JP2009240943A - イオン交換樹脂のコンディショニング方法 - Google Patents
イオン交換樹脂のコンディショニング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009240943A JP2009240943A JP2008091295A JP2008091295A JP2009240943A JP 2009240943 A JP2009240943 A JP 2009240943A JP 2008091295 A JP2008091295 A JP 2008091295A JP 2008091295 A JP2008091295 A JP 2008091295A JP 2009240943 A JP2009240943 A JP 2009240943A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exchange resin
- gas
- ion exchange
- water
- ultrapure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】イオン交換樹脂のコンディショニングに要する時間を短縮すると共に、超純水の使用量を少なくする。
【解決手段】イオン交換樹脂から不純物を除去するイオン交換樹脂のコンディショニング方法において、超純水にオゾンガス、窒素ガス、水素ガス、酸素ガス等の無機ガスを溶解したガス溶解水を用いてイオン交換樹脂を予備洗浄し、この際、必要に応じ超音波振動を加える。この予備洗浄工程の後、イオン交換樹脂を超純水で洗浄する。
【選択図】図1
【解決手段】イオン交換樹脂から不純物を除去するイオン交換樹脂のコンディショニング方法において、超純水にオゾンガス、窒素ガス、水素ガス、酸素ガス等の無機ガスを溶解したガス溶解水を用いてイオン交換樹脂を予備洗浄し、この際、必要に応じ超音波振動を加える。この予備洗浄工程の後、イオン交換樹脂を超純水で洗浄する。
【選択図】図1
Description
本発明はイオン交換樹脂から不純物を除去してイオン交換処理に使用するためのイオン交換樹脂のコンディショニング方法に関するものであり、特に、超純水製造用の新品のイオン交換樹脂に適用するのに好適なイオン交換樹脂のコンディショニング方法に関する。
半導体産業では、半導体製品の洗浄その他の用途に超純水が用いられているが、この超純水の水質に対する要望は厳しくなってきている。超純水中のナトリウムイオンなどは、半導体基板上に残留すると半導体製造に著しい支障をきたすため、半導体製造に用いられる超純水においては、微粒子、TOC(全有機炭素)と共に、ナトリウムイオンの低減が必要とされている。
超純水製造システムでは、脱酸素装置、逆浸透膜透過装置、1次脱イオン装置、紫外線酸化装置、2次脱イオン装置、限外濾過装置など異種の処理装置を組合せて超純水が製造されている。このような超純水製造システムにおいて、末端の脱イオン装置として設置される非再生型のイオン交換樹脂塔には、新品または使用頻度の比較的少ない強酸性カチオン交換樹脂および強塩基性アニオン交換樹脂を精製処理した、H形の強酸性カチオン交換樹脂、OH形の強塩基性アニオン交換樹脂が用いられている。通常は、このイオン交換樹脂塔としては、両イオン交換樹脂を混合した混床式イオン交換樹脂塔が採用され、18MΩ・cm以上の水質を得るようにしている。
この非再生型のイオン交換樹脂については、イオン除去性能と共に、樹脂自身からの不純物のリークを低減することが必要である。カチオン樹脂からリークするナトリウム量を低レベルとするために、アミン又はアミノアルコールと強塩基性アニオン交換樹脂とを接触させた後、高純度の純水で該アニオン交換樹脂を十分に洗浄することが特許3233257に記載されている。
また、特開平9-70546には、新品のイオン交換樹脂をヒドラジン、亜硫酸ナトリウムなどの還元剤水溶液と接触させた後、超純水で洗浄することにより、イオン交換処理に供された初期における溶存酸素放出量を低レベルとすることが記載されている。
特許3233257
特開平9-70546
しかしながら、これらの方法では、不純物溶出を十分に抑制するためのコンディショニング処理に長時間を要し、また洗浄に超純水を多量に必要とする。
本発明は、上記従来の問題点を解決し、イオン交換樹脂のコンディショニングを、短時間で、また超純水の使用量を少なくして行うことができる方法を提供することを目的とする。
請求項1のイオン交換樹脂のコンディショニング方法は、イオン交換樹脂から不純物を除去するイオン交換樹脂のコンディショニング方法において、超純水に無機ガスを溶解したガス溶解水を用いてイオン交換樹脂を予備洗浄する予備洗浄工程を有することを特徴とするものである。
