JP2015169848A - 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】簡便に製造でき、反射率が低い、モスアイ構造を有する反射防止フィルムの提供、及びこの反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、並びに反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基材１と、光透過性基材とは反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層２とを有する反射防止フィルム１０であって、反射防止層の凹凸構造は、分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー（Ａ）の硬化物からなる海部３と、電離放射線硬化性モノマー（Ａ）とは異なる電離放射線硬化性モノマー（Ｂ）の硬化物からなり、海部から突出して凸部を形成する島部４とからなる海島状の相分離構造によるものであり、反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）が１．０よりも大きく、凸部を形成する島部の大きさ及び凸部間隔の周期は、３８０ｎｍ以下であり、かつ表面ヘイズが１．０％未満である反射防止フィルム。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止フィルムの製造方法に関する。

陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。

ディスプレイの表面に配置され、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために低い反射率が要求される。また、高い物理強度（耐擦傷性など）や、透明性等も要求されている。そのため、反射防止フィルムは、一般に、基材上にハードコート層や高屈折率層などの機能層と、基材より低い屈折率を有する適切な膜厚の低屈折率層がこの順で形成されたものである。

反射防止フィルムとして、基材表面に周期が可視光の波長以下の微細な凹凸形状を有する反射防止フィルム、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ ｅｙｅ）構造を有する反射防止フィルムが知られている。モスアイ構造により、擬似的に空気から基材の内部のバルク材料に向かって屈折率が連続的に変化する屈折率傾斜層を作り出し、屈折率界面を持たないことで、光の反射を防止することができる。

モスアイ構造を有する反射防止フィルムとして、特許文献１には、光透過性基板上に直接、分子量と官能基数を規定したバインダーからなる反射防止組成物を形成し、反射防止フィルム製造用金型を用いて、反射防止層の表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された凹凸形状を賦型し、反射防止フィルム製造用金型を剥離する、という基板との密着性に優れたモスアイ構造を有する反射防止フィルムの製造方法が記載されている。

特許文献２には、金型を使用せずに特定構造のポリマーを２種使用することで、液相からのスピノーダル分解により相分離構造を形成して、続いて上記前駆体を硬化させることで、表面凹凸構造を有する防眩フィルムの製造方法の記載がある。

特許文献３には、複雑な金型を使用せずに、光学的に大きな凹凸構造ではなく、可視光波長以下の周期のモスアイ構造を形成する方法として、反射防止組成物に遠赤外線を輻射することで、対流によらず微細な凹凸構造を形成する方法が記載されている。

特開２０１１−７０１１６号公報 特許第５０３８７４８号公報 特開２０１３−６９３号公報

しかし、特許文献１に記載の発明は、優れた反射防止能を発現するためには、可視光波長以下の周期で形成された微細な凹凸形状を持つ金型を作る必要があり、かつその金型の凹凸構造を常に維持したまま、連続的に繰り返し使用するという管理の難しい複雑な工程を経なければ、モスアイ構造を持つ反射防止フィルムを連続生産することができないという課題がある。
特許文献２に記載の方法は、簡便な凹凸形成方法ではあるが、特許文献２の相分離構造のドメイン間の平均距離は１〜７０μｍとなっているため、防眩性のように光学的に大きな凹凸構造は得られても、可視光領域以下の微細な周期の凹凸構造が必要とされるモスアイ構造を有する反射防止フィルムは得られない。
特許文献３に記載の発明は、実際に得られたフィルムの凹凸の周期が１μｍとなっており、可視光の波長を超えているため特に可視光波長域の短波長側の反射率が低下せず、モスアイ構造を形成しているとは言えない。また、特許文献３に記載された発明は、遠赤外線を輻射するために遠赤外線乾燥装置が必要となり、製造方法として簡便ではない。

したがって、金型を使用した複雑な工程も経ずに、かつ遠赤外線乾燥装置のような特殊な装置も使用せずに、簡便な方法で可視光領域の短波長側よりも小さな周期の凹凸構造（モスアイ構造）を有する反射防止フィルムを製造する技術が望まれていた。

すなわち、本発明の課題は、簡便に製造でき、反射率が低い、モスアイ構造を有する反射防止フィルムを提供することにある。

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマーと、（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマーとを用いることにより、上記（Ａ）を海部とし、上記（Ｂ）を島部とし、反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）が１．０よりも大きくなるように調整し、この島部の大きさを可視光領域の短波長よりも小さく形成させ、島部と島部の間隔（凸の周期）を可視光領域の短波長よりも小さくした相分離構造を形成させた上で、上記（Ａ）を下層にしみ込ませ、更に電離放射線照射による硬化の際に、（Ｂ）が低収縮であり、かつ（Ａ）が高収縮である性質を利用することで、島部を凸部とし、海部を凹部としたモスアイ構造を形成できることを見出し、本発明を完成させた。
本発明の課題は下記構成によって達成される。

［１］
光透過性基材と、上記光透過性基材とは反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、
上記反射防止層の凹凸構造は、
下記（Ａ）の硬化物からなる海部と、
下記（Ｂ）の硬化物からなり、上記海部から突出して凸部を形成する島部と
からなる海島状の相分離構造によるものであり、
反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）が１．０よりも大きく、
上記凸部を形成する島部の大きさ及び凸部間隔の周期は、３８０ｎｍ以下であり、かつ
表面ヘイズが１．０％未満である反射防止フィルム。
（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー
（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、上記（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ上記（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー
［２］
上記反射防止層の膜厚が０．０５〜０．７８μｍである［１］に記載の反射防止フィルム。
［３］
上記反射防止層が、更に、下記（Ｄ）成分を含有する［１］又は［２］に記載の反射防止フィルム。
（Ｄ）シランカップリング剤で表面処理された平均粒子径が１０〜３００ｎｍの無機微粒子
［４］
上記（Ｄ）成分の上記シランカップリング剤の分子量が９０〜６００である［３］に記載の反射防止フィルム。
［５］
上記（Ｄ）成分のシランカップリング剤の表面修飾率αが０．１％〜２５％である［３］又は［４］に記載の反射防止フィルム。
［６］
上記（Ｄ）成分の無機微粒子が、少なくとも粒子の表面にケイ素を構成成分として有し、屈折率１．４６以下の金属酸化物微粒子である［３］〜［５］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
［７］
上記（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性ポリマーが下記一般式（１）で表される含フッ素ポリマーである［１］〜［６］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ−（ＭＣ）ｆ−（ＭＤ）ｇ
一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、ｇは含フッ素ポリマー中の質量％を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、０≦ｃ≦８０、３０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０、１≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０≦ｆ≦５０、０≦ｇ≦１５の関係を満たす値を表す。
（ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＲｏ−Ｌ−Ｒｆ_１３で表される単量体を重合して得られる構成単位を示す。Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒｆ_１３は、炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：不飽和二重結合を有する基及び開環重合反応性基の少なくとも一方を有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：非架橋性の構成単位を表す。
（ＭＣ）：下記一般式（２）のポリアルキレンオキシド基を少なくとも１つ有する単量体から重合される構成単位を表す。

一般式（２）中、Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒｃは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍは２以上５０以下の整数を表し、ｎは１以上５以下の整数を表す。なお、ｍが２以上のとき、複数の−（Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｏ）−はそれぞれ異なる繰り返し単位であっても良い。
（ＭＤ）：ポリシロキサン構造を少なくとも１つ有する構成単位を表す。
［８］
上記一般式（２）中のＬが、炭素数１〜９の２価の連結基である［７］に記載の反射防止フィルム。
［９］
光透過性基材と、上記光透過性基材とは反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、
光透過性基材上に、下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｅ）を含有する組成物を塗布し、
下記（Ａ）及び（Ｂ）を海島状に相分離させ、
下記（Ａ）の一部を光透過性基材又は下層に浸透させ、
電離放射線を照射して下記（Ａ）及び（Ｂ）を硬化することで、
下記（Ａ）の硬化物からなる海部と、
下記（Ｂ）の硬化物からなり、上記海部から突出して凸部を形成する島部と
からなる海島状の相分離構造によるものであり、
反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）が１．０よりも大きく、
上記凸部の島の大きさ及び凸部の周期は、３８０ｎｍ以下である凹凸構造を有する反射防止層を形成する、反射防止フィルムの製造方法。
（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー
（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、上記（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ上記（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー
（Ｃ）重合開始剤
（Ｅ）光透過性基材又は下層に対して浸透性を有する溶剤
［１０］
上記（Ｅ）溶剤が、沸点が１００℃を超える溶剤を含有する［９］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１１］
偏光膜と上記偏光膜の少なくとも一方の面を保護する少なくとも１枚の保護フィルムを有する偏光板であって、上記保護フィルムが［１］〜［８］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、又は［９］若しくは［１０］に記載の製造方法によって製造された反射防止フィルムである偏光板。
［１２］
［１］〜［８］のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、［９］若しくは［１０］に記載の製造方法によって製造された反射防止フィルム、又は［１１］に記載の偏光板を有する画像表示装置。

本発明によれば、簡便な方法で製造でき、反射率が低い、モスアイ構造を有する反射防止フィルムを提供することができる。

本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。

本発明の反射防止フィルムは、光透過性基材と、光透過性基材とは反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、
反射防止層の凹凸構造は、
下記（Ａ）の硬化物からなる海部と、
下記（Ｂ）の硬化物からなり、海部から突出して凸部を形成する島部と
からなる海島状の相分離構造によるものであり、
反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）１．０よりも大きく、
凸部を形成する島部の大きさ及び凸部間隔の周期は、３８０ｎｍ以下であり、
表面ヘイズが１．０％未満である。
（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー
（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー

また、本発明の反射防止フィルムの製造方法は、光透過性基材と、光透過性基材とは反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、
光透過性基材上に、下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｅ）を含有する組成物を塗布し、
組成物における（Ａ）と（Ｂ）の面積比（海部の面積／島部の面積）である（Ａ）／（Ｂ）が１．０よりも大きく、
下記（Ａ）及び（Ｂ）を海島状に相分離させ、
下記（Ａ）の一部を光透過性基材又は下層に浸透させ、
電離放射線を照射して下記（Ａ）及び（Ｂ）を硬化することで、
下記（Ａ）の硬化物からなる海部と、
下記（Ｂ）の硬化物からなり、海部から突出して凸部を形成する島部と
からなる海島状の相分離構造によるものであり、
反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）が１．０よりも大きく、
凸部の島の大きさ及び凸部の周期は、３８０ｎｍ以下である凹凸構造を有する反射防止層を形成するものである。
（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー
（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー
（Ｃ）重合開始剤
（Ｅ）光透過性基材又は下層に対して浸透性を有する溶剤

以下、本発明の反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法について詳細に説明する。

本発明の反射防止フィルムの一例の断面模式図を図１に示す。
図１の反射防止フィルム１０は、光透過性基材１と、光透過性基材１の反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層２とを有する反射防止フィルムである。反射防止層２は、下記（Ａ）の硬化物からなる海部３と、下記（Ｂ）の硬化物からなり、海部３から突出して凸部を形成する島部４とからなる海島状の相分離構造によるものである。
島部（凸部）４の周期Ｌは、３８０ｎｍ以下である。
（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー
（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー

本発明の反射防止フィルムは、反射防止層の表面の凹凸構造における凸部の周期が３８０ｎｍ以下である。ここで、凸部の周期とは、隣り合う凸部の頂点間の距離（図１のＬ）を５０点測長して算出した平均値である。隣り合う凸部の頂点間の距離は、反射防止フィルムの断面ＳＥＭ観察により測定することができる。反射防止フィルム試料をミクロトームで切削して断面を出し、適切な倍率（５００００倍程度）でＳＥＭ観察する。観察し易いように、試料にはカーボン蒸着、エッチング等適切な処理を施してもよい。
凸部の周期が３８０ｎｍ以下であることで、モスアイ構造とすることができ、可視光の反射率を低減することができる。
凸部の周期は、３８０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１５２ｎｍ以下であることが更に好ましい。
凸部の周期の下限値については、特に制限はないが、反射率低減の観点からは凸部同士は接触しないことが好ましい。この観点からは凸部の周期は凸部の大きさよりも１ｎｍ以上大きいことが好ましく、凸部の大きさよりも１０ｎｍ以上大きいことがより好ましい。
凸部の周期が凸部の大きさよりも１ｎｍ以上大きければ、凸部同士の距離（図１のＬ）に対して凸部の高さ（図１のＨ）が０．５Ｌ以上になり、空気から反射防止層内部にかけてより緩やかに屈折率が変化する屈折率傾斜層を作ることができるため、反射率の低減効果が大きくできる。

