JP4910796B2 - 超純水製造システムの洗浄方法 - Google Patents
超純水製造システムの洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4910796B2 JP4910796B2 JP2007063688A JP2007063688A JP4910796B2 JP 4910796 B2 JP4910796 B2 JP 4910796B2 JP 2007063688 A JP2007063688 A JP 2007063688A JP 2007063688 A JP2007063688 A JP 2007063688A JP 4910796 B2 JP4910796 B2 JP 4910796B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrapure water
- cleaning
- ozone
- water production
- production system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
本発明は上記知見に基いて達成されたものであり、以下を要旨とする。
図1に示す超純水製造システムにおいて、以下の条件で洗浄を行った。
循環水量:6m3/h
循環水流速:1.0m/sec
オゾン発生量:24g/h
炭酸ガス添加濃度:3ppm
殺菌洗浄時間:20分(オゾン溶解装置5の一次側で溶存オゾン濃度0.4ppmが確
認されてからの時間)
アンモニア添加濃度:50ppm
微粒子除去洗浄時間:60分
この洗浄終了後に要した5時間を含めて、洗浄開始から通常状態へ復帰するのに全体で7時間であった。また、生菌数は0.001個/mLであった。
洗浄排水は工場全体のアルカリ廃液処理設備に排水したため、本洗浄で特別に排水処理設備を設ける必要はなかった。また、微細気泡はオゾンの自己分解により常温で生成されるため、昇温設備は不要であった。
実施例1で洗浄した超純水製造システムと同様の超純水製造システムについて、以下のような洗浄を行った。
殺菌剤として過酸化水素水100mg/Lを注入し、微細気泡を生成するために昇温設備を用いて、50℃に昇温した。過酸化水素と同時にアンモニアを50ppm添加して循環洗浄を行った。また、洗浄排水中の過酸化水素を失活させるために、別途、栗田工業(株)製過酸化水素処理剤(商品名:クリバーターK−300)を排水処理設備に添加した。洗浄は3時間行い、洗浄後に過酸化水素の濃度が0ppmとなるのに2時間要した。その後、微粒子数が保証水質(1個/mL)を満たすのに、5時間を要した。
洗浄後の生菌数は0.001個/mLであった。
2 超純水製造装置
3 ユースポイント
4 オゾンガス発生装置
5 オゾンガス溶解装置
6A,6B 溶存オゾンモニター
7 塩基性薬品添加装置
8A,8B pH計
Claims (6)
- 超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水供給配管を有する超純水製造システムの超純水接触面に付着した微粒子を除去すると共に、該システム内を殺菌する洗浄方法において、
該超純水製造システム内の水にオゾンを供給して系内を循環させることにより殺菌洗浄した後、該システム内にオゾンが残留している状態で塩基性薬品を供給して循環洗浄することにより、殺菌洗浄に連続して微粒子除去洗浄を行うことを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。 - 請求項1において、塩基性薬品を供給するときのシステム内の水の溶存オゾン濃度が0.2〜2ppmであることを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
- 請求項1又は2において、塩基性薬品がアンモニア、アンモニウム化合物、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ金属の酸化物、及びアルカリ性界面活性剤よりなる群から選ばれる1種又は2種以上であることを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、塩基性薬品添加後のシステム内の水のpHが9〜11であることを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
- 請求項1ないし4のいずれか1項において、塩基性薬品添加後のシステム内の水の溶存オゾン濃度が0.1ppm以下であることを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
- 請求項2ないし5のいずれか1項において、該システム内にオゾンを供給し、該システム内の水の溶存オゾン濃度が0.2〜2ppmとなった後、更に10〜30分循環殺菌洗浄を継続し、その後、該システム内の水の溶存オゾン濃度が0.2〜2ppmであるうちに塩基性薬品を供給して微粒子除去洗浄に移行することを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007063688A JP4910796B2 (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 超純水製造システムの洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007063688A JP4910796B2 (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 超純水製造システムの洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008221144A JP2008221144A (ja) | 2008-09-25 |
JP4910796B2 true JP4910796B2 (ja) | 2012-04-04 |
Family
ID=39840350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007063688A Expired - Fee Related JP4910796B2 (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 超純水製造システムの洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4910796B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101776017B1 (ko) | 2015-10-27 | 2017-09-07 | 세메스 주식회사 | 용존 오존 제거 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치, 용존 오존 제거 방법, 기판 세정 방법 |