請求項2のイオン交換樹脂のコンディショニング方法は、請求項1において、無機ガスがオゾンガス、窒素ガス、水素ガス及び酸素ガスからなる群から選ばれる少なくとも1種のガスであることを特徴とするものである。
請求項3のイオン交換樹脂のコンディショニング方法は、請求項1または2において、前記予備洗浄工程の後、前記イオン交換樹脂を超純水で洗浄する超純水洗浄工程を備えたことを特徴とするものである。
請求項4のイオン交換樹脂のコンディショニング方法は、請求項1ないし3のいずれか1項において、前記予備洗浄工程において、前記ガス溶解水に対し、超音波振動を加えることを特徴とするものである。
請求項5のイオン交換樹脂のコンディショニング方法は、請求項1ないし4のいずれか1項において、前記イオン交換樹脂が超純水製造用の脱イオン装置に使用されるイオン交換樹脂であることを特徴とするものである。
本発明によれば、無機ガス溶解水を用いることによって、超純水のみを用いる場合よりも短時間でイオン交換樹脂の洗浄を行うことができる。また、無機ガスは超純水中に不純物として残留しないので、予備洗浄後の超純水による洗浄時間を短くしたり、超純水による洗浄を不要とすることができる。
本発明では、予備洗浄工程において超音波を併用することにより、洗浄時間をさらに短縮することができる。
[純水、超純水の定義]
まず、本明細書で使用する純水、超純水の定義について説明する。
「純水」は、一般に、用途ごとに規定された純度の高い水を指称する。本明細書では、「一次純水」及び「二次純水」を以下の(A),(B)のように定義する。また、本明細書では、二次純水と、二次純水をさらに処理して得られる三次純水などの高次に処理した純水を「高次純水」と指称し、「超純水」はこの「高次純水」を指称するものとする。
(A)一次純水・・・電気比抵抗:10MΩ・cm以上18MΩ・cm未満
TOC:5ppb以上〜50ppb未満
(B)二次純水 ・・・電気比抵抗:18MΩ・cm以上
金属イオン濃度:5ng/L以下
残留イオン濃度:10ng/L以下
微粒子数:1mL中の0.1μm以下の微粒子数が5個以下
TOC:1ppb以上〜10ppb未満
まず、本明細書で使用する純水、超純水の定義について説明する。
「純水」は、一般に、用途ごとに規定された純度の高い水を指称する。本明細書では、「一次純水」及び「二次純水」を以下の(A),(B)のように定義する。また、本明細書では、二次純水と、二次純水をさらに処理して得られる三次純水などの高次に処理した純水を「高次純水」と指称し、「超純水」はこの「高次純水」を指称するものとする。
(A)一次純水・・・電気比抵抗:10MΩ・cm以上18MΩ・cm未満
TOC:5ppb以上〜50ppb未満
(B)二次純水 ・・・電気比抵抗:18MΩ・cm以上
金属イオン濃度:5ng/L以下
残留イオン濃度:10ng/L以下
微粒子数:1mL中の0.1μm以下の微粒子数が5個以下
TOC:1ppb以上〜10ppb未満
[超純水製造システム]
超純水製造システムは前処理装置、一次純水製造装置、二次純水製造装置といった3段の装置で構成されることが多い。
超純水製造システムは前処理装置、一次純水製造装置、二次純水製造装置といった3段の装置で構成されることが多い。
図1(a)は一次純水を製造し、この一次純水をさらに処理して二次純水を製造するフローの一例を示している。図1(b)は、二次純水をさらに処理して三次純水を製造するフローの一例を示している。
前処理装置では、原水の濾過、凝集沈殿、精密濾過(MF)などによる処理が施され、主に懸濁物質が除去される。この前処理によって通常、微粒子数は103個/mL以下となる。
一次純水製造装置は、逆浸透膜分離装置(RO)、脱気装置、再生型脱イオン装置(混床式又は4床5塔式など)、電気脱イオン装置、紫外線照射酸化装置(UV)等の酸化装置などを備え、大半の電解質、微粒子、生菌等の除去を行うものである。一次純水製造装置は、図1(a)のように2基の逆浸透膜分離装置及び再生型混床式脱イオン装置で構成されるか、又は、再生型イオン交換純水装置及び逆浸透膜分離装置で構成されることが多い。
二次純水製造装置は、給水ポンプ、熱交換器、低圧紫外線酸化装置(UV)又は殺菌装置といった紫外線照射装置、非再生型混床式脱イオン装置又は電気脱イオン装置、限外濾過装置(UF)又は精密濾過装置(MF)等の膜濾過装置で構成されるが、更に膜式脱気装置、真空式脱気装置等の脱気装置、逆濾過膜分離装置(RO)、電気イオン塩装置等の脱塩装置が設けられていても良い。
三次純水製造装置は、低圧紫外線酸化装置(UV)を備え、その後段に非再生型混床式脱イオン装置及び限外濾過装置(UF)が設置されるのが通常である。これらの装置を用いて二次純水を処理することにより、純水中のTOCやイオンや微粒子数をさらに低減させる。
