TWI530706B - An optical laminate, a polarizing plate, and an image display device - Google Patents

An optical laminate, a polarizing plate, and an image display device Download PDF

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TWI530706B TW102105032A TW102105032A TWI530706B TW I530706 B TWI530706 B TW I530706B TW 102105032 A TW102105032 A TW 102105032A TW 102105032 A TW102105032 A TW 102105032A TW I530706 B TWI530706 B TW I530706B
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Description

光學積層體、偏光板及影像顯示裝置
本發明係關於一種光學積層體、偏光板及影像顯示裝置。
於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)等影像顯示裝置中，設置有由具有抗反射性能、抗靜電性能、硬塗性或防污性等各種性能之功能層構成的光學積層體。
此種光學積層體為於透光性基材上積層各種功能層而成者。因此，於在透光性基材上形成例如硬塗層之情形時，會產生如下問題：透光性基材與硬塗層之界面之反射光、與硬塗層表面之反射光干涉從而膜厚不均，因而出現稱為干涉條紋之不均花紋，而外觀受損。
為防止此種干涉條紋之產生，例如已知，於在透光性基材上形成硬塗層之情形時，對用於形成硬塗層之樹脂組成物使用可滲透至透光性基材中使之膨潤或溶解之溶劑(例如，參照專利文獻1、2)。藉由使用含有此種溶劑之樹脂組成物，隨著溶劑向透光性基材中之滲透而形成樹脂組成物中之樹脂含浸至透光性基材中而成的含浸層，其結果為，可實質上使透光性基材與硬塗層之界面消失，可防止干涉條紋之產生。
然而，於藉由形成此種含浸層而謀求防止干涉條紋之先前之光學積層體中，為充分防止干涉條紋之產生而必需形成較厚之含浸層，必然必需增多形成硬塗層時使用之組成物之塗佈量。
因此，有光學積層體之薄膜化變困難、或產生捲曲等問題，又，亦有 如下問題：若硬塗層形成時之組成物之塗佈量變多，則成為形成之硬塗層之厚度不均之原因，並且製造成本較高。
進而，作為影像顯示裝置之表面所使用之光學積層體，亦已知有藉由於透光性基材上設置表面具有凹凸形狀之防眩層而被賦予防眩性的光學積層體(防眩性膜)。然而，此種防眩性膜即便可防止干涉條紋之產生，亦有產生白濁感而對比度降低之問題。
[專利文獻1]日本特開2003-131007號公報
[專利文獻2]日本特開2003-205563號公報
本發明鑒於上述現狀，目的在於提供一種可充分抑制干涉條紋及捲曲之產生並且無白濁感之產生而謀求硬塗層之薄膜化、且可防止製造成本變高的光學積層體、使用該光學積層體而成之偏光板及影像顯示裝置。
本發明係一種光學積層體，其係於透光性基材之一面上具有硬塗層者，其特徵在於：上述硬塗層於表面具有凹凸形狀，該凹凸形狀於將凹凸部之平均傾斜角設為θ a、將凹凸之峰度設為Kr時，上述θ a及Kr滿足下式。
0.01°≦θ a≦0.10° 1≦Kr≦3
又，上述硬塗層之凹凸形狀較佳為，於將凹凸之算術平均粗糙度設為Ra時滿足下式。
0.02 μm≦Ra≦0.10 μm
又，上述硬塗層之凹凸形狀較佳為，以λ a=2 π×(Ra/tan(θ a))表示之平均波長λ a滿足下述式。
200 μm≦λ a≦800 μm
於本發明之光學積層體中，上述硬塗層較佳為含有無機氧化物微粒子及黏合劑樹脂，且該無機氧化物微粒子較佳為經疏水化處理之無機氧化物微粒子。
又，上述無機氧化物微粒子較佳為，形成凝集體而含於硬塗層中，上述凝集體之平均粒徑為100 nm~2.0 μm。
又，本發明之光學積層體較佳為，於上述硬塗層之與上述透光性基材側相反側的表面具有低折射率層，上述低折射率層於與上述硬塗層側相反側的表面，具有隨著形成於上述硬塗層表面之凹凸形狀的凹凸形狀。
又，本發明係一種偏光板，其係具備偏光元件而成者，其特徵在於：上述偏光板於偏光元件表面具備上述光學積層體。
本發明亦為一種影像顯示裝置，其特徵在於具備上述光學積層體、或上述偏光板。
以下，詳細說明本發明。
本發明人等已對在透光性基材之一面上具有硬塗層之構成之光學積層體進行潛心研究，結果發現，藉由於硬塗層之表面(與透光性基材相反側面)形成特定之凹凸形狀，可較佳地防止干涉條紋之產生，無需形成向透光性基材之含浸層因而可謀求薄膜化，進而，可防止捲曲之產生及製造成本之高漲，從而完成本發明。又，由於根據本發明之光學積層體，無需於透光性基材中形成含浸層，故而有如下效果：透光性基材之材料之選擇範圍、及用以形成硬塗層之組成物中可使用之溶劑之材料的選擇範圍均比先前之光學積層體廣泛。
再者，先前已知有以賦予防眩性為目的之於硬塗層之表面具有凹凸形狀之光學積層體(防眩性膜)，但本發明之光學積層體與此種先前之防眩性膜不同。即，形成於本發明之光學積層體之硬塗層表面的凹凸形狀與形成 於先前之防眩性膜之表面之凹凸形狀相比，凹凸之高度更低，進而，凹凸部之傾斜角度更平緩。因此，於硬塗層上形成有此種凹凸形狀之本發明之光學積層體中，無法獲得如先前之防眩性膜之防眩性。另一方面，根據本發明，可獲得一種不會發生於防眩性膜中成為問題之因外光所致之白濁感之產生，提供對比度優異之圖像的光學積層體。即，本發明之光學積層體可用於影像顯示裝置之視認性改善方法中。
本發明之光學積層體於透光性基材之一面上具有硬塗層。上述透光性基材較佳為具備平滑性、耐熱性且機械強度優異者。作為形成透光性基材之材料之具體例，例如可列舉：聚酯(聚對鈦酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮乙醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或聚胺酯(polyurethane)等熱塑性樹脂或玻璃。較佳可列舉聚酯(聚對鈦酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素。
上述透光性基材較佳為將上述材料製成富有柔軟性之膜狀體來使用，但根據要求硬化性之使用態樣，亦可使用板狀體者。
