JP2003145148A - 超純水供給装置及び超純水供給方法 - Google Patents
超純水供給装置及び超純水供給方法Info
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- JP2003145148A JP2003145148A JP2001340849A JP2001340849A JP2003145148A JP 2003145148 A JP2003145148 A JP 2003145148A JP 2001340849 A JP2001340849 A JP 2001340849A JP 2001340849 A JP2001340849 A JP 2001340849A JP 2003145148 A JP2003145148 A JP 2003145148A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 超純水製造装置の起動時又は再起動時におけ
る超純水の水質の低下を防止して、ユースポイントに高
水質の超純水を安定に供給する。 【解決手段】 タンク１１、ポンプ１２、熱交換器１
３、低圧ＵＶ酸化装置１４、イオン交換装置１５及びＵ
Ｆ膜分離装置１６を有する超純水製造装置３と、超純水
をユースポイント４に供給する超純水供給配管１７とを
有する超純水供給装置。超純水供給配管１７に粒状イオ
ン交換樹脂を充填したイオン交換装置２０を設け、超純
水製造装置３の起動時又は再起動時から所定の期間、超
純水をこのイオン交換装置２０に通水してユースポイン
ト４に供給する。
る超純水の水質の低下を防止して、ユースポイントに高
水質の超純水を安定に供給する。 【解決手段】 タンク１１、ポンプ１２、熱交換器１
３、低圧ＵＶ酸化装置１４、イオン交換装置１５及びＵ
Ｆ膜分離装置１６を有する超純水製造装置３と、超純水
をユースポイント４に供給する超純水供給配管１７とを
有する超純水供給装置。超純水供給配管１７に粒状イオ
ン交換樹脂を充填したイオン交換装置２０を設け、超純
水製造装置３の起動時又は再起動時から所定の期間、超
純水をこのイオン交換装置２０に通水してユースポイン
ト４に供給する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、超純水製造装置で
製造された超純水をユースポイントに供給する超純水供
給装置及び超純水供給方法に係り、特に超純水製造装置
の起動時又は再起動時における超純水の水質の低下を防
止して、ユースポイントに高水質の超純水を安定に供給
する超純水供給装置及び超純水供給方法に関する。
製造された超純水をユースポイントに供給する超純水供
給装置及び超純水供給方法に係り、特に超純水製造装置
の起動時又は再起動時における超純水の水質の低下を防
止して、ユースポイントに高水質の超純水を安定に供給
する超純水供給装置及び超純水供給方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体洗浄用水として用いられて
いる超純水は、図２に示すように前処理装置１、一次純
水製造装置２、超純水製造装置（サブシステム）３から
構成される超純水製造設備で原水（工業用水、市水、井
水等）を処理することにより製造される。図２において
各装置の役割は次の通りである。
いる超純水は、図２に示すように前処理装置１、一次純
水製造装置２、超純水製造装置（サブシステム）３から
構成される超純水製造設備で原水（工業用水、市水、井
水等）を処理することにより製造される。図２において
各装置の役割は次の通りである。
【０００３】凝集、加圧浮上（沈殿）、濾過（膜濾過）
装置などよりなる前処理装置１は、原水中の懸濁物質や
コロイド物質の除去を行う。また、この過程では高分子
系有機物、疎水性有機物などの除去も可能である。
装置などよりなる前処理装置１は、原水中の懸濁物質や
コロイド物質の除去を行う。また、この過程では高分子
系有機物、疎水性有機物などの除去も可能である。
【０００４】逆浸透膜分離装置、脱気装置及びイオン交
換装置（混床式又は４床５塔式など）を備える一次純水
系製造装置２では、原水中のイオンや有機成分の除去を
行う。なお、逆浸透膜分離装置では、塩類を除去すると
共に、イオン性、コロイド性のＴＯＣを除去する。イオ
ン交換装置では、塩類を除去すると共にイオン交換樹脂
によって吸着又はイオン交換されるＴＯＣ成分の除去を
行う。脱気装置では無機系炭素（ＩＣ）、溶存酸素の除
去を行う。
換装置（混床式又は４床５塔式など）を備える一次純水
系製造装置２では、原水中のイオンや有機成分の除去を
行う。なお、逆浸透膜分離装置では、塩類を除去すると
共に、イオン性、コロイド性のＴＯＣを除去する。イオ
ン交換装置では、塩類を除去すると共にイオン交換樹脂
によって吸着又はイオン交換されるＴＯＣ成分の除去を
行う。脱気装置では無機系炭素（ＩＣ）、溶存酸素の除
去を行う。
【０００５】一次純水製造装置２からの一次純水は、超
純水製造装置３において、タンク１１からポンプ１２に
より、紫外線（ＵＶ）照射装置、図２では低圧ＵＶ酸化
装置１４、イオン交換装置１５及び限外濾過（ＵＦ）膜
分離装置１６で処理されて、水の純度がより一層高めら
れ超純水が製造される。即ち、低圧ＵＶ酸化装置１４で
は、ＵＶランプより出される１８５ｎｍのＵＶによりＴ
ＯＣを有機酸、さらにはＣＯ２まで分解する。分解によ
り生成した有機物及びＣＯ２は後段のイオン交換装置１
５で除去される。ＵＦ膜分離装置１６では、微粒子が除
去され、イオン交換樹脂の流出粒子も除去される。
純水製造装置３において、タンク１１からポンプ１２に
より、紫外線（ＵＶ）照射装置、図２では低圧ＵＶ酸化
装置１４、イオン交換装置１５及び限外濾過（ＵＦ）膜
分離装置１６で処理されて、水の純度がより一層高めら
れ超純水が製造される。即ち、低圧ＵＶ酸化装置１４で
は、ＵＶランプより出される１８５ｎｍのＵＶによりＴ
ＯＣを有機酸、さらにはＣＯ２まで分解する。分解によ
り生成した有機物及びＣＯ２は後段のイオン交換装置１
５で除去される。ＵＦ膜分離装置１６では、微粒子が除
去され、イオン交換樹脂の流出粒子も除去される。
【０００６】このようにして得られた超純水は、配管１
７よりユースポイント４に送給され、余剰の超純水が配
管１８よりタンク１１に戻される。
７よりユースポイント４に送給され、余剰の超純水が配
管１８よりタンク１１に戻される。
【０００７】ユースポイント４は超純水の使用場所を示
し、対象物（例えば半導体）を洗浄するための洗浄装置
の他、適宜配管やノズル類等を含んでもよい。なお、ユ
ースポイント４で使用された超純水は、適宜排水として
回収される。
し、対象物（例えば半導体）を洗浄するための洗浄装置
の他、適宜配管やノズル類等を含んでもよい。なお、ユ
ースポイント４で使用された超純水は、適宜排水として
回収される。
【０００８】このような超純水供給装置において、この
ように絶えず超純水の循環を行っているのは、超純水製
造設備のポンプ１２や熱交換器１３、配管等を構成する
材料からの溶出成分を除去して系内を高純度に保つこと
を目的としている。なお、一般に超純水製造装置３のポ
ンプ１２や熱交換器１３、配管等の構成材料としてはＳ
ＵＳ材が適用されている。
ように絶えず超純水の循環を行っているのは、超純水製
造設備のポンプ１２や熱交換器１３、配管等を構成する
材料からの溶出成分を除去して系内を高純度に保つこと
を目的としている。なお、一般に超純水製造装置３のポ
ンプ１２や熱交換器１３、配管等の構成材料としてはＳ
ＵＳ材が適用されている。
【０００９】ところで、ＬＳＩの超微細化、高集積化に
伴い、超ＬＳＩチップ製造における洗浄水としての超純
水中の不純物の影響はより大きくなってきている。超Ｌ
ＳＩチップ不良の大部分はパターン欠陥であり、その主
な原因は超純水中の不純物である。超純水中の不純物は
主に金属成分と有機物であり、これらをより一層高度に
除去することが望まれる。
伴い、超ＬＳＩチップ製造における洗浄水としての超純
水中の不純物の影響はより大きくなってきている。超Ｌ
ＳＩチップ不良の大部分はパターン欠陥であり、その主
な原因は超純水中の不純物である。超純水中の不純物は
主に金属成分と有機物であり、これらをより一層高度に
除去することが望まれる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
実状に鑑みてなされたものであって、金属成分や有機物
等の不純物濃度が著しく低く、極めて高純度な超純水を
安定に供給することができる超純水供給装置及び超純水
供給方法を提供することを目的とする。
実状に鑑みてなされたものであって、金属成分や有機物
等の不純物濃度が著しく低く、極めて高純度な超純水を
安定に供給することができる超純水供給装置及び超純水
供給方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の超純水供給装置
は、超純水製造装置と、該超純水製造装置で製造された
超純水をユースポイントに供給する超純水供給配管とを
有する超純水供給装置において、粒状イオン交換樹脂を
充填したイオン交換装置を該超純水供給配管に設けたこ
とを特徴とする。
は、超純水製造装置と、該超純水製造装置で製造された
超純水をユースポイントに供給する超純水供給配管とを
有する超純水供給装置において、粒状イオン交換樹脂を
充填したイオン交換装置を該超純水供給配管に設けたこ
とを特徴とする。
【００１２】本発明の超純水供給方法は、このような本
発明の超純水供給装置を運転して超純水をユースポイン
トに供給する方法において、超純水製造装置の起動時又
は再起動時から所定の期間、超純水を前記イオン交換装
置に通水してユースポイントに供給することを特徴とす
る。
発明の超純水供給装置を運転して超純水をユースポイン
トに供給する方法において、超純水製造装置の起動時又
