JP2015155083A - オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置 - Google Patents
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- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 617
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 463
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 77
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 221
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims abstract description 65
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 62
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 58
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 51
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 29
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 abstract description 19
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 abstract description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 17
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 17
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 2
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 2
- 241001089723 Metaphycus omega Species 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000011978 dissolution method Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
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- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/29—Mixing systems, i.e. flow charts or diagrams
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/2319—Methods of introducing gases into liquid media
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
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- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/237—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
- B01F23/2376—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media characterised by the gas being introduced
- B01F23/23761—Aerating, i.e. introducing oxygen containing gas in liquids
- B01F23/237613—Ozone
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/50—Circulation mixers, e.g. wherein at least part of the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle
- B01F25/53—Circulation mixers, e.g. wherein at least part of the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle in which the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle through a recirculation tube, into which an additional component is introduced
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/20—Measuring; Control or regulation
- B01F35/21—Measuring
- B01F35/2132—Concentration, pH, pOH, p(ION) or oxygen-demand
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/20—Measuring; Control or regulation
- B01F35/22—Control or regulation
- B01F35/221—Control or regulation of operational parameters, e.g. level of material in the mixer, temperature or pressure
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- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/80—Forming a predetermined ratio of the substances to be mixed
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/10—Preparation of ozone
- C01B13/11—Preparation of ozone by electric discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2201/00—Preparation of ozone by electrical discharge
- C01B2201/60—Feed streams for electrical dischargers
- C01B2201/64—Oxygen
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2201/00—Preparation of ozone by electrical discharge
- C01B2201/90—Control of the process
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
【解決手段】原料超純水を循環タンクに供給すると共に、ユースポイントで使用されなかった返送オゾン水を該循環タンクに返送しながら、該循環タンク内の被溶解水を、一定の供給量でオゾン溶解手段に供給し、該オゾン溶解手段で該被溶解水にオゾンを溶解させてオゾン溶解水を得、次いで、得られた該オゾン溶解水を、該ユースポイントに供給すること、放電式のオゾン発生手段に、原料酸素ガスとして、窒素ガスの含有量が0.01体積%以下の酸素ガスを供給し、次いで、得られた該オゾン含有ガスを、該オゾン溶解手段に供給すること、該循環タンクに供給する該原料超純水の供給量を調節すること、該オゾン溶解水中の溶存オゾン濃度を調節すること、を特徴とするオゾン水供給方法。
【選択図】図1
Description
すなわち、本発明(1)は、原料超純水を循環タンクに供給すると共に、ユースポイントで使用されなかった返送オゾン水を該循環タンクに返送しながら、該循環タンク内の被溶解水を、一定の供給量でオゾン溶解手段に供給し、該オゾン溶解手段で該被溶解水にオゾンを溶解させてオゾン溶解水を得、次いで、得られた該オゾン溶解水を、該ユースポイントに供給すること、
放電式のオゾン発生手段に、原料酸素ガスとして、窒素ガスの含有量が0.01体積%以下の酸素ガスを供給して、オゾンガスを発生させて、オゾン含有ガスを得、次いで、得られた該オゾン含有ガスを、該オゾン溶解手段に供給すること、
該循環タンク内の該被溶解水の液面の高さを調節することにより、該循環タンクに供給する該原料超純水の供給量を調節すること、
該被溶解水に溶解させるオゾンの量を調節することにより、該オゾン溶解水中の溶存オゾン濃度を調節すること、
を特徴とするオゾン水供給方法を提供するものである。
放電式のオゾン発生手段に、原料酸素ガスとして、窒素ガスの含有量が0.01体積%以下の酸素ガスを供給して、オゾンガスを発生させて、オゾン含有ガスを得、次いで、得られた該オゾン含有ガスを、該オゾン溶解手段に供給すること、
該循環タンク内の該被溶解水の液面の高さを調節することにより、該循環タンクに供給する該原料超純水の供給量を調節すること、
該被溶解水に溶解させるオゾンの量を調節することにより、該オゾン溶解水中の溶存オゾン濃度を調節すること、
を特徴とするオゾン水供給方法である。
図2に示すフローに従って、オゾン水の供給を行った。
原料水として比抵抗が18MΩ・cm以上、TOCが1.0ppb以下の超純水をPFA製の循環タンク1に供給し、原料ガスとして原料酸素ガス供給管より窒素ガス含有量が0.01体積%の高純度酸素ガスを8SLM(L/min at 0℃、1atm)で窒素無添加対応の放電式オゾンガス発生装置2(住友精密工業株式会社 GRF−RG)に供給し、発生したオゾンガスに、二酸化炭素を100SCCM(mL/min at 0℃、1atm)添加し、PTFE製のオゾン溶解膜3にて、被溶解水に溶解させた。オゾン溶解膜で溶解しなかったオゾンガスを、オゾンガス分解手段に供給した。