此外，作為上述透光性基材，可列舉具有脂環結構之非晶質烯烴聚合物(Cyclo-Olefin-Polymer：COP)膜。其係使用降冰片烯系聚合物、單環之環狀烯烴系聚合物、環狀共軛二烯系聚合物、乙烯基脂環式烴系聚合物等基材，例如可列舉：日本Zeon公司製造之Zeonex或Zeonor(降冰片烯系樹脂)、Sumitomo Bakelite公司製造之Sumilite FS-1700、JSR公司製造之Arton(改質降冰片烯系樹脂)、三井化學公司製造之Apel(環狀烯烴共聚物)、Ticona公司製造之Topas(環狀烯烴共聚物)、日立化成公司製造之Optorez OZ-1000系列(脂環式丙烯酸樹脂)等。
又，作為三乙醯纖維素之代替基材，Asahi Kasei Chemicals公司製造之 FV系列(低雙折射率、低光彈性模數膜)亦較佳。
作為上述透光性基材之厚度，於膜狀體之情形時，較佳為20~300 μm，更佳為下限為30 μm、上限為200 μm。於透光性基材為板狀體之情形時，亦可為超過該等厚度之厚度。
上述透光性基材於在其上形成上述硬塗層時，為提高接著性，除電暈放電處理、氧化處理等物理性或化學性處理以外，亦可預先進行稱為固著劑或底塗劑之塗料之塗佈。
又，於將多數情況下主要用作為LCD取向之透光性基材的三乙醯纖維素作為材料、且以顯示器薄膜化為目標之情形時，作為上述透光性基材之厚度，較佳為20~65 μm。
上述硬塗層之硬度於JIS K5600-5-4(1999)之鉛筆硬度試驗(荷重4.9 N)中，較佳為H以上，更佳為2H以上。
於本發明之光學積層體中，上述硬塗層係形成於上述透光性基材之一面上、且於表面具有凹凸形狀者。
於本發明之光學積層體中，形成於上述硬塗層表面之凹凸形狀，於將凹凸部之平均傾斜角設為θ a、將凹凸之峰度設為Kr時，上述θ a及Kr滿足下式。
0.01°≦θ a≦0.10° 1≦Kr≦3
藉由形成於上述硬塗層表面之凹凸形狀可防止干涉條紋，其理由在於，於硬塗層表面反射之光發生擴散，成為非干涉性之光。為使光擴散，凹凸表面必需具有傾斜，其指標為平均傾斜角θ a。於本發明之光學積層體中，上述凹凸部之平均傾斜角θ a之下限為0.01°。若未達0.01°，則傾斜不足，無法防止干涉條紋。更佳之下限為0.03°，進而較佳之下限為0.04°。又，上述凹凸部之平均傾斜角θ a之上限為0.10°。若超過0.10°，則 上述凹凸部之傾斜角度過大，故而產生因外光之擴散反射所致之白濁感之問題。更佳之上限為0.09°，進而較佳之上限為0.08°。
又，於本發明中上述凹凸之峰度Kr為1以上3以下。上述峰度Kr亦稱為尖度，其值越大，表示凸部或凹部形狀越陡峭。其表示，即便平均傾斜角滿足上述範圍，其傾斜角分佈中亦產生偏差。即表示，雖局部傾斜角較大，但其他部分傾斜角較小。於此種情形時，於局部傾斜角較大之部分，光之擴散過大而有產生白濁感之問題之虞，另一方面，於傾斜角較小之部分，有無法較佳地防止干涉條紋之虞。若Kr為3以下，則傾斜角度分佈之偏差受到適當抑制而可較佳地防止干涉條紋，同時，亦可抑制白濁感。又，Kr之值於定義上最小值為1。
又，於本發明中，較佳為，於將凹凸之算術平均粗糙度設為Ra時滿足下式。
0.02 μm≦Ra≦0.10 μm
於本發明中，較佳為控制凹凸形狀之各凸部之大小(高度)，其指標為算術平均粗糙度Ra。
上述凹凸之算術平均粗糙度Ra之下限為0.02 μm。若上述Ra未達0.02 μm，則相對於光之波長而各凸部之大小(高度)過小，有無法獲得擴散效果之情況。更佳之下限為0.03 μm，進而較佳之下限為0.04 μm。又，上述Ra之上限為0.10 μm。若Ra超過0.10 μm，則各凸部過大，使穿透光歪斜，故而有無法獲得鮮明影像之情況。更佳之上限為0.09 μm，進而較佳之上限為0.08 μm。
又，於本發明中，λ a=2 π×(Ra/tan(θ a))表示之平均波長λ a較佳為200 μm以上且800 μm以下。
上述平均波長λ a為表示凹凸之平均間隔之參數。若平均波長λ a未達200 μm，則有凹凸過小而無法防止干涉條紋、或者凹凸平面上之傾斜角之 變化過大而可見白濁感之虞。若平均波長λ a超過800 μm，則有凹凸平面上之傾斜角之變化變少而無法較佳地防止干涉條紋之虞。上述平均波長λ a之更佳下限為300 μm，更佳上限為600 μm。
又，形成於上述硬塗層表面之凹凸形狀的十點平均粗糙度(Rz)較佳為未達0.5 μm，更佳之上限為0.3 μm。若上述Rz為0.5 μm以上，則有凹凸過大而可見白濁感之虞。上述Rz之下限並無特別限定，於可獲得擴散效果之範圍內適當調整。
再者，於本說明書中，上述θ a、Kr、Ra及Rz係根據以依據JIS B 0601-1994之方法所獲得之粗糙度曲線每隔基準長度所求出的值。Ra及Rz為JIS B 0601-1994所定義之值，θ a為根據表面粗糙度測定器：SE-3400使用說明書(1995.07.20修訂)(小坂研究所股份有限公司)中記載之定義而獲得的值，如圖1所示，可利用存在於基準長度L上之凸部高度之和(h1+h2+h3+…+hn)之反正切θ a=tan-1{(h1+h2+h3+…+hn)/L}而求出。
又，上述Kr為藉由下述式所定義之值。
此處，1表示基準長度，f(x)表示粗糙度曲線，Rq為均方根粗糙度且藉由下述式定義。
此種θ a、Kr、Ra及Rz例如可藉由表面粗糙度測定器：SE-3400/小坂研究所股份有限公司製造等測定並求出。
為獲得上述特定之凹凸形狀，可列舉如下方法等：(1)將含有微粒子與黏合劑樹脂之組成物塗佈於透光性基材而形成凹凸；(2)將含有彼此非相溶性之2種黏合劑樹脂之組成物塗佈於透光性基材並藉由相分離而形成凹凸；(3)將黏合劑樹脂塗佈於透光性基材並轉印具有凹凸形狀之壓紋輥而形成凹凸等。於該等之中，就製造容易性之觀點而言，較佳為(1)之方法，以下詳細敍述。
上述硬塗層較佳為含有無機氧化物微粒子。
上述無機氧化物微粒子係形成上述硬塗層表面之凹凸形狀之材料，於本發明之光學積層體中，上述無機氧化物微粒子較佳為，形成凝集體而含於上述硬塗層中，並藉由該無機氧化物微粒子之凝集體而形成上述硬塗層表面之凹凸形狀。
作為無機氧化物粒子，例如可列舉：二氧化矽微粒子、氧化鋁微粒子、氧化鋯微粒子、氧化鈦微粒子、氧化錫微粒子、ATO粒子、氧化鋅微粒子等。
又，上述無機氧化物微粒子較佳為經表面處理。藉由對上述無機氧化物微粒子進行表面處理，可較佳地控制該無機氧化物微粒子之凝集體於上述硬塗層中之分佈，又，亦可謀求無機氧化物微粒子本身之耐化學品性及耐皂化性之提高。
作為上述表面處理，較佳為疏水化處理，例如可列舉將上述無機氧化物微粒子以具有甲基或辛基之矽烷化合物等表面處理劑進行處理之方法等，其中，較佳為以具有辛基之矽烷化合物進行處理之方法。
