JP7240260B2 - ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法 - Google Patents

ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7240260B2
JP7240260B2 JP2019104150A JP2019104150A JP7240260B2 JP 7240260 B2 JP7240260 B2 JP 7240260B2 JP 2019104150 A JP2019104150 A JP 2019104150A JP 2019104150 A JP2019104150 A JP 2019104150A JP 7240260 B2 JP7240260 B2 JP 7240260B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
solution
gas solution
flow rate
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019104150A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020195967A (ja
Inventor
卓 小澤
裕二 荒木
敏史 渡邉
洋一 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
Priority to JP2019104150A priority Critical patent/JP7240260B2/ja
Priority to TW109114895A priority patent/TWI815010B/zh
Priority to US16/885,794 priority patent/US11352274B2/en
Priority to SG10202005037PA priority patent/SG10202005037PA/en
Priority to KR1020200064882A priority patent/KR102639443B1/ko
Priority to EP20177920.4A priority patent/EP3747535B1/en
Priority to CN202010493049.0A priority patent/CN112023736A/zh
Publication of JP2020195967A publication Critical patent/JP2020195967A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7240260B2 publication Critical patent/JP7240260B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/78Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/231Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids by bubbling
    • B01F23/23105Arrangement or manipulation of the gas bubbling devices
    • B01F23/2311Mounting the bubbling devices or the diffusers
    • B01F23/23114Mounting the bubbling devices or the diffusers characterised by the way in which the different elements of the bubbling installation are mounted
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/2366Parts; Accessories
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/2366Parts; Accessories
    • B01F23/2368Mixing receptacles, e.g. tanks, vessels or reactors, being completely closed, e.g. hermetically closed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/237Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
    • B01F23/2376Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media characterised by the gas being introduced
    • B01F23/23761Aerating, i.e. introducing oxygen containing gas in liquids
    • B01F23/237613Ozone
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/29Mixing systems, i.e. flow charts or diagrams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/211Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2111Flow rate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/211Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2115Temperature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/008Control or steering systems not provided for elsewhere in subclass C02F
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F2101/00Mixing characterised by the nature of the mixed materials or by the application field
    • B01F2101/48Mixing water in water-taps with other ingredients, e.g. air, detergents or disinfectants
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F2101/00Mixing characterised by the nature of the mixed materials or by the application field
    • B01F2101/58Mixing semiconducting materials, e.g. during semiconductor or wafer manufacturing processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/02Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
    • C02F2103/04Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/78Details relating to ozone treatment devices
    • C02F2201/784Diffusers or nozzles for ozonation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/02Temperature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/03Pressure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/40Liquid flow rate
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F15/00Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus
    • G01F15/08Air or gas separators in combination with liquid meters; Liquid separators in combination with gas-meters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Accessories For Mixers (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Description

