中,为了提高相对于AWM层的其它层(例如低折射率层或透明导电层等)的密合性,可以将AWM层供于表面处理。作为表面处理,可举出惯用的表面处理,例如电晕放电处理、火焰处理、等离子体处理、臭氧或紫外线照射处理等。
[电容式触摸面板显示器]
本发明的电容式触摸面板显示器可以在内部具有空隙层,且隔着上述空隙层而对置的表面的至少一个表面上叠层上述AWM膜。
上述空隙层没有特别限定,通常通过使粘接层(隔板)介于含有透明导电层的透明电极和LCD或OLED等显示装置这两者的端部(周缘部或外框部)之间,从而使含有透明导电层的透明电极和LCD或OLED等显示装置一体化来形成。透明电极的表面例如可以由ITO(氧化铟-氧化锡系复合氧化物)膜等透明导电层形成,在LCD等情况下,显示装置的表面例如可以由偏光层形成。本发明的AWM膜叠层于隔着空隙层而对置的表面上即可,例如可以在透明导电层的表面形成凹凸结构,但为了自身的保护,透明导电层通常用硬涂层等保护层进行包覆,因此,在该保护层上使用AWM膜是有效的。特别是相对于透明基板由玻璃板形成而得到的显示器,从可以对玻璃的破裂导致的玻璃碎片的飞散进行抑制的方面考虑,优选在隔着空隙层而对置的表面中的触摸面板的显示体侧的表面上叠层AWM膜。
空隙层的厚度例如为0.05~1mm左右,优选为0.1~0.5mm左右,进一步优选为0.15~0.3mm左右。
本发明的电容式触摸面板显示器只要内部具有空隙层即可,但从空隙层的表面侧的层容易弯曲,容易产生水印,从而显著地显现本发明的效果方面考虑,优选空隙层和显示器表面之间所含的透明基板仅为1张的显示器(1张玻璃型的显示器)。
作为透明基板,只要由透明材料形成即可,可举出透明树脂层的项中所例示的透明树脂或玻璃等形成的基板。其中,在隔着空隙层而对置的表面中的触摸面板的正面侧的表面上,叠层AWM膜的情况下,从AWM膜也起到作为防止玻璃碎片飞散的膜的作用方面考虑,优选玻璃板。
作为玻璃板,例如可以利用由钠玻璃、硼硅酸玻璃、冕牌玻璃、含钡玻璃、含锶玻璃、含硼玻璃、低碱玻璃、无碱玻璃、结晶化透明玻璃、二氧化硅玻璃、石英玻璃、耐热玻璃等形成的玻璃板。
透明基板(特别为1张玻璃板型的显示器中的玻璃板)的厚度(平均厚度)例如为50~3000μm左右,优选为100~2000μm左右,进一步优选为200~1500μm左右。
在本发明的电容式触摸面板显示器中,玻璃板等透明基板通常形成与透明导电层叠层的透明电极。
作为透明导电层,例如由下述物质而构成:氧化铟-氧化锡系复合氧化物(ITO)、氟掺杂氧化锡(FTO)、InO2、SnO2、ZnO等金属氧化物、或由金、银、铂、钯等金属构成的层(特别为ITO膜等金属氧化物层)。这种透明导电层可以通过惯用的方法、例如溅射、蒸镀、化学气相成长法等(通常为溅射)而形成。透明导电层的厚度(平均厚度)例如为0.01~0.05μm左右,优选为0.015~0.03μm左右,进一步优选为0.015~0.025μm左右。
在透明基板的上所形成的透明导电层根据触摸面板的种类,通常在模拟方式中以面状形成,在数字方式中以条纹状形成。作为以面状或条纹状形成透明导电层的方法,可举出例如在玻璃基板的整个面形成透明导电层之后,通过蚀刻而以面状或条纹状进行图案化的方法,以及预先形成图案状的方法等。
在触摸面板的正面侧的表面上叠层AWM膜的情况下,对于这种透明电极的透明导电层,可以隔着AWM膜的粘接层而叠层AWM膜。
本发明的电容式触摸面板显示器可以进一步与其它光学要素(例如配设于偏振片、相位差板、导光板等光路内的各种光学要素)组合。在LCD等显示装置中叠层偏振片的情况下,可以对于偏振片,隔着AWM膜的粘接层而叠层AWM膜。
实施例
以下,基于实施例,更详细地说明本发明,但本发明并不受这些实施例限定。按照以下的项目评价实施例及比较例中得到的AWM膜。
