TW201732391A - 光學片、偏光板、光學片之篩選方法及光學片之製造方法以及顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

提供一種防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像之光學片。一種光學片，至少一表面為凹凸面，上述凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足以下之條件(1)~(3)，0.300μm≦Rz0.8≦0.650μm (1) 0.170μm≦Rz0.25≦0.400μm (2) SD≦0.015μm (3)。

Description

光學片、偏光板、光學片之篩選方法及光學片之製造方法以及顯示裝置
本發明係關於一種光學片、偏光板、光學片之篩選方法及光學片之製造方法以及顯示裝置。
移動式資訊終端機器、PC之顯示器、TV之顯示器等顯示裝置存在為了防止外界光之映入等，而設置最表面具有凹凸構造之賦予有防眩性之光學片的情況。
然而，於使用賦予有防眩性之光學片之情形時，存在外界光因凹凸構造發生散而使對比度降低之情形。
對比度之降低係由於外界光因凹凸構造而過度地擴散而產生。因此，習知根據JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra或十點平均粗糙度Rz而將凹凸構造管理為適當狀態，使外界光適度地擴散，從而取得防眩性與對比度之平衡性(例如專利文獻1、2)。
專利文獻1：日本專利特開2011-215515號公報
專利文獻2：日本專利特開2011-112964號公報
近年來，顯示元件日益高清化，而於資訊終端機器中出現了像素密度250ppi以上之顯示元件。又，於家庭用電視中亦出現所謂全高清或具有2K解像度以上之解像度之顯示元件。該等超高清顯示元件係圖像之鮮明性優異，並且可顯示栩栩如生之有逼真感之動態圖像者。
然而，於此種超高清顯示元件使用習知之賦予有防眩性之光學片之情形時，存在容易損害圖像之鮮明性或動態圖像之逼真感之問題。
即，習知之賦予有防眩性之光學片係可使習知之顯示元件的防眩性及對比度之平衡性良好者，但無法一面對超高清顯示元件賦予防眩性，一面維持對比度、圖像之鮮明性及動態圖像之逼真感。進而，近年來，即便為移動式資訊終端機器，使用其拍攝動態圖像並進行視聽之情況亦增多，從而亦要求移動式資訊終端機器顯示栩栩如生之有逼真感之動態圖像。
本發明係鑒於此種狀況而完成者，其目的在於提供一種防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像之光學片、偏光板及顯示裝置。又，本發明之目的在於提供一種防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像之光學片之篩選方法及製造方法。
本發明人等為解決上述課題而進行銳意研究，結果發現，通常於JIS B0601：1994中根據表面粗糙度之程度而採用特定之截止值(cutoff value)時，藉由硬使用2種截止值設計表面形狀並且考慮表面形狀之差異，而可解決上述課題，從而完成本發明。
即，本發明係提供以下之[1]~[6]之光學片、偏光板、光學片之篩選方法及光學片之製造方法以及顯示裝置。
[1]一種光學片，至少一表面為凹凸面，上述凹凸面之截止值為0.8mm為之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足以下之條件(1)~(3)，0.300μm≦Rz0.8≦0.650μm (1)
0.170μm≦Rz0.25≦0.400μm (2)
SD≦0.015μm (3)。
[2]一種偏光板，於偏光元件兩側之面具有保護膜，係將作為至少一方之保護膜之上述[1]所記載之光學片之凹凸面以朝向上述偏光元件之相反側之方式配置而成。
[3]一種光學片之篩選方法，該光學片至少一表面為凹凸面，該方法篩選上述凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足上述條件(1)~(3)者作為光學片。
[4]一種光學片之製造方法，該光學片至少一表面為凹凸面，該方法係以上述凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD 滿足上述條件(1)~(3)的方式進行製造。
[5]一種顯示裝置，係於顯示元件之目視者側配置一種以上之光學構件而成，上述光學構件之至少一種為上述[1]所記載之光學片，且配置成上述光學片之凹凸面朝向目視者側。
[6]一種顯示裝置，係於顯示元件之目視者側配置一種以上之光學構件而成，上述光學構件之至少一種為上述[2]所記載之偏光板，且配置成上述偏光板之凹凸面朝向目視者側。
本發明之光學片、偏光板及顯示裝置係防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像。
又，關於本發明之光學片之篩選方法，即便不將光學片裝入顯示裝置中，亦可保證防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像之性能，而可高效率地進行光學片之品質管理。又，本發明之光學片之製造方法可高效率地製造防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像之光學片。
[光學片]
本發明之光學片的至少一表面為凹凸面，上述凹凸面之截止值為0.8 mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足以下之條件(1)~(3)。
0.300μm≦Rz0.8≦0.650μm (1)
0.170μm≦Rz0.25≦0.400μm (2)
SD≦0.015μm (3)
凹凸面
本發明之光學片的至少一表面為凹凸面，上述凹凸面滿足上述條件(1)~(3)者。條件(1)與條件(2)之截止值不同。又，條件(3)使用與條件(1)及(2)不同之參數。以下，對使用不同截止值(0.8mm與0.25mm)及規定不同參數(Rz與Ra)之技術性意義進行說明。
截止值係表示自由粗糙度成分(高頻成分)與波紋度成分(低頻成分)所構成之剖面曲線將波紋度成分(低頻成分)截止之程度的值。換言之，截止值係表示自剖面曲線將波紋度成分(低頻成分)截止之濾波器之細度的值。更具體而言，若截止值大，則濾波器疏，因此，波紋度成分(低頻成分)中，大的波紋度成分會被截止，但小的波紋度成分不會被截止。即，若截止值大，則成為含有較多波紋度成分(低頻成分)之值。另一方面，若截止值小，則濾波器密，因此波紋度成分(低頻成分)幾乎會被截止。即，若截止值小，則會成為幾乎不含波紋度成分(低頻成分)，且準確地反映出粗糙度成分(高頻成分)之值。
於JIS B0601中所參照之JIS B0633中，規定根據表面粗糙度之程度而採用特定之截止值(標準長度)。習知之光學片例如僅以截止值0.8mm管 理表面粗糙度。
然而，於基於一種截止值之值之情形時，無法設計意欲兼顧粗糙度成分(高頻成分)及波紋度成分(低頻成分)兩者之表面凹凸，而表面形狀之設計存在限度。
又，高頻成分之凹凸係使透過光學片之光大角度地擴散透過，使光學片表面所反射之光大角度地擴散反射。另一方面，低頻成分之凹凸係使透過光學片之光於正透過方向附近擴散透過，使光學片表面所反射之光於正反射方向附近發生擴散反射。例如，低頻成分之凹凸具有減少光源之反射區域中，中心附近(相當於光源之芯之部分)之區域之映入的作用，高頻成分之凹凸具有減少光源之反射區域中，偏離中心之區域之映入的作用。如上所述，高頻成分之凹凸與低頻成分之凹凸係對透過光及反射光起到不同作用，進而對防眩性等各種性能起到不同作用。
如上所述，藉由使用2種截止值，可設計反映出粗糙度成分(高頻成分)及波紋度成分(低頻成分)兩者之表面凹凸，並且可控制透過光及反射光之擴散程度。
十點平均粗糙度Rz係於將截止值相等之N倍取樣長度之評價長度的粗糙度曲線進行N等分，求出每個區間高度第1位至第5位之山頂的平均標高與深度第1位至第5位之谷底的平均標高之間隔Rz'時之N個Rz'之算術平均值。如上所述，Rz係著重於粗糙度曲線中標高較高處及標高較低處之值。另一方面，算術平均粗糙度Ra係粗糙度曲線整體之標高之平均值。
即，Ra與Rz雖均為表示粗糙度曲線之粗糙度程度之指標，但Ra表示 粗糙度之平均值，相對於此，Rz表示粗糙度曲線之凹凸之無規性。又，由於Rz著重於標高較高處及標高較低處，因此表示粗糙度曲線之陡峭程度。
又，Ra之大小係表示透過光學片之光於正反射方向上透過之程度，及光學片表面所反射之光於正反射方向上反射之程度。另一方面，Rz之大小係表示透過光學片之光大角度地擴散透過之程度，及光學片表面所反射之光大角度地擴散反射之程度。如上所述，Ra及Rz係對透過光及反射光起到不同作用。
因此，藉由規定Rz及Ra這兩種不同之參數，可設計更精密之表面凹凸，並且可控制透過光及反射光之擴散程度。
如上所述，本發明係藉由使用2種截止值，進而規定Rz及Ra這兩種不同之參數，而可設計習知難以實現之表面凹凸，並且可控制透過光及反射光之擴散程度。
