CN101063720A - 抗反射膜制备方法和装置 - Google Patents

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CN101063720A CNA2007101010725A CN200710101072A CN101063720A CN 101063720 A CN101063720 A CN 101063720A CN A2007101010725 A CNA2007101010725 A CN A2007101010725A CN 200710101072 A CN200710101072 A CN 200710101072A CN 101063720 A CN101063720 A CN 101063720A
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Abstract

抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率。制备这种抗反射膜的抗反射膜制备装置包含：涂布机，所述涂布机使用形成所述低折射率层的液体涂布所述光学功能层的表面以形成涂层。干燥机促进所述涂层的干燥。加热器使来自所述干燥机的所述涂层在第一温度水平硬化，然后使所述涂层在高于第一温度水平的第二温度水平硬化以形成所述低折射率层。优选地，所述第一和第二温度水平之差为1－50℃。而且，在所述加热器的所述硬化之后，对所述低折射率层施加紫外线。

Description

抗反射膜制备方法和装置
                       技术领域
本发明涉及抗反射膜制备方法和装置。更具体而言，本发明涉及其中可以使用具有高质量的硬质涂层以容易的方式制备抗反射膜的抗反射膜制备方法和装置。
                       背景技术
作为光学元件，光学膜被用作图像显示板的主要部件，所述图像显示板为例如，LCD(液晶显示器)、PDP(等离子体显示板)、ELD(电致发光显示板)和CRT(阴极射线管)。根据熟知技术的光学膜包含透明载体、光学功能层和具有物理强度的保护层。所述保护层起着保持光学膜的高抗划伤性的作用。选择性确定所述层的材料和组合以构建各种类型的光学膜，如抗反射膜、防眩膜、光学补偿膜、表面生成膜等。
使用抗反射膜的目的是提高适合于识别显示板的清晰的显示性能。因为人的眼睛直接观察显示板，所以应该抑制抗反射膜的外观缺陷，如颜色缺陷和颜色不均匀。根据在显示板领域中更大的屏幕尺寸、更高的亮度和更高的精度的趋向，抗反射膜所需的质量变得越来越高。
考虑到用于图像显示器，抗反射膜的重要性能包括抗划伤性；耐磨损性；防尘性，即残留手印、水滴痕迹等的可能性小。其中，抗划伤性是重要的，因为在划伤显示器表面的情况下产生不能复原的缺陷，以致降低图像显示板的图像质量。考虑到这点，JP-A 9-145903公开了抗反射膜的一个实例，所述抗反射膜的低折射率层被安置成外层，并且为了高抗划伤性，所述抗反射膜由可光固化的树脂组合物形成并且包含细粒。
通常，通过将预定溶液的涂料涂覆到载体上，并且干燥涂层形成抗反射膜。除涂层的高质量以外，通过减少生产时间等的高生产率也是重要的。为此，由功能层的化合物和有机溶剂的混合物制备涂料溶液以便于涂覆涂料和缩短干燥时间。然而，因在输送中的冲击或振动或多余的空气流，在刚涂布之后的涂层受到波动或进行不均匀的干燥，因而将出现涂层的厚度的不均匀，从而导致外观缺陷。
WO-A 2005-063484(对应JP-A 2005-257786)公开了赋予高抗划伤性和高防尘性并且还具有抗反射膜的高生产率的提议。在该文件的抗反射膜中的涂层包含具有表面活性的添加剂和可硬化树脂的细粒、氟化合物、硅氧烷化合物等。对涂层施加电离辐射以形成低折射率层。
而且，抗反射膜的多层结构得到广泛使用，并且包含载体、硬质涂层和低折射率层。为了通过防止光散射达到抗反射效果，需要在层间的界面上具有高粘附性。JP-A 2003-311911公开了其中层间粘附可以是紧密的抗反射膜的制备。对于邻近载体的层，使用具有活性官能团的可硬化树脂。而且，调节硬化条件。
根据JP-A 9-145903和2003-311911，可以获得具有高抗划伤性和在层间界面上的高粘附性的抗反射膜。然而，防尘性和生产率可能不高。所有这三份文件的技术都具有在光学功能层上面的保护层的表面上出现粉末状白色材料，从而降低外观质量的问题。根据现有技术，不可能以高生产率制备具有高抗划伤性以及降低的外观缺陷的抗反射膜。
                       发明内容
考虑到上述问题，本发明的一个目的是提供其中可以使用具有高质量的硬质涂层以容易的方式制备抗反射膜的抗反射膜制备方法和装置。
为了实现本发明的上述和其它目的以及优点，提供了制备抗反射膜的抗反射膜制备方法，所述抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层、和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率。所述抗反射膜制备方法包括使用用于形成低折射率层的液体涂布光学功能层的表面以形成涂层的涂布步骤。在所述抗反射膜制备方法中，有促进涂层干燥的干燥步骤。在硬化步骤中，在促进干燥之后，使涂层热硬化以形成低折射率层。所述硬化步骤包括在用于硬化的第一温度水平加热涂层的第一加热步骤。在第二加热步骤中，在高于第一温度水平的用于硬化的第二温度水平加热涂层。
此外，在硬化步骤之后，有对低折射率层施加电离辐射的步骤。
第一和第二温度水平之差等于或高于1℃且等于或小于50℃。
在干燥步骤中，将干燥气体吹到涂层上。在第一和第二加热步骤中，将分别调节到第一和第二温度水平的加热气体吹到涂层上。
所述光学功能层包含具有表面活性的氟化合物和硅氧烷化合物中的至少一种。
所述光学功能层是防眩功能层。
所述光学功能层具有等于或大于1.58且等于或小于2.0的折射率。
所述低折射率层具有等于或大于1.31且等于或小于1.45的折射率。
所述抗反射膜还包含光透射细粒，所述光透射细粒包含于光学功能层和低折射率层的至少一个中。
第一温度水平等于或高于70℃且等于或低于110℃。
第二温度水平等于或高于100℃且等于或低于160℃。
所述至少一个光学功能层至少是从载体依次安置的第一层和第二层。
所述抗反射膜还包含在第二层中包含的光透射细粒。
所述至少一个光学功能层至少是从载体依次安置的第一至第三层。
在第一和第二加热步骤的每一个中，使用多根输送辊引导具有输送用U形弯曲的抗反射膜片幅(web)。
而且，提供用于制备抗反射膜的抗反射膜制备装置，所述抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层、和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率。所述抗反射膜制备装置包含涂布机，所述涂布机使用用于形成低折射率层的液体涂布光学功能层的表面以形成涂层。干燥机促进所述涂层的干燥。加热器使来自所述干燥机的所述涂层在第一温度水平硬化，然后使所述涂层在高于第一温度水平的第二温度水平硬化，形成所述低折射率层。
所述干燥机包含干燥室，所述干燥室作为输送抗反射膜片幅的通道，并且用于将干燥气体吹到所述涂层上。所述加热器包含第一和第二加热室，所述第一和第二加热室用于通过被输送的片幅，并且用于将分别调节到第一和第二温度水平的加热气体吹到所述涂层上。
此外，在第一和第二加热室的每一个中包含多根输送辊，用以引导输送具有输送用U形弯曲的所述片幅。