本発明は、ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法に関し、特に、ガス溶解液の原料となる液体を節約するとともに、生成されるガス溶解液の濃度を一定にする技術に関する。
近年、半導体デバイス工場や液晶などの電子部品製造工場における製品の洗浄は、製造プロセスの複雑化、回路パターンの微細化に伴ってますます高度化している。例えば、「機能水」と呼ばれる超純水に高純度のガスまたは高純度ガスと薬品とを溶解した特殊な液体(以後「洗浄液」ともいう)の使用によってシリコンウエハに付着した微粒子、金属、有機物などを除去している。
一方、洗浄処理方式としては、複数のシリコンウエハを同時に浸漬及び洗浄操作を繰り返すバッチ処理方式から、多品種少量生産の製品に対応して1枚のウエハごとに薬品洗浄及び超純水洗浄を行う枚葉処理方式が多く採用されるようになっている。枚葉処理方式は、バッチ処理方式と比べて、ウエハ1枚当たりの洗浄工程時間(以後「タクトタイム」ともいう)が長く、洗浄液の使用量が多くなるために、タクトタイムの短縮及び洗浄液使用量の低減が求められている。現状、短時間での効果的な洗浄及び洗浄液使用量を低減するためには、複数の機能水並びに薬品を単独または同時に使用して、短時間で洗浄工程を切り替える高度な洗浄プロセスが行われている。
機能水としては、超純水にオゾンガスを溶解したオゾン水が用いられている。オゾン水は、一般的にオゾン水製造装置で製造される。洗浄プロセスの高度化及び複雑化に伴い、短時間での洗浄装置へのオゾン水の供給及び停止が要求される。しかしながら、オゾン水製造装置は一旦オゾン水の製造を停止した場合には、再度、要求オゾン濃度及び要求流量のオゾン水の供給が可能となるまでに一定の時間(以後「立ち上がり時間」ともいう)を要する。したがって、洗浄装置へのオゾン水の供給要求に応じるため、オゾン水をオゾン製造装置にて常時製造し、洗浄装置に連続的に供給している。このため、過剰のオゾン水が供給されることになり、シリコンウエハの洗浄に使用されない未使用のオゾン水は排水として洗浄装置から排出されている。オゾン水製造のために原料水として使用する超純水の使用量が大量であるため、従来、超純水の使用量を削減し、オゾン水供給装置内の循環経路中のオゾン水濃度を設定した濃度に保持するオゾン水製造装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2014-117628号公報
従来のオゾン水供給装置においては、ユースポイントで使用されなかったオゾン水は、オゾン水戻し配管を通って循環槽に戻されることになる。しかしながら、オゾンは自己分解するため、循環中にオゾン濃度が低下してしまうという事態が生じ得る。そのため、オゾン水供給装置において、超純水の使用量を削減することができるとともに、オゾン濃度を安定化できる技術の開発が望まれていた。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたもので、ガス溶解液の原料となる液体を節約するとともに、生成されるガス溶解液の濃度を安定化することのできるガス溶解液供給装置を提供することを目的とする。
本発明のガス溶解液供給装置は、ガス溶解液の原料となるガスを供給するガス供給部と、前記ガス溶解液の原料となる液体を供給する液体供給部と、前記液体供給部から供給された液体に前記ガス供給部から供給されたガスを溶解させてガス溶解液を生成するガス溶解部と、前記ガス溶解部で生成されたガス溶解液が溜められるガス溶解液タンクと、前記ガス溶解液タンクからユースポイントにガス溶解液を供給するための供給配管と、前記ユースポイントに供給されるガス溶解液を前記ガス溶解部に戻すための戻し配管と、前記戻し配管に設けられ、前記ガス溶解部に戻されるガス溶解液の流量を測定する流量測定部と、前記戻し配管に設けられ、前記供給配管内の圧力を一定にする圧力調整部と、前記流量測定部の測定結果に応じて、前記液体供給部から前記ガス溶解部に供給される液体の流量を調整する流量調整部と、を備えている。