此處，通常於上述無機氧化物微粒子之表面存在羥基，但藉由進行上述表面處理而上述無機氧化物微粒子表面之羥基變少，進而，可藉由調整 上述表面處理劑之種類或處理量而調整上述無機氧化物微粒子表面之羥基比例。藉此，可控制上述無機氧化物微粒子之凝集程度，容易於硬塗層之表面形成上述特定之凹凸形狀。
又，上述無機氧化物微粒子較佳為非晶質。於上述無機氧化物微粒子為晶質之情形時，有如下情況：因其晶體結構中所含之晶格缺陷而導致無機氧化物微粒子之路易士酸性增強，無法控制無機氧化物微粒子之過度凝集。
作為此種無機氧化物微粒子，其自身容易凝集並容易形成下述凝集體，因此，例如較佳地使用燻製二氧化矽。此處，上述燻製二氧化矽係指以乾式法製作而成之具有200 nm以下之粒徑之非晶質二氧化矽，藉由使包含矽之揮發性化合物以氣相反應而獲得。具體而言，可列舉：例如矽化合物；例如使SiCl4於氫氧焰中水解所生成者等。具體而言，例如可列舉AEROSIL R805(日本Aerosil公司製造)等。
作為上述無機氧化物微粒子之含量，並無特別限定，上述硬塗層中較佳為0.1~5.0質量%。若未達0.1質量%，則有無法於硬塗層表面形成上述特定之凹凸形狀而無法防止干涉條紋的情況，若超過5.0質量%，則有如下情況：過度產生凝集體，因內部擴散及/或於硬塗層產生較大之表面凹凸而產生白濁感問題。更佳之下限為0.5質量%，更佳之上限為3.0質量%。
上述無機氧化物微粒子較佳為平均1次粒徑為1~100 nm。若未達1 nm，則有無法於硬塗層表面形成上述特定之凹凸形狀之情況，若超過100 mn，則因無機氧化物微粒子導致光擴散，而有使用本發明之光學積層體之影像顯示裝置之暗室對比度較差的情況。更佳之下限為5 nm，更佳之上限為50 nm。
再者，上述無機氧化物微粒子之平均1次粒徑為根據剖面電子顯微鏡 (TEM、STEM等穿透式且倍率較佳為5萬倍以上)之影像使用影像處理軟體所測定的值。
上述無機氧化物微粒子較佳為於單粒子狀態下之形狀為球狀。藉由上述無機氧化物微粒子之單粒子為此種球狀，而於將本發明之光學積層體用於影像顯示裝置之情形時，可獲得高對比度之顯示影像。
再者，上述「球狀」例如可列舉圓球狀、橢圓球狀等，係所謂排除非特定形狀之意義。
又，於本發明中，上述無機氧化物微粒子之凝集體較佳為，於上述硬塗層中形成有上述無機氧化物微粒子排列成念珠狀(珍珠項鏈狀)之結構。
藉由於上述硬塗層中形成有上述無機氧化物微粒子排列成念珠狀之凝集體，基於該凝集體之凸部成為傾斜較少之平緩之形狀，故而容易將上述硬塗層之表面凹凸形狀設為上述特定凹凸形狀。
再者，上述無機氧化物微粒子排列成念珠狀之結構例如可列舉：上述無機氧化物微粒子直線狀地連續排列而成之結構(直鏈結構)、複數個該直鏈結構互相纏繞而成之結構、上述直鏈結構具有1個或2個以上複數個無機氧化物微粒子連續而形成之側鏈的分支結構等任意結構。
又，上述無機氧化物微粒子之凝集體較佳為平均粒徑為100 nm~2.0 μm。若未達100 nm，則有無法於硬塗層表面形成上述特定凹凸形狀之情況，若超過2.0 μm，則因上述無機氧化物微粒子之凝集體導致光擴散，而有使用本發明之光學積層體之影像顯示裝置之暗室對比度較差之情況。上述凝集體之平均粒徑之更佳下限為200 nm，更佳之上限為1.5 μm。
再者，上述無機氧化物微粒子之凝集體之平均粒徑係根據剖面電子顯微鏡之觀察(1萬~2萬倍左右)選擇大量含有無機氧化物微粒子之凝集體之5 μm見方區域，測定該區域中之無機氧化物微粒子之凝集體粒徑，對 排名前10之無機氧化物微粒子之凝集體粒徑求平均數。再者，上述「無機氧化物微粒子之凝集體粒徑」係於將無機氧化物微粒子之凝集體剖面以任意2條平行直線夾持時，作為該2條直線間距離最大之2條直線之組合時的直線間距離進行測定。又，上述無機氧化物微粒子之凝集體粒徑亦可使用影像解析軟體算出。
作為上述硬塗層之厚度，較佳為2.0~7.0 μm。若未達2.0 μm，則有容易損傷硬塗層表面之情況，若超過7.0 μm，則不僅無法謀求硬塗層之薄膜化，亦有硬塗層容易破損或出現捲曲問題之情況。上述硬塗層之厚度之更佳範圍為2.0~5.0 μm。再者，上述硬塗層之厚度可藉由剖面顯微鏡觀察進行測定。
上述硬塗層其上述無機氧化物微粒子分散於黏合劑樹脂中。作為上述黏合劑樹脂，較佳為根據上述經疏水化處理之無機氧化物微粒子之疏水性而調整極性。作為調整黏合劑樹脂之極性之方法，例如可列舉調整黏合劑樹脂之羥值。藉由使黏合劑樹脂之極性較佳，而較佳地控制上述無機氧化物微粒子之凝集、分散性，容易形成上述特定之凹凸形狀。
作為黏合劑樹脂，較佳為透明性者，例如較佳為可利用紫外線或電子束硬化之樹脂即電離放射線硬化型樹脂藉由紫外線或電子束之照射硬化而成者。
再者，於本說明書中，所謂「樹脂」，只要未特別提及，則為亦包含單體、低聚物、聚合物等之概念。
作為上述電離放射線硬化型樹脂，例如可列舉：具有丙烯酸酯系等之官能基之化合物等具有1個或2個以上不飽和鍵的化合物。作為具有1個不飽和鍵之化合物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮等。作為具有2個以上不飽和鍵之化合物，例如可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三 丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四新戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、雙酚二(甲基)丙烯酸酯、雙甘油四(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸金剛烷基酯、二(甲基)丙烯酸異冰片酯、二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物等。其中，較佳使用新戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)。再者，於本說明書中「(甲基)丙烯酸酯」係指甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯。又，於本發明中，作為上述電離放射線硬化型樹脂，亦可使用上述化合物經PO、EO等改質而成者。
除上述化合物以外，具有不飽和雙鍵之分子量相對較低之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂等亦可用作上述電離放射線硬化型樹脂。
上述電離放射線硬化型樹脂亦可與溶劑乾燥型樹脂(熱塑性樹脂等之僅使塗佈時之為了調整固形物成分而添加的溶劑乾燥而形成被膜之樹脂)併用而使用。藉由併用溶劑乾燥型樹脂，可於形成硬塗層時有效防止塗液之塗佈面的被膜缺陷。