凸部の周期を制御するためには、３つの因子があり、
（１）（Ａ）硬化性モノマーと、（Ａ）の硬化性モノマーよりも疎水性の（Ｂ）硬化性ポリマーとの親水性と疎水性の差が１つ目の因子で、親水性と疎水性の差が大きくなれば、（Ｂ）硬化性ポリマーの島部は硬化性モノマーの海部の中で、より接触面積が小さくなるため、凸部の周期は広がる方向に動く。
（２）２つ目の因子は各素材の分子量で、（Ｂ）硬化性ポリマーの分子量が大きくなれば、１個の島部のサイズは大きくなるので、凸部（島部）の周期は小さくなる方向に動く。また（Ａ）硬化性モノマーの分子量が小さくなれば海部の粘度が低くなる方向のため、（Ｂ）硬化性ポリマーはより集まり易くなり、凸部（島部）の周期は大きくなる方向に動く。
（３）３つ目の因子は（Ａ）親水性モノマー／疎水性ポリマーの組成比で、組成比が大きくなれば、海部の面積が拡大するため、凸部(島部)の周期は広がる方向に動く。

反射防止層の凹凸構造は、下記（Ａ）の硬化物からなる海部と、下記（Ｂ）の硬化物からなり、海部から突出して凸部を形成する島部とからなる海島状の相分離構造によるものである。
（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー
（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー
（Ａ）と（Ｂ）とは、（Ａ）を海部とし、（Ｂ）を島部とする海島状の相分離構造を形成する。
（Ａ）が下層（光透過性基材又は他の機能層）にしみ込むことと、電離放射線による硬化において、（Ａ）が高収縮性を有し、かつ（Ｂ）が低収縮性を有することで、（Ｂ）の硬化物からなる島部が（Ａ）の硬化物からなる海部から突出して凸部となる。

本発明の反射防止フィルムの表面ヘイズは、明室コントラストおよび黒締りの観点から１．０％未満であり、０．８％〜０．０５％が好ましく、０．６％〜０．１％がより好ましい。

＜（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー＞
反射防止層の海部（凹部）を形成する（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー（（Ａ）成分ともいう）について説明する。
（Ａ）成分の好ましい一例としては、電離放射線により架橋する反応性基を有するモノマーが好ましく、２官能基以上を有する多官能モノマーがより好ましく、３官能基以上を有する多官能モノマーを有する樹脂成分がさらに好ましい。（Ａ）成分は分子内にフッ素原子を含有しないことが好ましい。

（Ａ）成分としては、下記（Ｂ）成分より表面自由エネルギーが大きいことが好ましい。３０ｍＮ／ｍ以上の表面自由エネルギーを有する硬化層を形成可能な硬化性モノマーであることが好ましく、３５〜８０ｍＮ／ｍの範囲がより好ましく、４０〜６０ｍＮ／ｍの範囲が特に好ましい。また、下記（Ｂ）成分と（Ａ）成分の表面自由エネルギーの差が、５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、１０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましい。この範囲とすることにより、本発明の塗布組成物を用いた場合に相分離構造がより形成し易くなる。硬化後の表面自由エネルギーが高すぎても、低すぎても、反射率の低下、ムラなどが発生することがある。表面自由エネルギーは、強度、塗布性の観点から、上記の好ましい下限以上とすることが好ましい。

（Ａ）成分と（Ｂ）成分による海島状相分離構造を形成するためには、（Ｂ）成分と（Ａ）成分の分離性が大きい方が好ましい。
（Ｂ）成分と（Ａ）成分の分離性は熱力学的及び動力学的考察によって予測することができる。例えば、フローリー・ハギンスの格子理論で分離性の指標である混合自由エネルギー（ΔＧ＝ΔＨ−Ｔ・ΔＳ）を求めると、重合度、体積分率（φ：文献では組成分率とも呼ばれる）、及び相互作用パラメータ（χ）の関数として予測することが知られている（たとえば、Ｂａｔｅｓの「Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｈａｓｅ Ｂｅｈａｖｉｏｒ」、Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｖｏｌ．２５１ ｐｐ．８９８−９０５、１９９１、又は、ストローブルの「高分子の物理」シュプリンガー・フェアラーク東京、１９９８、参照）。
ΔＧはゼロより大きいと、２成分は分離する方向に進み、ゼロより小さいと、２成分は混合する方向に進むことを意味している。本発明において、（Ａ）成分と（Ｂ）成分による海島状相分離構造を形成するためには、（Ｂ）成分と（Ａ）成分のΔＧはゼロより大きいことがより好ましく、より分離を促進させ、相界面の乱れを軽減させるという観点で、ΔＧは０．０１以上がさらに好ましい。

（Ａ）成分が有する官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、反応性の点から（メタ）アクリロイル基が好ましい。
耐擦傷性向上の観点から、また海島状相分離構造を固定化する観点から、（Ａ）成分としては、分子内に少なくとも２つ以上の不飽和二重結合を有する化合物を含有することが好ましい。

光重合性官能基を有する（Ａ）成分の具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。

さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。本明細書において、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」は、それぞれ「アクリレート又はメタクリレート」、「アクリル酸又はメタクリル酸」、「アクリロイル又はメタクリロイル」を表す。

（Ａ）成分としては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることが出来る。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
また、例えば特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。

＜（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ１００ｍＰａｓ以上高粘度の質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー＞
反射防止層の島部（凸部）を形成する（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー（（Ｂ）成分ともいう）について説明する。
（Ｂ）成分のポリマーは島部を硬化する必要があるため、少なくとも重合性基を分子中に２つ以上有しなければならない。実際は重合性基の密度が多いほど硬化後の島部の硬度が高くなるので、１分子中の重合性基の数は多いほど好ましい。
また（Ｂ）成分は、含フッ素ポリマーでなくても良いが、下記一般式（１）または一般式（３）で表される含フッ素ポリマーであることがＳＰ値が低くなり、好ましい。

〔一般式（１）で表される、分子中にポリアルキレンオキシド基を有する含フッ素ポリマー〕
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ−（ＭＣ）ｆ−（ＭＤ）ｇ
一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、ｇは含フッ素ポリマー中の質量％を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、０≦ｃ≦８０、３０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０、１≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０≦ｆ≦５０、０≦ｇ≦１５の関係を満たす値を表す。
（ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＲｏ−Ｌ−Ｒｆ_１３で表される単量体を重合して得られる構成単位を示す。Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒｆ_１３は、炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：不飽和二重結合を有する基、及び開環重合反応性基の少なくとも１つを有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：非架橋性の構成単位を表す。
（ＭＣ）：下記一般式（２）のポリアルキレンオキシド基を少なくとも１つ有する単量体から重合される構成単位を表す。

一般式（２）中、Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒｃは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍは２以上５０以下の整数を表し、ｎは１以上５以下の整数を表す。なお、ｍが２以上のとき、複数の−（Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｏ）−はそれぞれ異なる繰り返し単位であっても良い。）
（ＭＤ）：ポリシロキサン構造を少なくとも１つ有する構成単位を表す。

含フッ素ポリマーとしては、含フッ素炭化水素を含有する基、及び含フッ素炭化水素を含有するモノマー単位（含フッ素炭化水素を含む単量体から得られる単位）などの含フッ素炭化水素構造を有するポリマーが挙げられる。
含フッ素炭化水素構造としては、含フッ素脂肪族炭化水素基、含フッ素芳香族炭化水素基、含フッ素脂肪族炭化水素を含有するモノマー単位、及び含フッ素芳香族炭化水素を含有するモノマー単位が挙げられ、含フッ素脂肪族炭化水素基又は含フッ素脂肪族炭化水素を含有するモノマー単位が好ましい。
含フッ素炭化水素構造の分子量は５００〜１０００００が好ましく、より好ましくは１０００〜８００００であり、更に好ましくは２０００〜５００００である。含フッ素炭化水素構造の分子量の調節は、含フッ素炭化水素を含有するモノマー単位の場合は、含フッ素ビニルモノマーの重合度を変えて行うことが容易であり好ましい。含フッ素ビニルモノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、ビニルエーテル類の部分又は完全フッ化物等が挙げられる。
（Ｂ）成分において、含フッ素炭化水素構造は単独でも、複数種が混合されていてもよい。

〔（Ｂ）成分の合成方法〕
（Ｂ）成分の合成方法の好ましい態様について詳細に説明する。
本発明における（Ｂ）成分の合成方法の好ましい態様としては、一般式（２）で表される不飽和二重結合を含有する重合性のポリアルキレンオキシド化合物（Ｙ）（（Ｙ）成分ともいう。）と含フッ素炭化水素構造を有する不飽和二重結合を含有する重合性の化合物（Ｚ）とを反応させる合成方法である。

−（Ｙ）一般式（２）で表される化合物−
（Ｙ）成分である一般式（２）で表される化合物は、無機微粒子との相互作用が十分でありかつ塗布組成物を調製するための溶媒への溶解性を十分なものとするために、一般式（２）中のｎは２≦ｎ≦４が好ましく、２≦ｎ≦３が更に好ましい。ｍは３≦ｍ≦２０が好ましく、５≦ｍ≦１０が更に好ましい。
Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子又はメチル基が好ましい。
Ｒｃは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。
Ｌは２価の連結基を表し、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、−ＣＯ−及びこれらを２種以上組み合わせて得られる２価の連結基が好ましい。ただし、Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｌとしては、立体障害が小さく、無機微粒子との相互作用を阻害させないようにする観点から、炭素数１〜９の２価の連結基であることが好ましく、炭素数１〜７の２価の連結基であることがより好ましい。Ｌとして特に好ましくは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯ−Ｓ−であり、最も好ましくは−ＣＯＯ−である。

本発明において（Ｙ）成分としては、例えば、モノマーの例としてはメトキシポリエチレングリコールアクリレートおよびメタクリレート、（メトキシポリエチレングリコール）アクリルアミドおよびメタクリルアミド、メトキシポリ（プロピレン−ブロック−エチレン）グリコールアクリレートおよびメタクリレート、（メトキシポリ（プロピレン−ブロック−エチレン）グリコール）アクリルアミドおよびメタクリルアミド、エトキシポリエチレングリコールアクリレートおよびメタクリレート、（エトキシポリエチレングリコール）アクリルアミドおよびメタクリルアミド、エトキシポリ（プロピレン−ブロック−エチレン）グリコールアクリレートおよびメタクリレートおよび（エトキシポリ（プロピレン−ブロック−エチレン）グリコール）アクリルアミドおよびメタクリルアミドが挙げられる。ポリアルキレングリコール側鎖の全長は、この側鎖の平均分子量が３０〜４３００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１３２〜１４４０ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは２２０〜５８０ｇ／ｍｏｌとなるようにするのが有利である。これらのモノマーの中では、数平均分子量が好ましくは１００〜４５００、より好ましくは２００〜１６００、更に好ましくは３００〜７００であるメトキシポリアルキレングリコールアクリレートおよびメタクリレートが好ましい。具体例としては、ブレンマーＰＥ−２０、ＰＥ−２００、ＰＥ−３５０、ＰＭＥ−１００、ＰＭＥ−２００、ＰＭＥ−４００、ＡＥ−３５０（以上日本油脂（株）製）ＭＡ−３０、ＭＡ−５０、ＭＡ−１００、ＭＡ−１５０、ＲＡ−１１２０、ＲＡ−２３１４、ＲＭＡ−５６４、ＲＭＡ−５６８、ＲＭＡ−１１１４、ＭＰＧ１３０−ＭＡ（以上、日本乳化剤（株）製）などが挙げられる。また、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス［Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス）］、”トリトン“［Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ製））及びＰ．Ｅ．Ｇ（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造することもできる。なお以上に例記した単量体は一種または二種以上を併用して使用する事ができる。

（Ｙ）成分である一般式（２）で表される不飽和二重結合を有する重合性のポリアルキレンオキシ化合物の例を挙げるが、これらに限定されるものではない。化合物中アルキレンオキシ基の繰り返し単位は質量平均での平均値に最も近い整数を表す。

−（Ｚ）不飽和二重結合を含有する重合性の含フッ素炭化水素化合物を有する成分−
本発明において（Ｙ）の化合物と反応させて（Ｂ）成分を形成するために（Ｚ）不飽和二重結合を含有する重合性の含フッ素炭化水素化合物を有する成分（（Ｚ）成分ともいう。）を用いることができる。
（Ｚ）成分としては、不飽和二重結合を有する含フッ素炭化水素系のモノマーが挙げられる。
不飽和二重結合を有する含フッ素炭化水素系のモノマーとしては、後述する一般式（１−１）、一般式（１−２）及び一般式（１−３）で表される化合物などが挙げられる。

本発明の好ましい製造方法においては、また、（Ｂ）成分の質量平均分子量としては１０００〜１０００００が好ましく、２０００〜５００００がより好ましく、更に好ましくは３０００〜３００００である。

ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。

本発明の（Ｂ）成分は公知慣用の方法で製造することができる。例えば不飽和二重結合を有する含フッ素炭化水素系のモノマーと不飽和二重結合を有する含フッ素炭化水素系のモノマーを有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。若しくは場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。