この構成によれば、ガス溶解部で液体(液体供給部から供給された液体)にガス(ガス供給部から供給されたガス)を溶解させることによって、ガス溶解液が生成されガス溶解液タンクに溜められる。ガス溶解液タンクからユースポイントに供給されるガス溶解液のうち、戻し配管からガス溶解部に戻されるガス溶解液の流量が測定され、戻し配管に設置された圧力調整部によって、ユースポイントへの供給配管内の圧力を一定にできる。また、測定結果に応じて液体供給部からガス溶解部に供給される液体の流量が調整される。これにより、ガス溶解部に供給される液体の節約が可能になる。
そのうえ、ガス溶解部に供給される液体の流量(液体供給部から供給される液体の流量と、戻し配管からガス溶解部に戻されるガス溶解液の流量をあわせた総流量)を一定にすれば、ガス溶解部に供給するガスの流量を一定にすることにより、気液の接触時間を一定にすることができ、ガスの溶解効率を一定にすることができるため、液体供給部から供給される液体の流量によって、発生オゾンガス濃度を制御するのみで容易に、生成されるガス溶解液の濃度を一定にすることができる。
また、本発明のガス溶解液供給装置では、前記供給配管に、前記ガス溶解液タンクから前記ユースポイントにガス溶解液を送り出すためのポンプが設けられ、前記ポンプは、エアー駆動式のポンプで構成されててもよい。
この構成によれば、ガス溶解液タンクからユースポイントにガス溶解液を送り出すためのポンプとして、エアー駆動式のポンプが用いられるので、ポンプの温度上昇が抑制され、その結果、ガス溶解液の温度が上昇するのを抑制することができる。これにより、戻し配管からガス溶解部に戻されるガス溶解液の温度上昇が抑えられるので、ガス溶解部でガスの溶解度が低下する(温度上昇に起因してガスが溶解しにくくなる)のを抑制することができる。エアー駆動式のポンプとしては、例えば、べローズポンプやダイヤフラムポンプなどを用いることができる。
また、本発明のガス溶解液供給装置では、前記供給配管に、前記ユースポイントに供給されるガス溶解液の流量を測定する第2の流量測定部が設けられ、前記流量調整部は、前記流量測定部の測定結果と前記第2の流量測定部の測定結果に応じて、前記液体供給部から前記ガス溶解部に供給される液体の流量を調整してもよい。
この構成によれば、戻し配管からガス溶解部に戻されるガス溶解液の流量が測定されるだけでなく、ガス溶解液タンクからユースポイントに供給されるガス溶解液が測定され、それらの測定結果に応じて液体供給部からガス溶解部に供給される液体の流量が調整される。これにより、ガス溶解部に供給される液体の節約が可能になる。
また、本発明のガス溶解液供給装置では、前記戻し配管に、前記ガス溶解部に戻されるガス溶解液の温度を測定する温度測定部が設けられてもよい。
この構成によれば、戻し配管からガス溶解部に戻されるガス溶解液の温度を測定することができるので、戻し配管からガス溶解部に戻されるガス溶解液の温度を把握してコントロールしやすくなる。これにより、戻し配管からガス溶解部に戻されるガス溶解液の温度上昇を抑えることができ、ガス溶解部でガスの溶解度が低下する(温度上昇に起因してガスが溶解しにくくなる)のを抑制することができる。
また、本発明のガス溶解液供給装置では、前記ガス溶解液の原料となるガスは、オゾンガスであり、前記ガス溶解液の原料となる液体は、純水であり、前記ガス溶解液は、オゾン水であってもよい。
この構成によれば、ガス溶解部に供給される純水の節約が可能になる。そのうえ、生成されるオゾン水の濃度(オゾン濃度)を一定にすることができる。