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
[イオン交換樹脂]
本発明において、コンディショニングの対象とするイオン交換樹脂は、アニオン交換樹脂、カチオン交換樹脂、両性イオン交換樹脂のいずれでもよく、これらの2以上の混合物たとえばアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂との混合物であってもよい。
[イオン交換樹脂]
本発明において、コンディショニングの対象とするイオン交換樹脂は、アニオン交換樹脂、カチオン交換樹脂、両性イオン交換樹脂のいずれでもよく、これらの2以上の混合物たとえばアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂との混合物であってもよい。
このイオン交換樹脂は、超純水の製造プロセスに用いられる非再生型の混床式脱イオン装置等のイオン交換装置のイオン交換樹脂が好適であるが、ユースポイントの直前に設置されるイオン交換フィルタのイオン交換樹脂であってもよく、電気脱イオン装置の脱塩室のイオン交換樹脂などであってもよい。
[ガス溶解水]
ガス溶解水製造のために超純水に溶解する無機ガスは特に限定されず、オゾンガス、窒素ガス、水素ガス、炭素ガス、精製した空気、アルゴンガス、ヘリウムガス、炭酸ガスなどが挙げられるが、特にオゾンガス、窒素ガス、水素ガス、酸素ガスが好ましい。また具体的には超純水にてこれらの1種のみを溶解させるか、オゾンと酸素など複数種を溶解させてガス溶解水を製造することができる。
ガス溶解水製造のために超純水に溶解する無機ガスは特に限定されず、オゾンガス、窒素ガス、水素ガス、炭素ガス、精製した空気、アルゴンガス、ヘリウムガス、炭酸ガスなどが挙げられるが、特にオゾンガス、窒素ガス、水素ガス、酸素ガスが好ましい。また具体的には超純水にてこれらの1種のみを溶解させるか、オゾンと酸素など複数種を溶解させてガス溶解水を製造することができる。
ガス溶解水の無機ガス濃度が高すぎると、イオン交換樹脂を劣化させるおそれがあり、またこの濃度が低すぎると、洗浄効果が弱くなる。そこで、無機ガスとしてオゾンガスを用いる場合、ガス溶解水のオゾン濃度は10〜100mg/L、特に20〜80mg/L程度が好ましい。窒素ガスを用いる場合、ガス溶解水の窒素濃度は12〜14mg/L程度が好ましい。水素ガスを用いる場合、ガス溶解水の水素濃度は1〜1.5mg/L程度が好ましい。また、酸素ガスを用いた場合、ガス溶解水の酸素濃度は10〜100mg/L、特に20〜80mg/L程度が好ましい。
ガス溶解水は、上記無機ガスを超純水に溶解させたものであり、例えば次の手順(1)〜(4)によって製造することができるが、製造手順はこれに限定されない。
(1) 原水を前処理して懸濁物質を除去する。前処理手段としては前記のものを用いる
ことができる。
(2) 前処理水を脱イオン処理及びTOC除去処理して一次純水を製造する。
(3) 一次純水をさらに精製して二次純水(超純水)を製造する。
(4) 超純水に無機ガスを溶解してガス溶解水を製造する。
(1) 原水を前処理して懸濁物質を除去する。前処理手段としては前記のものを用いる
ことができる。
(2) 前処理水を脱イオン処理及びTOC除去処理して一次純水を製造する。
(3) 一次純水をさらに精製して二次純水(超純水)を製造する。
(4) 超純水に無機ガスを溶解してガス溶解水を製造する。
このうち(4)の超純水に無機ガスを溶解させる方法については、各種の方法を使用することができる。例えば、ガス溶解膜を通して所望の無機ガスを超純水に溶解させる方法や、超純水を電気分解することによって、アノード電極で主に酸素、オゾンを含むアノード水、カソード電極で主に水素を含むカソード水を生成する方法等を使用することができる。
[イオン交換樹脂のコンディショニング手順]
コンディショニングするイオン交換樹脂は、イオン交換装置や電気脱イオン装置など(以下、イオン交換装置等ということがある。)に充填される前のものであってもよく、イオン交換装置等に充填されたものであってもよい。
コンディショニングするイオン交換樹脂は、イオン交換装置や電気脱イオン装置など(以下、イオン交換装置等ということがある。)に充填される前のものであってもよく、イオン交換装置等に充填されたものであってもよい。
イオン交換装置等に充填される前のイオン交換樹脂をコンディショニングするには、イオン交換樹脂を容器に収容し、まずガス溶解水を供給し、好ましくは、その後、該容器に超純水を通水して洗浄(リンス)する。
イオン交換装置等に充填されたイオン交換樹脂をコンディショニングするには、イオン交換装置等にガス溶解水を供給して予備洗浄し、好ましくはその後、イオン交換装置等に超純水を通水して洗浄(リンス)する。
上記のガス溶解水の供給は、容器又はイオン交換装置等にガス溶解水を連続的に通水するものであってもよく、通水を停止してイオン交換樹脂をガス溶解水に浸漬しておくだけでもよいが、前者のようにガス溶解水を連続的に通水するのが好ましい。このように連続的に通水する場合、SVは10〜200hr−1程度特に20〜100hr−1程度が好適であるが、これに限定されない。ガス溶解水の通水は、容器又はイオン交換装置から流出する予備洗浄排水中のカチオン(例えばNa+又はK+)濃度を測定し、この濃度が規定値以下となるまで行うようにするのが好ましい。この濃度の規定値は、10ng/L未満、特に1ng/L未満とするのが好ましい。
<超音波振動>
このガス溶解水による予備洗浄に際して、超音波振動をガス溶解水に加えてもよい。ガス溶解水に超音波振動を加えるには、イオン交換樹脂を収容した容器又はイオン交換装置等に超音波発振器を取り付けるのが好適であるが、容器又はイオン交換装置等の内部に超音波発振器を配置してもよい。イオン交換樹脂をガス溶解水で予備洗浄する場合に用いられる超音波発振器の出力は、イオン交換樹脂1m3当り0.1〜100kW程度であればよいが、これに限定されない。
このガス溶解水による予備洗浄に際して、超音波振動をガス溶解水に加えてもよい。ガス溶解水に超音波振動を加えるには、イオン交換樹脂を収容した容器又はイオン交換装置等に超音波発振器を取り付けるのが好適であるが、容器又はイオン交換装置等の内部に超音波発振器を配置してもよい。イオン交換樹脂をガス溶解水で予備洗浄する場合に用いられる超音波発振器の出力は、イオン交換樹脂1m3当り0.1〜100kW程度であればよいが、これに限定されない。
<超純水によるリンス>
ガス溶解水による予備洗浄後は、超純水による洗浄(リンス)を行うのが好ましい。この超純水による洗浄は、超純水を上記の容器又はイオン交換装置等に連続的に通水することにより行われるのが好適である。この場合も、容器又はイオン交換装置等から流出するリンス排水中のカチオン濃度を測定し、この濃度が所定値以下となるまで継続するのが好適である。この所定値は10ng/L未満、特に1ng/L未満とすることが好ましい。
ガス溶解水による予備洗浄後は、超純水による洗浄(リンス)を行うのが好ましい。この超純水による洗浄は、超純水を上記の容器又はイオン交換装置等に連続的に通水することにより行われるのが好適である。この場合も、容器又はイオン交換装置等から流出するリンス排水中のカチオン濃度を測定し、この濃度が所定値以下となるまで継続するのが好適である。この所定値は10ng/L未満、特に1ng/L未満とすることが好ましい。
以下、実施例及び比較例について説明する。
[実施例1]
超純水(二次純水)にオゾンガスを濃度30mg/Lとなるように溶解したオゾンガス溶解水を調製した。新品アニオン交換樹脂(タウケミカル社製「DOW EX MONOSPHERE550AUPW(OH)」)100Lを脱イオン装置に充填した。この脱イオン装置のケーシング外面に超音波発振器(出力10kW)をとりつけて作動させた。オゾンガス溶解水をこの脱イオン装置に下降流でSV50hr−1にて通水し、イオン交換樹脂の予備洗浄を行い、洗浄排水中のNa+濃度が1ng/L以下となるまでの洗浄時間を測定した。その後、超純水をSV50hr−1で通水し、流出水(リンス排水)中のNa+濃度が10ng/L未満となるまで通水を行い、その後、通水を停止してコンディショニングを終了した。
超純水(二次純水)にオゾンガスを濃度30mg/Lとなるように溶解したオゾンガス溶解水を調製した。新品アニオン交換樹脂(タウケミカル社製「DOW EX MONOSPHERE550AUPW(OH)」)100Lを脱イオン装置に充填した。この脱イオン装置のケーシング外面に超音波発振器(出力10kW)をとりつけて作動させた。オゾンガス溶解水をこの脱イオン装置に下降流でSV50hr−1にて通水し、イオン交換樹脂の予備洗浄を行い、洗浄排水中のNa+濃度が1ng/L以下となるまでの洗浄時間を測定した。その後、超純水をSV50hr−1で通水し、流出水(リンス排水)中のNa+濃度が10ng/L未満となるまで通水を行い、その後、通水を停止してコンディショニングを終了した。
この予備洗浄及びリンス洗浄に要した時間を表1に示す。
表1に示す通り、コンディショニングに要した合計時間は10時間12分であり、短時間でコンディショニングすることができた。また、超純水の消費量は、合計で510m3で足りた。
[実施例2]
実施例1において、オゾンガスの代わりに水素ガスを濃度1.5mg/Lとなるように溶解した水素ガス溶解水を用いたことを以外は実施例1と同一の条件としてコンディショニングを行った。
実施例1において、オゾンガスの代わりに水素ガスを濃度1.5mg/Lとなるように溶解した水素ガス溶解水を用いたことを以外は実施例1と同一の条件としてコンディショニングを行った。
