TW201300821A - 光學薄膜及其製造方法 - Google Patents

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Mitsuaki KAWANISHI
Masaki Hayashi
Masaya Omura
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Abstract

本發明提供一種光學薄膜，其能提高防眩性或防牛頓環性的同時，也不會帶有白色而能顯示鮮明的影像。於含有透明薄膜、與在此透明薄膜上所形成的硬質塗布層之光學薄膜中，在該硬質塗布層之表面形成凹凸之平均間隔Sm為600至1500μm及算術平均粗糙度Ra為0.04至0.2μm之凹凸構造。該凹凸構造之算術平均傾斜△a可為0.05至5°。該光學薄膜之霧度可為0.1至2%。該硬質塗布層亦可利用含有硬化性樹脂先質及纖維素奈米纖維之硬化性組成物的硬化物所形成。該纖維素奈米纖維係平均纖維直徑為10至500nm左右，且平均纖維長度亦可為20至500μm左右。

Description

光學薄膜及其製造方法
本發明係關於一種光學薄膜及其製造方法，其中該光學薄膜係在電/電子或精密機器之顯示部中，與顯示裝置組合後使用。
近年來，液晶顯示器(LCD)係在電視(TV)用途或動畫顯示用途上達成作為顯示裝置之驚人的進步，正迅速普及發展中。例如，藉由具有高速應答性之液晶材料的開發、或過度驅動等之驅動方式的改良而在克服以往液晶所棘手之動畫顯示的同時，也發展對應於顯示大型化之生產技術革新。
在此等顯示器中，於重視畫質之電視或監視器等之用途、在戶外光線強的屋外所使用的視訊攝影機等之用途中，在表面實施防止戶外光線的眩光之處理為慣例。其手法之一有防眩處理，例如，通常已在液晶顯示器之表面進行防眩處理。防眩處理係藉由在表面形成微細之凹凸構造而散射表面反射光且使模糊眩光影像的效果得以發現之處理，通常於LCD中配設有實施如此處理之防眩性薄膜。
另一方面，近年來隨著作為人機界面之電子顯示器的進步，對話型之輸入系統已逐漸普及，其中使觸控面板(座標輸入裝置)與顯示器一體化的裝置已廣泛被使用。又，在液晶顯示器等之重量輕/薄型顯示器之中，由於能作成無鍵盤且活用其特長，因此於移動式機器中也 增加使用觸控面板之情形。觸控面板係藉由位置檢測之方法而能分類成光學方式、超音波方式、靜電容量方式、電阻膜方式等。此等之中，由於電阻膜方式係構造單純且價格/性能比亦優異，近年來已迅速普及。
電阻膜方式的觸控面板係在呈對向之側形成以一定間隔保持具有透明電極之2片薄膜或板的電零件。其工作方式係藉由固定一側之透明電極後，從辨識側使用筆或手指按壓另一側之透明電極，使其彎曲而與所固定之透明電極相接觸、導通，檢測電路於探測位置後進行既定之輸入。在如此觸控面板之工作方式，於使用筆或手指按壓電極之際，在所按壓之手指或筆等之指向用具周邊，將會出現因干涉所造成的彩虹圖案(所謂被稱為「牛頓環」的干涉顏色或干涉條紋)，而使畫面之辨識性降低。詳言之，2片透明電極將會接觸或是為了接觸而彎曲，於使呈對向的2片透明電極之間隔成為可見光之波長左右(約0.5μm)時，在被2片透明電極所夾之空間生成反射光之干涉而產生牛頓環。如此牛頓環之產生係在電阻膜方式的觸控面板之原理上為不可避免的現象。作為減輕在如此觸控面板之牛頓環的對策，也已利用在形成透明電極之載體薄膜的表面形成凹凸構造之處理。
如此方式，LCD或觸控面板係具備在表面具有凹凸構造之光學薄膜(或光散射薄膜)，通常此光學薄膜係藉由將樹脂微粒或二氧化矽微粒等之微粒、與黏結劑樹脂或硬化性樹脂之混合物塗布於基材上，在表面形成微細之凹凸構造而獲得。但是，凹凸構造係在具有防眩性或 防牛頓環性之相反面，相對於像素而配設在顯示裝置辨識側之情形，藉由透鏡之作用而擾亂像素。因此，若以肉眼觀察時，為了防止因作為閃爍中之亮度差所造成的若隱若現而可見的「閃爍」，與像素之尺寸作一比較而使凹凸之間隔成為一半以下之方法等則在縮小凹凸間隔之方向上進行探討。
例如，等同於LCD，近年來在朝向普及之電漿顯示器面板(PDP)，作為能顯示優異的穿透影像、且具有優異的防眩性之防眩性薄膜，在日本專利特開2009-265143號公報(專利文獻1)中，揭示一種防眩性薄膜，其係由透明薄膜、與在此透明薄膜上所形成的硬質塗布層所構成的防眩性薄膜，於該硬質塗布層中含有(a)一次粒徑為40至200 nm之二氧化矽微粒、(b)一次粒徑為1至30 nm之二氧化矽微粒與黏結劑，且含有二氧化矽微粒凝聚結構；該防眩性薄膜之硬質塗布層側表面之中心線平均粗糙度Ra為0.05至0.3 μm、凹凸周期λa為40至200 μm、該防眩性薄膜之霧度值為0.1至3.0%。於此文獻中記載了二氧化矽微粒之含量係薄膜重量之0.05至30%(尤其是0.2至25%)。又，作為二氧化矽微粒凝聚結構之形成方法係記載有使用烷基乙醯乙酸鋁鹽二異丙酸酯等之凝聚劑之方法。於實施例中，相對於硬質塗布材料100重量份而言，摻合1.5至9重量份，形成有具有1.92至2.02%之霧度、及46至80 μm之凹凸周期的硬質塗布層。
但是，於此防眩性片中，由於凹凸周期小，若中心線平均粗糙度Ra變大時，將會帶有白色而無法提高帶有 黑色；相反地，若Ra變小時，則防眩性將會降低。又，由於二氧化矽微粒之比例多，硬質塗布層之機械特性將會降低。還有，為了使大量之二氧化矽微粒凝聚，凝聚劑為必要，成為溢出之原因。
又，於日本專利特開2007-219485號公報(專利文獻2)中，揭示一種光學薄膜，其具有在透明載體上含有透光性樹脂及凝聚性金屬氧化物粒子之至少1層的硬質塗布層，表面霧度值為0至12%、內部霧度值為0至35%、且Sm值為50至200 μm。
但是，即使為此光學薄膜，由於Sm小至200 μm以下，因此在霧度低之情形下，防眩性將會降低。
還有，近年來在LCD或觸控面板中，已開發出像素尺寸細的高精細顯示裝置，隨著顯示裝置之高精確度化，像素尺寸正在不斷地變小。因此，相對於像素尺寸而言，縮小凹凸的間隔時，若凹凸之高度小，則並未發現防眩性；另一方面，若凹凸之高度大，則帶有白色之傾向將會變得更顯著，兼具防眩性與影像之鮮明性將會變得更困難。又，為了防止閃爍，也已有人探討增大光學薄膜之內部尺寸、使亮度差均勻化之方法，但由於霧度高，影像之鮮明性已大幅受損。還有，於觸控面板等之中，由於顯示裝置尺寸小而且高精細化正在發展，因此像素之尺寸非常地小，為了防止閃爍，使凹凸間隔小於像素之尺寸則有難度。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1 日本專利特開2009-265143號公報(申請專利範圍、段落[0028]、實施例)
專利文獻2 日本專利特開2007-219485號公報(申請專利範圍、實施例)
因此，本發明之目的係在於提供一種光學薄膜及其製造方法，其中該光學薄膜在具有優越之防眩性或防牛頓環性的同時，也不會帶有白色而能顯示鮮明之影像。
本發明之另一個目的係在於提供一種光學薄膜及其製造方法，其中相對於像素尺寸小的高精細顯示裝置，與厚度薄無關，該光學薄膜能抑制閃爍且能提高帶有黑色。
本發明之再另一個目的係在於提供一種光學薄膜及其製造方法，其中該光學薄膜具優越之耐刮傷性及機械特性。