本発明のガス溶解液供給方法は、液体供給部から供給された液体にガス供給部から供給されたガスをガス溶解部で溶解させてガス溶解液を生成し、前記ガス溶解部で生成されたガス溶解液をガス溶解液タンクに溜め、前記ガス溶解液タンクからユースポイントに供給し、前記ユースポイントに供給されるガス溶解液のうち前記ガス溶解部に戻されるガス溶解液の流量を測定し、前記測定結果に応じて、前記液体供給部から前記ガス溶解部に供給される液体の流量を調整する。
この方法によっても、上記の装置と同様に、ガス溶解部に供給される液体の節約が可能になる。そのうえ、生成されるガス溶解液の濃度を一定にすることができる。
本発明によれば、ガス溶解液の原料となる液体を節約するとともに、生成されるガス溶解液の濃度を安定化することができる。
本発明の実施の形態におけるガス溶解液供給装置の構成を示す説明図である。 本発明の実施の形態におけるガス溶解液供給装置の他の例の構成を示す説明図である。 本発明の実施の形態におけるガス溶解液供給装置の更に他の例の構成を示す説明図である。
以下、本発明の実施の形態のガス溶解液供給装置について、図面を用いて説明する。本実施の形態では、純水にオゾンガスを溶解させてオゾン水を生成するオゾン水供給装置等の場合を例示する。
本発明の実施の形態のオゾン水供給装置の構成を、図面を参照して説明する。図1は、本実施の形態のオゾン水供給装置を示す説明図である。図1に示すように、オゾン水供給装置1は、オゾンガスの原料ガスを供給する原料ガス供給部2と、オゾン水の原料となるオゾンガスを原料ガスから生成する放電部3と、オゾン水の原料となる純水を供給する純水供給部4と、純水供給部4から供給された純水に原料ガス供給部2から供給されたガスを溶解させてオゾン水を生成するガス溶解部5と、ガス溶解部5で生成されたオゾン水が溜められる気液分離タンク6を備えている。
放電部3は、放電により原料ガスからオゾンガスを発生させる機能を備えている。原料ガスとしては、酸素ガスを主成分としたガスが用いられ、例えば、酸素ガスと窒素ガスの混合ガス、酸素ガスと炭酸ガスの混合ガス、酸素ガスと窒素ガスと炭酸ガスの混合ガス、酸素ガス、空気などが用いられる。また、原料ガス供給部2は、原料ガス供給部2から放電部3に供給する原料ガスの流量を調整することにより、ガス溶解部5に供給するオゾンガスの流量を調整する機能を備えている。
純水供給部4は、純水供給部4からガス溶解部5に供給する純水の流量を測定する純水流量計7と、純水供給部4からガス溶解部5に供給する純水の流量を調整する純水流量調整部8を備えている。
ガス溶解部5としては、例えば、エジェクタやアスピレータを使用することができる。エジェクタやアスピレータは、ベンチュリー効果を利用してオゾンガスを純水に溶解させることができる。エジェクタやアスピレータを使用した場合、中空糸膜を用いたオゾン溶解タンクに比べて、定期交換が不要になり、溶解率も向上する。
気液分離タンク6は、ガス溶解部5で溶解できなかったオゾンガスとオゾン水とを分離するためのタンクであり、オゾン水やオゾンガスに接する部分が、オゾン水やオゾンガスに耐性を有する材料(例えば、フッ素樹脂など)で構成されている。そして、気液分離タンク6は、気液分離タンク6に溜められたオゾン水の水位を測定する水位計9と、気液分離タンク6に溜められたオゾンガス(未溶解のオゾンガス)を酸素ガスに分解するオゾンガス分解器10を備えている。また、オゾン水供給装置1には、気液分離タンク6内の圧力を一定に保つ第1圧力調整部11が設けられている。
また、オゾン水供給装置1は、気液分離タンク6に溜められたオゾン水をユースポイント(半導体製造装置など)に送り出すためのポンプ12と、気液分離タンク6からユースポイントにオゾン水を供給するための供給配管13と、ユースポイントに供給するオゾン水を循環させてガス溶解部5に戻すための戻し配管14を備えている。
ポンプ12は、例えば、エアー駆動式のポンプで構成されている。ポンプ12は、オゾン水やオゾンガスに接する部分が、オゾン水やオゾンガスに耐性を有する材料(例えば、フッ素樹脂など)で構成されている。エアー駆動式のポンプとしては、例えば、べローズポンプやダイヤフラムポンプなどを用いることができる。
