TWI617827B - Optical film, polarizing plate, liquid crystal panel and image display device - Google Patents

Optical film, polarizing plate, liquid crystal panel and image display device Download PDF

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Abstract

本發明提供一種可抑制干涉條紋之產生，不會觀察到白濁感，且可實現製造成本下降之光學薄膜、偏光板、液晶面板及圖像顯示裝置。
依據本發明之一樣態，係提供一種光學薄膜(10)，其係具備光透過性基材(11)、設置在光透過性基材(11)上之功能層(12)之光學薄膜(10)，功能層(12)具有成為光學薄膜(10)之表面的凹凸面(12A)，在對功能層(12)之凹凸面(12A)照射自光學薄膜(10)之法線方向N傾斜10°之方向行進之平行光之狀態下，於包含法線方向N及平行光之行進方向T二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分布中，自測到最高反射光強度之1/100以上之反射光強度之角度區域寬度減去測到最高反射光強度之1/2以上之反射光強度之角度區域寬度之值，為0.7°以上1.4°以下。

Description

光學薄膜、偏光板、液晶面板及圖像顯示裝置
本發明係關於光學薄膜、偏光板、液晶面板及圖像顯示裝置。
液晶顯示器(LCD)、陰極射線管顯示裝置(CRT)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)等之圖像顯示裝置中之圖像顯示面通常設有抑制外光之映入用之於最表面設置之抗反射薄膜或於最表面設置凹凸之防眩薄膜。
抗反射薄膜主要具備有光透過性基材、設置於光透過性基材上之硬塗層、與設置於硬塗層上之作為抗反射層之低折射率層。抗反射薄膜係藉由使在低折射率層表面反射之光與在低折射率層與硬塗層之界面處反射之光相互抵消，而使反射光本身減低者。
然而，該種抗反射薄膜中，因光透過性基材與硬塗層之折射率差，使在光透過性基材與硬塗層之界面處反射之光，與在低折射率層及硬塗層之介面處反射之光產生干涉，而有發生稱為干涉條紋之虹色狀之斑駁花紋之 問題。
對於該問題，已開發出在光透過性基材上形成硬塗層時，使硬塗層用組成物之成分浸透到光透過性基材之上部，在光透過性基材之與硬塗層之界面附近，形成光透過性基材之成分與硬塗層之成分混合存在之混合存在區域，利用混合存在區域而緩和光透過性基材與硬塗層之折射率差，可防止干涉條紋發生之技術(參照例如，日本特開2003-131007號公報)。
然而，抗反射薄膜中，由於硬塗層之表面變得平坦，故為防止干涉條紋之發生有必要形成足夠厚度的混合存在區域。且，形成足夠厚度的混合存在區域時，由於混合存在區域較柔軟，故若混合存在區域上之硬塗層不夠厚，則有無法獲得抗反射薄膜之期望硬度之虞。因此，有必要將硬塗層用組成物厚厚地塗佈於光透過性基材上，而有製造成本變高之問題。
另一方面，防眩薄膜具備有光透過性基材與設置於光透過性基材上之表面具有凹凸之防眩性硬塗層(參照例如日本特開2011-81118號公報)。依據防眩薄膜，可利用防眩性硬塗層表面之凹凸使外光擴散反射。
防眩薄膜由於可利用防眩性硬塗層之表面凹凸使干涉條紋不可見化，故可使混合存在區域之厚度或防眩性硬塗層之厚度作成比抗反射薄膜之混合存在區域或硬塗層更薄。
現今，如抗反射薄膜之具有表面光澤感之光 學薄膜之需求增高。然而，抗反射薄膜具有如上述之製造成本高的問題。另外，防眩性薄膜由於在表面形成獲得防眩性程度之凹凸，故有白濁感，因此無法獲得表面光澤感，現狀為無法成為抗反射薄膜之代替品。
本發明係為解決上述課題而完成者。亦即，本發明之目的係提供一種可抑制干涉條紋之發生、不會觀察到白濁感，且可降低製造成本之光學薄膜、偏光板、液晶面板、及圖像顯示裝置。
依據本發明之一樣態係提供一種光學薄膜，其為具備光透過性基材、設置在前述光透過性基材上之功能層之光學薄膜，前述功能層具有成為光學薄膜之表面的凹凸面，且在對前述功能層之前述凹凸面照射自前述光學薄膜之法線方向傾斜10°之方向行進之平行光之狀態下，於包含前述法線方向及前述平行光之行進方向二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分布中，自測得最高反射光強度之1/100以上之反射光強度之角度區域寬度減去測到最高反射光強度之1/2以上之反射光強度之角度區域寬度之值，為0.7°以上1.4°以下。
依據本發明之另一樣態，係提供一種光學薄 膜，其為具備光透過性基材、設置在前述光透過性基材上之功能層之光學薄膜，前述功能層具有成為光學薄膜之表面之凹凸面，且使用0.5mm寬之光梳所測定之前述凹凸面之反射鮮明度為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之前述凹凸面之反射鮮明度為80%以上。
依據本發明之另一樣態，係提供一種偏光板，其特徵為具備上述之光學薄膜，及在前述光學薄膜之前述光透過性基材中之與形成有前述功能層之面相反側之面上形成之偏光元件。
依據本發明之另一樣態，係提供一種液晶顯示面板，其具備上述之光學薄膜或上述之偏光板。
依據本發明之另一樣態，係提供一種液晶顯示圖像顯示裝置，其具備上述之光學薄膜或上述之偏光板。
依據本發明之一樣態之光學薄膜、及其他樣態之偏光板、液晶面板、及圖像顯示裝置，由於對前述功能層之前述凹凸面照射自光學薄膜之法線方向傾斜10°之方向行進之平行光之狀態下，於包含前述法線方向及前述平行光之行進方向二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分布中，自測得最高反射光強度之1/100以上之反射光強度之角度區域寬度減去測到最高反射光強度之1/2以上之反射光強度之角度區域寬度之值，為0.7°以上1.4°以 下，故可抑制干涉條紋之產生，不會觀察到白濁感，且可降低製造成本。
依據本發明之另一樣態之光學薄膜、及其他樣態之偏光板、液晶面板、及圖像顯示裝置，使用0.5mm寬之光梳所測定之凹凸面之反射鮮明度為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為80%以上，故可抑制干涉條紋之產生，不會觀察到白濁感，且可降低製造成本。
10,50,60,100‧‧‧光學薄膜
11,51,61,101‧‧‧光透過性基材
11A,51A,61A,101A‧‧‧混合存在區域
12,52,62,102‧‧‧功能層
12A,52A,62A,102A‧‧‧凹凸面
53,103‧‧‧硬塗層
54,104‧‧‧低折射率層
20,70‧‧‧偏光板
21‧‧‧偏光元件
30,80‧‧‧液晶面板
40,90‧‧‧圖像顯示裝置
圖1為第1實施形態之光學薄膜之概略構成圖。
圖2為顯示以變角光度計測定第1實施形態之光學薄膜中之反射光強度之角度分佈之樣態之模式圖。
圖3為第1實施形態之偏光板之概略構成圖。
圖4為第1實施形態之液晶面板之概略構成圖。
圖5為第1實施形態之圖像顯示裝置之一例的液晶顯示器之概略構成圖。
圖6為第2實施形態之光學薄膜之概略構成圖。
圖7為顯示以變角光度計測定第2實施形態之光學薄膜中之反射光強度之角度分佈之樣態之模式圖。
圖8為第3實施形態之光學薄膜之概略構成圖。
圖9為顯示以反射鮮明度測定裝置測定第3實施形態之光學薄膜中之反射鮮明度之樣態之模式圖。
圖10為第3實施形態之偏光板之概略構成圖。
圖11為第3實施形態之液晶面板之概略構成圖。
圖12為第3實施形態之圖像顯示裝置之一例的液晶顯示器之概略構成圖。
圖13為第4實施形態之光學薄膜之概略構成圖。
圖14為表示實施例A1、A2、A5及比較例A1、A3、A4之光學薄膜中之反射光強度之角度分佈之圖。
圖15為顯示實施例B1~B5及比較例B1~B3之光學薄膜對於各光梳之反射鮮明度之圖。
(第1實施形態)
以下，針對本發明第1實施形態之光學薄膜，邊參照圖式加以說明。圖1為本實施形態之光學薄膜之概略構成圖，圖2為顯示以變角光度計測定本實施形態之光學薄膜中之反射光強度之角度分佈樣態之模式圖。
《光學薄膜》
如圖1所示，光學薄膜10至少具備光透過性基材11、及設置於光透過性基材11上之功能層12。光透過性基材11中之功能層12之界面附近較好如圖1所示般形成混合存在有光透過性基材11與以重量平均分子量1000以下之光聚合性單體作為單體單位之樹脂之混合存在區 11A。又，本說明書中，「薄片」、「薄膜」、「板」等用語僅為稱呼上之差別，相互間並無區別。因此，例如，「薄片」亦包含亦可稱為薄膜或板之構件之概念。舉一具體例，「光學薄膜」亦包含稱為「光學薄片」或「光學板」等構件之概念。另外，「重量平均分子量」為溶解於THF等溶劑中，以過去習知之凝膠滲透層析(GPC)法利用聚苯乙烯換算獲得之值。
〈光透過性基材〉
光透過性基材11只要具有光透過性即無特別限制，列舉為例如纖維素醯化物基材、環烯烴聚合物基材、聚碳酸酯基材、丙烯酸酯系聚合物基材、聚酯基材、或玻璃基材。
至於纖維素醯化物基材列舉為例如纖維素三乙酸酯基材、纖維素二乙酸酯基材。環烯烴聚合物基材列舉為例如由降冰片烯系單體及單環環烯烴單體等之聚合物所成之基材。
至於聚碳酸酯基材列舉為例如以雙酚類(雙酚A等)為基礎之芳香族聚碳酸酯基材、二乙二醇雙烯丙基碳酸酯等之脂肪族聚碳酸酯基材等。
丙烯酸酯系聚合物基材列舉為例如聚(甲基)丙烯酸甲酯基材、聚(甲基)丙烯酸乙酯基材、(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸丁酯共聚物基材等。
聚酯基材列舉為例如以聚對苯二甲酸乙二 酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯之至少一種作為構成成分之基材等。
玻璃基材列舉為例如鈉鈣氧化矽玻璃、硼矽酸鹽玻璃、無鹼玻璃等玻璃基材。
該等中，就遲滯性優異，且與偏光子之接著容易而言以纖維素醯化物基材較佳，進而纖維素醯化物基材中以三乙醯基纖維素基材(TAC基材)較佳。三乙醯基纖維素基材為在可見光區域380~780nm中，平均光透過率可為50%以上之光透過性基材。三乙醯基纖維素基材之平均光透過率為70%以上，更好為85%以上。
又，三乙醯基纖維素基材，除了純粹的三乙醯基纖維素以外，亦可為併用如纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯之纖維素與作為形成酯之脂肪酸的乙酸以外之成分之物。且，該等三乙醯基纖維素中亦可視需要添加二乙醯基纖維素等其他纖維素低級脂肪酸酯、或可塑劑、紫外線吸收劑、易滑劑等各種添加劑。
就遲滯性及耐熱性優異方面而言以環烯烴聚合物基材較佳，另外就機械特性及耐熱性方面而言以聚酯基材較佳。
光透過性基材11之厚度並無特別限制，可為5μm以上1000μm以下，光透過性基材11之厚度下限就處理性等觀點而言較好為15μm以上，更好為25μm以上。光透過性基材11之厚度上限就薄膜化之觀點而言較好為80μm以下。
〈混合存在區域〉
混合存在區域11A為混合存在光透過性基材1、包含重量平均分子量為1000以下之光聚合性單體作為單體單位之樹脂之區域。該光聚合性單體係與在功能層12之黏結劑樹脂中作為單體單位而包含之重量平均分子量為1000以下之光聚合性單體相同者。
混合存在區域11A之厚度較好為0.01μm以上、1μm以下。本實施形態中，可藉由功能層12之後述凹凸面12A充分抑制干涉條紋發生，故即使混合存在區域11A之厚度如此薄之情況，仍可抑制干涉條紋之發生。又，以往之以抗反射薄膜所形成之混合存在區域之厚度為3μm以上，故混合存在區域11A之厚度相較於以往之以抗反射薄膜所形成之混合存在區域可說是相當薄。且，藉由形成混合存在區域11A，可更提高光透過性基材11與功能層12之密著性。又，如上述，由於可藉由功能層12之凹凸面12A充分抑制干涉條紋之發生，故在光學薄膜10上亦可不形成此混合存在區域11A。於不形成此混合存在區域之情況，亦可抑制干涉條紋之發生，故即使例如丙烯酸基材、環烯烴聚合物基材或聚酯基材等之難以形成混合存在區域之基材仍可作為光透過性基材使用。
〈功能層〉
功能層為在光學薄膜中，意圖發揮某種功能之層，具 體而言，列舉為例如發揮硬塗層性、抗反射性、抗靜電性或防污性等功能之層。功能層不僅為單層，亦可為兩層以上層合而成者。本實施形態之功能層12為作為硬塗層發揮功能者。此處，所謂「硬塗層」為用以提高光學薄膜之耐刮傷性之層，具體而言為以JIS K5600-5-4(1999)中規定之鉛筆硬度試驗(4.9N荷重)具有「H」以上之硬度者。本實施形態之功能層12為單層，且為作為硬塗層發揮功能者，但例如功能層亦可由硬塗層與設置在硬塗層與光透過性基材之間之其他功能層構成。該情況下，光學薄膜之表面(功能層之凹凸面)成為硬塗層之表面。且，功能層亦可由表面具有凹凸之第1硬塗層，與設置於第1硬塗層上且用以調整第1硬塗層之表面凹凸之第2硬塗層所構成，另亦可為以如第2實施形態所示之由表面具有凹凸之硬塗層，與設置於硬塗層上且具有折射率比硬塗層低之低折射率的低折射率層所構成。該情況下，光學薄膜之表面(功能層之凹凸面)成為第2硬塗層或低折射率層之表面。
功能層12具有成為光學薄膜10之表面的凹凸面12A。光學薄膜10中，如圖2所示般在對功能層12之凹凸面12A照射自光學薄膜10之法線方向N傾斜10°之方向行進之平行光之狀態下，於包含法線方向N及前述平行光之行進方向T二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分佈中，自測得最高反射光強度之1/100以上之反射光強度之角度區域寬度減去測到最高反射光強度之1/2以上之反射光強度之角度區域寬度之值，為0.7°以上1.4° 以下(以下將「測到最高反射光強度之1/100以上之反射光強度之角度區域之寬度」稱為「1/100角度寬度」，將「測到最高反射光強度之1/2以上之反射光強度之角度區域之寬度」稱為「1/2角度寬度」)。所謂「光學薄膜之法線方向」係指整體且大局觀看成為對象之光學薄膜時與其平面方向一致之面之法線方向者。另外，所謂「包含法線方向及平行光行進方向二方向之平面」並不限制在嚴格涵意，而係包含誤差之解釋。所謂「1/100角度寬度」意指自測到最高反射光強度之1/100之反射光強度之一角度至測到最高反射光強度之1/100之反射光強度之另一角度之角度寬度，同樣地所謂「1/2角度寬度」意指自測到最高反射光強度之1/2之反射光強度之一角度至測到最高反射光強度之1/2之反射光強度之另一角度之角度寬度。又，1/100之反射光強度或1/2之反射光強度包含經內插(線性內插)之值之情況。
自1/100之角度寬度減去1/2角度寬度之寬度的值之下限較好為0.8°以上，更好為0.9°以上。右，自1/100之角度寬度減去1/2角度寬度之寬度的值之上限較好為1.3°以下，更好為1.2°以下。
反射光強度之角度分佈可以習知之變角光度計(goniophotometer)測定。如圖2所示，變角光度計15具備照射平行光之光源16、與檢測器17，來自光源16之平行光以自光學薄膜10之法線方向N傾斜10°之方向朝向功能層12之凹凸面12A照射，使來自凹凸面12A之反 射光在包含法線方向N及平行光之行進方向T二方向之平面內，邊連續改變檢測器17之測定角度邊以檢測器測定每0.1°之反射光強度，可獲得反射光強度之角度分佈。至於該變角光度計列舉為村上色彩技術研究所公司製造之變角光度計GP-200等。