條件(1)係Rz0.8(低頻成分之Rz)為0.300μm以上且0.650μm以下。
如上述般，低頻成分之凹凸具有減少光源之反射區域之中心附近(相當於光源之芯之部分)之映入的作用。又，Rz表示凹凸之陡峭程度，且表示透過光學片之光大角度地擴散透過之程度。即，Rz0.8之大小會有助於減少光源之反射區域之中心附近(相當於光源之芯之部分)之區域之映入，且有助於減少該中心附近之區域中邊緣附近之映入。
若Rz0.8未達0.300μm，則光源之反射區域之中心附近與其周邊部之交界被明確地辨識而無法滿足防眩性。換言之，若Rz0.8未達0.300μm，則光源之芯之形狀會被明確地辨識。又，若Rz0.8超過0.650μm，則影像之鮮明 性降低，並且影像之亮度降低，而變得無法顯示有逼真感之動態圖像。尤其是於超高清顯示元件(水平像素數1920以上之顯示元件、或者像素密度250ppi以上之顯示元件)中容易產生上述圖像之鮮明性及動態圖像之顯示性之問題。
條件(1)較佳滿足0.310μm≦Rz0.8≦0.550μm，更佳滿足0.320μm≦Rz0.8≦0.520μm。
再者，於本發明中，條件(1)及下述條件(2)、(4)~(9)係設為對60個樣品各測定1次時之平均值。又，於本發明中，下述條件(3)係設為對60個樣品之Ra0.8各測定1次時之標準偏差。
條件(2)係Rz0.25(高頻成分之Rz)為0.170μm以上且0.400μm以下。
如上所述，高頻成分之凹凸具有減少光源之反射區域中偏離中心之區域之映入的作用。又，Rz係表示凹凸之陡峭程度，且表示透過光學片之光大角度地擴散透過之程度。即，Rz0.25之大小會有助於減少光源之反射區域中偏離中心之區域之映入，且有助於減少該偏離中心之區域中邊緣附近之映入。
Rz0.25未達0.170μm意指大角度之擴散減少。若Rz0.25未達0.170μm，則大角度之擴散變少，因此無法使光源之反射區域與非反射區域之交界模糊，而無法滿足防眩性。另一方面，若Rz0.25超過0.400μm，則大角度地進行擴散之反射光之比例變得過多，因白化會導致對比度降低。又，若Rz0.25超過0.400μm，則影像光擴散而亮度降低，導致無法顯示有逼真感之動態圖像。
條件(2)較佳滿足0.170μm≦Rz0.25≦0.370μm，更佳滿足0.180μm≦Rz0.25≦0.350μm。
本發明中，進而根據條件(3)來考慮表面形狀之偏差。
條件(3)係截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD為0.015μm以下。如上所述，低頻成分之凹凸係使透過光學片之光於正透過方向附近擴散透過，使光學片表面所反射之光於正反射方向附近發生擴散反射。即，低頻成分之凹凸係對目視者視點之中心即正面方向之透過光、反射光造成較大影響。因此，於表示低頻成分之凹凸之平均粗糙度之Ra0.8的標準偏差SD超過0.015μm之情形時，於目視者視點之中心明暗顯示時產生不均而變得無法顯示有逼真感之動態圖像，並且導致對比度降低。又，於SD超過0.015μ之情形時，存在對光源中心之防眩性產生差異之可能性。
條件(3)較佳滿足SD≦0.012μm，更佳滿足SD≦0.010μm。
如上所述，本發明之光學片藉由滿足條件(1)~(3)，而防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像。上述效果中，關於圖像之鮮明性及有逼真感之動態圖像，於超高清顯示元件上設置有本發明之光學片時變得極為顯著。
本發明之光學片較佳為凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8及上述Rz0.8滿足以下之條件(4)。
0.230μm≦Rz0.8-Ra0.8≦0.500μm (4)
條件(4)係表示低頻成分之凹凸之無規程度、或低頻成分之凹凸之陡峭程度。藉由將Rz0.8-Ra0.8設為0.230μm以上，可容易使光源之反射區域 之中心附近與其周邊部之交界變得模糊，而容易使防眩性更良好。進而，藉由將Rz0.8-Ra0.8設為0.230μm以上，而低頻成分之凹凸變得無規，因此可防止影像光集中於特定角度，而容易防止炫光(影像光中可見微細之亮度不均之現象)。又，藉由將Rz0.8-Ra0.8設為0.500μm以下，可防止影像光過度地擴散，而容易顯示有逼真感之動態圖像。
條件(4)更佳滿足0.240μm≦Rz0.8-Ra0.8≦0.480μm，進而較佳滿足0.250μm≦Rz0.8-Ra0.8≦0.450μm。
本發明之光學片較佳為凹凸面之截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.25及上述Rz0.25滿足以下之條件(5)。
0.130μm≦Rz0.25-Ra0.25≦0.290μm (5)
條件(5)係表示高頻成分之凹凸之無規程度或高頻成分之凹凸之陡峭程度。藉由將Rz0.25-Ra0.25設為0.130μm以上，可容易使光源之反射區域與非反射區域之交界變得模糊，而容易使防眩性更良好。進而，藉由將Rz0.25-Ra0.25設為0.130μm以上，而高頻成分之凹凸變得無規，因此可防止影像光集中於特定角度，而容易防止炫光(影像光中可見微細之亮度不均之現象)。又，藉由將Rz0.25-Ra0.25設為0.290μm以下，可抑制大角度地進行擴散之反射光之比例增加，而容易抑制因白化導致對比度降低之情況。
條件(5)更佳滿足0.130μm≦Rz0.25-Ra0.25≦0.280μm，進而較佳滿足0.150μm≦Rz0.25-Ra0.25≦0.270μm。
本發明之光學片較佳為上述Ra0.25及上述Ra0.8滿足以下之條件(6)。
1.30≦Ra0.8/Ra0.25≦1.80 (6)
滿足條件(6)意指平衡性良好地存在高頻成分與低頻成分之Ra。藉由滿足條件(6)，可容易使防眩性、對比度及圖像之鮮明性變得更良好，並且可容易顯示有逼真感之動態圖像。又，藉由滿足條件(6)，亦可容易防止炫光。
條件(6)更佳滿足1.32≦Ra0.8/Ra0.25≦1.70，進而較佳滿足1.35≦Ra0.8/Ra0.25≦1.60。
本發明之光學片較佳為上述Ra0.8滿足以下之條件(7)。
0.050μm≦Ra0.8≦0.120μm (7)
藉由將Ra0.8設為0.050μm以上，可抑制反射光過度地集中於正反射方向，而抑制光源之反射區域之中心附近之映入，從而使防眩性更良好。又，藉由將Ra0.8設為0.120μm以下，可容易抑制影像光之擴散而使影像之鮮明性變得良好。又，藉由將Ra0.8設為0.120μm以下，可抑制影像之亮度降低，而容易顯示有逼真感之動態圖像。尤其是於超高清顯示元件(水平像素數1920以上之顯示元件、或像素密度250ppi以上之顯示元件)中容易產生上述影像之鮮明性及動態圖像之顯示性之問題。
條件(7)更佳滿足0.050μm≦Ra0.8≦0.110μm，進而較佳滿足0.060μm≦Ra0.8≦0.100μm。
本發明之光學片較佳為上述Ra0.25滿足以下之條件(8)。
0.020μm≦Ra0.25≦0.100μm (8)
藉由將Ra0.25設為0.020μm以上，可使光源之反射區域中偏離中心之區域之防眩性變良好。藉由將Ra0.25設為0.100μm以下，可減少大角度之擴散，而使對比度變良好。
條件(8)更佳滿足0.020μm≦Ra0.25≦0.070μm，進而較佳滿足0.030μm≦Ra0.25≦0.055μm。
為了更容易獲得上述本發明之效果，本發明之光學片較佳為上述Rz0.8及上述Ra0.25滿足以下之條件(9)。
1.40≦Rz0.8/Rz0.25≦2.00 (9)
條件(9)更佳滿足1.50≦Ra0.8/Ra0.25≦1.90，進而較佳滿足1.55≦Ra0.8/Ra0.25≦1.85。
本發明之光學片只要為至少一面具有上述凹凸形狀且具有透光性者，則可無特別限制地使用。又，上述凹凸形狀亦可於光學片之兩面具有，但就操作性、影像之鮮明性、有逼真感之動態圖像之顯示之觀點而言，較佳為於光學片之單面具有上述凹凸形狀，而另一面大致平滑(Ra0.8為0.02μm以下)。
又，光學片可為凹凸層之單層，亦可為於透明基材上具有凹凸層之多層。就操作性及製造之容易性而言，較佳為於透明基材上具有凹凸層之構成。又，光學片亦可為貼合多個光學構件而成之積層構造，且該積層構造之表面具有上述表面形狀。
上述凹凸面可藉由(a)壓紋、噴砂、蝕刻等物理或化學處理、(b)利用模具之成型、(c)利用塗佈形成具有凹凸之樹脂層等手段而形成。該等方法中，就凹凸形狀之再現性之觀點而言，較佳為(b)利用模具之成型，就生產性及對應多品種之觀點而言，較佳為(c)利用塗佈形成塗膜。
利用(a)之手段之凹凸面可藉由對透明基材或透明基材上 所形成之層實施壓紋、噴砂、蝕刻等物理或化學處理而形成。
利用(b)之手段之凹凸面可藉由製作由與凹凸面互補之形狀所構成之模具，使形成凹凸面之材料流入至該模具中，然後自模具取出而形成。此處，若使用構成凹凸層之材料作為該材料，使該材料流入至模具中後重疊透明基材，並將凹凸層連同透明基材一起自模具取出，則可獲得透明基材上具有凹凸層之光學片。又，若使構成透明基材之材料流入至模具中後自模具取出，則可獲得由透明基材單層所構成且於該透明基材表面具有凹凸面之光學片。
於使用硬化性樹脂組成物(熱硬化性樹脂組成物或電離放射線硬化性樹脂組成物)作為流入至模具中之材料之情形時，較佳為於自模具取出前使硬化性樹脂組成物硬化。
就凹凸形狀之再現性優異之方面而言，較佳利用模具形成凹凸面。
利用(c)之手段之凹凸面可藉由將含有樹脂成分及粒子而成之凹凸層形成塗佈液利用凹版塗佈、棒式塗佈、輥塗、模嘴塗佈等公知之塗佈方法塗佈於透明基材上，並視需要進行乾燥、硬化而形成。
本發明之裝飾片可為由透明基材單層所構成者(於該情形時，透明基材之表面成為凹凸面)，亦可為於透明基材上具有凹凸層者。
透明基材
作為光學片之透明基材，較佳為具備透光性、平滑性、耐熱性，且機械強度優異者。作為此種透明基材，可列舉：聚酯(PET、PEN等)、丙烯酸、三乙醯纖維素(TAC)、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、 聚醚酮、聚碳酸酯、聚胺基甲酸酯及非晶質烯烴(Cyclo-Olefin-Polymer：COP)等塑膠膜。透明基材亦可為貼合2片以上之塑膠膜而成者。
上述中，就透光性、光學等向性之觀點而言，較佳為TAC、丙烯酸。又，就耐候性優異之方面而言，較佳為COP、聚酯。再者，於本說明書中，所謂「丙烯酸」，意指丙烯酸系者及/或甲基丙烯酸系者。
透明基材之厚度較佳為5~300μm，更佳為30~200μm。
為了提高接著性，對於透明基材之表面可事先進行電暈放電處理、氧化處理等物理處理，此外，亦可事先塗佈被稱為增黏劑或底塗劑之塗料。
丙烯酸基材有於使用凹凸層形成塗佈液之溶劑、或低官能單體時，丙烯酸基材之成分之一部分溶出之傾向。然後，所溶出之丙烯酸基材之成分流入至凹凸層中，而將凹凸層中之粒子推頂至凹凸層之上部。然後，於使微米級大之粒子與奈米級小之粒子作為凹凸層之粒子混合存在之情形時，主要有助於低頻凹凸之較大粒子及主要有助於高頻凹凸之較小粒子兩者於凹凸層之上部聚集，藉此可容易形成低頻凹凸與高頻凹凸混合存在且極微細之凹凸。
又，關於丙烯酸基材，由於如上述般將粒子推頂至凹凸層之上部，故而可減少用以賦予防眩性之粒子之添加量，從而可使圖像之鮮明性更良好，並且可顯示更有逼真感之動態圖像。再者，由於丙烯酸基材之成分流出並流入至凹凸層中，故而丙烯酸基材與凹凸層之密接性亦變得良好。
關於丙烯酸基材以外之透明基材，亦可藉由樹脂或溶劑之選擇而獲得與上述相同之效果。
構成丙烯酸基材之丙烯酸黏合劑較佳為使(甲基)丙烯酸烷 基酯1種或組合2種以上並進行聚合而成者，更具體而言，較佳為使用(甲基)丙烯酸甲酯而獲得者。又，作為丙烯酸，例如可列舉：日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等所記載者。亦可使用具有內酯環結構之丙烯酸、具有醯亞胺環結構之丙烯酸等具有環結構者。
就丙烯酸基材之強度維持及將凹凸層內之粒子推頂至上部之平衡性之方面而言，上述丙烯酸黏合劑較佳為玻璃轉移點(Tg)為100~150℃，更佳為105~135℃，進而較佳為110~130℃。
丙烯酸基材亦可含有丙烯酸以外之黏合劑成分，但丙烯酸黏合劑於丙烯酸基材之全部黏合劑中所占之比例較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上。
又，丙烯酸基材亦可含有有機微粒子。若丙烯酸基材含有有機粒子，則丙烯酸基材之成分溶出時界面容易變成凹凸，而可使與凹凸層之密接性良好。
作為有機微粒子，可較佳地使用含有表現出橡膠彈性之層之橡膠彈性體粒子。橡膠彈性體粒子可為僅由表現出橡膠彈性之層所構成之粒子，亦可為具有表現出橡膠彈性之層以及其他層之多層構造之粒子。若有機微粒子為橡膠彈性體粒子，則丙烯酸基材之彎曲性變良好，又，亦變得容易抑制因溶劑等而產生龜裂之情況。
又，作為上述有機微粒子，可較佳地使用由核及殼構成之核殼結構者。
作為有機微粒子之材料，較佳為透明者，例如可列舉：烯烴 系彈性聚合物、二烯系彈性聚合物、苯乙烯-二烯系彈性共聚物、丙烯酸系彈性聚合物等。其中，較佳為抑制內部霧度而可使透明性良好之丙烯酸系彈性聚合物。
作為有機微粒子，較佳為平均粒徑為10~400nm者，更佳為50~300nm者。藉由將平均粒徑設為10nm以上，可容易抑制丙烯酸基材所產生之微龜裂之擴大，藉由設為400nm以下，可抑制霧度之上升。
丙烯酸基材中之有機微粒子之含量較佳為丙烯酸基材之全部固形物成分之25~45質量%之比例。藉由以該比例含有有機微粒子，可容易抑制丙烯酸基材所產生之微龜裂之擴大，並且可抑制霧度之上升。
凹凸層
凹凸層較佳含有樹脂成分及粒子。
凹凸層之樹脂成分
凹凸層之樹脂成分就機械強度之觀點而言，較佳為硬化性樹脂組成物之硬化物。
硬化性樹脂組成物可列舉：熱硬化性樹脂組成物或電離放射線硬化性樹脂組成物，就使機械強度變得更良好之觀點而言，較佳為電離放射線硬化性樹脂組成物。即，凹凸層之樹脂成分較佳含有電離放射線硬化性樹脂組成物之硬化物。
熱硬化性樹脂組成物係至少含有熱硬化性樹脂之組成物，且係藉由加熱而硬化之樹脂組成物。
作為熱硬化性樹脂，可列舉：丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、酚系樹脂、脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。於熱 硬化性樹脂組成物中，視需要向該等硬化性樹脂添加硬化劑。
電離放射線硬化性樹脂組成物係含有具有電離放射線硬化性官能基之化合物(以下，亦稱為「電離放射線硬化性化合物」)之組成物。作為電離放射線硬化性官能基，可列舉：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵結基及環氧基、氧雜環丁基(oxetanyl)等。作為電離放射線硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵結基之化合物，更佳為具有2個以上之乙烯性不飽和鍵結基之化合物，其中，進而較佳為具有2個以上之乙烯性不飽和鍵結基之多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物，單體及低聚物均可使用。
再者，所謂電離放射線，意指電磁波或帶電粒子束中具有可使分子聚合或交聯之能量量子者，通常可使用紫外線(UV)或電子束(EB)，此外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波；α射線、離子束等帶電粒子束。
多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物中，作為雙官能(甲基)丙烯酸酯系單體，可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A四乙氧基二丙烯酸酯、雙酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。
作為3官能以上之(甲基)丙烯酸酯系單體，例如可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸改質三(甲基)丙烯酸酯等。
又，上述(甲基)丙烯酸酯系單體亦可為將分子骨架之一部分改質者，亦可使用經環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、異三聚氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等改質而成者。
又，作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系低聚物，可列舉：(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合物等。
(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯例如可藉由多元醇及有機二異氰酸酯與羥基(甲基)丙烯酸酯之反應而獲得。
又，較佳之(甲基)丙烯酸環氧酯係使3官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯；使雙官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與多元酸及(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯；及使雙官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與酚類及(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯。
上述電離放射線硬化性化合物可單獨使用1種，或組合2種以上使用。
