JPWO2017061493A1 - 光学シート、偏光板、光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法、並びに表示装置 - Google Patents

Abstract

防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示可能な光学シートを提供する。
少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートであって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、以下の条件（１）〜（３）を満たす光学シート。
０．３００μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．６５０μｍ （１）
０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．４００μｍ （２）
ＳＤ≦０．０１５μｍ （３）

Description

本発明は、光学シート、偏光板、光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法、並びに表示装置に関する。

モバイル型の情報端末機器、ＰＣのモニター、ＴＶのモニター等の表示装置は、外光の映り込みを防止すること等を目的として、最表面に凹凸構造を有する防眩性を付与した光学シートが設置されることがある。

しかし、防眩性を付与した光学シートを用いた場合、外光が凹凸構造で拡散してコントラストが低下する場合がある。
コントラストの低下は、凹凸構造によって外光が過度に拡散されることにより生じる。そこで、従来は、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａや十点平均粗さＲｚによって凹凸構造を適切な状態に管理し、外光を適度に拡散させ、防眩性とコントラストとのバランスを取っていた（例えば特許文献１、２）。

特開２０１１−２１５５１５号公報 特開２０１１−１１２９６４号公報

近年は表示素子が益々高精細化され、情報端末機器では画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子が出現している。また、家庭用のテレビでは、いわゆるフルハイビジョンや２Ｋ解像度以上の解像度を有する表示素子も出現している。これら超高精細の表示素子は、画像の鮮明性に優れるとともに、生き生きとした迫力のある動画を表示し得るものである。
しかし、このような超高精細の表示素子に従来の防眩性を付与した光学シートを用いた場合、画像の鮮明性や動画の迫力感が損なわれやすいという問題があった。
すなわち、従来の防眩性を付与した光学シートは、従来の表示素子に対しては、防眩性及びコントラストのバランスを良好にできるものであったが、超高精細の表示素子に対して防眩性を付与しつつ、コントラスト、画像の鮮明性、及び動画の迫力感を維持することができなかった。さらに、近年、モバイル型の情報端末機器においても、動画を撮影し、視聴することが増えており、生き生きとした迫力のある動画の表示が求められている。

本発明は、このような状況下になされたものであり、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示可能な光学シート、偏光板及び表示装置を提供することを目的とする。また、本発明は、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示可能な光学シートの選別方法及び製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、通常、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４では、表面粗さの程度に応じて特定のカットオフ値を採用するところ、あえて２種類のカットオフ値を用いて表面形状を設計するとともに、表面形状のバラツキを考慮することにより、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、以下の［１］〜［６］の光学シート、偏光板、光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法、並びに表示装置を提供する。

［１］少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートであって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、以下の条件（１）〜（３）を満たす光学シート。
０．３００μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．６５０μｍ （１）
０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．４００μｍ （２）
ＳＤ≦０．０１５μｍ （３）
［２］偏光子の両側の面に保護フィルムを有する偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムとして、上記［１］に記載の光学シートの凹凸面が前記偏光子とは反対側を向くように配置してなる偏光板。

［３］少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートの選別方法であって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、上記条件（１）〜（３）を満たすものを光学シートとして選別する、光学シートの選別方法。
［４］少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートの製造方法であって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、上記条件（１）〜（３）を満たすように製造する、光学シートの製造方法。

［５］表示素子の視認者側に一種以上の光学部材を配置してなる表示装置であって、前記光学部材の少なくとも一種が上記［１］に記載の光学シートであり、かつ前記光学シートの凹凸面が視認者側を向くように配置してなる表示装置。
［６］表示素子の視認者側に一種以上の光学部材を配置してなる表示装置であって、前記光学部材の少なくとも一種が上記［２］に記載の偏光板であり、かつ前記偏光板の凹凸面が視認者側を向くように配置してなる表示装置。

本発明の光学シート、偏光板及び表示装置は、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示することができる。
また、本発明の光学シートの選択方法は、表示装置に光学シートを組み込まなくても、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示し得る性能を保証することができ、光学シートの品質管理を効率よくできる。また、本発明の光学シートの製造方法は、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示し得る光学シートを効率よく製造することができる。

［光学シート］
本発明の光学シートは、少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートであって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、以下の条件（１）〜（３）を満たすものである。
０．３００μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．６５０μｍ （１）
０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．４００μｍ （２）
ＳＤ≦０．０１５μｍ （３）

凹凸面
本発明の光学シートは、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が上記条件（１）〜（３）を満たすものである。条件（１）と条件（２）とは、カットオフ値が異なっている。また、条件（３）は、条件（１）及び（２）とは異なるパラメータを用いている。以下、異なるカットオフ値（０．８ｍｍと０．２５ｍｍ）を用いること、及び異なるパラメータ（ＲｚとＲａ）を規定する技術的意義について説明する。

カットオフ値は、粗さ成分（高周波成分）と、うねり成分（低周波成分）とから構成される断面曲線から、うねり成分（低周波成分）をカットする度合いを示す値である。言い換えると、カットオフ値は、断面曲線からうねり成分（低周波成分）をカットするフィルターの細かさを示す値である。より具体的には、カットオフ値が大きいと、フィルターが粗いため、うねり成分（低周波成分）のうち大きなうねりはカットされるが、小さなうねりはカットされないこととなる。つまり、カットオフ値が大きいと、うねり成分（低周波成分）を多く含んだ値となる。一方、カットオフ値が小さいと、フィルターが細かいため、うねり成分（低周波成分）のほとんどがカットされることとなる。つまり、カットオフ値が小さいと、うねり成分（低周波成分）を殆ど含まない、粗さ成分（高周波成分）が正確に反映された値となる。
ＪＩＳ Ｂ０６０１で参照するＪＩＳ Ｂ０６３３では、表面粗さの程度に応じて、特定のカットオフ値（基準長さ）を採用することが定められている。従来の光学シートでは、例えば、カットオフ値０．８ｍｍのみで表面粗さを管理していた。
しかし、一つのカットオフ値の値に基づいた場合、粗さ成分（高周波成分）、及びうねり成分（低周波成分）の両者を意図した表面凹凸の設計をすることができず、表面形状の設計に限界がある。
また、高周波成分の凹凸は、光学シートを透過する光を大きな角度に拡散透過させ、光学シート表面で反射する光を大きな角度に拡散反射させる。一方、低周波成分の凹凸は、光学シートを透過する光を正透過方向近傍に拡散透過させ、光学シート表面で反射する光を正反射方向近傍に拡散反射させる。例えば、低周波成分の凹凸は、光源の反射領域の中でも中心付近（光源の芯に相当する部分）の領域の映り込みを低減する作用を有し、高周波成分の凹凸は、光源の反射領域の中でも中心から外れた領域の映り込みを低減する作用を有する。このように、高周波成分の凹凸と低周波成分の凹凸とは、透過光及び反射光に対して異なる作用を及ぼし、さらに、防眩性等の諸性能に対して異なる作用を及ぼしている。
以上のように、２つのカットオフ値を用いることにより、粗さ成分（高周波成分）、及びうねり成分（低周波成分）の両者を反映させた表面凹凸の設計が可能となるとともに、透過光及び反射光の拡散の程度の制御が可能となる。

十点平均粗さＲｚは、カットオフ値と等しいサンプリング長さのＮ倍の評価長さの粗さ曲線をＮ等分し、区間毎に第１位から第５位までの高さの山頂の平均標高と第１位から第５位までの深さの谷底の平均標高の間隔Ｒz’を求めたときのＮ個のＲz’の算術平均値である。このように、Ｒｚは、粗さ曲線のうち、標高の高い箇所及び低い箇所に注目した値である。一方、算術平均粗さＲａは、粗さ曲線全体の標高の平均値である。
つまり、Ｒａと、Ｒｚとは、何れも粗さ曲線の粗さの程度を示す指標であるものの、Ｒａが粗さの平均を表しているのに対して、Ｒｚは粗さ曲線の凹凸のランダム性を表している。また、Ｒｚは標高の高い箇所及び低い箇所に注目していることから、粗さ曲線の急峻の程度を示している。
また、Ｒａの大きさは、光学シートを透過する光が正反射方向に透過する程度、及び光学シート表面で反射する光が正反射方向に反射する程度を示している。一方、Ｒｚの大きさは、光学シートを透過する光が大きな角度に拡散透過する程度、及び光学シート表面で反射する光が大きな角度に拡散反射する程度を示している。このように、Ｒａ及びＲｚは、透過光及び反射光に対して異なる作用を及ぼしている。
したがって、Ｒｚ及びＲａという異なるパラメータを規定することにより、より精密な表面凹凸の設計が可能となるとともに、透過光及び反射光の拡散の程度の制御が可能となる。
以上のように、本発明では、２つのカットオフ値を用い、さらにＲｚ及びＲａという異なるパラメータを規定することによって、従来は成し得なかった表面凹凸の設計を可能とするとともに、透過光及び反射光の拡散の程度の制御を可能としている。