本發明中，以自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之寬度的值規定係基於以下理由。以自光學薄膜之薄膜面之方向傾斜10°之方向朝功能層之凹凸面照射平行光，測定反射光強度之角度分佈時，不僅本發明之光學薄膜，即使以往之抗反射薄膜及以往之防眩薄膜，均有以正反射方向(0°)附近之反射光強度最高，直至自正反射方向偏離某程度之角度之反射光強度急遽下降，而於比其大的角度反射光強度緩緩下降之傾向。本發明人等積極檢討之結果，藉由實驗發現反射光強度之角度分佈顯示如上述之傾向時，1/100角度寬度之大小對於干涉條紋及白濁感尤其會造成影響。具體而言，1/100之角度寬度愈大，反射光之擴散性愈強。基於反射光之擴散性較強時，因干涉而產生之虹色經混色而到達觀察者，故不會以干涉條紋而被辨識之理由，由於可抑制干涉條紋之發生，另一方面，到達人眼之反射光之量增加，故於人眼會辨識到白濁感之虞。關於該方面，經本發明人積極檢討後，發現光學薄膜之表面，若使1/100角度寬度為適當大小之寬度，則可抑制干涉條紋之發生，且由人眼之檢知能力與正反射相等，不會辨識到產生白濁感。然而，為求得1/100角度寬度而 測定反射光強度之角度分佈時，測定對象的光學薄膜之設置角度即使僅稍(例如0.1°)偏移，由光學薄膜反射之光亦不易入射到檢測器，會使測定值(反射光強度)大幅變化。因此，僅以變角光度計測定反射光強度之角度分佈，無法穩定地進行測定。基於此，本發明人嘗試擴大檢測器之受光光圈。依據該測定方法，由於檢測器之反射光所入射之面積變大，故即使光學薄膜之設置角度多少有些偏移，測定值亦不會大幅變化，可進行穩定的測定。然而，擴大檢測器之受光光圈時，對應於受光光圈大小，所測定之角度寬度亦會變寬。因此，本發明人發現以擴大檢測器之受光光圈之狀態進行測定，且所得之反射光強度之角度分佈中自1/100角度寬度減去1/2角度寬度。依據此種測定方法，由於擴大受光光圈，故可穩定地進行測定。且，即使因擴大受光光圈而使測定之角度寬度變寬，亦可藉由自1/100角度寬度減去1/2角度寬度，而抵消因擴大受光光圈而變寬之角度寬度之增加量。且，本發明之光學薄膜、以往之抗反射膜、及以往之防眩膜中之1/2角度寬度亦無太大差異，故自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值實質上係評價1/100角度寬度。基於該等理由，本發明中，以自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值予以規定。
本發明中，自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值規定為0.7°以上1.4°以下之理由為，若1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值落在該範圍內，則基於上述理由，可抑制干涉條紋之發生，且由人眼之檢測能力不會辨 識到白濁感。
功能層12之凹凸面12A中，以沿著光學薄膜10之薄膜面法線方向N之剖面中凹凸面12A相對於薄膜面之傾斜角度設為表面角度時，表面角度成為0.05°以上之區域的比例較好為50%以上。藉由使表面角度成為0.05°以上之區域之比例成為50%以上，可更抑制干涉條紋之發生。表面角度成為0.05°以上之區域的比例下限較好為55%以上，更好為60%以上。且，表面角度成為0.05°以上之區域比例上限較好為95%以下，更好為90%以下。
表面角度係藉由測定功能層12之凹凸面12A之表面形狀而得。測定表面形狀之裝置列舉為接觸式表面粗糙度計或非接觸式表面粗糙度計(例如，干涉顯微鏡、共焦點顯微鏡、原子力顯微鏡)等。該等中，就測定之簡便性而言以干涉顯微鏡較佳。至於該種干涉顯微鏡列舉為Zygo公司製之「New View」系列等。
使用干涉顯微鏡，算出表面角度成為0.05°以上之區域的比例，係例如求得遍及凹凸面整面之各點之斜率△i，以下述式(1)將斜率△i換算成表面角度θi，由此，算出表面角度θi之絕對值成為0.05°以上之區域的比例。又，斜率△i由於為與以下述式(3)算出之局部斜率dZi/dXi相同者，故可由下述式(3)求得。
θ i=tan-1△i…(1)
又，功能層12之凹凸面12A中，粗曲線之均方根斜率R△q較好為0.003以下。藉由使粗曲線之均方根斜率R△q為0.003以下，可進一步降低白濁感，可獲得具有表面光澤感之光學薄膜。R△q之下限較好為0.0005以上，更好為0.001以上。另外，R△q之上限較好為0.0025以下，更好為0.002以下。
粗曲線之均方根斜率R△q係定義為JIS-B0601：2001中，局部斜率dZi/dXi之均方根，且以下述式(2)表示。
式中，n為全部測定點，dZi/dXi為第i號之局部斜率。測定面之各點中之局部斜率係由例如下述式(3)求得。
式中，以測定面之一方向設為X方向時，Xi為第i號之X方向之位置，Zi為第i號之高度，△X為取樣間隔。
均方根斜率R△q，與表面角度同樣，係藉由 測定凹凸面12A之表面形狀而得。測定表面形狀之裝置列舉為接觸式表面粗糙度計或非接觸式之表面粗糙度計(例如，干涉顯微鏡、共焦點顯微鏡、原子力顯微鏡)等。該等中，就測定之簡便性而言以干涉顯微鏡較佳。至於此干涉顯微鏡列舉為Zygo公司製之「New View」系列等。
功能層12之凹凸面12A中，構成凹凸面12A之凹凸的平均間隔Sm較好為0.20mm以上、0.60mm以下，更好為0.22mm以上、0.50mm以下。功能層12之凹凸面12A中，構成凹凸面12A之凹凸的平均傾斜角θa較好為0.01°以上、0.1°以下，更好為0.04°以上、0.08°以下。
功能層12之凹凸面12A中，構成凹凸面12A之凹凸的算術平均粗糙度Ra較好為0.02μm以上、0.10μm以下，更好為0.04μm以上、0.08μm以下。功能層12之凹凸面12A中，構成凹凸面12A之凹凸的最大高度粗糙度Ry較好為0.20μm以上、0.60μm以下，更好為0.25μm以上、0.40μm以下。功能層12之凹凸面12A中，構成凹凸面12A之凹凸之10點的平均粗糙度Rz較好為0.15μm以上、0.50μm以下，更好為0.18μm以上、0.30μm以下。
上述「Sm」、「Ra」、「Ry」及「Rz」之定義係依據JIS B0601-1994之定義。「θa」之定義係依據表面粗糙度測定器：SE-3400/小坂研究所(股)製之操作說明書(1995.07.20修訂)之定義。具體而言，θa係以下述式(4)表示。
θa=tan-1△a…(4)
式中，△a為以縱橫比率表示斜率者，為各凹凸之極小部分與極大部分之差(相當於各凸部之高度)之總和除以基準長度之值。
Sm、θa、Ra、Ry、Rz可使用例如表面粗糙度測定器(型號：SE-3400/小坂研究所(股)製)，以下述測定條件進行測定。
1)表面粗糙度檢測部之觸針(小坂研究所(股)製之商品名SE2555N(2μ標準))
．尖端曲率半徑2μm，頂角90度，材質鑽石
2)表面粗糙度測定器之測定條件
．基準長度(粗曲線之截斷值λc)：2.5mm
．評價長度(基準長度(截斷值λc)×5)：12.5mm
．觸針之移行速度：0.5mm/s
．預備長度(截斷值λc)×2
．縱向倍率：2000倍
．橫向倍率：10倍
如本實施形態之功能層12為硬塗層時，硬塗層之厚度較好為2.0μm以上、7.0μm以下。若硬塗層之厚度在該範圍內，則可獲得期望之硬度。且，可實現硬塗層之薄膜化，另一方面可抑制硬塗層之破裂或捲曲發生。硬塗層之厚度可利用剖面顯微鏡觀察而測定。硬塗層之厚度 下限更好為3μm以上，上限更好為5μm以下。
本發明中，以對功能層之凹凸面照射自光學薄膜之法線方向傾斜10°之方向行進之平行光之狀態，若於包含前述法線方向及前述平行光之行進方向二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分佈中，自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值，為0.7°以上1.4°以下，則光學薄膜中，可抑制干涉條紋之發生，不會觀察到白濁感，且可降低製造成本。因此，只要適當選擇滿足該要件之材料，則構成功能層之材料並無特別限制。又，將自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值成為0.7°以上1.4°以下之反射光強度之角度分佈稱為「特異反射光強度之角度分佈」。
特異反射光強度之角度分佈可藉由調整存在於功能層之凹凸面之凹凸大小而獲得。獲得特異反射光強度之角度分佈之具有凹凸面之功能層12可利用例如下述方法等形成：(1)將包含微粒子及聚合後成為黏結劑樹脂之光聚合性化合物之功能層用樹脂組成物塗佈於光透過性基材之方法，(2)將功能層用組成物塗佈於光透過性基材上，隨後將表面具有凹凸面之相反形狀之溝槽之模具模壓於功能層用組成物上之方法，或(3)將分散有表面具有對應於獲得上述特異反射光強度之角度分佈之凹凸面的凹凸形狀的圓盤狀粒子之功能層用樹脂組成物塗佈於透明基材上，將圓盤狀粒子排列於功能層表面上之方法。該等中，就容易製造而言較好為(1)之方法。
上述(1)之方法中，使光聚合性化合物聚合(交聯)，成為黏結劑樹脂時，於不存在微粒子之部分因光聚合性化合物引起硬化收縮故整體收縮。相對於此，於存在微粒子之部分中，由於微粒子並未引起硬化收縮，故僅存在於微粒子上下之光聚合性化合物引起硬化收縮。據此，微粒子存在之部分的功能層之膜厚比不存在微粒子之部分更厚，因而使功能層之表面成為凹凸形狀。因此，藉由適當選擇微粒子之種類或粒徑及光聚合性化合物之種類，且調整塗膜形成條件，可形成具有獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面12A的功能層12。
以下，針對作為硬塗層之功能層含微粒子及黏結劑樹脂之例加以說明。例如，含該微粒子及黏結劑樹脂之功能層12可藉上述(1)之方法形成。
(微粒子)
微粒子可為無機微粒子或有機微粒子之任一種，但該等中，較好為例如二氧化矽(SiO2)微粒子、氧化鋁微粒子、氧化鈦微粒子、氧化錫微粒子、摻雜銻之氧化錫(簡稱：ATO)微粒子、氧化鋅微粒子等之無機氧化物微粒子。無機氧化物微粒子在功能層中可形成凝聚體，可依據該凝聚體之凝聚程度形成獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面12A。
有機微粒子可列舉例如塑膠粒。塑膠粒之具體例為聚苯乙烯粒、三聚氰胺樹脂粒、丙烯酸粒、丙烯 酸-苯乙烯粒、聚矽氧粒、苯并胍胺(benzoguanamine)粒、苯并胍胺．甲醛縮合粒、聚碳酸酯粒、聚乙烯粒等。
有機微粒子在上述硬化收縮中，較好適度調整微粒子所具有之對硬化收縮之抵抗力。調整對於該收縮之抵抗力較好事先改變三次元交聯程度而作成，作成複數種含有硬度不同之有機微粒子之光學薄膜，且藉由評價光學薄膜之凹凸面之反射光強度之角度分佈，而選定適於成為獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面之交聯程度。
使用無機氧化物粒子作為微粒子時，無機氧化物粒子較好施以表面處理。藉由對無機氧化物微粒子施以表面處理，可較好地控制微粒子在功能層12中之分佈，且可實現微粒子本身之耐藥品性及耐鹼化性之提高。
至於表面處理較好為使微粒子表面成為疏水性之疏水化處理。此疏水化處理可藉由使微粒子表面與矽烷類或矽氮烷類等表面處理劑進行化學反應而得。具體之表面處理劑列舉為例如二甲基二氯矽烷或聚矽氧油、六甲基二矽氮烷、辛基矽烷、十六烷基矽烷、胺基矽烷、甲基丙烯醯基矽烷、八甲基環四矽氧烷、聚二甲基矽氧烷等。微粒子為無機氧化物微粒子時，無機氧化物微粒子之表面雖存在羥基，但藉由施以如上述之疏水化處理，使存在於無機氧化物微粒子表面之羥基變少，可使無機氧化物微粒子之藉BET法測定之比表面積變小，同時可抑制無機氧化物微粒子過度凝聚，可形成具有獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面之功能層。
使用無機氧化物粒子作為微粒子時，無機氧化物微粒子較好為非晶質。其原因為在無機氧化物粒子為結晶性時，由於其結晶構造中所含之晶格缺陷，使無機氧化物微粒子之路易斯酸鹼變強，而有無法控制無機氧化物微粒子之過度凝聚之虞。
使用無機氧化物粒子作為微粒子時，無機氧化物微粒子在功能層12中較好形成凝聚體。該無機氧化物微粒子之凝聚體在功能層12中較好具有無機氧化物微粒子不為塊狀而係三次元連結之構造。無機氧化物微粒子不為塊狀而以三次元連結之構造列舉為例如籠狀或捲曲狀(coiled)。亦即，具有無機氧化物微粒子不為塊狀而以三次元連結之構造之凝聚體在硬化後成為黏結劑樹脂之光聚合性化合物之硬化收縮時，容易且保持均一性地崩潰。藉此，可使凹凸面成為非常平滑之面，因此結果不成為具有陡峭斜面之凹凸面，可形成具有獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面之功能層。又，使用如上述之有機樹脂時，只要適度調整交聯度，亦可形成具有獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面之功能層。
對於功能層12之微粒子含量並無特別限制，但較好為0.1質量%以上、5.0質量%以下。由於微粒子含量為0.1質量%以上，故可更確實地形成獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面，且由於微粒子含量為5.0質量%以下，故不會過度生成凝聚體，可抑制內部擴散及/或功能層之表面生成大的凹凸，藉此可抑制白濁感。微粒子含 量之下限更好為0.5質量%以上，微粒子含量之上限更好為3.0質量%以下。
微粒子於單粒子狀態之形狀較好為球狀。藉由使微粒子之單粒子為如此球狀，將光學薄膜配置於圖像顯示裝置之圖像顯示面時，可獲得對比性優異之圖像。此處所謂「球狀」意指包含例如真球狀、橢圓球狀等，但不含所謂的無定形者。
使用無機氧化物微粒子作為微粒子時，無機氧化物微粒子之平均一次粒徑較好為1nm以上、100nm以下。由於微粒子之平均一次粒徑為1nm以上，故可更容易形成具有獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面之功能層，且由於平均粒徑為100nm以下，故可抑制因微粒子造成之光擴散，可獲得優異之暗室對比性。微粒子之平均一次粒徑之下限更好為5nm以上，微粒子之平均一次粒徑之上限更好為50nm以下。又，微粒子之平均一次粒徑為由剖面電子顯微鏡(較好以TEM、STEM等透過型，倍率為5萬倍以上者)之圖像，使用圖像處理軟體測定之值。
使用有機微粒子作為微粒子時，藉由改變折射率不同之樹脂之共聚合比率而減小有機微粒子與黏結劑樹脂之折射率差，例如，可容易地成為未達0.01，故可抑制因微粒子造成之光的擴散。因此，平均一次粒徑只要未達8.0μm，較好5.0μm以下即可。
使用無機氧化物微粒子作為微粒子時，無機 氧化物微粒子之凝聚體之平均粒徑較好為100nm以上、2.0μm以下。若為100nm以上，則可容易地形成獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面，且若為2.0μm以下，則可抑制因微粒子之凝聚體造成之光的擴散，可獲得暗室對比性優異之光學薄膜之圖像顯示裝置。微粒子之凝聚體之平均粒徑下限較好為200nm以上，上限較好為1.5μm以下。
無機氧化物微粒子之凝聚體之平均粒徑係由利用剖面電子顯微鏡觀察(1萬~2萬倍左右)選擇含較多無機氧化物微粒子之凝聚體的5μm見方之區域，測定該區域中之無機氧化物微粒子之凝聚體粒徑，且取最大10個無機氧化物微粒子之凝聚體粒徑加以平均者。又，上述「無機氧化物微粒子之凝聚體粒徑」係以任意平行之兩條直線夾住無機氧化物微粒子之凝聚體之剖面時，以使該兩條直線間之距離成為最大之時之兩條直線組合之直線間距離而測定。又，無機氧化物微粒子之凝聚體粒徑亦可使用圖像解析軟體算出。
使用二氧化矽粒子作為微粒子時，二氧化矽粒子中，就可容易地形成具有獲得特異反射光強度之角度分佈之凹凸面之功能層之觀點而言，以發煙二氧化矽微粒子較佳。發煙二氧化矽微粒子為以乾式法製作之具有200nm以下之粒徑之非晶質二氧化矽，可藉由使含矽之揮發性化合物以氣相進行反應而得。具體而言，列舉為例如使四氯化矽(SiCl4)等之矽化合物在氧與氫之火焰中水解而 生成者等。發煙二氧化矽微粒子之市售品列舉為日本AEROSIL股份有限公司製之AEROSIL R805等。