[总光线透射率及雾度]
使用雾度计(日本电色(株)制、商品名“NDH-5000W”),根据JIS K7361测定总光线透射率,根据JIS K7136测定雾度。
[透射像(成像)鲜明度]
对光学膜的成像鲜明度,使用成像测定器(Suga试验机(株)制、商品名“ICM-1T”),基于JIS K7105,设置膜,使膜的制膜方向和光学梳的梳齿的方向成为平行,进行测定。成像测定器的光学梳中,测定0.5mm宽度的光学梳中的成像鲜明度。
[反射率]
在透明叠层膜的透明树脂层侧贴合黑膜,使用积分球反射强度测定装置((株)日立High-Technologies制、U-3300)测定积分反射率(可见度换算)。
[耐擦伤性]
用#0000的钢丝绒以2.45N/cm2的负载将形成有凹凸结构的表面(低折射率层或AWM层的表面)往返摩擦10次,通过目视确认伤痕,基于伤痕的条数,按照以下的基准进行评价。
○:0~5条
△:6~9条
×:10条以上。
[铅笔硬度]
根据JIS K5400,以负载7.4N测定铅笔硬度。
[算术平均粗糙度Ra1]
以JIS B0601为基准,从实施例及比较例中得到的AWM膜的粘合层侧,按照以下的步骤测定AWM膜的AWM层侧的表面(凹凸面)的算术平均粗糙度。即,使用扫描探针显微镜(SII Nanotechnology株式会社制造),使用硅悬臂作为探针,将测定模式设为Tapping模式,将测定区域设为10μm×10μm进行图像的读取。对得到的图像,使用附属于上述扫描探针显微镜的分析软件,作为用于除去波动的加增处理,进行1次F1aatten处理(0次)及1次P1anefit处理(XY)之后,算出算术平均粗糙度Ra1。
[算术平均粗糙度Ra2]
以JIS B0601为基准,使用非接触表面形状测定系统((株)菱化system制造的“VertScan2.0”),将测定区域设为500μm×500μm,测定算术平均粗糙度Ra2。
[AWM层的水接触角]
使用自动动态接触角计(协和界面科学(株)制“型号DCA-UZ”),对涂膜测定5点约3μL的各液的接触角并进行平均。
[眩光的评价]
就显示面的眩光的判定而言,在厚度3mm的透明玻璃板上隔着AWM膜的粘合层,粘贴实施例及比较例中得到的AWM膜,载置在5英寸尺寸的LCD监视器(像素数1920×1080、分辨率440ppi)上,使AWM膜面和监视器对置,按照以下的基准评价将监视器设为绿显示从监视器正面通过目视观察时的眩光。
◎:没有感到眩光
○:稍微感到眩光
△:可感到眩光
×:可感到强的眩光。
[防水印(AWM)性]
隔着实施例及比较例中得到的AWM膜的粘合层,将0.7mm的透明玻璃板贴合于上述AWM膜上。接着,使在外周以1cm宽度设有0.2mm的间隙的10英寸尺寸偏振片与上述AWM膜的AWM层对置而重叠。最后,将上述透明玻璃板的中心部以20N/cm2的负载挤压10秒,进行分离并按照以下的基准评价10秒后的状态。
◎:AWM膜和透明玻璃板不密合
○:AWM膜和透明玻璃板在极少的部分密合
×:两者的整体密合。
[涂敷液的制备]
(防水印层涂敷液:AWM-1)
将二季戊四醇六丙烯酸酯(Daicel-Allnex(株)制造的“DPHA”)50重量份、季戊四醇三丙烯酸酯(Daicel-Allnex(株)制造的“PETRA”)50重量份、乙酸丙酸纤维素(Eastman社制造的“CAP”)1.2重量份溶解于甲基乙基酮(MEK)131重量份、1-甲氧基-2-丙醇(MMPG)65重量份、1-丁醇(BuOH)22重量份及环己酮24重量份的混合溶剂中。在该溶液中,加入光聚合引发剂(BASF日本(株)制造的“IRGACURE184”)2重量份及光聚合引发剂(BASF日本(株)制造的“IRGACURE907”)1重量份并溶解。进一步在该溶液中加入ATO粒子(日挥催化剂化成(株)制造的“ELCOM SH-1212ATV”、一次粒径8nm、20重量%的醇(乙醇/异丙醇=80/20(重量比)的混合溶剂)分散液)1.5重量份并搅拌1小时,制备AWM层涂敷液:AWM-1。
(防水印层涂敷液:AWM-2)
除将ATO粒子的添加量变更为3.0重量份以外,与AWM-1同样地操作,制备防水印层涂敷液:AWM-2。
(防水印层涂敷液:AWM-3)
除将ATO粒子的添加量变更为4.5重量份以外,与AWM-1同样地操作,制备防水印层涂敷液:AWM-3。
(防水印层涂敷液:AWM-4)
除将ATO粒子的添加量变更为7.5重量份以外,与AWM-1同样地操作,制备防水印层涂敷液:AWM-4。
(防水印层涂敷液:AWM-5)
除将ATO粒子的添加量变更为20重量份以外,与AWM-1同样地操作,制备防水印层涂敷液:AWM-5。
(防水印层涂敷液:AWM-6)
除将ATO粒子的添加量变更为0.5重量份以外,与AWM-1同样地操作,制备防水印层涂敷液:AWM-6。
(防水印层涂敷液:AWM-7)
使用市售的丙烯酸微粒分散液(积水化学工业(株)制造的“K-001”、固体成分20重量%)。
(防水印层涂敷液:AWM-8)
除将ATO粒子的添加量变更为30重量份以外,与AWM-1同样地操作,制备防水印层涂敷液:AWM-8。
(低折射率层涂敷液:LC)
将市售的中空二氧化硅微粒分散液(日挥触媒化成(株)制造的“ELCOMP-5063”、固体成分3重量%)用异丙基醇(IPA)稀释,使其成为固体成分2.4重量%,调制LC。
实施例1
作为透明的树脂层,使用PET膜(三菱树脂(株)制、PET、厚度75μm),在该膜上使用棒涂机#8涂敷AWM层涂敷液AWM-1之后,在80℃下干燥1分钟。使涂敷膜通过紫外线照射装置(USHIO电机(株)制、高压水银灯、紫外线照射量:100mJ/cm2),进行紫外线固化处理,形成具有微小的表面凹凸结构及硬涂性的AWM层。得到的透明叠层膜中的AWM层的厚度约为3μm。
在得到的透明叠层膜的AWM层上使用棒涂机#4涂敷低折射率层涂敷液LC,在120℃下干燥1分钟。其后,使涂敷膜通过紫外线照射装置(USHIO电机(株)制、高压水银灯、紫外线照射量:100mJ/cm2),进行紫外线固化处理,形成低折射率层。得到的低反射透明叠层膜(AWM膜)中的低折射率层的厚度约为100nm。在得到的AWM膜的PET膜的表面形成厚度25μm的粘合层。
实施例2~5及比较例1
作为AWM层涂敷液,除分别使用AWM-2~6代替AWM-1以外,与实施例1同样地操作,制作AWM膜。
比较例2
作为透明的树脂层,使用PET膜(三菱树脂(株)制、PET、厚度75μm),在该膜上使用棒涂机#8涂敷AWM层涂敷液AWM-7,然后,在80℃下干燥1分钟。使涂敷膜通过紫外线照射装置(USHIO电机(株)制、高压水银灯、紫外线照射量:100mJ/cm2),进行紫外线固化处理,形成具有表面凹凸结构及硬涂性的AWM层。得到的透明叠层膜(AWM膜)中的AWM层的厚度约为3μm。在得到的AWM膜的PET膜的表面形成厚度25μm的粘合层。
比较例3
在比较例2中得到的透明叠层膜(形成粘合层之前的膜)的AWM层上,使用棒涂机#4涂敷低折射率层涂敷液LC,在120℃下干燥1分钟。其后,使涂敷膜通过紫外线照射装置(USHIO电机(株)制、高压水银灯、紫外线照射量:100mJ/cm2),进行紫外线固化处理,形成低折射率层。得到的低反射透明叠层膜(AWM膜)中的低折射率层的厚度约为100nm。在得到的AWM膜的PET膜的表面形成厚度25μm的粘合层。
比较例4