条件（１）は、Ｒｚ_０．８（低周波成分のＲｚ）が０．３００μｍ以上０．６５０μｍ以下である。
上述したように、低周波成分の凹凸は、光源の反射領域の中心付近（光源の芯に相当する部分）の映り込みを低減する作用を有する。また、Ｒｚは、凹凸の急峻の度合いを現し、光学シートを透過する光が大きな角度に拡散透過する程度を現す。つまり、Ｒｚ_０．８の大小は、光源の反射領域の中心付近（光源の芯に相当する部分）の領域であって、該中心付近の領域の中でもエッジ付近の映り込み低減に寄与することとなる。
Ｒｚ_０．８が０．３００μｍ未満であると、光源の反射領域の中心付近とその周辺部との境界が明確に認識され、防眩性を満足できない。言い換えると、Ｒｚ_０．８が０．３００μｍ未満であると、光源の芯の形状が明確に認識されてしまう。また、Ｒｚ_０．８が０．６５０μｍを超えると、映像の鮮明性が低下するとともに映像の輝度が低下し、迫力のある動画が表示できなくなってしまう。特に、超高精細の表示素子（水平画素数１９２０以上の表示素子、あるいは画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子）において、前述の映像の鮮明性、及び動画の表示性の問題が生じやすい。
条件（１）は、０．３１０μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．５５０μｍを満たすことが好ましく、０．３２０μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．５２０μｍを満たすことがより好ましい。
なお、本発明において、条件（１）及び後述する条件（２）、（４）〜（９）は、６０個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値とする。また、本発明において、後述する条件（３）は、６０個のサンプルのＲａ_０．８を各１回ずつ測定した際の標準偏差とする。

条件（２）は、Ｒｚ_０．２５（高周波成分のＲｚ）が０．１７０μｍ以上であり、０．４００μｍ以下である。
上述したように、高周波成分の凹凸は、光源の反射領域の中でも中心から外れた領域の映り込みを低減する作用を有する。また、Ｒｚは、凹凸の急峻の度合いを現し、光学シートを透過する光が大きな角度に拡散透過する程度を現す。つまり、Ｒｚ_０．２５の大小は、光源の反射領域の中でも中心から外れた領域であって、該中心から外れた領域の中でもエッジ付近の映り込み低減に寄与することとなる。
Ｒｚ_０．２５が０．１７０μｍ未満であることは、大きな角度への拡散が少なくなることを意味している。Ｒｚ_０．２５が０．１７０μｍ未満であると、大きな角度への拡散が少なくなるため光源の反射領域と非反射領域との境界をぼかすことができず、防眩性を満足できない。一方、Ｒｚ_０．２５が０．４００μｍを超えると、大きな角度に拡散する反射光の割合が多くなり過ぎ、白化によりコントラストが低下してしまう。また、Ｒｚ_０．２５が０．４００μｍを超えると、映像光が拡散して輝度が低下し、迫力のある動画が表示できなくなってしまう。
条件（２）は、０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．３７０μｍを満たすことが好ましく、０．１８０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．３５０μｍを満たすことがより好ましい。

本発明では、さらに、条件（３）により、表面形状のバラツキを考慮している。
条件（３）は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが０．０１５μｍ以下である。上述したように、低周波成分の凹凸は、光学シートを透過する光を正透過方向近傍に拡散透過させ、光学シート表面で反射する光を正反射方向近傍に拡散反射させる。つまり、低周波成分の凹凸は、視認者の視点の中心である正面方向の透過光、反射光に大きな影響を与える。このため、低周波成分の凹凸の平均粗さを示すＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが０．０１５μｍを超える場合、視認者の視点の中心で明暗表示にムラが生じて迫力のある動画を表示できなくなるとともに、コントラストの低下を招いてしまう。また、ＳＤが０．０１５μｍを超える場合、光源の中心に対する防眩性にバラツキが生じてしまう可能性がある。
条件（３）は、ＳＤ≦０．０１２μｍを満たすことが好ましく、ＳＤ≦０．０１０μｍを満たすことがより好ましい。

以上のように、本発明の光学シートは、条件（１）〜（３）を満たすことにより、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示することができる。当該効果のうち、画像の鮮明性、及び迫力のある動画については、超高精細の表示素子上に本発明の光学シートを設置した際に極めて顕著となる。

本発明の光学シートは、凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８、及び上記Ｒｚ_０．８が、以下の条件（４）を満たすことが好ましい。
０．２３０μｍ≦Ｒｚ_０．８−Ｒａ_０．８≦０．５００μｍ （４）
条件（４）は、低周波成分の凹凸のランダム度合いや、低周波成分の凹凸の急峻の度合いを示している。Ｒｚ_０．８−Ｒａ_０．８を０．２３０μｍ以上とすることにより、光源の反射領域の中心付近とその周辺部との境界をぼかしやすくすることができ、防眩性をより良好にしやすくできる。さらに、Ｒｚ_０．８−Ｒａ_０．８を０．２３０μｍ以上とすることにより、低周波成分の凹凸がランダムとなるため、特定の角度に映像光が集中することを防ぎ、ギラツキ（映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象）を防止しやすくできる。また、Ｒｚ_０．８−Ｒａ_０．８を０．５００μｍ以下とすることにより、映像光が過度に拡散することを防ぎ、迫力のある動画を表示しやすくできる。
条件（４）は、０．２４０μｍ≦Ｒｚ_０．８−Ｒａ_０．８≦０．４８０μｍを満たすことがより好ましく、０．２５０μｍ≦Ｒｚ_０．８−Ｒａ_０．８≦０．４５０μｍを満たすことがさらに好ましい。

本発明の光学シートは、凹凸面のカットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．２５及び上記Ｒｚ_０．２５が、以下の条件（５）を満たすことが好ましい。
０．１３０μｍ≦Ｒｚ_０．２５−Ｒａ_０．２５≦０．２９０μｍ （５）
条件（５）は、高周波成分の凹凸のランダム度合いや、高周波成分の凹凸の急峻の度合いを示している。Ｒｚ_０．２５−Ｒａ_０．２５を０．１３０μｍ以上とすることにより、光源の反射領域と非反射領域との境界をぼかしやすくすることができ、防眩性をより良好にしやすくできる。さらに、Ｒｚ_０．２５−Ｒａ_０．２５を０．１３０μｍ以上とすることにより、高周波成分の凹凸がランダムとなるため、特定の角度に映像光が集中することを防ぎ、ギラツキ（映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象）を防止しやすくできる。また、Ｒｚ_０．２５−Ｒａ_０．２５を０．２９０μｍ以下とすることにより、大きな角度に拡散する反射光の割合の増加を抑制し、白化によりコントラストが低下することを抑制しやすくできる。
条件（５）は、０．１３０μｍ≦Ｒｚ_０．２５−Ｒａ_０．２５≦０．２８０μｍを満たすことがより好ましく、０．１５０μｍ≦Ｒｚ_０．２５−Ｒａ_０．２５≦０．２７０μｍを満たすことがさらに好ましい。

本発明の光学シートは、上記Ｒａ_０．２５、及び上記Ｒａ_０．８が、以下の条件（６）を満たすことが好ましい。
１．３０≦Ｒａ_０．８／Ｒａ_０．２５≦１．８０ （６）
条件（６）を満たすことは、高周波成分と低周波成分のＲａがバランスよく存在していることを意味している。条件（６）を満たすことにより、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性をより良好にしやすくできるとともに、迫力のある動画を表示しやすくできる。また、条件（６）を満たすことにより、ギラツキも防止しやすくできる。
条件（６）は、１．３２≦Ｒａ_０．８／Ｒａ_０．２５≦１．７０を満たすことがより好ましく１．３５≦Ｒａ_０．８／Ｒａ_０．２５≦１．６０を満たすことがさらに好ましい。