發煙二氧化矽微粒子有顯示親水性者與顯示疏水性者，但該等中，就減少水分吸收量，容易分散於功能層用組成物中之觀點而言，以顯示疏水性者較佳。疏水性之發煙二氧化矽可藉由使發煙二氧化矽微粒子表面存在之矽烷醇基與如上述之表面處理劑進行化學反應而得。就可容易地獲得如上述之凝聚體之觀點而言，發煙二氧化矽最好經辛基矽烷處理。
發煙二氧化矽微粒子雖係形成凝聚體，但發煙二氧化矽微粒子之凝聚體在功能層用組成物中並非稠密之凝聚體，而是形成籠狀或捲曲狀之極稀疏之凝聚體。因此，發煙二氧化矽微粒子之凝聚體在硬化後成為黏結劑樹脂之光聚合性化合物硬化收縮時，容易且保持均一性的崩潰。藉此，可形成具有獲得特殊反射光強度之角度分佈之凹凸面之功能層。
(黏結劑樹脂)
黏結劑樹脂為藉由光照射使光聚合性化合物聚合(交聯)而得者。光聚合性化合物為具有至少一個光聚合性官能基者。本說明書中所謂「光聚合性官能基」為可藉光照射而聚合反應之官能基。光聚合性官能基列舉為例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性雙鍵。又，所謂「(甲基)丙烯醯基」意指包含「丙烯醯基」及「甲基丙烯 醯基」二者。又，使光聚合性化合物聚合時照射之光列舉為可見光、以及紫外線、X射線、電子束、α射線、β射線、及γ射線之電離輻射線。
至於光聚合性化合物列舉為光聚合性單體、光聚合性寡聚物或光聚合性聚合物，可適當調整該等而使用。光聚合性化合物較好為光聚合性單體與光聚合性寡聚物或光聚合性聚合物之組合。又，形成混合存在區域11A時，至少包含光聚合性單體作為光聚合性化合物。
[光聚合性單體]
光聚合性單體為重量平均分子量1000以下者。藉由使光聚合性單體之重量平均分子量為1000以下，可與浸透於光透過性基材11之溶劑一起使光聚合性單體浸透於光透性基材11。藉此，在光透過性基材11中之功能層12之界面附近，緩和了光透過性基材11與功能層12之折射率，故可形成混合存在有光透過性基材11與包含該光聚合性單體作為單體單位之樹脂之混合存在區域11A。又，該光聚合性單體不僅可僅使用一種，亦可使用複數種。
至於光聚合性單體較好為具有兩個(亦即2官能)以上之光聚合性官能基之多官能單體。
2官能以上之單體列舉為例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季 戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸三(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、雙酚二(甲基)丙烯酸酯、二丙三醇四(甲基)丙烯酸酯、金剛烷基二(甲基)丙烯酸酯、異冰片基二(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、或使該等經PO、EO等改質者。
該等中就獲得硬度高的功能層之觀點而言，較好為季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)等。
[光聚合性寡聚物]
光聚合性寡聚物係重量平均分子量超過1000且10000以下者。
光聚合性寡聚物較好為3個(3官能)以上之光聚合性官能基之多官能性寡聚物。光聚合物寡聚物較好為2官能以上之多官能寡聚物。至於多官能寡聚物列舉為聚酯(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基) 丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧基(甲基)丙烯酸酯等。
[光聚合性聚合物]
光聚合性聚合物係重量平均分子量超過10000者，至於重量平均分子量較好為10000以上80000以下，更好為10000以上40000以下。量平均分子量超過80000時，由於黏度高使塗佈適性降低，會有所得光學層合體之外觀變差之虞。上述多官能聚合物列舉為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧基(甲基)丙烯酸酯等。
(其他成分)
功能層12中，除此之外，亦可視需要添加溶劑乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂，僅使為了調整塗佈時之固體成分而添加之溶劑乾燥，及可成為被膜之樹脂)、熱硬化性樹脂。
添加溶劑乾燥型樹脂之情況，於形成功能層12時，可有效防止塗液之塗佈面之被膜缺陷。溶劑乾燥型樹脂並無特別限制，可使用一般之熱可塑性樹脂。至於熱可塑性樹脂可列舉為例如苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素之樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、聚矽氧系樹脂及橡膠或彈 性體等。
熱可塑性樹脂較好為非結晶性，且可溶於有機溶劑(尤其是可溶解複數種聚合物或硬化性化合物之共通溶劑)。尤其，就透明性或耐候性之觀點而言，以苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等較佳。
添加於功能層12之熱硬化性樹脂並無特別限制，可列舉為例如酚樹脂、脲樹脂、苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽合聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮合樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
《光學薄膜之製造方法》
更詳細說明如上述之光學薄膜10之製造方法。又，以下說明係藉由上述(1)之方法形成功能層12者。
首先，於光透過性基材11之表面塗佈功能層用組成物。塗佈功能層用組成物之方法列舉為旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、滑動塗佈法、棒塗佈法、輥塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法等習知塗佈方法。
〈功能層用組成物〉
功能層用組成物為至少包含微粒子、光聚合性化合物者。另外，亦可視需要於功能層用組成物中添加上述熱可塑性樹脂、上述熱硬化性樹脂、溶劑、聚合起始劑。而 且，功能層用組成物中，基於提高功能層之硬度、抑制硬化收縮、控制折射率等之目的，可添加過去習知之分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、抗著色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、平流劑、難燃劑、紫外線吸收劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑、易滑劑等。
(溶劑)
溶劑可例示為例如醇類(例如，甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄基醇、PGME、乙二醇)、酮類(丙酮、甲基乙基酮(MEK)、環己酮、甲基異丁基酮、二丙酮醇、環庚酮、二乙基酮等)、醚類(1,4-二噁烷、二氧雜環戊烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環式烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化烴類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、醚類(甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等)、溶纖素類(甲基溶纖素、乙基溶纖素、丁基溶纖素等)、溶纖素乙酸酯類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等，亦可為該等之混合物。
如圖1所示，在光透過性基材11之與功能層12之界面附近形成混合存在區域11A時，係使用包含對光透過性基材11之浸透性高，使光透過性基材11溶解或膨潤之浸透性溶劑作為溶劑者，同時使用至少包含重量平 均分子量為1000以下之光聚合性單體者作為光聚合性化合物者。藉由使用浸透性溶劑及光聚合性單體，由於不僅對於光透過性基材11為浸透性溶劑，且亦可浸透光聚合性單體，故可在光透過性基材11之與功能層12之界面附近形成混合存在有光透過性基材11與包含光聚合性單體作為單體單位之樹脂的混合存在區域11A。
浸透性溶劑列舉為例如酮類(丙酮、甲基乙基酮(MEK)、環己酮、甲基異丁基酮、二丙酮醇、環庚酮、二乙基酮等)、酯類(甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等)、醚類(1,4-二噁烷、二氧雜環戊烷、二異丙基醚二噁烷、四氫呋喃等)、溶纖素類(甲基溶纖素、乙基溶纖素、丁基溶纖素等)、溶纖素乙酸酯類、亞碸類(二甲基亞碸等)、酚類(酚、鄰氯酚)等。另外，亦可為該等之混合物。使用三乙醯纖維素基材作為光透過性基材時，該等中，浸透性溶劑較好為由例如甲基異丁基酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯所組成群組選出之至少一種，且使用聚酯基材作為光透過性基材時，較好為鄰氯酚。
(聚合起始劑)
聚合起始劑為藉由光照射而分解，產生自由基而開始或進行光聚合性化合物之聚合(交聯)的成分。
聚合起始劑只要是可藉由光照射釋出開始自由基聚合之物質即無特別限制。聚合起始劑並無特別限 制，可使用習知者，具體例列舉為例如苯乙酮類、二苯甲酮類、米氏苯甲醯基苯甲酸酯(Michler-Benzoyl benzoate)、α-戊基肟酯、噻噸酮類、苯丙酮類、聯苯醯類、苯偶因類、醯基氧化膦類。且，較好混合使用光增感劑，其具體例列舉為例如正丁基胺、三乙胺、聚正丁基膦等。
上述聚合起始劑在上述黏結劑樹脂具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系時，較好單獨或混合使用苯乙酮類、二苯甲酮類、噻噸酮類、苯偶因、苯偶因甲基醚等。
功能層用組成物中之聚合起始劑之含量相對於光聚合性化合物100質量份較好為0.5質量份以上10.0質量份以下。藉由使聚合起始劑之含量在該範圍內，可充分保有硬塗層之性能，且可抑制硬化阻礙。
功能層用組成物中之原料的含有比例(固體成分)並無特別限制，但通常較好為5質量%以上70質量%以下，更好為25質量%以上60質量%以下。
(平流劑)
作為平流劑例如聚矽氧油、氟系界面活性劑等由於可避免功能層成為貝納漩渦(Benard Cells)構造故較佳。塗佈含溶劑之樹脂組成物並乾燥時，會在塗膜內之塗膜表面與內面產生表面張力差等，藉此在塗膜內引起多數對流。因該對流產生之構造稱為貝納漩渦，而成為於形成之功能層 中產生柚皮或塗佈缺陷之問題的原因。
貝納漩渦構造會有使功能層表面凹凸過於變大之虞。使用如前述之平流劑時，由於可防止該對流，故不僅可獲得沒有缺陷或不均之功能層，也可使功能層表面之凹凸形狀的調整變得容易。
功能層用組成物之調製方法只要可均勻混合各成分即無特別限制，可使用例如塗料搖晃機、珠粒研磨機、捏合機、混練機等習知之裝置進行。
將功能層用組成物塗佈於光透過性基材11之表面後，為使塗膜狀之功能層用組成物乾燥而送到經加熱區中，以各種習知方法使功能層用組成物乾燥使溶劑蒸發。此處，可藉由選定溶劑相對蒸發速度、固體成分濃度、塗佈液溫度、乾燥溫度、乾燥風之風速、乾燥時間、乾燥區之溶劑環境濃度等，而調整微粒子之凝聚體之分佈狀態。
尤其，依據選擇乾燥條件而調整微粒子之凝聚體分佈狀態之方法較簡便而較佳。具體之乾燥溫度較好為30~120℃，乾燥風速較好為0.2~50m/s，藉由在該範圍內進行一次或複數次，可將微粒子之凝聚體之分佈狀態調整成期望之狀態。
又，使功能層用組成物乾燥時，浸透於光透過性基材之浸透性溶劑蒸發，而光聚合性化合物殘留在光透過性基材中。
隨後，對塗膜狀之功能層用組成物照射紫外 線等之光，使光聚合性化合物聚合(交聯)而使功能層用組成物硬化，形成功能層12，同時形成混合存在區域11A。
使用紫外線作為使功能層用組成物硬化時之光時，可利用由超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、氙弧燈、金屬鹵素燈等發出之紫外線等。且，紫外線之波長可使用190~380nm之波長區域。電子束源之具體例列舉為科克羅夫-瓦爾頓(Cockcroft-Walton)型、凡得克雷夫(van de Graaff)型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、或直線型、高頻高壓加速(Dynamitron)型、高頻型等之各種電子束加速器。
《光學薄膜之物性》
光學薄膜10之全光線透過率較好為85%以上。全光線透過率為85%以上時，將光學薄膜10安裝於圖像顯示裝置之表面上時，可更提高色再現性與辨識性。全光線透過率較好為90%以上。全光線透過率可使用濁度計(村上色彩技術研究所製，製品編號；HM-150)，依據JIS K-7361之方法測定。
光學薄膜10之濁度較好未達1%。濁度未達1%時，可獲得期望之光學特性，且更提高將光學薄膜10設置於圖像顯示表面上時之辨識性。濁度更好為0.5%以下，又更好為0.3%以下。濁度可使用濁度計(村上色彩技術研究所製，製品編號；HM-150)，依據JIS K-7136之方法測定。
光學薄膜10之透過圖像鮮明度於0.125mm梳中較好為75%以上95%以下，且於2.0mm梳中較好為95%以上。於0.125mm梳中之透過圖像鮮明度為75%以上時，可更提高顯示圖像時之圖像鮮明性，可獲得更優異之畫質。且，為95%以下時，可更佳地防止干涉條紋。於0.125mm梳中之透過圖像鮮明度更好為80%以上90%以下。又，於2.0mm梳中之透過圖像鮮明度為95%以上時，可更提高圖像之鮮明性，且，可抑制因外光之擴散反射造成之白濁感。透過圖像鮮明度可使用影像鮮明性(image clarity)測定器(SUGA試驗機製，製品標號；ICM-1T)，依據JIS K-7105之像鮮明度之透過法之方法測定。
光學薄膜10之對比性比，較好為80%以上，更好為90%以上。若為80%以上，則將光學薄膜10安裝於圖像顯示裝置表面時，可更提高暗室對比性之優異辨識性。
本說明書中，上述對比性比為依據以下方法測定之值。首先，使用將擴散板設置於冷陰極管光源上者作為背光板單元，且使用兩片偏光板(SAMSUNG公司製造，AMN-3244TP)，以將該等偏光板設置於平行偏光鏡(Parallel nicols)上時通過之光的亮度Lmax除以設置於正交偏光鏡時通過之光的亮度Lmin之值(Lmax/Lmin)作為對比性，以光學薄膜(光透過性基材+功能層等)之對比性(L1)除以光透過性基材對比性(L2)之值(L2/L1)×100(%)作為對比性比。又，亮度之測定係在暗室下進行。上述亮度之測定 係使用色彩亮度計(TOPCON公司製BM-5A)，於色彩亮度計之測定角設定為1°，以樣品上之視野 5mm進行測定。且，設置為背光板之光量在未設置樣品之狀態下，將兩片偏光板設置於平行偏光鏡上時之亮度成為3600cd/m2。
依據本實施形態，對功能層12之凹凸面12A照射自光學薄膜10之法線方向傾斜10°之方向行進之平行光之狀態下，於包含法線方向N及平行光之行進方向T二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分佈中，自測到最高反射光強度之1/100以上之反射光強度之角度區域寬度減去測到最高反射光強度之1/2以上之反射光強度之角度區域寬度之值，為0.7°以上1.4°以下，故基於上述理由，可抑制干涉條紋之發生，且不觀察到白濁感。另外，由於可藉由功能層12之凹凸面12A抑制干涉條紋之發生，故可使混合存在區域之厚度變薄。據此，可使功能層之厚度變薄，且可實現製造成本之降低。