作为透明的树脂层,使用PET膜(三菱树脂(株)制、PET、厚度75μm),在该膜上使用棒涂机#8涂敷AWM层涂敷液AWM-8之后,在80℃下干燥1分钟。使涂敷膜通过紫外线照射装置(USHIO电机(株)制、高压水银灯、紫外线照射量:100mJ/cm2),进行紫外线固化处理,形成具有表面凹凸结构及硬涂性的AWM层。得到的透明叠层膜(AWM膜)中的AWM层的厚度约为3μm。在得到的AWM膜的PET膜的表面形成厚度25μm的粘合层。
将评价了实施例1~5及比较例1~4中得到的AWM膜的结果示于表1。
[表1]
由表1的结果得知:就实施例的AWM膜而言,耐擦伤性及光学特性优异,而且,即使为高精细显示器,也可以抑制眩光的产生,也具有AWM性。与此相对,比较例的AWM膜不能兼兼具眩光的抑制和AWM性。
工业实用性
本发明的AWM膜可以用于内部具有空隙层的电容式触摸面板显示器。作为触摸面板显示器,例如在PC、电视机、便携电话(智能手机)、电子纸、游戏设备、移动设备、钟表、台式电子计算机等电气电子或精密设备的显示部中,可以利用于与显示装置(LCD、等离子体显示器装置、有机或无机EL显示装置等)组合而使用的电容式触摸面板显示器等。特别是从优异的可视性方面考虑,可用作作PC、4K电视机、智能手机、平板型PC、手写平板、游戏设备等采用ITO栅极方式的投影型电容式触摸面板(例如LCD或OLED等高精细显示器的触摸面板)的防水印膜。
Claims (10)
1.一种防水印膜,其在内部具有空隙层的电容式触摸面板显示器中叠层于隔着所述空隙层而对置的表面的至少一个表面上,其中,
所述防水印膜是透明的,并且表面上具有凹凸结构,所述凹凸结构由10μm×10μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra1为0.7nm以上且低于5nm,且由500μm×500μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra2为10~50nm。
2.如权利要求1所述的防水印膜,其中,防水印膜为包含透明树脂层和防水印层的透明叠层膜,
所述防水印层叠层于该透明树脂层的一个表面上,且由含有固化性树脂、热塑性树脂及平均一次粒径1~50nm的金属氧化物粒子的固化性组合物的固化物形成,并且
所述防水印膜的表面具有由10μm×10μm的测定区域算出的算术平均粗糙度Ra1为0.8nm以上且低于1.5nm的凹凸结构。
3.如权利要求1或2所述的防水印膜,其中,
固化性树脂含有具有4官能以下的聚合性基团的固化性树脂和具有5官能以上的聚合性基团的固化性树脂,
热塑性树脂为纤维素衍生物,
金属氧化物微粒为选自含锑的氧化锡、氧化锑、氧化锡及氧化锌中的至少一种。
4.如权利要求1~3中任一项所述的防水印膜,其中,在具有凹凸结构一侧的表面上进一步叠层有低折射率层。
5.如权利要求1~4中任一项所述的防水印膜,其中,在与具有凹凸结构的一侧相反一侧的表面上进一步叠层有粘接层。
6.如权利要求1~5中任一项所述的防水印膜,其中,具有凹凸结构的一侧的表面的水接触角为65~80°。
7.一种电容式触摸面板显示器,其内部具有空隙层,且在隔着所述空隙层而对置的表面的至少一个表面上叠层有权利要求1~6中任一项所述的防水印膜。
8.如权利要求7所述的触摸面板显示器,其中,在隔着空隙层而对置的表面中位于触摸面板正面侧的表面上叠层有防水印膜。
9.如权利要求7或8所述的触摸面板显示器,其中,空隙层和显示器表面之间所含的透明基板仅为1张。
10.如权利要求9所述的触摸面板显示器,其中,透明基板是厚度为50~3000μm的玻璃板。
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