本發明之另一個目的係在於提供一種光學薄膜及其製造方法，其中該光學薄膜可抑制凝聚劑等之溢出。
本發明之其他目的係在於提供一種簡便地製造低反射且低霧度之光學薄膜之方法。
本發明人等為了達成該課題而鑽研探討，結果意外地發現下列事實而完成本發明：藉由在透明薄膜上所形成的硬質塗布層之表面，形成較在高精細顯示裝置中之小型像素尺寸大的凹凸構造，而能在提高防眩性或防牛頓環性的同時，也不帶有白色且能顯示鮮明的影像。
亦即，本發明之光學薄膜係含有透明薄膜、與在此透明薄膜上所形成的硬質塗布層之光學薄膜，在該硬質塗布層之表面形成有凹凸之平均間隔Sm為600至1500 μm及算術平均粗糙度Ra為0.04至0.2 μm之凹凸構造。該凹凸構造之算術平均傾斜△a可為0.05至5°。本發明之光學薄膜，其霧度可為0.1至2%左右。本發明之光學薄膜，其光學梳齒寬度0.125 mm之穿透影像鮮明度為1至67%左右，光學梳齒寬度0.25 mm之穿透影像鮮明度為2至67%左右，光學梳齒寬度0.5 mm之穿透影像鮮明度為10至85%左右，光學梳齒寬度1 mm之穿透影像鮮明度為50至95%左右，且光學梳齒寬度2 mm之穿透影像鮮明度為80至99%左右。該硬質塗布層亦可利用含有硬化性樹脂先質及纖維素奈米纖維之硬化性組成物的硬化物而形成。該纖維素奈米纖維可具有10至500 nm左右之平均纖維直徑、及20至500 μm左右之平均纖維長度。相對於硬化性樹脂先質100重量份而言，該纖維素奈米纖維之比例可為0.01至3重量份左右。該硬化性樹脂組成物進一步亦可含有無乙烯性不飽和鍵之高分子(例如，纖維素衍生物)。該硬化性組成物亦可進一步含有中空二氧化矽粒子。硬質塗布層為利用含有中空二氧化矽粒子之硬化性組成物所形成的光學薄膜之表面反射率可為4%以下。該中空二氧化矽粒子可於硬質塗布層之表面附近呈現不均勻。該硬質塗布層之厚度可為30 μm以下，該硬質塗布層實質上可不含凝聚劑，特佳為不含凝聚劑。
於本發明中，也包含該光學薄膜之製造方法，其中該光學薄膜係在透明薄膜上塗布用以形成硬質塗布層之塗布液，於乾燥後照射活性能量線而硬化。於此製造方法中，亦可在70℃以下之溫度下進行乾燥。
於本發明中，在透明薄膜上所形成的硬質塗布層之表面，與高精細表面裝置中之小型像素尺寸作一比較，由於形成較大的凹凸構造，因此在能提高防眩性或防牛頓環性的同時，也能顯示抑制褪色(不帶有白色)的鮮明影像。尤其，藉由使用纖維素奈米纖維而形成凹凸構造，相對於像素尺寸小的高精細顯示裝置，與厚度薄無關，能抑制閃爍且能提高帶有黑色。又，利用含有硬化性樹脂先質及纖維素奈米纖維之硬化性組成物的硬化物而形成硬質塗布層時，也能提高耐刮傷性及機械特性。進一步由於不摻合凝聚劑而能形成顯現優異的光學特性之凹凸構造，可獲得抑制凝聚劑等之溢出的光學薄膜。進一步藉由使硬化性組成物中含有纖維素奈米纖維及中空二氧化矽粒子而塗布，能簡便地製造既低反射且低霧度之光學薄膜。
[用於實施發明之形態] [硬質塗布層]
本發明之光學薄膜係含有在透明薄膜上所形成的硬質塗布層。此硬質塗布層之特徵為在表面形成較40至200 μm左右之小型像素尺寸為大的凹凸構造。尤其，藉 由增大此凹凸構造且調整至高度平緩降低的構造，與霧度小的透明薄膜無關，能抑制閃爍且能提高防眩性及防牛頓環性。
(硬質塗布層之表面構造)
具體而言，表面之凹凸構造係凹凸之平均間隔Sm為600至1500 μm，較佳為620至1400 μm，進一步較佳為650至1300 μm(尤其是700至1200 μm)左右，為了實現高度之防眩性及防牛頓環性，亦可為650至1100 μm(尤其是700至1000 μm)左右。於本發明中，藉由使Sm較小型之像素為大，而能兼顧防眩性或防牛頓環性與辨識性。若Sm過小時，在發生閃爍的同時，也將會使影像帶有白色而降低穿透性。若Sm過大時，則會降低防眩性或防牛頓環性。
該凹凸構造之算術平均粗糙度Ra為0.04至0.2 μm，較佳為0.05至0.19 μm，進一步較佳為0.06至0.18 μm(特佳為0.07至0.15 μm)左右，為了實現高度之防眩性及防牛頓環性，可為0.05至0.12 μm(特佳為0.07至0.1 μm)左右。於本發明中，與Sm大小無關，藉由如此方式來縮小Ra，凹凸構造之高度低且能提高影像之鮮明性。若Ra過小時，防眩性將會降低。若Ra過大時，則影像之鮮明性將會降低。
例如，該凹凸構造之算術平均傾斜△a為0.05至5°，較佳為0.06至4°，進一步較佳為0.07至3°(特佳為0.08至2°)左右，為了實現高度之防眩性及防牛頓環性，亦可為0.1至1.5°(特佳為0.5至1.0°)左右。於本發明中，由 於△a小、凹凸構造平緩，因此與大的凹凸構造無關，能發現優異的散射效果且能提高防眩性或防牛頓環性。若△a過小時，防眩性或防牛頓環性皆將會降低。若△a過大時，則影像之鮮明性將會降低。
還有，於本發明中，此等凹凸之平均間隔Sm、算術平均粗糙度Ra及算術平均傾斜△a係可根據JIS B0601之方法來測定。
(硬化性組成物)
只要在表面形成有該凹凸構造之硬質塗布層係透明且利用硬質材質所形成的話即可，但從能簡便製造具優越之光學特性及機械特性的硬質塗布層之觀點，亦可利用含有硬化性樹脂先質及纖維素奈米纖維之硬化性組成物的硬化物而形成。藉由利用硬化性組成物之硬化物來形成而在能提高耐刮傷性等之機械特性的同時，也藉由含有纖維素奈米纖維，而不會損害光學特性，利用簡便之方法便能形成該凹凸構造。
(A)硬化性樹脂先質
作為硬化性樹脂先質係可使用具有藉由熱或活性能量線(紫外線或電子線等)等而反應之官能基的化合物，且可使用藉由熱或活性能量線等而硬化或交聯後，可形成樹脂(尤其是硬化或交聯樹脂)之各種硬化性化合物。作為該樹脂先質，例如，可舉例：熱硬化性化合物或樹脂[具有環氧基、聚合性基、異氰酸酯基、烷氧矽基、矽烷醇基等之低分子量化合物(例如，環氧系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、矽烷醇系樹脂等)]、 藉由活性光線(紫外線等)而可硬化之光硬化性化合物(光硬化性單體、寡聚物等之紫外線硬化性化合物等)等；光硬化性化合物亦可為FB(電子線)硬化性化合物等。還有，有將光硬化性單體、寡聚物或亦可為低分子量之光硬化性樹脂等之光硬化性化合物簡稱為「光硬化性樹脂」之情形。
於光硬化性化合物中，含有例如：單體、寡聚物(或樹脂，尤其是低分子量樹脂)。單體能分類成例如：具有1個聚合性基之單官能單體、與具有至少2個聚合性基之多官能單體。
作為單官能單體，例如，可舉例：(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸系單體、乙烯吡咯啶酮等之乙烯系單體、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸金剛酯等之具有交聯環式烴基之(甲基)丙烯酸酯等。
於多官能單體中，包含具有2至8左右之聚合性基之多官能單體，作為2官能單體，例如，可舉例：二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸己二醇酯等之二(甲基)丙烯酸烯烴基二醇酯；二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚氧伸丁基二醇酯等之二(甲基)丙烯酸(聚)氧伸烷基二醇酯；二(甲基)丙烯酸三環癸烷二甲醇酯、二(甲基)丙烯酸金剛酯等之具有交聯環式烴基之二(甲基)丙烯酸酯等。