過去之抗反射薄膜被視為正反射、正透過以外之光使畫質劣化者，在抗反射薄膜中存在擴散光使本身被否定。例如，作為有必要添加用以提高硬塗層性之微粒子時，亦可僅以防止因前述微粒子凝聚成為大粒徑而產生擴散光為主要目標而選定材料及製造條件等。亦即，抗反射膜中，必要條件為防止產生擴散光，且成為用以獲得無混濁之鮮明圖像之平坦面，終究未考慮到產生擴散光。另一方面，關於以往之防眩薄膜，由於防止外部映像映入係 防眩薄膜作用本身者，故必要條件為使映入觀察者中之外部映像確實地擴散。因此，防眩薄膜中，不到由本發明規定之自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值，有必要為比其更大之值。因此，藉由使自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值成為0.7°以上1.4°以下所發揮之上述效果，可謂係超過依據以往之抗反射薄膜或防眩薄膜之技術水準可預測範圍之顯著效果。
《偏光板》
光學薄膜10例如可組裝於偏光板中使用。圖3為組裝本實施形態之光學薄膜的偏光板概略構成圖。如圖3所示之偏光板20具備有光學薄膜10、偏光元件21及保護膜22。偏光元件21係形成在光透過性基材11之與形成有功能層12之面相反側之面上。保護膜22係設置在偏光元件21之設置有光學薄膜10之面相反側之面上。保護膜22亦可為相位差薄膜。
至於偏光元件21列舉為例如以碘等染色、經延伸之聚乙烯醇薄膜、聚乙烯甲縮醛薄膜、聚乙烯乙縮醛薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化薄膜等。層合光學薄膜10與偏光元件21時，較好預先對光透過性基材11施以鹼化處理。藉由施以鹼化處理亦可獲得接著性良好之抗靜電效果。
《液晶面板》
光學薄膜10及偏光板20可組裝於液晶面板中使用。圖4為組裝本實施形態之光學薄膜的液晶面板之概略構成圖。
圖4所示之液晶面板具有自光源側(背光板單元側)朝向觀察者側依序層合三乙醯基纖維素薄膜(TAC薄膜)等之保護薄膜31、偏光元件32、相位差薄膜33、接著劑層34、液晶單元(liquid crystal cell)35、接著劑層36、相位差薄膜37、偏光元件21、光學薄膜10之構造。液晶單元35為在兩片玻璃基材間配置液晶層、配向膜、電極層、彩色濾光片等者。
至於相位差薄膜33、37列舉為三乙醯基纖維素膜或環烯烴聚合物膜。相位差薄膜37亦可與保護膜22為同一者。構成接著劑層34、36之接著劑列舉為感壓接著劑(PSA)。
《圖像顯示裝置》
光學薄膜10、偏光板20、液晶面板30可組裝於圖像顯示裝置中使用。圖像顯示裝置列舉為例如液晶顯示器(LCD)、陰極射線管顯示裝置(CRT)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、觸控面板、平板PC、電子紙等。圖5為組裝本實施形態之光學薄膜的圖像顯示裝置之一例的液晶顯示器概略構成圖。
圖5所示之圖像顯示裝置40為液晶顯示器。圖像顯示裝置40係由背光單元41與比背光單元41更靠 近觀察者側配置之具備光學薄膜10之液晶面板30所構成。至於背光單元41可使用習知之背光單元。
(第2實施形態)
以下，針對本發明第2實施形態之光學薄膜，邊參照圖式加以說明。圖6為本實施形態之光學薄膜之概略構成圖，圖7為顯示以變角光度計測定本實施形態之光學薄膜中之反射光強度之角度分佈之樣態之模式圖。
《光學薄膜》
如圖6所示，光學薄膜50至少具備光透過性基材51、與設置於光透過性基材51上之功能層52。光透過性基材51由於與第1實施形態中說明之光透過性基材11相同，故在本實施形態中省略說明。又，光透過性基材51中之功能層52之界面附近(與後述之硬塗層53之界面附近)較好形成如圖6所示之混合存在有光透過性基材52與硬塗層53之黏結劑樹脂成分的混合存在區域51A。
(功能層)
本實施形態中，功能層52係由硬塗層53與設置於硬塗層53上之低折射率層54構成。功能層52具有成為光學薄膜50表面之凹凸面52A，該功能層52之凹凸面52A成為低折射率層54之表面。
與光學薄膜10同樣，光學薄膜50中亦如圖7 所示，對功能層52之前述凹凸面52A(低折射率層54之表面)照射自光學薄膜50之法線方向N傾斜10°之方向行進之平行光之狀態下，於包含法線方向N及平行光之行進方向T二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分布中，自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值，為0.7°以上1.4°以下。又，如圖7所示，反射光強度之角度分佈可以第1實施形態中說明之變角光度計15測定。
自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之寬度之值的下限較好為0.8°以上，更好為0.9°以上。且，自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之寬度之值的上限較好為1.3°以下，更好為1.4°以下。
另外，功能層52之凹凸面52A中，較好成為與功能層12之凹凸面12A同樣之表面角度成為0.05°以上之區域之比率、R△q、Sm、θa、Ra、Ry、Rz。
硬塗層53由於與第1實施形態中說明之功能層12同樣者，故本施形態省略說明。但，硬塗層53之表面，與功能層12不同，即使自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之寬度之值不為0.7°以上1.4°以下亦可。
(低折射率層)
低折射率層54係於來自外部之光(例如螢光燈、自然光等)自光學薄膜50之表面反射時，用以降低其反射率者。低折射率層54具有比硬塗層53低之折射率。具體而言，例如低折射率層較好具有1.45以下之折射率，更好 具有1.42以下之折射率。
低折射率層54之厚度並無限制，但通常只要自30nm~1μm左右之範圍內適當設定即可。低折射率層54之厚度dA(nm)較好為滿足下述式(5)者。
dA=mλ/(4nA)…(5)
上述式中，nA表示低折射率層之折射率，m表示正奇數，較好為1，λ為波長，較好為480nm以上580nm以下之範圍的值。
低折射率層54就低反射率化之觀點而言，較好為滿足下述式(6)者。
120<nAdA<145…(6)
低折射率層為單層雖可獲得效果，但以調整更低之最低反射率或更高之最低反射率為目的，亦可適當設置2層以上之低折射率層。設置2層以上之低折射率層時，較好對各低折射率層之折射率及厚度設定差異。
至於低折射率層54，可較好由下述之任一者構成：1)含有二氧化矽、氟化鎂等低折射率粒子之樹脂、2)低折射率樹脂的氟系樹脂、3)含有二氧化矽或氟化鎂之氟系樹脂、4)二氧化矽、氟化鎂等低折射率物質之薄膜 等。關於氟系樹脂以外之樹脂，可使用與構成上述功能層之黏結劑樹脂相同之樹脂。
又，二氧化矽較好為中空二氧化矽微粒子，該中空二氧化矽微粒子可以例如特開2005-099778號公報之實施例所記載之製造方法製作。
氟系樹脂可使用至少分子中含氟原子之聚合性化合物或其聚合物。至於聚合性化合物並無特別限制，但較好為例如具有光聚合性官能基、熱硬化之極性基等之硬化反應性之基者。且，亦可為同時一併具有該等反應性之基的化合物。對於該聚合性化合物，所謂聚合物為全然不具有如上述之反應性基等者。
光聚合性化合物可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體。更具體而言可例示為氟烯烴類(例如氟乙烯、偏氟化乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-二氧雜環戊烯等)。至於具有(甲基)丙烯醯氧基者亦有如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯之分子中具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物；亦可為分子中具有至少3個氟原子之碳數1~14之氟烷基、氟環烷基或氟伸烷基，與具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基之含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
至於上述熱硬化之極性基較好為例如羥基、羧基、胺基、環氧基等之氫鍵形成基。該等不僅與塗膜之密著性優異，與二氧化矽等無機超微粒子之親和性亦優異。具有熱硬化性極性基之聚合性化合物列舉為例如4-氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物；氟乙烯-烴系乙烯基醚共聚物；環氧基、聚胺基甲酸酯、纖維素、酚、聚醯亞胺等各樹脂之氟改質品等。
一併具有上述光聚合性官能基與熱硬化之極性基的聚合性化合物可例示為丙烯酸或甲基丙烯酸之部分及完全氟化烷酯、烯酯、芳酯類，完全或部分氟化乙烯基醚類、完全或部分氟化乙烯酯類、完全或部分氟化乙烯酮類等。
氟系樹脂可列舉為例如下者。至少含有1種具有上述電離輻射線硬化性基之聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物之單體或單體混合物之聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物之至少一種，與如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之分子中不含氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物之共聚物；如氟乙烯、偏氟化乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯之含氟單體之均聚物或共聚物等。亦可使用於該等共聚物中含有聚矽氧成分之含有聚矽氧之偏氟化乙烯共聚物。該情況之聚矽氧成分例示為(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧 烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、烷基改質之(聚)二甲基矽氧烷、含有偶氮基之(聚)二甲基矽氧烷、二甲基聚矽氧、苯基甲基聚矽氧、烷基．芳烷基改質之聚矽氧、氟聚矽氧、聚醚改質之聚矽氧、脂肪酸酯改質之聚矽氧、甲基氫聚矽氧、含矽烷醇基之聚矽氧、含有烷氧基之聚矽氧、含有酚基之聚矽氧、甲基丙烯酸改質之聚矽氧、丙烯酸改質之聚矽氧、胺基改質之聚矽氧、羧酸改質之聚矽氧、卡必醇改質之聚矽氧、環氧改質之聚矽氧、巰基改質之聚矽氧、氟改質之聚矽氧、聚醚改質之聚矽氧等。該等中，以具有二甲基矽氧烷構造者較佳。
進而，由如以下之化合物所成之非聚合物或聚合物亦可使用作為氟系樹脂。亦即，可使用使分子中具有至少一個異氰酸酯基之含氟化合物、與分子中具有至少一個如胺基、羥基、羧基之與異氰酸酯基反應之官能基之化合物反應所得之化合物；使如含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟ε-己內酯改質多元醇之含氟多元醇，與具有異氰酸酯基之化合物反應而得之化合物等。
又，亦可與上述之具有氟原子之聚合性化合物或聚合物同時混合上述功能層12所記載之各黏結劑樹脂而使用。另外，可適當使用用以使反應性基等硬化之硬化劑、用以提高塗佈性、賦予防污性之各種添加劑、溶劑。
低折射率層54之形成中，添加上述材料而成 之低折射率層用組成物之黏度較好為可獲得較佳塗佈性之0.5~5mPa．s(25℃)，較好0.7~3mPa．s(25℃)之範圍者。可實現可見光之優異抗反射層，且可形成均一無塗佈不均之薄膜，且可形成密著性特別優異之低折射率層。
低折射率層用組成物之硬化手段可與上述功能層12中說明者相同。用於硬化處理中使用加熱手段時，較好將藉加熱產生例如自由基而起始聚合性化合物之聚合的熱聚合性起始劑添加於氟系樹脂組成物中。
依據本實施形態，對功能層52之凹凸面52A照射自光學薄膜50之法線方向N傾斜10°之方向行進之平行光之狀態下，於包含法線方向N及平行光之行進方向二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分佈中，自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之寬度的值，為0.7°以上1.4°以下，因此如第1實施形態中所說明，可抑制干涉條紋之發生，不會觀察到白濁感，且可降低製造成本。
(第3實施形態)
以下，針對本發明第3實施形態之光學薄膜，邊參照圖式加以說明。圖8為本實施形態之光學薄膜之概略構成圖，圖9為顯示以反射鮮明度測定裝置測定本實施形態之光學薄膜之反射鮮明度之樣態之模式圖。
《光學薄膜》
如圖8所示，光學薄膜60至少具備光透過性基材 61、與設置於光透過性基材61上之功能層62。光透過性基材61中之功能層62之界面附近較好形成如圖8所示之混合存在有光透過性基材61、含重量平均分子量為1000以下之光聚合性單體作為單體單位之樹脂的混合存在區域61A。
〈光透過性基材、混合存在區域〉
光透過性基材61及混合存在區域61A由於與第1實施形態中說明之光透過性基材11及混合存在區域11A相同，故省略說明。
〈功能層〉
功能層為在光學薄膜中，意圖發揮某種功能之層，具體而言，列舉為例如發揮硬塗層性、抗反射性、抗靜電性、或防污性等功能之層。功能層不僅為單層，亦可為兩層以上層合而成者。本實施形態之功能層62為作為硬塗層發揮功能者。本實施形態之功能層62為單層，且為作為硬塗層發揮功能者，但例如功能層亦可由硬塗層與設置在硬塗層與光透過性基材之間之其他功能層構成。該情況下，光學薄膜之表面(功能層之凹凸面)成為硬塗層之表面。且，功能層亦可由表面具有凹凸之第1硬塗層，與設置於第1硬塗層上且用以調整第1硬塗層之表面凹凸之第2硬塗層所構成，另亦可為以第2實施形態所示之由表面具有凹凸之硬塗層，與設置於硬塗層上且具有折射率比硬 塗層低之低折射率的低折射率層所構成。該情況下，光學薄膜之表面(功能層之凹凸面)成為第2硬塗層或低折射率層之表面。
功能層62具有成為光學薄膜60之表面的凹凸面62A。光學薄膜60中，使用0.5mm寬之光梳所測定之凹凸面62A之反射鮮明度為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面62A之反射鮮明度為80%以上。
使用0.5mm寬之光梳測定之反射鮮明度之上限較好為80%以下，更好為70%以下。另外，使用0.5mm寬之光梳測定之反射鮮明度之下限較好為10%以上，更好為20%以上。
使用2.0mm寬之光梳測定之反射鮮明度之下限較好為85%以上，更好為90%以上。另外，使用2.0mm寬之光梳測定之反射鮮明度之上限定義上為100%。
反射鮮明度可依據JIS K7105之像鮮明度之反射法，以反射鮮明度測定裝置測定。該測定裝置列舉為SUGA試驗機公司製造之影像鮮明性測定器ICM-1T等。
反射鮮明度測定裝置63係如圖9所示，具備光源64、狹縫65、透鏡66、透鏡67、光梳68及受光器69。反射鮮明度測定裝置63係以透鏡66使自光源64發出且通過狹縫65之光變成平行光，且使該平行光照射於光學薄膜60之凹凸面62A上，以透鏡67使在光學薄膜60之凹凸面62A處反射之平行光聚光，且以受光器69接收通過光梳68之光，基於於該受光器69受光之光量，由 下述式(7)算出反射鮮明度C。
C(%)={(M-m)/(M+m)}×100…(7)
式(7)中，M為最高波高，m為最低波高。
光梳68具有可沿著光梳68之縱向方向移動之暗部及亮部。光梳68之暗部及亮部之寬度比為1：1。此處，JIS K7105中，光梳決定為寬度為0.125mm、0.5mm、1.0mm、2.0mm之4種光梳，但基於後述之理由，本發明中使用寬度為0.5mm之光梳與寬度為2.0mm之光梳。光學薄膜60係以使利用透鏡66而成為平行光之光以入射角45°入射到光學薄膜60之方式配置。
本發明中，使用0.5mm寬之光梳及2.0mm寬之光梳測定反射鮮明度係基於以下之理由。光學薄膜之表面為凹凸面時，反射光之擴散性相較於平坦面較強。亦即，擴散反射光成分增加。存在某程度以上之擴散反射光時，因干涉產生之虹色進行混色而到達觀察者，故不會以干涉條紋被辨識，可抑制干涉條紋之發生。然而，存在某程度以上之以正反射為基準擴散角度過大之擴散反射光成分時，到達人眼之反射光量增加，故會有人眼辨識到白濁感之虞。關於此點，本發明人經積極檢討後，發現光學薄膜之表面若某程度存在具有適度擴散角之擴散反射光成分，則可抑制干涉條紋之發生，且由人眼之檢測能力，與正反射同樣，不會辨識到白濁感。另外，本發明人發現藉 由使用0.5mm寬之光梳與2.0mm寬之光梳之2種類光梳測定各反射鮮明度，並加以評價，可評價是否某程度存在具有適度擴散角度之擴散反射光成分。具體而言，可謂擴散反射光成分愈多，則反射鮮明度愈低。擴散反射光成分由於為可抑制如上述之干涉條紋發生之成分，故本發明中，使用0.5mm寬之光梳測定中，係將反射鮮明度規定為90%以下。然而，使用0.5mm寬之光梳測定中，即使將反射鮮明度規定為90%以下，於擴散角度過大之擴散反射光成分多之情況，亦會使反射鮮明度成為90%以下。擴散角度過大之擴散反射光成分多時，會有辨識為如上述產生白濁感之虞，故有必要減少擴散角度過大之擴散反射光成分。此處，2.0mm寬之光梳相較於0.5mm寬之光梳，由於亮部與暗部之寬度較寬，故以透鏡67產生之狹縫65之結像處於光梳之亮部時，具有適度擴散角之擴散反射光成分透過亮部，但擴散角度過大之反射光成分因暗部而不透過。且，相反地，由透鏡67產生之狹縫65之結像處於光梳之暗部時，具有適度擴散角度之擴散反射光成分因暗部而不透過，但擴散角度過大之反射光成分則透過亮部。因此，為了規定擴散角度過大之反射光成分較少，本發明中使用2.0mm寬之光梳之測定中，將反射鮮明度規定為80%以上。又，於JIS K7105中，定義上述4種類之寬度的光梳，該等中，雖亦考量使用寬度最狹窄之0.125mm寬之光梳與寬度最寬之2.0mm寬之光梳進行評價，但使用0.125mm寬之光梳時缺乏信賴性，作為評價指標並不 適當，故本發明中，於JIS K7105中，係利用寬度次窄於0.125mm之0.5mm寬之光梳與寬度最寬之2.0mm寬之光梳進行評價。
功能層62之凹凸面62A中，將沿著光學薄膜60之薄膜面之法線方向N之剖面中凹凸面62A對於薄膜面之傾斜角度設為表面角度時，表面角度成為0.05°以上之區域之比例較好為50%以上。藉由使表面角度成為0.05°以上之區域之比例成為50%以上，可進一步抑制干涉條紋之發生。表面角度成為0.05°以上之區域之比例之下限較好為55%以上，更好為60%以上。且，表面角度成為0.05°以上之區域之比例上限較好為95%以下，更好為90%以下。表面角度係使用與第1實施形態相同之裝置，藉由測定功能層62之凹凸面62A之表面形狀而獲得。
功能層62之凹凸面62A中，粗曲線之均方根斜率R△q較好為0.003以下。藉由使粗曲線之均方根斜率R△q為0.003以下，可進一步降低白濁感，可獲得具有表面光澤感之光學薄膜。R△q之下限較好為0.0005以上，更好為0.001以上。另外，R△q之上限較好為0.0025以下，更好為0.002以下。粗曲線之均方根斜率R△q與第1實施形態相同，係藉由測定凹凸面62A之表面形狀而獲得。
功能層62之凹凸面62A中，基於與第1實施形態中說明之理由同樣之理由，對功能層62之凹凸面62A照射自光學薄膜60之法線方向N傾斜10°之方向行 進之平行光之狀態下，於包含法線方向N及平行光之行進方向T二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分佈中，自測到最高反射光強度之1/100以上之反射光強度之角度區域寬度減去測到最高反射光強度之1/2以上之反射光強度之角度區域之寬度之值，較好設為0.7°以上1.4°以下。反射光強度之角度分佈且如第1實施形態所說明，藉由習知之變角光度計(goniophotometer)測定。
自1/100之角度寬度減去1/2角度寬度之寬度的值下限較好為0.8°以上，更好為0.9°以上。且，自1/100之角度寬度減去1/2角度寬度之寬度的值上限較好為1.3°以下，更好為1.2°以下。
功能層62之凹凸面62A中，構成凹凸面62A之凹凸的平均間隔Sm較好設為0.20mm以上、0.60mm以下，更好為0.22mm以上、0.50mm以下。功能層62之凹凸面62A中，構成凹凸面62A之凹凸的平均傾斜角θa較好設為0.01°以上、0.1°以下，更好為0.04°以上、0.08°以下。
功能層62之凹凸面62A中，構成凹凸面62A之凹凸的算術平均粗糙度Ra較好設為0.02μm以上、0.10μm以下，更好為0.04μm以上、0.08μm以下。功能層62之凹凸面62A中，構成凹凸面62A之凹凸的最大高度粗糙度Ry較好設為0.20μm以上、0.60μm以下，更好為0.25μm以上、0.40μm以下。功能層62之凹凸面62A中，構成凹凸面62A之凹凸之10點的平均粗糙度Rz較 好為0.15μm以上、0.50μm以下，更好為0.18μm以上、0.30μm以下。
上述之「Sm」、「Ra」、「Ry」及「Rz」之定義均如第1實施形態中所記載。另外，Sm、θa、Ra、Ry、Rz係與第1實施形態同樣使用表面粗糙度測定器(型號：SE-3400/小坂研究所(股)製造)，以與第1實施形態中記載之測定條件進行測定。
如本實施形態之功能層62為硬塗層時，硬塗層之厚度較好為2.0μm以上、7.0μm以下。若硬塗層之厚度在該範圍內，則可獲得期望之硬度。且，可實現硬塗層之薄膜化，另一方面可抑制硬塗層之破裂或捲曲發生。硬塗層之厚度可利用剖面顯微鏡觀察而測定。硬塗層之厚度下限更好為3μm以上，上限更好為5μm以下。
本發明中，若使用0.5mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為90%以下(要件1)，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為80%以上(要件2)，則光學薄膜可抑制干涉條紋之發生，不會觀察到白濁感，且可降低製造成本。因此，若適當選擇滿足要件1及2之材料，則構成功能層之材料即無特別限制。又，以下將使用0.5mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度設為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳訂定之凹凸面之反射鮮明度設為80%以上之凹凸面稱為「特異凹凸面」。
特異凹凸面可藉由調整功能層之凹凸面中存在之凹凸大小而獲得。具有特異凹凸面之功能層62可藉 由例如第1實施形態中說明之(1)~(3)之方法等形成。該等中，就製造上容易而言，以(1)之方法較佳。
上述(1)之方法中，使光聚合性化合物聚合(交聯)，成為黏結劑樹脂時，於不存在微粒子之部分，因光聚合性化合物引起硬化收縮故整體收縮。相對於此，於存在微粒子之部分中，由於微粒子並未引起硬化收縮，故僅存在於微粒子上下之光聚合性化合物引起硬化收縮。據此，微粒子存在之部分的功能層之膜厚比不存在微粒子之部分更厚，因而使功能層之表面成為凹凸形狀。因此，藉由適當選擇微粒子之種類或粒徑及光聚合性化合物之種類，且調整塗膜形成條件，可形成具有特異凹凸面62A之功能層62。
以下，針對作為硬塗層之功能層62含微粒子及黏結劑樹脂之例加以說明。例如，含該微粒子及黏結劑樹脂之功能層62可藉上述(1)之方法形成。
(微粒子)
微粒子可為無機微粒子或有機微粒子之任一種，但該等中，較好為例如二氧化矽(SiO2)微粒子、氧化鋁微粒子、氧化鈦微粒子、氧化錫微粒子、摻雜銻之氧化錫(簡稱：ATO)微粒子、氧化鋅微粒子等之無機氧化物微粒子。無機氧化物微粒子在功能層中可形成凝聚體，可依據該凝聚體之凝聚程度形成特異凹凸面62A。
有機微粒子可列舉例如塑膠粒。塑膠粒之具 體例係與第1實施形態所記載之塑膠粒相同者。
有機微粒子在上述硬化收縮中，較好適度調整對微粒子所具有之硬化收縮之抵抗力。調整對於該收縮之抵抗力較好事先改變三次元交聯程度而作成，作成複數種含有硬度不同之有機微粒子之光學薄膜，且藉由評價光學薄膜之凹凸面之反射光強度之角度分佈，而選定適於成為特異凹凸面之交聯程度。
使用無機氧化物粒子作為微粒子時，無機氧化物粒子較好施以表面處理。藉由對無機氧化物微粒子施以表面處理，可較好地控制微粒子在功能層62中之分佈，且可實現微粒子本身之耐藥品性及耐鹼化性之提高。
至於表面處理較好為使微粒子表面成為疏水性之疏水化處理。此疏水化處理可藉由使微粒子表面與矽烷類或矽氮烷類等表面處理劑進行化學反應而得。具體之表面處理劑列舉為例如二甲基二氯矽烷或聚矽氧油、六甲基二矽氮烷、辛基矽烷、十六烷基矽烷、胺基矽烷、甲基丙烯醯基矽烷、八甲基環四矽氧烷、聚二甲基矽氧烷等。微粒子為無機氧化物微粒子時，無機氧化物微粒子之表面雖存在羥基，但藉由施以如上述之疏水化處理，使存在於無機氧化物微粒子表面之羥基變少，可使無機氧化物微粒子之藉BET法測定之比表面積變小，同時可抑制無機氧化物微粒子過度凝聚，可形成具有特異凹凸面之功能層。
使用無機氧化物粒子作為微粒子時，無機氧化物微粒子較好為非晶質。其原因為在無機氧化物粒子為 結晶性時，由於其結晶構造中所含之晶格缺陷，使無機氧化物微粒子之路易斯酸鹼變強，而有無法控制無機氧化物微粒子之過度凝聚之虞。
使用無機氧化物粒子作為微粒子時，無機氧化物微粒子在功能層62中較好形成凝聚體。該無機氧化物微粒子之凝聚體在功能層62中較好具有無機氧化物微粒子不為塊狀而係以三次元連結之構造。無機氧化物微粒子不為塊狀而係以三次元連結之構造列舉為例如籠狀或捲曲狀(coiled)。亦即，具有無機氧化物微粒子不為塊狀而以三次元連結之構造之凝聚體，在硬化後成為黏結劑樹脂之光聚合性化合物之硬化收縮時，容易且保持均一性地崩潰。藉此，可使凹凸面成為非常平滑之面，因此結果不成為具有陡峭斜面之凹凸面，可形成具有特異凹凸面之功能層。又，使用如上述之有機樹脂時，只要適度調整交聯度，亦可形成具有特異凹凸面之功能層。
對於功能層62之微粒子含量並無特別限制，但較好為0.1質量%以上、5.0質量%以下。由於微粒子含量設為0.1質量%以上，故可更確實地形成特異凹凸面，又由於微粒子含量設為0.5質量%以下，故不會過度生成凝聚體，可抑制內部擴散及/或功能層之表面生成大的凹凸，藉此可抑制白濁感。微粒子含量之下限更好為0.5質量%以上，微粒子含量之上限更好為3.0質量%以下。
微粒子於單粒子狀態之形狀較好為球狀。藉由使微粒子之單粒子為如此球狀，將光學薄膜配置於圖像 顯示裝置之圖像顯示面時，可獲得對比性優異之圖像。此處所謂「球狀」意指包含例如真球狀、橢圓球狀等，但不含所謂的無定形者。
使用無機氧化物微粒子作為微粒子時，無機氧化物微粒子之平均一次粒徑較好為1nm以上、100nm以下。由於微粒子之平均一次粒徑設為1nm以上，故可更容易形成具有特異凹凸面之功能層，且由於平均粒徑設為100nm以下，故可抑制因微粒子造成之光擴散，可獲得優異之暗室對比性。微粒子之平均一次粒徑之下限更好為5nm以上，微粒子之平均一次粒徑之上限更好為50nm以下。又，微粒子之平均一次粒徑為由剖面電子顯微鏡(較好以TEM、STEM等透過型，倍率為5萬倍以上者)之圖像，使用圖像處理軟體測定之值。
使用有機微粒子作為微粒子時，藉由改變折射率不同之樹脂之共聚合比率而減小有機微粒子與黏結劑樹脂之折射率差，例如，可容易地成為未達0.01，故可抑制因微粒子造成之光的擴散。因此，平均一次粒徑只要未達8.0μm，較好5.0μm以下即可。
使用無機氧化物微粒子作為微粒子時，無機氧化物微粒子之凝聚體之平均粒徑較好為100nm以上、2.0μm以下。若為100nm以上，則可容易地形成特異凹凸面，且若為2.0μm以下，則可抑制因微粒子之凝聚體造成之光的擴散，可獲得暗室對比性優異之光學薄膜之圖像顯示裝置。微粒子之凝聚體之平均粒徑下限較好為200nm 以上，上限較好為1.5μm以下。無機氧化物微粒子之凝聚體之平均粒徑係以與第1實施形態所記載之方法相同之方法測定。
使用二氧化矽粒子作為微粒子時，二氧化矽粒子中，就可容易地形成具有特異凹凸面之功能層之觀點而言，以發煙二氧化矽微粒子較佳。發煙二氧化矽微粒子之市售品列舉為日本AEROSIL股份有限公司製之AEROSIL R805等。
發煙二氧化矽微粒子有顯示親水性者與顯示疏水性者，但該等中，就減少水分吸收量，容易分散於功能層用組成物中之觀點而言，以顯示疏水性者較佳。疏水性之發煙二氧化矽可藉由使發煙二氧化矽微粒子表面存在之矽烷醇基與如上述之表面處理劑進行化學反應而得。就可容易地獲得如上述之凝聚體之觀點而言，發煙二氧化矽最好經辛基矽烷處理。
發煙二氧化矽微粒子雖係形成凝聚體，但發煙二氧化矽微粒子之凝聚體在功能層用組成物中並非稠密之凝聚體，而是形成籠狀或捲曲狀之極稀疏之凝聚體。因此，發煙二氧化矽微粒子之凝聚體在硬化後成為黏結劑樹脂之光聚合性化合物硬化收縮時，容易且保持均一性的崩潰。藉此，可形成具有特異凹凸面之功能層。
(黏結劑樹脂)
黏結劑樹脂由於為與第1實施形態中說明之黏結劑樹 脂相同者，故在本實施形態中省略說明。
(其他成分)
功能層62中，除此之外，亦可視需要添加溶劑乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂，僅使為了調整塗佈時之固體成分而添加之溶劑乾燥，即可成為被膜之樹脂)、熱硬化性樹脂。又，溶劑乾燥型樹脂由於為與第1實施形態中說明之溶劑乾燥型樹脂相同者，故在本實施形態中省略其說明。
《光學薄膜之製造方法》
更詳細說明如上述之光學薄膜60之製造方法。又，以下說明係藉由上述(1)之方法形成功能層62者。
首先，於光透過性基材11之表面塗佈功能層用組成物。塗佈功能層用組成物之方法列舉為旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、滑動塗佈法、棒塗佈法、輥塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法等習知塗佈方法。
〈功能層用組成物〉
功能層用組成物為至少包含微粒子、光聚合性化合物者。另外，亦可視需要於功能層用組成物中添加上述熱可塑性樹脂、上述熱硬化性樹脂、溶劑、聚合起始劑。而且，功能層用組成物中，基於提高功能層之硬度、抑制硬化收縮、控制折射率等之目的，可添加過去習知之分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、抗著 色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、平流劑、難燃劑、紫外線吸收劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑、易滑劑等。
(溶劑、聚合起始劑、平流劑)
溶劑、聚合起始劑、及平流劑均與第1實施形態中說明之溶劑、聚合起始劑及平流劑相同者，故省略說明。
如圖8所示，在光透過性基材61之與功能層62之界面附近形成混合存在區域61A時，係使用包含對光透過性基材61之浸透性高，使光透過性基材61溶解或膨潤之浸透性溶劑作為溶劑者，同時使用至少包含重量平均分子量為1000以下之光聚合性單體作為光聚合性化合物者。藉由使用浸透性溶劑及光聚合性單體，由於不僅對於光透過性基材11為浸透性溶劑，且亦可浸透光聚合性單體，故可在光透過性基材61之與功能層62之界面附近形成混合存在有光透過性基材61與包含光聚合性單體作為單體單位之樹脂的混合存在區域61A。浸透性溶劑由於與第1實施形態中說明之浸透性溶劑相同者，故省略說明。
功能層用組成物之調製方法只要均勻可混合各成分即無特別限制，可使用例如塗料搖晃機、珠粒研磨機、捏合機、混練機等習知之裝置進行。
將功能層用組成物塗佈於光透過性基材61之表面後，為使塗膜狀之功能層用組成物乾燥而送到經加熱 區中，以各種習知方法使功能層用組成物乾燥使溶劑蒸發。此處，可藉由選定溶劑相對蒸發速度、固體成分濃度、塗佈液溫度、乾燥溫度、乾燥風之風速、乾燥時間、乾燥區之溶劑環境濃度等，而調整微粒子之凝聚體之分佈狀態。
尤其，依據選擇乾燥條件而調整微粒子之凝聚體分佈狀態之方法較簡便而較佳。具體之乾燥溫度較好為30~120℃，乾燥風速較好為0.2~50m/s，藉由在該範圍內進行一次或複數次之適當調整之乾燥處理，可將微粒子之凝聚體之分佈狀態調整成期望之狀態。
又，使功能層用組成物乾燥時，浸透於光透過性基材之浸透性溶劑蒸發，而光聚合性化合物殘留在光透過性基材中。
隨後，對塗膜狀之功能層用組成物照射紫外線等之光，使光聚合性化合物聚合(交聯)而使功能層用組成物硬化，形成功能層62，同時形成混合存在區域61A。
使用紫外線作為使功能層用組成物硬化時之光時，可利用由超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、氙弧燈、金屬鹵素燈等發出之紫外線等。且，紫外線之波長可使用190~380nm之波長區域。電子束源之具體例列舉為科克羅夫-瓦爾頓(Cockcroft-Walton)型、凡得克雷夫(van de Graaff)型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、或直線型、高頻高壓加速型、高頻型等之各種電子束加速器。
《光學薄膜之物性》
光學薄膜60之全光線透過率較好為85%以上。全光線透過率為85%以上時，將光學薄膜60裝置於圖像顯示裝置之表面上時，可更提高色再現性與辨識性。全光線透過率更好為90%以上。全光線透過率可使用濁度計(村上色彩技術研究所製，製品編號；HM-150)，依據JIS K-7361之方法測定。
光學薄膜60之濁度較好未達1%。濁度未達1%時，可獲得期望之光學特性，且更提高將光學薄膜60設置於圖像顯示表面上時之辨識性。濁度更好為0.5%以下，又更好為0.3%以下。濁度可使用濁度計(村上色彩技術研究所製，製品編號；HM-150)，依據JIS K-7136之方法測定。
光學薄膜60之透過圖像鮮明度於0.125mm寬之光梳中較好為75%以上95%以下，且於2.0mm寬之光梳中較好為95%以上。於0.125mm寬之光梳之透過圖像鮮明度為75%以上時，可更提高顯示圖像時之圖像鮮明性，可獲得更優異之畫質。且，為95%以下時，可更佳地防止干涉條紋。於0.125mm寬之光梳之透過圖像鮮明度更好為80%以上90%以下。又，於2.0mm梳之透過圖像鮮明度為95%以上時，可更提高圖像之鮮明性，且，可抑制因外光之擴散反射造成之白濁感。透過圖像鮮明度可使用影像鮮明性(image clarity)測定器(SUGA試驗機製，製 品標號；ICM-1T)，依據JIS K-7105之像鮮明度之透過法之方法測定。
光學薄膜60之對比性比，較好為80%以上，更好為90%以上。若為80%以上，則將光學薄膜60安裝於圖像顯示裝置表面時，可更提高暗室對比性之優異辨識性。
依據本實施形態，使用0.5mm寬之光梳測定之凹凸面62A之反射鮮明度設為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面62A之反射鮮明度設為80%以上，故基於上述理由，可抑制干涉條紋之發生，且不會觀察到白濁感。另外，由於可利用功能層62之凹凸面62A抑制干涉條紋之發生，故可使混合存在區域之厚度變薄。據此，可使功能層之厚度變薄，可實現製造成本之下降。
過去之抗反射薄膜被視為正反射、正透過以外之光使畫質劣化者，在抗反射薄膜中存在擴散光使本身被否定。例如，作為有必要添加用以提高硬塗層性之微粒子時，亦可僅以防止因前述微粒子凝聚成為大粒徑而產生擴散光為主要目標而選定材料及製造條件等。亦即，抗反射膜中，必要條件為防止產生擴散光，且成為用以獲得無混濁之鮮明圖像之平坦面，終究未考慮到產生擴散光。因此，抗反射薄膜中，使用0.5mm寬之光梳測定反射鮮明度時，抗反射薄膜中之反射鮮明度成為超過90%者(參照圖15之比較例1)。另一方面，關於以往之防眩薄膜，由於防止外部映像映入係防眩薄膜之作用本身者，故必要條 件為使映入觀察者中之外部映像確實地擴散。因此，防眩薄膜中，使用2.0mm寬之光梳測定反射鮮明度時，防眩薄膜中之反射鮮明度成為未達80%(參照圖15之比較例2、3)。因此，藉由使用0.5mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為80%以上所揮發之上述效果，可謂係超過依據以往之抗反射薄膜或防眩薄膜之技術水準可預測範圍之顯著效果。
《偏光板、液晶面板、圖像顯示裝置》
如圖10~圖12所示，光學薄膜10可與第1實施形態同樣地，組裝於例如偏光板70、液晶面板80、圖像顯示裝置90中使用。圖10~圖12中，標示與圖3~圖5相同之符號之構件意指與第1實施形態中說明之構件相同之構件。
(第4實施形態)
以下針對本發明之第4實施形態之另一光學薄膜，邊參照圖式邊加以說明。圖13為本實施形態之光學薄膜之概略構成之圖。
《光學薄膜》
如圖13所示，光學薄膜100至少具備光透過性基材101、與設置於光透過性基材101上之功能層102。光透 過性基材101由於與上述光透過性基材61相同，故在本實施形態中省略說明。又，光透過性基材101中之功能層102之界面附近(與後述之硬塗層103之界面附近)較好形成如圖13所示之混合存在有光透過性基材102與硬塗層103之黏結劑樹脂成分的混合存在區域101A。
(功能層)
功能層102係由硬塗層103與設置於硬塗層103上之低折射率層104構成。功能層102具有成為光學薄膜100表面之凹凸面102A，該功能層102之凹凸面102A成為低折射率層104之表面。
與光學薄膜60同樣，光學薄膜100中，使用0.5mm寬之光梳所測定之凹凸面102A之反射鮮明度為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面102A之反射鮮明度為80%以上。又，反射鮮明度係以第3實施形態中說明之方法測定。
使用0.5mm寬之光梳測定之反射鮮明度之上限較好為80%以下，更好為70%以下。另外，使用0.5mm寬之光梳測定之反射鮮明度之下限較好為10%以上，更好為20%以上。
使用2.0mm寬之光梳測定之反射鮮明度之下限較好為85%以上，更好為90%以上。另外，使用2.0mm寬之光梳測定之反射鮮明度之上限較好為100%以下，更好為95%以下。
另外，功能層102之凹凸面102A中，較好成為與功能層102之凹凸面102A同樣的表面角度成為0.05°以上之區域之比率、R△q、自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之寬度的值、Sm、θa、Ra、Ry、Rz。
(硬塗層)
硬塗層103由於為與功能層62相同者，故在本實施形態中省略說明。但，硬塗層103之表面與功能層102不同，亦可係使用0.5mm寬之光梳測定之反射鮮明度不為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之反射鮮明度不為80%以上。
(低折射率層)
低折射率層104由於為與第1實施形態中說明之低折射率層54相同者，故在本實施形態中省略說明。
依據本實施形態，由於使用0.5mm寬之光梳測定之凹凸面102A之反射鮮明度設為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面102A之反射鮮明度設為80%以上，故如第1實施形態所說明，可抑制干涉條紋之發生，不會觀察到白濁感，且可降低製造成本。
實施例
為詳細說明本發明，雖列舉以下實施例加以說明，但本發明並不限定於該等記載。
《實施例A》
〈硬塗層用組成物之調製〉
首先，以成為下述所示組成之方式調配各成分，獲得硬塗層用組成物。
(硬塗層用組成物A1)
．發煙二氧化矽(辛基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製)：1質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(製品名：TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
又，上述之發煙二氧化矽係經辛基矽烷處理(利用辛基矽烷，以辛基矽烷基取代發煙二氧化矽表面之矽烷醇基的疏水化處理)者。
(硬塗層用組成物A2)
．發煙二氧化矽(辛基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製造)：1.5質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物A3)
．發煙二氧化矽(辛基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製)：0.5質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40 質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製造)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(製品名：TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物A4)
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物A5)
．有機微粒子(親水化處理之丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑2.0μm，折射率1.515，積水化成品工業公司製)：3質量份
．發煙二氧化矽(甲基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製)：1質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物A6)
．有機微粒子(親水化處理之丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑2.0μm，折射率1.55，積水化成品工業公司製)：3質量份
．發煙二氧化矽(甲基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製)：1質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物A7)
．有機微粒子(親水化處理之丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑3.5μm，折射率1.55，積水化成品工業公司製)：8質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名：PETIA，Daicel Cytec公司製)：80質量份
．異氰尿酸EO改質之三丙烯酸酯(製品名：M-315，東亞合成化學公司製)：20質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive． Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：120質量份
．環己酮：30質量份
〈低折射率層用組成物之調製〉
以成為下述所示組成之方式調配各成分，獲得低折射率層用組成物。
(低折射率層用組成物)
．中空二氧化矽微粒子(中空二氧化矽微粒子之固體成分：20質量%，溶液：甲基異丁基酮，平均粒徑：50nm)：40質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名：PETIA，Daicel Cytec公司製)：10質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 127；日本BASF公司製)：0.35質量份
．改質聚矽氧油(X22164E；信越化學工業公司製)：0.5質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：320質量份
．丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161質量份
〈實施例A1〉
準備作為光透過性基材之厚度60μm之三乙醯基纖維素樹脂薄膜(富士薄膜公司製，TD60UL)，於三乙醯基纖 維素樹脂薄膜之一面上塗佈硬塗層用組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜以0.2m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通15秒後，再以10m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒予以乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，在氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下以使累積光量成為100mJ/cm2之方式照射紫外線，使塗膜硬化，藉此形成4μm厚(硬化時)之硬塗層，製作實施例A1之光學薄膜。
〈實施例A2〉
實施例A2中，除使用硬塗層用組成物2代替硬塗層用組成物1以外，餘與實施例A1同樣，製作光學薄膜。
〈實施例A3〉
實施例3中，除使紫外線之累積光量成為50mJ/cm2以外，餘與實施例1同樣在三乙醯基纖維素樹脂膜上形成硬塗層。接著，以使乾燥後(40℃×1分鐘)之膜厚成為0.1μm之方式將低折射率層用組成物塗佈於硬塗層表面上，在氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下，以累積光量100mJ/cm2進行紫外線照射並硬化而形成低折射率層，製作實施例A3之光學薄膜。
〈實施例A4〉
實施例4中，除使用硬塗層用組成物2代替硬塗層用組成物1以外，餘與實施例A3同樣，製作光學薄膜。
〈實施例A5〉
實施例A5中，除使用硬塗層用組成物3代替硬塗層用組成物1以外，餘與實施例A1同樣，製作光學薄膜。
〈比較例A1〉
比較例A1中，除使用硬塗層用組成物4代替硬塗層用組成物1以外，餘與實施例A1同樣，製作光學薄膜。
〈比較例A2〉
比較例A2中，除使用硬塗層用組成物5代替硬塗層用組成物1以外，餘與實施例A3同樣，製作光學薄膜。
〈比較例A3〉
比較例A3中，除使用硬塗層用組成物6代替硬塗層用組成物1以外，餘與實施例A1同樣，製作光學薄膜。
〈比較例A4〉
比較例A4中，除使用硬塗層用組成物7代替硬塗層用組成物1，且使硬化時之硬塗層之膜厚成為5μm以外，餘與實施例A1同樣，製作光學薄膜。
〈反射光強度之角度分佈測定〉
將實施例A1~A5及比較例A1~A4所得之各光學薄膜 之三乙醯基纖維素樹脂膜之與形成有硬塗層之面相反側之面上，透過透明黏著劑貼合用以防止背面反射之黑色丙烯酸系板作成樣品。使樣品以使硬塗層或低折射率層側面向光源地設置在變角光度計(型號：GP-200，村上色彩技術研究所公司製造)上，藉以下條件測定反射光強度之角度分佈。
入射角：10°
擺動角：0°
受光範圍：5°~5°(正反射方向±5°)、數據間隔：0.1°
VS1(光束光圈)：0.5
VS3(受光光圈)：4.0
又，圖14為表示實施例A1、A2、A5及比較例A1、A3、A4之光學薄膜之反射光強度之角度分佈之圖。
接著，使用所得之反射強度之角度分佈，求得1/100角度寬度及1/2角度寬度，求得自1/100角度寬度減去1/2角度寬度之值。