作為可與上述電離放射線硬化型樹脂併用而使用之溶劑乾燥型樹脂，並無特別限定，通常可使用熱塑性樹脂。
作為上述熱塑性樹脂，並無特別限定，例如可列舉：苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素樹脂、脂環 式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、聚矽氧系樹脂及橡膠或彈性體等。上述熱塑性樹脂較佳為非晶質、且可溶於有機溶劑(尤其是可溶解複數種聚合物或硬化性化合物之共用溶劑)中。尤其是就透明性或耐候性之觀點而言，較佳為苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。
又，上述硬塗層亦可含有熱硬化性樹脂。
作為上述熱硬化性樹脂，並無特別限定，例如可列舉：酚樹脂、脲樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮聚樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
含有上述無機氧化物微粒子及黏合劑樹脂之硬塗層例如可藉由如下方式形成：將含有上述無機氧化物微粒子、黏合劑樹脂之單體成分及溶劑之硬塗層用組成物塗佈於透光性基材上，利用電離放射線照射等使乾燥形成之塗膜硬化。
作為上述硬塗層用組成物所含之溶劑，例如可例示：醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄醇、PGME、乙二醇)、酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等)、醚類(二烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環式烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化烴類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、賽路蘇類(甲基賽路蘇、乙基賽路蘇等)、乙酸賽路蘇類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等，亦可為該等之混合物。
上述硬塗層用組成物較佳為進而含有光聚合起始劑。
作為上述光聚合起始劑，並無特別限定，可使用公知者，就具體例而 言，例如可列舉：苯乙酮類、二苯基酮類、米氏苯甲醯基苯甲酸酯、α-戊基肟酯、9-氧硫類、苯丙酮類、苯偶醯類、苯偶姻類、醯基氧化膦類。又，較佳為將光敏劑混合使用，作為其具體例，例如可列舉：正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。
作為上述光聚合起始劑，於上述黏合劑樹脂為具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系之情形時，較佳為將苯乙酮類、二苯基酮類、9-氧硫類、苯偶姻、安息香甲醚等單獨或混合使用。又，於上述黏合劑樹脂為具有陽離子聚合性官能基之樹脂系之情形時，作為上述光聚合起始劑，較佳為將芳香族重氮鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、安息香磺酸酯等單獨使用或製成混合物使用。
上述硬塗層用組成物中之上述光聚合起始劑的含量較佳為相對於上述黏合劑樹脂100質量份為0.5~10.0質量份。若未達0.5質量份，則有形成之硬塗層之硬塗性能不足之情況，若超過10.0質量份，則亦出現反而阻礙硬化之可能性，故而欠佳。
作為上述硬塗層用組成物中之原料之含有比例(固形物成分)，並無特別限定，通常較佳設為5~70質量%，尤佳設為25~60質量%。
於上述硬塗層用組成物中，依據提高硬塗層之硬度、抑制硬化收縮、控制折射率等目的，亦可添加先前公知之分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、防著色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、調平劑、難燃劑、紫外線吸收劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑、易滑劑等。
作為上述調平劑，例如，就避免硬塗層成為貝納得穴流(Benard Cell)結構而言，較佳為聚矽氧油、氟系界面活性劑等。於塗佈含溶劑之樹脂組成物並進行乾燥之情形時，於塗膜內塗膜表面與內面間產生表面張力差等，由此於塗膜內引起多個對流。由該對流產生之結構被稱為貝納得穴流 結構，成為形成之硬塗層中橘皮或塗佈缺陷等問題之原因。
又，上述貝納得穴流結構有硬塗層表面之凹凸過大而有損光學積層體之外觀之虞。若使用如上所述之調平劑，則可防止該對流，故而不僅可獲得無缺陷或不均之硬塗層膜，亦容易調整硬塗層表面之凹凸形狀。
作為上述硬塗層用組成物之製備方法，只要可均勻混合各成分則並無特別限定，例如，可使用塗料振盪器、珠磨機、捏合機、攪拌器等公知之裝置進行。
作為將上述硬塗層用組成物塗佈於透光性基材上之方法，並無特別限定，例如可列舉：旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模塗法、棒式塗佈法、輥式塗佈法、彎月面塗佈法、軟板印刷法、網版印刷法、液滴塗佈法等公知之方法。
於以上述任一方法塗佈硬塗層用組成物後，為使形成之塗膜乾燥，將其搬送至經加熱之區域，以各種公知之方法使塗膜乾燥使溶劑蒸發。此處藉由選定溶劑相對蒸發速度、固形物成分濃度、塗佈液溫度、乾燥溫度、乾燥風之風速、乾燥時間、乾燥區域之溶劑環境濃度等，可調整無機氧化物微粒子之凝集體之分佈狀態。
尤其是藉由乾燥條件之選定而調整無機氧化物微粒子之凝集體之分佈狀態的方法較為簡便，而較佳。作為具體之乾燥溫度，為30~120℃，乾燥風速較佳為0.2~50 m/s，藉由將於該範圍內經適當調整之乾燥處理進行1次或複數次，可將無機氧化物微粒子之凝集體之分佈狀態調整為所欲之狀態。
又，作為使上述乾燥後之塗膜硬化時之電離放射線之照射方法，例如可列舉使用超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光螢光燈、金屬鹵化物燈等光源之方法。
又，作為紫外線之波長，可使用190~380 nm之波長區域。作為電子束 源之具體例，可列舉科克羅夫-瓦耳頓(Cockcroft-Walton)型、範德格拉夫(Van de Graaff)型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、或直線型、高頻高壓型、高頻型等各種電子束加速器。
本發明之光學積層體較佳為總透光率為90%以上。若未達90%，則於將本發明之光學積層體安裝於影像顯示裝置之表面之情形時，有損害色再現性或視認性之虞。上述總透光率更佳為91%以上。
再者，上述總透光率可使用測霧計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7361之方法進行測定。
又，本發明之光學積層體較佳為霧度未達1%。若超過1%，則有對比度劣化等將本發明之光學積層體設置於影像顯示表面時之視認性降低的情況。較佳為0.5%以下，進而較佳為0.3%以下。
上述霧度可使用測霧計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7136之方法進行測定。
又，本發明之光學積層體較佳為穿透影像清晰度於0.125 mm光梳時為75~95%、且於2.0 mm光梳時為95%以上。若0.125 mm光梳時之穿透影像清晰度未達75%，則有損害顯示影像時之影像清晰性而畫質變差之虞。若超過95%，則有無法較佳地防止干涉條紋之虞。0.125 mm光梳時之穿透影像清晰度更佳為80~90%。又，若2.0 mm光梳時之穿透影像清晰度未達95%，則有損害影像之清晰性且由外光之擴散反射導致產生白濁感之虞。
上述穿透影像清晰度可使用影像性測定器(Suga Test Instruments製造，製品編號：ICM-1T)並藉由依據JIS K-7105之像清晰度之穿透法之方法進行測定。
又，本發明之光學積層體就可降低來自周圍之倒映、提高穿透率而言，較佳為於上述硬塗層之與透光性基材側相反側的表面具有低折 射率層。
再者，於本發明之光學積層體於上述硬塗層上具有上述低折射率層時，該低折射率層必需於與上述硬塗層側相反側的表面形成有隨著形成於上述硬塗層表面之特定凹凸形狀的凹凸形狀。再者，所謂隨著形成於上述硬塗層表面之特定凹凸形狀的凹凸形狀，係指藉由上述低折射率層所形成之凹凸形狀滿足上述凹凸部之平均傾斜角θ a及凹凸之峰度Kr之條件，較佳為滿足上述凹凸之算術平均粗糙度Ra及平均波長λ a之條件。
上述低折射率層係當來自外部之光(例如螢光燈、自然光等)於光學積層體之表面進行反射時實現降低其反射率之作用的層。
作為上述低折射率層，較佳為由1)含有二氧化矽、氟化鎂等低折射率粒子之樹脂、2)低折射率樹脂即氟系樹脂、3)含有二氧化矽或氟化鎂之氟系樹脂、4)二氧化矽、氟化鎂等低折射率物質之薄膜等中之任一者構成。對於氟系樹脂以外之樹脂，可使用與構成上述硬塗層之黏合劑樹脂同樣之樹脂。
又，上述二氧化矽較佳為中空二氧化矽微粒子，此種中空二氧化矽微粒子例如可利用日本特開2005-099778號公報之實施例中記載之製造方法進行製作。
該等低折射率層之折射率較佳為1.45以下，尤佳為1.42以下。
又，低折射率層之厚度並無限定，通常自30 nm~1 μm左右之範圍內適當設定即可。
又，上述低折射率層以單層便可獲得效果，但為了調整更低之最低反射率、或更高之最低反射率，亦可適當設置2層以上之低折射率層。於設置上述2層以上之低折射率層之情形時，較佳為對各低折射率層之折射率及厚度設有差異。
作為上述氟系樹脂，可使用至少於分子中含有氟原子之聚合 性化合物或其聚合物。作為聚合性化合物並無特別限定，例如，較佳為具有以電離放射線進行硬化之官能基、熱硬化之極性基等硬化反應性之基者。又，亦可為同時兼備該等反應性之基之化合物。相對於該聚合性化合物，所謂聚合物，係一概不具有如上所述之反應性基等者。
作為具有上述以電離放射線進行硬化之官能基之聚合性化合物，可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體。更具體而言，可例示：氟烯烴類(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-間二氧雜環戊烯等)。作為具有(甲基)丙烯醯氧基者，亦存在：(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯等於分子中具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物；於分子中具有至少具有3個氟原子之碳數1~14之氟烷基、氟環烷基或氟伸烷基、與至少2個(甲基)丙烯醯氧基之含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
作為上述熱硬化之極性基，較佳者為例如羥基、羧基、胺基、環氧基等氫鍵形成基。該等不僅與塗膜之密合性優異，與二氧化矽等無機超微粒子之親和性亦優異。作為具有熱硬化性極性基之聚合性化合物，例如可列舉：4-氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物；氟乙烯-烴系乙烯醚共聚物；環氧、聚胺酯、纖維素、酚、聚醯亞胺等之各樹脂之氟改質品等。
作為兼備上述以電離放射線進行硬化之官能基與熱硬化之極性基的聚合性化合物，可例示：丙烯酸或甲基丙烯酸之部分及完全氟化烷，烯基、芳基酯類，完全或部分氟乙烯醚類，完全或部分氟乙烯酯類，完全或部分氟乙烯酮類等。
又，作為氟系樹脂，例如可列舉如下者。
至少包含1種具有上述電離放射線硬化性基之聚合性化合物之含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的單體或單體混合物之聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物之至少1種與如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之於分子中不含氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯等含氟單體之均聚物或共聚物等。亦可使用使該等共聚物含有聚矽氧成分而成之含聚矽氧之偏二氟乙烯共聚物。作為此種情形之聚矽氧成分，可例示：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、烷基改質(聚)二甲基矽氧烷、含偶氮基之(聚)二甲基矽氧烷、二甲基聚矽氧、苯基甲基聚矽氧、烷基/芳烷基改質聚矽氧、氟聚矽氧、聚醚改質聚矽氧、脂肪酸酯改質聚矽氧、甲基氫聚矽氧、含矽烷醇基之聚矽氧、含烷氧基之聚矽氧、含苯酚基之聚矽氧、甲基丙烯酸改質聚矽氧、丙烯酸改質聚矽氧、胺基改質聚矽氧、羧酸改質聚矽氧、甲醇改質聚矽氧、環氧改質聚矽氧、巰基改質聚矽氧、氟改質聚矽氧、聚醚改質聚矽氧等。其中，較佳為具有二甲基矽氧烷結構者。
進而，由如下之化合物構成之非聚合物或聚合物亦可用作氟系樹脂。即，可使用：「使於分子中至少具有1個異氰酸酯基之含氟化合物」與「於分子中至少具有1個胺基、羥基、羧基等與異氰酸酯基反應之官能基之化合物」反應所獲得的化合物；使「含氟之聚醚多元醇、含氟之烷基多元醇、含氟之聚酯多元醇、含氟之ε-己內酯改質多元醇等含氟之多元醇」與「具有異氰酸酯基之化合物」反應所獲得之化合物等。
又，亦可將如上述硬塗層中記載之各黏合劑樹脂與上述具有氟原子之聚合性化合物或聚合物一起混合使用。進而，可適當使用用於使反應性基等硬化之硬化劑、用於提高塗佈性或賦予防污性之各種添加劑、 溶劑。
於上述低折射率層之形成中，較佳為，將添加上述材料而成之低折射率層用組成物之黏度設為可獲得較佳之塗佈性之0.5~5 mPa‧s(25℃)、較佳為0.7~3 mPa‧s(25℃)之範圍者。可實現可見光線優異之抗反射層，且可均勻地形成無塗佈不均之薄膜，且可形成密合性尤其優異之低折射率層。
樹脂之硬化手段亦可與上述硬塗層中說明者相同。於為進行硬化處理而利用加熱手段之情形時，較佳為於氟系樹脂組成物中添加藉由加熱而產生例如自由基使聚合性化合物開始聚合的熱聚合起始劑。
低折射率層之層厚(nm)dA較佳為滿足下述式(1)者：dA=m λ/(4nA) (1)
(上述式中，nA表示低折射率層之折射率，m表示正奇數，較佳為表示1，λ為波長，較佳為480~580 nm之範圍之值)。
又，本發明中，低折射率層就低反射率化方面而言，較佳為滿足下述式(2)：120<nAdA<145 (2)。
本發明之光學積層體較佳為對比度比為80%以上，更佳為90%以上。若未達80%，則於將本發明之光學積層體安裝於顯示器表面之情形時，有暗室對比度較差而有損視認性之虞。再者，本說明書中之上述對比度比係藉由以下之方法所測定之值。
即，將冷陰極管光源上設置有擴散板者用作背光單元，使用測定試樣與2片偏光板(Samsung公司製造之AMN-3244TP)，將該測定試樣設置於最表面，將把該偏光板設置成平行偏光鏡(parallel Nicols)時通過之光之亮 度之Lmax除以把該偏光板設置成正交偏光鏡(crossed Nicols)時通過之光之亮度之Lmin所得的值(Lmax/Lmin)設為對比度，將測定試樣為光學積層體(透光性基材+硬塗層等)時之對比度(L1)除以測定試樣為透光性基材時之對比度(L2)所得之值(L1/L2)×100(%)設為對比度比。
再者，上述亮度之測定係於暗室下進行。上述亮度之測定中，使用色彩亮度計(Topcon公司製造之BM-5A)，色彩亮度計之測定角設定為1°，以試樣上之視野 5 mm進行測定。又，背光之光量係以於未設置試樣之狀態下將2片偏光板設置成平行偏光鏡時之亮度成為3600 cd/m2之方式設置。
本發明之光學積層體可藉由於透光性基材上使用含有例如無機氧化物微粒子、黏合劑樹脂之單體成分及溶劑的硬塗層用組成物形成硬塗層而製造。
關於上述硬塗層用組成物及硬塗層之形成方法，可列舉與作為上述硬塗層之形成方法說明者同樣之材料、方法。
本發明之光學積層體可藉由在偏光元件之表面將本發明之光學積層體以該光學積層體之與硬塗層存在之面相反之面進行設置而製成偏光板。又，此種偏光板亦為本發明之一。
作為上述偏光元件並無特別限定，例如可使用：藉由碘等進行染色並經延伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯醇縮甲醛膜、聚乙烯醇縮乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。於上述偏光元件與本發明之光學積層體之層壓處理中，較佳為對透光性基材(三乙醯纖維素膜)進行皂化處理。藉由皂化處理，接著性可變良好且亦可獲得抗靜電效果。
本發明亦為一種具備上述光學積層體或上述偏光板而成之影像顯示裝置。
上述影像顯示裝置可為LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、平板PC、觸控面板、電子紙等影像顯示裝置。
上述之代表性例即LCD係具備穿透性顯示體、及自背面照射上述穿透性顯示體之光源裝置而成。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形時，係於該穿透性顯示體之表面形成有本發明之光學積層體或本發明之偏光板而成。
於本發明為具有上述光學積層體之液晶顯示裝置之情形時，光源裝置之光源自光學積層體之下側照射。再者，亦可於液晶顯示元件與偏光板之間插入相位差板。於該液晶顯示裝置之各層間視需要亦可設置接著劑層。
上述影像顯示裝置即PDP係具備表面玻璃基板(於表面形成電極)、及與該表面玻璃基板對向而於中間封入放電氣體而配置之背面玻璃基板(於表面形成電極及微小之槽，槽內形成紅、綠、藍之螢光體層)而成。於本發明之影像顯示裝置為PDP之情形時，為於上述表面玻璃基板之表面、或其前面板(玻璃基板或膜基板)具備上述光學積層體而成者。
上述影像顯示裝置亦可為對玻璃基板蒸鍍施加電壓就會發光之硫化鋅、二胺類物質(即發光體)並控制施加於基板之電壓而進行顯示的ELD裝置，或者將電信號轉換為光而產生人眼可見之影像之CRT等影像顯示裝置。於該情形時，為於如上所述之各顯示裝置之最表面或其前面板之表面具備上述光學積層體者。
本發明之影像顯示裝置係於任一情形時均可用於電視、計算機、電子紙、觸控面板、平板PC等之顯示器顯示。尤其可較佳地用於CRT、液晶面板、PDP、ELD、FED、觸控面板等高精細影像用顯示器之表面。
本發明之光學積層體係由上述構成構成，故而可不產生白濁感而充分抑制干涉條紋及捲曲之產生，並且謀求硬塗層之薄膜化，可防止製造成本變高。
因此，本發明之光學積層體可較佳地應用於陰極射線管顯示裝置 (CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、電子紙等。
圖1係θ a之測定方法之說明圖。
藉由下述實施例說明本發明之內容，但本發明之內容並不限定於該等實施態樣而解釋。只要無特別說明，則「份」及「%」為質量基準。
(實施例1)
準備透光性基材(厚度60 μm之三乙醯纖維素樹脂膜，Fuji Film公司製造，TD60UL)，於該透光性基材之單面塗佈下述所示之組成之硬塗層用組成物，形成塗膜。繼而，對形成之塗膜以0.2 m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通15秒後，進而以10 m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒進行乾燥，藉此，使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV Systems Japan公司製造，光源H燈管)，於氮環境(氧濃度為200 ppm以下)下以累積光量成為100 mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化，藉此，形成4 μm厚(硬化時)之硬塗層，製作實施例1之光學積層體。