作為3至8官能單體，例如，可舉例：三(甲基)丙烯酸甘油酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基乙烷酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯等。
作為寡聚物或樹脂，可舉例：雙酚A-環氧烷加成物之(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環氧酯(雙酚A型(甲基)丙烯酸環氧酯、酚醛型(甲基)丙烯酸環氧酯等)、聚酯(甲基)丙烯酸酯(例如，脂肪族聚酯型(甲基)丙烯酸酯、芳香族聚酯型(甲基)丙烯酸酯等)、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(聚酯型胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚型胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等)、(甲基)丙烯酸矽氧酯等。於此等之(甲基)丙烯酸酯寡聚物或樹脂中，亦可包含在該聚合物成分中之(甲基)丙烯酸系樹脂項中所舉例之共聚合性單體。此等光硬化性化合物能夠單獨地或組合二種以上而使用。
還有，基於提高硬質塗布層強度之觀點等，硬化性樹脂先質亦可包含含有氟原子之硬化性化合物。作為含有氟原子之先質(含氟的硬化性化合物)，該單體及寡聚物之氟化物，例如，可舉例：(甲基)丙烯酸氟化烷酯[例如，(甲基)丙烯酸全氟辛基乙酯或(甲基)丙烯酸三氟乙酯等]、二(甲基)丙烯酸氟化(聚)氧烯烴基二醇酯[例如，二(甲基)丙烯酸氟乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸氟丙二醇酯等]、含氟之環氧樹脂、含氟之胺基甲酸酯系樹脂等。
較佳的硬化性樹脂先質係在短時間內能硬化之光硬化性化合物，例如紫外線硬化性化合物(亦可為單體、寡聚物或低分子量之樹脂等)、EB硬化性化合物。尤其，實用上有利之樹脂先質為紫外線硬化性樹脂。還有，為了使耐刮傷性提高，光硬化性樹脂較佳為含有2官能以上(較佳為2至10官能，進一步較佳為3至8官能左右)之光硬化性化合物，特佳為含有多官能(甲基)丙烯酸酯，例如較佳為含有3官能以上(特佳為4至8官能)之(甲基)丙烯酸酯(例如，六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯等)。尤其，亦可組合5至7官能(甲基)丙烯酸酯、與2至4官能(甲基)丙烯酸酯[尤其是三(甲基)丙烯酸新戊二醇酯等之3至4官能(甲基)丙烯酸酯]，例如兩者之比例(重量比)為前者/後者=100/0至1/99，較佳為90/10至10/90，進一步較佳為80/20至20/80左右，從抑制霧度之觀點，亦可例如：為50/50至10/90(特佳為40/60至10/90)左右。
作為硬化性樹脂先質之數量平均分子量，在凝膠滲透層析儀(GPC)中，以聚苯乙烯換算，例如為5000以下，較佳為2000以下，進一步較佳為1000以下左右。
(B)纖維素奈米纖維
作為纖維素奈米纖維，例如只要為具有β-1,4-葡萄糖構造之多醣類所形成的話，並未予以特別限制，可舉例：源自高等植物之纖維素纖維[例如，木材纖維(針葉樹、闊葉樹等之木材紙漿等)、竹纖維、甘蔗纖維、種子毛纖維(棉短絨纖維、木棉(bombax)、印度木棉(kapok)等)、韌皮纖維(例如，麻、桑、三椏等)、葉纖維(例如，馬尼 拉麻、紐西蘭麻等)等之天然纖維素纖維(紙漿纖維)等]；源自動物之纖維素纖維(海鞘纖維等)；源自細菌之纖維素纖維、化學所合成的纖維素纖維[纖維素乙酸酯(乙酸纖維素)、纖維素丙酸酯、纖維素丁酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等之有機酸酯；硝酸纖維素、硫酸纖維素、磷酸纖維素等之無機酸酯；硝酸乙酸纖維素等之混酸酯；羥烷基纖維素(例如，羥乙基纖維素(HEC)、羥丙基纖維素等)；羧烷基纖維素(例如，羧甲基纖維素(CMC)、羧乙基纖維素等)；烷基纖維素(甲基纖維素、乙基纖維素等)；再生纖維素(螺縈、賽珞玢等)等之纖維素衍生物纖維等]等。此等纖維素奈米纖維可單獨地或組合二種以上而使用。
此等纖維素奈米纖維之中，從生產性高、具有適度的纖維直徑及纖維長度之觀點，較佳為源自高等植物之纖維素纖維，例如：木材纖維(針葉樹、闊葉樹等之木材紙漿等)或種子毛纖維(棉短絨纖維等)等之源自紙漿之纖維素纖維。
若纖維素奈米纖維之平均纖維直徑為奈米尺寸的話，雖然未予以特別限定，但例如為10至500 nm，較佳為20至300 nm，進一步較佳為30至200 nm(特佳為50至100 nm)左右。若平均纖維直徑過小時，形成凹凸構造將會變得困難。若平均纖維直徑過大時，則形成傾斜平緩且大的凹凸構造將會變得困難。於本發明中，不使用粒徑大的粒子，而是藉由使用奈米尺寸之纖維而在特定之條件下製造，由於能形成大的凹凸構造，即使對 於厚度薄的硬質塗布層也能形成該凹凸構造。還有，若使用粒徑大的粒子時，雖然形成傾斜平緩的凹凸構造將會變得困難，但藉由使用纖維素奈米纖維而能容易地形成傾斜平緩的凹凸構造。
還有，從能形成均勻的凹凸構造之觀點，纖維直徑分布之標準偏差例如可為80 nm以下(例如為1至80 nm)，較佳為3至50 nm，進一步較佳為5至40 nm(特佳為10至30 nm)左右。還有，最大纖維直徑亦可小於500 nm，例如可為30至300 nm，較佳為40至200 nm，進一步較佳為50至100 nm左右。
還有，於本發明中，該平均纖維直徑、纖維直徑分布之標準偏差、最大纖維直徑係從根據電子顯微鏡照片所測出的纖維直徑(n=20左右)所算出的值。
只要纖維素奈米纖維之平均纖維長度為10 μm以上左右的話即可，例如，雖然從10至1000 μm左右之範圍而能選擇，但從在硬質塗布層表面形成既定之凹凸構造、能提高光學特性之觀點，例如為20至900 μm，較佳為30至800 μm(例如為35至700 μm)，進一步較佳為40至600 μm(例如為50至500 μm)左右。若平均纖維長度過小時，形成凹凸構造將會變得困難。若平均纖維長度過大時，則凹凸構造將會變得過大而難以形成平緩之凹凸構造，影像之鮮明性將會降低。
還有，平均纖維長度對平均纖維直徑之比(平均纖維長度/平均纖維直徑)(平均縱橫比)為40以上左右，例如為50至50000，較佳為80至25000，進一步較佳為150 至10000(特佳為500至6000)左右。於本發明中，如此方式，與具有奈米尺寸之平均直徑無關，藉由使用具有較長的纖維長度及縱橫比之奈米纖維，根據在製造過程之對流而將適度相纏繞之奈米纖維分離成密的區域與疏的區域後，因而在密的區域形成凸部，或是能形成適度之凹凸構造。