〈表面角度、均方根斜率R△q之測定〉
以實施例及比較例中所得之各光學薄膜之與形成有硬塗層之面相反側之面上透過透明黏著劑貼附於玻璃板作成樣品，使用白色干涉顯微鏡(New View 6300，Zygo公司製)，藉以下條件進行光學薄膜之表面形狀之測定．解析。又，解析軟體係使用MetroPro ver8.3.2之Microscope Application。
[測定條件]
對物透鏡：2.5倍
放大(Zoom)：2倍
數據點數：992×992點
解像度(每一點之間隔)：2.2μm
[解析條件]
經移除：無
濾波器：高通濾波器(HighPass)
濾波器類型：高斯樣條(GaussSpline)
低波長：300μm
藉以上條件，以截斷值300μm之高通濾波器去除起伏成分獲得凹凸形狀。
移除之亮點(Remove spikes)：開
亮點高度(×RMS)：2.5
藉以上條件，可去除亮點狀之雜訊。
接著，以上述解析軟體(MetroPro ver 8.3.2-Microscope Application)顯示斜率X圖譜畫面(x方向斜率之顯示)，並顯示rms。該rms相當於均方根斜率R△q。
又，求得遍及全面之各點斜率△i，由上述式(3)將斜率△i換算成表面角度θi。由此，算出表面角度θi之絕對值成為0.05°以上之區域的比例。
〈Sm、θa、Ra、Ry及Rz之測定〉
對實施例A1~A5及比較例A1~A4獲得之各光學薄膜之表面(無低折射率層時為硬塗層之表面、有低折射率層時為低折射率層之表面)，測定Sm、θa、Ra、Ry及Rz。Sm、Ra、Ry及Rz之定義係依據JIS B0601-1994者，且θa為根據表面粗糙度測定器：SE-3400/小坂研究所(股)製造之操作說明書(1995.07.20修訂)者。
Sm、θa、Ra、Ry及Rz具體而言係以表面粗糙度測定器(型號：SE-3400/小坂研究所(股)製造)，以下述測定條件測定。
1)表面粗糙度檢測部之觸針(小坂研究所製造之商品名SE2555N(2μ標準))
．前端曲率半徑2μm，頂角90度，材質鑽石
2)表面粗糙度測定器之測定條件
．基準長度(粗曲線之截斷值λc)：2.5mm
．評價長度(基準長度(截斷值λc)×5)：12.5mm
．觸針之移行速度：0.5mm/s
．預備長度：(截斷值λc)x2
．縱向倍率：2000倍
．橫向倍率：10倍
〈干涉條紋觀察評價〉
於實施例A1~A5及比較例A1~A4所得之各光學薄膜之三乙醯基纖維素樹脂膜之與形成有硬塗層之面相反側之 面上透過透明黏著劑貼合用以防止背面反射之黑色丙烯酸系板，自硬塗層或低折射率層側對各光學薄膜照射光，以目視進行觀察。作為光源係使用ANATECH公司製之干涉條紋檢查燈(鈉燈)。利用以下基準評價干涉條紋之發生。
◎：未確認到干涉條紋。
○：稍微確認到干涉條紋，但為沒有問題之程度。
×：確認到清楚的干涉條紋。
〈白濁感觀察評價〉
於實施例A1~A5及比較例A1~A4所得之各光學薄膜之三乙醯基纖維素樹脂膜之與形成有硬塗層之面相反側之面上透過透明黏著劑貼合黑色丙烯酸系板，在暗室中於桌上檯燈(3波長螢光燈管)之下觀察白濁感，且利用以下基準進行評價。
○：未觀察到白色
×：觀察到白色
以下，將結果示於表1。
如表1所示，關於比較例A1~A4，由於並未滿足自1/100角度寬減去1/2角度寬之值在0.7°以上1.4°以下之要件，故觀察到干涉條紋及白濁感之任一者。相對於此，如表1所示，實施例A1~A5中，藉由滿足自1/100角度寬減去1/2角度寬之值為0.7°以上1.4°以下之要件，並未確認到干涉條紋，或者雖確認到稍有干涉條紋，但為沒有問題之程度，且未觀察到白濁感。
《實施例B》
〈硬塗層用組成物之調製〉
首先，以成為下述所示組成之方式調配各成分，獲得硬塗層用組成物。
(硬塗層用組成物B1)
．發煙二氧化矽(辛基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製)：1質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(製品名：TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
又，上述之發煙二氧化矽係經辛基矽烷處理(利用辛基矽烷，以辛基矽烷基取代發煙二氧化矽表面之矽烷醇基的疏水化處理)者。
(硬塗層用組成物B2)
．發煙二氧化矽(辛基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製造)：1.5質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物B3)
．發煙二氧化矽(辛基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製)：0.5質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製造)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(製品名：TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物B4)
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司 製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物B5)
．有機微粒子(親水化處理之丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑2.0μm，折射率1.55，積水化成品工業公司製)：3質量份
．發煙二氧化矽(甲基矽烷處理，平均粒徑12nm，日本AEROSIL公司製)：1質量份
．季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)(製品名：PETA，Daicel Cytec公司製)：60質量份
．胺基甲酸酯丙烯酸酯(製品名：UV1700B，日本合成化學公司製，重量平均分子量2000，官能基數10)：40質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：105質量份
．異丙醇：30質量份
．環己酮：15質量份
(硬塗層用組成物B6)
．有機微粒子(親水化處理之丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑3.5μm，折射率1.55，積水化成品工業公司製)：8質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名：PETIA，Daicel Cytec公司製)：80質量份
．異氰尿酸EO改質之三丙烯酸酯(製品名：M-315，東亞合成化學公司製)：20質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 184，日本BASF公司製)：5質量份
．聚醚改質聚矽氧(TSF4460，Momentive．Performance Materials公司製)：0.025質量份
．甲苯：120質量份
．環己酮：30質量份
〈低折射率層用組成物之調製〉
以成為下述所示組成之方式調配各成分，獲得低折射率層用組成物。
(低折射率層用組成物)
．中空二氧化矽微粒子(中空二氧化矽微粒子之固體成分：20質量%，溶液：甲基異丁基酮，平均粒徑： 50nm)：40質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名：PETIA，Daicel Cytec公司製)：10質量份
．聚合起始劑(IRGACURE 127；日本BASF公司製)：0.35質量份
．改質聚矽氧油(X22164E；信越化學工業公司製)：0.5質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：320質量份
．丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161質量份
〈實施例B1〉
準備作為光透過性基材之厚度60μm之三乙醯基纖維素樹脂薄膜(富士薄膜公司製，TD60UL)，於三乙醯基纖維素樹脂薄膜之一面上塗佈硬塗層用組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜以0.2m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通15秒後，再以10m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒予以乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，在氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下以使累積光量成為100mJ/cm2之方式照射紫外線，使塗膜硬化，藉此形成4μm厚(硬化時)之硬塗層，製作實施例B1之光學薄膜。
〈實施例B2〉
實施例B2中，除使用硬塗層用組成物2代替硬塗層用組成物1以外，餘與實施例B1同樣，製作光學薄膜。
〈實施例B3〉
實施例B3中，除使紫外線之累積光量成為50mJ/cm2以外，餘與實施例1同樣在三乙醯基纖維素樹脂膜上形成硬塗層。接著，以使乾燥後(40℃×1分鐘)之膜厚成為0.1μm之方式將低折射率層用組成物塗佈於硬塗層表面上，在氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下，以累積光量100mJ/cm2進行紫外線照射並硬化而形成低折射率層，製作實施例B3之光學薄膜。
〈實施例B4〉
實施例B4中，除使用硬塗層用組成物B2代替硬塗層用組成物B1以外，餘與實施例B3同樣，製作光學薄膜。
〈實施例B5〉
實施例B5中，除使用硬塗層用組成物B3代替硬塗層用組成物B1以外，餘與實施例B1同樣，製作光學薄膜。
〈比較例B1〉
比較例B1中，除使用硬塗層用組成物B4代替硬塗層用組成物B1以外，餘與實施例B1同樣，製作光學薄膜。
〈比較例B2〉
比較例B2中，除使用硬塗層用組成物B5代替硬塗層用組成物B1以外，餘與實施例B1同樣，製作光學薄膜。
〈比較例B3〉
比較例B3中，除使用硬塗層用組成物B6代替硬塗層用組成物B1，將硬化時的硬塗層的膜厚為5μm以外，餘與實施例B1同樣，製作光學薄膜。
〈反射鮮明度之測定〉
實施例B1~B5及比較例B1~B3所得之各光學薄膜之三乙醯基纖維素樹脂膜之與形成有硬塗層之面相反側之面上透過透明黏著劑貼合用以防止背面反射之黑色丙烯酸系板作成樣品。依據JIS K7105之利用反射法之像鮮明度之測定法，將影像鮮明性測定器(型號；ICM-1T，SUGA試驗機公司製)設定成45度反射，且以使硬塗層或低折射率層側朝向光源而設置樣品，測定反射鮮明度。光梳係使用0.5mm寬、2.0mm寬者，分別測定反射鮮明度，但為參考用，亦以0.125mm寬、0.25mm寬、1.0mm寬者測定反射鮮明度。另外，對所測定之反射鮮明度進行作圖(圖15)。又，0.25mm寬之光梳並未定義於JIS K7105中。
〈表面角度、均方根斜率R△q之測定〉
使實施例B1~B5及比較例B1~B3中所得之各光學薄膜之與形成有硬塗層之面相反側之面上透過透明黏著劑貼附於玻璃板作成樣品，使用白色干涉顯微鏡(New View 6300，Zygo公司製)，以與實施例A相同之條件進行光學薄膜之表面形狀之測定．解析。又，解析軟體係使用MetroPro ver8.3.2之Microscope Application。
接著，以上述解析軟體(MetroPro ver 8.3.2-Microscope Application)顯示斜率X圖譜畫面(x方向斜率之顯示)，並顯示rms。該rms相當於均方根斜率R△q。
又，求得遍及全面之各點斜率△i，由上述式(3)將斜率△i換算成表面角度θi，由此，算出表面角度θi之絕對值成為0.05°以上之區域的比例。
〈反射光強度之角度分佈測定〉
實施例B1~B5及比較例B1~B3所得之各光學薄膜之三乙醯基纖維素樹脂膜之與形成有硬塗層之面相反側之面上透過透明黏著劑貼合用以防止背面反射之黑色丙烯酸系板成為樣品。使樣品以使硬塗層或低折射率層側面向光源設置在變角光度計(型號：GP-200，村上色彩技術研究所公司製造)上，且以與實施例A相同之條件測定反射光強度之角度分佈。
接著，使用所得之反射強度之角度分佈，求得1/100角度寬度及1/2角度寬度，求得自1/100角度寬 度減去1/2角度寬度之值。
〈Sm、θa、Ra、Ry、及Rz之測定〉
對實施例B1~B5及比較例B1~B3獲得之各光學薄膜之表面(無低折射率層時為硬塗層之表面，有低折射率層時為低折射率層之表面)，測定Sm、θa、Ra、Ry及Rz。Sm、Ra、Ry及Rz之定義係根據JIS B0601-1994者，且θa為根據表面粗糙度測定器：SE-3400/小坂研究所(股)製造之操作說明書(1995.07.20修訂)者。
Sm、θa、Ra、Ry及Rz具體而言係使用表面粗糙度測定器(型號：SE-3400/小坂研究所(股)製造)，以與實施例A相同之測定條件測定。
〈干涉條紋觀察評價〉
於實施例B1~B5及比較例B1~B3所得之各光學薄膜之三乙醯基纖維素樹脂膜之與形成有硬塗層之面相反側之面上透過透明黏著劑貼合用以防止背面反射之黑色丙烯酸系板，自硬塗層或低折射率層側對各光學薄膜照射光，以目視進行觀察。作為光源係使用ANATECH公司製之干涉條紋檢查燈(鈉燈)。利用以下基準評價干涉條紋之發生。
◎：未確認到干涉條紋。
○：稍微確認到干涉條紋，但為沒有問題之程度。
×：確認到清楚的干涉條紋。
〈白濁感觀察評價〉
於實施例B1~B5及比較例B1~B3所得之各光學薄膜之三乙醯基纖維素樹脂膜之與形成有硬塗層之面相反側之面上透過透明黏著劑貼合黑色丙烯酸系板，在暗室中於桌上檯燈(3波長螢光燈管)之下觀察白濁感，且利用以下基準進行評價。
○：未觀察到白色
×：觀察到白色
以下，將結果示於表2及表3。
如表2及圖15所示，比較例B1~B3中，由於未滿足使用0.5mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為80%以上之要件，故觀察到干涉條紋及白濁感之任一者。相對於此，如表2及圖15所示，實施例B1~B5中，滿足使用0.5mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳測定之凹凸面之反射鮮明度為80%以上之要件，故未確認到干涉條紋，或雖確認到稍有干涉條紋，但為沒有問題之程度，且未觀察到白濁感。

Claims (15)

  1. 一種光學薄膜，其為具備光透過性基材、設置在前述光透過性基材上之功能層之光學薄膜，前述功能層具有成為光學薄膜之表面的凹凸面，且前述功能層含有微粒子及黏結劑樹脂，在對前述功能層之前述凹凸面照射自前述光學薄膜之法線方向傾斜10°之方向上行進之平行光之狀態下，於包含前述法線方向及前述平行光之行進方向二方向之平面內所測定之反射光強度之角度分布中，自測得最高反射光強度之1/100以上之反射光強度之角度區域寬度減去測得最高反射光強度之1/2以上之反射光強度之角度區域寬度之值，為0.7°以上1.4°以下，構成前記凹凸面之凹凸的平均間隔Sm為0.20mm以上0.60mm以下，構成前記凹凸面之凹凸的平均傾斜角θa為0.01°以上0.1°以下，構成前記凹凸面之凹凸的算術平均粗糙度Ra為0.02μm以上0.10μm以下，構成前記凹凸面之凹凸的最大高度粗糙度Ry為0.20μm以上0.60μm以下，構成前記凹凸面的凹凸之10點平均粗糙度Rz為0.15μm以上0.50μm以下。