(硬塗層用組成物)
再者，燻製二氧化矽係藉由具有辛基之矽烷化合物(例如，辛基矽烷)以辛基矽烷基取代矽烷醇基而進行疏水化處理者。
(實施例2)
將燻製二氧化矽之摻合量設為1.5質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作實施例2之光學積層體。
(實施例3)
將燻製二氧化矽之摻合量設為0.5質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作實施例3之光學積層體。
(實施例4)
將燻製二氧化矽之摻合量設為2.5質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作實施例4之光學積層體。
(實施例5)
準備透光性基材(厚度60 μm之三乙醯纖維素樹脂膜，Fuji Film公司製造，TD60UL)，於該透光性基材之單面塗佈下述所示之組成之硬塗層用組成物，形成塗膜。繼而，對形成之塗膜以0.2 m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通15秒後，進而以10 m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒進行乾燥，藉此，使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV Systems Japan公司製造，光源H燈管)，於氮環境(氧濃度為200 ppm以下)下以 累積光量成為50 mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化，藉此，形成4 μm厚(硬化時)之硬塗層。
(硬塗層用組成物)
再者，燻製二氧化矽係藉由具有辛基之矽烷化合物(例如，辛基矽烷)以辛基矽烷基取代矽烷醇基而進行疏水化處理者。
繼而，於形成之硬塗層之表面，將下述組成之低折射率層用組成物以乾燥後(40℃×1分鐘)之膜厚成為0.1 μm之方式進行塗佈，使用紫外線照射裝置(Fusion UV Systems Japan公司製造，光源H燈管)，於氮環境(氧濃度為200 ppm以下)下，以累積光量100 mJ/cm2進行紫外線照射而使之硬化，形成低折射率層，製造實施例5之光學積層體。
(低折射率層用組成物)
中空二氧化矽微粒子(該二氧化矽微粒子之固形物成分：20質量%，溶液：甲基異丁基酮，平均粒徑：50 nm)
(實施例6)
將燻製二氧化矽之摻合量設為1.5質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例5相同之方式製作實施例6之光學積層體。
(實施例7)
將燻製二氧化矽之摻合量設為0.5質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例5相同之方式製作實施例7之光學積層體。
(實施例8)
將燻製二氧化矽之摻合量設為2.5質量份，除此以外，以與實施例5相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例5相同之方式製作實施例8之光學積層體。
(比較例1)
未摻合燻製二氧化矽，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作比較例1之光學積層體。
(比較例2)
使用下述所示之組成之硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例1相同之方式進行塗佈而形成塗膜。繼而，對形成之塗膜以0.2 m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通15秒後，進而以10 m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒進行乾燥，藉此，使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV Systems Japan公司製造，光源H燈管)，於氮環境(氧濃度為200 ppm以下)下以累積光量成為100 mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化，藉此，形成10 μm厚(硬化時)之硬塗層，製作比較例2之光學積層體。
(硬塗層用組成物)
(比較例3)
添加3質量份之有機微粒子(親水化處理丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑2.0 μm，折射率1.55，積水化成品工業公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作比較例3之光學積層體。
(比較例4)
添加1.5質量份之有機微粒子(親水化處理丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑2.0 μm，折射率1.515，積水化成品工業公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成 物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作比較例4之光學積層體。
(比較例5)
將燻製二氧化矽之摻合量設為4質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作比較例5之光學積層體。
(比較例6)
未摻合燻製二氧化矽，除此以外，以與實施例5相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例5相同之方式製作比較例6之光學積層體。
(比較例7)
使用下述所示之組成之硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例5相同之方式進行塗佈而形成塗膜。繼而，對形成之塗膜以0.2 m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通15秒後，進而以10 m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒進行乾燥，藉此，使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV Systems Japan公司製造，光源H燈管)，於氮環境(氧濃度為200 ppm以下)下以累積光量成為50 mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化，藉此，形成10 μm厚(硬化時)之硬塗層，其後，與實施例5同樣地設置低折射率層，製作比較例7之光學積層體。