本発明における（Ｂ）成分としては、合成の容易性、塗布組成物中に低屈折率硬化性材料を併用した場合に材料との相溶性に優れるという観点から、分子内にポリアルキレンオキシド基を有し、かつ含フッ素炭化水素構造を有する重合単位を含有する共重合体であることがより好ましい。

一般式（１）で表される含フッ素ポリマーは、ランダム共重合体でもブロック共重合体でもよい。

一般式（１）の（ＭＦ１）〜（ＭＦ３）における各単量体（下記一般式（１−１）〜（１−３）で表される化合物）について説明する。
（ＭＦ１）；ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１：一般式（１−１）
式中、Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１−１）の化合物としては重合反応性の観点からは、パーフルオロプロピレン又はパーフルオロブチレンが好ましく、入手性の観点からパーフルオロプロピレンであることが特に好ましい。

（ＭＦ２）；ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２：一般式（１−２）
式中、Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。含フッ素アルキル基は置換基を有していてもよい。更に、Ｒｆ_１２は炭素−炭素間にエーテル結合を有するものであってもよい。
Ｒｆ_１２は、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基である。Ｒｆ_１２の具体例としては、下記のもの等が挙げられるが、これらに限定されない。
−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３）ＣＦ_３

（ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＲｏ−Ｌ−Ｒｆ_１３：一般式（１−３）
Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒｆ_１３は、炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基を表す。
Ｒｆ_１３は、好ましくは炭素数１〜１５の含フッ素アルキル基であり、直鎖（例えば、−ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＨ_２（ＣＦ_２）４Ｈ、−ＣＨ_２（ＣＦ_２）８ＣＦ_３、−ＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＦ_２）_４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば、−ＣＨ（ＣＦ_３）_２、−ＣＨ_２ＣＦ（ＣＦ_３）_２、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）（ＣＦ_２）_５ＣＦ_２Ｈ等）であっても、また脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えば、パーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であってもよい。）

（ＭＦ３）は下記一般式（１−３−１）、又は（１−３−２）で表される単量体を重合して得られる構成単位であることが好ましい。

一般式（１−３−１）中、Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎ１は０以上２０以下の整数を表し、ｎ２は１以上３０以下の整数を表す。）

一般式（１−３−２）中、Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎ３は０以上２０以下の整数を表し、ｎ４は１以上３０以下の整数を表す。）

一般式（１−３−１）及び（１−３−２）におけるＲｏ及びＬの好ましい範囲は一般式（２）におけるものと同様である。ｎ１は好ましくは１〜１０の整数であり、より好ましくは１〜６の整数である。ｎ２は好ましくは１〜２５の整数であり、より好ましくは１〜１８の整数である。ｎ３は好ましくは１〜１０の整数であり、より好ましくは１〜６の整数である。ｎ４は好ましくは１〜２０の整数であり、より好ましくは２〜１５の整数である。
ＭＦ３に使用可能な上記一般式（１−３−１）、又は（１−３−２）の具体例を挙げるが、本発明に用いることができる化合物は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。

一般式（１）の（ＭＡ）は、不飽和二重結合を有する基及び開環重合反応性基の少なくとも一方を有する構成単位を表す。本発明における塗布液を用いて形成される塗膜の強度向上の点で、（Ａ）成分である含フッ素ポリマーは、ポリマー分子内にこれら反応性基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。
反応性不飽和二重結合を有する基としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等、開環重合反応性基としては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等が挙げられる。（ＭＡ）はより好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基である。

以下に、上記一般式（１）中の（ＭＡ）で表される構成成分の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（１）における（ＭＢ）は非架橋性の構成単位を表す。非架橋性基からなる構成単位とは、本発明における含フッ素ポリマーを構成する他の構成成分と共に共重合などにより含フッ素ポリマーを形成した後に構成成分が非架橋性であることを表す。（ＭＢ）は、脱水縮合反応や加水分解反応等により、三次元ネットワーク構造が形成されることを防ぐために、塗布組成物の安定性、溶剤への溶解性、無機微粒子との親和性、無機微粒子の分散安定性などの観点から適宜選択することができる。

（ＭＢ）を形成するための単量体としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル等のビニルエステル類、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチルの（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。

一般式（１）における（ＭＤ）はポリシロキサン構造を少なくとも１つ有する構成単位を表す。ポリシロキサン構造を含むことにより、本発明における無機微粒子の上部偏在性を高めることができ、更に面状故障の原因となる下層に微量残存する無機微粒子を低減することができる。
すなわち、（Ａ）成分が、分子内に含フッ素炭化水素単位及びポリシロキサン単位の両方を含有することが好ましく、より具体的には、（ＭＤ）は、主鎖又は側鎖に下記一般式（２０）で表されるポリシロキサン繰り返し単位を含むことが好ましい。
一般式（２０）

式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表す。
アルキル基としては、炭素数１〜４が好ましく、置換基を有していてもよい。具体的には、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基等が挙げられる。
アリール基としては炭素数６〜２０が好ましく、置換基を有していてもよい。具体的には、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^２は、メチル基又はフェニル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
ｐは２〜５００の整数を表し、好ましくは５〜３５０であり、より好ましくは８〜２５０である。

側鎖に一般式（２０）で表されるポリシロキサン構造を有するポリマーは、例えばＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．２０００，７８，１９５５、特開昭５６−２８２１９号公報等に記載のごとく、エポキシ基、水酸基、カルボキシル、酸無水物基等の反応性基を有するポリマーに対して、相対する反応性基（例えばエポキシ基、酸無水物基に対してアミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）を片末端に有するポリシロキサン（例えばサイラプレーンシリーズ、チッソ株式会社製等）を高分子反応によって導入する方法や、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができる。

主鎖にポリシロキサン構造を有するポリマーは、例えば特開平６−９３１００号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド（市販のものでは、例えばＶＰＳ−０５０１、１００１、和光純薬工業（株）社製）等のポリマー型開始剤を用いる方法、重合開始剤、連鎖移動剤由来の反応性基（例えばメルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）をポリマー末端に導入した後、片末端あるいは両末端反応性基（例えばエポキシ基、イソシアネート基等）含有ポリシロキサンと反応させる方法として、ヘキサメチルシクロトリシロキサン等の環状シロキサンオリゴマーをアニオン開環重合にて共重合させる方法等が挙げられる。中でもポリシロキサン部分構造を有する開始剤を利用する手法が容易であり好ましい。

一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、ｇは含フッ素ポリマー中の質量％を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、０≦ｃ≦８０、３０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０、１≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０≦ｆ≦５０、０≦ｇ≦１５の関係を満たす値を表す。
（ＭＦ１）成分、（ＭＦ２）成分、及び（ＭＦ３）成分のモル分率（％）ａ＋ｂ＋ｃを高めることでポリマーの表面自由エネルギーが低下し、ポリマーによって修飾された無機微粒子が島部偏在し易くなるが、無機微粒子への吸着性、汎用溶剤への溶解性などの点で３０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０が好ましく、４０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦８０がより好ましい。

（ＭＦ１）の導入は無機微粒子の島部偏在性能に寄与する。前述のように（ＭＦ１）成分のモル分率ａは０≦ａ≦５０であり、好ましくは５≦ａ≦４０である。

また、（ＭＦ２）の導入も無機微粒子の島部偏在性能に寄与する。前述のように（ＭＦ２）成分のモル分率ｂは０≦ｂ≦５０であり、好ましくは５≦ｃ≦４０である。

また、（ＭＦ３）の導入も無機微粒子の島部偏在性能に寄与する。前述のように（ＭＦ３）成分のモル分率ｃは０≦ｃ≦５０であり、好ましくは５≦ｃ≦４０である。

（ＭＣ）で表されるポリアルキレンオキシド基を少なくとも１つ以上有する構成成分は、ポリマーの無機微粒子への被覆性が十分でありかつ無機微粒子の島部偏在性に必要な含フッ素成分の量も確保できるという点で、そのモル分率は０≦ｆ≦５０の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５≦ｆ≦４０、更に好ましくは１≦ｆ≦３０である。また、共重合体形成時の含フッ素共重合体のモノマー組成により塗布溶媒への溶解性が十分に高い場合には、ポリアルキレンオキシド基を有するモノマーの比率を高めることができ、好ましくは６≦ｆ≦４０にすることもできる。なお、一般式（２）中の（ＭＣ）成分が有するＬ，Ｒｏは、(ＭＦ３)が有するＬ，Ｒｏと同じであっても異なっていてもよい。

（ＭＡ）で表される不飽和二重結合を有する基、及び開環重合反応性基の少なくとも１つを有する構成成分は、塗膜の硬度上昇の点でポリマーに導入することが好ましい。（ＭＡ）成分のモル分率は１≦ｄ≦５０の範囲であることが好ましい。本発明では特に、（Ａ）成分としては、分子内に重合性の官能基を有することが好ましい。そのため、ｄの好ましい下限値は５であり、特に５≦ｄ≦４０の範囲であることがより好ましく、５≦ｄ≦３０の範囲であることが特に好ましい。

（ＭＢ）で表される非架橋性基からなる構成成分のモル分率ｅは０≦ｅ≦５０の範囲であることが好ましく、０≦ｅ≦２０の範囲であることがより好ましく、０≦ｅ≦１０の範囲であることが更に好ましい。

（ＭＣ）は一般式（２）のポリアルキレンオキシド基を少なくとも１つ有する単量体から重合される構成単位を表す。（ＭＣ）における一般式（２）の好ましい範囲は上記と同様である。

（ＭＤ）で表されるポリシロキサン構造を導入することが微粒子の島部偏在性及び塗膜面状改良の点で好ましい。含フッ素ポリマー中のポリシロキサン構造の含有率は全ポリマーに対して０．５〜１５質量％が好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。

含フッ素ポリマーの質量平均分子量は、１０００〜１０００００が好ましく、より好ましくは２０００〜５００００であり、更に好ましくは３０００〜３００００である。

ここで、質量平均分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。

以下に、本発明の（Ｂ）成分である一般式（１）で表される含フッ素共重合体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、表１には、重合することにより一般式（１）の（ＭＦ１）、（ＭＦ２）、（ＭＦ３）、（ＭＣ）、（ＭＡ）、（ＭＢ）、又は（ＭＤ）を形成する単量体の組合せとして表記する。表中ａ〜ｆは、各成分の単量体のモル比（％）を表す。表中（ＭＤ）成分でｗｔ％の記載があるものは、全重合体中の成分の質量％を示す。

上記表中の略号は、以下を表す。
ＨＦＰ：ヘキサフルオロプロピレン
ＦＰＶＥ：パーフルオロプロピルビニルエーテル
ＥＶＥ：エチルビニルエーテル
ＶＰＳ―１００１：アゾ基含有ポリジメチルシロキサン、ポリシロキサン部の分子量約１万、（株）和光純薬工業製
ＦＭ−０７２１：片末端メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、平均分子量５０００、（株）チッソ製

〔一般式（３）で表される、分子中にポリアルキレンオキシド基を含有しない含フッ素ポリマー〕

一般式（３）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ’）ｄ−（ＭＥ）ｈ
一般式（３）中、ａ〜ｄ、及びｈは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、５≦ｄ≦５０、０≦ｈ≦５０の関係を満たす値を表す。

（ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＲｏ−Ｌ−Ｒｆ_１３で表される単量体を重合して得られる構成単位を示す。Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒｆ_１３は、炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ’）：架橋性基を少なくとも１つ有する構成単位を表す。
（ＭＥ）：任意構成単位を表す。

（ＭＦ１）〜（ＭＦ３）については、前述の一般式（１）の含フッ素ポリマーで述べたものと同様であり、好ましい構造等も同様である。

一般式（３）で表される含フッ素ポリマーは、架橋性部位を有する繰り返し単位を含むことが必須であり、架橋性部位が、反応性不飽和二重結合を有する基、開環重合反応性基、活性水素原子を有する基、求核剤によって置換され得る基、及び酸無水物の少なくともいずれかであることがより好ましい。
一般式（３）の（ＭＡ’）は、架橋性部位（架橋反応に関与しうる反応性部位）を少なくとも１つ以上含有する構成成分を表す。
架橋性部位としては、例えば、反応性不飽和二重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等）、開環重合反応性基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等）、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β―ケトエステル基、ヒドロシリル基等）、酸無水物、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。

（ＭＡ’）の架橋性基は、好ましくは重合性基であり、より好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基又は開環重合反応性基であり、更に好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基である。（ＭＡ’）で表される構成成分の好ましい具体例は前述の一般式（１）におけるＭＡ−１〜ＭＡ−２３である。これら以外の（ＭＡ’）で表される構成成分の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（３）における（ＭＥ）は任意の構成単位を表す。（ＭＥ）は、（ＭＦ１）、（ＭＦ２）、（ＭＦ３）で表される構成単位を形成する単量体及び（ＭＡ）で表される構成単位を形成する単量体と共重合可能な単量体から得られる構成単位であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができる。

（ＭＥ）を形成するための単量体としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル等のビニルエステル類等が挙げられる。