戻し配管14には、ガス溶解部5に戻されるオゾン水の流量を測定する第1流量計15が設けられている。また、供給配管13には、ユースポイントに供給されるオゾン水の流量を測定する第2流量計16が設けられている。また、供給配管13には、ユースポイントに供給されるオゾン水の圧力を測定する圧力センサ17が設けられており、戻し配管14には、供給配管13と戻し配管14内の圧力を一定に保つ第2圧力調整部18が設けられている。
第2圧力調整部18は、圧力センサ17で測定したオゾン水の圧力が一定になるように、開度を調整し制御する機能を備えている。また、図2に示すように、供給配管13に第3圧力調整部26を設置して圧力を調整してもよい。
純水流量調整部8は、第1流量計15と第2流量計16の測定結果に応じて、純水供給部4からガス溶解部5に供給する純水の流量を調整する。なお、第2流量計16は必ずしも必要ではない。第2流量計16が設けられていない場合には、純水流量調整部8は、ユースポイントで未使用時の第1流量計15の測定結果に応じて、純水供給部4からガス溶解部5に供給する純水の流量を調整する。
原料ガス供給部2は、ガス溶解部5に供給される液体の流量(純水供給部4からガス溶解部5に供給される純水の流量と、戻し配管14からガス溶解部5に供給されるオゾン水の流量をあわせた総流量)に応じて、オゾンガスの原料ガスの流量を調整することにより、放電部3からガス溶解部5に供給するオゾンガスの流量を調整する。
戻し配管14には、ガス溶解部5に戻されるオゾン水の温度を測定する温度計19が設けられている。なお、この温度計19は、必ずしも必要ではない。また、戻し配管14には、ガス溶解部5に供給されるオゾン水の濃度を計測するための濃度計20と、濃度計20のゼロ点を計測するためのゼロ点計測配管21が設けられている。
供給配管13には、ユースポイントに供給するオゾン水の一部をドレンから排水するための排水配管22が、分岐して設けられている。また、純水供給部4とガス溶解部5とを接続する配管には、純水供給部4の下流側に第1バルブ23が設けられており、ガス溶解部5の上流側に第2バルブ24が設けられている。さらに、戻し配管14には、第2圧力調整部18の下流側に第3バルブ25が設けられている。
このような本実施の形態のガス溶解液供給装置によれば、ガス溶解部5で純水にオゾンガスを溶解させることによって、オゾン水が生成され気液分離タンク6に溜められる。気液分離タンク6からユースポイントに供給されるオゾン水のうち、戻し配管14からガス溶解部5に戻されるオゾン水の流量が測定され、測定結果に応じて液体供給部からガス溶解部5に供給される純水の流量が調整される。これにより、ガス溶解部5に供給される純水の節約が可能になる。
本実施の形態では、戻し配管14からガス溶解部5に戻されるオゾン水の流量が測定されるだけでなく、気液分離タンク6からユースポイントに供給されるオゾン水が測定され、それらの測定結果に応じて液体供給部からガス溶解部5に供給される純水の流量が調整される。これにより、ガス溶解部5に供給される純水の節約が可能になる。
例えば、ユースポイントでのオゾン水の使用量がゼロの場合には、第1流量計15で測定した流量が最大値となり、第2流量計16で測定した流量がゼロとなる。このような測定結果が得られた場合には、第2バルブ24を閉じることにより、ガス溶解部5に供給される純水を節約することができる。
また、ユースポイントでのオゾン水の使用量が変化した場合には、第1流量計15と第2流量計16の測定結果に応じて、第2バルブ24を開けて、ガス溶解部5に供給される純水の流量を純水流量調整部8で調整する。これにより、ガス溶解部5に供給される純水を節約することができる。