纖維素奈米纖維之橫剖面形狀(垂直於纖維之長邊方向的剖面形狀)亦可為如細菌纖維素之異向形狀(扁平形狀)，源自植物的奈米纖維之情形，通常約略為等向形狀。例如，作成略為等向形狀為正圓形、正多角形等；約略圓形之情形，例如長徑對短徑之比(平均縱橫比)係為1至2，較佳為1至1.5，進一步較佳為1至1.3(特佳為1至1.2)左右。
纖維素奈米纖維亦可在硬化性組成物中，使其分散於水中而調製成分散液(或懸浮液)之狀態。例如，在分散液中之固形物濃度為0.01至50重量%，較佳為0.1至30重量%，進一步較佳為0.3至10重量%(特佳為0.5至5重量%)左右。
例如，相對於硬化性樹脂先質100重量份而言，纖維素奈米纖維之比例係從0.01至3重量份左右之範圍而能選擇，但從不會使光學特性降低且能形成適度的凹凸構造之觀點，例如為0.02至2重量份，較佳為0.03至1重量份，進一步較佳為0.04至0.5重量份(特佳為0.05至0.3重量份)左右。若纖維素奈米纖維之比例過少時，將會使形成凹凸構造變得困難。若纖維素奈米纖維之比例過多時，則光學特性將會降低。
(C)無乙烯性不飽和鍵之高分子
硬化性組成物係為了使柔軟性等之機械特性提高，進一步亦可含有不具有參與硬化性樹脂先質硬化反應之乙烯性不飽和鍵的高分子。
作為如此之高分子，例如，可舉例：烯烴系樹脂、苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、有機酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素之樹脂、聚碳酸酯、聚酯、聚醯胺、熱可塑性聚胺基甲酸酯、聚碸系樹脂、聚苯醚系樹脂、纖維素衍生物、矽氧烷樹脂、橡膠或彈性體等。此等高分子可單獨地或組合二種以上而使用。
此等高分子之中，廣泛採用苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯、纖維素衍生物等，但是從具優越之透明性及耐熱性的同時，也能提高柔軟性等機械特性之觀點，較佳為纖維素衍生物。
於纖維素衍生物中，包含纖維素酯類、纖維素醚類、纖維素胺基甲酸酯類。
作為纖維素酯類，例如，可舉例：脂肪族有機酸酯(纖維素二乙酸酯、纖維素三乙酸酯等之纖維素乙酸酯；纖維素丙酸酯、纖維素丁酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等之纖維素C2-6醯化物等)；芳香族有機酸酯(纖維素鄰苯二甲酸酯、纖維素苯甲酸酯等之C7-12芳香族羧酸酯)；無機酸酯類(例如，磷酸纖維素、硫酸纖維素等)等。纖維素酯類亦可為乙酸/硝酸纖維素酯等之混合酸酯。
作為纖維素醚類，例如，可舉例：氰乙基纖維素；羥乙基纖維素、羥丙基纖維素等之羥基C2-4烷基纖維素；甲基纖維素、乙基纖維素等之C1-6烷基纖維素；羧甲基纖維素或其鹽、苄基纖維素、乙醯基烷基纖維素等。作為纖維素胺基甲酸酯類，例如，可舉例：纖維素苯基胺基甲酸酯等。
此等纖維素衍生物可單獨地或組合二種以上而使用。此等纖維素衍生物之中，較佳為纖維素酯類，特佳為纖維素乙酸酯(纖維素二乙酸酯、纖維素三乙酸酯等)；纖維素丙酸酯、纖維素丁酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等之纖維素C2-6醯化物。其中，對溶劑之溶解性高、塗布液能容易調製之外，藉由少量之添加而在能容易地調節塗布液之黏度的同時，也為了抑制在塗布液中之纖維素奈米纖維之凝聚，提高保存安定性，較佳為纖維素二乙酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等之纖維素C2-4醯化物(特佳為纖維素乙酸酯丙酸酯等之纖維素乙酸酯C3-4醯化物)。
例如，相對於硬化性樹脂先質100重量份而言，該高分子之比例為0.01至30重量份，較佳為0.05至20重量份(例如，0.1至5重量份)，進一步較佳為0.2至3重量份(特佳為0.3至1重量份)左右。於本發明中，藉由調整該高分子之比例而能夠調整硬質塗布性與機械特性之平衡，若在此範圍內時，兩者皆具優越之平衡性。
(D)無機粒子
從改良透明性等之光學特性之觀點等，硬化性組成物亦可進一步含有無機粒子。
無機粒子之形狀，並未予以特別限制，例如，可舉例：球形、橢圓體形、多角體形(多角錘形、正方體形、直方體形等)、板形、棒形、不定形等。此等形狀之中，從光學特性等之觀點，較佳為約略球形等之等向形狀。
無機粒子之平均粒徑為100 nm以下，較佳為80 nm以下(例如，10至80 nm)，進一步較佳為20至70 nm左右。若無機粒子之平均粒徑過小時，減低霧度或反射率之效果將會降低。若無機粒子之平均粒徑過大時，則對表面之凹凸構造造成影響，光學特性將會降低。
無機粒子較佳為低折射率者，折射率例如可為1.2至1.5，較佳為1.21至1.4，進一步較佳為1.22至1.35左右。若折射率過大時，影像之鮮明性將會降低。
作為無機粒子，例如，可舉例：金屬單體、金屬氧化物、金屬硫酸鹽、金屬矽酸鹽、金屬磷酸鹽、金屬碳酸鹽、金屬氫氧化物、矽化合物、氟化合物、天然礦物等。無機粒子亦可藉由偶合劑(鈦偶合劑、矽烷偶合劑)而予以表面處理。此等無機粒子可單獨地或組合二種以上而使用。此等無機粒子之中，從透明性等之觀點，較佳為氧化鈦等之金屬氧化物粒子、氧化矽等之矽化物粒子、氟化鎂等之氟化物粒子等；從能實現低反射化或低霧度化之觀點，特佳為二氧化矽粒子。
還有，二氧化矽粒子亦可為內部具有空洞部之二氧化矽粒子(中空二氧化矽粒子)，由於中空二氧化矽粒子之折射率低，能高效率提升低反射化或低霧度化。
中空二氧化矽粒子中之空洞部的形狀或大小並未予以特別限定，只要粒子之折射率為該範圍的話即可。通常，中空二氧化矽粒子可對粒子之外殼(殼)具有作為核(芯)之1個空洞部(球形粒子之情形，為球形空洞部)，亦可在粒子內具有複數個空洞部(球形或橢圓形等)。針對如此之中空二氧化矽粒子係已記載於日本專利特開2001-233611號公報、特開2003-192994號公報等。在此等文獻中所記載之中空二氧化矽粒子係折射率低、膠體區域之粒子，具優越之分散性等，於本發明中，較佳能使用在此等文獻中所記載之中空二氧化矽粒子，利用在此等文獻中所記載之製造方法而能夠製造中空二氧化矽粒子。
無機粒子亦可於硬質塗布層之表面附近呈現不均勻。若無機粒子於硬質塗布層之表面附近時不均勻，能降低光學薄膜之反射率。為了使無機粒子於硬質塗布層之表面附近呈現不均勻，例如亦可適當調整分散液之組成。
無機粒子係於硬化性組成物中，亦可為分散於溶劑中之分散液的形態。作為溶劑，例如，可舉例：水、醇類(乙醇、異丙醇等)、酮類(丙酮、甲基乙基酮等)等。例如，分散液中之無機粒子的固形物濃度為0.1至50重量%，較佳為1至40重量%，進一步較佳為5至30重量%左右。
例如，相對於硬化性樹脂先質100重量份而言，無機粒子(例如，中空二氧化矽粒子)之比例為0.01至10重量份，較佳為0.1至5重量份，進一步較佳為0.5至3重量份(特佳為1至2重量份)左右。若無機粒子之比例過少時，光學特性之改良效果小。若無機粒子之比例過多時，則在機械特性降低的同時，霧度亦提高。
(E)其他添加劑
硬化性組成物亦可按照硬化性樹脂先質之種類而含有硬化劑，例如於熱硬化性樹脂中，亦可含有胺類、多元羧酸類等之硬化劑。