（ＭＥ）は、ポリシロキサン構造を有する構成成分を含むことが好ましい。（ＭＥ）としてポリシロキサン構造を含むことにより、塗膜中で上部偏在しやすくなり、得られる膜の低反射化、塗膜面状改良などの効果を有する。またポリシロキサン構造を有するため積層体の滑り性、防汚性を向上させることができる。
ポリシロキサン構造の導入方法は、一般式（１）の化合物で述べた方法と同様の方法を用いることができる。

一般式（３）中、ａ〜ｄ及びｈは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、５≦ｄ≦５０、０≦ｈ≦５０の関係を満たす値を表す。
低屈折率化のためには（ＭＦ１）成分及び（ＭＦ２）成分のモル分率（％）ａ＋ｂを高めることが望まれるが、重合反応性の点で一般的な溶液系ラジカル重合反応では５０〜７０％程度の導入が限界でありこれ以上は一般に困難である。本発明においては、ａ＋ｂの下限は４０以上であることが好ましく、４５以上であることがより好ましい。

また、（ＭＦ３）の導入も低屈折率化に寄与する。上記のように（ＭＦ３）成分のモル分率ｃは０≦ｃ≦５０であり、好ましくは５≦ｃ≦２０である。
ａ〜ｃの含フッ素モノマー成分のモル分率の和は、４０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０の範囲であることが好ましく、５０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦７５であることがより好ましい。

（ＭＡ’）で表される重合体単位の割合が少なすぎると硬化膜の強度が弱くなる。本発明では特に、（ＭＡ’）成分のモル分率は５≦ｄ≦４０の範囲であることが好ましく、１５≦ｄ≦３０の範囲であることが特に好ましい。

（ＭＥ）で表される任意の構成成分のモル分率ｈは０≦ｈ≦５０の範囲であることが好ましく、０≦ｈ≦２０の範囲であることがより好ましく、０≦ｈ≦１０の範囲であることが更に好ましい。

本発明において、塗膜面状改良、膜の耐擦傷性改良の点から、一般式（３）で表される含フッ素ポリマーは、分子内に極性の高い官能基を有することが好ましい。従って、（ＭＥ）として、分子内に極性の高い官能基を有することが好ましい。極性の高い官能基としては、水酸基、アルキルエーテル基、グリシジル基、オキサタニル基、カルボキシル基を有することが好ましく、更に好ましくは、水酸基、アルキルエーテル基である。
これら官能基を有する重合単位は、モル分率として０．１〜１５％が好ましく、更に好ましくは１〜１０％である。
また、前述のように含フッ素ポリマー中には、ポリシロキサン構造を導入することが塗膜面状及び耐擦傷性の点で好ましい。含フッ素ポリマー中のポリシロキサン構造の含有率は全ポリマーに対する質量比で０．５〜１５質量％が好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。

含フッ素ポリマーの数平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは５，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。

以下に、一般式（３）で表される共重合体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、下記表２には、重合することにより一般式（３）のフッ素含有構成単位を形成する単量体（ＭＦ１）、（ＭＦ２）、（ＭＦ３）、及び構成成分（ＭＡ’）、及び（ＭＥ）の組合せとして表記する。表中ａ〜ｄは、各成分の単量体のモル比（％）を表す。表中（ＭＥ）成分でｗｔ％の記載があるものは、全重合体中の成分の質量％を示す。表２中「（ＭＥ）」の欄でＥＶＥ以外の成分については、全重合体中の成分の含有率（質量％：ｗｔ％）を、「ｈ」の欄にＥＶＥのモル比につづいて左から順に記載した。

上記表中の略号は、以下を表す。
ＨＦＰ：ヘキサフルオロプロピレン
ＦＰＶＥ：パーフルオロプロピルビニルエーテル
ＥＶＥ：エチルビニルエーテル
ＶＰＳ―１００１：アゾ基含有ポリジメチルシロキサン、ポリシロキサン部の分子量約１万、（株）和光純薬工業製
ＦＭ−０７２１：メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、平均分子量５０００、（株）チッソ製
ＦＭ−０７２５：片末端メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、平均分子量１００００、（株）チッソ製
ＶＰＳ−０５０１：アゾ基含有ポリジメチルシロキサン、ポリシロキサン部の分子量約５０００、（株）和光純薬工業製

＜（Ｃ）重合開始剤＞
本発明の反射防止フィルムの反射防止層を形成するための組成物は、（Ｃ）重合開始剤（（Ｃ）成分ともいう）を含有することが好ましい。
重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

反射防止層を形成する組成物中の光重合開始剤の含有量は、組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

反射防止層を形成する組成物を光透過性基材上に塗布すると、（Ａ）モノマー成分、（Ｂ）ポリマー成分の親疎水性差、組成比、粘度差の要因から（Ａ）成分は海部を形成し、（Ｂ）は島部を形成し、海島状の相分離構造を形成する。この際、（Ｂ）成分は球状に集まって島部を形成することが好ましい。
次に、光透過性基材または下層(ハードコート層、帯電防止層、防眩層、もしくはその組み合わせ)に対する浸透性を有する溶媒が光透過性基材または下層中に浸透する。この際、一部の（Ａ）成分も光透過性基材または下層中に浸透する。その後、電離放射線照射により（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を硬化させて、反射防止層を形成する。反射防止層中には、（Ｂ）成分と（Ａ）成分が含まれるが、前述のように一部の（Ａ）成分が光透過性基材又は下層へ浸透しているため、反射防止層中の（Ａ）成分に対する（Ｂ）成分の割合は、組成物中の（Ａ）成分に対する（Ｂ）成分の割合よりも大きくなっており、（Ｂ）成分による島部が、（Ａ）成分による海部から突出して凸部を形成する。
光透過性基材または下層中に浸透する（Ａ）成分は、反射防止層を形成する組成物に含まれる（Ａ）成分のうち５０質量％以上にすることが好ましい。

＜（Ｄ）分子量が６００以下のシランカップリング剤で表面処理された平均粒子径が１０〜３００ｎｍの無機微粒子＞
本発明の反射防止フィルムの反射防止層は、（Ｄ）分子量が６００以下のシランカップリング剤で表面処理された平均粒子径が１０〜３００ｎｍの無機微粒子（（Ｄ）成分ともいう）を含有することが好ましい。
（Ｄ）成分を含有することで、島部の硬化時の体積収縮が減ることにより反射率を更に低下させることができる。また、（Ｄ）成分を含有することで反射防止層の硬度を向上させることができる。
上記体積収縮差及び硬度向上の観点から、（Ｄ）成分は、海部より島部に多く存在することが好ましく、海部における（Ｄ）成分の含有率／島部における（Ｄ）成分の含有率は、０〜０．３が好ましく、０〜０．１がより好ましい。
本発明に用いられる（Ｄ）成分の無機微粒子は、その平均粒径が１０〜３００ｎｍの無機微粒子であることが好ましく、より好ましくは平均粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の無機微粒子であり、更に好ましくは１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下の無機微粒子である。
無機微粒子の形状は、球形が最も好ましいが、本発明で形成する所望の凹凸形状を得ることができる限り、非球形や不定形であっても用いることができる。
無機微粒子は分散された状態であると凸部の周期の乱れが抑えられるため好ましく用いることができる。
また、無機微粒子の平均粒径は光散乱法や電子顕微鏡による観察（顕微鏡法）により測定することができる。
本発明においては顕微鏡法によって観察された粒子を球形近似した場合の直径の平均値を平均粒径として用いた。

無機微粒子の組成に特に制限はなく、例えばケイ素、チタン、アルミニウム、スズ、亜鉛、アンチモンなどの酸化物又はそれらの混合物を用いることができるが、金属酸化物微粒子であることが好ましく、少なくとも粒子表面にケイ素を構成成分とする金属酸化物が含まれることがより好ましい。例えば表面が二酸化ケイ素からなるコアシェル粒子であっても、ケイ素とその他無機元素との混晶を形成していてもよい。特に低屈折率化の点からは二酸化ケイ素（シリカ）の粒子であることが好ましい。

本発明における（Ｄ）成分の無機微粒子の屈折率は、２．００以下、より望ましくは屈折率１．１５〜１．５２、特に好ましくは１．１５〜１．４６、更に好ましくは１．１５〜１．４０、最も好ましくは１．１７〜１．３５が好ましい。（Ｄ）成分の無機微粒子は、反射防止層の島部に偏在して、耐擦傷性の向上、屈折率の低下に寄与するため、低屈折率であることが望ましい。
なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計［アタゴ（株）製］にて測定することができ、２５℃、Ｄ線での値である。

（Ｄ）成分の無機微粒子は、中空構造であっても良い。中空構造の無機微粒子の場合に屈折率は外殻の無機質のみの屈折率を表すものではなく、粒子全体の平均の値を示す。この場合、粒子内の空孔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると空隙率ｘは下記数式（ＩＩ）で表される。
（数式ＩＩ）： ｘ＝（４πａ^３／３）／（４πｂ^３／３）×１００
空隙率ｘは好ましくは１０〜６０％、より好ましくは２０〜６０％、更に好ましくは３０〜６０％である。この空隙率の範囲にすることで、低屈折率性と粒子自身の強度を好適な範囲にすることができる。

（Ｄ）成分の無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいは（Ｂ）成分との親和性、結合性を高めるために、分子量が６００以下のシランカップリング剤で表面処理された無機微粒子であることが好ましい。（Ｂ）成分との相互作用を阻害せず、分散液又は塗布液中での分散安定性を十分なものとし、（Ｂ）成分との親和性、結合性を高めるために、シランカップリング剤の分子量は、９０以上６００以下が好ましく、更に好ましくは１００以上４００以下、最も好ましくは１２０以上３００以下である。本発明においてシランカップリング剤の分子量とは、無機微粒子表面との結合に寄与するシランカップリング剤のＳｉ原子に結合している加水分解可能な基がシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）に加水分解された状態での分子量を表す。
好ましいシランカップリング剤としては、例えば、トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロへキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。シランカップリング剤のなかでも、アルキル基または重合性の官能基を有するアルキル基を有するものが好ましい。重合性の官能基としては、エポキシ基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが好ましく、最も好ましくはアクリロイル基である。これら官能基導入により、無機微粒子の島部偏在層の塗膜強度が向上できる。

（Ｄ）成分の無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化と（Ｂ）成分との相互作用をさせるために立体的な反発を抑える観点で、無機微粒子の表面修飾率αが０．１％〜２５％が好ましく、１％〜２３％がより好ましく、３％〜２０％が更に好ましく、４％〜１５％が特に好ましい範囲である。

無機微粒子の表面修飾率は固体２９Ｓｉ ＣＰ−ＭＡＳ ＮＭＲ等の公知の手法で測定することができる。ＣＰ−ＭＡＳ法は１Ｈ核を励起した後、その磁化を交互分極によって２９Ｓｉ核に移動させ、それを観測する間接法である。これは最表面のＳｉのピーク挙動を測定することができ、得られた化学シフトの異なるピークの大きさを調べることで、固体中の結合様式がわかる。表面修飾率αはカップリング剤の種類によって、後述のＭ／Ｑ、Ｄ／Ｑ、Ｔ／Ｑ（カップリング剤由来のピーク／シリカピークの強度比）で表現でき、例えば、トリメチルシランの表面修飾率α１は分子中に１つのアルコキシ基を含有するのでＭ／Ｑで求められ、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランの表面修飾率α２は分子中に３つのアルコキシ基を含有するのでＴ／Ｑで求めることができる。

Ｓｉの固体ＮＭＲを測定することで、Ｓｉを含む粒子の表面状態を定量的に評価することが可能である。始めに固体２９Ｓｉ ＣＰ−ＭＡＳ ＮＭＲによって得られる情報について述べる。２９Ｓｉ−ＮＭＲではＳｉの結合する相手により化学シフトが異なるため、それぞれのピークの大きさを調べることで、固体中の結合様式が分かる。慣用的に４官能のＳｉをＱ、３官能はＴ，２官能はＤ，１官能はＭと表す。また、酸素原子を介していくつのＳｉと結合するかについて上付き数字で表す。構造式と対応する表記例を以下の式に示す。

上記式中、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３はＳｉと直接結合する元素が酸素原子でない置換基を表し、Ｘ_１、Ｘ_２、Ｘ_３は酸素原子と直接結合する元素がＳｉ原子でない置換基を表す。
分子量６００以下のシランカップリング剤で表面処理することにより、Ｓｉ原子を含む無機微粒子表面のシラノ−ル基が減少しＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が生成するためにＮＭＲピークに変化が現れる。分散されたシリカ粒子を評価する場合には、溶媒を２５℃で減圧して溶媒を蒸発させてシリカの粉体を得て、それを測定に用いる。
ＮＭＲ測定は、２９Ｓｉ ＣＰ−ＭＡＳ法で行い、以下の装置を用いて測定した値を用いた。
Ｂｒｕｋｅｒ社製ＡＶＡＮＣＥ−３００型コンソール、ＢＬ−７ ＣＰ−ＭＡＳプローブ、
測定幅：１８０００Ｈｚ
観測周波数：５９．６２１ＭＨｚ
ＭＡＳ回転速度：４０００Ｈｚ
１Ｈ−９０°パルス幅：５．０ｍｓ
コンタクト時間：５ｍｓ
パルス繰り返し時間：５ｓ
固体高分解能ＮＭＲのＣＰおよびＭＡＳの手法については、現代化学 増刊１１「高分解能ＮＭＲ −基礎と新しい展開−」斎藤肇・森島績 偏 東京化学同人 １９８７版 Ｐ．４０〜Ｐ．５０に記載がある。