於透明基材為丙烯酸基材之情形時，作為電離放射線硬化性化合物，較佳含有1~4官能之(甲基)丙烯酸酯單體。若如上述般凹凸層形成塗佈液含有低官能單體，則該單體使丙烯酸基材之成分溶出，而將凹凸層中之粒子推頂至凹凸層上部，而可容易形成本發明之凹凸形狀。又，由於丙烯酸基材之成分溶出並流入至凹凸層中，故而丙烯酸基材與凹凸層之密接性亦變得良好。
於透明基材為丙烯酸基材以外之情形時，藉由使用使透明基材膨潤或溶解者作為溶劑並且含有1~4官能之(甲基)丙烯酸酯單體作為電離放射線硬化性化合物，可獲得與上述同等之效果。
再者，就提高凹凸層之機械強度之觀點而言，更佳為含有1~4官能之 (甲基)丙烯酸酯單體中之2~4官能之(甲基)丙烯酸酯單體。
作為二官能(甲基)丙烯酸酯單體之具體例，可列舉：異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、聚伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、或1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯等。作為三官能(甲基)丙烯酸酯單體之具體例，可列舉：新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等。作為四官能(甲基)丙烯酸酯單體之具體例，可列舉：二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)等。
1~4官能之(甲基)丙烯酸酯單體較佳為分子量180~1000者，更佳為分子量200~750者，進而較佳為分子量220~450者。若上述分子量為該範圍內，則變得容易將凹凸層中之粒子推頂至凹凸層上部，又，亦可容易使透明基材與凹凸層之密接性變良好。
於使用1~4官能之(甲基)丙烯酸酯單體作為電離放射線硬化性化合物之情形時，電離放射線硬化性樹脂組成物之全部固形物成分中之1~4官能之(甲基)丙烯酸酯單體較佳為10~65質量%，更佳為20~50質量%。
於使用1~3官能之(甲基)丙烯酸酯單體作為電離放射線硬化性化合物之情形時，為了提高凹凸層之機械強度，較佳於電離放射線硬化性樹脂組成物中進而含有4官能以上之(甲基)丙烯酸酯單體及/或低聚物，更佳含有4~6官能之(甲基)丙烯酸酯單體及/或低聚物。
再者，於僅含有親水性之電離放射線硬化性化合物或疏水性之電離放射線硬化性化合物作為電離放射線硬化性化合物之情形時，於凹凸層中粒子變得容易凝聚，而高頻成分之凹凸及低頻成分之凹凸之平衡崩 潰，從而變得難以滿足條件(1)~(3)。又，於塗膜中粒子進行凝聚之處為隨機，於產生凝聚之處低頻成分局部地增加。因此，於僅含有親水性之電離放射線硬化性化合物或疏水性之電離放射線硬化性化合物作為電離放射線硬化性化合物之情形時，變得尤為難以滿足條件(3)。
因此，作為電離放射線硬化性樹脂組成物中之電離放射線硬化性化合物，較佳含有親水性之電離放射線硬化性化合物及疏水性之電離放射線硬化性化合物。或者，作為電離放射線硬化性樹脂組成物中之電離放射線硬化性化合物，較佳含有具有親水性與疏水性之中間性質之電離放射線硬化性化合物。
於將親水性之電離放射線硬化性化合物與疏水性之電離放射線硬化性化合物併用之情形時，質量比較佳為5：95~60：40，更佳為15：85~55：45。
所謂親水性之電離放射線硬化性化合物，係指藉由實施例所記載之方法進行測定之純水接觸角為59度以下者。所謂疏水性之電離放射線硬化性化合物，係指藉由實施例所記載之方法進行測定之純水接觸角為61度以上者。所謂具有親水性與疏水性之中間性質之電離放射線硬化性化合物，係指藉由實施例所記載之方法進行測定之純水接觸角超過59度且未達61度者。
作為親水性之電離放射線硬化性化合物，可列舉：新戊四醇三丙烯酸酯、三(2-羥乙基)異氰尿酸酯三丙烯酸酯等。作為疏水性之電離放射線硬化性化合物，可列舉二新戊四醇六丙烯酸酯等。作為具有親水性與疏水性之中間性質之電離放射線硬化性化合物，可列舉：新戊四醇四丙烯酸酯等。
於電離放射線硬化性化合物為紫外線硬化性化合物之情形時，電離放射線硬化性組成物較佳含有光聚合起始劑或光聚合促進劑等添加劑。
作為光聚合起始劑，可列舉：選自苯乙酮、二苯甲酮、α-羥基烷基苯酮、米其勒酮、安息香、二苯乙二酮二甲基縮酮、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、9-氧硫類等中之1種以上。
光聚合促進劑係可減輕硬化時之由空氣引起之聚合抑制而使硬化速度加快者，例如可列舉：選自對二甲胺基苯基苯甲酸異戊酯、對二甲胺基苯甲酸乙酯等中之1種以上。
凹凸層之粒子
作為凹凸層中之粒子，較佳含有微米級大之粒子(以下，有時稱為「大粒子」)，更佳為進而視需要含有奈米級小之粒子(以下，有時稱為「小粒子」)。於凹凸層中僅存在大粒子之情形時，有大粒子不存在之處凹凸層之表面變得大致平滑之傾向。然而，於凹凸層中同時含有大粒子與小粒子之情形時，可容易使大粒子不存在之處產生較平緩之傾斜。可認為其原因在於：若含有小粒子，則塗佈液之觸變性及溶劑之乾燥特性受到影響，而不會產生如通常之整平。如上所述，可認為若於大粒子不存在之處亦形成較平緩之傾斜，則因該傾斜而使凹凸層之表面形狀之不均變少，並且高頻凹凸與低頻凹凸之平衡性變良好，而可容易使條件(1)~(3)處於上述範圍。
大粒子
關於大粒子，就容易獲得上述凹凸形狀之觀點而言，平均粒徑較佳為1 ~8μm，更佳為1.5~5μm。
本發明中，大粒子之平均粒徑可藉由以下之(1)~(3)之作業而算出。
(1)利用光學顯微鏡對本發明之光學片拍攝透過觀察圖像。倍率較佳為500~2000倍。
(2)自觀察圖像選出任意10個粒子，對各粒子之長徑及短徑進行測定，根據長徑及短徑之平均值算出各粒子之粒徑。長徑係指各粒子之畫面上最長之直徑。又，短徑係指劃出與構成長徑之線段之中點正交之線段，該正交之線段與粒子相交之2點間之距離。
(3)對於同一樣品之其他畫面之觀察圖像進行相同之作業5次，將自合計50個粒子之粒徑之數量平均獲得之值設為大粒子之平均粒徑。
下述小粒子之平均一次粒徑係首先利用TEM或STEM對本發明之光學片之剖面進行拍攝。拍攝後，進行與上述(2)及(3)相同之手法，藉此可算出小粒子之平均一次粒徑。TEM或STEM之加速電壓較佳設為10kv~30kV，倍率較佳設為5萬~30萬倍。
大粒子只要為具有透光性者，則可使用有機粒子及無機粒子中之任一種。又，大粒子可列舉：球形、圓盤狀、橄欖球狀、不定形等形狀。該等形狀中，較佳為於加工方向(MD方向)及寬度方向(TD方向)上粒子之偏差難以產生，可使低頻成分之凹凸平衡性或生產穩定性變良好之球形。又，大粒子亦可使用上述各種形狀之中空粒子、多孔質粒子及實心粒子。
作為有機粒子，可列舉：由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚 物、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物、聚矽氧、氟系樹脂及聚酯系樹脂等所構成之粒子。
作為無機粒子，可列舉：由二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等所構成之粒子。
上述大粒子中，就分散控制之容易性之觀點而言，較佳為有機粒子，其中，較佳為聚丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子。關於聚丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，因容易控制折射率及親水疏水程度，故而就內部霧度及凝聚/分散之控制容易之方面而言良好。
關於大粒子之含量，就容易獲得上述凹凸形狀之觀點而言，較佳為形成凹凸層之全部固形物成分中之0.2~15.0質量%，更佳為0.5~10.0質量%，進而較佳為1.0~6.0質量%。
大粒子之平均粒徑與凹凸層之厚度之比(大粒子之平均粒徑/凹凸層之厚度)係根據是否併用下述小粒子而不同。
於將下述小粒子與大粒子併用之情形時，就容易獲得上述凹凸形狀之觀點而言，大粒子之平均粒徑與凹凸層之厚度之比較佳為0.15~0.50，更佳為0.20~0.40。
小粒子
關於小粒子，就容易獲得上述凹凸形狀之觀點而言，平均一次粒徑較佳為1~50nm，更佳為3~40nm，進而較佳為5~25nm。
作為小粒子，較佳為二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯及氧化鈦等無機粒子。該等中，就透明性之觀點而言，較佳為二氧化矽。
又，小粒子較佳為藉由表面處理而導入有反應性基之反應性無機粒 子。藉由導入反應性基，能夠使大量之小粒子含有於凹凸層中，而可容易獲得上述凹凸形狀。
作為反應性基，可較佳地使用聚合性不飽和基，較佳為光硬化性不飽和基，尤佳為電離放射線硬化性不飽和基。作為其具體例，可列舉：(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基、乙烯基及烯丙基等乙烯性不飽和鍵以及環氧基等。