本発明の光学シートは、上記Ｒａ_０．８が、以下の条件（７）を満たすことが好ましい。
０．０５０μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．１２０μｍ （７）
Ｒａ_０．８を０．０５０μｍ以上とすることにより、反射光が正反射方向に過度に集中することを抑制し、光源の反射領域の中心付近の写りこみを抑制し、防眩性をより良好にすることができる。また、Ｒａ_０．８を０．１２０μｍ以下とすることにより、映像光の拡散を抑制して映像の鮮明性を良好にしやすくできる。また、Ｒａ_０．８を０．１２０μｍ以下とすることにより、映像の輝度の低下を抑制し、迫力のある動画を表示しやすくできる。特に、超高精細の表示素子（水平画素数１９２０以上の表示素子、あるいは画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子）において、前述の映像の鮮明性、及び動画の表示性の問題が生じやすい。
条件（７）は、０．０５０μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．１１０μｍを満たすことがより好ましく、０．０６０μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．１００μｍを満たすことがさらに好ましい。

本発明の光学シートは、上記Ｒａ_０．２５が以下の条件（８）を満たすことが好ましい。
０．０２０μｍ≦Ｒａ_０．２５≦０．１００μｍ （８）
Ｒａ_０．２５を０．０２０μｍ以上とすることにより、光源の反射領域の中でも中心から外れた領域の防眩性を良好にすることができる。Ｒａ_０．２５を０．１００μｍ以下とすることにより、大きな角度への拡散を減らし、コントラストを良好にすることができる。
条件（８）は、０．０２０μｍ≦Ｒａ_０．２５≦０．０７０μｍを満たすことがより好ましく、０．０３０μｍ≦Ｒａ_０．２５≦０．０５５μｍを満たすことがさらに好ましい。

本発明の光学シートは、上述した本発明の効果をより得やすくするために、上記Ｒｚ_０．８及び上記Ｒａ_０．２５が、以下の条件（９）を満たすことが好ましい。
１．４０≦Ｒｚ_０．８／Ｒｚ_０．２５≦２．００ （９）
条件（６）は、１．５０≦Ｒａ_０．８／Ｒａ_０．２５≦１．９０を満たすことがより好ましく１．５５≦Ｒａ_０．８／Ｒａ_０．２５≦１．８５を満たすことがさらに好ましい。

本発明の光学シートは、少なくとも一方の面に上述した凹凸形状を有し、光透過性を有するものであれば、特に制限されることなく使用できる。また、上述した凹凸形状は光学シートの両面に有していてもよいが、取り扱い性、映像の鮮明性、迫力ある動画の表示の観点から、上述した凹凸形状を片面に有し、他方の面は略平滑（Ｒａ_０．８が０．０２μｍ以下）であることが好ましい。
また、光学シートは、凹凸層の単層であってもよいし、透明基材上に凹凸層を有する複層であってもよい。取り扱い性及び製造の容易性からは、透明基材上に凹凸層を有する構成が好適である。また、光学シートは、複数の光学部材を貼り合わせた積層構造であって、該積層構造の表面が上述した表面形状を有するものであってもよい。

上述した凹凸面は、（ａ）エンボス、サンドブラスト、エッチング等の物理的又は化学的処理、（ｂ）型による成型、（ｃ）コーティングによる凹凸を有する樹脂層の形成等の手段により形成できる。これら方法の中では、凹凸形状の再現性の観点からは（ｂ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応の観点からは（ｃ）のコーティングによる塗膜の形成が好適である。

（ａ）の手段による凹凸面は、透明基材または透明基材上に形成した層に対して、エンボス、サンドブラスト、エッチング等の物理的又は化学的処理を施すことにより形成することができる。

（ｂ）の手段による凹凸面は、凹凸面と相補的な形状からなる型を作製し、当該型に凹凸面を形成する材料を流し込んだ後、型から取り出すことにより形成することができる。ここで、該材料として凹凸層を構成する材料を用い、型に該材料を流し込んだ後に透明基材を重ね合わせ、凹凸層を透明基材ごと型から取り出せば、透明基材上に凹凸層を有する光学シートを得ることができる。また、透明基材を構成する材料を型に流し込んだ後に型から取り出せば、透明基材単層からなり、かつ該透明基材表面に凹凸面を有する光学シートを得ることができる。
型に流し込む材料として硬化性樹脂組成物（熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物）を用いる場合、型から取り出す前に硬化性樹脂組成物を硬化することが好ましい。
型による凹凸面の形成は、凹凸形状の再現性に優れる点で好ましい。

（ｃ）の手段による凹凸面は、樹脂成分及び粒子を含有してなる凹凸層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング、ロールコーティング、ダイコーティング等の公知の塗布方法により透明基材上に塗布し、必要に応じて乾燥、硬化することにより形成することができる。

本発明の化粧シートは、透明基材単層から構成されるもの（この場合、透明基材の表面が凹凸面となる）であってもよいし、透明基材上に凹凸層を有するものであってもよい。

透明基材
光学シートの透明基材としては、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものであることが好ましい。このような透明基材としては、ポリエステル（ＰＥＴ、ＰＥＮ等）、アクリル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。透明基材は、２枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
上記の中でも、ＴＡＣ、アクリルは光透過性、光学的等方性の観点で好適である。また、ＣＯＰ、ポリエステルは耐候性に優れる点で好適である。なお、本明細書において、「アクリル」とは、アクリル系のもの及び／又はメタクリル系のものを意味する。

透明基材の厚さは、５〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。
透明基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

アクリル基材は、凹凸層形成塗布液の溶剤や、低官能のモノマーを用いた際に、アクリル基材の成分の一部が溶出する傾向がある。そして、溶出したアクリル基材の成分は凹凸層の中に流入し、凹凸層中の粒子を凹凸層の上部に押し上げる。そして、凹凸層の粒子として、ミクロンオーダーの大きな粒子と、ナノオーダーの小さな粒子を混在させた場合、主として低周波の凹凸に寄与する大きな粒子、及び主として高周波の凹凸に寄与する小さな粒子の双方が凹凸層の上部に集まることによって、低周波の凹凸と高周波の凹凸とが混在し、かつ極め細やかな凹凸を形成しやすくできる。
また、アクリル基材では、上述したように凹凸層の上部に粒子が押し上げられるため、防眩性を付与するための粒子の添加量を少なくすることができ、画像の鮮明性をより良好にできるとともに、より迫力のある動画を表示することができる。なお、アクリル基材の成分が流出して凹凸層の中に流入することにより、アクリル基材と凹凸層の密着性も良好となる。
アクリル基材以外の透明基材でも、樹脂や溶剤の選択により、上記と同様の効果を得ることができる。

アクリル基材を構成するアクリルバインダーは、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを１種又は２種以上組み合わせて重合してなるものが好ましく、より具体的には、（メタ）アクリル酸メチルを用いて得られるものが好ましい。また、アクリルとして、例えば、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報等に記載のものが挙げられる。ラクトン環構造を有するアクリル、イミド環構造を有するアクリル等の環構造を有するものを用いてもよい。

上記アクリルバインダーは、アクリル基材の強度の維持、及び凹凸層内の粒子を上部に押し上げることのバランスから、ガラス転移点（Ｔｇ）が１００〜１５０℃であることが好ましく、１０５〜１３５℃であることがより好ましく、１１０〜１３０℃であることがさらに好ましい。
アクリル基材は、アクリル以外のバインダー成分を含んでいてもよいが、アクリル基材の全バインダーに占めるアクリルバインダーの割合が８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。

また、アクリル基材は有機微粒子を含有していてもよい。アクリル基材が有機粒子を含むと、アクリル基材の成分が溶出する際に界面が凹凸になりやすく、凹凸層との密着性を良好にすることができる。

有機微粒子としては、ゴム弾性を示す層を含むゴム弾性体粒子が好ましく用いられる。ゴム弾性体粒子は、ゴム弾性を示す層のみからなる粒子であってもよいし、ゴム弾性を示す層とともに他の層を有する多層構造の粒子であってもよい。有機微粒子がゴム弾性体粒子であると、アクリル基材の曲げ性が良好となり、また、溶剤等によりクラックが生じることも抑制しやすくなる。
また、上記有機微粒子としては、核及び殻からなるコアシェル構造のものが好ましく用いられる。

有機微粒子の材料としては、透明なものが好ましく、例えば、オレフィン系弾性重合体、ジエン系弾性重合体、スチレン−ジエン系弾性共重合体、アクリル系弾性重合体などが挙げられる。なかでも、内部へイズを抑制して透明性を良好にし得るアクリル系弾性重合体が好ましい。

有機微粒子としては、平均粒子径が１０〜４００ｎｍのものが好ましく、５０〜３００ｎｍのものがより好ましい。平均粒子径を１０ｎｍ以上とすることにより、アクリル基材に発生するマイクロクラックの伝播を抑止しやすくでき、４００ｎｍ以下とすることにより、ヘイズの上昇を抑えることができる。

アクリル基材における有機微粒子の含有量は、アクリル基材の全固形分の２５〜４５質量％の割合であることが好ましい。有機微粒子をこの割合で含有することにより、アクリル基材に発生するマイクロクラックの伝播を抑止しやすくできるとともに、ヘイズの上昇を抑えることができる。

凹凸層
凹凸層は、樹脂成分及び粒子を含むことが好ましい。

凹凸層の樹脂成分
凹凸層の樹脂成分は、機械的強度の観点から、硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、機械的強度をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物が好適である。すなわち、凹凸層の樹脂成分は、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが最適である。

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。

多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。

また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

透明基材がアクリル基材の場合、電離放射線硬化性化合物としては、１〜４官能のメタ（アクリレート）モノマーを含むことが好ましい。上述したように、凹凸層形成塗布液が低官能のモノマーを含むと、該モノマーがアクリル基材の成分を溶出させ、凹凸層中の粒子を凹凸層の上部に押し上げ、本発明の凹凸形状を形成しやすくできる。また、アクリル基材の成分が溶出して凹凸層の中に流入するため、アクリル基材と凹凸層の密着性も良好となる。
透明基材がアクリル基材以外の場合、溶剤として透明基材を膨潤ないしは溶解するものを用いるとともに、電離放射線硬化性化合物として１〜４官能のメタ（アクリレート）モノマーを含むことにより、上記と同等の効果を得ることができる。
なお、凹凸層の機械的強度を向上する観点からは、１〜４官能のメタ（アクリレート）モノマーの中でも、２〜４官能の（メタ）アクリレートモノマーを含むことがより好ましい。

二官能（メタ）アクリレートモノマーの具体例としては、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートや、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９ノナンジオールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。三官能（メタ）アクリレートモノマーの具体例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。四官能（メタ）アクリレートモノマーの具体例としては、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）などが挙げられる。

１〜４官能のメタ（アクリレート）モノマーは、分子量１８０〜１０００のものが好ましく、分子量２００〜７５０のものがより好ましく、分子量２２０〜４５０のものがさらに好ましい。当該分子量がこの範囲内であると、凹凸層中の粒子を凹凸層の上部に押し上げやすくなり、また、透明基材と凹凸層との密着性も良好にしやすくできる。

電離放射線硬化性化合物として１〜４官能のメタ（アクリレート）モノマーを用いる場合、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分中の１〜４官能のメタ（アクリレート）モノマーは１０〜６５質量％であることが好ましく、２０〜５０質量％であることがより好ましい。
電離放射線硬化性化合物として１〜３官能のメタ（アクリレート）モノマーを用いる場合、凹凸層の機械的強度を向上するために、電離放射線硬化性樹脂組成物中には、さらに４官能以上のメタ（アクリレート）モノマー及び／又はオリゴマーを含むことが好ましく、４〜６官能のメタ（アクリレート）モノマー及び／又はオリゴマーを含むことがより好ましい。

なお、電離放射線硬化性化合物として親水性の電離放射線硬化性化合物又は疎水性の電離放射線硬化性化合物のみを含む場合、凹凸層中で粒子が凝集しやすくなり、高周波成分の凹凸及び低周波成分の凹凸バランスが崩れて、条件（１）〜（３）を満たしにくくなる。また、塗膜中で粒子が凝集する箇所はランダムであり、凝集が発生した箇所では局所的に低周波成分が増加する。このため、電離放射線硬化性化合物として、親水性の電離放射線硬化性化合物又は疎水性の電離放射線硬化性化合物のみを含む場合、特に条件（３）を満たしにくくなる。
したがって、電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性化合物としては、親水性の電離放射線硬化性化合物及び疎水性の電離放射線硬化性化合物を含むことが好ましい。あるいは、電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性化合物としては、親水性と疎水性との中間的性質を有する電離放射線硬化性化合物を含むことが好ましい。
親水性の電離放射線硬化性化合物と、疎水性の電離放射線硬化性化合物とを併用する場合、質量比は５：９５〜６０：４０であることが好ましく、１５：８５〜５５：４５であることがより好ましい。

親水性の電離放射線硬化性化合物とは、実施例に記載の方法により測定する純水接触角が５９度以下のものをいうものとする。疎水性の電離放射線硬化性化合物とは、実施例に記載の方法により測定する純水接触角が６１度以上のものをいうものとする。親水性と疎水性との中間的性質を有する電離放射線硬化性化合物とは、実施例に記載の方法により測定する純水接触角が５９度超６１度未満のものをいうものとする。
親水性の電離放射線硬化性化合物としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソサヌレートトリアクリレート等が挙げられる。疎水性の電離放射線硬化性化合物としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。親水性と疎水性との中間的性質を有する電離放射線硬化性化合物としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等が挙げられる。

電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。

凹凸層の粒子
凹凸層中の粒子としては、ミクロンオーダーの大きな粒子（以下、「大粒子」と称する場合がある。）を含むことが好ましく、さらに必要に応じてナノオーダーの小さな粒子（以下、「小粒子」と称する場合がある。）を含むことがより好ましい。凹凸層中に大粒子のみが存在する場合、大粒子の存在しない箇所は凹凸層の表面が略平滑となる傾向にある。しかし、凹凸層中に大粒子とともに小粒子を含有する場合、大粒子の存在しない箇所に緩やかな傾斜を生じさせやすくできる。この原因は、小粒子を含有すると、塗布液のチキソトロピー性及び溶媒の乾燥特性が影響を受け、通常のようなレベリングが生じていないためと考えられる。このように、大粒子の存在しない箇所にも緩やかな傾斜が形成されると、該傾斜により、凹凸層の表面形状にバラツキが少なくなるとともに、高周波の凹凸と低周波の凹凸とのバランスが良くなり、条件（１）〜（３）を上述した範囲にしやすくできると考えられる。

大粒子
大粒子は、上述の凹凸形状を得やすくする観点から、平均粒子径が１〜８μｍであることが好ましく、１．５〜５μｍであることがより好ましい。

本発明において、大粒子の平均粒子径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。
（１）本発明の光学シートを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は５００〜２０００倍が好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の長径及び短径を測定し、長径及び短径の平均から個々の粒子の粒子径を算出する。長径は、個々の粒子の画面上において最も長い径とする。また、短径は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、該直交する線分が粒子と交わる２点間の距離をいうものとする。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を大粒子の平均粒子径とする。
後述する小粒子の平均一次粒子径は、まず、本発明の光学シートの断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。撮像後、上記（２）及び（３）と同様の手法を行うことにより、小粒子の平均一次粒子径を算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。

大粒子は、光透過性を有するものであれば、有機粒子及び無機粒子の何れも用いることができる。また、大粒子は、球形、円盤状、ラグビーボール状、不定形等の形状が挙げられる。これらの形状の中でも、流れ方向（ＭＤ方向）及び幅方向（ＴＤ方向）において粒子の偏りが生じにくく、低周波成分の凹凸バランスや生産安定性を良好にすることができる球形が好ましい。また、大粒子は、前述した各種の形状の中空粒子、多孔質粒子及び中実粒子を用いることもできる。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。
上述の大粒子の中でも、分散制御の容易さの観点から有機粒子が好適であり、その中でも、ポリアクリル−スチレン共重合体粒子が好適である。ポリアクリル−スチレン共重合体粒子は、屈折率及び親疎水の程度の制御が容易であることから、内部ヘイズ、及び凝集／分散の制御がしやすい点で良好である。

