JPH09253638A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
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- JPH09253638A JPH09253638A JP7051196A JP7051196A JPH09253638A JP H09253638 A JPH09253638 A JP H09253638A JP 7051196 A JP7051196 A JP 7051196A JP 7051196 A JP7051196 A JP 7051196A JP H09253638 A JPH09253638 A JP H09253638A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 微量の有機物を含む被処理水の有機物を、２
次純水製造ラインにおけるイオン交換装置の負荷を増大
させたり、微粒子数を増大させたりせずに、運転コスト
を安く、ほぼ完全に除去することを可能とした超純水製
造装置を提供すること。 【解決手段】 １次純水をカチオン交換した後、含有さ
れた有機物を分解するために非処理水に紫外線を照射し
て膜脱気を行い、前記非処理水中に含まれた二酸化炭素
等の溶存気体を除去する。次いで、二酸化炭素等の溶存
気体が除去された被処理水に対してイオン交換を行うこ
とにより、処理水中に含まれた溶存イオンを除去する。
次純水製造ラインにおけるイオン交換装置の負荷を増大
させたり、微粒子数を増大させたりせずに、運転コスト
を安く、ほぼ完全に除去することを可能とした超純水製
造装置を提供すること。 【解決手段】 １次純水をカチオン交換した後、含有さ
れた有機物を分解するために非処理水に紫外線を照射し
て膜脱気を行い、前記非処理水中に含まれた二酸化炭素
等の溶存気体を除去する。次いで、二酸化炭素等の溶存
気体が除去された被処理水に対してイオン交換を行うこ
とにより、処理水中に含まれた溶存イオンを除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶や半導体素子
を製造する電子工業、原子力発電所、医薬製造工場等で
広く利用される超純水の製造装置に係り、特に、水中に
微量存在する有機物をイオン交換装置の負荷を増大させ
ずに除去するようにした超純水製造装置に関する。
を製造する電子工業、原子力発電所、医薬製造工場等で
広く利用される超純水の製造装置に係り、特に、水中に
微量存在する有機物をイオン交換装置の負荷を増大させ
ずに除去するようにした超純水製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶や半導体素子（ＬＳＩ）の集
積度の向上にともない、シリコンウエハ等の基板表面上
への極微量物質による汚染の影響が大きな問題となって
おり、これらの製造プロセスで使用される超純水の清浄
度向上に対する要求は益々高まっている。
積度の向上にともない、シリコンウエハ等の基板表面上
への極微量物質による汚染の影響が大きな問題となって
おり、これらの製造プロセスで使用される超純水の清浄
度向上に対する要求は益々高まっている。
【０００３】一般に、超純水を製造する設備は、凝集槽
や二層濾過器により原水中の濁質やコロイド物質を凝集
・沈澱・瀘過する前処理ラインと、逆浸透装置（ＲＯ）
または２床３塔型イオン交換装置と混床式イオン交換塔
を組合せて大部分のイオンなどの溶解性物質や微粒子を
除去する１次純水ラインと、カートリッジ式イオン交換
塔、逆浸透装置、限界濾過装置（ＵＦ）、紫外線殺菌装
置（ＵＶ）等により１次純水をさらに精製し、有機物や
残留イオン、微粒子、溶存気体等を除去する２次純水ラ
インとから構成されている。
や二層濾過器により原水中の濁質やコロイド物質を凝集
・沈澱・瀘過する前処理ラインと、逆浸透装置（ＲＯ）
または２床３塔型イオン交換装置と混床式イオン交換塔
を組合せて大部分のイオンなどの溶解性物質や微粒子を
除去する１次純水ラインと、カートリッジ式イオン交換
塔、逆浸透装置、限界濾過装置（ＵＦ）、紫外線殺菌装
置（ＵＶ）等により１次純水をさらに精製し、有機物や
残留イオン、微粒子、溶存気体等を除去する２次純水ラ
インとから構成されている。
【０００４】２次純水ラインにおいては、有機物は紫外
線照射装置により二酸化炭素や有機酸等に酸化分解する
工程を経てイオン交換装置によって除去され、微粒子や
無機イオン類は、逆浸透装置、限外濾過装置、イオン交
換装置等を通過する過程で除去される。
線照射装置により二酸化炭素や有機酸等に酸化分解する
工程を経てイオン交換装置によって除去され、微粒子や
無機イオン類は、逆浸透装置、限外濾過装置、イオン交
換装置等を通過する過程で除去される。
【０００５】ところで、このように、微量有機物を紫外
線照射により二酸化炭素にまで分解し、この二酸化炭素
をイオン交換装置で無機炭酸イオンとして除去するよう
にした装置においては、炭素ガスから生じた各種イオン
によってイオン交換装置の負荷が増大し、他の無機イオ
ンの除去に影響を来したり、運転コストが高くなるとい
う問題があった。
線照射により二酸化炭素にまで分解し、この二酸化炭素
をイオン交換装置で無機炭酸イオンとして除去するよう
にした装置においては、炭素ガスから生じた各種イオン
によってイオン交換装置の負荷が増大し、他の無機イオ
ンの除去に影響を来したり、運転コストが高くなるとい
う問題があった。
【０００６】なお、二酸化炭素などの溶存気体を除去す
る方法としては、曝気処理装置、真空脱気装置、加熱処
理装置、逆浸透装置などによる方法が存在するが、曝気
処理装置や真空脱気装置は装置が大掛りであって、しか
も発塵も多く半導体素子（ＶＬＳＩ）等の製造ライン用
の超純水の製造には不適当であり、加熱処理装置は運転
コストが高く、逆浸透装置は溶存気体が低濃度の場合に
は除去性が低く２次純水ラインに使用することが難しい
という問題があった。
る方法としては、曝気処理装置、真空脱気装置、加熱処
理装置、逆浸透装置などによる方法が存在するが、曝気
処理装置や真空脱気装置は装置が大掛りであって、しか
も発塵も多く半導体素子（ＶＬＳＩ）等の製造ライン用
の超純水の製造には不適当であり、加熱処理装置は運転
コストが高く、逆浸透装置は溶存気体が低濃度の場合に
は除去性が低く２次純水ラインに使用することが難しい
という問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題を解消すべくなされたもので、微量の有機物を含む
被処理水の有機物を、２次純水製造ラインにおけるイオ
ン交換装置の負荷を増大させたり、微粒子数を増大させ
たりせずに、運転コストを安く、ほぼ完全に除去するこ
とを可能とした超純水製造装置を提供することを目的と
する。
問題を解消すべくなされたもので、微量の有機物を含む
被処理水の有機物を、２次純水製造ラインにおけるイオ
ン交換装置の負荷を増大させたり、微粒子数を増大させ
たりせずに、運転コストを安く、ほぼ完全に除去するこ
とを可能とした超純水製造装置を提供することを目的と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明による超純水製造
装置は、微量の有機物を含む被処理水に紫外線を照射し
て前記有機物を分解する手段と、有機物の分解された被
処理水を膜脱気して発生したガス成分を除去する手段
と、膜脱気後の被処理水からイオン成分を除去する手段
とを、被処理水の流路に沿って順に設けてなることを特
徴としている。
装置は、微量の有機物を含む被処理水に紫外線を照射し
て前記有機物を分解する手段と、有機物の分解された被
処理水を膜脱気して発生したガス成分を除去する手段
と、膜脱気後の被処理水からイオン成分を除去する手段
とを、被処理水の流路に沿って順に設けてなることを特
徴としている。
【０００９】本発明においては、被処理水である１次純
水は、まずｐＨを低くして全無機炭酸（ＴＩＣ）を効果
的に減少させるためにカチオン交換樹脂塔を通過させて
カチオン交換される。次いで、カチオン交換された１次
純水に紫外線が照射が照射され微量含有する有機物は二
酸化炭素に分解され、次いで膜脱気によって二酸化炭素
を含む溶存気体は除去される。この後、除去し切れなか
った二酸化炭素はイオン交換手段のイオン交換樹脂界面
でＨＣＯ3 - やＣＯ3 --となり、他のアニオン成分と共
に補足除去される。
水は、まずｐＨを低くして全無機炭酸（ＴＩＣ）を効果
的に減少させるためにカチオン交換樹脂塔を通過させて