因此，因为使用两种温度水平进行硬化，所以可以使用具有高质量的硬质涂层以容易的方式制备抗反射膜。
                       附图说明
当联系附图理解时，从如下详细描述中，本发明的上述目的和优点将变得更明显，其中：
图1是说明光学膜制备设备的说明图，
图2A是说明片幅或基底膜的横截面；
图2B是说明抗反射膜的横截面；
图3是说明另一种优选的抗反射膜的横截面；
                       具体实施方式
下面描述根据本发明的抗反射膜的制备。本发明不限于以下描述的实例。在图1中，说明了光学膜制备系统10。
光学膜制备系统10包含聚合物膜输送装置13、涂布机14、干燥机16、加热器18、紫外线固化灯21和收卷机23。聚合物膜输送装置13供应聚合物膜片幅作为基底膜11。涂布机14通过供应涂料液体将涂料涂覆到片幅11上。干燥机16包含多根传递辊15并且干燥涂层。加热器18将热量施加到涂层上以进行热硬化，并且在加热器18内部包含隔板17限定的第一加热室18a和第二加热室18b。紫外线固化灯21对用于最终硬化的涂层使用紫外线以获得抗反射膜20。收卷机23将抗反射膜20收卷。而且，光学膜制备系统10包含多根输送辊25和除尘器26。
涂布机14包含在片幅或基底膜11的路径下的微凹印辊14a和溶液槽(没有显示)。微凹印辊14a具有凹印图案。使用微凹印辊14a将溶液的涂料涂覆到片幅11的一个表面上。在将溶液槽设置在微凹印辊14a下面时，进行安置使微凹印辊14a的表面可以接触溶液。使微凹印辊14a的表面接触槽中的溶液20，并且将溶液供应到凹印图案。刮刀(没有显示)被设置在微凹印辊14a附近，并且从微凹印辊14a上除去过剩的溶液。可以调节供应到微凹印辊14a上的溶液的量。
干燥机16包含用于输送的干燥室16b和具有干燥气体源的通风室16c。在干燥室16b和通风室16c之间有设置的孔板16a以调节流量。孔板16a由金属形成，包含多个开口，是在干燥室16b和处于允许气体流动的状态的通风室16c之间的隔板。孔板16a的优选实例是金属网、穿孔金属等。孔板16a的开口率等于或低于50％，并且优选等于或大于20％且等于或小于40％。在本实施方案中使用金属网，所述金属网具有30％的开口率，并且具有300目的等级。优选将孔板16a设置在离片幅或基底膜11的表面10mm的距离。
将多根传递辊15设置在干燥室16b中以支承并且输送片幅或基底膜11。优选可拆卸地设置传递辊15并且以容易互换的方式结合。如果在片幅11上的涂料溶液中的残留溶剂的含量等于或大于20％且等于或小于45％，则通过拆卸传递辊15，以非接触的方式输送片幅11。这对于在输送片幅11时保持平坦性不降低是有效的。
将出口导管和入口导管(没有显示)与通风室16c连接。出口导管使空气流出通风室16c。作为干燥气体源，将入口导管在片幅或基底膜11的宽度方向上与出口导管相对地安置。通过使用出口导管和入口导管使通风室16c的空气循环。干燥气体源通过入口导管将加热的干燥空气引入到通风室16c中以适当地调节内部温度。因此，可以促进在干燥室16b中输送的片幅11的涂层的干燥。应指出用于干燥的干燥气体可以是不同于空气的任何气体，并且可以为了目的进行适当的选择。
将作为气源的气流管30a和30b与由加热器18中的隔板11限定的加热室18a和18b的内部连接以控制温度。对隔板1 7的材料和形状没有限制。隔板17的优选材料具有小的热导率。为了控制温度，可以使用可调节的加热器以将内部温度设定在调节的水平。在光学膜制备系统10中，设置输送辊25以支承并且输送片幅或基底膜11。输送辊25的位置和数量不受限制，并且可以遵照目的确定。
以下描述在光学膜制备系统10中光学膜的制备。
首先，使片幅或基底膜11从聚合物膜输送装置13向前移动。在图2A中，片幅11包含透明载体41和光学功能层43。光学功能层43包含第一层43a或硬质涂层和第二层43b或防眩硬质涂层。在第二层43b中包含光透射细粒45或微球。对片幅11的材料和结构没有限制。片幅11的载体41可以是可商购的聚合物膜。对第一层43a和第二层43b的类型没有限制。然而，本实施方案的第一层43a是硬质涂层，第二层43b是防眩硬质涂层以获得抗反射膜20。稍后将详细描述光透射细粒45。
当输送辊25输送从聚合物膜输送装置13向前移动的片幅或基底膜11时，通过除尘器26将气体吹到片幅11上。可以消除片幅11上的灰尘或其它异物或杂质。可以有效地降低在形成涂层的过程中灰尘沉积的可能性。应指出对除尘器26的位置、数量等没有限制。然而，考虑到使上面的描述中的效果最大化，优选将除尘器26安置在涂布机14的上游且非常靠近涂布机14。
输送除尘之后的片幅或基底膜11，并且使用溶液，通过涂布机14进行涂布。涂布机14的微凹印辊14a在与片幅11的输送方向相反的方向上旋转。使用适当量的涂布溶液提供微凹印辊14a的凹印图案。当微凹印辊14a接触片幅11时，将溶液转移到片幅11上，容易在用于预期目的的片幅11的表面上形成涂层。在本实施方案中，使用用于折射率低于光学功能层43折射率的层的溶液涂布片幅11，以形成低折射率层。
在微凹印辊14a上形成的凹印图案的线的数量等于或高于50/英寸且等于或低于800/英寸，并且优选等于或高于100/英寸且等于或低于300/英寸。凹印图案的深度等于或大于1微米且等于或小于600微米，并且优选等于或大于5微米且等于或小于200微米。微凹印辊14a的转速等于或高于3rpm且等于或低于800rpm，并且优选等于或高于5rpm且等于或低于200rpm。片幅或基底膜11的输送速度等于或高于0.5米/分钟且等于或低于100米/分钟，并且优选等于或高于1米/分钟且等于或低于50米/分钟。因此，可以以没有大的不均匀度的均匀厚度涂布片幅11的表面。
涂布溶液的量不受限制，并且可以通过考虑涂层的目标厚度并且防止在片幅或基底膜11上产生表面涂布不匀缺陷进行确定。如果所述量太大，则可能在片幅11上出现表面涂布不匀缺陷或者干燥时间可能太长。当涂层太厚时，也会出现相同问题。为了解决所述问题，对于每平方米基底膜，涂布溶液的量等于或大于1毫升且等于或小于40毫升，并且特别是等于或大于2毫升/平方米且等于或小于25毫升/平方米。涂层的厚度等于或大于0.01微米且等于或小于20微米，并且优选等于或大于0.05微米且等于或小于10微米，以防止在获得需要的层的性能之前，干燥需要太多的时间。
通过传递辊15支承并且输送移动到干燥机16中的片幅或基底膜11穿过干燥室16b，其间使传递辊15与片幅11的与涂布表面相反的背表面接触。干燥机16的鼓风机导管(没有显示)使干燥气体在处于控制温度的干燥机16中流动，以适当地调节干燥机16的内部温度。可以进行初期干燥以促进涂层的干燥。干燥机16的内部温度等于或高于20℃且等于或低于120℃，并且优选等于或高于25℃且等于或低于100℃。可以在没有热收缩的情况下继续涂层的干燥。如果干燥机16的内部温度低于20℃，则在涂层中的溶剂不充分地蒸发。在加热器18中加热包含大量溶剂的涂层。结果，在涂层中的溶剂将在加热器18中突然蒸发，因而由于干燥或厚度的显著的不均匀性，将出现严重的外观缺陷。如果干燥机16的内部温度高于120℃，则在涂层中的溶剂将在干燥机16中突然蒸发。可能出现涂层的热收缩。因为添加剂可能随着溶剂的蒸发一起蒸发，所以形成的层可能不具有需要的性能。
优选温度调节器与传递辊15结合以调节辊表面的温度。这使得可以有效率地干燥涂层。特别是，将传递辊15的辊表面的温度调节到干燥机16的内部温度的水平以抑制涂层的干燥的不均匀性。
在干燥室16b中的气体的流速等于或高于0.1米/秒且等于或低于1.5米/秒。所述流速优选等于或高于0.1米/秒且等于或低于1.0米/秒，并且适宜等于或高于0.2米/秒且等于或低于1.0米/秒。这使得可以适宜地通过防止在外观成形中的缺陷，在干燥机16中首先以高效率干燥涂层。如果所述流速等于或低于0.1米/秒，则因为很低的效率，涂层的初期干燥将不足。在加热器18中加热包含大量溶剂的涂层，因而溶剂突然蒸发，以致在涂层中形成干燥或厚度的不均匀性。如果干燥室16b很长以进行充分干燥，则生产成本太高，或者干燥效率太低。如果流速高于1.5米/秒，则可能出现涂层厚度的不均匀性。
在涂层的初期干燥之后，从干燥机16向前移动片幅或基底膜11，并且将其输送到加热器18中。调节作为通过气流管30a和30b供应的干燥气体的干空气的气体温度。通过加热的干燥气体的流动，将加热室18a和18b的内部温度控制在预定的范围内。
第一加热室18a的第一温度水平优选等于或高于70℃且等于或低于110℃。适宜地，第一温度水平可以等于或高于90℃且等于或低于100℃。第二加热室18b的第二温度水平优选等于或高于100℃且等于或低于160℃。适宜地，第二温度水平可以等于或高于100℃且等于或低于140℃。在加热器18中设定第二温度水平高于第一温度水平。优选的第一和第二温度水平之差等于或大于1℃且等于或小于50℃。在本发明中，在至少两种温度水平干燥在初期干燥之后的涂层以形成低折射率层。因此，可以在涂层的热固化中并且在抑制添加剂的洗脱和释放的情况下，促进随后的涂层固化反应。可以获得很硬的涂层并且防止由于添加剂的释放而形成粉末状白色沉积物。结果，可以形成具有高抗划伤性和没有外观缺陷的低折射率层。
如果第一温度水平低于70℃或者如果第二温度水平低于100℃，则热量完全不足以促进涂层的热硬化。如果片幅或基底膜11的输送速度低或者如果对于适当硬化而言输送通道长，则会出现严重问题。例如，由于很长的输送时间，生产率低下。片幅11因在加热器18中长时间停留可能受到热损害。而且，由于更大的装置，生产成本高。如果第一温度水平高于110℃或者如果第二温度水平低于160℃，则很可能涂层中包含的添加剂通过洗脱会释放在涂层表面上，以致在涂层的热收缩之后形成皱纹、条纹或其它缺陷。
应指出，如上所述，干燥机16的优选内部温度为20-120℃。然而，干燥机16的内部温度和加热器18的第一或第二温度水平之间的关系不受限制，并且可以为了目的适当地确定。
在低折射率层的表面上，将紫外线施加于被加热器18初期硬化的片幅或基底膜11。通过使用电离辐射，因为通过固化加强了硬化，可以获得具有极高硬化度的层。应指出本发明的电离辐射是用于表面物质电离的紫外线、电子束辐射、X射线、伽马射线、高速中子辐射、高速带电粒子等。最后通过收卷机23将抗反射膜20收卷。应指出抗反射膜20的最终形态可以是膜卷或散装，或者片或其它形状。
在图2B中，在通过上述方法形成的抗反射膜20中，在片幅或基底膜11上形成低折射率层46。在初期干燥之后，使抗反射膜20热硬化。在热硬化之后，通过紫外线固化形成低折射率层46。因此，抗反射膜20可以没有外观缺陷并且可以具有高抗划伤性。
现在描述本发明的抗反射膜。
载体41是透明膜，由聚合物形成，并且适于形成多层涂层。所述聚合物的实例包括纤维素酯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酯、聚苯乙烯、聚烯烃、降冰片烯树脂和非晶态聚烯烃。在这些中，优选的实例是作为纤维素酯的三乙酰基纤维素以及作为聚酯的聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯。特别是，优选三乙酰基纤维素(TAC)。
光学功能层43起着光学作用，并且包含至少一个由粘合剂、聚合物引发剂、分散剂或其它聚合物形成的层部件。光学功能层43可以具有多层结构，所述多层结构具有两个或两个以上的层部件。在本实施方案中，那些是第一层43a和第二层43b。用于构成功能层的层部件的实例是光漫射层、中等折射率层、高折射率层、光学补偿层、防眩功能层等。在光学功能层43中包含的层部件可以是普通组成的材料或不同组成的材料。可以根据目的从这些实例中选择形成光学功能层43。特别是，可以包含防眩功能层以确保防止反射。
光学功能层43的优选粘合剂是包含饱和烃链或聚酯链作为主链的聚合物。通过选择性确定单体的结构，有无芳环和有无卤素、硫、磷、氮等，可选择各种物质以调节将要形成的层的折射率。
将光透射细粒45加入到第二层43b中。在此使用在光透射细粒45中的光透射的术语表示在可见光范围中没有吸收的性质。因为光透射细粒45的光透射，将光透射细粒45加入到层中可以容易调节折射率，并且调节层的防眩性。对于光透射细粒45，美国专利公布2004/240070，0085段(对应JP-A2003-302506，0044段)公开了具体的实例，所述实例可以用于本发明。可以通过考虑将要形成的层的折射率差，适当地选择光透射细粒45的材料。
可以通过考虑折射率差、颗粒直径等选择性使用光透射细粒，以控制形成的层的各种特性。如果使用具有大的直径的光透射细粒，则可以容易地调节层的防眩性。如果使用具有小直径的光透射细粒，则可以容易地调节层的折射率。优选组合使用两种或两种以上具有种类、尺寸等的差别的示例性光透射细粒。如果继续存在膜表面的不均匀性以致降低亮度的均匀性，则可以通过使用具有适当地确定的颗粒直径的光透射细粒解决这种问题。
通过适当地选择颗粒的材料形成光学功能层43。光学功能层43的折射率优选等于或大于1.58且等于或小于2.0。低折射率层46的折射率优选等于或大于1.31且等于或小于1.45。如此形成的光学功能层43可以具有高的防眩性。低折射率层46可以具有高的硬度并且具有抗划伤的表面。具有这些层的抗反射膜20是具有高防眩性、高抗划伤性以及高的防尘性和防污性的光学膜。应指出光学功能层43和低折射率层46中的至少一个应该包含光透射细粒。当光学功能层43是由多个层部件构成的多层形式时，其中至少一个可以包含光透射细粒。
光透射细粒的材料的实例包括至少一种钛、锆、铝、铟、锌、锡和锑的氧化物。金属氧化物的平均颗粒直径等于或小于0.2微米，优选等于或小于0.1微米，并且适宜等于或小于0.06微米。氧化物的具体实例包括TiO2、ZrO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、ITO和SiO2。考虑到高的折射率，其中适宜的实例是TiO2和ZrO2。优选地，可以使用硅烷偶联剂和钛偶联剂处理光透射细粒的表面以提高在粘合剂中的分散性和相容性。加入的光透射细粒的比率相对于加入的目标层的总重量为10-90％，并且优选20-80％，并且适宜为30-75％。
用于防眩性目的的颗粒是平均颗粒直径等于或大于1微米且等于或小于10微米并且大于填充剂颗粒的无光泽颗粒。无光泽颗粒的实例包括二氧化硅颗粒和二氧化钛颗粒，以及树脂颗粒如丙烯酸类颗粒、交联丙烯酸类颗粒、聚苯乙烯颗粒、交联苯乙烯颗粒、蜜胺树脂颗粒和苯基胍胺树脂颗粒。无光泽颗粒的特别优选的实例包括二氧化硅颗粒、交联丙烯酸类颗粒、交联苯乙烯颗粒。无光泽颗粒的形态不受限制，并且可以是球形或任意的。可以组合使用两种或两种以上具有颗粒直径或形状的差别的示例性无光泽颗粒。对于防眩功能层，每平方米层的无光泽颗粒的含量可以优选等于或大于10mg且等于或小于2,000mg。所述含量适宜等于或大于100mg且等于或小于1,400mg。
优选将无光泽颗粒均匀地分散到层中。就尺寸而言，无光泽颗粒可以具有相等的直径。其中包含的直径比平均直径大20％的大的无光泽颗粒的比率应该等于或低于1％，并且适宜等于或低于0.1％。因此，在所述技术中，为了相等的直径和在层中的均匀分散性，使用的无光泽颗粒应该是在最高程度的分级之后的那些。应指出，调节折射率用的颗粒具有比赋予防眩性用的那些的颗粒直径更小的范围的颗粒直径。因为上述颗粒具有小于光波长的足够小的直径，所以在光的透射之后，不会出现光的漫射。
光学功能层可以优选包含选自具有表面活性的氟化合物和硅氧烷化合物的至少一种化合物。这可以赋予光学功能层以高的防尘性和防污性以及滑动性能。在层形成材料的全部固含量中的氟或硅氧烷化合物的量不受限制，并且优选等于或高于0.01-20重量％。氟或硅氧烷化合物的量特别为0.05-10重量％，并且适宜为0.1-5重量％。
氟化合物的实例是包含氟代烷基的这些化合物。氟代烷基优选具有1-20个碳原子的原子数，并且适宜地具有1-10个碳原子的原子数。所述氟代烷基可以具有直链、支链、脂环族形式的结构，并且可以包含醚键。而且，一个分子可以包含两个或两个以上的氟代烷基。
优选的氟化合物是具有相容性和在光学功能层和低折射率层之间的界面上的粘附性的取代基的实例。取代基的实例可以是两种或两种以上或仅仅一种。但是取代基的数量应该是两个或两个以上。取代基的优选实例是丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、芳基、肉桂酰基、环氧基、氧杂环丁烷基(oxetanyl group)、羟基、聚氧化烯基、羧基和氨基。这些氟化合物可以是由没有氟原子的化合物和含氟原子的化合物形成的共聚物，并且可以是由多种示例性单体制备的低聚物。对分子量没有限制。在氟化合物中的氟原子的量不受限制，并且优选等于或大于20重量％。氟原子的量特别为30-70重量％，并且适宜为40-70重量％。
优选的硅氧烷化合物是在化合物链的端基和侧链、或端基和侧链中的任一处具有取代基的实例，所述化合物链包含多个二甲基甲硅烷氧基作为重复单元。这种包含重复单元的化合物可以包含不同于二甲基甲硅烷氧基的单元。取代基的实例可以是两种或两种以上或仅仅一种。但是取代基的数量应该是两个或两个以上。取代基的优选实例是丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、芳基、肉桂酰基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、氟代烷基、聚氧化烯基、羧基和氨基。考虑到容易处理，所述化合物的优选的分子量等于或小于100,000。所述分子量优选等于或小于50,000，并且适宜为3,000-30,000。在硅氧烷化合物中的硅原子的量不受限制，并且优选等于或大于18重量％，特别为25-37.8重量％并且适宜为30-37重量％。
在图3中，说明了用于在光学膜制备系统10中制备的抗反射膜的另一个实例。
在图3中，抗反射膜55包含载体41、光学功能层53和低折射率层56。载体41的标记与图2A和2B所述相同。光学功能层53包含从透明载体51依次覆盖的层部件，即第一层53a、第二层53b和第三层53c。可以通过适当地选择粘合剂的种类、细粒等确定所述层的性能。第一层53a的一个实例是硬质涂层。第二层53b的一个实例是中等折射率层。第三层53c的一个实例是高折射率层。根据这种组合，抗反射膜55可以具有很高的抗反射性。
在上述实施方案中，涂布方法是凹印涂布法。然而，可以使用本领域中已知的其它涂布方法。涂布方法的实例包括浸涂法；气刀涂布法；幕涂法；辊涂法；绕线棒涂布法；凹印涂布法，例如微凹印涂布法；或挤压涂布法(参见美国专利2,681,294)。其中优选的方法是绕线棒涂布法、微凹印涂布法或挤压涂布法。特别是，优选微凹印涂布法。
本实施方案的加热器18具有两室。然而，加热器18的拆分形式不限于本实施方案。此外，多种干燥机的组合可以使用，并且可以具有用于以彼此不连续的方式调节内部温度的调节器。而且，可以使用一套的多个干燥机，并且可以将其进行串联设置。
在上述实施方案中，将紫外线用于固化。代替这种或除这种以外，还可以将电子束以电离辐射的形式用于固化。为此，可以使用多种电离辐射源，如紫外线源和电子束源，并且将其进行串联设置用于低折射率层。应指出，可以在系统中适当地确定这些电离辐射源的位置、数量和其它特征。
紫外线辐射源的实例包括本领域中熟知的高压汞灯、氙灯、金属卤化物灯、熔断灯、紫外线发光二极管(UV LED)和其它装置。而且，可以使用各种类型的电离辐射源中的任何一种。在辐射中，通过降低对片幅或基底膜的损害，可以促进充分固化。紫外线的量可以等于或大于30mJ且等于或小于800mJ，并且优选等于或大于50mJ且等于或小于300mJ。对于电离辐射，加速电压可以优选等于或大于80kV且等于或小于300kV。
可以将在WO-A 2005-063484，22和23页(对应JP-A 2005-257786，0061段)中提出的各个实例与本发明组合使用，所述实例包括用于形成载体、光学功能层和低折射率层的可硬化树脂、细粒、聚合引发剂、分散剂和其它添加剂以及形成各种层的方法。
可以优选使用本发明的抗反射膜作为面板形状偏振器的保护膜。所述面板形状偏振器由两个保护膜构成，其间安置偏振膜。优选使用本发明的抗反射膜作为所述保护膜中的至少一个。因为使用抗反射膜作为保护膜，这可以降低面板形状偏振器的生产成本。而且，以最上层的形式安置抗反射膜。可以获得具有高抗划伤性和高防尘性以及防污性，可靠地防止外部光的多余反射的面板形状偏振器。此外，两个保护膜中的第一个优选为抗反射膜，它们中的第二个为具有光学各向异性层的光学补偿膜。这种光学补偿膜可以配置有具有光学各向异性层的光学功能层。光学补偿膜也称为用以提高液晶显示板的视角性能的相差膜。
在使用本发明的抗反射膜作为偏振膜的保护膜时，所述抗反射膜可以用于任何类型的液晶显示板，包括TN型、STN型、VA型、IPS型、OCB型和透射型、反射型以及半反射(transflective)型。
本发明中的偏振膜可以是已知的偏振膜的任何一种，并且从吸收轴既不平行也不垂直其轴向的连续偏振膜中裁剪出偏振膜。通过在用拉片幅机夹子或其它固定装置固定膜的两侧端的同时向其施加张力，拉伸连续供应的聚合物膜，获得偏振膜。在优选的拉伸方法中，在使处于固定膜两端的状态中的膜向前移动的方向弯曲的情况下，以在拉幅机夹子或固定装置的输送方向上的膜两端之间等于或小于3％的速度差，将偏振膜在膜的宽度方向上拉伸1.1-20倍或更大。相对于其中基本上以20-70°的角度拉伸膜的方向，在固定膜的两端的阶段的出口处膜向前移动的方向是倾斜的。应指出考虑到高生产率，这种倾斜角度优选为45°。
本发明的抗反射膜可以用于LCD、PDP(等离子体显示板)、ELD(电致发光显示板)和CRT(阴极射线管)中的任何一种的显示板。可以通过将透明载体覆盖在显示表面上，使具有透明载体的抗反射膜贴到显示板的显示表面上，以获得具有高图像质量的显示板。
而且，WO-A 2005-063484，源自43-44页的部分(对应JP-A 2005-257786，源自0067段的部分)公开了本发明抗反射膜可适用的偏振膜、聚合物膜、显示板等的实例。
根据实施例1-9和比较例1-7的多个条件进行实验。应指出在实施例2-9和比较例1-7中，基本上重复使用实施例1的制备方法。仅仅详细描述它们的差别。
[实施例1]
[聚合物膜的制备]
使用用于形成光学功能层的溶液A，通过涂布机14涂布由Fuji PhotoFilm Co.，Ltd.生产的三乙酰基纤维素膜TD80U，然后通过干燥机16在100℃干燥40秒。涂布机14包含刮刀和微凹印辊14a，所述微凹印辊14a具有50mm的直径和135线/英寸和60微米的深度的凹印图案。使用20米/分钟的移动速度调节涂布机14。在氮气吹扫下使用160W/cm的气冷金属卤化物灯(由Eyegraphics Co.，Ltd.生产)。将紫外线以400mW/cm2的强度和250mJ/cm2的剂量用于涂层以获得光学膜。硬化的光学功能层A约为3.4微米厚。将具有光学功能层A的片幅或基底膜卷成卷形，获得片幅或基底膜卷作为光漫射膜。