このとき、ガス溶解部5に供給される液体の流量(液体供給部から供給される純水の流量と、戻し配管14からガス溶解部5に戻されるオゾン水の流量をあわせた総流量)を一定にすれば、ガス溶解部5に供給するオゾンガスの流量を一定にすることにより、気液の接触時間を一定にすることができ、オゾンガスの溶解効率を一定にすることができる。すなわち、容易に生成されるオゾン水の濃度を一定にすることができる。
また、本実施の形態では、気液分離タンク6からユースポイントにオゾン水を送り出すためのポンプ12として、エアー駆動式のポンプが用いられるので、ポンプ12の温度上昇が抑制され、その結果、オゾン水の温度が上昇するのを抑制することができる。これにより、戻し配管14からガス溶解部5に戻されるオゾン水の温度上昇が抑えられるので、ガス溶解部5でオゾンガスの溶解度が低下する(温度上昇に起因してオゾンガスが溶解しにくくなる)のを抑制することができる。
さらに、本実施の形態では、戻し配管14からガス溶解部5に戻されるオゾン水の温度を測定することができるので、戻し配管14からガス溶解部5に戻されるオゾン水の温度を把握してコントロールしやすくなる。これにより、戻し配管14からガス溶解部5に戻されるオゾン水の温度上昇を抑えることができ、ガス溶解部5でオゾンガスの溶解度が低下する(温度上昇に起因してオゾンガスが溶解しにくくなる)のを抑制することができる。
さらに、本実施の形態では、気液分離タンク6の圧力を0~100KPaに調整することができる第1圧力調整部11が設けられているので、気液分離タンク6に圧力を高くすることによって溶解度が上昇し供給オゾンガス量を少なくできる。但し、圧力を上げすぎるとエアー駆動式ポンプ12の動作を阻害し、ユースポイントから未使用用オゾン水が戻せなくなるので、気液分離タンク6の圧力の範囲は0~100KPaが望ましい。
以上、本発明の実施の形態を例示により説明したが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではなく、請求項に記載された範囲内において目的に応じて変更・変形することが可能である。
例えば、以上の説明では、純水にオゾンガスを溶解させてオゾン水を生成する循環式オゾン水供給装置1を例示して説明したが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。すなわち、原料となるガスはオゾンガスに限られず、また、原料となる液体も純水に限られない。例えば、純水に二酸化炭素を溶解させて炭酸水を製造してもよく、純水に窒素を溶解させて窒素水を製造してもよい。また、純水に水素を溶解させて水素水を製造してもよい。その他、本発明は、機能水を製造するためのガス溶解に適用することができる。
また、以上の説明では、戻し配管14がユースポイントに供給される前(ユースポイントの上流側)で分岐して設けられる例について説明したが、図3に示すように、戻し配管14はユースポイントを経由して(ユースポイントの下流側に)設けられてもよい。
以上のように、本発明にかかるガス溶解液供給装置は、ガス溶解液の原料となる液体を節約するとともに、生成されるガス溶解液の濃度を安定化することができるという効果を有し、例えば、純水にオゾンガスを溶解させてオゾン水を生成するオゾン水供給装置等として有用である。
1 オゾン水供給装置
2 原料ガス供給部
3 放電部(ガス供給部)
4 純水供給部(液体供給部)
5 ガス溶解部
6 気液分離タンク(ガス溶解液タンク)
7 純水流量計
8 純水流量調整部
9 水位計
10 オゾンガス分解器
11 第1圧力調整部
12 ポンプ
13 供給配管
14 戻し配管
15 第1流量計(流量測定部)
16 第2流量計(第2の流量測定部)
17 圧力センサ
18 第2圧力調整部
19 温度計(温度測定部)
20 濃度計
21 ゼロ点計測配管
22 排水配管
23 第1バルブ
24 第2バルブ
25 第3バルブ
26 第3圧力調整部