硬化性組成物亦可含有聚合起始劑。聚合起始劑係按照硬化性樹脂先質之種類而可為熱聚合起始劑(過氧化苯醯等之過氧化物之熱自由基產生劑)，亦可為光聚合起始劑(光自由基產生劑)。較佳的聚合起始劑係光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，例如，可舉例：苯乙酮類或苯丙酮類、二苯甲醯類、苯偶因類、二苯甲酮類、噻噸酮類、氧化醯基膦類等。於光聚合起始劑中，亦可含有習用之光增感劑或光聚合促進劑(例如，二烷胺基苯甲酸酯等之三級胺類、膦系光聚合促進劑等)。
相對於硬化性樹脂先質100重量份而言，硬化劑及/或聚合起始劑(例如，光聚合起始劑)之比例為0.1至20重量份，較佳為0.5至10重量份，進一步較佳為1至8重量份(特佳為1至5重量份)左右，亦可為3至8重量份左右。
溶劑係按照該硬化性樹脂先質、該高分子之種類及溶解性而能選出，只要為至少能均勻溶解固形成分(硬化性樹脂先質、該高分子、反應起始劑、其他添加劑)之溶劑的話即可。作為如此之溶劑，例如，可舉例：酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等)、醚類(二烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環式烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化烴類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇類(乙醇、異丙醇、丁醇、環己醇等)、溶纖素類(甲基溶纖素、乙基溶纖素、丙二醇一甲基醚(1-甲氧基-2-丙醇)等)、溶纖素乙酸酯類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等。此等溶劑可單獨地或組合二種以上而使用，亦可為混合溶劑。
此等溶劑之中，較佳為甲基乙基酮等之酮類、丁醇等之醇類、丙二醇一甲基醚等之溶纖素類，亦可為混合此等之溶劑。例如，可為以前者/後者=90/10至10/90，較佳為以70/30至30/70，進一步較佳為以60/40至40/60左右之比例(重量比)來混合該酮類、與該醇類及/或該溶纖素類。
相對於硬化性樹脂先質100重量份而言，溶劑之比例係從10至1000重量份左右之範圍而能選擇，例如為50至500重量份，較佳為80至400重量份，進一步較佳為100至300重量份左右。
於不損害硬質塗布層之光學特性的範圍內，於硬化性組成物中，亦可含有習用之添加劑，例如，有機粒子、安定劑(抗氧化劑、紫外線吸收劑等)、界面活性劑、水溶性高分子、填充劑、交聯劑、偶合劑、著色劑、難燃劑、潤滑劑、蠟、防腐劑、黏度調整劑、增黏劑、調平劑、消泡劑等。
尤其，從不使用凝聚劑而能形成凹凸構造、光學特性等之觀點，實質上硬化性組成物較佳為未含有凝聚劑(例如，在日本專利特開2009-265143號公報中記載之微粒凝聚劑等)之組成物。
硬化性組成物(硬化性樹脂先質)可為熱硬化性組成物，亦可為在短時間內能硬化之光硬化性化合物，例如紫外線硬化性化合物、EB硬化性化合物。尤其，實用上為有利、且容易形成凹凸構造之樹脂先質係紫外線硬化性樹脂。
例如，硬質塗布層之厚度為0.5至30 μm，較佳為1至25 μm，進一步較佳為3至20 μm(特佳為5至15 μm)左右。於本發明中，與具有Sm值為600 μm以上之大的凹凸構造無關，能形成30 μm以下之厚度薄的硬質塗布層。
[透明薄膜]
作為透明薄膜(或基材薄膜)，除了玻璃、陶瓷之外，亦可舉例樹脂片。作為構成透明薄膜之樹脂能使用與該硬質塗布層同樣的樹脂。作為較佳的透明薄膜係透明性聚合物薄膜，例如，可舉例：利用纖維素衍生物[纖維素 三乙酸酯(TAC)、纖維素二乙酸酯等之纖維素乙酸酯等]、聚酯系樹脂[聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚芳香酯系樹脂等]、聚碸系樹脂[聚碸、聚醚碸等]、聚醚酮系樹脂[聚醚酮、聚醚醚酮等]、聚碳酸酯系樹脂(雙酚A型聚碳酸酯等)、聚烯烴系樹脂(聚乙烯、聚丙烯等)、環狀聚烯烴系樹脂[TOPAS(註冊商標)、ARTON(註冊商標)、ZEONEX(註冊商標)等]、含鹵素之樹脂(聚偏二氯乙烯等)、(甲基)丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂(聚苯乙烯等)、乙酸乙烯或乙烯醇系樹脂(聚乙烯醇等)等所形成的薄膜。透明薄膜可為1軸或2軸予以拉伸。
此等薄膜係按照用途而能適當選擇，由於將光學薄膜用於觸控面板之上部電極基板(與手指或筆等之按壓構件接觸之側的電極基板)之情形係必須為可撓性，能利用塑膠片或薄膜(未拉伸或拉伸的塑膠片或薄膜)。
於光學等向性透明薄膜中，可舉例：玻璃、未拉伸或拉伸的塑膠片或薄膜，例如較佳為聚酯(PET、PBT等)、纖維素衍生物類，特佳為纖維素酯類(纖維素二乙酸酯、纖維素三乙酸酯等之纖維素乙酸酯；纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等之纖維素乙酸酯C3-4醯化物等)等所形成的片或薄膜。尤其，將纖維素衍生物作為硬質塗布層之熱塑性樹脂使用之情形，若將由纖維素衍生物所構成的薄膜作為透明薄膜使用時，也能提高兩者之緊貼性。
透明薄膜之厚度例如從5至2000 μm，較佳為15至1000 μm，進一步較佳為20至500 μm左右之範圍而能選擇。
[光學薄膜]
本發明之光學薄膜係藉由具有該硬質塗布層，與具有高的防眩性及防牛頓環性無關，霧度將會被抑制而具有高的透明性。
例如，本發明之光學薄膜係依照JIS K7136之霧度為0.1至2%，較佳為0.15至1.5%，進一步較佳為0.2至1%(特佳為0.3至0.8%)左右。若霧度過低時，使凹凸構造之形成變得困難。若霧度過高時，則帶有白色且無法顯示鮮明之影像。
例如，本發明之光學薄膜係依照JIS K7136之全部光線透射率為70至100%，較佳為80至100%，進一步較佳為85至99%(特佳為90至95%)左右。
本發明之光學薄膜的穿透影像鮮明度使用寬度0.125 mm的光學梳齒之情形，亦即，例如光學梳齒寬度0.125 mm之穿透影像鮮明度為1至67%，較佳為1.5至55%，進一步較佳為2至50%(特佳為5至40%)左右。
例如，光學梳齒寬度0.25 mm之穿透影像鮮明度為2至67%，較佳為3至60%，進一步較佳為4至55%(特佳為8至50%)左右。
例如，光學梳齒寬度0.5 mm之穿透影像鮮明度為10至85%，較佳為15至80%，進一步較佳為20至75%(特佳為25至70%)左右。
例如，光學梳齒寬度1 mm之穿透影像鮮明度為50至95%，較佳為55至93%，進一步較佳為60至92%(特佳為70至90%)左右。
例如，光學梳齒寬度2 mm之穿透影像鮮明度為80至99%，較佳為85至98%，進一步較佳為90至98%(特佳為94至98%)左右。
若穿透影像鮮明度為該範圍內時，由於直進穿透光之散射少，即使為將光學薄膜配設於高精細顯示裝置之情形，來自各自之像素的散射將會變少，其結果能防止閃爍。
所謂穿透影像鮮明度係定量化穿透膜之光的模糊或歪斜之尺度。穿透影像鮮明度係通過移動來自膜的穿透光之光學梳齒所測出，根據光學梳齒之明暗部的光量而算出數值。亦即，膜模糊穿透光之情形，由於在光學梳齒上所成像的狹縫之影像將會變粗，在穿透部之光量成為100%以下；另一方面，在非穿透部，由於漏光而成為0%以上。穿透影像鮮明度之值C係從光學梳齒之透明部的穿透光最大值M與不透明部的穿透光最小值m，依照下式所定義：C(%)=[(M-m)/(M+m)]×100。
亦即，C之值越接近100%，因透明導電性膜所造成的影像模糊越小[參考文獻；須賀、三田村，塗裝技術，1985年7月號]。
本發明之光學薄膜係表面反射率可為10%以下，例如為1至10%，較佳為2至8%，進一步較佳為3至5% 左右。尤其，藉由在硬質塗布層中含有低折射率之無機粒子等，亦可使表面反射率降低，表面反射率可為4%以下，較佳為1至4%，進一步較佳為2至3.5%以下。藉由在硬質塗布層中含有中空二氧化矽，且使其在表面附近呈現不均勻，能有效減低表面反射率。
本發明之光學薄膜(尤其，作為防眩薄膜所利用之光學薄膜)係在硬質塗布層上，為了降低表面反射率亦可進一步形成低折射率層。藉由將低折射率層積層於該硬質塗布層上，在液晶顯示裝置等之顯示裝置中，將低折射率層成為最外表面的方式來配設之情形等之下，來自外部之光(外部光源等)能有效防止在光學薄膜表面進行反射。
又，本發明之光學薄膜作為防牛頓環薄膜所利用之情形，亦可在硬質塗布層上進一步積層透明導電層，例如由氧化銦-氧化錫系複合氧化物(ITO)等之金屬氧化物所構成的透明導電層、或是由導電性聚合物所構成的透明導電層。
本發明之光學薄膜係具有硬質塗布性且防眩性或防牛頓環性高。還有，穿透影像具優越之鮮明性，在顯示面之文字模糊少。因此，本發明之光學薄膜能使用於各種顯示裝置，例如液晶顯示(LCD)裝置、電漿顯示器、附觸控面板之顯示裝置等之顯示裝置。例如，能利用作為LCD裝置所具備之防眩薄膜或觸控面板之電極基板，進一步亦可與其他光學要件(例如，偏光板、相位差板、導光板等之光路內所配設的各種光學要件)相組合。
[光學薄膜之製造方法]
只要本發明之光學薄膜能在硬質塗布層之表面形成該凹凸構造，並未予以特別限定，能夠利用習用之方法。利用硬化性組成物之硬化物形成硬質塗布層之情形，本發明之光學薄膜係藉由在透明薄膜上，塗布含有硬化性組成物之塗布液，於乾燥後照射活性能量線進行硬化而能獲得。
塗布液通常係由混合液(尤其均勻溶液等之液狀組成物)所構成，而該混合液係含有該硬化性樹脂先質、纖維素奈米纖維與溶劑，且視必要而含有無乙烯性不飽和鍵之高分子或無機粒子。於較佳的形態中，作為該混合液係使用含有光硬化性化合物、纖維素奈米纖維、纖維素衍生物、中空二氧化矽、光聚合起始劑、可溶解該光硬化性化合物及纖維素衍生物之溶劑的組成物。於本發明中，較佳為藉由習用方法而在塗布液中均勻分散纖維素奈米纖維，例如亦可利用超音波處理塗布液。
混合液中之溶質(硬化性樹脂先質、纖維素奈米纖維、該高分子、無機粒子、反應起始劑、其他添加劑)之濃度係在不損害澆鑄性或塗布性等之範圍內而能選擇，例如為1至80重量%，較佳為5至60重量%，進一步較佳為15至50重量%(特佳為20至45重量%)左右。
還有，若將該混合液塗布於透明薄膜上時，有根據溶劑之種類而溶解或膨潤透明薄膜之情形。例如，若將含有樹脂成分之塗布液(均勻溶液)塗布於三乙醯纖維素薄膜上時，根據溶劑之種類而有三乙醯纖維素薄膜之 塗布面將會被洗提、侵蝕或膨潤之情形。如此之情形，亦可預先將耐溶劑性塗布劑塗布於透明薄膜(三乙醯纖維素薄膜等)之塗布面上而形成光學等向性之耐溶劑性塗布層。如此之塗布層係使用例如苯乙烯-丙烯腈共聚物(AS樹脂)、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂(聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物等)等之熱塑性樹脂、環氧系樹脂、矽氧烷系樹脂、紫外線硬化型樹脂等之硬化性樹脂等而能形成。又，將混合液或塗布液塗布於透明載體上之情形，亦可按照透明薄膜之種類而選擇不會溶解/侵蝕或膨潤透明薄膜之溶劑。
作為塗布方法，習知方法，例如：噴霧、輥塗布機、氣刀塗布機、刮板塗布機、桿塗布機、逆塗布機、棒塗布機、逗點式刮刀塗布機、浸漬/擠壓塗布機、模頭塗布機、凹版塗布機、微型凹版塗布機、絲網版塗布機法、浸漬法、噴霧法、旋轉塗布法等。此等方法之中，廣泛採用棒塗布法或凹版塗布法等。還有，必要的話，塗布液亦可經歷數次進行塗布。
於澆鑄或塗布該混合液後，使溶劑蒸發。例如溶劑之蒸發通常係按照溶劑之沸點，能從30至200℃左右之範圍中選擇，但於本發明中，為了在硬質塗布層之表面形成特定之凹凸構造，乾燥溫度為重要，雖然根據硬化性樹脂先質之種類而能選擇，例如為70℃以下(例如，20至65℃)，較佳為30至65℃，進一步較佳為40至60℃(特佳為45至60℃)左右。若乾燥溫度過高時，由於乾燥時間變短而抑制對流之發生，進展成凹凸構造係困難。
於本發明中，能推斷與塗布液未含有凝聚劑無關，分散於塗布液中之纖維素奈米纖維將會隨著硬化性組成物之硬化而適度地凝聚，樹脂成分成為核而隆起，在表面形成凹凸構造。
如此之凹凸構造所形成的硬質塗布層係藉由活性光線(紫外線、電子線等)或熱等，最後將會硬化而形成硬化樹脂。先質之硬化係按照硬化性樹脂先質之種類，亦可組合加熱、光照射等。此等之中，從容易形成特定之凹凸構造之觀點，較佳為光照射。光照射係按照光硬化成分等之種類而能選擇，通常能利用紫外線、電子線等。
例如，紫外線作為光源之情形能夠使用Deep UV燈、低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、鹵素燈、雷射光源(氦-鎘雷射、準分子雷射等之光源)等。照射光量(照射能量)係根據塗膜之厚度而不同，例如為50至10000 mJ/cm2，較佳為70至7000 mJ/cm2，進一步較佳為100至5000 mJ/cm2左右。
電子線之情形係根據電子線照射裝置等之曝光源，能利用照射電子線之方法。照射量(線量)係根據塗膜之厚度而異，例如為1至200 kGy(gray)，較佳為5至150 kGy，進一步較佳為10至100 kGy(特佳為20至80 kGy)左右。例如，加速電壓為10至1000 kV，較佳為50至500 kV，進一步較佳為100至300 kV左右。
此等光源之中，廣泛採用之曝光源通常為紫外線照射裝置。還有必要時，光照射亦可在惰性氣體環境下進行。尤其，利用光硬化之情形，藉由使先質硬化，不僅 能立即固定化，也能抑制從透明薄膜之內部藉由熱而析出寡聚物等之低分子成分。還有，能將耐刮傷性賦予硬質塗布層，用於觸控面板之情形，即使重複操作也能抑制表面構造之損傷等，故能提高耐久性。
進一步在硬質塗布層上形成低折射率層之情形，通常也利用與該硬質塗布層同樣之方法，藉由在塗布或澆鑄塗布液後，利用活性光線或熱等來硬化而能形成。
於本發明中，為了使得對硬質塗布層之其他層(例如，低折射率層或透明導電層等)的緊貼性提高，亦可將硬質塗布層供以表面處理。作為表面處理係習用之表面處理，例如，可舉例：電暈放電處理、火焰處理、電漿處理、臭氧或紫外線照射處理等。
[實施例]