[光学膜的制备]
使用图1的光学膜制备系统10制备光学膜。首先，使用用于形成低折射率层的溶液A，通过涂布机14涂布上面获得的片幅或基底膜的表面，然后通过干燥机16在120℃干燥150秒。涂布机14包含刮刀和微凹印辊14a，所述微凹印辊14a具有50mm的直径和200线/英寸和深度为30微米的凹印图案。使用微凹印辊14a的转速30rpm和20米/分钟的移动速度调节涂布机14。将加热器18的第一加热室18a调节到95℃。将加热器18的第二加热室18b调节到105℃。加热室18a和1 8b中的每一个的干燥时间为5分钟以使涂层硬化。在氮气吹扫下使用240W/cm的气冷金属卤化物灯(由Eyegraphics Co.，Ltd.生产)作为紫外线固化灯21。通过紫外线固化灯21，将紫外线以400mW/cm2的强度和900mJ/cm2的剂量用于涂层以获得光学膜。在光学膜中的低折射率层为100nm(0.1微米)厚。
[用于形成光学功能层的溶液A]
混合并且搅拌如下的化合物以制备混合溶液A1。
100重量份溶液1：含氧化锆的UV固化型硬质涂层溶液DeSolite Z7404(商品名)，由JSR Corporation生产，具有61重量％的固含量、70％的二氧化锆(氧化锆)含量，并且包含可聚合单体和聚合引发剂的组分；
30重量份溶液2：二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混和物，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.生产的DPHA(商品名)；
21重量份甲基异丁基酮；
6重量份甲基乙基酮；
98重量份硅烷偶联剂A：丙烯酰基丙氧基三甲氧基硅烷KBM-5103(商品名)，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.生产。
用混合溶液A1涂布由Fuji Photo Film Co.，Ltd.生产的三乙酰基纤维素膜TD80UF，形成通过紫外线固化的涂层。测量所述涂层的折射率并且得到1.61。
然后将35重量份颗粒分散液A加入到混合溶液A1中，所述颗粒分散液A包含平均颗粒直径为3.0微米的分级加强的交联PMMA颗粒(由SokenChemical & Engineering Co.，Ltd.生产的MXS-300，具有1.49的折射率)。将90重量份颗粒分散液B加入到上述添加的溶液中，获得混合溶液A2，所述颗粒分散液B包含平均颗粒直径为1.5微米的二氧化硅颗粒(由NipponShokubai Co.，Ltd.生产的SEAHOSTAR KE-P 150，具有1.46的折射率)。使用孔径为30微米的聚丙烯过滤器过滤混合溶液A2，制备用于形成具有光漫射的光学功能层或硬质涂层的溶液A。应指出，颗粒分散液A是通过将甲基异丁基酮分散体在Polytron均化器中以10,000rpm分散20分钟获得的分散体，所述甲基异丁基酮分散体包含30重量％的PMMA颗粒。颗粒分散液B是通过将甲基乙基酮分散体在Polytron均化器中以10,000rpm分散30分钟获得的分散体，所述甲基乙基酮分散体包含30重量％的二氧化硅颗粒。
[用于形成低折射率层的溶液A]
将如下化合物注入到混合槽中，搅拌，然后使用孔径为1微米的聚丙烯过滤器过滤，制备用于形成低折射率层的溶液A。
100重量份可热交联的含氟聚合物的聚合物溶液1，由JSR Corporation生产的OPSTER JN-7228A；
4.3重量份二氧化硅分散体A或二氧化硅纳米颗粒溶胶，由NissanChemical Industries Ltd.生产，具有15nm的平均颗粒直径的MEK-ST；
5.1重量份二氧化硅分散体B或二氧化硅纳米颗粒溶胶，由NissanChemical Industries Ltd.生产，具有45nm的平均颗粒直径的MEK-ST的变型；
2.2重量份稍后描述的溶胶溶液E；
15.0重量份甲基乙基酮；
3.6重量份环己酮。
[溶胶溶液E]
反应器具有搅拌器和对流冷却器。所述反应器供应有120重量份甲基乙基酮、100重量份硅烷偶联剂A和3重量份二异丙氧基铝乙酰乙酸乙酯(由Hope Chemical Co.，Ltd.生产)。将这些进行混合直至获得混合物。将30重量份离子交换水加入到混合物中，在60℃反应4小时。然后使所述混合物在室温冷却以获得溶胶溶液E。所述溶胶溶液E具有1,800的重均分子量。在溶胶溶液E中作为低聚物或聚合物，分子量为1,000-20,000的组分为100重量％。进行气相色谱分析，发现没有作为原料的硅烷偶联剂A的组分存在于溶胶溶液E中。
[实施例2]
重复实施例1以制备光学膜，不同之处在于将第二加热室18b调节到110℃。
[实施例3]
通过下面描述的步骤制备光学膜，并且使用用于低折射率层的溶液B进行涂布，将其干燥以获得光学膜。对于形成光学膜的方法，重复实施例1。
[聚合物膜的制备]
使用直径为50mm的微凹印辊，所述微凹印辊具有凹印图案和刮刀，所述凹印图案具有110线/英寸的线数和65微米的深度，在45rpm的凹印辊转速和30米/分钟的输送速度的条件下，用光学功能层的溶液B涂布与实施例1相同的三乙酰基纤维素膜，并且将所述涂层在60℃干燥150秒。之后，在氮气吹扫下使用160W/cm的气冷金属卤化物灯(由Eyegraphics Co.，Ltd.生产)辐照强度为400mW/cm2并且剂量为200mJ/cm2的紫外线，以使用于光学功能层的溶液B固化。因而形成作为防眩硬质涂层的光学功能层B。硬化的光学功能层B为6微米厚。将具有光学功能层B的片幅或基底膜卷成卷形，以获得片幅或基底膜卷作为抗反射硬质涂膜。
[用于形成光学功能层的溶液B]
混合如下的化合物。
50重量份溶液3，即季戊四醇三丙烯酸酯和季戊四醇四丙烯酸酯的混合物，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.生产的PETA；
38.5重量份甲苯；
2重量份聚合物引发剂A，由Ciba Specialty Chemicals Inc.生产的Irgacure184。
搅拌所述混合物以制备混合溶液B1。使用混合溶液B涂布由Fuji PhotoFilm Co.，Ltd.生产的三乙酰基纤维素膜TD80UF以形成通过紫外线固化的涂层。测量所述涂层的折射率并且得到1.51。
然后，将1.7重量份颗粒分散液C加入到混合溶液B1中，所述颗粒分散液C包含平均颗粒直径为3.5微米的聚苯乙烯颗粒(由Soken Chemical &Engineering Co.，Ltd.生产的SX-350，具有1.60的折射率)。将13.3重量份颗粒分散液D加入到上述添加的溶液中以获得混合溶液B2，所述颗粒分散液D包含平均颗粒直径为3.5微米的丙烯酰基苯乙烯颗粒(由Soken Chemical& Engineering Co.，Ltd.生产，具有1.55的折射率)。将0.75重量份氟类表面改良剂(surface reforming agent)(根据JP-A 2005-283849的0080段，具有14,000的重均分子量的FP-13)和10重量份硅烷偶联剂A加入到混合溶液B2中，以获得作为防眩硬质涂层的低折射率层的溶液B。应指出颗粒分散液C是通过将甲苯的混合液体在Polytron均化器中以10,000rpm分散20分钟获得的分散体，所述混合液体包含甲苯和30重量％聚苯乙烯颗粒。应指出颗粒分散液D是包含甲苯和30重量％丙烯酰基苯乙烯颗粒的混合液体。