この予備洗浄及びリンス洗浄に要した時間を表1に示す。
表1に示す通り、コンディショニングに要した合計時間は10時間12分であり短時間でコンディショニングすることができた。また、超純水の消費量は、合計で510m3で足りた。
[実施例3]
実施例1において、超音波発振器を作動させないようにした以外は同一条件にてコンディショニングを行った。
実施例1において、超音波発振器を作動させないようにした以外は同一条件にてコンディショニングを行った。
この予備洗浄及びリンス洗浄に要した時間を表1に示す。
表1の通り、予備洗浄時間は16時間であり、次に述べる比較例よりも十分に短いが、実施例1,2に比べると若干長くなった。また、超純水の消費量は、合計で810m3で足りた。
[比較例1]
実施例1において、オゾンガス溶解水の代わりに超純水を用いたこと以外は同一条件にてコンディショニングを行った。
実施例1において、オゾンガス溶解水の代わりに超純水を用いたこと以外は同一条件にてコンディショニングを行った。
この予備洗浄及びリンス洗浄に要した時間を表1に示す。
表1の通り、予備洗浄時間及びリンス洗浄時間はいずれも32時間と非常に長時間になり、各洗浄に要した超純水量もそれぞれ1600m3(合計で3200m3)であり、著しく多量となった。
以上の実施例及び比較例より明らかな通り、本発明によるとイオン交換樹脂のコンディショニングを著しく短時間で行うことができ、超純水の使用量も著しく少量で足りる。また、予備洗浄時に超音波振動を加えることにより、予備洗浄時間をさらに短縮可能であることが認められた。
Claims (5)
- イオン交換樹脂から不純物を除去するイオン交換樹脂のコンディショニング方法において、
超純水に無機ガスを溶解したガス溶解水を用いてイオン交換樹脂を予備洗浄する予備洗浄工程を有することを特徴とするイオン交換樹脂のコンディショニング方法。 - 請求項1において、無機ガスがオゾンガス、窒素ガス、水素ガス及び酸素ガスからなる群から選ばれる少なくとも1種のガスであることを特徴とするイオン交換樹脂のコンディショニング方法。
- 請求項1または2において、前記予備洗浄工程の後、前記イオン交換樹脂を超純水で洗浄する超純水洗浄工程を備えたことを特徴とするイオン交換樹脂のコンディショニング方法。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、前記予備洗浄工程において、前記ガス溶解水に対し、超音波振動を加えることを特徴とするイオン交換樹脂のコンディショニング方法。
- 請求項1ないし4のいずれか1項において、前記イオン交換樹脂が超純水製造用の脱イオン装置に使用されるイオン交換樹脂であることを特徴とするイオン交換樹脂のコンディショニング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008091295A JP2009240943A (ja) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | イオン交換樹脂のコンディショニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008091295A JP2009240943A (ja) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | イオン交換樹脂のコンディショニング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009240943A true JP2009240943A (ja) | 2009-10-22 |
Family
ID=41303485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008091295A Pending JP2009240943A (ja) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | イオン交換樹脂のコンディショニング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009240943A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011088070A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂精製装置用の超純水製造方法及び製造装置 |
JP2011110515A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置 |