大粒子の含有量は、上述した凹凸形状を得やすくする観点から、凹凸層を形成する全固形分中の０．２〜１５．０質量％であることが好ましく、０．５〜１０．０質量％であることがより好ましく、１．０〜６．０質量％であることがさらに好ましい。

大粒子の平均粒子径と凹凸層の厚みとの比（大粒子の平均粒子径／凹凸層の厚み）は、後述する小粒子を併用するか否かによって異なる。
大粒子とともに後述する小粒子を併用する場合、上述の凹凸形状を得やすくする観点から、大粒子の平均粒子径と凹凸層の厚みとの比は、０．１５〜０．５０であることが好ましく、０．２０〜０．４０であることがより好ましい。

小粒子
小粒子は、上述の凹凸形状を得やすくする観点から、平均一次粒子径が１〜５０ｎｍであることが好ましく、３〜４０ｎｍであることがより好ましく、５〜２５ｎｍであることがさらに好ましい。

小粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等の無機粒子が好適である。これらの中でも透明性の観点からシリカが好適である。
また、小粒子は、表面処理により反応性基が導入された反応性無機粒子が好ましい。反応性基を導入することにより、凹凸層中に多量の小粒子を含有させることが可能となり、上述した凹凸形状を得やすくできる。
反応性基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基等のエチレン性不飽和結合並びにエポキシ基等が挙げられる。
反応性無機粒子は、シランカップリング剤で表面処理した無機粒子を挙げることができる。無機粒子の表面をシランカップリング剤で処理するには、無機粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、無機粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。

小粒子の含有量は、凹凸層を形成する全固形分中の０．１〜１０．０質量％であることが好ましく、０．２〜５．０質量％であることがより好ましく、０．３〜１．５質量％であることがさらに好ましい。当該範囲とすることにより、レベリング性の制御、及び凹凸層の重合収縮の抑制により、上述した凹凸形状を得やすくできる。
また、凹凸層中における小粒子及び大粒子の含有量の比（小粒子の含有量／大粒子の含有量）は、上述した凹凸形状を得やすくする観点から、０．００１〜１．０あることが好ましく、０．０１〜０．８であることがより好ましく、０．１〜０．７であることがさらに好ましい。

凹凸層の厚みは、カール抑制、機械的強度、硬度及び靭性とのバランスの観点から、２〜１０μｍであることが好ましく、４〜８μｍであることがより好ましい。
凹凸層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましい。

溶剤
凹凸層形成塗布液には、通常、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能とするために溶剤を用いる。溶剤の種類によって、塗布、乾燥過程した後の凹凸層の表面状態が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、透明基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。
具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。

溶剤の乾燥が遅すぎる場合又は速すぎる場合、凹凸層のレベリング性が過度又は不足することにより、凹凸形状を上述した範囲に調整しづらくなる。したがって、溶剤としては、相対蒸発速度（ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１００〜１８０である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましく、７０質量％以上含むことがより好ましく、９０質量％以上含むことがさらに好ましく、１００質量％含むことが最も好ましい。溶剤の相対蒸発速度は１００〜１５０であることがより好ましい。
相対蒸発速度の例を挙げると、トルエンが１９５、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）が４６５、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）が１１８、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）が６８である。
また、溶剤の種類は、小粒子の分散性にも影響を与える。例えば、ＭＩＢＫは、小粒子の分散性に優れ、凹凸形状を上述した範囲に調整しやすい点で好適である。

透明基材がアクリル基材の場合、溶剤によりアクリル基材が膨潤ないしは溶解されやすい傾向にあることから、アクリル基材を適度に膨潤ないしは溶解する溶剤を選択することが好ましい。
このような溶剤としては、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−ブタノール）が好ましく、その他の各溶剤種類においては炭素数がより多いものが良好な傾向があり、その中でも蒸発速度が速いものが良好な傾向がある。例えば、ケトン類であれば、メチルイソブチルケトン、芳香族炭化水素類であればトルエン、グリコール類であればプロピレングリコールモノメチルエーテル等が例示でき、これらの混合溶剤であってもよい。
上記溶剤の中でも、とりわけメチルイソブチルケトン、イソプロパノール及び１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選択される一種以上を含むものが好ましい。
また、ＴＡＣ基材を膨潤ないしは溶解する溶剤としては、ＭＥＫ、シクロヘキサノン、ＭＩＢＫ等が挙げられる。

凹凸層形成塗布液中の溶剤の含有割合としては特に限定されないが、凹凸層形成塗布液の固形分１００質量部に対して、１５０〜２５０質量部が好ましく、１７５〜２２０質量部であることがより好ましい。

また、凹凸形状を上述した範囲としやすくする観点からは、凹凸層を形成する際、乾燥条件を制御することが好ましい。乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。具体的な乾燥温度としては、３０〜１２０℃、乾燥風速では０．２〜５０ｍ／ｓとすることが好ましい。また、乾燥条件により凹凸層のレベリングを制御するために、電離放射線の照射は乾燥後に行うことが好適である。

また、表面凹凸を適度に滑らかにして（低周波成分を適量存在させ）、凹凸形状を上述した範囲としやすくする観点からは、凹凸層形成塗布液には、レベリング剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、フッ素系又はシリコーン系のものが挙げられ、シリコーン系のレベリング剤が好適である。レベリング剤の添加量としては、凹凸層形成塗布液の全固形分に対して０．０１〜１．５重量％が好ましく、０．０５〜１．０重量％がより好ましい。

光学シートは、凹凸形状を有する側の面及び／又は凹凸形状とは反対側の面上に、反射防止層、防汚層、帯電防止層等の機能性層を有していてもよい。また、透明基材上に凹凸層を有する構成の場合、前記箇所のほかに、透明基材と凹凸層との間に機能性層を有していてもよい。

光学物性
光学シートは、本発明の効果を発揮しやすくするために、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）、ヘイズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）、及び透過像鮮明度（ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７）が以下の範囲であることが好ましい。なお、全光線透過率、ヘイズ及び透過像鮮明度は、１５個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値とする。
全光線透過率は、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
ヘイズは、０．５〜１０．０％であることが好ましく、０．６〜５．０％であることがより好ましく、０．７〜３．０％であることがさらに好ましい。

光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度Ｃ_{０．１２５}は、６５．０〜９０．０％であることが好ましく、７０．０〜９０．０％であることがより好ましく、７５．０〜８５．０％であることがより好ましい。
光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度Ｃ_０．２５は、６５．０〜９０．０％であることが好ましく、７０．０〜９０．０％であることがより好ましく、７５．０〜８５．０％であることがより好ましい。
また、Ｃ_０．２５とＣ_{０．１２５}との差の絶対値は、２．０％未満であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましい。Ｃ_０．２５とＣ_{０．１２５}との差の絶対値を前記範囲とすることにより、光源の中心付近の映り込みの程度のムラを抑制し、防眩性をより良好にすることができる。

本発明の光学シートは、液晶表示装置等の表示装置の構成部材として用い、かつ、光学シートの凹凸面が視認者側（表示装置の出光面側）を向くように配置して用いることが好ましい。さらには、表示装置の最表面に本発明の光学シートを設置し、かつ、光学シートの凹凸面が視認者側（表示装置の出光面側）を向くように配置して用いることが好ましい。

［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子の両側の面に保護フィルムを有する偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムとして、上述した本発明の光学シートの凹凸面が偏光子とは反対側を向くように配置してなるものである。

偏光子は、特定の振動方向をもつ光のみを透過する機能を有するものであれば如何なるものでもよく、例えばＰＶＡ系フィルムなどを延伸し、ヨウ素や二色性染料などで染色したＰＶＡ系偏光子、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物などのポリエン系偏光子、コレステリック液晶を用いた反射型偏光子、薄膜結晶フィルム系偏光子等が挙げられる。
偏光子の厚みは、２〜３０μｍが好ましく、３〜３０μｍがより好ましい。

本発明の偏光板は、偏光子の両側の保護フィルムの少なくとも一方を上述した本発明の光学シートとして、かつ、該光学シートの凹凸面が偏光子とは反対側を向くように配置してなるものである。かかる構成とすることで、上述した本発明の光学シートの効果を備えた偏光板とすることができる。