[用于形成低折射率层的溶液B]
将如下化合物注入到混合槽中，搅拌，然后使用孔径为1微米的聚丙烯过滤器过滤，制备用于形成低折射率层的溶液B。
100重量份可热交联的含氟聚合物的聚合物溶液2，由JSR Corporation生产的OPSTER JTA-113；
4.3重量份二氧化硅分散体A；
5.1重量份二氧化硅分散体B；
2.2重量份溶胶溶液E；
15.0重量份甲基乙基酮；
3.6重量份环己酮。
[实施例4]
重复实施例3以制备光学膜，不同之处在于将第二加热室18b调节到110℃。
[实施例5]
重复实施例3，不同之处在于使用用于形成低折射率层的溶液C和将第二加热室18b调节到100℃，制备光学膜。
[用于形成低折射率层的溶液C]
将如下化合物注入到混合槽中并且搅拌以获得混合溶液，使用孔径为1微米的聚丙烯过滤器过滤所述混合溶液，制备用于形成低折射率层的溶液C。
100重量份聚合物溶液2；
4.3重量份二氧化硅分散体A；
5.1重量份二氧化硅分散体B；
2.2重量份溶胶溶液E；
10.0重量份甲醇；
5.0重量份甲基乙基酮；
3.6重量份环己酮。
[实施例6]
重复实施例3以制备光学膜，不同之处在于使用用于低折射率层的溶液C。
[实施例7]
重复实施例3以制备光学膜，不同之处在于使用用于低折射率层的溶液C，并且将第二加热室18b调节到110℃。
[实施例8]
重复实施例3以制备光学膜，不同之处在于使用用于形成光学功能层的溶液C。制备具有作为防眩硬质涂层的光学功能层C的基底膜。然后重复实施例1，不同之处在于使用用于形成低折射率层的溶液B。制备作为高折射率膜的光学膜。在硬化之后，光学功能层C的厚度为6微米。
[用于形成光学功能层的溶液C]
将如下化合物注入到混合槽中并且搅拌以获得混合溶液，使用孔径为0.4微米的聚丙烯过滤器过滤所述混合溶液，制备用于形成具有高折射率的光学功能层的溶液C。
88.9重量份二氧化钛分散体；
58.9重量份溶液2；
3.1重量份聚合引发剂B，由Ciba Specialty Chemicals Inc.生产的Irgacure 907，
1.1重量份由Nippon Kayaku Co.，Ltd.生产的光敏剂Kayacure DETX；
482.4重量份甲基乙基酮；
1,869.8重量份环己酮。
通过如下方法制备二氧化钛分散体。
[二氧化钛分散体]
通过Dyno Mill将如下材料分散成70nm的重均颗粒直径，制备所述分散体。
257.1重量份细粒分散体F(由Ishihara Sangyo Kaisha，Ltd.生产的MPT-0129C，包含重量比为90.5∶3.0∶4.0∶0.5的TiO2、Co3O4、Al2O3和ZrO2)；
38.6重量份分散剂A；
704.3重量份环己酮。
[实施例9]
重复实施例8以制备光学膜，不同之处在于将第二加热室18b调节到110℃。
[比较例1]
重复实施例1以制备光学膜，不同之处在于不使用加热器18。使用只有一个室的加热器代替加热器18进行加热。通过所述加热器在105℃的温度将具有涂层的聚合物膜加热10分钟。
[比较例2]
重复实施例3以制备光学膜，不同之处在于不使用加热器18。使用只有一个室的加热器代替加热器18进行加热。通过所述加热器在105℃的温度将具有涂层的聚合物膜加热10分钟。
[比较例3]
重复实施例5以制备光学膜，不同之处在于不使用加热器18。使用只有一个室的加热器代替加热器18进行加热。通过所述加热器在95℃的温度将具有涂层的聚合物膜加热10分钟。
[比较例4]
重复实施例5以制备光学膜，不同之处在于不使用加热器18。使用只有一个室的加热器代替加热器18进行加热。通过所述加热器在100℃的温度将具有涂层的聚合物膜加热10分钟。
[比较例5]
重复实施例5以制备光学膜，不同之处在于不使用加热器18。使用只有一个室的加热器代替加热器18进行加热。通过所述加热器在105℃的温度将具有涂层的聚合物膜加热10分钟。
[比较例6]
重复实施例5以制备光学膜，不同之处在于不使用加热器18。使用只有一个室的加热器代替加热器18进行加热。通过所述加热器在108℃的温度将具有涂层的聚合物膜加热10分钟。
[比较例7]
重复实施例8以制备光学膜，不同之处在于不使用加热器18。使用只有一个室的加热器代替加热器18进行加热。通过所述加热器在105℃的温度将具有涂层的聚合物膜加热10分钟。
对根据实施例和比较例制备的光学膜进行评价。为此，样品为根据如下的皂化获得的皂化光学膜。
[皂化]
首先，制备1.5摩尔/升氢氧化钠水溶液，并且将其保持在55℃。同样，制备0.01摩尔/升稀硫酸水溶液，并且将其保持在35℃。将所述光学膜在这种氢氧化钠水溶液中浸渍2分钟，然后在水中浸渍以洗去氢氧化钠。之后，将洗涤的光学膜在稀硫酸中浸渍1分钟，然后在水中浸渍以洗去稀硫酸。通过调节到120℃的干燥机干燥光学膜，并且使其皂化。
[1.平均反射率]
使用由Hitachi Seisakusyo Inc.生产的分光光度计U4100，以5°的入射角测量样品在380-780nm(可见光)的波长范围内的光谱反射率。获得450-650nm的平均反射率作为光学膜的平均反射率。
[2.评价抗划伤性]
通过使用JSPS型(Japan Society of the Promotion of Science)耐摩擦的摩擦测试仪AB-301(商品名，由Tester Sangyo Co.，Ltd.生产)的振动类型，在下面描述的条件下对样品进行摩擦试验。然后使用油基黑墨涂布样品的第二表面，所述第二表面与具有低折射率层的第一表面相反。通过人的眼睛观察第一表面，如此以作为光学膜抗划伤性的三个等级评价使用反射光发现的摩擦位置的划伤。
A：因为即使在非常仔细地观察时也没有划伤，作为产品可完全接受。
B：因为只发现极轻微的划伤，作为产品可接受。
F：因为发现明显可辨认的划伤，作为产品不可接受。
[摩擦试验的条件]
环境条件：25℃，60％RH；
摩擦工具：通过Bemcot M-3(由Asahi Kasei Corporation生产)的卷绕，使与样品接触的测试仪的1×1cm的试验端缠绕，并且用带将其固定。
移动距离：单程13cm；
摩擦速度：13cm/秒；
负荷：200g/cm2；
所述端的接触面积：1×1cm；
摩擦次数：250，作为往返方向的组合。
[3.白色粉末的偶然形成]
使用油基黑墨涂布与具有低折射率层的第一表面相反的第二表面。然后将来自光源的光施加于第一表面。采用如下三个等级用人眼评价在第一表面上可辨认的带有白色粉末的缺陷。所述光源为三波长荧光灯和人造日光灯。
A：因为没有带有白色粉末的缺陷，作为产品完全可接受。
B：因为只发现很少量的白色粉末，作为产品可接受。
F：因为在整个表面上发现带有白色粉末的缺陷，作为产品不可接受。
根据实施例和比较例的评价结果示于表1和2中。
表1
 用于形成功能层的溶液  用于形成低折射率层的溶液  平均反射率(％)  抗划伤性  白色粉末的偶然形成
实施例1  A  A  1.4  A  A
实施例2  A  A  1.4  A  A
实施例3  B  B  1.2  A  A
实施例4  B  B  1.2  A  A
实施例5  B  C  1.2  A  A
实施例6  B  C  1.2  A  A
实施例7  B  C  1.2  A  A
实施例8  C  B  0.8  A  A
实施例9  C  B  0.8  A  A
表2
 用于形成功能层的溶液  用于形成低折射率层的溶液  平均反射率(％)  抗划伤性  白色粉末的偶然形成
比较例1  A  A  1.4  A  F
比较例2  B  B  1.2  A  F