循環タンク1の管理容量を40Lに設定し、原料水供給量制御手段(原料水供給量制御部23、液面計13及び原料水供給バルブ12)にて管理した。磁気浮上式の供給ポンプ6(レビトロニクスジャパン株式会社 BPS−4)によって、循環タンク1に貯留された被溶解水を、オゾン溶解膜3を経由し、常時水量30L/min、水圧300kPaになるようユースポイントに供給した。また、濃度計15及びオゾンガス発生量制御部16により、オゾン溶解水の濃度が30ppmになるように調節した。また、パーティクル除去用フィルター10をオゾン溶解水供給管18に付設した。
ユースポイントが複数ある場合には、ユースポイントでの使用水量の随時変動するため、そのようなプロセスを想定して、図3に示すようにユースポイントでの使用水量を変動させ、且つユースポイントでの平均使用水量が供給水量の25%、つまり、7.5L/min程度となるように設定して、試験を行った。
その結果、オゾン溶解水の供給量は27.3〜33.0L/min、溶存オゾン濃度は27.2〜32.5ppmで推移し、オゾン溶解水の供給量、溶存オゾン濃度とも安定していた。平均の放電式オゾンガス発生装置の放電出力は30.2%であり、2時間連続運転後のオゾン水中の硝酸濃度は、5ppb(定量下限値)以下であった。また、供給ポンプ回転数は、8500rpmであり、ユースポイントのオゾン溶解水中のパーティクル数は、φ0.05μm以上が10個/ml以下であった。
ユースポイントでオゾン溶解水を使用せず、供給したオゾン溶解水が100%循環タンクに戻る、つまり、ユースポイントでの平均使用割合が0%になるように設定すること以外は、実施例1と同様に試験を行った。
その結果、オゾン溶解水の供給量はほぼ30.0L/min、溶存オゾン濃度はほぼ30.0ppmで推移した。平均の放電式オゾンガス発生装置の放電出力は17.4%であり、2時間連続運転後のオゾン水中の硝酸濃度は、5ppb(定量下限値)以下であった。また、供給ポンプ回転数は、8500rpmであり、ユースポイントのオゾン溶解水中のパーティクル数は、φ0.05μm以上が10個/ml以下であった。
図1に示すフローに従って、オゾン水の供給を行った。
原料水として比抵抗が18MΩ・cm以上、TOCが1.0ppb以下の超純水をPFA製の循環タンク1に供給し、原料ガスとして原料酸素ガス供給管より窒素ガス含有量が0.01体積%の高純度酸素ガスを8SLM(L/min at 0℃、1atm)で窒素無添加対応の放電式オゾンガス発生装置2(住友精密工業株式会社 GRF−RG)に供給し、発生したオゾンガスに、二酸化炭素を100SCCM(mL/min at 0℃、1atm)添加し、PTFE製のオゾン溶解膜3にて、被溶解水に溶解させた。オゾン溶解膜で溶解しなかったオゾンガスを循環タンク1内の散気部11に供給した。
循環タンク1の管理容量を40Lに設定し、原料水供給量制御手段(原料水供給量制御部23、液面計13及び原料水供給バルブ12)にて管理した。磁気浮上式の供給ポンプ6(レビトロニクスジャパン株式会社 BPS−4)によって、循環タンク1に貯留された被溶解水を、オゾン溶解膜3を経由し、常時水量30L/min、水圧300kPaになるようユースポイントに供給した。また、第一濃度計14、第二濃度計15及びオゾンガス発生量制御部16により、オゾン溶解水の濃度が30ppmになるように調節した。また、パーティクル除去用フィルター10を返送管19に付設した。ユースポイントが複数ある場合には、ユースポイントでの使用水量の随時変動するため、そのようなプロセスを想定して、図3に示すようにユースポイントでの使用水量を変動させ、且つユースポイントでの平均使用水量が供給水量の25%、つまり、7.5L/min程度となるように設定して、試験を行った。
その結果、オゾン溶解水の供給量が27.3〜33.0L/min、溶存オゾン濃度が29.0〜31.0ppmで推移し、オゾン溶解水の供給量、溶存オゾン濃度とも安定していた。平均の放電式オゾンガス発生装置の放電出力は26.4%であり、2時間連続運転後のオゾン水中の硝酸濃度は、5ppb(定量下限値)以下であった。また、供給ポンプ回転数は、7500rpmであり、ユースポイントのオゾン溶解水中のパーティクル数は、φ0.05μm以上が10個/ml以下であった。
ユースポイントでオゾン溶解水を使用せず、供給したオゾン溶解水が100%循環タンクに戻る、つまり、ユースポイントでの平均使用割合が0%になるように設定すること以外は、実施例3と同様にして試験を行った。
その結果、オゾン溶解水の供給量はほぼ30.0L/min、溶存オゾン濃度はほぼ30.0ppmで推移した。平均の放電式オゾンガス発生装置の放電出力は13.2%であり、2時間連続運転後のオゾン溶解水中の硝酸濃度は、5ppb(定量下限値)以下であった。また、供給ポンプ回転数は、7500rpmであり、ユースポイントのオゾン溶解水中のパーティクル数は、φ0.05μm以上が10個/ml以下であった。
図2に示すフローに従って、オゾン水の供給を行った。
原料水として比抵抗が18MΩ・cm以上、TOCが1.0ppb以下の超純水をPFA製の循環タンク1に供給し、原料ガスとして原料酸素ガス供給管より窒素ガス含有量が1体積%の酸素ガスを8SLM(L/min at 0℃、1atm)で窒素無添加非対応の放電式オゾンガス発生装置2(住友精密工業株式会社 GRC−RG)に供給し、発生したオゾンガスに、二酸化炭素を100SCCM(mL/min at 0℃、1atm)添加し、PTFE製のオゾン溶解膜3にて、被溶解水に溶解させた。オゾン溶解膜で溶解しなかったオゾンガスを、オゾンガス分解手段に供給した。