カチオン交換される。次いで、カチオン交換された１次
純水に紫外線が照射が照射され微量含有する有機物は二
酸化炭素に分解され、次いで膜脱気によって二酸化炭素
を含む溶存気体は除去される。この後、除去し切れなか
った二酸化炭素はイオン交換手段のイオン交換樹脂界面
でＨＣＯ3 - やＣＯ3 --となり、他のアニオン成分と共
に補足除去される。
【００１０】本発明は、通常、１次純水を処理して２次
純水を得る２次純水ラインに使用される。
純水を得る２次純水ラインに使用される。
【００１１】本発明の対象となる「１次純水」は、原水
中の濁質やコロイド物質を、凝集槽や二層濾過器により
凝集・沈澱・瀘過して前処理し、さらに、逆浸透装置ま
たは２床３塔型イオン交換装置と混床式イオン交換塔を
組合せて大部分のイオンなどの溶解性物質や微粒子を除
去することにより得られたものであるが、この１次純水
中には、通常、数十ｐｐｂ程度の有機物が溶解してい
る。
中の濁質やコロイド物質を、凝集槽や二層濾過器により
凝集・沈澱・瀘過して前処理し、さらに、逆浸透装置ま
たは２床３塔型イオン交換装置と混床式イオン交換塔を
組合せて大部分のイオンなどの溶解性物質や微粒子を除
去することにより得られたものであるが、この１次純水
中には、通常、数十ｐｐｂ程度の有機物が溶解してい
る。
【００１２】本発明における、紫外線を照射して有機物
を分解する手段としては、波長２２０ｎｍ以下で、主ピ
ークが１８５ｎｍにある低圧あるいは中圧水銀ランプの
ような紫外線照射装置が適している。
を分解する手段としては、波長２２０ｎｍ以下で、主ピ
ークが１８５ｎｍにある低圧あるいは中圧水銀ランプの
ような紫外線照射装置が適している。
【００１３】本発明に使用される、膜脱気して被処理水
中のガス成分を除去する手段としては、テフロン系やシ
リコンゴム系などの水を通さない疎水性の高分子膜を用
いた膜脱気装置があり、透過側を真空にすることにより
液中の溶存ガスが除去されるようになっている。なお、
二酸化炭素はｐＨによって溶解する形態が異なり、ｐＨ
が５以下ではイオン化していたＨＣＯ3 - やＣＯ3 --の
大部分がＣＯ2 で溶解するようになり、真空度１０Ｔｏ
ｒｒ、ｐＨ５の条件下では二酸化炭素を９０％以上除去
することが可能である。
中のガス成分を除去する手段としては、テフロン系やシ
リコンゴム系などの水を通さない疎水性の高分子膜を用
いた膜脱気装置があり、透過側を真空にすることにより
液中の溶存ガスが除去されるようになっている。なお、
二酸化炭素はｐＨによって溶解する形態が異なり、ｐＨ
が５以下ではイオン化していたＨＣＯ3 - やＣＯ3 --の
大部分がＣＯ2 で溶解するようになり、真空度１０Ｔｏ
ｒｒ、ｐＨ５の条件下では二酸化炭素を９０％以上除去
することが可能である。
【００１４】したがって、本発明では、紫外線照射の前
工程に、カチオンを除去する手段、例えばカチオン交換
樹脂を充填した単床式イオン交換装置を配置して、カチ
オンを除去し後段の混床式イオン交換装置の負荷を軽減
するとともに、被処理水を弱酸性にして膜脱気の効率を
向上させることができる。
工程に、カチオンを除去する手段、例えばカチオン交換
樹脂を充填した単床式イオン交換装置を配置して、カチ
オンを除去し後段の混床式イオン交換装置の負荷を軽減
するとともに、被処理水を弱酸性にして膜脱気の効率を
向上させることができる。
【００１５】なお、紫外線照射の前工程で、被処理水に
電解式オゾン水製造装置で生成されたオゾン水を添加す
るとともに、アニオン系イオン交換樹脂の通過水もしく
はアルカリ金属の水酸化物を添加して被処理水のｐＨを
８〜９程度のアルカリ条件とすることにより、反応を促
進させることも可能である。この場合、紫外線照射装置
の出口水に、電解式オゾン水製造装置内のオゾン発生電
極の対極側で生成させたＨ+ イオンまたは・Ｈラジカル
を含有する水を供給してオゾン水添加の際に副生成物と
して発生する過酸化水素を除去し、被処理水の液性を中
性領域ないしは弱酸性領域へ戻す操作を加えることが望
ましい。
電解式オゾン水製造装置で生成されたオゾン水を添加す
るとともに、アニオン系イオン交換樹脂の通過水もしく
はアルカリ金属の水酸化物を添加して被処理水のｐＨを
８〜９程度のアルカリ条件とすることにより、反応を促
進させることも可能である。この場合、紫外線照射装置