このようにして測定したＮＭＲシグナルのピーク面積を用いて以下の値を算出決定する。

Ｍ／Ｑは以下の様に定義され、表面Ｓｉ原子に対して１官能のシランカップリング剤が化学結合している割合の目安となる。このＭ／Ｑが大きいほど表面の処理量が大きいことを示す。
Ｍ／Ｑ＝Ｍ／（Ｑ１＋Ｑ２＋Ｑ３＋Ｑ４）
（式中Ｍは構造Ｍに対するＮＭＲシグナルのピーク面積を表す。）

Ｄ／Ｑは以下の様に定義され、表面Ｓｉ原子に対して２官能のシランカップリング剤が化学結合している割合の目安となる。このＤ／Ｑが大きいほど表面の処理量が大きいことを示す。
Ｄ／Ｑ＝（Ｄ１＋Ｄ２）／（Ｑ１＋Ｑ２＋Ｑ３＋Ｑ４）
（式中Ｄは構造Ｄに対するＮＭＲシグナルのピーク面積を表す。）

Ｔ／Ｑは以下の様に定義され、表面Ｓｉ原子に対して３官能のシランカップリング剤が化学結合している割合の目安となる。このＴ／Ｑが大きいほど表面の処理量が大きいことを示す。
Ｔ／Ｑ＝（Ｔ１＋Ｔ２＋Ｔ３）／（Ｑ１＋Ｑ２＋Ｑ３＋Ｑ４）
（式中Ｔｉ（ｉ＝１〜３）は構造Ｔｉに対するＮＭＲシグナルのピーク面積を表す。）

無機微粒子が分散物状態で表面処理された場合には、分散溶媒を２５℃で減圧下で除去することにより得られる粒子を用いて上記ＮＭＲを測定することができる。

（Ｄ）成分の無機微粒子と（Ｂ）成分の比率
（Ｂ）成分の（Ｄ）成分に対する量は、１０〜２００質量％が好ましく、１５〜１５０質量％がより好ましく、更に好ましくは５０〜１５０質量％である。この範囲にすることで、粒子の上部偏在性、塗膜強度の観点で好ましい。

反射防止層を形成する組成物においては、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｄ）成分との含有量は、［（Ｂ）成分＋（Ｄ）成分］／［（Ａ）成分］の質量比率が、１／１９９〜６０／４０であることが好ましく、より好ましくは１／１９９〜５０／５０、更に好ましくは１／９９〜１９／８１、特に好ましくは１／９９〜１０／９０である。
反射防止層を形成するための組成物に用いられる（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分と後述する（Ｄ）成分の質量比は、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｃ）成分］／［（Ｅ）成分］＝１／１９９〜６０／４０が好ましく、１／１９９〜５０／５０がより好ましく、１／９９〜１９／８１が更に好ましく、１／９９〜１０／９０が特に好ましい。

＜（Ｅ）溶剤＞
反射防止層を形成するための組成物は、（Ｅ）溶剤（（Ｅ）成分ともいう）を含有することが好ましい。（Ｅ）成分としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は１種類でも良いし、２種類以上を混合して用いても良い。
（Ｅ）成分としては、以下の２種の混合溶剤を含有することが好ましい。
（Ｅ−１）：（Ａ）成分と（Ｂ）成分のいずれか一方との溶解性パラメータの差が１〜１０である揮発性溶剤
（Ｅ−２）：沸点が１００℃以下の揮発性溶剤
また、（Ｅ−３）：沸点が１００℃を超える揮発性溶剤を含有することも、後述の基材浸透性溶媒を含有することも好ましい。

特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量（沸点が１００℃以下の溶剤１００質量部に対して沸点が１００℃以上の溶剤１〜５０質量部、より好ましくは２〜４０質量部、特に好ましくは３〜３０質量部）含有させることが好ましい。２種の溶媒の沸点の差が２５℃以上であることが好ましく、３５℃以上が特に好ましく、５０℃以上が更に好ましい。沸点の異なる有機溶剤を少なくとも２種併用することで、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の相分離がし易くなる。さらに（Ａ）成分又は（Ｂ）成分と溶解性パラメータ差が１．０以上１０以下の溶剤を少量（沸点が１００℃以下の溶剤１００質量部に対して１〜５０質量部、より好ましくは２〜４０質量部、特に好ましくは３〜３０質量部）含有させることが好ましい。溶解性の悪い溶剤を添加することで、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の相分離性が促進される。

沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類；ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル （９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類；ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）、炭酸ジメチル（９０．３℃）などのエステル類；アセトン（５６．１℃）、メチルエチルケトン、７９．６℃）などのケトン類；メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類；アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類；二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中ではメチルエチルケトンが特に好ましい。

沸点が１００℃以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。

（光透過性基材または下層に対する浸透性を有する溶媒）
本発明における光透過性基材または下層に対する浸透性を有する溶媒（浸透性溶媒）について説明する。
光透過性基材または下層に対する浸透性を有する溶媒とは、光透過性基材または下層の表面に対する溶解能及び膨潤能を有する溶剤である。
溶媒が光透過性基材または下層の表面に対して溶解能及び膨潤能を有することで、（Ａ）成分が光透過性基材または下層に浸透し、モスアイ構造を均一に形成することがができる。
ここで、本発明において光透過性基材または下層に対して溶解能を有する溶剤とは、２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさの基材フィルムを溶剤の入った１５ｃｃの瓶に室温下（２５℃）で６０秒浸漬させて取り出した後に、浸漬させた溶液をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析したとき、基材成分（基材が複数の層を有している場合には、その表面の成分）のピーク面積が４００ｍＶ／ｓｅｃ以上である溶剤のことを意味する。若しくは２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさの基材フィルムを溶剤の入った１５ｃｃの瓶に室温下（２５℃）で２４時間経時させ、適宜瓶を揺らすなどして、フィルムが完全に溶解して形をなくすものも、基材に対して溶解能を有する溶剤を意味する。
基材浸透性溶媒としては、光透過性基材または下層を構成する成分によって異なるが、セルロースアシレート基材の場合は、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド等を好ましく用いることが出来るが基材を溶解しうるものであればこれによらない。メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチルがより好ましい。
アクリル基材の場合は、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロペンタノン、シクロヘキサノン酢酸メチル、酢酸エチル等が好ましい。

反射防止層を形成するための組成物において、（Ａ）成分の浸透を阻害せず塗布性を付与する観点から、基材または下層への浸透性溶媒の含有量は、反射防止層を形成するための組成物の全質量に対して、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。

反射防止層を形成するための組成物の固形分濃度は、塗布適性の観点から、２質量％以上７０質量％以下であることが好ましい。

反射防止層を形成するための組成物において、反射防止層全体の硬度の観点から、（Ａ）成分の含有量は、反射防止層を形成するための組成物の全固形分の質量に対して、５質量％以上９７質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。（Ｂ）成分の含有量は、反射防止層を形成するための組成物の全固形分の質量に対して、５質量％以上９７質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。

（（Ａ）成分と（Ｂ）成分のいずれか一方との溶解性パラメータの差が１〜１０である揮発性溶剤（Ｅ−１））
本発明においては、（Ａ）成分と（Ｂ）成分のいずれか一方とのＳＰ値（溶解性パラメータ）の差が１〜１０である揮発性溶剤を用いることが好ましい。
（Ｂ）成分と溶解性パラメータ差が１．０以上１０以下の溶剤としては、溶解性パラメータの絶対値が２０以上３０以下の溶剤が好ましく、より好ましくは２１以上２７以下、更に好ましくは２２以上２６以下の溶剤である。例えば、プロピレングリコールモノエチルエーテル（溶解性パラメータ＝２３．１）、酢酸エチル（溶解性パラメータ＝２３．７）、メタノール（溶解性パラメータ＝２８．２）、エタノール（溶解性パラメータ＝２５．７）、２−ブタノール（溶解性パラメータ＝２２．７）、などがある。好ましくはプロピレングリコールモノエチルエーテルである。
塗布組成物を塗布し、乾燥が進んでいく過程において、溶解性パラメータの絶対値が２０以上の溶剤は（Ｂ）成分との相溶性が低くなる傾向が強く、相分離性を高めるために溶解性パラメータ差が１．０以上の溶剤を用いることが適している。また塗布組成物の調液の際に、溶解性パラメータの絶対値が３０以上の溶剤は（Ｂ）成分を溶解しにくい傾向が高いため溶解性パラメータ差が１０以下の溶剤を用いることが適している。

また、（Ａ）成分と溶解性パラメータ差が１．０以上１０以下の溶剤としては、溶解性パラメータの絶対値が１０以上２０以下の溶剤が好ましく、より好ましくは１２以上１８以下の溶剤である。
これら溶剤として、例えば、１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタン（溶解性パラメータ＝１４．５）トリフルオロメチルベンゼン（溶解性パラメータ＝１６．８）、パーフルオロヘプチルエチルアセテート（溶解性パラメータ＝１４．８）、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキシルエチルアセテート（溶解性パラメータ＝１６．７）、トリフルオロ酢酸メチル（溶解性パラメータ＝１５．７）などがある。好ましくは１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタンである。溶解性パラメータ差が１．０以上１０以下の溶剤を併用することにより、適度な相分離性を保ちつつ必要最低限の溶解性を満足することが容易である。

−溶解性パラメータ−
溶解性パラメータとはどれだけ溶媒などに溶けやすいかということを数値化したものであり、有機化合物ではよく使われる極性と同様の概念で、この溶解性パラメータが大きい程、極性が大きいことを表す。本発明で利用する（Ｂ）成分は、好ましくは含フッ素ポリマーであり、Ｆｅｄｏｒの推算法で計算した溶解性パラメータは例えば１９以下となる。上記でいうＳＰ値はＦｅｄｏｒの推算法（ＳＰ値基礎・応用と計算方法 ｐ．６６：山本秀樹著：情報機構（２００５．３．３１発行）で計算した値である。

粘度はＢ型粘度計、振動粘度計、Ｅ型粘度計、せん断粘度計など各種市販の粘度計を使用して計測することができる。本発明では、振動粘度計ＣＶＪ−５０００((株)エーアンドデイ製)を用いて粘度計測した。測定環境も任意の温度、湿度を選択することができるが、本発明では２５℃６０ＲＨ％での測定値を記載した。

質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。

本発明の塗布組成物中の（Ｅ）成分である有機溶剤の配合割合は、塗布組成物の固形分濃度が２〜７０質量％になるように添加するのが好ましく、３〜６０質量％になるように添加するのがより好ましく、５〜５０質量％になるように添加するのが特に好ましい。固形分濃度が低すぎると塗膜の乾燥工程に時間がかかる、乾燥工程において膜厚ムラ（厚みムラ）が生じ易いなどの懸念がある。また、固形分濃度が高すぎると塗膜中で無機微粒子の偏在が十分に起こらない、塗布量が少なくなり、塗布ムラが出易いなどの懸念がある。

＜塗布組成物の調製方法＞
本発明の塗布組成物を調製する際には、各成分を溶剤に溶解又は分散したものを混合することができ、（Ｂ）成分のポリマーと（Ｄ）成分の無機微粒子とを（Ｅ）成分の溶剤と共にあらかじめ混合した後に（Ａ）成分のモノマーと混合することが好ましい。

［反射防止フィルムの構造］
上記（Ａ）〜（Ｅ）成分を混合してなる組成物を光透過性基材上に塗布し塗膜を形成する工程、塗膜から溶剤を揮発させ乾燥する工程、塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有することによって、海島状の相分離構造を有する硬化膜が得られる。これらの分離形成された海島状の相分離構造は、（Ｂ）成分の硬化物が空気界面側に偏在し、凸部となった島部と、（Ａ）成分の硬化物からなる海部とから構成されている。島部が（Ｂ）成分と（Ｄ）成分を主成分として構成され、海部が（Ａ）成分を主成分として構成されていることが好ましい。島部には、（Ｂ）及び（Ｄ）成分が反射防止層を形成するための組成物から形成される塗膜全層の平均密度の１．５倍以上の濃度で存在していることが好ましく、更に好ましくは２．０倍以上、最も好ましくは３．０〜２００倍である。また、島部には、（Ｄ）成分は、２０〜９０体積％の密度で存在することが好ましく、更に好ましくは３０〜８０体積％以上、最も好ましくは４０〜７０体積％である。

本発明の反射防止フィルムの海島状の相分離構造は、例えば、得られたフィルムの表面ＤＦＭで観察することにより確認することができる。表面ＤＦＭ測定からは（Ａ）成分と（Ｂ）成分の滑り性の差より表面分布状態を観察することができる。
反射防止層を形成するための組成物を塗布し、乾燥させていったときに、（Ｂ）成分由来の成分と混合自由エネルギーがゼロ以上の（Ａ）成分は相分離を起こし、分離が開始される。（Ｂ）成分がフッ素成分又はシリコーン成分を有する場合は、これらの表面エネルギーが低いため、（Ｂ）成分由来の成分は表面積を小さくするために凝集し、分子量６００以下のシランカップリング剤で表面処理された（Ｄ）成分も同時に（Ｂ）成分の塗膜の中の上部に偏在することで実質的に（Ｂ）成分と（Ｄ）成分が偏在している島部が形成できる。同時に、（Ａ）成分は下層（基材界面側）に偏在することになるので、実質的に（Ａ）成分由来の成分が主成分として構成された海部を形成することができる。

反射防止層の膜厚は、０．０５〜０．７８μｍであることが好ましく、０．１〜０．３８μｍであることがより好ましくい。相分離による海島構造で体積収縮の少ない凸部を反射防止層の膜厚とする。

本発明の反射防止フィルムは、反射防止層以外の機能層を有していも良い。例えば、ゴミ付きを防止するための帯電防止機能層、物理的強度を付与するためのハードコート層、防眩性を付与するための防眩層等を目的に応じて設けることができる。
反射防止フィルムの態様としては、〔光透過性基材／反射防止層〕、〔光透過性基材／ハードコート層／反射防止層〕、〔光透過性基材／帯電防止層／反射防止層〕、〔光透過性基材／帯電防止ハードコート層／反射防止層〕、〔光透過性基材／防眩性ハードコート層／反射防止層〕の構成が例示できる。

〔光透過性基材〕
光透過性基材としては種々の層を積層可能であればどのようなものでも良いが、連続搬送による高生産性の観点からフィルム基材が好ましい。
フィルム基材は、可視光の光線透過率に優れ（好ましくは光線透過率９０％以上）、透明性に優れるもの（好ましくはヘイズ値１％以下）であれば特に制限はない。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー；等の透明ポリマーからなるフィルムが挙げられる。また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。更に、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルム等も挙げられる。特に光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。

上記フィルム基材の中でも、（メタ）アクリル系樹脂フィルムであることが好ましい。上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、（メタ）アクリル系樹脂を含む。（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、例えば、（メタ）アクリル系樹脂を主成分として含む樹脂成分を含有する成型材料を、押出し成型にて成型して得られる。

上記（メタ）アクリル系樹脂としては、Ｔｇ（ガラス転移温度）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２０℃以上、さらに好ましくは１２５℃以上、特に好ましくは１３０℃以上である。上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、Ｔｇ（ガラス転移温度）が１１５℃以上である（メタ）アクリル系樹脂を主成分として含むことにより、耐久性に優れたものとなり得る。上記（メタ）アクリル系樹脂のＴｇの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは１７０℃以下である。

上記（メタ）アクリル系樹脂としては、任意の適切な（メタ）アクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、脂環族炭化水素基を有する重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体など）が挙げられる。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１−６アルキルが挙げられる。より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００質量％、好ましくは７０〜１００質量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。
上記（メタ）アクリル系樹脂の具体例としては、例えば、三菱レイヨン社製のアクリペットＶＨやアクリペットＶＲＬ２０Ａ、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Ｔｇ（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。

本発明においては、高い耐熱性、高い透明性、高い機械的強度を有する点で、上記（メタ）アクリル系樹脂として、グルタル酸無水物構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
グルタル酸無水物構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２００６−２８３０１３号公報、特開２００６−３３５９０２号公報、特開２００６−２７４１１８号公報などに記載の、グルタル酸無水物構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。
ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報などに記載の、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。
グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３２９号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報、特開２００７−００９１８２号公報などに記載の、グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。

（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の上記（メタ）アクリル系樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは５０〜９９質量％、さらに好ましくは６０〜９８質量％、特に好ましくは７０〜９７質量％である。（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の上記（メタ）アクリル系樹脂の含有量が５０質量％未満の場合には、（メタ）アクリル系樹脂が本来有する高耐熱性、高透明性が十分に反映できないおそれがある。
（メタ）アクリル系樹脂フィルムを成型する際に用いる成型材料中の上記（メタ）アクリル系樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは５０〜９９質量％、さらに好ましくは６０〜９８質量％、特に好ましくは７０〜９７質量％である。（メタ）アクリル系樹脂フィルムを成型する際に用いる成型材料中の上記（メタ）アクリル系樹脂の含有量が５０質量％未満の場合には、（メタ）アクリル系樹脂が本来有する高耐熱性、高透明性が十分に反映できないおそれがある。

（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、上記（メタ）アクリル系樹脂以外に、他の熱可塑性樹脂を含有していてもよい。他の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系重合体；塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩素化ビニル樹脂等のハロゲン化ビニル系重合体；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体等が挙げられる。
（メタ）アクリル系樹脂フィルムにおける他の熱可塑性樹脂の含有割合は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜４０質量％、さらに好ましくは０〜３０質量％、特に好ましくは０〜２０質量％である。

（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；フェニルサリチレート、（２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；位相差低減剤等が挙げられる。
（メタ）アクリル系樹脂フィルムにおける添加剤の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。

（メタ）アクリル系樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル系樹脂と、その他の重合体や添加剤等を、任意の適切な混合方法で充分に混合し、予め熱可塑性樹脂組成物としてから、これをフィルム成形することができる。あるいは、（メタ）アクリル系樹脂と、その他の重合体や添加剤等を、それぞれ別々の溶液にしてから混合して均一な混合液とした後、フィルム成形してもよい。
上記熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサー等、任意の適切な混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いられる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機等の押出機や加圧ニーダー等、任意の適切な混合機を用いることができる。

上記フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法等、任意の適切なフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法が好ましい。
上記溶液キャスト法（溶液流延法）に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；シクロヘキサン、デカリン等の脂肪族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチエルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
上記溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーター等が挙げられる。
上記溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法等が挙げられる。成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。
上記Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸等を行うこともできる。

（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持することができる。
延伸温度は、フィルム原料である熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）の範囲内である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないおそれがある。逆に、延伸温度が（ガラス転移温度＋１００℃）超えると、樹脂組成物の流動（フロー）が起こり、安定な延伸が行えないおそれがある。
面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍である。延伸倍率が１．１倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないおそれがある。延伸倍率が２５倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないおそれがある。
延伸速度は、一方向で、好ましくは１０〜２０，０００％／ｍｉｎ、より好ましく１００〜１０，０００％／ｍｉｎである。延伸速度が１０％／ｍｉｎ未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなるおそれがある。延伸速度が２０，０００％／ｍｉｎを超えると、延伸フィルムの破断等が起こるおそれがある。

（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）等を行うことができる。熱処理の条件は、任意の適切な条件を採用し得る。
（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚さは、好ましくは５〜２００μｍ、より好ましくは１０〜１００μｍである。厚さが５μｍ以上であれば強度が低下せず、偏光板の耐久性試験において捲縮が大きくならす好ましい。厚さが２００μｍ以下であれば、透明性が低下せず、透湿性が小さくならず、水系接着剤を用いた場合、その溶剤である水の乾燥速度が遅くならないため好ましい。
（メタ）アクリル系樹脂フィルムの表面の濡れ張力は、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５０ｍＮ／ｍ以上、さらに好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上である。表面の濡れ張力が少なくとも４０ｍＮ／ｍ以上であると、例えば本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板を作成する際の（メタ）アクリル系樹脂フィルムと偏光膜との接着強度がさらに向上する。表面の濡れ張力を調整するために、任意の適切な表面処理を施すことができる。表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、コロナ放電処理、プラズマ処理である。

光透過性基材の厚さ、幅については適宜に決定し得る。光透過性基材の厚さとしては、一般には強度や取り扱い性等の作業性、薄層性等の点を考慮し、１０〜５００μｍ程度である。特に２０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。光透過性基材の巾としては、１００〜５０００ｍｍのものが好適に用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることがさらに好ましい。更に、光透過性基材の屈折率としては特に制限されず、通常１．３０〜１．８０程度、特に１．４０〜１．７０であることが好ましい。

光透過性基材の表面は平滑であることが好ましく、中心線平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることがさらに好ましい。
中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定は、ＪＩＳ Ｂ−０６０１に準じて行うことができる。

〔反射防止フィルムの製造方法〕
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、光透過性基材と、光透過性基材とは反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、
光透過性基材上に、下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｅ）を含有する組成物を塗布し、
組成物における（Ａ）と（Ｂ）の面積比（海部の面積／島部の面積）である（Ａ）／（Ｂ）が１．０よりも大きく、
下記（Ａ）及び（Ｂ）を海島状に相分離させ、
下記（Ａ）の一部を光透過性基材又は下層に浸透させ、
電離放射線を照射して下記（Ａ）及び（Ｂ）を硬化することで、
下記（Ａ）の硬化物からなる海部と、
下記（Ｂ）の硬化物からなり、海部から突出して凸部を形成する島部と
からなる海島状の相分離構造によるものであり、
反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）が１．０よりも大きく、
凸部の島の大きさおよび凸部の周期は、３８０ｎｍ以下である凹凸構造を有する反射防止層を形成する、反射防止フィルムの製造方法である。
（Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する親水性の電離放射線硬化性モノマー
（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー
（Ｃ）重合開始剤
（Ｅ）光透過性基材又は下層に対して浸透性を有する溶剤
（Ａ）〜（Ｅ）成分については、前述のとおりである。

（塗布工程）
反射防止層を形成するための組成物の塗布方法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が高い生産性、塗膜の均一性の観点で好ましく用いられる。

［スロットダイを用いて支持体上に押し出す工程］
本発明の反射防止フィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域（２０ｍＬ／ｍ^２以下）で好ましく用いることができるダイコーターについては、例えば特開２００７−２９３３１３号公報などを参照することができ、本発明においても同様である。

（乾燥工程）
反射防止層を形成するための組成物を光透過性基材上に塗布した後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送する。その際の乾燥ゾーンの温度としては０℃〜１４０℃が好ましく、１０℃〜１２０℃が更に好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温に、後半は比較的高温にする等の調整をすることも好適である。但し、塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下とすることは必須である。これらの好ましい乾燥条件以外に乾燥工程の制約はなく、通常の塗布後乾燥に使用できる方法を用いることができる。

（硬化方法）
塗布工程および乾燥工程を経た積層体の塗膜を紫外線照射および／または熱により硬化することができる。ここで紫外線照射による硬化とは、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等、また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等の光源を用いて乾燥した膜に紫外線を照射して膜を硬化させることをいう。
紫外線照射条件は、紫外線照射に用いるそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、さらに好ましくは、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２であり、特に好ましくは、１５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２である。
紫外線照射による硬化の場合、各層を１層ずつ照射してもよいし、積層後に照射しても良い。紫外線照射の際に積層体表面の硬化を促進させる目的で、窒素ガス等のパージをして酸素濃度を低下させることもできる。硬化させる環境の酸素濃度は５体積％以下が好ましく、１体積％以下がより好ましく、０．１体積％以下が更に好ましい。

〔ハードコート層〕
本発明の反射防止フィルムは、物理的強度を付与するために光透過性基材の一方の面にハードコート層を設けることができる。本発明の反射防止フィルムは、光透過性基材と反射防止層の間にハードコート層を有することが好ましい。

ハードコート層の膜厚は、十分な耐久性または耐衝撃性の付与、カール、生産性、コストの観点から、０．５μｍ〜５０μｍ程度とするのが一般的である。好ましい膜厚としては１μｍ〜３０μｍであり、更に好ましくは２μｍ〜２０μｍであり、最も好ましくは３μｍ〜１５μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが更に好ましく、最も好ましくは５Ｈ以上である。
さらに、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層の屈折率は、光学設計、反射率、色味、ムラ、コストの点から、屈折率が１．４８〜１．７５の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４９〜１．６５であり、更に好ましくは１．５０〜１．５５である。

〔導電性層〕
本発明の反射防止フィルムにおいては、帯電防止の目的で導電性層を設けることができ、それにより反射防止フィルム表面でのゴミつきを防止することができる。導電性層は各層と別の単独層として設けても良いし、積層した層のいずれかが導電性層を兼ねるような兼用層として設けることも可能である。

導電性層の膜厚は、０．０１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．０３μｍ〜７μｍがより好ましく、０．０５μｍ〜５μｍが最も好ましい。導電性層の表面抵抗ＳＲ（Ω／ｓｑ）は、ｌｏｇＳＲとして、５〜１２であることが好ましく、５〜１１がより好ましく、６〜１０であることが最も好ましい。導電性層の表面抵抗は公知の測定法で測定することができ、例えば四探針法により測定可能である。

〔干渉ムラ防止層〕
本発明の反射防止フィルムにおいては、干渉ムラ防止の目的で干渉ムラ防止層を設けることができ、それにより反射防止フィルム表面での干渉ムラを防止することができる。干渉ムラは基材と基材上に塗布した層（例えばハードコート層）の屈折率差によって反射光が干渉し、膜厚ムラに対応して色味変化してしまうことであり、これを防止するために基材と基材上に塗布した層の間に屈折率を連続的に変化させることで、干渉ムラを防止する方法がある（特開２００３−２０５５６３号公報、特開２００３−１３１００７号公報等参照）。このような干渉ムラ防止層を基材層の上に設けても良い。

〔偏光板用保護フィルム〕
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合は、偏光板を作成するにあたり、反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いるために、反射防止層を有する側とは反対側の光透過性基材の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することが好ましい。

〔偏光板〕
本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板は、偏光膜と偏光膜の表側および裏側の少なくとも一方を保護する保護フィルムとして反射防止フィルムを有する。本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板は好ましくは偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する積層板であって、保護フィルムの少なくとも一方が反射防止フィルムである態様である。
偏光板は、偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、反射防止フィルムを有する。反射防止フィルムの透明支持体がポリビニルアルコールやポリエステルウレタンからなる接着剤層を介して偏光膜に接着しており、もう一方の偏光膜の保護フィルムが接着剤層を介して偏光膜の反射防止フィルムが接着している主面とは反対側の主面と接着している。もう一方の保護フィルムの偏光膜と接着している主面と反対側の主面には粘着剤層を有している。
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右および斜め方向の視野角を非常に広げることができる偏光板を作製できる。

［画像表示装置］
本発明の反射防止フィルムを有する画像表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＬＥＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）等が挙げられる。中でも、本発明の反射防止フィルムは、液晶パネル画面の表面フィルムとして使用することが好ましい。本発明の反射防止フィルムを有する偏光板を備えた画像表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＬＥＤ）のような画像表示装置が挙げられる。本発明の反射防止フィルムを有する画像表示装置においては、本発明の反射防止フィルムを有する偏光板を、液晶表示装置の液晶セルのガラスに直接または他の層を介して接着して用いる。

本発明に係る反射防止フィルムを用いた偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、ＯＬＥＤ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。

［実施例１］
＜反射防止フィルムの作製＞
（（ａ）イオン伝導性化合物ＩＰ−１の合成）
特許第４６００６０５号公報の合成例２と同様に実施し、特許第４６００６０５号公報の（Ａ−２）に対応する化合物として、エチレンオキサイド鎖を有する４級アンモニウム塩基含有ポリマーであるＩＰ−１（３０質量％エタノール溶液）を合成した。

（帯電防止性ハードコート層用塗布液Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して帯電防止性ハードコート層塗布液Ａ−１（不揮発分濃度５０質量％）とした。
酢酸メチル ５０質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ５０質量部
Ａ―ＴＭＭＴ ８７．５質量部
ＩＰ−１ １０質量部
ＩＲＧ１２７ ２．４５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマーＦＰ−１３ ０．０５質量部

（帯電防止性ハードコート層Ａ−１の作製）
光透過性基材（ＴＤ６０ＵＬ：トリアセチルセルロースフィルム、膜厚６０μｍ、富士フイルム製）の上に、帯電防止性ハードコート層用塗布液Ａ−１をダイコーターで、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１２０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．０３体積％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ５μｍの帯電防止性ハードコート層Ａ−１を形成した。

（反射防止層の作製）
［シリカ粒子分散液 Ｓ−１の調製］
シリカ微粒子ゾルＡ（ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、平均粒子径８５ｎｍ、シリカ濃度３０％、日産化学（株）製）３３３質量部に、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（本文定義の分子量１９２）１０質量部およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部、メチルエチルケトン５００質量部加えて混合した後に、イオン交換水３質量部を加えた。この混合液を６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加して分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度２１．７％（シリカ濃度２０％）の重合性官能基を有するシランカップリング剤で表面修飾したシリカ粒子分散液Ｓ−１を得た。

［表面処理シリカのＮＭＲによる評価（表面修飾率）］
各無機微粒子の分散液を２５℃でロータリーエバポレーターで蒸発乾固させた。その後、前述した方法で固体ＮＭＲを測定して表面修飾率α（本シランカップリング剤の場合はα２＝Ｔ／Ｑ）を求めた。結果を下記表３に示す。

（反射防止層形成用組成物Ｂ−１の調製）
下記表４に記載の反射防止層形成用組成物Ｂ−１の組成となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入、攪拌し、孔径０．５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して反射防止層形成用組成物Ｂ−１（固形分濃度５０質量％）とした。

（反射防止層の作製）
帯電防止性ハードコート層Ａ−１上に、反射防止層形成用組成物Ｂ−１をダイコーターで、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、熱風乾燥炉を用いて１２０℃で５分乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．０３体積％以下）しながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて反射防止層を形成し、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１を作製した。なお、膜厚は、ガラス上に同様の方法で塗布、硬化させたときに０．８μｍになる厚さに設定した。

（ハードコート層用塗布液Ａ−２の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液Ａ−２（不揮発分濃度５０質量％）とした。
酢酸メチル ５０質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ５０質量部
Ａ―ＴＭＭＴ ８７．５質量部
Ｕ−４ＨＡ １０質量部
ＩＲＧ１２７ ２．４５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマーＦＰ−１３ ０．０５質量部

（帯電防止性ハードコート層用塗布液Ａ−３の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して帯電防止性ハードコート層塗布液Ａ−３（不揮発分濃度５０質量％）とした。
酢酸メチル ４０質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ４０質量部
メタノール ２０質量部
Ａ―ＴＭＭＴ ８７．５質量部
ＩＰ−１ １０質量部
ＩＲＧ１２７ ２．４５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマーＦＰ−１３ ０．０５質量部

（反射防止層用塗布液Ｂ−１０７の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して反射防止層塗布液Ｂ−１０７（不揮発分濃度４質量％）とした。
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ７０質量部
ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
３０質量部
ＤＰＨＡ ５０質量部
スルーリア２３２０ ４５質量部
ＩＲＧ１２７ ３質量部
Ｘ−２２−１６４Ｃ ２質量部

［シリカ粒子分散液 Ｓ−２の調製］
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（本文定義の分子量１９２）８質量部およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．２１質量部に変更した以外は、シリカ粒子分散液Ｓ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液Ｓ−２を得た。

［シリカ粒子分散液 Ｓ−３の調製］
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（本文定義の分子量１９２）５質量部およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート０．７５質量部に変更した以外は、シリカ粒子分散液Ｓ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液Ｓ−３を得た。

［シリカ粒子分散液 Ｓ−４の調製］
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（本文定義の分子量１９２）１５質量部およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート２．２７質量部に変更した以外は、シリカ粒子分散液Ｓ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液Ｓ−４を得た。

［シリカ粒子分散液 Ｓ−５の調製］
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（本文定義の分子量１９２）２０質量部およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート３．０３質量部に変更した以外は、シリカ粒子分散液Ｓ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液Ｓ−５を得た。

［シリカ粒子分散液 Ｓ−６の調製］
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（本文定義の分子量１９２）をジメチルジメトキシシラン（本文定義の分子量８０）に変更した以外は、シリカ粒子分散液Ｓ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液Ｓ−６を得た。得られたシリカ分散液Ｓ−６の表面修飾率α（Ｔ／Ｑ）＝８．２％であった。

［シリカ粒子分散液 Ｓ−７の調製］
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（本文定義の分子量１９２）１０質量部をγ―メタクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン（本文定義の分子量２７２）１４．２質量部に変更した以外は、シリカ粒子分散液Ｓ−１と同様の方法で、シリカ粒子分散液Ｓ−７を得た。得られたシリカ分散液Ｓ−７の表面修飾率α（Ｔ／Ｑ）＝６．６％であった。

反射防止層形成用組成物Ｂ−１と同様の方法で、各成分を下記表４の組成になるように混合して調整し、固形分濃度５０質量％の反射防止層形成用組成物Ｂ−２〜Ｂ−３０、Ｂ−１０１〜Ｂ−１０４を作製した。

帯電防止性ハードコート層、ハードコート層及び、反射防止層形成用組成物を表５のように変更した以外は、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１と同様の方法で、反射防止フィルム試料Ｎｏ．２〜２８、３０〜３６を作製した。

（（メタ）アクリル系樹脂フィルム−１の作製）
［下記式（１Ａ）で表されるラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂｛共重合モノマー質量比＝メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、重量平均分子量１３３０００、メルトフローレート６．５ｇ／１０分（２４０℃、１０ｋｇｆ）、Ｔｇ１３１℃｝９０質量部と、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳＡＳ２０、東洋スチレン社製｝１０質量部との混合物；Ｔｇ１２７℃］のペレットを二軸押し出し機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押し出しして、厚さ１１０μｍのラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂シートを得た。この未延伸シートを、１６０℃の温度条件下、縦２．０倍、横２．４倍に延伸して（メタ）アクリル系樹脂フィルム−１（厚さ：４０μｍ、面内位相差Δｎｄ：０．８ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）：１．５ｎｍ）を得た。

（コロナ放電処理）
上記で得られた（メタ）アクリル系樹脂フィルムの片側に、コロナ放電処理（コロナ放電電子照射量：７７Ｗ／ｍ^２／ｍｉｎ）を施した。

透過性基材を（メタ）アクリル系樹脂フィルム−１に変更し、ハードコート層Ａ−２、及び反射防止層形成用組成物Ｂ−２６を用いた以外は、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１と同様の方法で、反射防止フィルム試料Ｎｏ．２９を作製した。

透過性基材をＰＥＴ（富士フイルム製ＦＤ−１００Ｍ、膜厚１０５μｍ）に変更し、ハードコート層を設けず、反射防止層形成用組成物Ｂ−１０１を用いた以外は、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１と同様の方法で、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１０１を作製した。反射防止フィルム試料Ｎｏ．１０１の反射防止層の膜厚は１０μｍとした。

熱風乾燥炉の代わりに遠赤外線加熱炉（ヤマト科学（株）製ＤＩＲ６３１）により、６〜２０μｍの波長を含む光を輻射して１２０℃１分乾燥したこと以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様の方法で光学フィルム試料Ｎｏ．１０２を作製した。

反射防止層形成用組成物を表５のように変更した以外は、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１と同様の方法で、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１０３〜１０７を作製した。

反射防止層形成用組成物Ｂ−１０７に変更した以外は、反射防止フィルム試料Ｎｏ．３６と同様の方法で、反射防止フィルムＮｏ．１０８を作製した。

表４において、溶媒以外の各成分の含有量は、組成物作製時の質量部で表した。
また、各溶媒の含有量は、全溶媒（揮発分）の全質量に対する各溶媒の質量の比率（質量％）で表した。

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）、ＳＰ値２０．７、粘度８００ｍＰａｓ。
Ａ−ＴＭＭ３−ＬＭＮ：ペンタエリスリトールトリアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）、ＳＰ値２１．６、粘度７３０ｍＰａｓ。
ＩＲＧ１２７：イルガキュア１２７（重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン製）
Ｕ−４ＨＡ：ウレタンアクリレートモノマー（新中村化学工業（株）ＮＫオリゴ）、
ブレンマーＧＭＲ−Ｈ：日油（株）製、グリセリンジメタクリレート。ＳＰ値２１．５、粘度４０ｍＰａｓ。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）ＳＰ値２１．４、粘度６，６００ｍＰａｓ。
ＵＶ７６００Ｂ：６官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業（株）製、紫光）ＳＰ値２２．０、粘度３，０００ｍＰａｓ。
ＨＥＭＡ：ヒドロキシエチルメタクリレート（日本触媒（株）製）ＳＰ値２６．５、粘度５．３ｍＰａｓ。
ＮＦＰ−１：含フッ素炭化水素構造を含まず、ポリアルキレンオキシド基も含まない化合物（（表２のＰ−１７において、ＨＦＰ／ＦＰＶＥモノマーに由来する構造単位をＥＶＥモノマーに由来する構造単位に置き換えたポリマー）、質量平均分子量２．２万、ＳＰ値２１．０、粘度２万ｍＰａｓ以上）
ＮＦＰ−２：含フッ素炭化水素構造を含まないポリアルキレンオキシド基を有する化合物（（表１のＩＰＦ−３６において、ＨＦＰモノマーに由来する構造単位をＥＶＥモノマーに由来する構造単位に置き換えたポリマー）、質量平均分子量２．４万、ＳＰ値２１．１、粘度１万ｍＰａｓ以上）
Ｐ−２：含フッ素炭化水素構造を含有し、ポリアルキレンオキシド基を含まない化合物（表２に記載）、質量平均分子量２．３万、ＳＰ値１９．２、粘度１万ｍＰａｓ以上）
ＩＰＦ−４：含フッ素炭化水素構造を含有し、ポリアルキレンオキシド基を含む化合物（表１に記載）、質量平均分子量２．３万、ＳＰ値１９．０、粘度１万ｍＰａｓ以上）
ＩＰＦ−３７：含フッ素炭化水素構造を含有し、ポリアルキレンオキシド基を含む化合物（表１に記載のＩＰＦ−４の分子量違い）、質量平均分子量１．４万、ＳＰ値１９．０、粘度７０００ｍＰａｓ）
ＩＰＦ−１０：含フッ素炭化水素構造を含有し、ポリアルキレンオキシド基を含む化合物（表１に記載）、質量平均分子量２．７万、ＳＰ値１９．０、粘度１万ｍＰａｓ以上）
ＩＰＦ−２：含フッ素炭化水素構造を含有し、ポリアルキレンオキシド基を含む化合物（表１に記載）、質量平均分子量２．３万、ＳＰ値１９．０、粘度１万ｍＰａｓ以上）
ＩＰＦ−３５：含フッ素炭化水素構造を含有し、ポリアルキレンオキシド基を含む化合物（表１に記載）、質量平均分子量２．２万、ＳＰ値１７．８、粘度１万ｍＰａｓ以上）
ＢＲ−５０：スチレン共重合メタクリル酸メチル樹脂（三菱レイヨン（株）製）、質量平均分子量６．５万、ＳＰ値２１．６、粘度３万ｍＰａｓ以上、分子中に重合性基は含有しない。）
ＩＲＧ９０７：光重合開始剤、イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製
ＩＲＧ１８４：光重合開始剤、イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ製
ＩＲＧ１２７：光重合開始剤、イルガキュア１２７、ＢＡＳＦ製
ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ：平均粒子サイズ約１５ｎｍのシリカ分散液（固形分濃度３０質量％）、溶媒イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）（日産化学工業（株）製）シリカ粒子の屈折率＝１．４５、表面からの検出基はなし。（本文定義の未処理）。
ＭＩＢＫ−ＳＴ：平均粒子サイズ約１５ｎｍのシリカ分散液（固形分濃度３０質量％）、溶媒メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）（日産化学工業（株）製）シリカ粒子の屈折率＝１．４５、表面よりトリメチルシリル基を検出（本文定義の分子量９０）。
ＭＩＢＫ−ＳＤ：平均粒子サイズ約１５ｎｍのシリカ分散液（固形分濃度３０質量％）、溶媒ＭＩＢＫ（日産化学工業（株）製）シリカ粒子の屈折率＝１．４５、表面よりメタクリロイルオキシプロピル基を検出（本文定義の分子量２００）。
ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ：平均粒子サイズ約４５ｎｍのシリカ分散液（固形分濃度３０質量％）、溶媒ＭＩＢＫ（日産化学工業（株）製）シリカ粒子の屈折率＝１．４５、表面よりメタリロイルオキシプロピル基を検出（本文定義の分子量２００）。
ＭＥＫ−ＳＴ−２０４０：平均粒子サイズ約２００ｎｍのシリカ分散液（固形分濃度３０質量％）、溶媒ＭＥＫ（日産化学工業（株）製）シリカ粒子の屈折率＝１．４５、表面よりトリメチルシリル基を検出（本文定義の分子量９０）。
ＭＥＫ−ＳＴ−３０４０：平均粒子サイズ約３００ｎｍのシリカ分散液（固形分濃度３０質量％）、溶媒ＭＥＫ（日産化学工業（株）製）シリカ粒子の屈折率＝１．４５、表面よりトリメチルシリル基を検出（本文定義の分子量９０）。
ＯＺ−Ｓ３０Ｋ：平均粒子サイズ約７ｎｍのＺｒＯ_２分散液（固形分濃度３０質量％）、溶媒ＭＥＫ（日産化学工業（株）製）ＺｒＯ_２粒子の屈折率＝１．９０、表面からの検出基はなし。
スルーリア２３２０：平均粒子サイズ約５０ｎｍの中空シリカ分散液（固形分濃度２０質量％）、溶媒ＭＥＫ（日揮触媒化成（株）製）シリカ粒子の屈折率＝１．３０、表面よりメタクリロイルオキシプロピル基を検出（本文定義の分子量２００）。
ＦＰ−１３：下記構造のフッ素系の界面活性剤で、メチルエチルケトン溶媒に固形分濃度４０質量％で溶解しているもの
Ｘ−２２−１６４Ｃ：重合性基含有シリコーン化合物、信越化学工業（株）製。

（反射防止フィルムの評価）
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表２に示す。

（１）相分離構造の確認
反射防止フィルムの表面を、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＡ４００[ＳＩＩナノテクノロジー（株）製]）のＤＦＭ制御（ダイナミック・フォース・モード）にて１０μｍ四方の形状を観察し、相分離構造について評価した。
Ａ・・海島構造がはっきりと区別でき、その島部の大きさが周期よりも小さく、海部／島部面積比が１．０より大きい。
Ｂ・・海島構造がぼんやりだが区別でき、その島部の大きさが周期より小さく、海部／島部面積比が１．０より大きい。
Ｃ・・島部が連なった形ができ、その島部の大きさが周期より大きい。
Ｄ・・全く相分離が確認できない。

（２）モスアイ構造の確認
反射防止フィルムの表面を、走査型プローブ顕微鏡ＳＰＡ４００のＡＦＭ制御（原子間力モード）にて１０μｍ四方の形状を観察し、表面形状について評価した。微細構造パターンの周期は、走査型電子顕微鏡写真にランダムに端から端まで直線を引き、その直線上にある隣接する凸部の頂点間の距離をｎ＝５０測定した平均値を用い、１桁め（１０ｎｍ未満）の数値を四捨五入して求めた。凸部が観察できない場合には、「周期無し」と判断した。
Ａ・・モスアイ構造が明確に出来ており、その凹凸高さ／周期距離比が０．９以上１．０以下
Ｂ・・モスアイ構造が明確に出来ており、その凹凸高さ／周期距離比が０．７以上０．９未満
Ｃ・・モスアイ構造が明確に出来ており、その凹凸高さ／周期距離比が０．５以上０．７未満
Ｄ・・モスアイ構造が明確に出来ているが、その凹凸高さ／周期距離比が０．５未満
Ｅ・・モスアイ構造ができていない。

（３）膜厚測定
作製した試料をミクロトームで切削して断面を切り出し、約３％の四酸化オスミウム水溶液で一晩染色したのち、再度表面を切り出して断面ＳＥＭ観察した。反射電子像において、基材側から順に、線状に明るく染色された部分から暗く観察される層の全体を浸透層、その上にある明るく観察される層をハードコート層として、それぞれ膜厚を測長した。

（４）積分反射率測定
反射防止フィルム試料の裏面（支持体側）をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側（反射防止層側）を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分反射率の算術平均値を用いた。

（５）鉛筆硬度評価
ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、反射防止層側に対してＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する試験用鉛筆を用いて評価した。

（６）表面ヘイズ測定
［１］ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、得られた反射防止フィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する：日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ５０００を用いた。
［２］反射防止フィルムの表面及び裏面に顕微鏡用イマージョンオイル（ニコン（株）製イマージョンオイルＴＹＰＥ Ａ、屈折率ｎ＝１．５１５）を数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られた反射防止フィルムを密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉｎ）として算出した。
［３］上記［１］で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記［２］で算出した内部ヘイズ（Ｈｉｎ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｏｕｔ）として算出した。

（７）防汚性評価
反射防止フィルムをガラス面上に表面（反射防止層側）が最表面となるように粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で黒マジック「マッキー極細（商品名：ＺＥＢＲＡ製）」のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、１０秒後に１０枚重ねに折り束ねたベンコット（商品名、旭化成（株））でベンコットの束がへこむ程度の荷重で２往復拭き取り、円形のマジック跡の観察状況で防汚性を評価した。
Ａ・・マジック跡が確認できない。
Ｂ・・マジック跡が薄く視認できる。
Ｃ・・マジック跡がはっきりと視認できる。

１ 光透過性基材
２ 凹凸構造を有する反射防止層
３ 海部
４ 島部（凸部）
１０ 反射防止フィルム
Ｌ 凸部の周期
Ｈ 凸部の高さ

Claims (12)

1. 光透過性基材と、前記光透過性基材とは反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、
   前記反射防止層の凹凸構造は、
   下記（Ａ）の硬化物からなる海部と、
   下記（Ｂ）の硬化物からなり、前記海部から突出して凸部を形成する島部と
   からなる海島状の相分離構造によるものであり、
   反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）が１．０よりも大きく、
   前記凸部を形成する島部の大きさ及び凸部間隔の周期は、３８０ｎｍ以下であり、かつ
   表面ヘイズが１．０％未満である反射防止フィルム。
   （Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー
   （Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、前記（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ前記（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー
2. 前記反射防止層の膜厚が０．０５〜０．７８μｍである請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記反射防止層が、更に、下記（Ｄ）成分を含有する請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
   （Ｄ）シランカップリング剤で表面処理された平均粒子径が１０〜３００ｎｍの無機微粒子
4. 前記（Ｄ）成分の前記シランカップリング剤の分子量が９０〜６００である請求項３に記載の反射防止フィルム。
5. 前記（Ｄ）成分のシランカップリング剤の表面修飾率αが０．１％〜２５％である請求項３又は４に記載の反射防止フィルム。
6. 前記（Ｄ）成分の無機微粒子が、少なくとも粒子の表面にケイ素を構成成分として有し、屈折率１．４６以下の金属酸化物微粒子である請求項３〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
7. 前記（Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性ポリマーが下記一般式（１）で表される含フッ素ポリマーである請求項１〜６のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
   一般式（１）：
   （ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ−（ＭＣ）ｆ−（ＭＤ）ｇ
   一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、ｇは含フッ素ポリマー中の質量％を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、０≦ｃ≦８０、３０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０、１≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０≦ｆ≦５０、０≦ｇ≦１５の関係を満たす値を表す。
   （ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
   （ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
   （ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＲｏ−Ｌ−Ｒｆ_１３で表される単量体を重合して得られる構成単位を示す。Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒｆ_１３は、炭素数１〜２０の含フッ素アルキル基を表す。
   （ＭＡ）：不飽和二重結合を有する基及び開環重合反応性基の少なくとも一方を有する構成単位を表す。
   （ＭＢ）：非架橋性の構成単位を表す。
   （ＭＣ）：下記一般式（２）のポリアルキレンオキシド基を少なくとも１つ有する単量体から重合される構成単位を表す。
   

   

   一般式（２）中、Ｒｏは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒｃは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍは２以上５０以下の整数を表し、ｎは１以上５以下の整数を表す。なお、ｍが２以上のとき、複数の−（Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｏ）−はそれぞれ異なる繰り返し単位であっても良い。
   （ＭＤ）：ポリシロキサン構造を少なくとも１つ有する構成単位を表す。
8. 前記一般式（２）中のＬが、炭素数１〜９の２価の連結基である請求項７に記載の反射防止フィルム。
9. 光透過性基材と、前記光透過性基材とは反対側の表面に凹凸構造を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、
   光透過性基材上に、下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｅ）を含有する組成物を塗布し、
   下記（Ａ）及び（Ｂ）を海島状に相分離させ、
   下記（Ａ）の一部を光透過性基材又は下層に浸透させ、
   電離放射線を照射して下記（Ａ）及び（Ｂ）を硬化することで、
   下記（Ａ）の硬化物からなる海部と、
   下記（Ｂ）の硬化物からなり、前記海部から突出して凸部を形成する島部と
   からなる海島状の相分離構造によるものであり、
   反射防止層の最表面の海部と島部の面積比（海部の面積／島部の面積）が１．０よりも大きく、
   前記凸部の島の大きさ及び凸部の周期は、３８０ｎｍ以下である凹凸構造を有する反射防止層を形成する、反射防止フィルムの製造方法。
   （Ａ）分子内に重合性基を２つ以上有する電離放射線硬化性モノマー
   （Ｂ）分子中に重合性基を２つ以上有し、前記（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりもＳＰ値が０．５以上低くかつ前記（Ａ）の電離放射線硬化性モノマーよりも粘度が１００ｍＰａｓ以上高い、質量平均分子量が１０００以上の電離放射線硬化性ポリマー
   （Ｃ）重合開始剤
   （Ｅ）光透過性基材又は下層に対して浸透性を有する溶剤
10. 前記（Ｅ）溶剤が、沸点が１００℃を超える溶剤を含有する請求項９に記載の反射防止フィルムの製造方法。
11. 偏光膜と前記偏光膜の少なくとも一方の面を保護する少なくとも１枚の保護フィルムを有する偏光板であって、前記保護フィルムが請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、又は請求項９若しくは１０に記載の製造方法によって製造された反射防止フィルムである偏光板。
12. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム、請求項９若しくは１０に記載の製造方法によって製造された反射防止フィルム、又は請求項１１に記載の偏光板を有する画像表示装置。

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