循環タンク1の管理容量を40Lに設定し、原料水供給量制御手段(原料水供給量制御部23、液面計13及び原料水供給バルブ12)にて管理した。磁気浮上式の供給ポンプ6(レビトロ二クスジャパン株式会社 BPS−4)によって、循環タンク1に貯留された被溶解水を、オゾン溶解膜3を経由し、常時水量30L/min、水圧300kPaになるようユースポイントに供給した。また、濃度計15及びオゾンガス発生量制御部16により、オゾン溶解水の濃度が30ppmになるように調節した。また、パーティクル除去用フィルター10をオゾン溶解水供給管18に付設した。ユースポイントでオゾン溶解水を使用せず、供給したオゾン溶解水が100%循環タンクに戻る、つまり、ユースポイントでの平均使用割合が0%になるように設定した。
その結果、オゾン溶解水の供給量はほぼ30.0L/min、溶存オゾン濃度はほぼ30.0ppmで推移した。平均の放電式オゾンガス発生装置の放電出力は17.1%であり、2時間連続運転後のオゾン水中の硝酸濃度は、573ppbであった。また、供給ポンプ回転数は、8500rpmであり、ユースポイントのオゾン溶解水中のパーティクル数は、φ0.05μm以上が10個/ml以下であった。
2 オゾン発生手段
3 オゾン溶解手段
4 原料酸素ガス
5 原料超純水
6 送液手段
7 ユースポイント
8 炭酸ガス
9 オゾンガス分解手段
10 フィルター
11 散気部
12 原料水供給バルブ
13 液面計
14 第一濃度計
15 第二濃度計
16 オゾンガス発生量制御部
18 オゾン溶解水供給管
19 返送管
20 被溶解水供給管
21 未溶存オゾンガス供給管
22 オゾン含有ガス供給管
23 原料水供給量制御部
24 炭酸ガス供給管
25 返送オゾン水
26 被溶解水
27 オゾン溶解水
28 オゾン含有ガス
29 原料水供給管
30 オゾン水供給装置
31 原料ガス供給管
Claims (8)
- 原料超純水を循環タンクに供給すると共に、ユースポイントで使用されなかった返送オゾン水を該循環タンクに返送しながら、該循環タンク内の被溶解水を、一定の供給量でオゾン溶解手段に供給し、該オゾン溶解手段で該被溶解水にオゾンを溶解させてオゾン溶解水を得、次いで、得られた該オゾン溶解水を、該ユースポイントに供給すること、
放電式のオゾン発生手段に、原料酸素ガスとして、窒素ガスの含有量が0.01体積%以下の酸素ガスを供給して、オゾンガスを発生させて、オゾン含有ガスを得、次いで、得られた該オゾン含有ガスを、該オゾン溶解手段に供給すること、
該循環タンク内の該被溶解水の液面の高さを調節することにより、該循環タンクに供給する該原料超純水の供給量を調節すること、
該被溶解水に溶解させるオゾンの量を調節することにより、該オゾン溶解水中の溶存オゾン濃度を調節すること、
を特徴とするオゾン水供給方法。 - 前記ユースポイントから返送する前記返送オゾン水中のパーティクルを、パーティクル除去用フィルターで除去することを特徴とする請求項1記載のオゾン水供給方法。
- 前記オゾン溶解手段で前記被溶解水に溶解しなかったオゾンガスを、前記循環タンクに供給することを特徴とする請求項1又は2いずれか1項記載のオゾン水供給方法。
- 前記被溶解水中の溶存オゾン濃度を測定し、該溶存オゾン濃度を基に、前記オゾン溶解手段へ供給すべきオゾンの供給量を算出して、前記オゾン溶解手段へのオゾン含有ガスの供給量を調節することにより、該オゾン溶解水中の溶存オゾン濃度を調節することを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のオゾン水供給方法。
- 原料超純水が供給され且つユースポイントからの返送オゾン水が返送される循環タンクと、オゾンガスを発生させてオゾン含有ガスを得るための放電式のオゾン発生手段と、該放電式のオゾン発生手段に窒素ガスの含有量が0.01体積%以下の酸素ガスを供給する原料酸素ガス供給管と、被溶解水に該オゾン発生手段で発生させたオゾンガスを溶解させて、オゾン溶解水を得るためのオゾン溶解手段と、該循環タンクと該オゾン溶解手段とを繋ぐ被処理水供給管と、該オゾン発生手段と該オゾン溶解手段とを繋ぐオゾン含有ガス供給管と、該オゾン溶解手段と該ユースポイントとを繋ぐオゾン溶解水供給管と、該ユースポイントと該循環タンクとを繋ぐ返送管と、該循環タンク内の液面の高さを制御するための循環タンク液面制御手段と、該オゾン溶解水中の溶存オゾン濃度を調節するための溶存オゾン濃度調節手段と、を有するオゾン水供給装置。
- 前記返送管にパーティクル除去用フィルターが付設されていることを特徴とする請求項5記載のオゾン水供給装置。
- 前記オゾン溶解手段で被溶解水に溶解しなかったオゾンガスを、前記循環タンクに供給するための未溶存オゾンガス供給手段が設置されていることを特徴とする請求項5又は6いずれか1項記載のオゾン水供給装置。
- 前記溶存オゾン濃度調節手段が、被溶解水中の溶存オゾン濃度を測定する第一濃度計と、該第一濃度計で測定された溶存オゾン濃度に基づいて、前記オゾン溶解手段へ供給すべきオゾンガスの供給量を算出して、前記オゾン発生手段にオゾンガスの発生量を調節するための命令を送る演算部とからなることを特徴とする請求項5〜7いずれか1項記載のオゾン水供給装置。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014030742A JP6734621B2 (ja) | 2014-02-20 | 2014-02-20 | オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置 |