の出口水に、電解式オゾン水製造装置内のオゾン発生電
極の対極側で生成させたＨ+ イオンまたは・Ｈラジカル
を含有する水を供給してオゾン水添加の際に副生成物と
して発生する過酸化水素を除去し、被処理水の液性を中
性領域ないしは弱酸性領域へ戻す操作を加えることが望
ましい。
【００１６】本発明に用いられるイオン成分を除去する
手段は、膜脱気装置により十分除去できなかった二酸化
炭素、有機酸あるいは他のイオン成分を除去するととも
に、１次純水中にもともと含まれていたイオン成分を除
去するためのアニオン交換装置または混床式イオン交換
装置であり、これに用いられるイオン交換樹脂として
は、新品もしくはそれに類する破砕が無く、イオン交換
性能が高く、溶出のないものが望ましい。
手段は、膜脱気装置により十分除去できなかった二酸化
炭素、有機酸あるいは他のイオン成分を除去するととも
に、１次純水中にもともと含まれていたイオン成分を除
去するためのアニオン交換装置または混床式イオン交換
装置であり、これに用いられるイオン交換樹脂として
は、新品もしくはそれに類する破砕が無く、イオン交換
性能が高く、溶出のないものが望ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照しながら本発
明の実施例について詳細に説明する。
明の実施例について詳細に説明する。
【００１８】（実施例１）図１は、本発明の超純水製造
装置の第１の実施例を示した図である。
装置の第１の実施例を示した図である。
【００１９】図１において、符号１は濾過器、２は濾過
器１を通過した原水の貯槽であり、３はここを通過した
原水に硫酸を添加するための酸添加装置、４は脱炭酸ガ
ス塔である。符号５は第１の逆浸透膜ユニット、６はア
ルカリ添加装置、７は電気透析ユニットである。８は紫
外線ランプ点灯用に電子コントローラを装備した低圧紫
外線酸化装置（日本フォトサイエンス社製、商品名ＮＵ
Ｖ−１２０、２ｋＷ）であり、１８５ｎｍ付近の波長を
有する紫外線が照射される。９は膜脱気装置であり、脱
気膜モジュールＭＨＦ−３５０４（三菱レーヨン社製、
膜面積３４ｍ2／本）を３本装備し、膜の２次側を真空
ポンプ１４で−７３５ｍｍＨｇに維持されている。１０
は混床式イオン交換装置であって、アニオン交換樹脂と
して強塩基性アニオン交換樹脂デュオライトＡ−１１３
ｐｌｕｓ（ローム＆ハース社）を３３ ｌ、カチオン交
換樹脂として強酸性カチオン交換樹脂デュオライトＣ−
２０（ローム＆ハース社）を２３ ｌ使用し、これらを
予め再生してＨ型とＯＨ型に変換した後に混合充填した
ものである。この混床式イオン交換装置のイオン交換容
量は０．９当量／ｌ−Resin である。符号１１，１２
は、２次純水の比抵抗を測定するための比抵抗セル、比
抵抗計であり、経路Ａは本発明と効果を比較するために
設けた膜脱気装置９をバイパスするための配管である。
器１を通過した原水の貯槽であり、３はここを通過した
原水に硫酸を添加するための酸添加装置、４は脱炭酸ガ
ス塔である。符号５は第１の逆浸透膜ユニット、６はア
ルカリ添加装置、７は電気透析ユニットである。８は紫
外線ランプ点灯用に電子コントローラを装備した低圧紫
外線酸化装置（日本フォトサイエンス社製、商品名ＮＵ
Ｖ−１２０、２ｋＷ）であり、１８５ｎｍ付近の波長を
有する紫外線が照射される。９は膜脱気装置であり、脱
気膜モジュールＭＨＦ−３５０４（三菱レーヨン社製、
膜面積３４ｍ2／本）を３本装備し、膜の２次側を真空
ポンプ１４で−７３５ｍｍＨｇに維持されている。１０
は混床式イオン交換装置であって、アニオン交換樹脂と
して強塩基性アニオン交換樹脂デュオライトＡ−１１３
ｐｌｕｓ（ローム＆ハース社）を３３ ｌ、カチオン交
換樹脂として強酸性カチオン交換樹脂デュオライトＣ−
２０（ローム＆ハース社）を２３ ｌ使用し、これらを
予め再生してＨ型とＯＨ型に変換した後に混合充填した
ものである。この混床式イオン交換装置のイオン交換容
量は０．９当量／ｌ−Resin である。符号１１，１２
は、２次純水の比抵抗を測定するための比抵抗セル、比
抵抗計であり、経路Ａは本発明と効果を比較するために
設けた膜脱気装置９をバイパスするための配管である。
【００２０】次に、この実施例の装置を使用した超純水
の製造方法を説明する。
の製造方法を説明する。
【００２１】原水（市水）は、濾過器１で濾過され一旦
貯槽２に溜められる。貯槽２から出た原水には酸添加装
置３で硫酸が添加され、原水中に微量存在する重炭酸ソ
ーダは、硫酸ソーダと二酸化炭素とに分解される。次に
脱炭酸ガス塔４で原水中にクリンエアーが吹き込まれ、
原水中のほとんどの二酸化炭素はここで飛散除去され
る。二酸化炭素がほとんど除去された原水は、第１の逆
浸透膜ユニット５に送られ、原水中の不純物であるイオ
ン、微粒子、細菌及び有機物（ＴＯＣ）が除去され、次
いでアルカリ添加装置６で消石灰［Ｃａ（ＯＨ）2 ］が
添加され、わずかに残留したＣＯ2 は重炭酸カルシウム
に変えられ、次の電気透析ユニット７で処理する際に除
去しやすい形態にされる。一方、原水に含まれていた不
純物を濃縮した濃縮水は排水される。電気透析ユニット
７では、一価のイオンが主として除去されて１次純水が
得られる。なお、この実施例における定格処理水量は
２．０ｍ3 ／ｈであり、一次純水の比抵抗は１．５ＭΩ
・ｃｍ、ＴＯＣ濃度平均３８ｐｐｂ（炭素換算）であ
る。
貯槽２に溜められる。貯槽２から出た原水には酸添加装
置３で硫酸が添加され、原水中に微量存在する重炭酸ソ
ーダは、硫酸ソーダと二酸化炭素とに分解される。次に
脱炭酸ガス塔４で原水中にクリンエアーが吹き込まれ、
原水中のほとんどの二酸化炭素はここで飛散除去され
る。二酸化炭素がほとんど除去された原水は、第１の逆
浸透膜ユニット５に送られ、原水中の不純物であるイオ
ン、微粒子、細菌及び有機物（ＴＯＣ）が除去され、次
いでアルカリ添加装置６で消石灰［Ｃａ（ＯＨ）2 ］が
添加され、わずかに残留したＣＯ2 は重炭酸カルシウム
に変えられ、次の電気透析ユニット７で処理する際に除
去しやすい形態にされる。一方、原水に含まれていた不
純物を濃縮した濃縮水は排水される。電気透析ユニット
７では、一価のイオンが主として除去されて１次純水が
得られる。なお、この実施例における定格処理水量は
２．０ｍ3 ／ｈであり、一次純水の比抵抗は１．５ＭΩ
・ｃｍ、ＴＯＣ濃度平均３８ｐｐｂ（炭素換算）であ
る。
【００２２】このようにして得られた１次純水は、電気
透析ユニット７で処理され、紫外線照射装置８に送ら
れ、ここで波長２２０ｎｍ以下で１８５ｎｍ付近に主ピ
ークを有する紫外線が照射されて、溶存有機物は二酸化
炭素に分解される。次いで、紫外線処理の行われた処理
水は膜脱気装置９において、二酸化炭素などの溶存気体
が脱気され、最後に混床式イオン交換装置１０で脱イオ
ン処理されて２次純水となる。
透析ユニット７で処理され、紫外線照射装置８に送ら
れ、ここで波長２２０ｎｍ以下で１８５ｎｍ付近に主ピ
ークを有する紫外線が照射されて、溶存有機物は二酸化
炭素に分解される。次いで、紫外線処理の行われた処理
水は膜脱気装置９において、二酸化炭素などの溶存気体
が脱気され、最後に混床式イオン交換装置１０で脱イオ
ン処理されて２次純水となる。
【００２３】図２は、実施例１で得た２次純水と、Ａ経
路により膜脱気装置９をバイパスさせた比較例によって
得られた２次純水とを比抵抗計１２で測定した比抵抗の
値である。図２の測定結果から明らかなように、実施例
１の場合は比較例の場合に比較して、混床式イオン交換
装置１０におけるイオンブレークの発生が抑制され、採
水可能時間が長くなっている。
路により膜脱気装置９をバイパスさせた比較例によって
得られた２次純水とを比抵抗計１２で測定した比抵抗の
値である。図２の測定結果から明らかなように、実施例
１の場合は比較例の場合に比較して、混床式イオン交換
装置１０におけるイオンブレークの発生が抑制され、採
水可能時間が長くなっている。
【００２４】また、この実施例において、膜脱気装置９
への通水の前後で被処理水中における直径０．１μｍ以
上の微粒子数を計測したところ、表１に示すようにほと
んど増加が認められなかった。なお、曝気および真空脱
気法の場合には、同表中に比較のために示したように、
著しく微粒子数が増加している。
への通水の前後で被処理水中における直径０．１μｍ以
上の微粒子数を計測したところ、表１に示すようにほと
んど増加が認められなかった。なお、曝気および真空脱
気法の場合には、同表中に比較のために示したように、
著しく微粒子数が増加している。
【００２５】
【表１】 （実施例２）図３は、本発明における超純水製造装置
の、他の実施例の構成を示した図である。
の、他の実施例の構成を示した図である。
【００２６】この実施例では、紫外線照射装置８の前段
に単床式のカチオン交換装置１３を配置した点を除い
て、実施例１の装置と同一であるので、同一部分に同一
符号を付して重複する説明は省略する。なお、経路Ｂ
は、カチオン交換装置１３の効果を確認するために設け
たをカチオン交換装置１３をバイパスする配管である。
カチオン交換装置１３に充填された樹脂は、実施例１で
使用された強酸性カチオン交換樹脂デュオライトＣ−２
０（ローム＆ハース社）２０ ｌであり、予めＨ型に変
換された後に充填されたものである。
に単床式のカチオン交換装置１３を配置した点を除い
て、実施例１の装置と同一であるので、同一部分に同一
符号を付して重複する説明は省略する。なお、経路Ｂ
は、カチオン交換装置１３の効果を確認するために設け
たをカチオン交換装置１３をバイパスする配管である。
カチオン交換装置１３に充填された樹脂は、実施例１で
使用された強酸性カチオン交換樹脂デュオライトＣ−２
０（ローム＆ハース社）２０ ｌであり、予めＨ型に変
換された後に充填されたものである。
【００２７】原水は、第１実施例と同じ条件で１次純水
まで処理され、その後カチオン交換装置１３に通水され
てカチオン交換処理された後、実施例１と同じ条件で同
じプロセスで処理された。
まで処理され、その後カチオン交換装置１３に通水され
てカチオン交換処理された後、実施例１と同じ条件で同
じプロセスで処理された。
【００２８】表２は、このように処理された処理水と、
比較のために経路Ｂにバイパスさせて処理を行った処理
水のＣＯ2 、ＴＯＣ（有機物総量）を高温湿式酸化ＮＤ
ＩＲ型ＴＩＣ・ＴＯＣ計で測定した結果である。ＴＩＣ
・ＴＯＣ計は、モデル７００（ＯＩ社）を使用した。
比較のために経路Ｂにバイパスさせて処理を行った処理
水のＣＯ2 、ＴＯＣ（有機物総量）を高温湿式酸化ＮＤ
ＩＲ型ＴＩＣ・ＴＯＣ計で測定した結果である。ＴＩＣ
・ＴＯＣ計は、モデル７００（ＯＩ社）を使用した。
【００２９】
【表２】 表中、ＴＩＣ（全無機イオン量）は、二酸化炭素、炭酸
水素イオン、炭酸イオンの総量として測定した。
水素イオン、炭酸イオンの総量として測定した。
【００３０】この結果から明らかなように、１次純水を
カチオン交換装置１３に通水した場合には膜脱気装置９
の出口におけるＴＩＣ値は＜５ｐｐｂ（炭素換算) であ
り、一方、カチオン交換装置７をバイパスした場合に
は、膜脱気装置９の出口におけるＴＩＣ値は１０〜２５
ｐｐｂ（炭素換算) であるから、実施例１と比較して１
次純水をカチオン交換装置１３に通水した方が、後段の
混床式イオン交換装置１０に対して負荷を与える原因と
なるＴＩＣを効率的に除去することが可能で、混床式イ
オン交換装置１０におけるイオンブレークの発生がより
抑制され、採水可能時間が長くなることがわかる。
カチオン交換装置１３に通水した場合には膜脱気装置９
の出口におけるＴＩＣ値は＜５ｐｐｂ（炭素換算) であ
り、一方、カチオン交換装置７をバイパスした場合に
は、膜脱気装置９の出口におけるＴＩＣ値は１０〜２５
ｐｐｂ（炭素換算) であるから、実施例１と比較して１
次純水をカチオン交換装置１３に通水した方が、後段の
混床式イオン交換装置１０に対して負荷を与える原因と
なるＴＩＣを効率的に除去することが可能で、混床式イ
オン交換装置１０におけるイオンブレークの発生がより
抑制され、採水可能時間が長くなることがわかる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、被処理水中に含まれる
微量の有機物は紫外線照射により二酸化炭素に分解され
て膜脱気により除去されるので、後段のイオン交換装置
の負荷が軽減されて採水時間が長くなり、保守、点検作
業も軽減される。
微量の有機物は紫外線照射により二酸化炭素に分解され
て膜脱気により除去されるので、後段のイオン交換装置
の負荷が軽減されて採水時間が長くなり、保守、点検作
業も軽減される。
【００３２】また、膜脱気は、曝気や真空脱気と比較し
て水中の微粒子を増加させないので高純度の超純水を得
ることができる。さらに、紫外線照射手段の前にカチオ
ンを除去する手段を配置した場合には、処理水のｐＨが