KR101776020B1 (ko) | 2015-10-21 | 2017-09-07 | 세메스 주식회사 | 용존 가스 제거 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치, 용존 가스 제거 방법, 기판 세정 방법 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5779321B2 (ja) * | 2010-06-18 | 2015-09-16 | シャープ株式会社 | 高濃度オゾン水の製造方法及び高濃度オゾン水の製造装置 |
JP5573605B2 (ja) * | 2010-11-04 | 2014-08-20 | 住友金属鉱山株式会社 | 超純水製造システムおよびその洗浄方法、ならびにそれを用いた超純水の製造方法 |
JP2014000548A (ja) * | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 超純水製造システムの立ち上げ時の洗浄方法 |
JP6101044B2 (ja) * | 2012-10-29 | 2017-03-22 | 株式会社日立製作所 | 配管の洗浄方法及び配管の洗浄システム |
JP6734621B2 (ja) * | 2014-02-20 | 2020-08-05 | オルガノ株式会社 | オゾン水供給方法及びオゾン水供給装置 |
WO2019088015A1 (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-09 | 株式会社キッツ | 洗浄水処理装置と洗浄水処理方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002151459A (ja) * | 2000-11-10 | 2002-05-24 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄方法 |
JP2004026987A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Japan Organo Co Ltd | 超純水製造システムの洗浄方法 |
JP4449080B2 (ja) * | 2005-04-15 | 2010-04-14 | オルガノ株式会社 | 超純水製造供給装置の洗浄方法 |
-
2007
- 2007-03-13 JP JP2007063688A patent/JP4910796B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101776020B1 (ko) | 2015-10-21 | 2017-09-07 | 세메스 주식회사 | 용존 가스 제거 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치, 용존 가스 제거 방법, 기판 세정 방법 |
KR101776017B1 (ko) | 2015-10-27 | 2017-09-07 | 세메스 주식회사 | 용존 오존 제거 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치, 용존 오존 제거 방법, 기판 세정 방법 |
US10453672B2 (en) | 2015-10-27 | 2019-10-22 | Semes Co., Ltd. | Dissolved ozone removal unit, apparatus for treating substrate, method of removing dissolved ozone, and method of cleaning substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008221144A (ja) | 2008-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4910796B2 (ja) | 超純水製造システムの洗浄方法 | |
JP5072062B2 (ja) | 水素ガス溶解洗浄水の製造方法、製造装置及び洗浄装置 | |
JPWO2008120509A1 (ja) | 分離膜用洗浄剤、該洗浄剤の製造方法及び洗浄方法 | |
WO2009128327A1 (ja) | 電子材料用洗浄水、電子材料の洗浄方法及びガス溶解水の供給システム | |
CN205313291U (zh) | 冷却循环水综合处理系统 | |
KR101476864B1 (ko) | 유기물 제거 방법 및 장치 | |
JP4449080B2 (ja) | 超純水製造供給装置の洗浄方法 | |
JP4480061B2 (ja) | 超純水製造装置及び該装置における超純水製造供給システムの洗浄方法 | |
JP2015181973A (ja) | 膜ろ過システム、膜ろ過方法、および水中生物の飼育水の製造装置 | |
JP7090376B2 (ja) | 洗浄水処理装置と洗浄水処理方法 | |
JP5441714B2 (ja) | 純水の製造方法およびその装置、オゾン水製造方法およびその装置、並びに洗浄方法およびその装置 | |
KR100675375B1 (ko) | 해산어 양식장의 수질관리시스템 | |
JP2014093357A (ja) | オゾンガス溶解水の製造方法、及び電子材料の洗浄方法 | |
JP2002151459A (ja) | 洗浄方法 | |
JP4747659B2 (ja) | 超純水製造供給装置の洗浄方法 | |
JP2009240943A (ja) | イオン交換樹脂のコンディショニング方法 | |
JP2006278838A (ja) | 硫酸リサイクル型洗浄システム | |
TWI699245B (zh) | 超純水製造系統的洗淨方法 | |
JP2006239617A (ja) | 水処理方法及び水処理装置 | |
CN209778389U (zh) | 一种高效便捷的海水淡化车 | |
JP7387320B2 (ja) | 超純水又はガス溶解水供給システムの製造方法並びに洗浄方法 | |
JP2006181397A (ja) | 有機物及び酸化剤含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JP3998997B2 (ja) | 超純水供給管の殺菌方法 | |
JP2005081269A (ja) | 有機物含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JP2001079502A (ja) | オゾン水洗浄方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110121 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111220 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120102 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4910796 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150127 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |