WO2016039125A1 - アンチウォーターマークフィルム及びタッチパネルディスプレイ - Google Patents

アンチウォーターマークフィルム及びタッチパネルディスプレイ Download PDF

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WO2016039125A1
WO2016039125A1 PCT/JP2015/073696 JP2015073696W WO2016039125A1 WO 2016039125 A1 WO2016039125 A1 WO 2016039125A1 JP 2015073696 W JP2015073696 W JP 2015073696W WO 2016039125 A1 WO2016039125 A1 WO 2016039125A1
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WO
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layer
awm
film
resin
touch panel
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Application number
PCT/JP2015/073696
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English (en)
French (fr)
Inventor
隆広 榊原
牛田　浩明
Original Assignee
株式会社ダイセル
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Publication date
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    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
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    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements

Definitions

  • the present invention relates to a capacitive touch panel display having a void layer therein, and an anti-watermark film laminated on at least one surface facing through the void layer, and a capacitance scheme including this film It relates to a touch panel display.
  • a touch panel is a device that inputs predetermined information or the like to a computer or the like by pressing a predetermined position with an input means such as a finger or a pen.
  • an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, etc. Can be classified into resistive film type.
  • the electrostatic capacitance method is a method for detecting a position by using a change in electrostatic capacitance.
  • the electrostatic capacitance method adopts an ITO grid method because of its excellent functionality.
  • Capacitive touch panels are in the spotlight as they are used in mobile devices such as smartphones, mobile phones, electronic paper, tablet personal computers (PCs), pen tablets, and game machines.
  • high-definition display devices are beginning to spread in smartphones and tablet PCs, and these devices also require high optical properties such as high transparency and anti-glare properties.
  • a transparent material is used as the display surface (upper transparent electrode) of the touch panel display of such a device
  • a glass material is widely used as the transparent material because it is excellent in transparency and heat resistance.
  • glass materials are easy to break and are broken by dropping or the like, and fragments are easily scattered, it is necessary to take measures to prevent the fragments from scattering even if broken.
  • a film (glass fragment scattering prevention film) formed of a hard-to-break plastic is placed inside the cover glass (back side or A method of attaching to the inner layer) is known.
  • the anti-scattering film is usually composed of a transparent resin layer such as a polyethylene terephthalate (PET) film and an adhesive layer [OCA (optical clear film) laminated on one surface of the transparent resin layer and integrated with a cover glass.
  • Adhesive film etc. and a clear hard coat (CHC) layer which is laminated on the other surface of the transparent resin layer and prevents scratches in the production process and distribution process.
  • an ITO (indium oxide-tin oxide composite oxide) film is laminated on the inner side (back side or inner layer surface) of a cover glass disposed on the outermost surface.
  • an adhesion layer of the anti-scattering film is attached to the ITO film, and the CHC layer side is arranged on a display element (display unit) such as a liquid crystal display (LCD) or an organic electroluminescence (EL) display (OLED).
  • a display element display unit
  • LCD liquid crystal display
  • EL organic electroluminescence
  • the CHC layer and the display element may be integrated through a transparent adhesive layer or the like, but from the viewpoint of productivity, the CHC layer and the display element are bonded between the end portions (peripheral portion or outer frame portion).
  • a method in which a layer (spacer) is integrated to form a gap (space layer) between the hard coat layer and the liquid crystal layer has become widespread.
  • micron-order particles are blended into the hard coat layer to form a micron-order concavo-convex structure on the surface.
  • AFM mark
  • adhesion between the AWM layer and the display element surface is suppressed, and generation of WM is prevented.
  • glare has occurred in the anti-scattering film having an AWM layer containing particles, and visibility has been reduced.
  • the height of the convex portion is increased, the AWM characteristics are improved, but glare is likely to occur, and the AWM characteristics and the optical characteristics are in a trade-off relationship that is difficult to achieve at the same time.
  • Patent Document 1 discloses a display device with a capacitive touch panel that includes a display device and a capacitive touch panel arranged with a gap between the display device and the display device. It is disclosed that the surface roughness of the surface of the display device or the surface of the capacitive touch panel facing through the gap is adjusted to 1.5 nm or more and 400 nm or less.
  • a protective sheet was prepared using a hard coat-forming composition containing polyfunctional (meth) acrylate and colloidal silica having a particle diameter of 100 nm, and an uneven structure having a surface roughness of 50 to 300 nm was formed by this protective sheet. Forming. Further, in the comparative example of this document, a protective sheet having a concavo-convex structure with a surface roughness of 1 nm is produced, a Newton ring is clearly generated, and is attached to the polarizing plate.
  • an object of the present invention is to provide an anti-watermark film capable of preventing the generation of watermarks and suppressing glare even in a high-definition display device in a capacitive touch panel display having a void layer inside, and the film It is providing the electrostatic capacitance type touch panel display provided with.
  • Another object of the present invention is to provide an anti-watermark film capable of suppressing scattering of glass fragments due to glass breakage of a touch panel display including a cover glass, and a capacitive touch panel display provided with this film.
  • Still another object of the present invention is to provide an anti-watermark film having low haze, excellent transparency and scratch resistance, and a capacitive touch panel display provided with this film.
  • the inventors of the present invention are transparent on the inner surface forming the void layer included in the capacitive touch panel display, and have a measurement area of 10 ⁇ m ⁇ 10 ⁇ m on the surface.
  • an anti-watermark film having a fine concavo-convex structure in which the calculated arithmetic average roughness Ra1 is 0.7 nm or more and less than 5 nm and the arithmetic average roughness Ra2 calculated in the measurement area 500 ⁇ m ⁇ 500 ⁇ m is 10 to 50 nm.
  • the anti-watermark film of the present invention is an anti-watermark film laminated on at least one of the surfaces facing each other via the gap layer in a capacitive touch panel display having a gap layer inside.
  • a concavo-convex structure which is transparent and has an arithmetic average roughness Ra1 calculated on the surface with a measurement area of 10 ⁇ m ⁇ 10 ⁇ m of 0.7 nm or more and less than 5 nm and an arithmetic average roughness Ra2 of 10 to 50 nm calculated with a measurement area of 500 ⁇ m ⁇ 500 ⁇ m
  • the anti-watermark film includes a transparent resin layer, a curable composition that is laminated on one surface of the transparent resin layer, and includes a curable resin, a thermoplastic resin, and metal oxide particles having an average primary particle size of 1 to 50 nm.
  • a transparent laminated film comprising an anti-watermark layer having a concavo-convex structure formed on a surface and having an arithmetic average roughness Ra1 calculated from a measurement area of 10 ⁇ m ⁇ 10 ⁇ m of 0.8 nm to less than 1.5 nm.
  • the curable resin includes a curable resin having a tetrafunctional or lower functional group and a curable resin having a pentafunctional or higher functional group, wherein the thermoplastic resin is a cellulose derivative, and the metal oxide fine particles are And at least one selected from the group consisting of antimony-containing tin oxide, antimony oxide, tin oxide and zinc oxide.
  • a low refractive index layer may be further laminated on the surface having the concavo-convex structure, and an adhesive layer is further laminated on the surface opposite to the side having the concavo-convex structure. It may be.
  • the anti-watermark film of the present invention may have a water contact angle of 65 to 80 ° on the surface having the concavo-convex structure.
  • the present invention also includes a capacitive touch panel display having a void layer inside and having the anti-watermark film laminated on at least one surface facing through the void layer.
  • an anti-watermark film may be laminated on the surface on the front side of the touch panel among the surfaces facing each other through the void layer.
  • only one transparent substrate may be included between the gap layer and the display surface. This transparent substrate may be a glass plate having a thickness of 50 to 3000 ⁇ m.
  • the inner surface forming the void layer contained in the capacitive touch panel display (especially a single glass type display) is transparent, and the arithmetic average calculated on the surface with a measurement area of 10 ⁇ m ⁇ 10 ⁇ m Since an anti-watermark film having a concavo-convex structure with a roughness Ra1 of 0.7 nm or more and less than 5 nm and an arithmetic average roughness Ra2 calculated from a measurement area of 500 ⁇ m ⁇ 500 ⁇ m of 10 nm or more and less than 50 nm is laminated, generation of a watermark In addition, glare can be suppressed even in a high-definition display device.
  • the anti-watermark (AWM) film of the present invention is a capacitive touch panel display having a void layer therein, and is laminated on at least one surface of the surface facing through the void layer. Or may be laminated on the rear side surface. When laminated on the front surface of the touch panel, it can also be used as an anti-scattering film for glass fragments on the touch panel provided with a cover glass.
  • the AWM film of the present invention has a relatively small uneven structure on the surface, and the arithmetic average roughness Ra1 calculated in a measurement area of 10 ⁇ m ⁇ 10 ⁇ m is 0.7 nm or more and less than 5 nm (for example, 0.75 nm or more and less than 2 nm).
  • the arithmetic average roughness Ra1 calculated in a measurement area of 10 ⁇ m ⁇ 10 ⁇ m is 0.7 nm or more and less than 5 nm (for example, 0.75 nm or more and less than 2 nm).
  • even a minute uneven structure of less than 1.5 nm can exhibit AWM properties, preferably 0.8 nm or more and less than 1.5 nm, more preferably 0.9 to 1.48 nm (particularly 0.95).
  • Ra1 is too small, the AWM property decreases, and if it is too large, glare is likely to occur on a high-definition display.
  • This uneven structure is
  • the AWM film of the present invention has a larger concavo-convex structure (swell) in addition to the fine concavo-convex structure, and an arithmetic average roughness Ra2 calculated in a measurement area of 500 ⁇ m ⁇ 500 ⁇ m is 10 to 50 nm (for example, 11 to 45 nm), and even a minute uneven structure of 40 nm or less can exhibit AWM properties, and may preferably be about 12 to 44 nm, more preferably about 13 to 40 nm. If Ra2 is too small, the AWM property decreases, and if it is too large, glare is likely to occur on a high-definition display.
  • the uneven structure may be formed on the outermost surface of the AWM film.
  • the low refractive index layer when the low refractive index layer is formed on the outermost surface, the low refractive index layer may have such Ra2. That's fine.
  • Ra2 in addition to Ra1 that is a fine uneven structure, Ra2 that is a undulating structure in such a range makes it possible to achieve both AWM and suppression of glare.
  • Ra1 and Ra2 can be measured by a method based on JIS B0601.
  • the AWM film of the present invention is transparent and has a total light transmittance of 70 to 100%, preferably 80 to 100% (for example, 85 to 99%), more preferably 90, at a thickness of 100 ⁇ m, in accordance with JIS K7361. It is about -98% (particularly 92-96%).
  • the AWM film of the present invention has a small haze, and has a haze ratio in accordance with JIS K7136 at a thickness of 100 ⁇ m, for example, 0.2 to 1.5%, preferably 0.25 to 1%, more preferably 0.3. About 0.6% (particularly 0.4 to 0.5%).
  • a low haze value by having such a low haze value, glare can be suppressed even in a high-definition display, and visibility can be improved.
  • the transmission image definition of the AWM film of the present invention is, for example, 80 to 100%, preferably 85 to 99%, more preferably 88 to 98% (particularly 90 to 97) when an optical comb having a width of 0.5 mm is used. %) Degree.
  • the transmitted image definition is in the above range, scattering of the straight transmitted light is small, so even when the transparent laminated film is disposed in a high-definition display device, scattering from each pixel is reduced and glare is reduced. Can be prevented.
  • the transmitted image definition is a scale for quantifying blurring and distortion of light transmitted through the film.
  • the transmitted image definition is measured through an optical comb that moves the transmitted light from the film, and a value is calculated based on the amount of light in the bright and dark portions of the optical comb. That is, when the film blurs the transmitted light, the image of the slit formed on the optical comb becomes thick, so that the amount of light at the transmissive portion is 100% or less, while the light leaks at the non-transmissive portion, so 0% That's it.
  • the value C of the transmitted image definition is defined by the following equation from the maximum transmitted light value M of the transparent portion and the minimum transmitted light value m of the opaque portion of the optical comb.
  • C (%) [(M ⁇ m) / (M + m)] ⁇ 100 That is, the closer the value of C is to 100%, the smaller the blur of the image by the transparent laminated film [Reference: Suga, Mitamura, Painting Technology, July 1985 issue].
  • the AWM film of the present invention has a low reflectance and may be 10% or less, for example, 0.1 to 8%, preferably 0.5 to 6%, more preferably about 1 to 5%.
  • the AWM film of the present invention has excellent surface wettability, and the water contact angle on the surface having the concavo-convex structure is 80 ° or less (eg, 65 to 80 °), such as 69 to 80 °, The angle is preferably 70 to 75 °, more preferably about 71 to 74 °. If the water contact angle is too low, the slipping property may decrease, or the scratch resistance may decrease.
  • the water contact angle only needs to be on the outermost surface of the AWM film. For example, when the low refractive index layer is formed on the outermost surface, the low refractive index layer has such a water contact angle. If you do.
  • the water contact angle can be measured using an automatic / dynamic contact angle meter, and can be measured in detail by the method described in the examples described later.
  • the material is not particularly limited, and may be an inorganic material or an organic material, but from the viewpoint of excellent mechanical properties such as flexibility, An organic material such as a resin is preferable.
  • the transparent resin layer is laminated on one surface of the transparent resin layer, and the arithmetic average roughness Ra1 and Ra2 are satisfied on the surface.
  • a transparent laminated film including an anti-water mark (AWM) layer having a concavo-convex structure is particularly preferable.
  • the AWM layer may be formed of a cured product of a curable composition containing a curable resin, a thermoplastic resin, and metal oxide particles having an average primary particle size of 1 to 100 nm.
  • curable resin (curable monomer or curable resin precursor) is a compound having a functional group that reacts with heat, active energy rays (such as ultraviolet rays or electron beams), and the like.
  • active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams
  • curable compounds that can be cured or crosslinked by energy rays or the like to form a resin (particularly a cured or crosslinked resin) can be used.
  • the curable resin include thermosetting compounds or resins [low molecular weight compounds having epoxy groups, polymerizable groups, isocyanate groups, alkoxysilyl groups, silanol groups, etc. (for example, epoxy resins, unsaturated polyester resins).
  • photocurable compounds curable by actinic rays such as ultraviolet rays
  • photocurable monomers such as oligomers, etc.
  • oligomers such as oligomers, etc.
  • the compound may be an EB (electron beam) curable compound.
  • a photocurable compound such as a photocurable monomer, an oligomer, or a photocurable resin that may have a low molecular weight may be simply referred to as a “photocurable resin”.
  • the photocurable compound includes, for example, a monomer and an oligomer (or a resin, particularly a low molecular weight resin).
  • the monomer can be classified into, for example, a monofunctional monomer having one polymerizable group and a polyfunctional monomer having at least two polymerizable groups.
  • Examples of the monofunctional monomer include (meth) acrylic monomers such as (meth) acrylic acid esters, vinyl monomers such as vinylpyrrolidone, isobornyl (meth) acrylate, and adamantyl (meth) acrylate. Examples include (meth) acrylate having a bridged cyclic hydrocarbon group.
  • the polyfunctional monomer includes a polyfunctional monomer having about 2 to 8 polymerizable groups.
  • the bifunctional monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) ) Acrylate, butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, alkylene glycol di (meth) acrylate such as hexanediol di (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) ) Acrylates, (poly) oxyalkylene glycol di (meth) acrylates such as polyoxytetramethylene glycol di (meth) acrylate; bridge rings such as tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate and adamantane di (meth) acrylate And di (meth) acrylate having a hydrocarbon group.
  • Examples of the tri- to 8-functional monomer include glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tetra (meth). ) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.
  • oligomers or resins examples include (meth) acrylates of bisphenol A-alkylene oxide adducts, epoxy (meth) acrylates (bisphenol A type epoxy (meth) acrylates, novolac type epoxy (meth) acrylates, etc.), polyester (meth) acrylates ( For example, aliphatic polyester type (meth) acrylate, aromatic polyester type (meth) acrylate, etc.), (poly) urethane (meth) acrylate (polyester type urethane (meth) acrylate, polyether type urethane (meth) acrylate, etc.), Examples thereof include silicone (meth) acrylate.
  • These (meth) acrylate oligomers or resins may contain a copolymerizable monomer exemplified in the section of (meth) acrylic resin in the polymer component.
  • These photocurable compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • the curable resin may contain fluorine atoms or inorganic particles from the viewpoint of improving the strength of the AWM layer.
  • Fluorine-containing curable compounds include fluorides of the above monomers and oligomers, such as fluorinated alkyl (meth) acrylates [for example, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, etc.], fluorine (Poly) oxyalkylene glycol di (meth) acrylate [e.g., fluoroethylene glycol di (meth) acrylate, fluoropropylene glycol di (meth) acrylate, etc.], fluorine-containing epoxy resin, urethane resin and the like.
  • the curable compound containing inorganic particles include inorganic particles having a polymerizable group on the surface (for example, silica particles whose surface is modified with a silane coupling agent having a polymerizable group).
  • inorganic particles having a polymerizable group on the surface for example, silica particles whose surface is modified with a silane coupling agent having a polymerizable group.
  • nano-sized silica particles having a polymerizable group on the surface for example, a polyfunctional hybrid UV curing agent (Z7501) is commercially available from JSR Corporation.
  • a preferable curable resin is a photocurable compound that can be cured in a short time, for example, an ultraviolet curable compound (such as a monomer, an oligomer, or a resin that may have a low molecular weight), or an EB curable compound.
  • an ultraviolet curable compound such as a monomer, an oligomer, or a resin that may have a low molecular weight
  • an EB curable compound such as an ultraviolet curable compound.
  • a practically advantageous curable resin is an ultraviolet curable resin.
  • the curable resin in order to improve the scratch resistance of the AWM layer, has a bifunctional or higher functionality (for example, about 2 to 10 functionalities), preferably a trifunctional or higher functionality (for example, about 3 to 8 functionalities).
  • a curable resin having a polymerizable group in particular, a polyfunctional (meth) acrylate, for example, a trifunctional or higher (particularly 4 to 8 functional) (meth) acrylate (for example, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate). Is preferred.
  • a curable resin having a polymerizable group of 4 or less functional groups (preferably about 2 to 4 functional groups, more preferably about 3 to 4 functional groups) is formed in order to form a specific surface uneven structure on the surface of the AWM layer.
  • a curable resin having a polymerizable group having 5 or more functional groups for example, 5 to 10 functional groups, preferably 5 to 8 functional groups, more preferably about 5 to 7 functional groups.
  • bifunctional to tetrafunctional (meth) acrylates [especially, trifunctional to tetrafunctional (meth) acrylates such as pentaerythritol tri (meth) acrylate] and 5-functional (meth) acrylates [particularly dipentaerythritol hexa (meta And 5-7 functional (meth) acrylates such as acrylate].
  • the former / the latter 99/1 to 1/99, preferably 90/10 to 10/90, more preferably 70/30 to 30/70 (especially 60/40 to 40/60). is there.
  • a specific uneven structure can be formed on the surface of the AWM layer without impairing mechanical properties by combining the curable resins having the number of functional groups at such a ratio.
  • the molecular weight of the curable resin is 5000 or less (for example, 100 to 5000), preferably 2000 or less (for example, 200 to 2000), more preferably 1000 or less (for example, for example) in consideration of compatibility with the thermoplastic resin described later. 300 to 1000).
  • the molecular weight is a weight average molecular weight measured in terms of polystyrene in gel permeation chromatography (GPC), and the low molecular weight can be calculated from the molecular formula.
  • the curable composition may contain a curing agent depending on the type of curable resin.
  • the thermosetting resin may contain a curing agent such as amines and polyvalent carboxylic acids
  • the photocurable resin may contain a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator include conventional components such as acetophenones or propiophenones, benzyls, benzoins, benzophenones, thioxanthones, acylphosphine oxides, and the like.
  • the content of a curing agent such as a photocuring agent is 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 8 parts by weight (particularly 1 part by weight) with respect to 100 parts by weight of the curable resin. About 5 to 5 parts by weight), or about 3 to 8 parts by weight.
  • the curable resin may contain a curing accelerator.
  • the photocurable resin may contain a photocuring accelerator, for example, a tertiary amine (such as a dialkylaminobenzoic acid ester), a phosphine photopolymerization accelerator, and the like.
  • thermoplastic resin is blended to improve mechanical properties such as flexibility with respect to the AWM layer, and is a reactive group (particularly ethylenically unsaturated) involved in the curing reaction of the curable resin.
  • a resin having no polymerizable group such as a bond is preferred.
  • thermoplastic resins examples include styrene resins [polystyrene, copolymers of styrene and (meth) acrylic monomers, AS resins, styrene-butadiene copolymers, etc.], (meth) acrylic resins, and the like.
  • Poly (meth) acrylate such as polymethyl methacrylate, methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer, methyl methacrylate- (meth) acrylic acid ester copolymer, methyl methacrylate-acrylic acid ester -(Meth) acrylic acid copolymer, (meth) acrylic acid ester-styrene copolymer (MS resin, etc.), (meth) acrylic acid-methyl (meth) acrylate-isobornyl (meth) acrylate, etc.], organic Acid vinyl ester resin [ethylene-vinyl acetate copolymer, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, vinyl acetate (Meth) acrylic acid ester copolymer, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl acetal resin, etc.], vinyl ether resins (polyvinyl methyl ether, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl
  • thermoplastic resins styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives, etc. are widely used, but they are excellent in transparency and heat resistance and flexible. From the point that mechanical characteristics such as can be improved, cellulose derivatives are preferred.
  • Cellulose derivatives include cellulose esters, cellulose ethers, and cellulose carbamates.
  • cellulose esters examples include aliphatic organic acid esters (cellulose acetate such as cellulose diacetate and cellulose triacetate; C 2-6 such as cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate). Acylate), aromatic organic acid esters (C 7-12 aromatic carboxylic acid esters such as cellulose phthalate and cellulose benzoate), inorganic acid esters (eg, cellulose phosphate, cellulose sulfate, etc.), and the like.
  • the cellulose esters may be mixed acid esters such as acetic acid and cellulose nitrate esters.
  • cellulose ethers include cyanoethyl cellulose; hydroxy C 2-4 alkyl cellulose such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose; C 1-6 alkyl cellulose such as methyl cellulose and ethyl cellulose; carboxymethyl cellulose or a salt thereof, benzyl cellulose, acetylalkyl A cellulose etc. can be illustrated.
  • cellulose carbamates include cellulose phenyl carbamate.
  • cellulose derivatives can be used alone or in combination of two or more.
  • cellulose esters particularly cellulose C 2-6 acylates such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate are preferable.
  • it is highly soluble in solvents, making it easy to prepare coating liquids, and can easily adjust the viscosity of coating liquids by adding a small amount, while suppressing excessive aggregation of fine particles in the coating liquid.
  • cellulose C 2-4 acylates such as cellulose diacetate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate (in particular, cellulose acetate C 3-4 acylate such as cellulose acetate propionate) are used. preferable.
  • the ratio of the thermoplastic resin is, for example, 0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight (eg 0.3 to 5 parts by weight), more preferably 100 parts by weight of the curable resin. Is about 0.5 to 3 parts by weight (particularly 0.8 to 2 parts by weight).
  • the ratio of the thermoplastic resin is, for example, about 100 to 1000 parts by weight, preferably about 150 to 500 parts by weight, and more preferably about 200 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal oxide fine particles.
  • by adjusting the ratio of the thermoplastic resin it is possible to adjust the balance between the scratch resistance and mechanical properties such as shock absorption and cushioning properties.
  • (C) Metal Oxide Fine Particles In the present invention, by adding metal oxide fine particles to the AWM layer, convection is generated and the distribution of the metal oxide in the resin component becomes non-uniform so that the resin component rises and the AWM. On the surface of the layer, it is possible to form a fine concavo-convex structure capable of suppressing the generation of watermarks and suppressing the generation of glare.
  • the metal oxide fine particles are excellent in transparency and scratch resistance, and when a low refractive index layer is formed thereon, the adhesion with the low refractive index layer can be improved.
  • Examples of the metal oxide constituting the metal oxide fine particles include a Group 4A metal oxide (for example, titanium oxide and zirconium oxide) of the periodic table, a Group 5A metal oxide (for example, vanadium oxide), and a Group 6A metal.
  • Oxides such as molybdenum oxide and tungsten oxide
  • Group 7A metal oxides such as manganese oxide
  • Group 8 metal oxides such as nickel oxide and iron oxide
  • Group 1B metal oxides such as copper oxide
  • Group 2B metal oxides such as zinc oxide
  • Group 3B metal oxides such as aluminum oxide and indium oxide
  • Group 4B metal oxides such as tin oxide
  • Group 5B metal oxides such as antimony oxide
  • metal oxide fine particles can be used alone or in combination of two or more.
  • metal oxides containing antimony, tin, zinc for example, antimony trioxide, antimony tetroxide, antimony pentoxide, antimony-containing tin oxide (antimony-doped tin oxide), tin oxide, zinc oxide
  • fine particles composed of at least one selected from the group consisting of antimony-containing tin oxide, antimony oxide, tin oxide and zinc oxide are particularly preferable.
  • the metal oxide fine particles may be in the form of a dispersion dispersed in a solvent.
  • the solvent include water, alcohols (lower alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (methyl acetate, acetic acid, etc.).
  • solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • the concentration of the metal oxide fine particles in the dispersion is, for example, about 0.1 to 50% by weight, preferably about 1 to 40% by weight, and more preferably about 5 to 30% by weight.
  • a conventional surface treatment may be performed.
  • the shape of the metal oxide fine particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, an ellipsoidal shape, a polygonal shape (polygonal pyramid shape, a rectangular parallelepiped shape, a rectangular parallelepiped shape, etc.), a plate shape, a rod shape, and an indefinite shape. From the viewpoint of forming a uniform uneven structure, an isotropic shape such as a substantially spherical shape is preferable.
  • the number average primary particle size of the metal oxide fine particles is, for example, about 1 to 50 nm, preferably about 1.5 to 40 nm (eg 2 to 30 nm), more preferably about 3 to 15 nm (particularly 5 to 10 nm). If the primary particle size is too small, it is difficult to form a concavo-convex structure on the surface of the AWM layer, and if it is too large, it is difficult to form a fine concavo-convex structure and the wavelength becomes larger than the wavelength of light. , May cause glare.
  • a minute concavo-convex structure can be formed by producing nanometer-sized particles under specific conditions without using particles having a large particle diameter.
  • the number average primary particle size is determined by a conventional method using a particle size distribution analyzer such as a particle size measuring device (“PAR-III” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) based on a dynamic light scattering method. Can be measured.
  • a particle size distribution analyzer such as a particle size measuring device (“PAR-III” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) based on a dynamic light scattering method. Can be measured.
  • the proportion of the metal oxide fine particles is, for example, 0.05 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0.15 to 3 parts by weight (particularly 0 to 100 parts by weight of the curable resin). .2 to 1 part by weight). If the proportion of the fine particles is too small, it is difficult to form a concavo-convex structure on the surface of the AWM layer, and if it is too large, it is difficult to form a fine concavo-convex structure. In the present invention, it is possible to form a concavo-convex structure capable of realizing AWM properties even if the proportion of fine particles is small.
  • additives such as other fine particles (organic fine particles, inorganic fine particles, etc.), leveling agents, stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, etc.), surfactants are included in the AWM layer.
  • Water-soluble polymers, fillers, crosslinking agents, coupling agents, colorants, flame retardants, lubricants, waxes, preservatives, viscosity modifiers, thickeners, antifoaming agents, and the like may be included.
  • the ratio of the additive is, for example, about 0.01 to 10% by weight (particularly 0.1 to 5% by weight) with respect to the entire AWM layer.
  • a curable resin, a thermoplastic resin, and a solvent, a mixture ratio, etc. are concerned.
  • the thickness (average thickness) of the AWM layer is, for example, about 0.5 to 30 ⁇ m, preferably about 0.8 to 20 ⁇ m, more preferably about 1 to 10 ⁇ m (particularly 2 to 5 ⁇ m).
  • Transparent resin layer As the transparent resin layer (or base material layer), a plastic film or sheet (unstretched or stretched plastic film) formed of a transparent resin having high flexibility and excellent crack resistance can be used.
  • the transparent resin the same resin as the thermoplastic resin exemplified in the AWM layer can be used.
  • Preferred transparent resins include, for example, cellulose derivatives [cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate such as cellulose diacetate], polyester resins [PET, polybutylene terephthalate (PBT), polyarylate resins, etc.], polysulfone resins [Polysulfone, Polyethersulfone, etc.], Polyetherketone resin [Polyetherketone, Polyetheretherketone, etc.], Polycarbonate resin (Bisphenol A type polycarbonate, etc.), Polyolefin resin (Polyethylene, Polypropylene, etc.), Cyclic polyolefin type Resins [TOPAS (registered trademark), ARTON (registered trademark), ZEONEX (registered trademark), etc.], halogen-containing resins ( Such as Li vinylidene chloride), (meth) acrylic resin (polymethyl methacrylate resin), a styrene-based resin (polystyrene), vinyl acetate or vinyl alcohol resin (pol
  • Optically isotropic transparent plastic films include, for example, polyesters, cellulose derivatives, and the like, and in particular, poly C 2-4 such as PET and PEN from the viewpoint of excellent balance of heat resistance and transparency. Films formed with alkylene arylates are preferred. Further, the transparent resin layer may be a biaxially stretched film.
  • the transparent resin layer may contain a conventional additive (for example, an ultraviolet absorber) exemplified in the section of the AWM layer.
  • a conventional additive for example, an ultraviolet absorber
  • the ratio of the additive is, for example, about 0.01 to 10% by weight (particularly 0.1 to 5% by weight) with respect to the entire transparent resin layer.
  • the thickness (average thickness) of the transparent resin layer can be selected from a range of, for example, about 5 to 1000 ⁇ m, preferably 15 to 500 ⁇ m, and more preferably 20 to 300 ⁇ m (particularly 30 to 100 ⁇ m).
  • the AWM film of the present invention has an AWM film (particularly an AWM layer) surface on the surface of the concavo-convex structure having the arithmetic average roughness Ra (surface on the side having the concavo-convex structure), particularly on the AWM layer of the transparent laminated film.
  • a low refractive index layer may be further laminated.
  • AWM property can also be improved by laminating
  • the low refractive index layer a conventional low refractive index layer, for example, a low refractive index layer described in JP-A Nos. 2001-100006 and 2008-58723 can be used.
  • the low refractive index layer is usually composed of a low refractive index resin, a combination of a curable resin exemplified in the section of the AWM layer and a fluorine-containing compound or a low refractive index inorganic filler.
  • low refractive index resin examples include fluorine resins such as methylpentene resin, diethylene glycol bis (allyl carbonate) resin, polyvinylidene fluoride (PVDF), and polyvinyl fluoride (PVF).
  • fluorine resins such as methylpentene resin, diethylene glycol bis (allyl carbonate) resin, polyvinylidene fluoride (PVDF), and polyvinyl fluoride (PVF).
  • the low refractive index layer usually preferably contains a fluorine-containing compound or a low refractive index inorganic filler.
  • a fluorine-containing compound or a low refractive index inorganic filler is used, the refractive index of the low refractive index layer is desired. It can be reduced according to.
  • the fluorine-containing compound has a fluorine atom and a functional group (such as a curable group such as a crosslinkable group or a polymerizable group) that reacts with heat, active energy rays (such as ultraviolet rays or electron beams), and the like. And a fluorine-containing resin precursor that can be cured or crosslinked by an active energy ray or the like to form a fluorine-containing resin (particularly a cured or crosslinked resin).
  • a fluorine-containing resin precursor that can be cured or crosslinked by an active energy ray or the like to form a fluorine-containing resin (particularly a cured or crosslinked resin).
  • fluorine-containing resin precursors examples include fluorine atom-containing thermosetting compounds or resins [with fluorine atoms, reactive groups (epoxy groups, isocyanate groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, etc.), polymerizable groups (vinyl). Group, allyl group, (meth) acryloyl group, etc.)], fluorine atom-containing photocurable compound or resin (photocurable fluorine-containing monomer or oligomer, etc.) curable by actinic rays (such as ultraviolet rays) Examples thereof include ultraviolet curable compounds.
  • thermosetting compound or resin for example, a low molecular weight resin obtained using at least a fluorine-containing monomer, for example, a fluorine-containing polyol (particularly a diol) is used instead of a part or all of the polyol component as a constituent monomer.
  • a fluorine-containing monomer for example, a fluorine-containing polyol (particularly a diol) is used instead of a part or all of the polyol component as a constituent monomer.
  • Polyester-based fluorine-containing resin A urethane-based fluorine-containing resin obtained by using a fluorine atom-containing polyol and / or a polyisocyanate component instead of a part or all of the polyol and / or polyisocyanate component can be exemplified. These thermosetting compounds or resins can be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the photocurable compound include monomers and oligomers (or resins, particularly low molecular weight resins).
  • the monomers include monofunctional monomers exemplified in the section of the AWM layer.
  • fluorine atom-containing monomers corresponding to polyfunctional monomers fluorine atom-containing (meth) acrylic monomers such as fluorinated alkyl esters of (meth) acrylic acid, vinyl-based monomers such as fluoroolefins, etc.
  • Monofunctional monomers such as isomers; di (meth) acrylates of fluorinated alkylene glycols such as 1-fluoro-1,2-di (meth) acryloyloxyethane] and the like.
  • the fluorine atom containing oligomer or resin corresponding to the oligomer or resin illustrated by the term of the said glare-proof layer can be used.
  • These photocurable compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • the ratio of the fluorine-containing compound in the low refractive index layer may be, for example, 1% by weight or more with respect to the entire low refractive index layer, for example, about 5 to 90% by weight.
  • the filler described in JP-A-2001-100006 can be used, but a low-refractive index filler such as silica or magnesium fluoride, particularly silica is preferable.
  • the silica may be a hollow silica described in JP-A-2001-233611, JP-A-2003-192994, and the like. Hollow silica not only has a large effect of improving transmittance, but also has an excellent effect of improving AWM properties.
  • the number average particle diameter of the inorganic filler is 100 nm or less, preferably 80 nm or less (for example, 10 to 8 nm), more preferably about 20 to 70 nm.
  • the proportion of the low refractive index inorganic filler in the low refractive index layer may be, for example, 1% by weight or more with respect to the entire low refractive index layer, for example, about 5 to 90% by weight.
  • the inorganic filler having a low refractive index may be surface-modified with a coupling agent (titanium coupling agent or silane coupling agent).
  • the low refractive index layer may contain other inorganic fillers in order to improve the coating film strength.
  • the refractive index of the low refractive index layer is, for example, about 1.3 to 1.5, preferably about 1.35 to 1.45.
  • the refractive index can be measured using a metricon prism coupler at a wavelength of 633 nm.
  • the thickness of the low refractive index layer is, for example, about 50 to 1000 nm, preferably 60 to 500 nm, and more preferably 70 to 300 nm (particularly 80 to 200 nm).
  • the AWM film of the present invention has a transparent resin layer in the case of a transparent laminated film, particularly the back surface (surface opposite to the side having the uneven structure) on which the uneven structure having the arithmetic average roughness Ra is formed.
  • An adhesive layer may be further laminated on the surface on which the AWM layer is not laminated.
  • the adhesive layer may be formed of a transparent binder resin that can be integrated with an electrode of a touch panel, a polarizing plate, or the like. Examples of the transparent binder resin include a conventional adhesive resin or adhesive resin.
  • the adhesive resin examples include thermoplastic resins (polyolefin, cyclic polyolefin, acrylic resin, styrene resin, vinyl acetate resin, polyester, polyamide, thermoplastic polyurethane, etc.), thermosetting resins (epoxy resin, phenol resin, Polyurethane, unsaturated polyester, vinyl ester resin, diallyl phthalate resin, polyfunctional (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, silicone resin, amino resin, cellulose derivative and the like. These adhesive resins can be used alone or in combination of two or more.
  • the adhesive resin examples include terpene resin, rosin resin, petroleum resin, rubber adhesive, modified polyolefin, acrylic adhesive, and silicone adhesive. These adhesive resins may have a crosslinkable group (an isocyanate group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, a methylol group, an alkoxysilyl group, etc.). These adhesive resins can be used alone or in combination of two or more.
  • acrylic adhesives and silicone adhesives are preferred from the viewpoint of excellent optical properties and handleability.
  • acrylic pressure-sensitive adhesive for example, a pressure-sensitive adhesive composed of an acrylic copolymer mainly composed of a C 2-10 alkyl ester of acrylic acid such as ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate or the like can be used.
  • Examples of the copolymerizable monomer of the acrylic copolymer include (meth) acrylic monomers [for example, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) ) Acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-methylolacrylamide, etc.], polymerizable nitrile compound [eg (meth) acrylonitrile, etc.], unsaturated dicarboxylic acid or derivative thereof (Eg, maleic anhydride, itaconic acid, etc.), vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, etc.), aromatic vinyls (eg, styrene, etc.) and the like.
  • acrylic monomers for example, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, hydroxyethyl
  • silicone-based pressure-sensitive adhesive examples include a silicone rubber component [monofunctional R 3 SiO 1/2 (wherein, R represents an alkyl group such as a methyl group, an aryl group such as a phenyl group, etc., the same applies hereinafter). And MQ resin composed of tetrafunctional SiO 2 ] and a silicone resin component (bifunctional R 2 SiO alone or bifunctional R 2 SiO and monofunctional R 3 SiO 1/2 combined oily or gum) And the like can be used.
  • the silicone rubber component may be cross-linked.
  • the adhesive layer may contain a conventional additive (for example, an ultraviolet absorber) exemplified in the section of the AWM layer.
  • a conventional additive for example, an ultraviolet absorber
  • the ratio of the additive is, for example, about 0.01 to 10% by weight (particularly 0.1 to 5% by weight) with respect to the entire adhesive layer.
  • the thickness (average thickness) of the adhesive layer is, for example, about 1 to 100 ⁇ m, preferably 2 to 80 ⁇ m, more preferably 3 to 70 ⁇ m (particularly 5 to 50 ⁇ m).
  • the AWM film of the present invention is not particularly limited as long as the concavo-convex structure having the arithmetic average roughness Ra described above can be formed on one surface, and a conventional film forming method or the like can be used.
  • a transparent laminated film for example, an application step of applying the curable composition to one surface of the transparent resin layer, drying the applied curable composition, and then irradiating active energy rays You may manufacture through the hardening process hardened.
  • the curable composition is usually composed of a mixed liquid (particularly a liquid composition such as a uniform solution) containing the curable resin, the thermoplastic resin, the metal oxide fine particles, and the solvent.
  • the mixed liquid contains a photocurable resin, a thermoplastic resin, metal oxide fine particles, a photopolymerization initiator, and a solvent soluble in the photocurable resin and the thermoplastic resin. Things are used.
  • the solvent can be selected according to the type and solubility of the curable resin and the thermoplastic resin, and can be a solvent that can uniformly dissolve at least solids (curable resin, thermoplastic resin, reaction initiator, other additives). That's fine.
  • solvents include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons ( Cyclohexane etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate etc.), water, alcohols (ethanol, isopropanol, Butanol, cyclohexano
  • solvents can be used alone or in combination of two or more, and may be a mixed solvent.
  • ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone
  • alcohols such as butanol and 1-methoxy-2-propanol are preferable, and these may be mixed.
  • the ratio of the ketones and the alcohols to the former / the latter 90/10 to 10/90, preferably 80/20 to 40/60, more preferably 70/30 to 50/50 (weight ratio). ).
  • the degree of aggregation of metal oxide fine particles may be controlled by appropriately combining solvents.
  • a surface structure having a fine concavo-convex structure and a wavy structure can be formed by combining solvents at such a ratio.
  • the concentration of the solute (curable resin, thermoplastic resin, metal oxide fine particles, reaction initiator, and other additives) in the mixed solution can be selected within a range that does not impair the castability and coating properties.
  • % By weight, preferably 5 to 60% by weight, more preferably 15 to 40% by weight (particularly 20 to 40% by weight).
  • a coating method conventional methods such as roll coater, air knife coater, blade coater, rod coater, reverse coater, bar coater, comma coater, dip squeeze coater, die coater, gravure coater, micro gravure coater, silk screen coater. Method, dip method, spray method, spinner method and the like. Of these methods, the bar coater method and the gravure coater method are widely used. If necessary, the coating solution may be applied a plurality of times.
  • the mixture is further cast or coated, and then the solvent is evaporated.
  • the solvent may be evaporated usually at a temperature of about 40 to 150 ° C., preferably 50 to 120 ° C., more preferably about 60 to 100 ° C., depending on the boiling point of the solvent.
  • the coating liquid does not contain an aggregating agent
  • the nano-sized metal oxide fine particles are appropriately aggregated and become nuclei in the coating liquid, due to the convection action that occurs as the solvent evaporates. It can be presumed that the metal oxide fine particles and the resin component before curing are combined to aggregate on the surface to form a convex portion.
  • the applied curable composition is finally cured by actinic rays (ultraviolet rays, electron beams, etc.) or heat to form an AWM layer.
  • actinic rays ultraviolet rays, electron beams, etc.
  • the curing of the curable resin may be combined with heating, light irradiation, or the like depending on the type of the curable resin.
  • the heating temperature can be selected from an appropriate range, for example, about 50 to 150 ° C.
  • the light irradiation can be selected according to the type of the photocuring component or the like, and usually ultraviolet rays, electron beams, etc. can be used.
  • a general-purpose exposure source is usually an ultraviolet irradiation device.
  • a Deep UV lamp for example, in the case of ultraviolet rays, a Deep UV lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a laser light source (light source such as helium-cadmium laser or excimer laser), etc. may be used. it can.
  • a laser light source light source such as helium-cadmium laser or excimer laser
  • the amount of irradiation light varies depending on the thickness of the coating film, and can be selected from a range of about 10 to 10000 mJ / cm 2 (eg, 50 to 8000 mJ / cm 2 ), for example, 10 to 5000 mJ / cm 2 , preferably 30 to It may be about 3000 mJ / cm 2 , more preferably about 50 to 1000 mJ / cm 2 .
  • light irradiation may be performed in an inert gas atmosphere if necessary.
  • photocuring not only can the resin be fixed immediately by curing the curable resin, but also the precipitation of low molecular components such as oligomers from the inside of the transparent resin layer due to heat can be suppressed.
  • scratch resistance can be imparted to the AWM layer.
  • the coating solution is usually applied or cast in the same manner as the AWM layer, and then cured using actinic rays or heat. Can be formed.
  • a surface structure having a fine concavo-convex structure and a wavy structure can be formed by drying the low refractive index layer at a relatively high drying temperature (temperature for evaporating the solvent).
  • the drying temperature may be 40 to 200 ° C., preferably 60 to 180 ° C., more preferably 80 to 150 ° C. (particularly 100 to 140 ° C.).
  • the AWM layer may be subjected to a surface treatment in order to improve the adhesion of other layers (for example, a low refractive index layer, a transparent conductive layer, etc.) to the AWM layer.
  • a surface treatment include conventional surface treatments such as corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, ozone and ultraviolet irradiation treatment.
  • the capacitive touch panel display of the present invention has a void layer inside, and the AWM film is laminated on at least one of the surfaces facing each other via the void layer.
  • the gap layer is not particularly limited.
  • an adhesive layer spacer
  • a transparent electrode including a transparent conductive layer and a display device such as an LCD or an OLED between end portions (peripheral portion or outer frame portion) of both. It is formed by interposing and integrating.
  • the surface of the transparent electrode may be formed of a transparent conductive layer such as an ITO (indium oxide-tin oxide composite oxide) film, and the surface of the display device is, for example, a polarizing layer in the case of an LCD or the like. It may be formed.
  • the AWM film of the present invention is only required to be laminated on the surface facing through the void layer.
  • the concavo-convex structure may be formed on the surface of the transparent conductive layer.
  • a protective layer such as a hard coat layer
  • it is effective to apply an AWM film on the protective layer.
  • a protective layer such as a hard coat layer
  • a transparent substrate is formed of a glass plate
  • it is possible to suppress scattering of glass fragments due to glass cracking. It is preferable to laminate films.
  • the thickness of the void layer is, for example, about 0.05 to 1 mm, preferably about 0.1 to 0.5 mm, and more preferably about 0.15 to 0.3 mm.
  • the capacitive touch panel display of the present invention only needs to have a void layer inside, but the layer on the surface side of the void layer is easily bent and a watermark is easily generated, and the effect of the present invention is remarkable. From the point of expression, a display (single glass type display) in which only one transparent substrate is included between the gap layer and the display surface is preferable.
  • the transparent substrate only needs to be formed of a transparent material, and includes a substrate formed of the transparent resin or glass exemplified in the section of the transparent resin layer.
  • the AWM film when the AWM film is laminated on the surface on the front side of the touch panel among the surfaces facing the AWM film through the gap layer, the AWM film also acts as an anti-scattering film for glass fragments.
  • a glass plate is preferred.
  • the glass plate examples include soda glass, borosilicate glass, crown glass, barium-containing glass, strontium-containing glass, boron-containing glass, low alkali glass, alkali-free glass, crystallized transparent glass, silica glass, quartz glass, and heat-resistant glass.
  • a glass plate formed by, for example, can be used.
  • the thickness (average thickness) of the transparent substrate is, for example, about 50 to 3000 ⁇ m, preferably about 100 to 2000 ⁇ m, and more preferably about 200 to 1500 ⁇ m.
  • a transparent substrate such as a glass plate usually forms a transparent electrode laminated with a transparent conductive layer.
  • the transparent conductive layer examples include metal oxides such as indium oxide-tin oxide composite oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), InO 2 , SnO 2 , ZnO, gold, silver, platinum, and palladium. It is comprised with the layer (especially metal oxide layers, such as ITO film
  • ITO indium oxide-tin oxide composite oxide
  • FTO fluorine-doped tin oxide
  • FTO fluorine-doped tin oxide
  • FTO fluorine-doped tin oxide
  • Such a transparent conductive layer can be formed by a conventional method such as sputtering, vapor deposition, chemical vapor deposition (usually sputtering).
  • the transparent conductive layer formed on the transparent substrate is usually formed in a plane shape in the analog method and in a stripe shape in the digital method, depending on the type of the touch panel.
  • a method of forming the transparent conductive layer in a planar shape or a stripe shape for example, a method of forming a transparent conductive layer on the entire surface of the glass substrate and then patterning the transparent conductive layer into a planar shape or a stripe shape by etching, or forming a pattern shape in advance. The method etc. are mentioned.
  • the AWM film When an AWM film is laminated on the front surface of the touch panel, the AWM film may be laminated on the transparent conductive layer of such a transparent electrode via an adhesive layer of the AWM film.
  • the capacitive touch panel display of the present invention may be further combined with other optical elements (for example, various optical elements disposed in an optical path such as a polarizing plate, a retardation plate, a light guide plate).
  • other optical elements for example, various optical elements disposed in an optical path such as a polarizing plate, a retardation plate, a light guide plate.
  • the AWM film may be laminated on the polarizing plate via an adhesive layer of the AWM film.
  • Total light transmittance and haze Using a haze meter (trade name “NDH-5000W” manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.), the total light transmittance was measured according to JIS K7361, and the haze was measured according to JIS K7136.
  • the black film was bonded to the transparent resin layer side of the transparent laminated film, and the integrated reflectance (visibility conversion) was measured using an integrating sphere reflection intensity measuring device (U-3300, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • [Arithmetic mean roughness Ra1] Based on JIS B0601, the arithmetic mean roughness of the surface (uneven surface) of the AWM layer side of the AWM film was measured from the adhesive layer side of the AWM film obtained in Examples and Comparative Examples by the following procedure. That is, using a scanning probe microscope (manufactured by SII Nano Technology), a silicon cantilever was used as a probe, the measurement mode was set to Taping mode, and the measurement area was set to 10 ⁇ m ⁇ 10 ⁇ m to capture an image. After the obtained image is subjected to a flattening process (0th order) and a planefit process (XY) once as an additional process for removing waviness using the analysis software attached to the scanning probe microscope. The arithmetic average roughness Ra1 was calculated.
  • the arithmetic average roughness Ra2 was measured using a non-contact surface shape measurement system (“VertScan 2.0” manufactured by Ryoka System Co., Ltd.) with a measurement area of 500 ⁇ m ⁇ 500 ⁇ m.
  • a 0.7 mm transparent glass plate was bonded to the AWM film via the adhesive layer of the AWM film obtained in the examples and comparative examples.
  • a 10-inch size polarizing plate having a 1 cm width and a 0.2 mm gap on the outer periphery was overlapped with the AWM layer of the AWM film.
  • the central portion of the transparent glass plate was pressed with a load of 20 N / cm 2 for 10 seconds and released, and the state after 10 seconds was evaluated according to the following criteria.
  • A The AWM film and the transparent glass plate are not in close contact.
  • O The AWM film and the transparent glass plate are in close contact with each other.
  • Anti-watermark layer coating solution AWM-1 50 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (“DPHA” manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.), 50 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (“PETRA” manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.), cellulose acetate propionate (Eastman) "CAP") 1.2 parts by weight, mixed with 131 parts by weight of methyl ethyl ketone (MEK), 65 parts by weight of 1-methoxy-2-propanol (MMPG), 22 parts by weight of 1-butanol (BuOH) and 24 parts by weight of cyclohexanone Dissolved in solvent.
  • MEK methyl ethyl ketone
  • MMPG 1-methoxy-2-propanol
  • BuOH 1-butanol
  • Solution 1.5 parts by weight was added and stirred for 1 hour to prepare AWM layer coating solution: AWM-1.
  • Anti-watermark layer coating solution AWM-2
  • AWM-2 An anti-watermark layer coating solution: AWM-2 was prepared in the same manner as AWM-1, except that the amount of ATO particles added was changed to 3.0 parts by weight.
  • Anti-watermark layer coating solution AWM-3
  • AWM-3 was prepared in the same manner as AWM-1, except that the amount of ATO particles added was changed to 4.5 parts by weight.
  • AWM-4 An anti-watermark layer coating solution: AWM-4 was prepared in the same manner as AWM-1, except that the amount of ATO particles added was changed to 7.5 parts by weight.
  • Anti-watermark layer coating solution AWM-5
  • AWM-5 was prepared in the same manner as AWM-1, except that the amount of ATO particles added was changed to 20 parts by weight.
  • Anti-watermark layer coating solution AWM-6
  • AWM-6 was prepared in the same manner as AWM-1, except that the amount of ATO particles added was changed to 0.5 parts by weight.
  • Anti-watermark layer coating solution AWM-7
  • a commercially available acrylic fine particle dispersion (“K-001” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., solid content: 20% by weight) was used.
  • Anti-watermark layer coating solution AWM-8
  • AWM-8 was prepared in the same manner as AWM-1, except that the amount of ATO particles added was changed to 30 parts by weight.
  • LC Low refractive index layer coating liquid
  • ELCOM P-5063 manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., solid content: 3% by weight
  • IPA isopropyl alcohol
  • Example 1 As the transparent resin layer, a PET film (Mitsubishi Resin Co., Ltd., PET, thickness 75 ⁇ m) was used, and the AWM layer coating solution AWM-1 was applied on the film using a bar coater # 8. Dry at 80 ° C. for 1 minute.
  • the coating film is passed through a UV irradiation device (USHIO INC., High pressure mercury lamp, UV irradiation amount: 100 mJ / cm 2 ) to perform UV curing treatment, and has a fine surface uneven structure and hard coat properties.
  • a layer was formed.
  • the thickness of the AWM layer in the obtained transparent laminated film was about 3 ⁇ m.
  • the low refractive index layer coating liquid LC was applied using a bar coater # 4 and dried at 120 ° C. for 1 minute. Thereafter, the coating film was passed through an ultraviolet irradiation device (USHIO INC., High-pressure mercury lamp, ultraviolet irradiation amount: 100 mJ / cm 2 ) to carry out ultraviolet curing treatment to form a low refractive index layer.
  • the thickness of the low refractive index layer in the obtained low reflection transparent laminated film (AWM film) was about 100 nm.
  • An adhesive layer having a thickness of 25 ⁇ m was formed on the surface of the PET film of the obtained AWM film.
  • Examples 2 to 5 and Comparative Example 1 An AWM film was produced in the same manner as in Example 1 except that AWM-2 to 6 were used instead of AWM-1 as the AWM layer coating solution.
  • Comparative Example 2 As the transparent resin layer, a PET film (Mitsubishi Resin Co., Ltd., PET, thickness 75 ⁇ m) was used. After coating the AWM layer coating liquid AWM-7 on this film using a bar coater # 8, Dry at 80 ° C. for 1 minute. The coating film is passed through a UV irradiation device (USHIO INC., High pressure mercury lamp, UV irradiation amount: 100 mJ / cm 2 ) to perform UV curing treatment, and to form an AWM layer having a surface uneven structure and hard coat properties. Formed. The thickness of the AWM layer in the obtained transparent laminated film (AWM film) was about 3 ⁇ m. An adhesive layer having a thickness of 25 ⁇ m was formed on the surface of the PET film of the obtained AWM film.
  • a UV irradiation device USHIO INC., High pressure mercury lamp, UV irradiation amount: 100 mJ / cm 2
  • Comparative Example 3 On the AWM layer of the transparent laminated film (film before forming the adhesive layer) obtained in Comparative Example 2, the low refractive index layer coating liquid LC was applied using a bar coater # 4, and the temperature was 120 ° C. Dried for 1 minute. Thereafter, the coating film was passed through an ultraviolet irradiation device (USHIO INC., High-pressure mercury lamp, ultraviolet irradiation amount: 100 mJ / cm 2 ) to carry out ultraviolet curing treatment to form a low refractive index layer. The thickness of the low refractive index layer in the obtained low reflection transparent laminated film (AWM film) was about 100 nm. An adhesive layer having a thickness of 25 ⁇ m was formed on the surface of the PET film of the obtained AWM film.
  • an ultraviolet irradiation device USHIO INC., High-pressure mercury lamp, ultraviolet irradiation amount: 100 mJ / cm 2
  • Comparative Example 4 As the transparent resin layer, a PET film (Mitsubishi Resin Co., Ltd., PET, thickness 75 ⁇ m) was used. After coating the AWM layer coating liquid AWM-8 on this film using a bar coater # 8, Dry at 80 ° C. for 1 minute. The coating film is passed through a UV irradiation device (USHIO INC., High pressure mercury lamp, UV irradiation amount: 100 mJ / cm 2 ) to perform UV curing treatment, and to form an AWM layer having a surface uneven structure and hard coat properties. Formed. The thickness of the AWM layer in the obtained transparent laminated film (AWM film) was about 3 ⁇ m. An adhesive layer having a thickness of 25 ⁇ m was formed on the surface of the PET film of the obtained AWM film.
  • a UV irradiation device USHIO INC., High pressure mercury lamp, UV irradiation amount: 100 mJ / cm 2
  • Table 1 shows the results of evaluating the AWM films obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4.
  • the AWM films of the examples are excellent in scratch resistance and optical properties, and can suppress the occurrence of glare even in a high-definition display, and also have AWM properties.
  • the AWM film of the comparative example cannot achieve both suppression of glare and AWM properties.
  • the AWM film of the present invention can be used for a capacitive touch panel display having a void layer inside.
  • a touch panel display for example, a display device (LCD, plasma display device) in a display unit of an electric / electronic or precision device such as a PC, a television, a mobile phone (smart phone), electronic paper, a game machine, a mobile device, a clock, a calculator, etc. , An organic or inorganic EL display device, etc.) can be used for a capacitive touch panel display used in combination.
  • a projected capacitive touch panel for example, a high-definition display such as an LCD or an OLED
  • an ITO grid system such as a PC, 4K TV, smartphone, tablet PC, pen tablet, or game machine. It is useful as an anti-watermark film of a touch panel.

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Abstract

　内部に空隙層を有する静電容量方式タッチパネルディスプレイにおいて、前記空隙層を介して対向する表面の少なくとも一方の表面に、透明であり、表面に測定エリア１０μｍ×１０μｍで算出した算術平均粗さＲａ１が０．７ｎｍ以上５ｎｍ未満、かつ測定エリア５００μｍ×５００μｍで算出した算術平均粗さＲａ２が１０～５０ｎｍである凹凸構造を有するアンチウォーターマークフィルムを積層する。特に、空隙層を介して対向する表面のうち、タッチパネルのフロント側の表面に、アンチウォーターマークフィルムを積層してもよい。このフィルムは、内部に空隙層を有する静電容量方式タッチパネルディスプレイにおいて、ウォーターマークの発生を防止し、かつ高精細表示装置であってもギラツキを抑制できる。

Description

アンチウォーターマークフィルム及びタッチパネルディスプレイ
　本発明は、内部に空隙層を有する静電容量方式タッチパネルディスプレイにおいて、前記空隙層を介して対向する表面の少なくとも一方の表面に積層されるアンチウォーターマークフィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルディスプレイに関する。
　マンマシンインターフェースとしての電子ディスプレイの進歩に伴い、対話型の入力システムが普及し、なかでもタッチパネル（座標入力装置）をディスプレイと一体化した装置がＡＴＭ（現金自動受払機）、商品管理、アウトワーク（外交、セールス）、案内表示、娯楽機器などで広く使用されている。液晶ディスプレイなどの軽量・薄型ディスプレイでは、キーボードレスにでき、その特長が生きることから、モバイル機器にもタッチパネルが使用されるケースが増えている。タッチパネルは、指やペンなどの入力手段によって所定位置を押圧することにより、コンピュータなどに所定の情報等を入力する装置であり、位置検出の方法により、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などに分類できる。
　これらの方式のうち、静電容量方式は、静電容量の変化を利用し、位置の検出を行う方式であるが、近年、機能性に優れる点から、ＩＴＯグリッド方式を採用する投影型静電容量方式タッチパネルが、スマートフォン、携帯電話、電子ペーパー、タブレット型パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ペンタブレット、遊戯機器などのモバイル機器で採用されて脚光を浴びている。特に、スマートフォンやタブレット型ＰＣなどでは、高精細な表示装置も普及し始めており、これらのデバイスでは、高度な透明性や防眩性などの光学特性も要求される。また、表示パネルの画素数がフルハイビジョンテレビの４倍ある高解像度のテレビ（４Ｋテレビ）のディスプレイにタッチパネルを搭載したテレビや、建築分野や医療分野で利用される高解像度のペン入力デバイスも開発されている。このようなデバイスのタッチパネルディスプレイの表示面（上部透明電極）としては透明材料が使用されるが、透明材料としては、透明性や耐熱性に優れる点から、ガラス材料が汎用されている。しかし、ガラス材料は、割れ易く、落下などにより砕けて破片が飛散し易いため、割れても破片が飛散しないための対策を採る必要がある。そこで、ガラス材料で形成された上部電極（カバーガラス）の割れによる破片の飛散を防止する方法として、割れ難いプラスチックで形成されたフィルム（ガラス破片の飛散防止フィルム）をカバーガラスの内側（裏側又は内層）に貼付する方法が知られている。
　飛散防止フィルムは、通常、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどの透明樹脂層と、この透明樹脂層の一方の面に積層され、かつカバーガラスと一体化するための粘着層［ＯＣＡ（オプティカル・クリア・アドヒーシブ）フィルムなど］と、前記透明樹脂層の他方の面に積層され、かつ生産工程や流通工程における傷の発生を防止するためのクリアハードコート（ＣＨＣ）層とで形成されている。例えば、ＩＴＯグリッド方式を採用する静電容量方式タッチパネルでは、最表面に配設されたカバーガラスの内側（裏側又は内層面）にＩＴＯ（酸化インジウム－酸化錫系複合酸化物）膜が積層されているが、このＩＴＯ膜に対して、前記飛散防止フィルムの粘着層が貼付され、ＣＨＣ層側が液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ（ＯＬＥＤ）などの表示素子（表示ユニット）に配設される。ＣＨＣ層と表示素子とは、透明粘着層などを介して一体化されることもあるが、生産性などの点から、ＣＨＣ層及び表示素子の端部（周縁部又は外枠部）間に接着層（スペーサ）を介在させて一体化し、ハードコート層と液晶層との間には空隙（空間層）を形成する方法が普及している。さらに、近年、ＰＣタブレットなどでは、軽量化及び薄肉化の要望が大きいため、上部電極のカバーガラス（ガラス基板）として１枚のガラス基板のみを用いる１枚ガラスタイプも普及している。しかし、このような空間層（空間部）を設けたＩＴＯグリッド方式の静電容量方式タッチパネル（特に１枚ガラスタイプ）では、指やペンなどで表示面に接触すると、上部電極が湾曲し易く、ＣＨＣ層と表示素子の表面（ＬＣＤにおける偏光層など）とが密着して離れずに、黒くなる現象（黒点）が発生する。この現象はウォーターマーク（ＷＭ）と称されるが、この現象に対して、従来のタッチパネルでは、ハードコート層にミクロンオーダーの粒子を配合し、表面にミクロンオーダーの凹凸構造を形成し、アンチウォーターマーク（ＡＷＭ）層とすることにより、ＡＷＭ層と表示素子表面との密着を抑制し、ＷＭの発生を防止していた。しかし、近年のタッチパネルディスプレイの高精細化に伴い、粒子を含むＡＷＭ層を有する飛散防止フィルムでは、ギラツキが発生し、視認性が低下していた。特に、凸部の高さを大きくすれば、ＡＷＭ特性は向上する反面、ギラツキは発生し易くなり、ＡＷＭ性と光学特性とは両立困難なトレードオフの関係にある。
　特許第５４４０７４７号公報（特許文献１）には、表示装置と、この表示装置との間に隙間を設けて配置された静電容量方式タッチパネルとを備えた静電容量方式タッチパネル付き表示装置において、前記隙間を介して対向する前記表示装置の表面又は前記静電容量方式タッチパネルの表面における表面粗さを１．５ｎｍ以上４００ｎｍ以下に調整することが開示されている。この文献の実施例では、多官能（メタ）アクリレート及び粒子径１００ｎｍのコロイダルシリカを含むハードコート形成組成物を用いて保護シートを作製し、この保護シートにより表面粗さ５０～３００ｎｍの凹凸構造を形成している。また、この文献の比較例では、表面粗さ１ｎｍの凹凸構造を有する保護シートが作製され、ニュートンリングが明確に発生し、偏光板とも付着している。
　しかし、この静電容量方式タッチパネル付き表示装置でも、近年の高精細化が進んだタブレット型ＰＣなどでは、ギラツキが発生し、光学特性は十分ではなかった。
特許第５４４０７４７号公報（特許請求の範囲、実施例）
　従って、本発明の目的は、内部に空隙層を有する静電容量方式タッチパネルディスプレイにおいて、ウォーターマークの発生を防止し、かつ高精細表示装置であってもギラツキを抑制できるアンチウォーターマークフィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルディスプレイを提供することにある。
　本発明の他の目的は、カバーガラスを含むタッチパネルディスプレイのガラスの割れによるガラス破片の飛散を抑制できるアンチウォーターマークフィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルディスプレイを提供することにある。
　本発明のさらに他の目的は、低ヘイズであり、透明性に優れるとともに、耐擦傷性も有するアンチウォーターマークフィルム及びこのフィルムを備えた静電容量方式タッチパネルディスプレイを提供することにある。
　本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討の結果、静電容量方式タッチパネルディスプレイの内部に含まれる空隙層を形成する内表面に、透明であり、かつ表面に測定エリア１０μｍ×１０μｍで算出した算術平均粗さＲａ１が０．７ｎｍ以上５ｎｍ未満、かつ測定エリア５００μｍ×５００μｍで算出した算術平均粗さＲａ２が１０～５０ｎｍである微小の凹凸構造を有するアンチウォーターマークフィルムを積層することにより、従来の技術常識ではアンチウォーターマーク性が発現しないと考えられていた低いＲａであっても、微小な凹凸構造に加えて、大きなうねりに該当する凹凸構造も併せ持つことにより、ウォーターマークの発生を防止でき、アンチウォーターマーク特性と高精細表示装置におけるギラツキの抑制とを両立できることを見出し、本発明を完成した。
　すなわち、本発明のアンチウォーターマークフィルムは、内部に空隙層を有する静電容量方式タッチパネルディスプレイにおいて、前記空隙層を介して対向する表面の少なくとも一方の表面に積層されるアンチウォーターマークフィルムであって、透明であり、かつ表面に測定エリア１０μｍ×１０μｍで算出した算術平均粗さＲａ１が０．７ｎｍ以上５ｎｍ未満かつ測定エリア５００μｍ×５００μｍで算出した算術平均粗さＲａ２が１０～５０ｎｍである凹凸構造を有する。前記アンチウォーターマークフィルムは、透明樹脂層と、この透明樹脂層の一方の面に積層され、かつ硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１～５０ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成され、かつ表面に測定エリア１０μｍ×１０μｍで算出した算術平均粗さＲａ１が０．８ｎｍ以上１．５ｎｍ未満である凹凸構造を有するアンチウォーターマーク層とを含む透明積層フィルムであってもよい。前記硬化性樹脂は、４官能以下の重合性基を有する硬化性樹脂と、５官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂とを含み、熱可塑性樹脂がセルロース誘導体であり、金属酸化物微粒子が、アンチモン含有酸化錫、酸化アンチモン、酸化錫及び酸化亜鉛からなる群から選択された少なくとも一種であってもよい。
　本発明のアンチウォーターマークフィルムは、凹凸構造を有する側の表面に、さらに低屈折率層が積層されていてもよく、凹凸構造を有する側とは反対側の表面に、さらに接着層が積層されていてもよい。本発明のアンチウォーターマークフィルムは、凹凸構造を有する側の表面の水接触角が６５～８０°であってもよい。
　本発明には、内部に空隙層を有し、かつ前記空隙層を介して対向する表面の少なくとも一方の表面に、前記アンチウォーターマークフィルムが積層された静電容量方式タッチパネルディスプレイも含まれる。本発明のタッチパネルディスプレイは、空隙層を介して対向する表面のうち、タッチパネルのフロント側の表面に、アンチウォーターマークフィルムが積層されていてもよい。本発明のタッチパネルは、前記空隙層とディスプレイ表面との間に含まれる透明基板が１枚のみであってもよい。この透明基板が、厚み５０～３０００μｍのガラス板であってもよい。
　本発明では、静電容量方式タッチパネルディスプレイ（特に１枚ガラスタイプのディスプレイ）の内部に含まれる空隙層を形成する内表面に、透明であり、かつ表面に測定エリア１０μｍ×１０μｍで算出した算術平均粗さＲａ１が０．７ｎｍ以上５ｎｍ未満かつ測定エリア５００μｍ×５００μｍで算出した算術平均粗さＲａ２が１０ｎｍ以上５０ｎｍ未満である凹凸構造を有するアンチウォーターマークフィルムが積層されているため、ウォーターマークの発生を防止し、かつ高精細表示装置であってもギラツキを抑制できる。また、空隙層を介して対向する表面のうち、タッチパネルのフロント側の表面に、アンチウォーターマークフィルムを積層すると、カバーガラスを含むタッチパネルディスプレイのガラスの割れによるガラス破片の飛散を抑制できる。さらに、特定の硬化性組成物の硬化物で形成すると、低ヘイズであり、透明性に優れるとともに、耐擦傷性も向上できる。
　［アンチウォーターマークフィルムの特性］
　本発明のアンチウォーターマーク（ＡＷＭ）フィルムは、内部に空隙層を有する静電容量方式タッチパネルディスプレイにおいて、前記空隙層を介して対向する表面の少なくとも一方の表面に積層され、タッチパネルのフロント側の表面に積層されてもよく、リア側の表面に積層されてもよい。タッチパネルのフロント側の表面に積層すると、カバーガラスを備えたタッチパネルに対するガラス破片の飛散防止フィルムとしても利用できる。
　本発明のＡＷＭフィルムは、表面に比較的小さい凹凸構造を有しており、測定エリア１０μｍ×１０μｍで算出した算術平均粗さＲａ１が０．７ｎｍ以上５ｎｍ未満（例えば、０．７５ｎｍ以上２ｎｍ未満）であり、特に１．５ｎｍ未満の微小な凹凸構造であっても、ＡＷＭ性を発現でき、好ましくは０．８ｎｍ以上１．５ｎｍ未満、さらに好ましくは０．９～１．４８ｎｍ（特に０．９５～１．４５ｎｍ）程度であってもよい。Ｒａ１が小さすぎると、ＡＷＭ性が低下し、大きすぎると、高精細ディスプレイでギラツキが発生し易い。この凹凸構造は、ＡＷＭフィルムの最表面で形成されていればよく、例えば、低屈折率層が最表面に形成されている場合は、低屈折率層が、このようなＲａ１を有していればよい。
　本発明のＡＷＭフィルムは、前記微細な凹凸構造に加えて、より大きな凹凸構造（うねり）も有しており、測定エリア５００μｍ×５００μｍで算出した算術平均粗さＲａ２が１０～５０ｎｍ（例えば１１～４５ｎｍ）であり、特に４０ｎｍ以下の微小な凹凸構造であっても、ＡＷＭ性を発現でき、好ましくは１２～４４ｎｍ、さらに好ましくは１３～４０ｎｍ程度であってもよい。Ｒａ２が小さすぎると、ＡＷＭ性が低下し、大きすぎると、高精細ディスプレイでギラツキが発生し易い。この凹凸構造は、ＡＷＭフィルムの最表面で形成されていればよく、例えば、低屈折率層が最表面に形成されている場合は、低屈折率層が、このようなＲａ２を有していればよい。本発明では、微細な凹凸構造である前記Ｒａ１に加えて、うねり構造であるＲａ２をこのような範囲で有することにより、ＡＷＭ性とギラツキの抑制とを両立できる。
　なお、本発明では、Ｒａ１及びＲａ２は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠した方法で測定できる。
　本発明のＡＷＭフィルムは、透明であり、厚み１００μｍにおいて、ＪＩＳ　Ｋ７３６１に準拠した全光線透過率が、例えば７０～１００％、好ましくは８０～１００％（例えば８５～９９％）、さらに好ましくは９０～９８％（特に、９２～９６％）程度である。
　本発明のＡＷＭフィルムは、ヘイズも小さく、厚み１００μｍにおいて、ＪＩＳ　Ｋ７１３６に準拠したヘイズ率が、例えば、０．２～１．５％、好ましくは０．２５～１％、さらに好ましくは０．３～０．６％（特に０．４～０．５％）程度である。本発明では、このような低いヘイズ値を有することにより、高精細ディスプレイでもギラツキを抑制でき、視認性を向上できる。
　本発明のＡＷＭフィルムの透過像鮮明度は、０．５ｍｍ幅の光学櫛を使用した場合、例えば、８０～ｌ００％、好ましくは８５～９９％、さらに好ましくは８８～９８％（特に９０～９７％）程度である。透過像鮮明度が前記範囲にあると、直進透過光の散乱が少ないため、透明積層フィルムを高精細表示装置に配設した場合であっても、各々の画素からの散乱が少なくなり、ギラツキを防止できる。
　透過像鮮明度とは、膜を透過した光のボケや歪みを定量化する尺度である。透過像鮮明度は、膜からの透過光を移動する光学櫛を通して測定し、光学櫛の明暗部の光量により値を算出する。すなわち、膜が透過光をぼやかす場合、光学櫛上に結像されるスリットの像は太くなるため、透過部での光量は１００％以下となり、一方、不透過部では光が漏れるため０％以上となる。透過像鮮明度の値Ｃは光学櫛の透明部の透過光最大値Ｍと不透明部の透過光最小値ｍから次式により定義される。
　　　Ｃ（％）＝［(Ｍ－ｍ)／(Ｍ＋ｍ)］×１００
　すなわち、Ｃの値が１００％に近づく程、透明積層フィルムによる像のボケが小さい［参考文献；須賀、三田村，塗装技術，１９８５年７月号］。
　本発明のＡＷＭフィルムは、反射率も低く、１０％以下であってもよく、例えば、０．１～８％、好ましくは０．５～６％、さらに好ましくは１～５％程度である。
　本発明のＡＷＭフィルムは、表面の濡れ性にも優れており、凹凸構造を有する側の表面の水接触角が８０°以下（例えば、６５～８０°）であり、例えば、６９～８０°、好ましくは７０～７５°、さらに好ましくは７１～７４°程度である。水接触角が低すぎると、滑り性が低下するためか、耐擦傷性が低下する虞もある。この水接触角は、ＡＷＭフィルムの最表面が有していればよく、例えば、低屈折率層が最表面に形成されている場合は、低屈折率層が、このような水接触角を有していればよい。なお、本発明では、水接触角は、自動・動的接触角計を用いて測定でき、詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。
　［ＡＷＭフィルムの材質及び構造］
　ＡＷＭフィルムは、前記特性を有していれば、材質は特に限定されず、無機材料であってもよく、有機材料であってもよいが、可撓性などの機械的特性に優れる点から、樹脂などの有機材料が好ましく、機械的特性や生産性などの点から、透明樹脂層と、この透明樹脂層の一方の面に積層され、かつ表面に前述の算術平均粗さＲａ１とＲａ２を満たす凹凸構造を有するアンチウォーターマーク（ＡＷＭ）層とを含む透明積層フィルムが特に好ましい。
　（ＡＷＭ層）
　ＡＷＭ層は、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１～１００ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成されていてもよい。
　（Ａ）硬化性樹脂
　硬化性樹脂（硬化性モノマー又は硬化性樹脂前駆体）としては、熱や活性エネルギー線（紫外線や電子線など）などにより反応する官能基を有する化合物であり、熱や活性エネルギー線などにより硬化又は架橋して樹脂（特に硬化又は架橋樹脂）を形成可能な種々の硬化性化合物が使用できる。前記硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性化合物又は樹脂［エポキシ基、重合性基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、シラノール基などを有する低分子量化合物（例えば、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂など）など］、活性光線（紫外線など）により硬化可能な光硬化性化合物（光硬化性モノマー、オリゴマーなどの紫外線硬化性化合物など）などが例示でき、光硬化性化合物は、ＥＢ（電子線）硬化性化合物などであってもよい。なお、本発明では、光硬化性モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい光硬化性樹脂などの光硬化性化合物を、単に「光硬化性樹脂」という場合がある。
　光硬化性化合物には、例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂）が含まれる。単量体は、例えば、１つの重合性基を有する単官能単量体と、少なくとも２つの重合性基を有する多官能単量体とに分類できる。
　単官能単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステルなどの（メタ）アクリル系単量体、ビニルピロリドンなどのビニル系単量体、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレートなどの橋架環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
　多官能単量体には、２～８程度の重合性基を有する多官能単量体が含まれ、２官能単量体としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アダマンタンジ（メタ）アクリレートなどの橋架環式炭化水素基を有するジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
　３～８官能単量体としては、例えば、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
　オリゴマー又は樹脂としては、ビスフェノールＡ－アルキレンオキサイド付加体の（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートなど）、ポリエステル（メタ）アクリレート（例えば、脂肪族ポリエステル型（メタ）アクリレート、芳香族ポリエステル型（メタ）アクリレートなど）、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレート（ポリエステル型ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル型ウレタン（メタ）アクリレートなど）、シリコーン（メタ）アクリレートなどが例示できる。これらの（メタ）アクリレートオリゴマー又は樹脂には、前記ポリマー成分における（メタ）アクリル系樹脂の項で例示された共重合性単量体が含まれていてもよい。これらの光硬化性化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
　さらに、硬化性樹脂は、ＡＷＭ層の強度を向上する点などから、フッ素原子や無機粒子を含有していてもよい。フッ素含有硬化性化合物としては、前記単量体及びオリゴマーのフッ化物、例えば、フッ化アルキル（メタ）アクリレート［例えば、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレートやトリフルオロエチル（メタ）アクリレートなど］、フッ化（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート［例えば、フルオロエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、フルオロプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど］、フッ素含有エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂などが挙げられる。無機粒子を含有する硬化性化合物としては、例えば、表面に重合性基を有する無機粒子（例えば、重合性基を有するシランカップリング剤で表面を修飾したシリカ粒子など）などが例示できる。表面に重合性基を有するナノサイズのシリカ粒子としては、例えば、ＪＳＲ（株）製から、多官能ハイブリッド系ＵＶ硬化剤（Ｚ７５０１）が市販されている。
　好ましい硬化性樹脂は、短時間で硬化できる光硬化性化合物、例えば、紫外線硬化性化合物（モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい樹脂など）、ＥＢ硬化性化合物である。特に、実用的に有利な硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂である。
　また、本発明では、ＡＷＭ層の耐擦傷性を向上させるため、硬化性樹脂は、２官能以上（例えば、２～１０官能程度）、好ましくは３官能以上（例えば、３～８官能程度）の重合性基を有する硬化性樹脂、特に、多官能（メタ）アクリレート、例えば、３官能以上（特に４～８官能）の（メタ）アクリレート（例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなど）を含むのが好ましい。
　さらに、本発明では、ＡＷＭ層の表面に特定の表面凹凸構造を形成するため、４官能以下（好ましくは２～４官能、さらに好ましくは３～４官能程度）の重合性基を有する硬化性樹脂と、５官能以上（例えば、５～１０官能、好ましくは５～８官能、さらに好ましくは５～７官能程度）の重合性基を有する硬化性樹脂とを組み合わせるのが好ましい。特に、２～４官能（メタ）アクリレート［特に、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３～４官能（メタ）アクリレート］と、５～８官能（メタ）アクリレート［特に、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの５～７官能（メタ）アクリレート］とを組み合わせてもよい。
　４官能以下の重合性基を有する硬化性樹脂（例えば、２～４官能（メタ）アクリレート）と、５官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂（例えば、５～１０官能（メタ）アクリレート）との重量割合は、前者／後者＝９９／１～１／９９、好ましくは９０／１０～１０／９０、さらに好ましくは７０／３０～３０／７０（特に６０／４０～４０／６０）程度である。本発明では、官能基数の硬化性樹脂をこのような割合で組み合わせることにより、機械的特性を損なうことなく、ＡＷＭ層の表面に特定の凹凸構造を形成できる。
　硬化性樹脂の分子量としては、後述する熱可塑性樹脂との相溶性を考慮して５０００以下（例えば、１００～５０００）、好ましくは２０００以下（例えば、２００～２０００）、さらに好ましくは１０００以下（例えば、３００～１０００）程度である。分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）において、ポリスチレン換算で測定した重量平均分子量であり、低分子は分子式から算出できる。
　硬化性組成物は、硬化性樹脂の種類に応じて、硬化剤を含んでいてもよい。例えば、熱硬化性樹脂では、アミン類、多価カルボン酸類などの硬化剤を含んでいてもよく、光硬化性樹脂では光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、慣用の成分、例えば、アセトフェノン類又はプロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類などが例示できる。光硬化剤などの硬化剤の含有量は、硬化性樹脂１００重量部に対して０．１～２０重量部、好ましくは０．５～１０重量部、さらに好ましくは１～８重量部（特に１～５重量部）程度であり、３～８重量部程度であってもよい。
　さらに、硬化性樹脂は硬化促進剤を含んでいてもよい。例えば、光硬化性樹脂は、光硬化促進剤、例えば、第三級アミン類（ジアルキルアミノ安息香酸エステルなど）、ホスフィン系光重合促進剤などを含んでいてもよい。
　（Ｂ）熱可塑性樹脂
　熱可塑性樹脂は、ＡＷＭ層に対して、柔軟性などの機械的特性を向上させるために配合され、硬化性樹脂の硬化反応に関与する反応性基（特にエチレン性不飽和結合などの重合性基）を有さない樹脂が好ましい。
　このような熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂［ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル系単量体との共重合体、ＡＳ樹脂、スチレン－ブタジエン共重合体など］、（メタ）アクリル系樹脂［ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル－アクリル酸エステル－（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸エステル－スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸イソボルニルなど］、有機酸ビニルエステル系樹脂［エチレン－酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル－塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアルコール、エチレン－ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール樹脂など］、ビニルエーテル系樹脂（ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルプロピルエーテル、ポリビニルｔ－ブチルエーテルなど）、ハロゲン含有樹脂［ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン－（メタ）アクリル酸エステル共重合体など］、オレフィン系樹脂［ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィンの単独重合体、エチレン－酢酸ビニル共重合体、エチレン－ビニルアルコール共重合体、エチレン－（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、脂環式オレフィン系樹脂など］、ポリカーボネート系樹脂（ビスフェノールＡ型ポリカーボネートなど）、ポリエステル系樹脂（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリＣ２－４アルキレンアリレート、Ｃ２－４アルキレンアリレート系コポリエステルなどの非晶性ポリエステルなど）、ポリアミド系樹脂（ポリアミド４６、ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリアミド６１０、ポリアミド６１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２などの脂肪族ポリアミドなど）、熱可塑性ポリウレタン樹脂（ポリエステル型ウレタン系樹脂など）、ポリスルホン系樹脂（ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなど）、ポリフェニレンエーテル系樹脂（２，６－キシレノールの重合体など）、セルロース誘導体（セルロースエステルなど）、シリコーン樹脂（ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなど）、ゴム又はエラストマー（ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのジエン系ゴム、スチレン－ブタジエン共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴムなど）などが例示できる。これらの熱可塑性樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
　これらの熱可塑性樹脂のうち、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体などが汎用されるが、透明性及び耐熱性に優れるとともに、柔軟性などの機械的特性も向上できる点から、セルロース誘導体が好ましい。
　セルロース誘導体には、セルロースエステル類、セルロースエーテル類、セルロースカーバメート類が含まれる。
　セルロースエステル類としては、例えば、脂肪族有機酸エステル（セルロースジアセテート、セルローストリアセテートなどのセルロースアセテート；セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのＣ２－６アシレートなど）、芳香族有機酸エステル（セルロースフタレート、セルロースベンゾエートなどのＣ７－１２芳香族カルボン酸エステル）、無機酸エステル類（例えば、リン酸セルロース、硫酸セルロースなど）などが例示できる。セルロースエステル類は、酢酸・硝酸セルロースエステルなどの混合酸エステルであってもよい。
　セルロースエーテル類としては、例えば、シアノエチルセルロース；ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどのヒドロキシＣ２－４アルキルセルロース；メチルセルロース、エチルセルロースなどのＣ１－６アルキルセルロース；カルボキシメチルセルロース又はその塩、ベンジルセルロース、アセチルアルキルセルロースなどが例示できる。セルロースカーバメート類としては、例えば、セルロースフェニルカーバメートなどが例示できる。
　これらのセルロース誘導体は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのセルロース誘導体のうち、セルロースエステル類、特に、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースＣ２－６アシレートが好ましい。なかでも、溶剤への溶解性が高く、塗工液の調製がし易い上に、少量の添加によって塗工液の粘度調節が容易にできるとともに、塗工液での微粒子の過度の凝集を抑制し、保存安定性を高めるため、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースＣ２－４アシレート（特に、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースアセテートＣ３－４アシレート）が好ましい。
　熱可塑性樹脂の割合は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、０．１～３０重量部、好ましくは０．１～１０重量部（例えば、０．３～５重量部）、さらに好ましくは０．５～３重量部（特に０．８～２重量部）程度である。熱可塑性樹脂の割合は、金属酸化物微粒子１００重量部に対して、例えば、１００～１０００重量部、好ましくは１５０～５００重量部、さらに好ましくは２００～４００重量部程度である。本発明では、熱可塑性樹脂の割合を調整することにより、耐擦傷性と、衝撃吸収性やクッション性などの機械的特性とのバランスを調整でき、この範囲にあると、両者のバランスに優れる。
　（Ｃ）金属酸化物微粒子
　本発明では、ＡＷＭ層に金属酸化物微粒子を配合することにより、対流が発生し樹脂成分中の金属酸化物の分布が均一でなくなることにより樹脂成分が隆起してＡＷＭ層の表面において、ウォーターマークの発生を抑制でき、かつギラツキの発生を抑制できる微小な凹凸構造を形成できる。この金属酸化物微粒子は、透明性及び耐擦傷性に優れる上に、その上に低屈折率層を形成する場合、低屈折率層との密着性も向上できる。
　金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、周期表第４Ａ族金属酸化物（例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウムなど）、第５Ａ族金属酸化物（酸化バナジウムなど）、第６Ａ族金属酸化物（酸化モリブデン、酸化タングステンなど）、第７Ａ族金属酸化物（酸化マンガンなど）、第８族金属酸化物（酸化ニッケル、酸化鉄など）、第１Ｂ族金属酸化物（酸化銅など）、第２Ｂ族金属酸化物（酸化亜鉛など）、第３Ｂ族金属酸化物（酸化アルミニウム、酸化インジウムなど）、第４Ｂ族金属酸化物（酸化錫など）、第５Ｂ族金属酸化物（酸化アンチモンなど）などが挙げられる。
　これらの金属酸化物微粒子は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの金属酸化物微粒子のうち、アンチモン、錫、亜鉛を含む金属酸化物、例えば、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン含有酸化錫（アンチモンドープ酸化錫）、酸化錫、酸化亜鉛などが好ましく、アンチモン含有酸化錫、酸化アンチモン、酸化錫及び酸化亜鉛からなる群から選択された少なくとも一種で構成された微粒子（特にアンチモン含有酸化錫粒子（ＡＴＯ粒子））が特に好ましい。
　金属酸化物微粒子は、溶媒中に分散された分散液の形態であってもよい。溶媒としては、例えば、水、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなどの低級アルコールなど）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ギ酸メチル、ギ酸エチルなど）、エーテル類（ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（ベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタンなど）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの溶媒のうち、エタノールやイソプロパノールなどの低級アルコール（例えば、重量比で、エタノール／イソプロパノール＝９０／１０～５０／５０（特に８０／２０～６０／４０）程度の混合溶媒）が汎用される。分散液中の金属酸化物微粒子の濃度は、例えば、０．１～５０重量％、好ましくは１～４０重量％、さらに好ましくは５～３０重量％程度である。金属酸化物微粒子の表面は、これらの溶媒に分散させるために、慣用の表面処理がされていてもよい。
　金属酸化物微粒子の形状は、特に限定されず、球状、楕円体状、多角体状（多角錘状、正方体状、直方体状など）、板状、棒状、不定形などが挙げられるが、表面に均一な凹凸構造を形成する点から、略球状などの等方形状が好ましい。
　金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径は、例えば、１～５０ｎｍ、好ましくは１．５～４０ｎｍ（例えば２～３０ｎｍ）、さらに好ましくは３～１５ｎｍ（特に５～１０ｎｍ）程度である。一次粒径が小さすぎると、ＡＷＭ層の表面に凹凸構造を形成するのが困難となり易く、大きすぎると、微小な凹凸構造を形成するのが困難となる上に、光の波長よりも大きくなり、ギラツキの発生原因となる虞がある。本発明では、粒径の大きな粒子を用いることなく、ナノメータサイズの粒子を用いて特定の条件で製造することにより、微小な凹凸構造を形成できる。
　なお、本発明では、個数平均一次粒径は、粒度分布計、例えば、動的光散乱法に基づき、粒度測定装置（大塚電子（株）製「ＰＡＲ－III」）を用いて、慣用の方法で測定できる。
　金属酸化物微粒子の割合は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば０．０５～１０重量部、好ましくは０．１～５重量部、さらに好ましくは０．１５～３重量部（特に０．２～１重量部）程度である。微粒子の割合が少なすぎると、ＡＷＭ層の表面に凹凸構造を形成するのが困難となり易く、多すぎると、微小な凹凸構造を形成するのが困難となる。本発明では、微粒子の割合が少なくても、ＡＷＭ性を実現できる凹凸構造を形成できる。
　（Ｄ）他の添加剤
　ＡＷＭ層には、種々の添加剤、例えば、他の微粒子（有機微粒子、無機微粒子など）、レベリング剤、安定剤（酸化防止剤、紫外線吸収剤など）、界面活性剤、水溶性高分子、充填剤、架橋剤、カップリング剤、着色剤、難燃剤、滑剤、ワックス、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤、消泡剤などが含まれていてもよい。添加剤の割合は、例えば、ＡＷＭ層全体に対して０．０１～１０重量％（特に０．１～５重量％）程度である。
　本発明では、理由は定かではないが、微粒子の凝集剤（例えば、特開２００９－２６５１４３号公報に記載の凝集剤など）を使用することなく、少量の金属酸化物微粒子がＡＷＭ層中で適度に凝集して核となり、乾燥工程で対流作用により金属酸化物微粒子と硬化前の樹脂成分とが一緒になってＡＷＭ層の表面で凝集して凸部を形成するようである。そのためか、ＡＷＭ性を有し、かつギラツキを抑制できる微小な凹凸構造を形成できる。従って、ＡＷＭ層は、実質的に凝集剤を含有しない。なお、このような本発明における作用には、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び溶媒の種類、配合割合なども関与していると推定される。
　ＡＷＭ層の厚み（平均厚み）は、例えば、０．５～３０μｍ、好ましくは０．８～２０μｍ、さらに好ましくは１～１０μｍ（特に２～５μｍ）程度である。
　（透明樹脂層）
　透明樹脂層（又は基材層）としては、可撓性が高く、耐割れ性に優れる透明樹脂で形成されたプラスチックフィルム又はシート（未延伸又は延伸プラスチックフィルム）を利用できる。透明樹脂としては、前記ＡＷＭ層で例示された熱可塑性樹脂と同様の樹脂を使用できる。好ましい透明樹脂としては、例えば、セルロース誘導体［セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースジアセテートなどのセルロースアセテートなど］、ポリエステル系樹脂［ＰＥＴ、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリアリレート系樹脂など］、ポリスルホン系樹脂［ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなど］、ポリエーテルケトン系樹脂［ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトンなど］、ポリカーボネート系樹脂（ビスフェノールＡ型ポリカーボネートなど）、ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン、ポリプロピレンなど）、環状ポリオレフィン系樹脂［トパス（ＴＯＰＡＳ）（登録商標）、アートン（ＡＲＴＯＮ）（登録商標）、ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）（登録商標）など］、ハロゲン含有樹脂（ポリ塩化ビニリデンなど）、（メタ）アクリル系樹脂（ポリメタクリル酸メチル系樹脂など）、スチレン系樹脂（ポリスチレンなど）、酢酸ビニル又はビニルアルコール系樹脂（ポリビニルアルコールなど）などが挙げられる。これらの透明樹脂で形成されたプラスチックフィルムは１軸又は２軸延伸されていてもよい。
　光学的に等方性の透明プラスチックフィルムには、例えば、ポリエステル、セルロース誘導体類などが含まれ、特に、耐熱性や透明性などのバランスに優れる点から、ＰＥＴやＰＥＮなどのポリＣ２－４アルキレンアリレートで形成されたフィルムが好ましい。さらに、透明樹脂層は、二軸延伸したフィルムであってもよい。
　透明樹脂層は、前記ＡＷＭ層の項で例示された慣用の添加剤（例えば、紫外線吸収剤など）を含んでいてもよい。添加剤の割合は、例えば、透明樹脂層全体に対して０．０１～１０重量％（特に０．１～５重量％）程度である。
　透明樹脂層の厚み（平均厚み）は、例えば、５～１０００μｍ、好ましくは１５～５００μｍ、さらに好ましくは２０～３００μｍ（特に３０～１００μｍ）程度の範囲から選択できる。
　（低屈折率層）
　本発明のＡＷＭフィルムは、前述の算術平均粗さＲａを有する凹凸構造の表面（凹凸構造を有する側の表面）、特に、透明積層フィルムのＡＷＭ層の上に、ＡＷＭフィルム（特にＡＷＭ層）表面での反射率を下げて、外部への出射光の透過率を向上させるために、さらに低屈折率層を積層してもよい。さらに、詳しいメカニズムは不明であるが、低屈折率層を積層することにより、ＡＷＭ性も向上できる。
　低屈折率層は、慣用の低屈折率層、例えば、特開２００１－１００００６号公報、特開２００８－５８７２３号公報に記載の低屈折率層などが使用できる。低屈折率層は、通常、低屈折率樹脂や、ＡＷＭ層の項で例示された硬化性樹脂とフッ素含有化合物又は低屈折率の無機フィラーとの組み合わせなどで構成されている。
　低屈折率樹脂としては、例えば、メチルペンテン樹脂、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）樹脂、ポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤＦ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）などのフッ素樹脂などが挙げられる。
　また、低屈折率層は、通常、フッ素含有化合物や低屈折率の無機フィラーを含有するのが好ましく、フッ素含有化合物や低屈折率の無機フィラーを用いると、低屈折率層の屈折率を所望に応じて低減できる。
　前記フッ素含有化合物としては、フッ素原子と、熱や活性エネルギー線（紫外線や電子線など）などにより反応する官能基（架橋性基又は重合性基などの硬化性基など）とを有し、熱や活性エネルギー線などにより硬化又は架橋してフッ素含有樹脂（特に硬化又は架橋樹脂）を形成可能なフッ素含有樹脂前駆体が挙げられる。
　このようなフッ素含有樹脂前駆体としては、例えば、フッ素原子含有熱硬化性化合物又は樹脂［フッ素原子とともに、反応性基（エポキシ基、イソシアネート基、カルボキシル基、ヒドロキシル基など）、重合性基（ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基など）などを有する低分子量化合物］、活性光線（紫外線など）により硬化可能なフッ素原子含有光硬化性化合物又は樹脂（光硬化性フッ素含有モノマー又はオリゴマーなどの紫外線硬化性化合物など）などが例示できる。
　前記熱硬化性化合物又は樹脂としては、例えば、少なくともフッ素含有モノマーを用いて得られる低分子量樹脂、例えば、構成モノマーとしてのポリオール成分の一部又は全部に代えてフッ素含有ポリオール（特にジオール）を用いて得られるエポキシ系フッ素含有樹脂；同様に、ポリオール及び／又はポリカルボン酸成分の一部又は全部に代えて、フッ素原子含有ポリオール及び／又はフッ素原子含有ポリカルボン酸成分を用いて得られる不飽和ポリエステル系フッ素含有樹脂；ポリオール及び／又はポリイソシアネート成分の一部又は全部に代えて、フッ素原子含有ポリオール及び／又はポリイソシアネート成分を用いて得られるウレタン系フッ素含有樹脂などが例示できる。これらの熱硬化性化合物又は樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
　前記光硬化性化合物には、例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂）が含まれ、単量体としては、例えば、前記ＡＷＭ層の項で例示の単官能性単量体及び多官能性単量体に対応するフッ素原子含有単量体［（メタ）アクリル酸のフッ化アルキルエステルなどのフッ素原子含有（メタ）アクリル系単量体、フルオロオレフィン類などのビニル系単量体などの単官能性単量体；１－フルオロ－１，２－ジ（メタ）アクリロイルオキシエタンなどのフッ化アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートなど］などが例示できる。また、オリゴマー又は樹脂としては、前記防眩層の項で例示のオリゴマー又は樹脂に対応するフッ素原子含有オリゴマー又は樹脂などが使用できる。これらの光硬化性化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
　低屈折率層中におけるフッ素含有化合物の割合は、例えば、低屈折率層全体に対して１重量％以上であってもよく、例えば、５～９０重量％程度である。
　低屈折率の無機フィラーとしては、例えば、前記特開２００１－１００００６号公報に記載のフィラーなどが使用できるが、シリカやフッ化マグネシウムなどの低屈折率のフィラー、特にシリカが好ましい。シリカは、特開２００１－２３３６１１号公報、特開２００３－１９２９９４号公報などに記載されている中空シリカであってもよい。中空シリカは、透過率の向上効果が大きいだけでなく、ＡＷＭ性の向上効果も優れている。
　無機フィラーの個数平均粒径は１００ｎｍ以下、好ましくは８０ｎｍ以下（例えば、１０～８ｎｍ）、さらに好ましくは２０～７０ｎｍ程度である。
　低屈折率層中における低屈折率の無機フィラーの割合は、例えば、低屈折率層全体に対して１重量％以上であってもよく、例えば、５～９０重量％程度である。また、低屈折率の無機フィラーは、カップリング剤（チタンカップリング剤、シランカップリング剤）により表面改質されていてもよい。さらに、低屈折率層は、塗膜強度を向上させるために、他の無機フィラーを含んでいてもよい。
　低屈折率層の屈折率としては、例えば、１．３～１．５、好ましくは１．３５～１．４５程度である。本発明では、屈折率は、波長６３３ｎｍにおいて、メトリコンプリズムカプラーを用いて測定できる。
　低屈折率層の厚みは、例えば、５０～１０００ｎｍ、好ましくは６０～５００ｎｍ、さらに好ましくは７０～３００ｎｍ（特に８０～２００ｎｍ）程度である。
　（接着層）
　本発明のＡＷＭフィルムは、前述の算術平均粗さＲａを有する凹凸構造が形成された表面の裏面（凹凸構造を有する側とは反対側の表面）、特に、透明積層フィルムの場合、透明樹脂層のＡＷＭ層が積層されていない側の表面に、さらに接着層が積層されていてもよい。接着層としては、タッチパネルの電極や偏光板などと一体化可能な透明バインダー樹脂で形成されていればよい。透明バインダー樹脂としては、例えば、慣用の接着性樹脂又は粘着性樹脂などが例示できる。
　接着性樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂（ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、アクリル樹脂、スチレン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル、ポリアミド、熱可塑性ポリウレタンなど）、熱硬化性樹脂（エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、不飽和ポリエステル、ビニルエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、多官能（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂、アミノ樹脂、セルロース誘導体など）などが挙げられる。これらの接着性樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
　粘着性樹脂としては、例えば、テルペン樹脂、ロジン系樹脂、石油樹脂、ゴム系粘着剤、変性ポリオレフィン、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤などが挙げられる。これらの粘着性樹脂は、架橋性基（イソシアネート基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシシリル基など）を有していてもよい。これらの粘着性樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
　これらの透明バインダー樹脂のうち、光学特性及び取り扱い性に優れる点から、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤（特にアクリル系粘着剤）が好ましい。
　アクリル系粘着剤としては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレートなどのアクリル酸Ｃ２－１０アルキルエステルを主成分とするアクリル系共重合体で構成された粘着剤を使用できる。アクリル系共重合体の共重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル系単量体［例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミドなど］、重合性ニトリル化合物［例えば、（メタ）アクリロニトリルなど］、不飽和ジカルボン酸又はその誘導体（例えば、無水マレイン酸、イタコン酸など）、ビニルエステル類（例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなど）、芳香族ビニル類（例えば、スチレンなど）などが挙げられる。
　シリコーン系粘着剤としては、例えば、シリコーンゴム成分［一官能のＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは、メチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基などを示す。以下、同じ）と四官能のＳｉＯ２からなるＭＱレジンなど］及びシリコーンレジン成分（二官能のＲ２ＳｉＯ単独、又は二官能のＲ２ＳｉＯと一官能のＲ３ＳｉＯ１／２とを組み合わせたオイル状又はガム状成分など）を有機溶媒に溶解した粘着剤などを使用できる。前記シリコーンゴム成分は架橋されていてもよい。
　接着層は、前記ＡＷＭ層の項で例示された慣用の添加剤（例えば、紫外線吸収剤など）を含んでいてもよい。添加剤の割合は、例えば、接着層全体に対して０．０１～１０重量％（特に０．１～５重量％）程度である。
　接着層の厚み（平均厚み）は、例えば、１～１００μｍ、好ましくは２～８０μｍ、さらに好ましくは３～７０μｍ（特に５～５０μｍ）程度である。
　［ＡＷＭフィルムの製造方法］
　本発明のＡＷＭフィルムは、一方の表面に前述の算術平均粗さＲａを有する凹凸構造を形成できればよく、特に限定されず、慣用のフィルム成形方法などを利用できる。ＡＷＭフィルムが透明積層フィルムで形成されている場合、例えば、透明樹脂層の一方の面に、硬化性組成物を塗布する塗布工程、塗布した硬化性組成物を乾燥後、活性エネルギー線を照射して硬化する硬化工程を経て製造してもよい。
　塗布工程において、硬化性組成物は、通常、前記硬化性樹脂と熱可塑性樹脂と金属酸化物微粒子と溶媒とを含む混合液（特に均一溶液などの液状組成物）で構成されている。好ましい態様では、前記混合液として、光硬化性樹脂と、熱可塑性樹脂と、金属酸化物微粒子と、光重合開始剤と、前記光硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂を可溶な溶媒とを含む組成物が使用される。
　溶媒は、前記硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の種類及び溶解性に応じて選択でき、少なくとも固形分（硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル（１－メトキシ－２－プロパノール）など）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）などが例示できる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用でき、混合溶媒であってもよい。これらの溶媒のうち、メチルエチルケトンやシクロヘキサノンなどのケトン類、ブタノールや１－メトキシ－２－プロパノールなどのアルコール類が好ましく、これらを混合してもよい。例えば、前記ケトン類と前記アルコール類とを、前者／後者＝９０／１０～１０／９０、好ましくは８０／２０～４０／６０、さらに好ましくは７０／３０～５０／５０程度の割合（重量比）で混合してもよい。さらに、ケトン類とメチルエチルケトンなどのアルカンケトン類と、シクロヘキサノンなどのシクロアルカンケトン類とを、前者／後者＝９５／５～５０／５０（特に９０／１０～７０／３０）程度の割合（重量比）で混合してもよい。また、ブタノールなどのアルカノールと、１－メトキシ－２－プロパノールなどのセロソルブ類とを、前者／後者＝５／９５～５０／５０（特に１０／９０～３０／７０）程度の割合（重量比）で混合してもよい。本発明では、溶媒を適宜組み合わせることにより、金属酸化物微粒子の凝集の程度を制御してもよい。本発明では、特に、このような割合で溶媒を組み合わせることにより、微細な凹凸構造とうねり構造とを有する表面構造を形成できる。
　混合液中の溶質（硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、金属酸化物微粒子、反応開始剤、その他添加剤）の濃度は、流延性やコーティング性などを損なわない範囲で選択でき、例えば、１～８０重量％、好ましくは５～６０重量％、さらに好ましくは１５～４０重量％（特に２０～４０重量％）程度である。
　塗布方法としては、慣用の方法、例えば、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、リバースコーター、バーコーター、コンマコーター、ディップ・スクイズコーター、ダイコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、シルクスクリーンコーター法、ディップ法、スプレー法、スピナー法などが挙げられる。これらの方法のうち、バーコーター法やグラビアコーター法などが汎用される。なお、必要であれば、塗布液は複数回に亘り塗布してもよい。
　塗布工程では、さらに前記混合液を流延又は塗布した後、溶媒を蒸発させる。溶媒の蒸発は、通常、例えば、溶媒の沸点に応じて、４０～１５０℃、好ましくは５０～１２０℃、さらに好ましくは６０～１００℃程度の温度で行ってもよい。
　本発明では、塗工液が凝集剤を含有していないにも拘わらず、ナノサイズの金属酸化物微粒子が塗工液中で適度に凝集し核となり、溶媒の蒸発に伴って起こる対流作用により金属酸化物微粒子と硬化前の樹脂成分とが一緒になって表面で凝集して凸部を形成していると推定できる。
　硬化工程では、塗布した硬化性組成物を、活性光線（紫外線、電子線など）や熱などにより最終的に硬化し、ＡＷＭ層を形成する。硬化性樹脂の硬化は、硬化性樹脂の種類に応じて、加熱、光照射などを組合せてもよい。
　加熱温度は、適当な範囲、例えば、５０～１５０℃程度から選択できる。光照射は、光硬化成分などの種類に応じて選択でき、通常、紫外線、電子線などが利用できる。汎用的な露光源は、通常、紫外線照射装置である。
　光源としては、例えば、紫外線の場合は、Ｄｅｅｐ　ＵＶ　ランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光源（ヘリウム－カドミウムレーザー、エキシマレーザーなどの光源）などを用いることができる。照射光量（照射エネルギー）は、塗膜の厚みにより異なり１０～１００００ｍＪ／ｃｍ２（例えば、５０～８０００ｍＪ／ｃｍ２）程度の範囲から選択でき、例えば、１０～５０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは３０～３０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２程度であってもよい。
　なお、光照射は、必要であれば、不活性ガス雰囲気中で行ってもよい。特に、光硬化を利用した場合、硬化性樹脂を硬化させることにより直ちに固定化できるだけでなく、透明樹脂層の内部から熱によりオリゴマーなどの低分子成分が析出することも抑制できる。さらに、ＡＷＭ層に耐擦傷性を付与できる。
　ＡＷＭ層の上に、さらに低屈折率層を形成する場合も、通常、前記ＡＷＭ層と同様の方法で、塗工液を塗布又は流延した後、活性光線や熱などを用いて硬化することにより形成できる。
　なお、本発明では、低屈折率層の乾燥温度（溶媒を蒸発させるための温度）を比較的高温で乾燥することにより、微細な凹凸構造とうねり構造とを有する表面構造を形成できる。乾燥温度は、溶媒の沸点に応じて、例えば、４０～２００℃、好ましくは６０～１８０℃、さらに好ましくは８０～１５０℃（特に１００～１４０℃）程度の温度で行ってもよい。
　本発明では、ＡＷＭ層に対する他の層（例えば、低屈折率層や透明導電層など）の密着性を向上させるために、ＡＷＭ層を表面処理に供してもよい。表面処理としては、慣用の表面処理、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、オゾンや紫外線照射処理などが挙げられる。