反應性無機粒子可列舉經矽烷偶合劑表面處理之無機粒子。利用矽烷偶合劑對無機粒子之表面進行處理時，可列舉：將矽烷偶合劑向無機粒子進行噴射之乾式法；或使無機粒子分散於溶劑中後添加矽烷偶合劑而使之反應之濕式法等。
小粒子之含量較佳為形成凹凸層之全部固形物成分中之0.1~10.0質量%，更佳為0.2~5.0質量%，進而較佳為0.3~1.5質量%。藉由設為該範圍，可利用整平性之控制及凹凸層之聚合收縮之抑制而容易獲得上述凹凸形狀。
又，關於凹凸層中之小粒子及大粒子之含量之比(小粒子之含量/大粒子之含量)，就容易獲得上述凹凸形狀之觀點而言，較佳為0.001~1.0，更佳為0.01~0.8，進而較佳為0.1~0.7。
關於凹凸層之厚度，就與捲曲抑制、機械強度、硬度及韌性之平衡性之觀點而言，較佳為2~10μm，更佳為4~8μm。
凹凸層之厚度例如可根據使用掃描型穿透式電子顯微鏡(STEM)所拍攝到之剖面之圖像測定20處之厚度，並根據20處之值之平均值而算出。STEM之加速電壓較佳設為10kv~30kV，倍率較佳設為1000~7000倍。
溶劑
於凹凸層形成塗佈液中，通常為了調節黏度、或可使各成分溶解或分散而使用溶劑。根據溶劑之種類，在塗佈、乾燥過程後之凹凸層之表面狀態不同，因此較佳為考慮溶劑之飽和蒸氣壓、溶劑向透明基材之滲透性等而選定溶劑。
具體而言，溶劑例如可例示：酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等)、醚類(二烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環式烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化碳類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、醇類(丁醇、環己醇等)、溶纖劑類(甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等)、乙酸溶纖劑類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等，亦可為該等之混合物。
於溶劑之乾燥過慢之情形或溶劑之乾燥過快之情形時，凹凸層之整平性會過度或不足，因此變得難以將凹凸形狀調整為上述之範圍。因此，作為溶劑，較佳為含有全部溶劑中之50質量%以上之相對蒸發速度(將乙酸正丁酯之蒸發速度設為100時之相對蒸發速度)為100~180之溶劑，更佳為含有70質量%以上，進而較佳為含有90質量%以上，最佳為含有100質量%。溶劑之相對蒸發速度更佳為100~150。
若列舉相對蒸發速度之例，則甲苯為195，甲基乙基酮(MEK)為465，甲基異丁基酮(MIBK)為118，丙二醇單甲醚(PGME)為68。
又，溶劑之種類亦會對小粒子之分散性造成影響。例如，MIBK係於小粒子之分散性優異，容易將凹凸形狀調整為上述範圍之方面而言較佳。
於透明基材為丙烯酸基材之情形時，有因溶劑而容易使丙烯酸基材膨潤或溶解之傾向，因此較佳為選擇適度使丙烯酸基材膨潤或溶解之溶劑。
作為此種溶劑，較佳為醇類(甲醇、乙醇、異丙醇、1-丁醇)，關於其他之各溶劑種類，有碳數更多者較為良好之傾向，其中，有蒸發速度較快者較為良好之傾向。例如，若為酮類，則可例示甲基異丁基酮，若為芳香族烴類，則可例示甲苯，若為二醇類，則可例示丙二醇單甲醚等，亦可為該等之混合溶劑。
上述溶劑中，尤佳為含有選自甲基異丁基酮、異丙醇及1-丁醇、丙二醇單甲醚中之一種以上者。
又，作為使TAC基材膨潤或溶解之溶劑，可列舉：MEK、環己酮、MIBK等。
作為凹凸層形成塗佈液中之溶劑之含有比例，並無特別限定，相對於凹凸層形成塗佈液之固形物成分100質量份，較佳為150~250質量份，更佳為175~220質量份。
又，就容易將凹凸形狀設為上述範圍之觀點而言，較佳於形成凹凸層時控制乾燥條件。乾燥條件可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速而進行控制。作為具體之乾燥溫度，較佳設為30~120℃，關於乾燥風速，較佳設為0.2~50m/s。又，為了藉由乾燥條件而控制凹凸層之整平度，電離放射線之照射較佳為於乾燥後進行。
又，就適度使表面凹凸平滑(使低頻成分適量存在)，容易將凹凸形狀設為上述之範圍之觀點而言，較佳為於凹凸層形成塗佈液中含 有整平劑。整平劑可列舉氟系或聚矽氧系者，較佳為聚矽氧系整平劑。作為整平劑之添加量，相對於凹凸層形成塗佈液之全部固形物成分，較佳為0.01~1.5重量%，更佳為0.05~1.0重量%。
光學片亦可於具有凹凸形狀之側之面及/或與凹凸形狀相反側之面上具有抗放射層、防污層、防靜電層等功能性層。又，於透明基材上具有凹凸層之構成之情形時，除上述部位外，亦可於透明基材與凹凸層之間具有功能性層。
光學物性
為了容易發揮本發明之效果，光學片較佳為總光線透過率(JIS K7361-1：1997)、霧度(JIS K7136：2000)及透過像鮮明度(JIS K7374：2007)為以下之範圍。再者，總光線透過率、霧度及透過像鮮明度係設為對15個樣品各測定1次時之平均值。
總光線透過率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。
霧度較佳為0.5~10.0%，更佳為0.6~5.0%，進而較佳為0.7~3.0%。
光頻梳之寬度為0.125mm之透過像鮮明度C0.125較佳為65.0~90.0%，更佳為70.0~90.0%，更佳為75.0~85.0%。
光頻梳之寬度為0.25mm之透過像鮮明度C0.25較佳為65.0~90.0%，更佳為70.0~90.0%，更佳為75.0~85.0%。
又，C0.25與C0.125之差之絕對值較佳為未達2.0%，更佳為1.5%以下。藉由將C0.25與C0.125之差之絕對值設為上述範圍，可抑制光源之中心附近之映入程度之不均，而使防眩性更良好。
本發明之光學片較佳為用作液晶顯示裝置等顯示裝置之構成構件，且以光學片之凹凸面朝向目視者側(顯示裝置之出光面側)之方式進行配置而使用。進而，較佳為以於顯示裝置之最表面設置本發明之光學片，且光學片之凹凸面朝向目視者側(顯示裝置之出光面側)之方式進行配置而使用。
[偏光板]
本發明之偏光板於偏光元件兩側之面具有保護膜，係將作為至少一方之保護膜之上述本發明之光學片之凹凸面以朝向偏光元件之相反側之方式配置而成。
偏光元件只要為具有僅使具有特定振動方向之光透過之功能者，則可為任意者，例如可列舉：將PVA系膜等進行延伸並利用碘或二色性染料等進行染色而成之PVA系偏光元件、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系偏光元件、使用有膽固醇液晶之反射型偏光元件、薄膜結晶膜系偏光元件等。
偏光元件之厚度較佳為2~30μm，更佳為3~30μm。
本發明之偏光板係將偏光元件之兩側之保護膜中之至少一者設為上述本發明之光學片，且該光學片之凹凸面以朝向偏光元件之相反側之方式配置而成。藉由設為該構成，可製成具備上述之本發明之光學片之效果的偏光板。
另一保護膜只要為具有透光性者，則無特別限制，可使用TAC、丙烯酸、COP、聚酯等。
保護膜之厚度較佳為5~300μm，更佳為30~200μm。
[光學片之篩選方法]
本發明之光學片之篩選方法係篩選至少一表面為凹凸面之光學片之方法，其篩選上述凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足以下之條件(1)~(3)者作為光學片。
0.300μm≦Rz0.8≦0.650μm (1)
0.170μm≦Rz0.25≦0.400μm (2)
SD≦0.015μm (3)
篩選本發明之光學片之判定條件係將滿足上述條件(1)~(3)設為必須條件。
關於本發明之光學片之篩選方法，即便不將光學片裝入顯示裝置中，亦可篩選防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像之光學片，而可高效率地進行光學片之品質管理。
關於篩選本發明之光學片之判定條件，較佳為進而將選自以下所列舉之條件(4)~(9)中之一項以上設為追加之判定條件。
藉由滿足追加之判定條件，可更準確地篩選具有上述效果之光學片。
0.230μm≦Rz0.8-Ra0.8≦0.500μm (4)
0.130μm≦Rz025-Ra0.25≦0.290μm (5)
1.30≦Ra0.8/Ra0.25≦1.80 (6)
0.050μm≦Ra0.8≦0.120μm (7)
0.020μm≦Ra0.25≦0.100μm (8)
1.40≦Rz0.8/Rz0.25≦2.00 (9)
作為追加之判定條件，更佳滿足條件(4)~(9)中之兩項以上，進而較佳滿足三項以上，最佳滿足全部項。
判定條件(1)~(9)較佳滿足本發明之光學片中所述之條件(1)~(9)之較佳數值範圍。
[光學片之製造方法]
本發明之光學片之製造方法係至少一表面為凹凸面之光學片之製造方法，係以上述凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足以下之條件(1)~(3)的方式進行製造。