US15/118,992 US11229887B2 (en) | 2014-02-20 | 2015-01-06 | Ozone water supply method and ozone water supply device |
PCT/JP2015/050098 WO2015125500A1 (ja) | 2014-02-20 | 2015-01-06 | オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置 |
CN201580009654.3A CN106061905A (zh) | 2014-02-20 | 2015-01-06 | 臭氧水供给方法和臭氧水供给装置 |
KR1020167023444A KR20160114137A (ko) | 2014-02-20 | 2015-01-06 | 오존수 공급방법 및 오존수 공급장치 |
KR1020197004338A KR20190018756A (ko) | 2014-02-20 | 2015-01-06 | 오존수 공급방법 및 오존수 공급장치 |
TW108125156A TWI712450B (zh) | 2014-02-20 | 2015-02-09 | 臭氧水供給方法及臭氧水供給裝置 |
TW104104188A TW201542471A (zh) | 2014-02-20 | 2015-02-09 | 臭氧水供給方法及臭氧水供給裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014030742A JP6734621B2 (ja) | 2014-02-20 | 2014-02-20 | オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015155083A true JP2015155083A (ja) | 2015-08-27 |
JP6734621B2 JP6734621B2 (ja) | 2020-08-05 |
Family
ID=53878016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014030742A Active JP6734621B2 (ja) | 2014-02-20 | 2014-02-20 | オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11229887B2 (ja) |
JP (1) | JP6734621B2 (ja) |
KR (2) | KR20160114137A (ja) |
CN (1) | CN106061905A (ja) |
TW (2) | TW201542471A (ja) |
WO (1) | WO2015125500A1 (ja) |
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- 2014-02-20 JP JP2014030742A patent/JP6734621B2/ja active Active
-
2015
- 2015-01-06 CN CN201580009654.3A patent/CN106061905A/zh active Pending
- 2015-01-06 KR KR1020167023444A patent/KR20160114137A/ko active Search and Examination
- 2015-01-06 US US15/118,992 patent/US11229887B2/en active Active
- 2015-01-06 WO PCT/JP2015/050098 patent/WO2015125500A1/ja active Application Filing
- 2015-01-06 KR KR1020197004338A patent/KR20190018756A/ko not_active Application Discontinuation
- 2015-02-09 TW TW104104188A patent/TW201542471A/zh unknown
- 2015-02-09 TW TW108125156A patent/TWI712450B/zh active
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KR20190018756A (ko) | 2019-02-25 |
TWI712450B (zh) | 2020-12-11 |
US20160361693A1 (en) | 2016-12-15 |
TW201938260A (zh) | 2019-10-01 |
JP6734621B2 (ja) | 2020-08-05 |
WO2015125500A1 (ja) | 2015-08-27 |
KR20160114137A (ko) | 2016-10-04 |
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A621 | Written request for application examination |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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