比较例3  B  C  1.2  F  A
比较例4  B  C  1.2  B  A
比较例5  B  C  1.2  A  B
比较例6  B  C  1.2  A  F
比较例7  C  B  0.8  A  F
总之，发现以高生产率制备了具有高质量，例如高平均反射率，高抗划伤性和抑制的外观缺陷如白色粉尘的光学膜。
尽管参考附图，经由优选实施方案充分描述了本发明，但是各种改变和修改对本领域技术人员应该是明显的。因此，除非这些改变和修改偏离本发明的范围，否则应该将它们理解为包含在本发明中。

Claims (18)

1.一种制备抗反射膜的抗反射膜制备方法，所述抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层、和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率，所述抗反射膜制备方法包括：
使用用于形成所述低折射率层的液体涂布所述光学功能层的表面以形成涂层的涂布步骤；
促进所述涂层干燥的干燥步骤；
在促进干燥之后，使所述涂层热硬化以形成所述低折射率层的硬化步骤；
所述硬化步骤包括：
在用于硬化的第一温度水平加热所述涂层的第一加热步骤；
在高于所述第一温度水平的用于硬化的第二温度水平加热所述涂层的第二加热步骤。
2.如权利要求1限定的抗反射膜制备方法，所述方法还包括在所述硬化步骤之后，对所述低折射率层施加电离辐射的步骤。
3.如权利要求2限定的抗反射膜制备方法，其中所述第一和第二温度水平之差等于或高于1℃且等于或低于50℃。
4.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中在所述干燥步骤中，将干燥气体吹到所述涂层上；
在所述第一和第二加热步骤中，将分别调节到所述第一和第二温度水平的加热气体吹到所述涂层上。
5.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述光学功能层包含具有表面活性的氟化合物和硅氧烷化合物中的至少一种。
6.如权利要求5限定的抗反射膜制备方法，其中所述光学功能层是防眩功能层。
7.如权利要求5限定的抗反射膜制备方法，其中所述光学功能层具有等于或大于1.58且等于或小于2.0的折射率。
8.如权利要求7限定的抗反射膜制备方法，其中所述低折射率层具有等于或大于1.31且等于或小于1.45的折射率。
9.如权利要求7限定的抗反射膜制备方法，其中所述抗反射膜还包含光透射细粒，所述光透射细粒包含于所述光学功能层和所述低折射率层的至少一个中。
10.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述第一温度水平等于或高于70℃且等于或低于110℃。
11.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述第二温度水平等于或高于100℃且等于或低于160℃。
12.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述至少一个光学功能层至少是从所述载体依次安置的第一和第二层。
13.如权利要求12限定的抗反射膜制备方法，其中所述抗反射膜还包含在所述第二层中包含的光透射细粒。
14.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述至少一个光学功能层至少是从所述载体依次安置的第一至第三层。
15.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中在所述第一和第二加热步骤的每一个中，使用多根输送辊引导具有输送用U形弯曲的所述抗反射膜的片幅。
16.一种用于制备抗反射膜的抗反射膜制备装置，所述抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层、和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率，所述抗反射膜制备装置包含：
涂布机，使用用于形成所述低折射率层的液体涂布所述光学功能层的表面以形成涂层；
干燥机，用于促进所述涂层干燥；和
加热器，用于使来自所述干燥机的所述涂层在第一温度水平硬化，然后使所述涂层在高于所述第一温度水平的第二温度水平硬化以形成所述低折射率层。
17.如权利要求16限定的抗反射膜制备装置，其中所述干燥机包含干燥室，所述干燥室作为输送抗反射膜片幅的通道，并且用于将干燥气体吹到所述涂层上；
所述加热器包含第一和第二加热室，所述第一和第二加热室用于通过输送的所述片幅，并且用于将分别调节到所述第一和第二温度水平的加热气体吹到所述涂层上。
18.如权利要求17限定的抗反射膜制备装置，所述抗反射膜制备装置还包含多根输送辊，所述多根输送辊包含于所述第一和第二加热室的每一个中，用于引导具有输送用U形弯曲的所述片幅。
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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101377404B1 (ko) 2005-07-14 2014-03-25 스트리커 코포레이션 통풍 유닛이 라이트 소스를 냉각시키는 것인, 통풍과 조명을 제공하는 의료/수술용 개인용 보호 시스템
JP4984824B2 (ja) * 2006-10-26 2012-07-25 豊田合成株式会社 発光装置
JP2009262542A (ja) * 2008-03-31 2009-11-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 艶消し樹脂フィルム
US8043665B2 (en) * 2008-11-03 2011-10-25 Xerox Corporation Method of controlling gloss in UV curable overcoat compostitions
US20170031525A1 (en) 2010-05-14 2017-02-02 Racing Optics, Inc. Touch screen shield
WO2013095015A1 (ko) * 2011-12-20 2013-06-27 제일모직 주식회사 필름 적층체의 제조 방법 및 이로부터 형성된 필름 적층체
JP5834048B2 (ja) * 2013-05-24 2015-12-16 富士機械工業株式会社 両面塗工装置
CN103293568B (zh) * 2013-06-13 2015-10-28 中国乐凯集团有限公司 一种防反射膜及其制备方法
US9295297B2 (en) 2014-06-17 2016-03-29 Racing Optics, Inc. Adhesive mountable stack of removable layers
EP3491431B1 (en) 2016-07-28 2023-03-08 Racing Optics, Inc. Low reflectance optical web and corresponding manufacturing method
US10306840B1 (en) * 2018-01-19 2019-06-04 Adam J. Mueller Reinforced agricultural silage covers