  2. 一種光學薄膜，其為具備光透過性基材、設置在前述光透過性基材上之功能層之光學薄膜， 前述功能層具有成為光學薄膜之表面之凹凸面，且前述功能層含有微粒子及黏結劑樹脂，使用0.5mm寬之光梳所測定之前述凹凸面之反射鮮明度為90%以下，且使用2.0mm寬之光梳所測定之前述凹凸面之反射鮮明度為80%以上，構成前記凹凸面之凹凸的平均間隔Sm為0.20mm以上0.60mm以下，構成前記凹凸面之凹凸的平均傾斜角θa為0.01°以上0.1°以下，構成前記凹凸面之凹凸的算術平均粗糙度Ra為0.02μm以上0.10μm以下，構成前記凹凸面之凹凸的最大高度粗糙度Ry為0.20μm以上0.60μm以下，構成前記凹凸面的凹凸之10點平均粗糙度Rz為0.15μm以上0.50μm以下。
  3. 如請求項1之光學薄膜，其中前述功能層具備硬塗層，且前述硬塗層之表面成為前述凹凸面。
  4. 如請求項2之光學薄膜，其中前述功能層具備硬塗層，且前述硬塗層之表面成為前述凹凸面。
  5. 如請求項1之光學薄膜，其中前述功能層具備硬塗層、設置在前述硬塗層上且具有比前述硬塗層低之折射率之低折射率層，前述低折射率層之表面成為前述凹凸面。
  6. 如請求項2之光學薄膜，其中前述功能層具備硬 塗層、設置在前述硬塗層上且具有比前述硬塗層低之折射率之低折射率層，前述低折射率層之表面成為前述凹凸面。
  7. 如請求項3至6中任一項之光學薄膜，其中前述硬塗層包含前述微粒子與前述黏合劑樹脂。
  8. 如請求項1之光學薄膜，其中前述微粒子為無機氧化物微粒子。
  9. 如請求項8之光學薄膜，其中前述無機氧化物微粒子為表面經疏水化處理之無機氧化物微粒子。
  10. 如請求項8之光學薄膜，其中前述無機氧化物微粒子係在前述硬塗層內形成凝聚體，且前述凝聚體之平均粒徑為100nm以上2.0μm以下。
  11. 一種偏光板，其特徵為具備如請求項1至6中任一項之光學薄膜，及在前述光學薄膜之前述光透過性基材中之與形成有前述功能層之面相反側之面上形成之偏光元件。
  12. 一種液晶顯示面板，其具備如請求項1至6中任一項之光學薄膜。
  13. 一種液晶顯示面板，其具備如請求項11之偏光板。
  14. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項1至6中任一項之光學薄膜。
  15. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項11之偏光板。
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI719851B (zh) * 2014-07-18 2021-02-21 日商大日本印刷股份有限公司 光學膜及附觸控面板之顯示裝置
US20160025591A1 (en) * 2014-07-22 2016-01-28 Esolar Inc. Automated deflectometry system for assessing reflector quality
CN104280811B (zh) * 2014-11-04 2017-09-22 深圳市华星光电技术有限公司 偏光片、液晶面板以及液晶显示器
JP2016170374A (ja) * 2015-03-16 2016-09-23 大日本印刷株式会社 半透過型反射シート、表示装置、半透過型反射シートの製造方法
KR102018287B1 (ko) * 2015-09-11 2019-09-05 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
WO2017043948A1 (ko) * 2015-09-11 2017-03-16 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
JP6894672B2 (ja) * 2016-05-18 2021-06-30 キヤノン株式会社 情報処理装置、情報処理方法、プログラム
JP6682350B2 (ja) 2016-05-18 2020-04-15 キヤノン株式会社 情報処理装置、制御装置、情報処理方法、制御方法、並びにプログラム
JP6790524B2 (ja) * 2016-07-08 2020-11-25 大日本印刷株式会社 タッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネルペン用筆記シートの選別方法
KR101988548B1 (ko) * 2016-12-12 2019-06-12 주식회사 엘지화학 광학 필름 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR102342126B1 (ko) * 2016-12-22 2021-12-22 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름 및 광학 필름의 제조 방법
JP7128571B2 (ja) * 2017-02-07 2022-08-31 大日本印刷株式会社 低屈折率層用組成物
EP3636404B1 (en) * 2017-06-06 2023-11-29 Nihon Spindle Manufacturing Co., Ltd. Kneading device
FR3069544B1 (fr) * 2017-07-28 2020-05-15 Arkema France Procede de preparation d'un film de polymere fluore reticule
JP6981205B2 (ja) * 2017-11-24 2021-12-15 コニカミノルタ株式会社 光学フィルムおよび偏光板
TWI765177B (zh) 2018-09-21 2022-05-21 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 防眩膜、偏光板及顯示裝置
KR102608213B1 (ko) * 2019-01-14 2023-11-29 주식회사 엘지화학 편광판, 및 디스플레이 장치
CN110794494B (zh) * 2019-12-03 2021-12-03 杜雄飞 用于防眩光光学基板的烘干箱
KR102514272B1 (ko) * 2020-04-29 2023-03-27 에스케이마이크로웍스 주식회사 폴리아마이드계 복합 필름 및 이를 포함한 디스플레이 장치
CN115769109A (zh) * 2020-05-15 2023-03-07 大日本印刷株式会社 防眩膜和图像显示装置
JP7041769B1 (ja) 2021-03-25 2022-03-24 デクセリアルズ株式会社 光学積層体、物品および画像表示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080192353A1 (en) * 2007-02-14 2008-08-14 Sony Corporation Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same
CN101910878A (zh) * 2008-10-21 2010-12-08 大日本印刷株式会社 光学片
TW201120485A (en) * 2009-09-04 2011-06-16 Sumitomo Chemical Co Light-diffusing film, manufacturing method therefor, light-diffusing polarizing plate, and liquid-crystal display device

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3486801B2 (ja) * 1996-05-27 2004-01-13 住友化学工業株式会社 防眩性に優れた偏光板
JP3592596B2 (ja) * 1998-12-18 2004-11-24 日本板硝子株式会社 親水性鏡及びその製造方法
JP4639467B2 (ja) * 2000-12-05 2011-02-23 凸版印刷株式会社 防眩性ハードコートフィルムの製造方法
JP3703133B2 (ja) * 2001-03-12 2005-10-05 日東電工株式会社 光拡散性シート及び光学素子
JP2003131007A (ja) 2001-10-29 2003-05-08 Toppan Printing Co Ltd 光学フィルム及びその製造方法
JP2003248101A (ja) 2002-02-25 2003-09-05 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置
ATE302424T1 (de) * 2002-02-25 2005-09-15 Fuji Photo Film Co Ltd Blendschutz- und entspiegelungsbeschichtung, polarisationsplatte und display-bauelement damit
TWI461758B (zh) * 2003-08-13 2014-11-21 Sumitomo Chemical Co 製備抗眩光學膜的方法
US20060269733A1 (en) 2003-08-28 2006-11-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antireflection laminate
JP5064649B2 (ja) 2003-08-28 2012-10-31 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP4641829B2 (ja) * 2004-03-29 2011-03-02 大日本印刷株式会社 防眩性積層体
JP4709520B2 (ja) * 2004-10-04 2011-06-22 ダイセル化学工業株式会社 防眩性フィルム
JP2007072735A (ja) 2005-09-07 2007-03-22 Aica Kogyo Co Ltd タッチパネル用画像高精細性フィルム
US20090142562A1 (en) * 2005-09-16 2009-06-04 Sachiko Miyagawa Antistatic anti-glare film
JP5175468B2 (ja) 2005-11-04 2013-04-03 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
US20070104896A1 (en) 2005-11-04 2007-05-10 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate and image display device
JP2007233320A (ja) * 2006-02-03 2007-09-13 Nakajima Kogyo Kk 防眩フィルム
JP2007249191A (ja) * 2006-02-17 2007-09-27 Fujifilm Corp 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
US7650104B2 (en) * 2006-02-24 2010-01-19 Canon Kabushiki Kaisha Developing apparatus including developer carrying member and developer regulating member with surface roughness parameters
JP5252811B2 (ja) * 2006-05-16 2013-07-31 日東電工株式会社 防眩性ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置
JP4155337B1 (ja) * 2007-02-21 2008-09-24 ソニー株式会社 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置
JP2008216429A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Toppan Printing Co Ltd 防眩フィルム
JP2008216539A (ja) * 2007-03-02 2008-09-18 Toppan Printing Co Ltd 防眩フィルム
JPWO2009001911A1 (ja) * 2007-06-28 2010-08-26 ソニー株式会社 光学フィルムおよびその製造方法、並びにそれを用いた防眩性偏光子および表示装置
JP5188251B2 (ja) 2008-04-22 2013-04-24 旭化成株式会社 防眩性フィルム
WO2009144970A1 (ja) * 2008-05-27 2009-12-03 シャープ株式会社 反射防止膜及び表示装置
KR101526034B1 (ko) 2008-11-11 2015-06-04 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 시트
KR101743785B1 (ko) * 2009-03-30 2017-06-05 닛뽄세이시가부시끼가이샤 방현 하드코트 필름
JP2011081118A (ja) 2009-10-06 2011-04-21 Toppan Printing Co Ltd 防眩フィルム
JP2011102881A (ja) * 2009-11-10 2011-05-26 Sony Corp 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置
JP5515748B2 (ja) 2010-01-06 2014-06-11 凸版印刷株式会社 フィルムを評価する評価方法
CN103154781A (zh) * 2010-10-22 2013-06-12 大日本印刷株式会社 防眩性膜、偏振片和图像显示装置
JP5488430B2 (ja) 2010-11-30 2014-05-14 大日本印刷株式会社 動画像と静止画像との混用に適した液晶表示装置の黒彩感及び画像の切れの改善方法
KR101795119B1 (ko) * 2011-10-12 2017-11-07 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 화상 표시 장치용 방현 시트

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080192353A1 (en) * 2007-02-14 2008-08-14 Sony Corporation Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same
CN101910878A (zh) * 2008-10-21 2010-12-08 大日本印刷株式会社 光学片
TW201120485A (en) * 2009-09-04 2011-06-16 Sumitomo Chemical Co Light-diffusing film, manufacturing method therefor, light-diffusing polarizing plate, and liquid-crystal display device

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