以下，基於實施例而更詳細說明本發明，但本發明並非受此等實施例所限定者。利用下列之項目評估實施例及比較例所得之透明導電性膜。
[硬質塗布層之耐刮傷性]
作為耐刮傷性之指標，利用9.5 N/cm2之載重，將#0000之不銹鋼絨來回10次摩擦硬質塗布層之表面，根據刮傷之條數，依照下列之基準進行評估：
◎：0條。
○：1至3條。
△：4至6條。
╳：7條以上。
[鉛筆硬度]
依照JIS K5400，利用載重4.9 N測定鉛筆硬度。
[霧度及全部光線透射率(TPP)]
使用霧度計(日本電色(股份)製、商品名「NDH-5000W」)，並依照JIS K7136而測定。
[穿透影像(照片影像)鮮明度]
使用照片影像測定器(Suga測試機(股份)製、商品名「ICM-1T」)，並依照JIS K7105而使薄膜之製膜方向與光學梳齒方向成為平行的方式來設置薄膜後進行光學薄膜的照片影像鮮明度之測定。照片影像測定器之光學梳齒中，測定在0.125至2 mm寬度之光學梳齒的照片影像鮮明度。
[防眩性]
將黑色薄膜貼合於光學薄膜之透明薄膜側，從距離地面2 m之處，將螢光管之裸露螢光燈(10000 cd/m2)照射至薄膜表面，以目視觀察其反射影像模糊之程度，依照下列之基準進行評估：
○：螢光燈之輪廓不清楚，或稍微得知。
△：螢光燈呈部分模糊，但輪廓明確可見。
╳：螢光燈幾乎不模糊，輪廓非常明確可見。
[閃爍之評估]
在顯示面中之閃爍的判定係在42吋尺寸之全滿HD(Full HD)液晶電視(像素數1080×1920)上，配設所得之光學薄膜，白色顯示係以目視且依照下列之基準進行評估。還有，所用之LCD監視器的表層側偏光板係透明型之偏光板。
◎：未感覺到閃爍。
○：稍微感覺到閃爍。
╳：感覺到閃爍。
[穿透影像之評估]
穿透影像的判定係在42吋尺寸之全滿HD液晶電視(像素數1080×1920)上，使用雙面膠帶(日東電工股份有限公司製、CS9621)來貼附所得之光學薄膜，顯示液晶電視之影像，以目視且依照下列之基準進行穿透影像之評估。還有，所用之LCD監視器的表層側偏光板係透明型之偏光板。
◎：穿透影像完全鮮明可見。
○：雖然穿透影像鮮明可見，但較通常之透明液晶電視稍差。
△：穿透影像看起來稍白。
╳：穿透影像模糊而看起來不鮮明。
[防牛頓環性]
在玻璃基板上，使光學薄膜之硬質塗布層與玻璃基板接觸的方式來設置光學薄膜，從透明薄膜側，以目視觀察使用手指按壓之際的牛頓環的產生狀況，依照下列之基準進行評估。
○：未產生牛頓環。
△：稍微能確認牛頓環。
╳：產生牛頓環。
[反射率]
將黑色薄膜貼合於光學薄膜之透明薄膜側，使用積分球反射強度測定裝置日立High-Technologies股份有限公司製、U-3300)來測定積分反射率(視覺感度換算)。
[算術平均粗糙度Ra、凹凸之平均間隔Sm、算術平均傾斜△a]
依照JIS B0601，使用接觸式表面粗糙度計(東京精密股份有限公司製、surfcom570A)，以掃描範圍3 mm、掃描次數2次之條件，測定算術平均粗糙度Ra、凹凸之平均間隔Sm、算術平均傾斜△a。
[塗布液之調製] (硬質塗布層塗布液：NC-1)
將六丙烯酸二季戊四醇酯(Daicel Cytec股份有限公司製、DPHA)50重量份、三丙烯酸季戊四醇酯(Daicel Cytec股份有限公司製、PETIA)50重量份、纖維素乙酸酯丙酸酯(Eastman公司製、CAP)0.5重量份溶解於甲基乙基酮(MEK)100重量份、1-甲氧基-2-丙醇(MMPG)50重量份及1-丁醇(BuOH)(沸點113℃)50重量份之混合溶劑中。於此溶液中，添加光聚合起始劑(Ciba Japan股份有限公司製、商品名「Irugacure 184」)2重量份後溶解。進一步於此溶液中添加纖維素奈米纖維(Daicel化學工業股份有限公司製「Nano Celish」、平均纖維直徑70 nm、平均纖維長度約800 μm、1重量%水分散液)5重量份，攪拌1小時，調製硬質塗布層塗布液：NC-1。
(硬質塗布層塗布液：NC-2)
除了將纖維素奈米纖維之平均纖維長度變更為約400 μm以外，進行相同於NC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-2。
(硬質塗布層塗布液：NC-3)
除了將纖維素奈米纖維之平均纖維長度變更為約200 μm以外，進行相同於NC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-3。
(硬質塗布層塗布液：NC-4)
除了將纖維素奈米纖維之平均纖維長度變更為約100 μm以外，進行相同於NC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-4。
(硬質塗布層塗布液：NC-5)
除了將纖維素奈米纖維之添加量變更為3重量份以外，進行相同於NC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-5。
(硬質塗布層塗布液：NC-6)
除了將纖維素奈米纖維之添加量變更為3重量份以外，進行相同於NC-2的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-6。
(硬質塗布層塗布液：NC-7)
除了將纖維素奈米纖維之添加量變更為3重量份以外，進行相同於NC-3的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-7。
(硬質塗布層塗布液：NC-8)
除了將纖維素奈米纖維之添加量變更為3重量份以外，進行相同於NC-4的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-8。
(硬質塗布層塗布液：NC-9)
除了將六丙烯酸二季戊四醇酯(DPHA)之添加量變更為20重量份、三丙烯酸季戊四醇酯(PETIA)之添加量變更為50重量份以外，進行相同於NC-8的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-9。
(硬質塗布層塗布液：NC-10)
除了將纖維素奈米纖維之平均纖維長度變更為約60 μm、添加量變更為10重量份以外，進行相同於NC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-10。
(硬質塗布層塗布液：NC-11)
除了將纖維素奈米纖維之添加量變更為15重量份以外，進行相同於NC-10的方式來調製硬質塗布層塗布液：NC-11。
(硬質塗布層塗布液：NCL-1)
除了進一步添加中空二氧化矽(日揮觸媒化成股份有限公司製「A2SL-02SH」、20重量%醇分散液)7重量份以外，進行相同於NC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：NCL-1。
(硬質塗布層塗布液：NCL-2)
除了進一步添加中空二氧化矽(A2SL-02SH)7重量份以外，進行相同於NC-5的方式來調製硬質塗布層塗布液：NCL-2。
(硬質塗布層塗布液：NCL-3)
除了進一步添加中空二氧化矽(A2SL-02SH)7重量份以外，進行相同於NC-6的方式來調製硬質塗布層塗布液：NCL-3。