0.300μm≦Rz0.8≦0.650μm (1)
0.170μm≦Rz0.25≦0.400μm (2)
SD≦0.015μm (3)
本發明之光學片之製造方法必須以滿足上述條件(1)~(3)之方式對製造條件進行控制。
又，本發明之光學片之製造方法較佳以滿足上述之光學片之篩選方法之條件(4)~(9)中的一項以上作為追加條件之方式對製造條件進行控制，更佳以滿足兩項以上之方式對製造條件進行控制，進而較佳以滿足三項以上之方式對製造條件進行控制，最佳以滿足全部項之方式對製造條件進行控制。
本發明之光學片之製造方法可高效率地製造防眩性、對比度及圖像之 鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像之光學片。
製造條件(1)~(9)較佳滿足本發明之光學片中所述之條件(1)~(9)之較佳數值範圍。
[顯示裝置]
本發明之顯示裝置A係於顯示元件之目視者側配置一種以上之光學構件而成，光學構件之至少一種為上述本發明之光學片，且配置成光學片之凹凸面朝向目視者側。
本發明之顯示裝置B係於顯示元件之目視者側配置一種以上之光學構件而成，光學構件之至少一種為上述本發明之偏光板，且配置而成偏光板之凹凸面朝向目視者側。
顯示裝置A中，光學片較佳為以如下方式進行配置：配置於顯示裝置A之最表面，且光學片之凹凸面朝向目視者側。又，顯示裝置B中，偏光板較佳為以如下方式進行配置：配置於顯示裝置B之最表面，且偏光板之凹凸面朝向目視者側。再者，目視者側意指出光面側。
作為構成顯示裝置之顯示元件，可列舉：液晶顯示元件、電漿顯示元件、有機EL顯示元件等。
顯示元件之具體構成並無特別限制。例如於液晶顯示元件之情形時，係由依序具有下部玻璃基板、下部透明電極、液晶層、上部透明電極、彩色濾光片及上部玻璃基板之基本構成所組成，且於超高清液晶顯示元件中，將該下部透明電極及上部透明電極高密度地圖案化。
顯示元件較佳為水平像素數1920以上之顯示元件或者像素密度250ppi以上之顯示元件。該等顯示元件係超高清顯示元件，由於每1 像素之光量較少，故而容易因外界光之擴散等而受到影響。因此，超高清顯示元件係於容易發揮本發明之效果之方面而言較佳。
本發明之顯示裝置亦可為於顯示元件上具有觸控面板，且配置本發明之光學片作為該觸控面板之構成構件而成者。再者，於該實施形態中，亦必須以光學片之凹凸面朝向目視者側之方式進行配置。又，於該實施形態中，較佳為以如下方式進行配置：於觸控面板之最表面配置光學片，且光學片之凹凸面朝向目視者側。
作為觸控面板，可列舉：靜電電容式觸控面板、電阻膜式觸控面板、光學式觸控面板、超音波式觸控面板及電磁感應式觸控面板等。
電阻膜式觸控面板係將以使具有導電膜之上下一對透明基板之導電膜彼此對向的方式隔著間隔件進行配置而成之構成設為基本構成，將電路連接於該基本構成而成者。
靜電電容式觸控面板可列舉表面型及投影型等，大多使用投影型。投影型之靜電電容式觸控面板係將電路連接於基本構成而成者，該基本構成係將X軸電極及與該X軸電極正交之Y軸電極隔著絕緣體進行配置而成。若更具體地說明該基本構成，則可列舉：(1)於1片透明基板上之不同面形成X軸電極及Y軸電極之態樣；(2)於透明基板上依序形成X軸電極、絕緣體層、Y軸電極之態樣；(3)於透明基板上形成X軸電極，於另一透明基板上形成Y軸電極，經由接著劑層等進行積層之態樣等。又，可列舉於該等基本態樣中進而積層另一透明基板之態樣。
實施例
繼而，藉由實施例，對本發明進一步詳細地進行說明，但本 發明並不受該例任何限定。再者，「份」只要沒有特別事先說明，則為質量基準。
1.光學片之物性測定及評價
以下述方式對實施例及比較例之光學片之物性進行測定及評價。將結果示於表1等中。
(1)表面粗糙度測定
準備將實施例及比較例之光學片切割為5cm見方之樣品各60個。針對各樣品，測定截止值λ c0.8mm之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8及十點平均粗糙度Rz0.8、以及截止值λ c0.25mm之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.25及十點平均粗糙度Rz0.25。然後，將60個樣品之平均值設為各實施例及比較例之Ra0.8、Rz0.8、Ra0.25及Rz0.25。又，將60個樣品之Ra0.8之標準偏差SD設為各實施例及比較例之SD。測定器係使用表面粗糙度測定器(小阪研究所公司製造，商品名：SE-3400)，並設為以下之測定條件。
[表面粗糙度檢測部之觸針]
小阪研究所公司製造之商品名SE2555N(前端曲率半徑：2μm，頂角：90度，材質：金剛石)
[表面粗糙度測定器之測定條件]
‧於λ c0.25mm或λ c0.8mm下進行測定
‧評價長度：截止值λ c之5倍
‧觸針之輸送速度：0.1mm/s
‧預備長度：(截止值λ c)×2
‧縱向倍率：10000倍
‧橫向倍率：50倍
‧滑動墊木：不使用(未接觸於測定面)
‧截止濾波器種類：高斯
‧JIS模式：JIS1994
‧死帶等級：10%
‧tp/PC曲線：普通
‧取樣模式：c=1500
1-2.防眩性
將於光學片之透明基材側經由厚度50μm之透明黏著劑層(折射率：1.55，Panac公司製造，商品名：PDC-S1)貼合厚度2mm之黑色丙烯酸板(可樂麗公司製造，商品名：CosmoGrass DFA502K)而成之評價用樣品(尺寸：10cm×10cm)置於水平面上，於評價用樣品之上方2m處配置螢光燈，於使螢光燈映入評價用樣品上且評價用樣品上之照度設為800~1200Lx之環境下，利用目視自各種角度進行觀察。請15人基於下述之評分基準進行評價，並算出15人之平均分。其結果為，將平均分未達1.0分者設為「C」，將平均分為1.0分以上且未達1.6分者設為「B」，將平均分為1.6分以上且未達2.3分者設為「A」，將平均分為2.3分以上者設為「AA」。
3分：樣品整面可見白色反射，而無法辨識明確之明暗。
2分：雖可以明部之形式辨識螢光燈之反射區域，但無法辨識形狀為螢光燈。
1分：螢光燈之反射區域之中心附近(相當於螢光燈之芯之部分)與其周邊部之交界模糊，無法辨識該交界。進而，螢光燈之反射區域與非反射 區域之交界模糊，無法辨識該交界。
0分：螢光燈之反射區域之中心附近(相當於螢光燈之芯之部分)與其周邊部之交界可明確地辨識。或者，螢光燈之反射區域與非反射區域之交界可明確地辨識。
1-3.對比度
將上述1-2中所製作之評價用樣品置於水平面上，自45度方向對光學片之表面照射螢光燈，利用目視自成為該照射光之正反射方向之角度進行觀察。請15人基於下述之評分基準評價對比度，並算出15人之平均分。其結果為，將平均分未達1.0分者設為「E」，將平均分為1.0分以上且未達1.5分者設為「D」，將平均分為1.5分以上且未達2.0分者設為「C」，將平均分為2.0分以上且未達2.5分者設為「B」，將平均分為2.5分以上者設為「A」。
3點：黑度極為優異。
2點：黑度優異。
1點：黑度之等級較低，感覺到發白。
0點：感覺到極白。
1-4.圖像之鮮明性
於像素數3840×2160像素之顯示元件(東芝公司製造，商品名：REGZA 55G20X)上以光學片之凹凸面朝向表面之方式進行設置，於顯示元件已顯示圖像(夏普公司製造之智慧型手機(商品名：SH-05G)之SH Camera Program所拍攝到之白晝之噴水圖像的靜止圖像)之狀態下進行目視觀察。請15人基於下述之評分基準評價圖像之鮮明性，並算出15人之平均分。其結果為，將平均分未達1.0分者設為「E」，將平均分為1.0分以上且未達1.5分者設 為「D」，將平均分為1.5分以上且未達2.0分者設為「C」，將平均分為2.0分以上且未達2.5分者設為「B」，將平均分為2.5分以上者設為「A」。又，使用像素數2420×1080像素之顯示元件(索尼公司製造，商品名：BRAVIA KJ-32W700C)進行相同之評價。
3分：圖像之鮮明性極為優異。
2分：圖像之鮮明性優異。
1分：無法判斷。
0點：圖像之鮮明性較差。
1-5.動態圖像之顯示性(動態圖像之逼真感)
於市售之智慧型手機(蘋果公司製造，商品名：iphone 5c，像素密度約330ppi(對角4英吋之畫面尺寸，畫面之縱橫比約9：16，根據像素數640×1136算出))上以光學片之凹凸面朝向表面之方式進行設置，顯示動態圖像(夏普公司製造之智慧型手機(商品名：SH-05G)之SH Camera Program所拍攝到之白晝之噴水的動態圖像；時間為30秒)並利用目視進行觀察。請15人基於下述之評分基準評價動態圖像之顯示性，並算出15人之平均分。其結果為，將平均分未達1.0分者設為「E」，將平均分為1.0分以上且未達1.5分者設為「D」，將平均分為1.5分以上且未達2.0分者設為「C」，將平均分為2.0分以上且未達2.5分者設為「B」，將平均分為2.5分以上者設為「A」。
3分：動態圖像極有逼真感。
2分：動態圖像有逼真感。
1分：無法判斷。
0分：動態圖像之逼真感較差。
1-6.炫光