低くなり膜脱気手段により効率よく全無機炭酸を除去す
ることができる。
て水中の微粒子を増加させないので高純度の超純水を得
ることができる。さらに、紫外線照射手段の前にカチオ
ンを除去する手段を配置した場合には、処理水のｐＨが
低くなり膜脱気手段により効率よく全無機炭酸を除去す
ることができる。
【図１】本発明による超純水製造装置の構成を示した
図。
図。
【図２】本発明による超純水装置により処理された処理
水の、比抵抗計１２の指示値を示した図。
水の、比抵抗計１２の指示値を示した図。
【図３】本発明による超純水製造装置の第２の構成を示
した図。
した図。
１………濾過器 ２………原水の貯槽 ３………酸添加装置 ４………脱炭酸ガス塔 ５………第１の逆浸透膜ユニット ６………アルカリ添加装置 ７………電気透析ユニット ８………低圧紫外線酸化装置 ９………膜脱気装置 １０………混床式イオン交換装置 １１………比抵抗セル １２………比抵抗計 １３………カチオン交換樹脂
Claims (5)
- 【請求項１】微量の有機物を含む被処理水に紫外線を照
射して前記有機物を分解する手段と、有機物の分解され
た被処理水を膜脱気して発生したガス成分を除去する手
段と、膜脱気後の被処理水からイオン成分を除去する手
段とを、被処理水の流路に沿って順に設けてなることを
特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項２】微量の有機物を含む被処理水のカチオンを
除去する手段と、カチオンの除去された被処理水に紫外
線を照射して前記有機物を分解する手段と、有機物の分
解された被処理水を膜脱気して発生したガス成分を除去
する手段と、膜脱気後の被処理水からイオン成分を除去
する手段とを、被処理水の流路に沿って順に設けてなる
ことを特徴とする超純水製造装置。 - 【請求項３】膜脱気後の被処理水からイオン成分を除去
する手段が、アニオン交換装置または混床式イオン交換
装置からなることを特徴とする請求項１または２記載の
超純水製造装置。 - 【請求項４】前記紫外線は、特に１８５ｎｍ付近の波長
を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか
１記載の超純水製造装置。 - 【請求項５】被処理水が、１次純水であることを特徴と
する請求項１ないし４のいずれか１記載の超純水製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7051196A JPH09253638A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7051196A JPH09253638A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 超純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09253638A true JPH09253638A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13433639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7051196A Withdrawn JPH09253638A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09253638A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002001069A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-08 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造方法 |
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-
1996
- 1996-03-26 JP JP7051196A patent/JPH09253638A/ja not_active Withdrawn
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