JP2012154634A (ja) * | 2011-01-21 | 2012-08-16 | Kurita Water Ind Ltd | 非再生型イオン交換樹脂装置の破過時期予測方法及び保守方法 |
JP2016129861A (ja) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | オルガノ株式会社 | 電気式脱イオン水製造装置の運転方法、及び電気式脱イオン水製造装置を備えた純水製造システム |
JP2018001106A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
-
2008
- 2008-03-31 JP JP2008091295A patent/JP2009240943A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011088070A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂精製装置用の超純水製造方法及び製造装置 |
JP2011110515A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置 |
JP2012154634A (ja) * | 2011-01-21 | 2012-08-16 | Kurita Water Ind Ltd | 非再生型イオン交換樹脂装置の破過時期予測方法及び保守方法 |
JP2016129861A (ja) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | オルガノ株式会社 | 電気式脱イオン水製造装置の運転方法、及び電気式脱イオン水製造装置を備えた純水製造システム |
JP2018001106A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI648093B (zh) | 超純水製造裝置以及超純水製造方法 | |
TWI414486B (zh) | Pure water manufacturing apparatus and pure water manufacturing method | |
JP2003205299A (ja) | 水素溶解水製造装置 | |
WO2015012054A1 (ja) | ホウ素含有水の処理方法及び装置 | |
JP4480061B2 (ja) | 超純水製造装置及び該装置における超純水製造供給システムの洗浄方法 | |
JP2011110515A (ja) | イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置 | |
JP5441714B2 (ja) | 純水の製造方法およびその装置、オゾン水製造方法およびその装置、並びに洗浄方法およびその装置 | |
JP2009240943A (ja) | イオン交換樹脂のコンディショニング方法 | |
TWI808053B (zh) | 超純水製造系統及超純水製造方法 | |
JP2005000828A (ja) | 純水製造装置 | |
JP2011161418A (ja) | 超純水製造システムの洗浄方法 | |
TW202140384A (zh) | 純水製造方法、純水製造系統、超純水製造方法及超純水製造系統 | |
JP2000317457A (ja) | 純水の製造方法 | |
TWI756249B (zh) | 再生式離子交換裝置及其運轉方法 | |
JP4810757B2 (ja) | 超純水製造用限外ろ過膜およびその予備洗浄方法 | |
JP2001170630A (ja) | 純水製造装置 | |
JPH09253638A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2009160500A (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
JP6924300B1 (ja) | 排水処理方法、超純水製造方法及び排水処理装置 | |
JPH0780259A (ja) | 逆浸透膜および逆浸透膜分離素子の処理方法 | |
JPH10216749A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP5640825B2 (ja) | 水処理方法及び水処理システム | |
JP2002001069A (ja) | 純水製造方法 | |
JP3674475B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
JP6407734B2 (ja) | 電気式脱イオン水製造装置の運転方法、及び電気式脱イオン水製造装置を備えた純水製造システム |