設為自下方依序重疊有亮度1500cd/m2之光箱(白色面光源)、250ppi之黑矩陣玻璃及光學片之狀態，距離30cm左右，自上下、左右各角度進行目視觀察。請15人基於下述之評分基準評價炫光，並算出15人之平均分。其結果為，將平均分未達1.0分者設為「E」，將平均分為1.0分以上且未達1.5分者設為「D」，將平均分為1.5分以上且未達2.0分者設為「C」，將平均分設為2.0分以上且未達2.5分者設為「B」，將平均分為2.5分以上者設為「A」。
3分：即便仔細地觀察，亦未感覺到炫光。
2分：若仔細地觀察，則但若以通常之注意力觀察，則基本上感覺不到炫光。
1分：以通常之注意力感覺到較多之炫光。
0分：以通常之注意力感覺到極多之炫光。
1-7.透過像鮮明度
準備將實施例及比較例之光學片切割為5cm見方之樣品各15個。使用Suga Test Instruments公司製造之圖像清晰度測定器(商品名：ICM-1T)，依據JIS K7105：1981對各樣品之光頻梳之寬度為0.125mm之透過像鮮明度C0.125，及光頻梳之寬度為0.25mm之透過像鮮明度C0.25進行測定。光入射面係設為透明基材側。然後，將15個樣品之平均值設為各實施例及比較例之C0.125及C0.25。
1-8.霧度
準備將實施例及比較例之光學片切割為5cm見方之樣品各15個。使用 霧度計(HM-150，村上色彩技術研究所製造)，依據JIS K-7136：2000對各樣品之霧度進行測定。光入射面係設為基材側。然後，將15個樣品之平均值設為各實施例及比較例之霧度。
1-9.純水之接觸角
藉由以下之方法，對實施例及比較例之凹凸層形成塗佈液1~9中所使用之電離放射線硬化性化合物之純水的接觸角進行測定。將各電離放射線硬化性化合物之純水之接觸角示於凹凸層形成塗佈液1~9之配方中。
<接觸角測定方法>
將由各電離放射線硬化性化合物50份、光聚合起始劑1.5份(BASF公司製造，Irgacure184)及MIBK 100份所構成之塗佈液以5g/m2之塗佈量塗佈於厚度80μm之TAC膜上，於70℃乾燥1分鐘後，進行紫外線照射(於氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下；照射量：50mJ/cm2)而使電離放射線硬化性化合物硬化，從而製作於TAC膜上具有電離放射線硬化性化合物之硬化膜之5cm見方之樣品。各電離放射線硬化性化合物係製作15個樣品，向依據JIS R3257：1999所製作之樣品之硬化膜滴加純水，測定硬化膜之純水接觸角。然後，將15個樣品之平均值設為各電離放射線硬化性化合物之純水接觸角。
2.光學片之製作
[實施例1]
於含有由最內層為以甲基丙烯酸甲酯為主成分而獲得之硬質聚合物、中間層為使丙烯酸丁酯作為主成分進行聚合而成之軟質彈性體、最外層為使用甲基丙烯酸甲酯作為主成分並使之聚合而成之硬質聚合物所構成之3 層構造的核殼型橡膠粒子，及作為黏合劑之以甲基丙烯酸甲酯為主成分而獲得之聚合物的40μm之丙烯酸基材上，藉由棒式塗佈法塗佈下述配方之凹凸層形成塗佈液1，以70℃、風速5m/s乾燥30秒鐘後，於氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下以累計光量成為100mJ/cm2之方式照射紫外線，形成凹凸層而獲得光學片。凹凸層之膜厚為7.5μm。
<凹凸層形成塗佈液1>
‧3官能丙烯酸酯單體 20份
(三(2-羥乙基)異氰尿酸酯三丙烯酸酯)
(純水接觸角：55度)
‧3官能丙烯酸胺基甲酸酯低聚物 30份
(純水接觸角：66度)
‧6官能丙烯酸酯單體(DPHA) 50份
(純水接觸角：66度)
‧光聚合起始劑 8份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧聚矽氧系整平劑 0.1份
(邁圖高新材料公司製造，TSF4460)
‧透光性粒子1 5份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.5μm，折射率1.517)
透光性粒子2 0.1份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.0μm，折射率1.517)
‧無機超微粒子 2份
(日產化學公司製造，於表面導入有反應性官能基之二氧化矽，溶劑MIBK，固形物成分30%)
(平均一次粒徑12nm)
溶劑1(MIBK) 200份
[實施例2]
將實施例1之丙烯酸基材變更為以下之丙烯酸基材，進而將凹凸層形成塗佈液1變更為下述之凹凸層形成塗佈液2，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學片。
<凹凸層形成塗佈液2>
‧3官能丙烯酸酯單體(PETA) 50份
(純水接觸角：58度)
‧6官能丙烯酸胺基甲酸酯低聚物 50份
(純水接觸角：66度)
‧光聚合起始劑 8份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧聚矽氧系整平劑 0.1份
(邁圖高新材料公司製造，TSF4460)
‧透光性粒子1 3.5份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.5μm，折射率1.517)
‧透光性粒子2 0.1份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.0μm，折射率1.517)
‧無機超微粒子 2份
(日產化學公司製造，於表面導入有反應性官能基之二氧化矽，溶劑MIBK，固形物成分30%)
(平均一次粒徑12nm)
‧溶劑1(MIBK) 200份
<實施例2之丙烯酸基材之製造>
將由甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸甲酯之共聚物(玻璃轉移點：130℃)所構成之顆粒進行熔融混練，利用一面通過濾波器將異物去除，一面進行熔融擠出之方法將聚合物自模具之間隙擠出。繼而，一面冷卻聚合物，一面沿縱方向延伸至1.2倍，其後，沿橫方向延伸至1.5倍，而獲得厚度40μm之丙烯酸基材。
[實施例3]
將實施例1之丙烯酸基材變更為TAC(Fuji Film公司製造，TD80UL，厚度80μm)，進而將凹凸層形成塗佈液1變更為下述之凹凸層形成塗佈液3，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學片。
<凹凸層形成塗佈液3>
‧3官能丙烯酸酯單體(PETA) 10份
(純水接觸角：58度)
‧4官能丙烯酸酯單體(PETTA) 40份
(純水接觸角：60度)
‧6官能丙烯酸胺基甲酸酯低聚物 50份
(純水接觸角：66度)
光聚合起始劑 8份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧聚矽氧系整平劑 0.1份
(邁圖高新材料公司製造，TSF4460)
‧透光性粒子1 3.0份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.5μm，折射率1.517)
‧透光性粒子2 0.1份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.0μm，折射率1.517)
‧無機超微粒子 2份
(日產化學公司製造，於表面導入有反應性官能基之二氧化矽，溶劑MIBK，固形物成分30%)
(平均一次粒徑12nm)
‧溶劑1(MIBK) 200份
[實施例4]
將實施例1之丙烯酸基材變更為TAC(Fuji Film公司製造，TD80UL，厚度80μm)，進而將凹凸層形成塗佈液1變更為下述之凹凸層形成塗佈液4，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學片。
<凹凸層形成塗佈液4>
‧4官能丙烯酸酯單體(PETTA) 100份
(純水接觸角：60度)
光聚合起始劑 8份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧聚矽氧系整平劑 0.1份
(邁圖高新材料公司製造，TSF4460)
‧透光性粒子1 5份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.5μm，折射率1.517)
‧透光性粒子2 1份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.0μm，折射率1.517)
‧無機超微粒子 2份
(日產化學公司製造，表面導入有反應性官能基之二氧化矽，溶劑MIBK，固形物成分30%)
(平均一次粒徑12nm)
‧溶劑1(MIBK) 200份
[比較例1]
將實施例1之丙烯酸基材變更為TAC(Fuji Film公司製造，TD80UL，厚度80μm)，進而將凹凸層形成塗佈液1變更為下述配方之凹凸層形成塗佈液5，將凹凸層之膜厚設為2μm，除此以外，以與實施例1相同之方式 獲得光學片。
<凹凸層形成塗佈液5>
‧3官能丙烯酸酯單體(PETA) 100份