もう一方の保護フィルムは、光透過性を有するものであれば特に制限されず、ＴＡＣ、アクリル、ＣＯＰ、ポリエステル等を用いることができる。
保護フィルムの厚さは、５〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。

［光学シートの選別方法］
本発明の光学シートの選別方法は、少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートの選別方法であって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、以下の条件（１）〜（３）を満たすものを光学シートとして選別するものである。
０．３００μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．６５０μｍ （１）
０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．４００μｍ （２）
ＳＤ≦０．０１５μｍ （３）

本発明の光学シートを選別する判定条件は、上記条件（１）〜（３）を満たすことを必須条件とする。
本発明の光学シートの選別方法では、表示装置に光学シートを組み込まなくても、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示し得る光学シートを選別することができ、光学シートの品質管理を効率よくできる。

本発明の光学シートを選別する判定条件は、さらに、以下に挙げる条件（４）〜（９）から選ばれる一以上を追加の判定条件とすることが好ましい。追加の判定条件を満たすことにより、上記効果を有する光学シートをより正確に選別できる。
０．２３０μｍ≦Ｒｚ_０．８−Ｒａ_０．８≦０．５００μｍ （４）
０．１３０μｍ≦Ｒｚ_０．２５−Ｒａ_０．２５≦０．２９０μｍ （５）
１．３０≦Ｒａ_０．８／Ｒａ_０．２５≦１．８０ （６）
０．０５０μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．１２０μｍ （７）
０．０２０μｍ≦Ｒａ_０．２５≦０．１００μｍ （８）
１．４０≦Ｒｚ_０．８／Ｒｚ_０．２５≦２．００ （９）
追加の判定条件としては、条件（４）〜（９）の中の二つ以上を満たすことがより好ましく、三つ以上を満たすことがさらに好ましく、全てを満たすことが最も好ましい。

判定条件（１）〜（９）は、本発明の光学シートで述べた条件（１）〜（９）の好適な数値範囲を満たすことが好ましい。

［光学シートの製造方法］
本発明の光学シートの製造方法は、少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートの製造方法であって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、以下の条件（１）〜（３）を満たすように製造するものである。
０．３００μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．６５０μｍ （１）
０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．４００μｍ （２）
ＳＤ≦０．０１５μｍ （３）

本発明の光学シートの製造方法は、上記条件（１）〜（３）を満たすように製造条件を制御することを必須とする。
また、本発明の光学シートの製造方法は、追加の条件として、上述した光学シートの選択方法の条件（４）〜（９）の一以上を満たすように製造条件を制御することが好ましく、二以上を満たすように製造条件を制御することがより好ましく、三以上を満たすように製造条件を制御することがさらに好ましく、全てを満たすように製造条件を制御することが最も好ましい。
本発明の光学シートの製造方法では、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示し得る光学シートを効率よく製造することができる。

製造条件（１）〜（９）は、本発明の光学シートで述べた条件（１）〜（９）の好適な数値範囲を満たすことが好ましい。

［表示装置］
本発明の表示装置Ａは、表示素子の視認者側に一種以上の光学部材を配置してなる表示装置であって、光学部材の少なくとも一種が上述した本発明の光学シートであり、かつ光学シートの凹凸面が視認者側を向くように配置してなるものである。
本発明の表示装置Ｂは、表示素子の視認者側に一種以上の光学部材を配置してなる表示装置であって、光学部材の少なくとも一種が上述した本発明の偏光板であり、かつ偏光板の凹凸面が視認者側を向くように配置してなるものである。
表示装置Ａにおいて、光学シートは、表示装置Ａの最表面に配置し、かつ光学シートの凹凸面が視認者側を向くように配置することが好ましい。また、表示装置Ｂにおいて、偏光板は、表示装置Ｂの最表面に配置し、かつ偏光板の凹凸面が視認者側を向くように配置することが好ましい。なお、視認者側とは出光面側を意味する。

表示装置を構成する表示素子としては、液晶表示素子、プラズマ表示素子、有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。
表示素子の具体的な構成は特に制限されない。例えば液晶表示素子の場合、下部ガラス基板、下部透明電極、液晶層、上部透明電極、カラーフィルター及び上部ガラス基板を順に有する基本構成からなり、超高精細の液晶表示素子では、該下部透明電極及び上部透明電極が高密度にパターニングされている。

表示素子は、水平画素数１９２０以上の表示素子、あるいは画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子であることが好ましい。これら表示素子は超高精細の表示素子であり、１ピクセルあたりの光量が少ないことから、外光の拡散等による影響を受けやすい。このため、超高精細の表示素子は、本発明の効果を発揮しやすい点で好適である。

本発明の表示装置は、表示素子上にタッチパネルを有し、該タッチパネルの構成部材として、本発明の光学シートを配置してなるものであってもよい。なお、該実施形態においても、光学シートの凹凸面が視認者側を向くように配置することが必要である。また、該実施形態においては、タッチパネルの最表面に光学シートを配置し、かつ光学シートの凹凸面が視認者側を向くように配置することが好ましい。

タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。
抵抗膜式タッチパネルは、導電膜を有する上下一対の透明基板の導電膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置されてなる構成を基本構成として、該基本構成に回路が接続されてなるものである。
静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、（１）１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、（２）透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、（３）透明基板上にＸ軸電極を形成し、別の透明基板上にＹ軸電極を形成し、接着剤層等を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」は特に断りのない限り質量基準である。

１．光学シートの物性測定及び評価
以下のように、実施例及び比較例の光学シートの物性測定及び評価を行った。結果を表１等に示す。

１−１．表面粗さ測定
実施例及び比較例の光学シートを５ｃｍ四方に切断したサンプルをそれぞれ６０個準備した。各サンプルについて、カットオフ値λｃ０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８及び十点平均粗さＲｚ_０．８、並びに、カットオフ値λｃ０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．２５及び十点平均粗さＲｚ_０．２５を測定した。そして、６０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例のＲａ_０．８、Ｒｚ_０．８、Ｒａ_０．２５及びＲｚ_０．２５とした。また、６０個のサンプルのＲａ_０．８の標準偏差ＳＤを、各実施例及び比較例のＳＤとした。測定器は、表面粗さ測定器（小坂研究所社製、商品名：ＳＥ−３４００）を用い、以下の測定条件とした。
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・λｃ０．２５ｍｍ又はλｃ０．８ｍｍで計測
・評価長さ：カットオフ値λｃの５倍
・触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ
・予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
・縦倍率：１００００倍
・横倍率：５０倍
・スキッド：用いない（測定面に接触なし）
・カットオフフィルタ種類：ガウシャン
・ＪＩＳモード：ＪＩＳ１９９４
・不感帯レベル：１０％
・ｔｐ／ＰＣ曲線：ノーマル
・サンプリングモード：ｃ＝１５００

１−２．防眩性
光学シートの透明基材側に、厚み５０μｍの透明粘着剤層（屈折率：１．５５、パナック社製、商品名：ＰＤＣ−Ｓ１）を介して、厚み２ｍｍの黒色アクリル板（クラレ社製、商品名：コスモグラス ＤＦＡ５０２Ｋ）を貼り合わせた評価用サンプル（大きさ：１０ｃｍ×１０ｃｍ）を水平面に置き、評価用サンプルから２ｍ上方に蛍光灯を配置し、評価用サンプル上に蛍光灯を移しこませ、かつ評価用サンプル上の照度が８００〜１２００Ｌｘとした環境下で、様々な角度から目視で観察した。１５人が下記の評点基準に基づいて評価し、１５人の平均点を算出した。その結果、平均点が１．０点未満のものを「Ｃ」、平均点が１．０点以上１．６点未満のものを「Ｂ」、平均点が１．６点以上２．３点未満のものを「Ａ」、平均点が２．３点以上のものを「ＡＡ」とした。
３点：サンプル全面に白い反射がみられ、明確な明暗が認識できないもの。
２点：蛍光灯の反射領域を明部としては、認識できるが、形状が蛍光灯とは認識できないもの。
１点：蛍光灯の反射領域の中心付近（蛍光灯の芯に相当する部分）とその周辺部との境界がぼやけ、該境界が認識できないもの。さらに、蛍光灯の反射領域と非反射領域との境界がぼやけ、該境界が認識できないもの。
０点：蛍光灯の反射領域の中心付近（蛍光灯の芯に相当する部分）とその周辺部との境界が明確に認識できるもの。あるいは、蛍光灯の反射領域と非反射領域との境界が明確に認識できるもの。

１−３．コントラスト
上記１−２で作製した評価用サンプルを水平面に置き、光学シートの表面に４５度方向から蛍光灯を照射し、該照射光の正反射方向となる角度から目視で観察した。１５人が下記の評点基準に基づいてコントラストを評価し、１５人の平均点を算出した。その結果、平均点が１．０点未満のものを「Ｅ」、平均点が１．０点以上１．５点未満のものを「Ｄ」、平均点が１．５点以上２．０点未満のものを「Ｃ」、平均点が２．０点以上２．５点未満のものを「Ｂ」、平均点が２．５点以上のものを「Ａ」とした。
３点：黒さに極めて優れるもの。
２点：黒さに優れるもの。
１点：黒さのレベルが低く白っぽく感じられるもの。
０点：極めて白っぽく感じられるもの。

１−４．画像の鮮明性
画素数３８４０×２１６０ピクセルの表示素子（東芝社製、商品名：ＲＥＧＺＡ ５５Ｇ２０Ｘ）上に光学シートの凹凸面が表面を向くようにして設置し、表示素子の画像（シャープ社製のスマートフォン(商品名：ＳＨ−０５Ｇ)のＳＨカメラプログラムで撮影した日中の噴水の画像の静止画）を表示させた状態で目視観察した。１５人が下記の評点基準に基づいて画像の鮮明性を評価し、１５人の平均点を算出した。その結果、平均点が１．０点未満のものを「Ｅ」、平均点が１．０点以上１．５点未満のものを「Ｄ」、平均点が１．５点以上２．０点未満のものを「Ｃ」、平均点が２．０点以上２．５点未満のものを「Ｂ」、平均点が２．５点以上のものを「Ａ」とした。また、画素数２４２０×１０８０ピクセルの表示素子（ソニー社製、商品名：ＢＲＡＶＩＡ ＫＪ−３２Ｗ７００Ｃ）を用いて同様の評価を行った。
３点：画像の鮮明性に極めて優れるもの。
２点：画像の鮮明性に優れるもの。
１点：どちらとも言えないもの。
０点：画像の鮮明性に劣るもの。

１−５．動画の表示性（動画の迫力）
市販のスマートフォン（Ａｐｐｌｅ社製、商品名：ｉｐｈｏｎｅ５ｃ、画素密度約３３０ｐｐｉ（対角４インチの画面サイズ、画面のアスペクト比約９：１６、画素数６４０×１１３６から算出））上に光学シートの凹凸面が表面を向くように設置し、動画（シャープ社製のスマートフォン(商品名：ＳＨ−０５Ｇ)のＳＨカメラプログラムで撮影した日中の噴水の動画。時間は３０秒）を表示して目視で観察した。１５人が下記の評点基準に基づいて動画の表示性を評価し、１５人の平均点を算出した。その結果、平均点が１．０点未満のものを「Ｅ」、平均点が１．０点以上１．５点未満のものを「Ｄ」、平均点が１．５点以上２．０点未満のものを「Ｃ」、平均点が２．０点以上２．５点未満のものを「Ｂ」、平均点が２．５点以上のものを「Ａ」とした。
３点：動画が極めて迫力を有するもの。
２点：動画が迫力を有するもの。
１点：どちらとも言えないもの。
０点：動画の迫力に劣るもの。

１−６．ギラツキ
輝度１５００ｃｄ／ｍ^２のライトボックス（白色面光源）、２５０ｐｐｉのブラックマトリクスガラス、光学シートの順に下から重ねた状態にし、３０ｃｍ程度の距離から上下、左右様々な角度から目視観察した。１５人が下記の評点基準に基づいてギラツキを評価し、１５人の平均点を算出した。その結果、平均点が１．０点未満のものを「Ｅ」、平均点が１．０点以上１．５点未満のものを「Ｄ」、平均点が１．５点以上２．０点未満のものを「Ｃ」、平均点が２．０点以上２．５点未満のものを「Ｂ」、平均点が２．５点以上のものを「Ａ」とした。
３点：注意深く観察してもギラツキを感じないもの。
２点：注意深く観察すればギラツキを感じるが、通常の注意力の観察ではギラツキを殆ど感じないもの。
１点：通常の注意力でギラツキが多く感じられるもの。
０点：通常の注意力でギラツキが極めて多く感じられるもの。

１−７．透過像鮮明度
実施例及び比較例の光学シートを５ｃｍ四方に切断したサンプルをそれぞれ１５個準備した。スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５：１９８１に従って、各サンプルの光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度Ｃ_{０．１２５}、及び光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度Ｃ_０．２５を測定した。光入射面は透明基材側とした。そして、１５個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例のＣ_{０．１２５}及びＣ_０．２５とした。

１−８．ヘイズ
実施例及び比較例の光学シートを５ｃｍ四方に切断したサンプルをそれぞれ１５個準備した。ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ−７１３６：２０００に従って、各サンプルのヘイズを測定した。光入射面は基材側とした。そして、１５個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例のヘイズとした。

１−９．純水の接触角
実施例及び比較例の凹凸層形成塗布液１〜９で用いた電離放射線硬化性化合物の純水の接触角を以下の方法により測定した。各電離放射線硬化性化合物の純水の接触角を、凹凸層形成塗布液１〜９の処方中に示す。
＜接触角測定方法＞
厚み８０μｍのＴＡＣフィルム上に、各電離放射線硬化性化合物５０部、光重合開始剤 １．５部（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）、及びＭＩＢＫ１００部からなる塗布液を、５ｇ／ｍ^２の塗布量で塗布し、７０℃で１分間乾燥した後、紫外線照射（窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下。照射量：５０ｍＪ／ｃｍ^２）して電離放射線硬化性化合物を硬化させ、ＴＡＣフィルム上に電離放射線硬化性化合物の硬化膜を有する５ｃｍ四方のサンプルを作製する。各電離放射線硬化性化合物について１５個のサンプルを作製し、ＪＩＳ Ｒ３２５７：１９９９に準拠して、作製したサンプルの硬化膜に純水を滴下して、硬化膜の純水接触角を測定する。そして、１５個のサンプルの平均値を、各電離放射線硬化性化合物の純水接触角とした。

２．光学シートの作製
［実施例１］
最内層が、メタクリル酸メチルを主成分として得られた硬質の重合体、中間層が、アクリル酸ブチルを主成分として重合された軟質の弾性体、最外層が、メタクリル酸メチルを主成分として用いて重合された硬質の重合体からなる３層構造のコアシェル型ゴム粒子と、メタクリル酸メチルを主成分として得られた重合体をバインダーとして含む４０μｍのアクリル基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液１をバーコーティング法により塗布し、７０℃、風速５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した後、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して、凹凸層を形成し、光学シートを得た。凹凸層の膜厚は７．５μｍであった。

＜凹凸層形成塗布液１＞
・３官能アクリレートモノマー ２０部
（トリス（２−ヒドロキシエチル）イソサヌレートトリアクリレート）
（純水接触角：５５度）
・３官能ウレタンアクリレートオリゴマー ３０部
（純水接触角：６６度）
・６官能アクリレートモノマー（ＤＰＨＡ） ５０部
（純水接触角：６６度）
・光重合開始剤 ８部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子１ ５部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．５μｍ、屈折率１．５１７）
透光性粒子２ ０．１部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５１７）
・無機超微粒子 ２部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（ＭＩＢＫ） ２００部

［実施例２］
実施例１のアクリル基材を以下のアクリル基材に変更し、さらに凹凸層形成塗布液１を下記の凹凸層形成塗布液２に変更した以外は実施例１と同様にして光学シートを得た。

＜凹凸層形成塗布液２＞
・３官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＡ） ５０部
（純水接触角：５８度）
・６官能ウレタンアクリレートオリゴマー ５０部
（純水接触角：６６度）
・光重合開始剤 ８部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子１ ３．５部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．５μｍ、屈折率１．５１７）
・透光性粒子２ ０．１部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５１７）
・無機超微粒子 ２部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（ＭＩＢＫ） ２００部

＜実施例２のアクリル基材の製造＞
メタクリル酸メチル及びアクリル酸メチルの共重合体（ガラス転移点：１３０℃）からなるペレットを、溶融混練し、フィルターを通して異物を除去しつつ、溶融押し出し方法で、ダイの隙間からポリマーを押し出した。次いで、ポリマーを冷却しながら、縦方向に１．２倍に延伸し、その後、横方向に１．５倍に延伸して、厚み４０μｍのアクリル基材を得た。

［実施例３］
実施例１のアクリル基材をＴＡＣ（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ、厚み８０μｍ）に変更し、さらに凹凸層形成塗布液１を下記の凹凸層形成塗布液３に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。

＜凹凸層形成塗布液３＞
・３官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＡ） １０部
（純水接触角：５８度）
・４官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＴＡ） ４０部
（純水接触角：６０度）
・６官能ウレタンアクリレートオリゴマー ５０部
（純水接触角：６６度）
・光重合開始剤 ８部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子１ ３．０部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．５μｍ、屈折率１．５１７）
・透光性粒子２ ０．１部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５１７）
・無機超微粒子 ２部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（ＭＩＢＫ） ２００部

［実施例４］
実施例１のアクリル基材をＴＡＣ（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ、厚み８０μｍ）に変更し、さらに凹凸層形成塗布液１を下記の凹凸層形成塗布液４に変更した以外は実施例１と同様にして光学シートを得た。

＜凹凸層形成塗布液４＞
・４官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＴＡ） １００部
（純水接触角：６０度）
・光重合開始剤 ８部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子１ ５部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．５μｍ、屈折率１．５１７）
・透光性粒子２ １部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５１７）
・無機超微粒子 ２部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（ＭＩＢＫ） ２００部

［比較例１］
実施例１のアクリル基材をＴＡＣ（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ、厚み８０μｍ）に変更し、さらに凹凸層形成塗布液１を下記処方の凹凸層形成塗布液５に変更し、凹凸層の膜厚を２μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。

＜凹凸層形成塗布液５＞
・３官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＡ） １００部
（純水接触角：５８度）
・無機微粒子 １４部
（富士シリシア化学社製、ゲル法不定形シリカ）
（疎水処理、平均粒子径４．１μｍ）
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） １５０部
・溶剤２（ＭＩＢＫ） ３５部

［比較例２］
実施例１のアクリル基材をＴＡＣ（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ、厚み８０μｍ）に変更し、さらに凹凸層形成塗布液１を下記処方の凹凸層形成塗布液６に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。

＜凹凸層形成塗布液６＞
・３官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＡ） ５０部
（純水接触角：５８度）
・６官能ウレタンアクリレートオリゴマー ５０部
（純水接触角：６６度）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 １０部
（スチレン−アクリル重合体粒子、屈折率１．５５５）
（平均粒子径３．５μｍ）
・溶剤１（トルエン） １４５部
・溶剤２（シクロヘキサノン） ６０部

［比較例３］
実施例１のアクリル基材をＴＡＣ（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ、厚み８０μｍ）に変更し、さらに凹凸層形成塗布液１を下記処方の凹凸層形成塗布液７に変更し、凹凸層の膜厚を４．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。

＜凹凸層形成塗布液７＞
・３官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＡ） ９０部
（純水接触角：５８度）
・アクリルポリマー
（三菱レイヨン社製、分子量７５，０００） １０部
（純水接触角：７０度）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 １２部
（綜研化学社製、球状ポリスチレン粒子）
（平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５９）
・溶剤１（トルエン） １４５部
・溶剤２（シクロヘキサノン） ６０部

［比較例４］
実施例１のアクリル基材をＴＡＣ（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ、厚み８０μｍ）に変更し、さらに凹凸層形成塗布液１を下記処方の凹凸層形成塗布液８に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。

＜凹凸層形成塗布液８＞
・４官能ウレタンアクリレートオリゴマー ６０部
（純水接触角：６６度）
・４官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＴＡ） ４０部
（純水接触角：６０度）
・光重合開始剤 ８部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子１ ５部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．５μｍ、屈折率１．５１５）
透光性粒子２ ０．１部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５１５）
・無機超微粒子 ２部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（ＭＩＢＫ） ２００部

［比較例５］
ＴＡＣ製の基材（富士フイルム社製、ＴＤ６０ＵＬ、厚み６０μｍ）上に、下記処方の凹凸層形成塗布液９を乾燥後の厚みが１０μｍとなるようにバーコーティング法により塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成した。次いで、凹凸層上に、下記処方のオーバーコート層塗布液を乾燥後の厚みが０．１μｍとなるようにバーコーティング法により塗布、乾燥、紫外線照射して、オーバーコート層を形成し、光学シートを得た。

＜凹凸層形成塗布液９＞
・３官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＡ） １７．９部
（純水接触角：５８度）
・６官能ウレタンアクリレートオリゴマー ８１．２部
（純水接触角：６６度）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッ素系レベリング剤 ０．２部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・フュームドシリカ ０．７部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ４部
・溶剤２（トルエン） １８０部
・溶剤３（シクロヘキサノン） ３０部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ７０部

＜オーバーコート層塗布液＞
・３官能アクリレートモノマー（ＰＥＴＡ） １０部
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ４３部
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッ素系レベリング剤 １部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・中空シリカ ５部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） １３５部
・溶剤２（メチルエチルケトン） ２３２部
・溶剤３ １７６部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

表１の結果から、条件（１）〜（３）を満たす光学シート及び表示装置は、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示可能であることが確認できる。

本発明の光学シートは、防眩性、コントラスト、及び画像の鮮明性に優れるとともに、迫力のある動画を表示可能である点で有用である。

Claims (11)

1. 少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートであって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、以下の条件（１）〜（３）を満たす光学シート。
   ０．３００μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．６５０μｍ （１）
   ０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．４００μｍ （２）
   ＳＤ≦０．０１５μｍ （３）
2. 前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８、及び前記Ｒｚ_０．８が、以下の条件（４）を満たす請求項１に記載の光学シート。
   ０．２３０μｍ≦Ｒｚ_０．８−Ｒａ_０．８≦０．５００μｍ （４）
3. 透明基材上に凹凸層を有してなり、前記凹凸層側の表面が前記凹凸面である請求項１又は２に記載の光学シート。
4. 前記透明基材がアクリル基材である請求項３に記載の光学シート。
5. 偏光子の両側の面に保護フィルムを有する偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムとして、請求項１〜４の何れか１項に記載の光学シートの凹凸面が前記偏光子とは反対側を向くように配置してなる偏光板。
6. 少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートの選別方法であって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、以下の条件（１）〜（３）を満たすものを光学シートとして選別する、光学シートの選別方法。
   ０．３００μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．６５０μｍ （１）
   ０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．４００μｍ （２）
   ＳＤ≦０．０１５μｍ （３）
7. 少なくとも一方の表面が凹凸面である光学シートの製造方法であって、前記凹凸面のカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．８、カットオフ値０．２５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ_０．２５、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ_０．８の標準偏差ＳＤが、以下の条件（１）〜（３）を満たすように製造する、光学シートの製造方法。
   ０．３００μｍ≦Ｒｚ_０．８≦０．６５０μｍ （１）
   ０．１７０μｍ≦Ｒｚ_０．２５≦０．４００μｍ （２）
   ＳＤ≦０．０１５μｍ （３）
8. 表示素子の視認者側に一種以上の光学部材を配置してなる表示装置であって、前記光学部材の少なくとも一種が請求項１〜４の何れか１項に記載の光学シートであり、かつ前記光学シートの凹凸面が視認者側を向くように配置してなる表示装置。
9. 前記表示素子が、水平画素数１９２０以上の表示素子又は画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子である請求項８に記載の表示装置。
10. 表示素子の視認者側に一種以上の光学部材を配置してなる表示装置であって、前記光学部材の少なくとも一種が請求項５に記載の偏光板であり、かつ前記偏光板の凹凸面が視認者側を向くように配置してなる表示装置。
11. 前記表示素子が、水平画素数１９２０以上の表示素子又は画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子である請求項１０に記載の表示装置。