(硬塗層用組成物)
甲基異丁基酮(MIBK) 35質量份
(比較例8)
添加3質量份之有機微粒子(親水化處理丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑2.0 μm，折射率1.55，積水化成品工業公司製造)，除此以外，以與實施例5相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例5相同之方式製作比較例8之光學積層體。
(比較例9)
添加1.5質量份之有機微粒子(親水化處理丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子，平均粒徑2.0 μm，折射率1.515，積水化成品工業公司製造)，除此以外，以與實施例5相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例5相同之方式製作比較例9之光學積層體。
(比較例10)
將燻製二氧化矽之摻合量設為4質量份，除此以外，以與實施例5相同之方式製備硬塗層用組成物，使用該硬塗層用組成物，除此以外，以與實施例5相同之方式製作比較例10之光學積層體。
針對下述項目評價所獲得之實施例及比較例之光學積層體。將全部結果示於表1。
(凹凸部之平均傾斜角(θ a)、凹凸之峰度(Kr)、凹凸之算術平均粗糙度(Ra))
使用小坂研究所股份有限公司製造之表面粗糙度測定器SE-3400，依據JIS B 0601-1994，且以如下條件測定粗糙度曲線，測定θ a、Kr及Ra。
(1)表面粗糙度檢測部之觸針：
型號/SE2555N(2 μm觸針)，小坂研究所股份有限公司製造
(前端曲率半徑2 μm/頂角：90度/材質：金剛石)
(2)表面粗糙度測定器之測定條件：
基準長度(粗糙度曲線之截斷值λ c)：2.5 mm
評價長度(基準長度(截斷值λ c)×5)：12.5 mm
觸針之移動速度：0.5 mm/s
預備長度：(截斷值λ c)×2
縱倍率：2000倍
橫倍率：10倍
再者，通常大多情況下截斷值使用0.8 mm，但於本發明中，將截斷值設定為2.5 mm進行測定。
又，藉由λ a=2 π×(Ra/tan(θ a))之式，算出λ a。
(霧度)
依據JIS K7136，使用霧度計HM-150(村上色彩技術研究所製造)，測定所獲得之光學積層體之霧度。
(穿透影像清晰度)
依據JIS K7105，使用影像性測定器ICM-1T(Suga Test Instruments製造)，藉由穿透測定，測定所獲得之光學積層體之0.125 mm光梳及2.0 mm光梳時之穿透影像清晰度。
(干涉條紋)
將實施例及比較例中所獲得之各光學積層體之與硬塗層相反之面(透光性基材面)經由透明黏著劑貼合於用於防止背面反射之黑丙烯酸板，自硬塗層之面對各光學積層體照射鈉燈，以目視進行觀察，藉由以下基準評價有無產生干涉條紋。
◎：完全無干涉條紋之產生。
○：產生若干干涉條紋，但為無問題之等級。
×：有干涉條紋之產生。
(白濁感)
將實施例及比較例中所獲得之各光學積層體之與硬塗層相反之面(透光性基材面)經由透明黏著劑貼合於黑丙烯酸板，於暗室中於台燈(三波長螢光燈管)下觀察白濁感，藉由以下基準進行評價。
○：未觀察到白色。
×：觀察到白色。
(捲曲)
光學積層體之捲曲之程度係將把實施例及比較例之光學積層體切割為10 cm×10 cm而成的試樣片放置於水平之台(平面)上，將測定硬塗層之端點間之距離時該距離之平均值(mm)以如下方式表示。
○：80 mm以上
×：未達80 mm
如表1所示，實施例之光學積層體於干涉條紋、白濁感、捲曲之全部評價中為良好。
另一方面，比較例1、6之光學積層體由於硬塗層或低折射率層表面之平均傾斜角過小，故而無法防止干涉條紋。比較例2、7之光學積層體中，將使透光性基材膨潤之MEK用作硬塗層用組成物，進而以使硬塗層膜厚為10 μm之方式增多塗佈量，藉此，藉由減少來自硬塗層與透光性基材之界面之反射光而防止干涉條紋，但捲曲之評價較差。比較例3~5、8~10之光學積層體係平均傾斜角或峰度之一者或兩者過大，白濁感較差。
[產業上之可利用性]
本發明之光學積層體可較佳地應用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、觸控面板、電子紙、平板PC等。

Claims (9)

  1. 一種光學積層體，其係於透光性基材之一面上具有硬塗層者，其特徵在於：該硬塗層於表面具有凹凸形狀，該凹凸形狀於將凹凸部之平均傾斜角設為θ a、將凹凸之峰度設為Kr時，該θ a及Kr滿足下式，0.01°≦θ a≦0.10° 1≦Kr≦3。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，硬塗層之凹凸形狀於將凹凸之算術平均粗糙度設為Ra時，滿足下式，0.02μm≦Ra≦0.10μm。
  3. 如申請專利範圍第2項之光學積層體，其中，硬塗層之凹凸形狀以λ a=2 π×(Ra/tan(θ a))表示之平均波長λ a滿足下述式，200μm≦λ a≦800μm。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光學積層體，其中，硬塗層含有無機氧化物微粒子及黏合劑樹脂。
  5. 如申請專利範圍第4項之光學積層體，其中，無機氧化物微粒子為經疏水化處理之無機氧化物微粒子。
  6. 如申請專利範圍第4或5項之光學積層體，其中，無機氧化物微粒子形成凝集體而含於硬塗層中，該凝集體之平均粒徑為100nm~2.0μm。
  7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之光學積層體，其中，於硬塗層之與透光性基材側相反側的表面具有低折射率層，該低折射率層於與該硬塗層側相反側的表面，具有隨著形成於該硬塗層表面之凹凸形狀的凹凸形狀。
  8. 一種偏光板，其係具備偏光元件而成者，其特徵在於：該偏光板於偏光元件表面具備申請專利範圍第1至7項中任一項之光 學積層體。
  9. 一種影像顯示裝置，其具備申請專利範圍第1至7項中任一項之光學積層體、或申請專利範圍第8項之偏光板。
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