(硬質塗布層塗布液：NCL-4)
除了進一步添加中空二氧化矽(A2SL-02SH)7重量份以外，進行相同於NC-7的方式來調製硬質塗布層塗布液：NCL-4。
(硬質塗布層塗布液：NCL-5)
除了進一步添加中空二氧化矽(A2SL-02SH)7重量份以外，進行相同於NC-8的方式來調製硬質塗布層塗布液：NCL-5。
(硬質塗布層塗布液：NCL-6)
除了進一步添加中空二氧化矽(A2SL-02SH)7重量份以外，進行相同於NC-9的方式來調製硬質塗布層塗布液：NCL-6。
(硬質塗布層塗布液：NCL-7)
除了進一步添加中空二氧化矽(A2SL-02SH)7重量份以外，進行相同於NC-10的方式來調製硬質塗布層塗布液：NCL-7。
(硬質塗布層塗布液：NCL-8)
除了進一步添加中空二氧化矽(A2SL-02SH)7重量份以外，進行相同於NC-11的方式來調製硬質塗布層塗布液：NCL-8。
(硬質塗布層塗布液：HC-1)
除了不進行氟系調平劑0.1重量份之超音波處理而是與起始劑一併添加來取代纖維素奈米纖維以外，進行相同於NC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：HC-1。
(硬質塗布層塗布液：HC-2)
除了進一步添加二氧化矽粒子(日本觸媒股份有限公司製「Seahostar KE-P150」、平均粒徑1.5 μm)5重量份以外，進行相同於HC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：HC-2。
(硬質塗布層塗布液：HC-3)
除了進一步添加苯乙烯珠(平均粒徑3.5 μm)1重量份以外，進行相同於HC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：HC-3。
(硬質塗布層塗布液：HC-4)
除了進一步添加丙烯酸珠(平均粒徑7 μm)20重量份以外，進行相同於HC-1的方式來調製硬質塗布層塗布液：HC-4。
實施例1
將三乙醯纖維素薄膜(富士軟片股份有限公司製、TAC、厚度80 μm)作為透明薄膜使用，使用棒塗布機#26來將硬質塗布層塗布液NC-1塗布於此薄膜上後，於50℃乾燥1分鐘。將塗布薄膜通過紫外線照射裝置(Ushio電機股份有限公司製、高壓水銀燈、紫外線照射量：800 mJ/cm2)而進行紫外線硬化處理，形成具有硬質塗布性及表面凹凸構造之硬質塗布層。在所得之光學薄膜的硬質塗布層之厚度約為8 μm。
實施例2至19及比較例1至2
除了使用硬質塗布層塗布液NC-2至11、NCL-1至8、HC-1至2來取代硬質塗布層塗布液NC-1以外，進行相同於實施例1的方式來製作光學薄膜。還有，硬質塗布層之厚度係除了實施例3(NC-3)及實施例6(NC-6)約為7 μm、實施例12(NCL-1)約為9 μm、比較例1(HC-1)約為6 μm、比較例2(HC-2)約為7 μm以外，其餘皆約為8 μm。
比較例3
除了將塗布後之乾燥溫度變更為80℃以外，進行相同於實施例1的方式來製作光學薄膜。在所得之光學薄膜中的硬質塗布層之厚度約為8 μm。
比較例4至5
除了使用硬質塗布層塗布液HC-3或HC-4來取代硬質塗布層塗布液NC-1、並將塗布後之乾燥溫度變更為70℃以外，進行相同於實施例1的方式來製作光學薄膜。在所得之光學薄膜中的硬質塗布層之厚度係比較例4(HC-3)約為6 μm、比較例5(HC-4)約為12 μm。
針對在實施例及比較例所得之光學薄膜，將測定光學特性之結果顯示於表1，將測定表面構造之結果及各種特性之評估結果顯示於表2。
從表1及表2之結果可明確得知：實施例之光學薄膜係具優越之光學特性及機械特性。另一方面，比較例之光學薄膜之光學特性低。
[產業上利用之可能性]
本發明之光學薄膜能作為用於下列各種的顯示裝置的光學薄膜而使用：例如，液晶顯示(LCD)裝置、陰極管顯示裝置、有機或無機電致發光元件(EL)顯示器、場發射顯示器(FED)、表面電場顯示器(SED)、後投影電視顯示器、電漿顯示器、附觸控面板之顯示裝置等之顯示裝置。
觸控面板亦可於個人電腦、電視、行動電話、遊藝機器、移動式機器、鐘錶、計算機等之電/電子或精密機器之顯示部中，與顯示裝置(液晶顯示裝置、電漿顯示裝置、有機或無機EL顯示裝置等)組合後所用之觸控面板(尤其是電阻膜方式觸控面板)。
此等之中，本發明之光學薄膜作為LCD之防眩薄膜或觸控面板之防牛頓環薄膜特別有用。

Claims (15)

  1. 一種光學薄膜，其係含有透明薄膜、與在此透明薄膜上所形成的硬質塗布層之光學薄膜，其中在該硬質塗布層之表面形成有凹凸之平均間隔Sm為600至1500 μm及算術平均粗糙度Ra為0.04至0.2 μm之凹凸構造。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中凹凸構造之算術平均傾斜△a為0.05至5°。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中霧度為0.1至2%。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光學薄膜，其中光學梳齒寬度0.125 mm之穿透影像鮮明度為1至67%，光學梳齒寬度0.25 mm之穿透影像鮮明度為2至67%，光學梳齒寬度0.5 mm之穿透影像鮮明度為10至85%，光學梳齒寬度1 mm之穿透影像鮮明度為50至95%，且光學梳齒寬度2 mm之穿透影像鮮明度為80至99%。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之光學薄膜，其中硬質塗布層係利用含有硬化性樹脂先質及纖維素奈米纖維之硬化性組成物的硬化物所形成。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之光學薄膜，其中纖維素奈米纖維係含有10至500 nm之平均纖維直徑及20至500 μm之平均纖維長度。
  7. 如申請專利範圍第5或6項之光學薄膜，其中相對於硬化性樹脂先質100重量份而言，纖維素奈米纖維之比例為0.01至3重量份。
  8. 如申請專利範圍第5至7項中任一項之光學薄膜，其中硬化性組成物進一步含有無乙烯性不飽和鍵之高分子。
  9. 如申請專利範圍第8項之光學薄膜，其中無乙烯性不飽和鍵之高分子為纖維素衍生物。
  10. 如申請專利範圍第5至9項中任一項之光學薄膜，其中硬化性組成物進一步含有中空二氧化矽粒子。
  11. 如申請專利範圍第10項之光學薄膜，其中表面反射率為4%以下。
  12. 如申請專利範圍第1至11項中任一項之光學薄膜，其中硬質塗布層之厚度為30 μm以下。
  13. 如申請專利範圍第1至12項中任一項之光學薄膜，其中硬質塗布層實質上不含凝聚劑。
  14. 一種如申請專利範圍第1項之光學薄膜之製造方法，其中在透明薄膜上塗布用以形成硬質塗布層之塗布液，於乾燥後照射活性能量線而硬化。
  15. 如申請專利範圍第14項之製造方法，其中在70℃以下之溫度下進行乾燥。
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