US11585962B2 (en) 2018-10-19 2023-02-21 Racing Optics, Inc. Transparent covering having anti-reflective coatings
US11846788B2 (en) 2019-02-01 2023-12-19 Racing Optics, Inc. Thermoform windshield stack with integrated formable mold
WO2020160492A1 (en) 2019-02-01 2020-08-06 Racing Optics, Inc. Thermoform windshield stack with integrated formable mold
CN117075246A (zh) 2019-03-15 2023-11-17 美国豪雅光学实验室股份有限公司 液晶基元偏振片
US11364715B2 (en) 2019-05-21 2022-06-21 Racing Optics, Inc. Polymer safety glazing for vehicles
US11648723B2 (en) 2019-12-03 2023-05-16 Racing Optics, Inc. Method and apparatus for reducing non-normal incidence distortion in glazing films
US11548356B2 (en) 2020-03-10 2023-01-10 Racing Optics, Inc. Protective barrier for safety glazing
US11490667B1 (en) 2021-06-08 2022-11-08 Racing Optics, Inc. Low haze UV blocking removable lens stack
US11307329B1 (en) 2021-07-27 2022-04-19 Racing Optics, Inc. Low reflectance removable lens stack
US11709296B2 (en) 2021-07-27 2023-07-25 Racing Optics, Inc. Low reflectance removable lens stack
US11933943B2 (en) 2022-06-06 2024-03-19 Laminated Film Llc Stack of sterile peelable lenses with low creep
US11808952B1 (en) 2022-09-26 2023-11-07 Racing Optics, Inc. Low static optical removable lens stack

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09145903A (ja) 1995-11-27 1997-06-06 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム
FR2759360B1 (fr) * 1997-02-10 1999-03-05 Commissariat Energie Atomique Materiau polymerique inorganique a base d'oxyde de tantale notamment a indice de refraction eleve, mecaniquement resistant a l'abrasion, son procede de fabrication et materiau optique comprenant ce materiau
JP3849232B2 (ja) * 1997-06-12 2006-11-22 東レ株式会社 光学薄膜、反射防止性物品および反射防止方法
JP4147370B2 (ja) 1999-12-17 2008-09-10 富士フイルム株式会社 塗布膜の乾燥方法及び装置
JP2003315505A (ja) * 2002-02-25 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルムの製造方法
US20050095420A1 (en) * 2002-03-22 2005-05-05 Institut Fur Neue Materialien Gem. Gmbh Plastic film with a multilayered interference coating
JP2003311911A (ja) 2002-04-25 2003-11-06 Nitto Denko Corp 複層フィルムの製造方法、反射防止フィルム、光学素子および画像表示装置
WO2004056495A1 (en) * 2002-12-17 2004-07-08 Vision-Ease Lens, Inc. Rapid, thermally cured, back side mar resistant and antireflective coating for ophthalmic lenses
JP4503271B2 (ja) * 2003-11-28 2010-07-14 東レ・ダウコーニング株式会社 シリコーン積層体の製造方法
JP2005201986A (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP4393232B2 (ja) 2004-03-09 2010-01-06 富士フイルム株式会社 反射防止フィルムの製造方法
TWI388876B (zh) 2003-12-26 2013-03-11 Fujifilm Corp 抗反射膜、偏光板，其製造方法，液晶顯示元件，液晶顯示裝置，及影像顯示裝置
JP4553237B2 (ja) * 2004-06-07 2010-09-29 日東電工株式会社 防眩性反射防止フィルム、光学素子および画像表示装置
JP2006048025A (ja) * 2004-07-07 2006-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルムおよびその製造方法
JP2006095443A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd グラビア塗布方法、装置、及び光学フィルム
JP2006334561A (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 塗布膜の乾燥方法
US20070048457A1 (en) * 2005-08-25 2007-03-01 Fuji Film Corporation Producing method of film having coated layer, film having coated layer, optical film, polarizing plate and liquid crystal display

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US20070253062A1 (en) 2007-11-01
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