　［静電容量方式タッチパネルディスプレイ］
　本発明の静電容量方式タッチパネルディスプレイは、内部に空隙層を有し、かつ前記空隙層を介して対向する表面の少なくとも一方の表面に、前記ＡＷＭフィルムが積層されている。
　前記空隙層は、特に限定されないが、通常、透明導電層を含む透明電極と、ＬＣＤやＯＬＥＤなどの表示装置とを、両者の端部（周縁部又は外枠部）間に接着層（スペーサ）を介在させて、一体化させることにより形成される。透明電極の表面は、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウム－酸化錫系複合酸化物）膜などの透明導電層で形成されていてもよく、表示装置の表面は、ＬＣＤなどの場合、例えば、偏光層で形成されていてもよい。本発明のＡＷＭフィルムは、空隙層を介して対向する表面に積層されていればよく、例えば、透明導電層の表面に凹凸構造を形成してもよいが、透明導電層は、自身の保護のために、通常、ハードコート層などの保護層で被覆されているため、この保護層の上に、ＡＷＭフィルムを適用するのが効果的である。特に、透明基板がガラス板で形成されたディスプレイに対して、ガラスの割れによるガラス破片の飛散を抑制できる点から、空隙層を介して対向する表面のうち、タッチパネルの表示体側の表面に、ＡＷＭフィルムを積層するのが好ましい。
　空隙層の厚みは、例えば０．０５～１ｍｍ、好ましくは０．１～０．５ｍｍ、さらに好ましくは０．１５～０．３ｍｍ程度である。
　本発明の静電容量方式タッチパネルディスプレイは、内部に空隙層を有していればよいが、空隙層の表面側の層が容易に撓み、ウォーターマークが発生し易く、本発明の効果が顕著に発現する点から、空隙層とディスプレイ表面との間に含まれる透明基板が１枚のみであるディスプレイ（１枚ガラスタイプのディスプレイ）が好ましい。
　透明基板としては、透明材料で形成されていればよく、透明樹脂層の項で例示された透明樹脂やガラスなどで形成された基板が挙げられる。これらのうち、ＡＷＭフィルムを空隙層を介して対向する表面のうち、タッチパネルのフロント側の表面に、ＡＷＭフィルムを積層する場合には、ＡＷＭフィルムがガラス破片の飛散防止フィルムとしても作用する点から、ガラス板が好ましい。
　ガラス板としては、例えば、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、クラウンガラス、バリウム含有ガラス、ストロンチウム含有ガラス、ホウ素含有ガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス、結晶化透明ガラス、シリカガラス、石英ガラス、耐熱ガラスなどで形成されたガラス板を利用できる。
　透明基板（特に１枚ガラス板タイプのディスプレイにおけるガラス板）の厚み（平均厚み）は、例えば、５０～３０００μｍ、好ましくは１００～２０００μｍ、さらに好ましくは２００～１５００μｍ程度である。
　本発明の静電容量方式タッチパネルディスプレイにおいて、ガラス板などの透明基板は、通常、透明導電層と積層された透明電極を形成している。
　透明導電層としては、例えば、酸化インジウム－酸化錫系複合酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、ＩｎＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯなどの金属酸化物や、金、銀、白金、パラジウムなどの金属で構成された層（特に、ＩＴＯ膜などの金属酸化物層）で構成されている。このような透明導電層は、慣用の方法、例えば、スパッタリング、蒸着、化学的気相成長法など（通常、スパッタリング）により形成できる。透明導電層の厚み（平均厚み）は、例えば、０．０１～０．０５μｍ、好ましくは０．０１５～０．０３μｍ、さらに好ましくは０．０１５～０．０２５μｍ程度である。
　透明基板の上に形成される透明導電層は、タッチパネルの種類に応じて、通常、アナログ方式では面状に形成され、デジタル方式ではストライプ状に形成される。透明導電層を面状又はストライプ状に形成する方法としては、例えば、ガラス基板の全面に透明導電層を形成した後、エッチングにより面状又はストライプ状にパターン化する方法、予めパターン状に形成する方法などが挙げられる。
　タッチパネルのフロント側の表面に、ＡＷＭフィルムを積層する場合、このような透明電極の透明導電層に対して、ＡＷＭフィルムの接着層を介して、ＡＷＭフィルムを積層してもよい。
　本発明の静電容量方式タッチパネルディスプレイは、さらに他の光学要素（例えば、偏光板、位相差板、導光板などの光路内に配設される種々の光学要素）と組み合わせてもよい。ＬＣＤなどの表示装置に偏光板を積層させた場合、偏光板に対して、ＡＷＭフィルムの接着層を介して、ＡＷＭフィルムを積層してもよい。
　以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。実施例及び比較例で得られたＡＷＭフィルムを以下の項目で評価した。
　［全光線透過率及びヘイズ］
　ヘイズメーター（日本電色（株）製、商品名「ＮＤＨ－５０００Ｗ」）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ７３６１に準拠して、全光線透過率を測定し、ＪＩＳ　Ｋ７１３６に準拠して、ヘイズを測定した。
　［透過像（写像）鮮明度］
　光学フィルムの写像鮮明度を、写像測定器（スガ試験機（株）製、商品名「ＩＣＭ－１Ｔ」）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ７１０５に基づき、フィルムの製膜方向と光学櫛の櫛歯の方向とが平行になるようにフィルムを設置して測定を行った。写像測定器の光学櫛のうち、０．５ｍｍ幅の光学櫛における写像鮮明度を測定した。
　［反射率］
　透明積層フィルムの透明樹脂層側に黒フィルムを貼り合わせ、積分球反射強度測定装置（（株）日立ハイテクノロジーズ製、Ｕ－３３００）を用いて、積分反射率（視感度換算）を測定した。
　［耐擦傷性］
　♯００００のスチールウールを２．４５Ｎ／ｃｍ２の荷重で凹凸構造が形成された表面（低屈折率層又はＡＷＭ層の表面）を１０往復回擦り、目視にて傷を確認し、傷の本数に基づいて、以下の基準で評価した。
　　○：０～５本
　　△：６～９本
　　×：１０本以上。
　［鉛筆硬度］
　ＪＩＳ　Ｋ５４００に準拠し、荷重７．４Ｎで鉛筆硬度を測定した。
　［算術平均粗さＲａ１］
　ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠して、実施例及び比較例で得られたＡＷＭフィルムの粘着層側から、ＡＷＭフィルムのＡＷＭ層側の表面（凹凸面）の算術平均粗さを以下の手順で測定した。すなわち、走査プローブ顕微鏡（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）を用い、プローブとしてシリコンカンチレバーを使用し、測定モードをＴａｐｐｉｎｇモードとし、測定エリアを１０μｍ×１０μｍとして画像の取り込みを行った。得られた画像について、前記走査プローブ顕微鏡に付属の解析ソフトウェアを用いて、うねりを除去するための加増処理としてＦｌａａｔｔｅｎ処理（０次）を１回、及びＰｌａｎｅｆｉｔ処理（ＸＹ）を１回行った後、算術平均粗さＲａ１を算出した。
　［算術平均粗さＲａ２］
　ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠して、非接触表面形状測定システム（（株）菱化システム製「ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０」）を用いて、測定エリアを５００μｍ×５００μｍとして算術平均粗さＲａ２を測定した。
　［ＡＷＭ層の水接触角］
　自動・動的接触角計（協和界面科学（株）製「型式ＤＣＡ－ＵＺ」）を使用し、塗膜に対し、約３μＬの各液の接触角を５点測定して平均した。
　［ギラツキの評価］
　表示面におけるギラツキの判定は、厚み３ｍｍの透明ガラス板に実施例及び比較例で得られたＡＷＭフィルムを、ＡＷＭフィルムの粘着層を介して貼り、５インチサイズのＬＣＤモニター（画素数１９２０×１０８０、解像度４４０ｐｐｉ）上に、ＡＷＭフィルム面とモニターとが対向するように載置し、モニターを緑表示としてモニター正面から目視で観察したときのギラツキを以下の基準で評価した。
　　◎：ギラツキが感じられない
　　○：ギラツキが僅かに感じられる
　　△：ギラツキが感じられる
　　×：強いギラツキが感じられる。
　［アンチウォーターマーク（ＡＷＭ）性］
　実施例及び比較例で得られたＡＷＭフィルムの粘着層を介して０．７ｍｍの透明ガラス板を前記ＡＷＭフィルムに貼り合わせた。次に、外周に１ｃｍ幅で０．２ｍｍのギャップを設けた１０インチサイズ偏光板を前記ＡＷＭフィルムのＡＷＭ層と対向させて重ね合わせた。最後に、前記透明ガラス板の中心部を２０Ｎ／ｃｍ２の荷重で１０秒間押し、離して１０秒後の状態を以下の基準で評価した。
　　◎：ＡＷＭフィルムと透明ガラス板とが密着していない
　　○：ＡＷＭフィルムと透明ガラス板とが僅かな部分で密着している
　　×：両者の全体が密着している。
　［塗工液の調製］
　（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－１）
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ダイセル・オルネクス（株）製「ＤＰＨＡ」）５０重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ダイセル・オルネクス（株）製「ＰＥＴＲＡ」）５０重量部、セルロースアセテートプロピオネート（イーストマン社製「ＣＡＰ」）１．２重量部を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１３１重量部、１－メトキシ－２－プロパノール（ＭＭＰＧ）６５重量部、１－ブタノール（ＢｕＯＨ）２２重量部及びシクロヘキサノン２４重量部の混合溶媒に溶解した。この溶液に、光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア１８４」）２重量部及び光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア９０７」）１重量部を加えて溶解した。さらに、この溶液に、ＡＴＯ粒子（日揮触媒化成（株）製「ＥＬＣＯＭ　ＳＨ－１２１２ＡＴＶ」、一次粒径８ｎｍ、２０重量％のアルコール（エタノール／イソプロパノール＝８０／２０（重量比）の混合溶媒）分散液）１．５重量部を加えて、１時間攪拌し、ＡＷＭ層塗工液：ＡＷＭ－１を調製した。
　（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－２）
　ＡＴＯ粒子の添加量を３．０重量部に変更する以外は、ＡＷＭ－１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－２を調製した。
　（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－３）
　ＡＴＯ粒子の添加量を４．５重量部に変更する以外は、ＡＷＭ－１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－３を調製した。
　（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－４）
　ＡＴＯ粒子の添加量を７．５重量部に変更する以外は、ＡＷＭ－１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－４を調製した。
　（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－５）
　ＡＴＯ粒子の添加量を２０重量部に変更する以外は、ＡＷＭ－１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－５を調製した。
　（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－６）
　ＡＴＯ粒子の添加量を０．５重量部に変更する以外は、ＡＷＭ－１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－６を調製した。
　（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－７）
　市販のアクリル微粒子分散液（積水化学工業（株）製「Ｋ－００１」、固形分２０重量％）を用いた。
　（アンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－８）
　ＡＴＯ粒子の添加量を３０重量部に変更する以外は、ＡＷＭ－１と同様にしてアンチウォーターマーク層塗工液：ＡＷＭ－８を調製した。
　（低屈折率層塗工液：ＬＣ）
　市販の中空シリカ微粒子分散液（日揮触媒化成（株）製「ＥＬＣＯＭ　Ｐ－５０６３」、固形分３重量％）を固形分２．４重量％になるようにイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）希釈し、ＬＣを調合した。
　実施例１
　透明樹脂層として、ＰＥＴフィルム（三菱樹脂（株）製、ＰＥＴ、厚み７５μｍ）を用い、このフィルムの上に、ＡＷＭ層塗工液ＡＷＭ－１をバーコーター♯８を用いて塗工した後、８０℃で１分間乾燥した。塗工フィルムを紫外線照射装置（ウシオ電機（株）製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）に通して、紫外線硬化処理を行い、微小な表面凹凸構造及びハードコート性を有するＡＷＭ層を形成した。得られた透明積層フィルムにおけるＡＷＭ層の厚みは約３μｍであった。
　得られた透明積層フィルムのＡＷＭ層の上に、低屈折率層塗工液ＬＣをバーコーター♯４を用いて塗工し、１２０℃で１分間乾燥した。その後、塗工フィルムを紫外線照射装置（ウシオ電機（株）製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）に通して、紫外線硬化処理を行い、低屈折率層を形成した。得られた低反射透明積層フィルム（ＡＷＭフィルム）における低屈折率層の厚みは約１００ｎｍであった。得られたＡＷＭフィルムのＰＥＴフィルムの表面に、厚み２５μｍの粘着層を形成した。
　実施例２～５及び比較例１
　ＡＷＭ層塗工液として、ＡＷＭ－１の代わりに、ＡＷＭ－２～６をそれぞれ用いる以外は実施例１と同様にしてＡＷＭフィルムを作製した。
　比較例２
　透明樹脂層として、ＰＥＴフィルム（三菱樹脂（株）製、ＰＥＴ、厚み７５μｍ）を用い、このフィルムの上に、ＡＷＭ層塗工液ＡＷＭ－７をバーコーター♯８を用いて塗工した後、８０℃で１分間乾燥した。塗工フィルムを紫外線照射装置（ウシオ電機（株）製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）に通して、紫外線硬化処理を行い、表面凹凸構造及びハードコート性を有するＡＷＭ層を形成した。得られた透明積層フィルム（ＡＷＭフィルム）におけるＡＷＭ層の厚みは約３μｍであった。得られたＡＷＭフィルムのＰＥＴフィルムの表面に、厚み２５μｍの粘着層を形成した。
　比較例３
　比較例２で得られた透明積層フィルム（粘着層を形成する前のフィルム）のＡＷＭ層の上に、低屈折率層塗工液ＬＣをバーコーター♯４を用いて塗工し、１２０℃で１分間乾燥した。その後、塗工フィルムを紫外線照射装置（ウシオ電機（株）製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）に通して、紫外線硬化処理を行い、低屈折率層を形成した。得られた低反射透明積層フィルム（ＡＷＭフィルム）における低屈折率層の厚みは約１００ｎｍであった。得られたＡＷＭフィルムのＰＥＴフィルムの表面に、厚み２５μｍの粘着層を形成した。
　比較例４
　透明樹脂層として、ＰＥＴフィルム（三菱樹脂（株）製、ＰＥＴ、厚み７５μｍ）を用い、このフィルムの上に、ＡＷＭ層塗工液ＡＷＭ－８をバーコーター♯８を用いて塗工した後、８０℃で１分間乾燥した。塗工フィルムを紫外線照射装置（ウシオ電機（株）製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）に通して、紫外線硬化処理を行い、表面凹凸構造及びハードコート性を有するＡＷＭ層を形成した。得られた透明積層フィルム（ＡＷＭフィルム）におけるＡＷＭ層の厚みは約３μｍであった。得られたＡＷＭフィルムのＰＥＴフィルムの表面に、厚み２５μｍの粘着層を形成した。
　実施例１～５及び比較例１～４で得られたＡＷＭフィルムを評価した結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１の結果から明らかなように、実施例のＡＷＭフィルムは、耐擦傷性及び光学特性に優れる上に、高精細ディスプレイであっても、ギラツキの発生を抑制でき、ＡＷＭ性も有している。これに対して、比較例のＡＷＭフィルムは、ギラツキの抑制とＡＷＭ性とを両立できない。
　本発明のＡＷＭフィルムは、内部に空隙層を有する静電容量方式タッチパネルディスプレイに利用できる。タッチパネルディスプレイとしては、例えば、ＰＣ、テレビ、携帯電話（スマートフォン）、電子ペーパー、遊技機器、モバイル機器、時計、電卓などの電気・電子又は精密機器の表示部において、表示装置（ＬＣＤ、プラズマディスプレイ装置、有機又は無機ＥＬ表示装置など）と組み合わせて用いられる静電容量方式タッチパネルディスプレイなどに利用できる。特に、優れた視認性から、ＰＣ、４Ｋテレビ、スマートフォン、タブレット型ＰＣ、ペンタブレット、遊戯機器などのＩＴＯグリッド方式を採用する投影型静電容量方式タッチパネル（例えば、ＬＣＤやＯＬＥＤなどの高精細ディスプレイのタッチパネル）のアンチウォーターマークフィルムとして有用である。
 

Claims (10)

  1. 　内部に空隙層を有する静電容量方式タッチパネルディスプレイにおいて、前記空隙層を介して対向する表面の少なくとも一方の表面に積層されるアンチウォーターマークフィルムであって、透明であり、かつ表面に測定エリア１０μｍ×１０μｍで算出した算術平均粗さＲａ１が０．７ｎｍ以上５ｎｍ未満、かつ測定エリア５００μｍ×５００μｍで算出した算術平均粗さＲａ２が１０～５０ｎｍである凹凸構造を有するアンチウォーターマークフィルム。
  2. 　アンチウォーターマークフィルムが、透明樹脂層と、この透明樹脂層の一方の面に積層され、かつ硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及び平均一次粒径１～５０ｎｍの金属酸化物粒子を含む硬化性組成物の硬化物で形成され、かつ表面に測定エリア１０μｍ×１０μｍで算出した算術平均粗さＲａ１が０．８ｎｍ以上１．５ｎｍ未満である凹凸構造を有するアンチウォーターマーク層とを含む透明積層フィルムである請求項１記載のアンチウォーターマークフィルム。
  3. 　硬化性樹脂が、４官能以下の重合性基を有する硬化性樹脂と、５官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂とを含み、熱可塑性樹脂がセルロース誘導体であり、金属酸化物微粒子が、アンチモン含有酸化錫、酸化アンチモン、酸化錫及び酸化亜鉛からなる群から選択された少なくとも一種である請求項１又は２記載のアンチウォーターマークフィルム。
  4. 　凹凸構造を有する側の表面に、さらに低屈折率層が積層されている請求項１～３のいずれかに記載のアンチウォーターマークフィルム。
  5. 　凹凸構造を有する側とは反対側の表面に、さらに接着層が積層されている請求項１～４のいずれかに記載のアンチウォーターマークフィルム。
  6. 　凹凸構造を有する側の表面の水接触角が６５～８０°である請求項１～５のいずれかに記載のアンチウォーターマークフィルム。
  7. 　内部に空隙層を有し、かつ前記空隙層を介して対向する表面の少なくとも一方の表面に、請求項１～６のいずれかに記載のアンチウォーターマークフィルムが積層された静電容量方式タッチパネルディスプレイ。
  8. 　空隙層を介して対向する表面のうち、タッチパネルのフロント側の表面に、アンチウォーターマークフィルムが積層されている請求項７記載のタッチパネルディスプレイ。
  9. 　空隙層とディスプレイ表面との間に含まれる透明基板が１枚のみである請求項７又は８記載のタッチパネルディスプレイ。
  10. 　透明基板が、厚み５０～３０００μｍのガラス板である請求項９記載のタッチパネルディスプレイ。
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