Claims (7)

  1. ガス溶解液の原料となるガスを供給するガス供給部と、
    前記ガス溶解液の原料となる液体を供給する液体供給部と、
    前記液体供給部から供給された液体に前記ガス供給部から供給されたガスを溶解させてガス溶解液を生成するガス溶解部と、
    前記ガス溶解部で生成されたガス溶解液が溜められるガス溶解液タンクと、
    前記ガス溶解液タンクからユースポイントにガス溶解液を供給するための供給配管と、
    前記ユースポイントに供給されるガス溶解液を前記ガス溶解部に戻すための戻し配管と、
    前記戻し配管に設けられ、前記ガス溶解部に戻されるガス溶解液の流量を測定する流量測定部と、
    前記戻し配管に設けられ、前記供給配管内の圧力を一定にする圧力調整部と、
    前記戻し配管に設けられた前記流量測定部の測定結果に応じて、前記液体供給部から前記ガス溶解部に供給される液体の流量を調整する流量調整部と、
    を備え、
    前記戻し配管は、前記ユースポイントの上流側で前記供給配管から分岐して、前記ガス溶解部へ接続されており、
    前記ガス溶解部では、前記液体供給部から供給された液体と前記戻し配管から戻されたガス溶解液に、前記ガス供給部から供給されたガスを溶解させることにより、前記ガス溶解部から前記ガス溶解液タンクへ送られて前記ガス溶解液タンクに溜められるガス溶解液が生成される、ガス溶解液供給装置。
  2. 前記供給配管には、前記ガス溶解液タンクから前記ユースポイントにガス溶解液を送り出すためのポンプが設けられ、
    前記ポンプは、エアー駆動式のポンプで構成されている、請求項1に記載のガス溶解液供給装置。
  3. 前記供給配管には、前記ユースポイントに供給されるガス溶解液の流量を測定する第2の流量測定部が設けられ、
    前記流量調整部は、前記流量測定部の測定結果と前記第2の流量測定部の測定結果に応じて、前記液体供給部から前記ガス溶解部に供給される液体の流量を調整する、請求項1または請求項2に記載のガス溶解液供給装置。
  4. 前記戻し配管には、前記ガス溶解部に戻されるガス溶解液の温度を測定する温度測定部が設けられている、請求項1~請求項3のいずれか一項に記載のガス溶解液供給装置。
  5. 前記ガス溶解液タンクの圧力を0~100KPaに調整することができる他の圧力調整部が設けられている、請求項1~請求項3のいずれか一項に記載のガス溶解液供給装置。
  6. 前記ガス溶解液の原料となるガスは、オゾンガスであり、
    前記ガス溶解液の原料となる液体は、純水であり、
    前記ガス溶解液は、オゾン水である、請求項1~請求項5のいずれか一項に記載のガス溶解液供給装置。
  7. ガス溶解液供給装置で実行されるガス溶解液供給方法であって、
    前記ガス溶解液供給方法は、
    液体供給部から供給された液体にガス供給部から供給されたガスをガス溶解部で溶解させてガス溶解液を生成することと、
    前記ガス溶解部で生成されたガス溶解液をガス溶解液タンクに溜めることと、
    前記ガス溶解液タンクから前記ガス溶解液を供給配管を介してユースポイントに供給することと、
    前記ユースポイントに供給されるガス溶解液を前記ガス溶解部に戻すための戻し配管において、前記ユースポイントに供給されるガス溶解液のうち前記ガス溶解部に戻されるガス溶解液の流量を測定することと、
    前記戻し配管において、前記供給配管内の圧力を一定にする圧力調整を行うことと、
    前記戻し配管における前記ガス溶解液の流量の測定結果に応じて、前記液体供給部から前記ガス溶解部に供給される液体の流量を調整することと、
    を含み、
    前記戻し配管は、前記ユースポイントの上流側で前記供給配管から分岐して、前記ガス溶解部へ接続されており、
    前記ガス溶解部では、前記液体供給部から供給された液体と前記戻し配管から戻されたガス溶解液に、前記ガス供給部から供給されたガスを溶解させることにより、前記ガス溶解部から前記ガス溶解液タンクへ送られて前記ガス溶解液タンクに溜められるガス溶解液が生成される、ガス溶解液供給方法。
JP2019104150A 2019-06-04 2019-06-04 ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法 Active JP7240260B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019104150A JP7240260B2 (ja) 2019-06-04 2019-06-04 ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法
TW109114895A TWI815010B (zh) 2019-06-04 2020-05-05 氣體溶解液供給裝置及氣體溶解液供給方法
SG10202005037PA SG10202005037PA (en) 2019-06-04 2020-05-28 Gas dissolution supply apparatus and gas dissolution supply method
US16/885,794 US11352274B2 (en) 2019-06-04 2020-05-28 Gas dissolution supply apparatus and gas dissolution supply method
KR1020200064882A KR102639443B1 (ko) 2019-06-04 2020-05-29 가스 용해액 공급 장치 및 가스 용해액 공급 방법
EP20177920.4A EP3747535B1 (en) 2019-06-04 2020-06-02 Gas dissolution supply apparatus and gas dissolution supply method
CN202010493049.0A CN112023736A (zh) 2019-06-04 2020-06-03 气体溶解液供给装置及气体溶解液供给方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019104150A JP7240260B2 (ja) 2019-06-04 2019-06-04 ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020195967A JP2020195967A (ja) 2020-12-10
JP7240260B2 true JP7240260B2 (ja) 2023-03-15

Family

ID=70977356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019104150A Active JP7240260B2 (ja) 2019-06-04 2019-06-04 ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11352274B2 (ja)
EP (1) EP3747535B1 (ja)
JP (1) JP7240260B2 (ja)
KR (1) KR102639443B1 (ja)
CN (1) CN112023736A (ja)
SG (1) SG10202005037PA (ja)
TW (1) TWI815010B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7412200B2 (ja) * 2020-02-06 2024-01-12 株式会社荏原製作所 ガス溶解液製造装置
KR102564803B1 (ko) 2021-05-20 2023-08-07 홍승훈 가스 용해 시스템
CN114057273B (zh) * 2021-11-22 2022-08-19 三峡大学 一种高溶解气水制备装置、高溶解气水制备方法及应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001137862A (ja) 1999-11-11 2001-05-22 Teeiku Wan Sogo Jimusho:Kk オゾン水製造装置
JP2003117364A (ja) 2001-10-19 2003-04-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 液体に気体を溶解させる装置及び方法並びに気体溶解済み液の製造方法
JP2005161284A (ja) 2003-11-28 2005-06-23 Nittetu Chemical Engineering Ltd 定濃度オゾン水の供給方法
JP2011224519A (ja) 2010-04-23 2011-11-10 Panasonic Electric Works Co Ltd 酸素水生成装置
JP2014117628A (ja) 2012-12-13 2014-06-30 Ebara Corp 循環式オゾン水供給方法、及び循環式オゾン水供給装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2749495B2 (ja) * 1993-03-15 1998-05-13 長廣 仁蔵 高濃度オゾン水製造方法及び高濃度オゾン水製造装置
JPH11244873A (ja) 1998-03-05 1999-09-14 Meidensha Corp 光触媒反応装置
US6561382B2 (en) * 2001-06-15 2003-05-13 S.I.P. Technologies, L.L.C. Method and apparatus for disinfecting a water cooler reservoir and its dispensing spigot(s)
US6805791B2 (en) 2000-09-01 2004-10-19 Applied Science And Technology, Inc. Ozonated water flow and concentration control apparatus
JP2002316027A (ja) 2001-04-19 2002-10-29 Ebara Corp ガス溶解水製造装置、およびその方法、超音波洗浄装置、およびその方法
KR200294901Y1 (ko) * 2002-07-18 2002-11-13 동우기연 주식회사 오존수 생성장치
TW201004707A (en) * 2008-05-19 2010-02-01 Entegris Inc Gasification systems and methods for making bubble free solutions of gas in liquid
JP6734621B2 (ja) * 2014-02-20 2020-08-05 オルガノ株式会社 オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置
JP6210917B2 (ja) * 2014-03-26 2017-10-11 トスレック株式会社 ナノバブル製造装置
JP6826437B2 (ja) * 2016-01-15 2021-02-03 株式会社荏原製作所 供給液体製造装置および供給液体製造方法
JP7051410B2 (ja) 2017-12-11 2022-04-11 富士通コンポーネント株式会社 印刷装置
CN208642344U (zh) * 2018-07-19 2019-03-26 苏州方舟环保科技有限公司 一种用于杀菌消毒的高浓度臭氧水制造设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001137862A (ja) 1999-11-11 2001-05-22 Teeiku Wan Sogo Jimusho:Kk オゾン水製造装置
JP2003117364A (ja) 2001-10-19 2003-04-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 液体に気体を溶解させる装置及び方法並びに気体溶解済み液の製造方法
JP2005161284A (ja) 2003-11-28 2005-06-23 Nittetu Chemical Engineering Ltd 定濃度オゾン水の供給方法
JP2011224519A (ja) 2010-04-23 2011-11-10 Panasonic Electric Works Co Ltd 酸素水生成装置
JP2014117628A (ja) 2012-12-13 2014-06-30 Ebara Corp 循環式オゾン水供給方法、及び循環式オゾン水供給装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN112023736A (zh) 2020-12-04
EP3747535B1 (en) 2022-05-18
US11352274B2 (en) 2022-06-07
US20200385295A1 (en) 2020-12-10
TWI815010B (zh) 2023-09-11
TW202100234A (zh) 2021-01-01
KR102639443B1 (ko) 2024-02-23
SG10202005037PA (en) 2021-01-28
EP3747535A1 (en) 2020-12-09
JP2020195967A (ja) 2020-12-10
KR20200139630A (ko) 2020-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7240260B2 (ja) ガス溶解液供給装置およびガス溶解液供給方法
KR102571000B1 (ko) 공급 액체 제조 방법
JP2019155221A (ja) 循環式ガス溶解液供給装置および循環式ガス溶解液供給方法
US8999069B2 (en) Method for producing cleaning water for an electronic material
WO2015125500A1 (ja) オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置
KR20170058928A (ko) 가스 용해수 제조 장치 및 제조 방법
KR102573112B1 (ko) 가스 용해액 제조 장치
JP4909648B2 (ja) 循環型オゾン水製造装置及び該装置の運転方法
WO2017122771A1 (ja) 供給液体製造装置および供給液体製造方法
TW201838930A (zh) 洗淨水供給裝置
TW202220746A (zh) 氣體溶解液供給裝置
JP2005262031A (ja) 循環式ガス溶解水供給装置及び該装置の運転方法
JP2010046570A (ja) 超音波処理装置用供給液の製造装置、超音波処理装置用供給液の製造方法及び超音波処理システム
JP7550720B2 (ja) ガス溶解液供給装置
JP2022185727A (ja) 供給液体製造装置
JP7052423B2 (ja) オゾン溶解水の製造装置及びこれを用いたオゾン溶解水の製造方法
US20240075410A1 (en) Gas solution supply apparatus
JP7292957B2 (ja) ガス溶解水製造装置および方法
JP2024032251A (ja) ウェハ洗浄水供給装置
JP2000000579A (ja) オゾン水製造装置
KR20050058752A (ko) 오존유니트

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210922

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220519

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220621

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220720

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221025

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221124

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230228

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230303

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7240260

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150