(純水接觸角：58度)
‧無機微粒子 14份
(Fuji Silysia化學公司製造，凝膠法不定形二氧化矽)
(疏水處理，平均粒徑4.1μm)
‧光聚合起始劑 5份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧聚矽氧系整平劑 0.2份
(邁圖高新材料公司製造之TSF4460)
‧溶劑1(甲苯) 150份
‧溶劑2(MIBK) 35份
[比較例2]
將實施例1之丙烯酸基材變更為TAC(Fuji Film公司製造，TD80UL，厚度80μm)，進而將凹凸層形成塗佈液1變更為下述配方之凹凸層形成塗佈液6，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學片。
<凹凸層形成塗佈液6>
‧3官能丙烯酸酯單體(PETA) 50份
(純水接觸角：58度)
‧6官能丙烯酸胺基甲酸酯低聚物 50份
(純水接觸角：66度)
‧光聚合起始劑 3份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧聚矽氧系整平劑 0.1份
(邁圖高新材料公司製造之TSF4460)
‧透光性粒子 10份
(苯乙烯-丙烯酸聚合物粒子，折射率1.555)
(平均粒徑3.5μm)
‧溶劑1(甲苯) 145份
‧溶劑2(環己酮) 60份
[比較例3]
將實施例1之丙烯酸基材變更為TAC(Fuji Film公司製造，TD80UL，厚度80μm)，進而將凹凸層形成塗佈液1變更為下述配方之凹凸層形成塗佈液7，將凹凸層之膜厚設為4.5μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學片。
<凹凸層形成塗佈液7>
‧3官能丙烯酸酯單體(PETA) 90份
(純水接觸角：58度)
‧丙烯酸聚合物
(三菱麗陽公司製造，分子量75,000) 10份
(純水接觸角：70度)
‧光聚合起始劑 3份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧聚矽氧系整平劑 0.1份
(邁圖高新材料公司製造之TSF4460)
‧透光性粒子 12份
(綜研化學公司製造，球狀聚苯乙烯粒子)
(平均粒徑3.5μm，折射率1.59)
‧溶劑1(甲苯) 145份
‧溶劑2(環己酮) 60份
[比較例4]
將實施例1之丙烯酸基材變更為TAC(Fuji Film公司製造，TD80UL，厚度80μm)，進而將凹凸層形成塗佈液1變更為下述配方之凹凸層形成塗佈液8，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學片。
<凹凸層形成塗佈液8>
‧4官能丙烯酸胺基甲酸酯低聚物 60份
(純水接觸角：66度)
‧4官能丙烯酸酯單體(PETTA) 40份
(純水接觸角：60度)
‧光聚合起始劑 8份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧聚矽氧系整平劑 0.1份
(邁圖高新材料公司製造，TSF4460)
‧透光性粒子1 5份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.5μm，折射率1.515)
透光性粒子2 0.1份
(積水化成品公司製造，球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑2.0μm，折射率1.515)
‧無機超微粒子 2份
(日產化學公司製造，表面導入有反應性官能基之二氧化矽，溶劑MIBK，固形物成分30%)
(平均一次粒徑12nm)
‧溶劑1(MIBK) 200份
[比較例5]
於TAC製之基材(Fuji Film公司製造，TD60UL，厚度60μm)上，藉由棒式塗佈法將下述配方之凹凸層形成塗佈液9以乾燥後之厚度成為10μm之方式進行塗佈，進行乾燥並照射紫外線而形成凹凸層。繼而，於凹凸層上，藉由棒式塗佈法將下述配方之保護層塗佈液以乾燥後之厚度成為0.1μm之方式進行塗佈，進行乾燥並照射紫外線而形成保護層，從而獲得光學片。
<凹凸層形成塗佈液9>
‧3官能丙烯酸酯單體(PETA) 17.9份
(純水接觸角：58度)
‧6官能丙烯酸胺基甲酸酯低聚物 81.2份
(純水接觸角：66度)
‧光聚合起始劑 3份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧氟系整平劑 0.2份
(DIC公司製造，MEGAFAC RS-75)
‧煙霧狀二氧化矽 0.7份
(平均一次粒徑10nm)
‧溶劑1(甲基異丁基酮) 4份
‧溶劑2(甲苯) 180份
‧溶劑3(環己酮) 30份
‧溶劑4(異丙醇) 70份
<保護層塗佈液>
‧3官能丙烯酸酯單體(PETA) 10份
‧丙烯酸胺基甲酸酯
(日本合成化學公司製造，UV1700B) 43份
‧光聚合起始劑 3份
(BASF公司製造，Irgacure184)
‧氟系整平劑 1份
(DIC公司製造，MEGAFAC RS-75)
‧中空二氧化矽 5份
(平均一次粒徑50nm)
‧溶劑1(甲基異丁基酮) 135份
‧溶劑2(甲基乙基酮) 232份
‧溶劑3 176份
(丙二醇單甲醚乙酸酯)
根據表1之結果，可確認滿足條件(1)~(3)之光學片及顯示裝置係防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像。
[產業上之可利用性]
本發明之光學片係於防眩性、對比度及圖像之鮮明性優異，並且可顯示有逼真感之動態圖像之方面上有用。

Claims (11)

  1. 一種光學片，至少一表面為凹凸面，該凹凸面之截止值(cutoff value)為0.8mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25、及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足以下之條件(1)~(3)：0.300μm≦Rz0.8≦0.650μm (1) 0.170μm≦Rz0.25≦0.400μm (2) SD≦0.015μm (3)。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學片，其中，該凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8及該Rz0.8滿足以下之條件(4)：0.230μm≦Rz0.8-Ra0.8≦0.500μm (4)。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學片，其於透明基材上具有凹凸層，該凹凸層側之表面為該凹凸面。
  4. 如申請專利範圍第3項之光學片，其中，該透明基材為丙烯酸基材。
  5. 一種偏光板，於偏光元件兩側之面具有保護膜，係將作為至少一方之保護膜之申請專利範圍第1至4項中任一項之光學片之凹凸面以朝向該偏光元件之相反側之方式配置而成。
  6. 一種光學片之篩選方法，該光學片至少一表面為凹凸面，該方法篩選該凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25 及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足以下之條件(1)~(3)者作為光學片：0.300μm≦Rz0.8≦0.650μm (1) 0.170μm≦Rz0.25≦0.400μm (2) SD≦0.015μm (3)。
  7. 一種光學片之製造方法，該光學片至少一表面為凹凸面，該方法係以該凹凸面之截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.8、截止值為0.25mm時之JIS B0601：1994之十點平均粗糙度Rz0.25及截止值為0.8mm時之JIS B0601：1994之算術平均粗糙度Ra0.8之標準偏差SD滿足以下之條件(1)~(3)的方式進行製造：0.300μm≦Rz0.8≦0.650μm (1) 0.170μm≦Rz0.25≦0.400μm (2) SD≦0.015μm (3)。
  8. 一種顯示裝置，係於顯示元件之目視者側配置一種以上之光學構件而成，該光學構件之至少一種為申請專利範圍第1至4項中任一項之光學片，且配置成該光學片之凹凸面朝向目視者側。
  9. 如申請專利範圍第8項之顯示裝置，其中，該顯示元件為水平像素數1920以上之顯示元件或像素密度250ppi以上之顯示元件。
  10. 一種顯示裝置，係於顯示元件之目視者側配置一種以上之光學構件而成，該光學構件之至少一種為申請專利範圍第5項之偏光板，且配置成該偏光板之凹凸面朝向目視者側。
  11. 如申請專利範圍第10項之顯示裝置，其中，該顯示元件為水平像素數 1920以上之顯示元件或像素密度250ppi以上之顯示元件。
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