は再起動時から所定の期間、超純水を前記イオン交換装
置に通水してユースポイントに供給することを特徴とす
る。
【００１３】本発明者らは、超純水製造装置で製造され
る超純水の水質について調査分析した結果、超純水の不
純物は主に金属成分と有機物であり、これらの不純物濃
度は超純水製造装置の安定運転時と、起動時又は再起動
時とで差異があることを知見した。そして、これらの不
純物による汚染原因について更に検討した結果、超純水
中の不純物のうち、金属成分は、超純水製造装置の運転
停止中にポンプや熱交換器、配管等を構成する金属素材
から溶出した金属が、超純水製造装置の再起動時に後段
に送給され、ＵＦ膜分離装置のＵＦ膜を汚染し、その
後、ＵＦ膜から金属成分が超純水中に再溶出することに
よることが判明した。特に、超純水製造装置の運転を停
止して過酸化水素等の殺菌剤による系内の循環殺菌処理
を行った後は、金属素材が殺菌剤により酸化されて微粒
子化し、これがＵＦ膜分離装置で捕捉され、その後の押
し出し洗浄で殺菌剤が排出された後に、超純水中に溶解
するようになり、金属成分による超純水の汚染が顕著に
なる。
る超純水の水質について調査分析した結果、超純水の不
純物は主に金属成分と有機物であり、これらの不純物濃
度は超純水製造装置の安定運転時と、起動時又は再起動
時とで差異があることを知見した。そして、これらの不
純物による汚染原因について更に検討した結果、超純水
中の不純物のうち、金属成分は、超純水製造装置の運転
停止中にポンプや熱交換器、配管等を構成する金属素材
から溶出した金属が、超純水製造装置の再起動時に後段
に送給され、ＵＦ膜分離装置のＵＦ膜を汚染し、その
後、ＵＦ膜から金属成分が超純水中に再溶出することに
よることが判明した。特に、超純水製造装置の運転を停
止して過酸化水素等の殺菌剤による系内の循環殺菌処理
を行った後は、金属素材が殺菌剤により酸化されて微粒
子化し、これがＵＦ膜分離装置で捕捉され、その後の押
し出し洗浄で殺菌剤が排出された後に、超純水中に溶解
するようになり、金属成分による超純水の汚染が顕著に
なる。
【００１４】また、有機物については、超純水製造装置
のイオン交換装置のイオン交換樹脂や、ＵＦ膜分離装置
のＵＦ膜を交換後の超純水製造装置の再起動時において
超純水中のＴＯＣ濃度が高くなることから、新品のイオ
ン交換樹脂やＵＦ膜から溶出するものと推定された。
のイオン交換装置のイオン交換樹脂や、ＵＦ膜分離装置
のＵＦ膜を交換後の超純水製造装置の再起動時において
超純水中のＴＯＣ濃度が高くなることから、新品のイオ
ン交換樹脂やＵＦ膜から溶出するものと推定された。
【００１５】本発明では、超純水製造装置の起動時又は
再起動時に超純水中に溶出する金属成分や有機物、その
他のイオン類等の不純物を超純水供給配管に設けたイオ
ン交換装置でイオン交換又は吸着することにより除去す
る。このため、ユースポイントに高純度の超純水を安定
的に供給することができる。
再起動時に超純水中に溶出する金属成分や有機物、その
他のイオン類等の不純物を超純水供給配管に設けたイオ
ン交換装置でイオン交換又は吸着することにより除去す
る。このため、ユースポイントに高純度の超純水を安定
的に供給することができる。
【００１６】なお、金属成分や有機物をイオン交換又は
吸着除去するイオン交換体としては、イオン交換繊維、
イオン交換フィルター、粒状イオン交換樹脂などがある
が、本発明では超純水を通水するため、不純物の溶出が
極少ないものが最適である。本発明者らの調査の結果、
イオン交換繊維、イオン交換フィルターは、金属類（Ｎ
ａ，Ｆｅ）やＴＯＣ等の溶出が多く、二次汚染により超
純水の水質を低下させることから、超純水に適用するの
には不適当であることが判明した。特に、イオン交換フ
ィルターの場合、イオン交換吸着量が少なく、通水量を
確保しようとした場合、多段で使用する必要があり、通
水圧力等を高くしなければならないなど、現実的ではな
い。
吸着除去するイオン交換体としては、イオン交換繊維、
イオン交換フィルター、粒状イオン交換樹脂などがある
が、本発明では超純水を通水するため、不純物の溶出が
極少ないものが最適である。本発明者らの調査の結果、
イオン交換繊維、イオン交換フィルターは、金属類（Ｎ
ａ，Ｆｅ）やＴＯＣ等の溶出が多く、二次汚染により超
純水の水質を低下させることから、超純水に適用するの
には不適当であることが判明した。特に、イオン交換フ
ィルターの場合、イオン交換吸着量が少なく、通水量を
確保しようとした場合、多段で使用する必要があり、通
水圧力等を高くしなければならないなど、現実的ではな
い。
【００１７】これに対して、粒状イオン交換樹脂であれ
ば、二次汚染の問題を引き起こすことなく、超純水製造
装置からの超純水中の金属成分、有機物、その他の荷電
溶出物を効率的に除去して超純水の純度を高めることが
できる。
ば、二次汚染の問題を引き起こすことなく、超純水製造
装置からの超純水中の金属成分、有機物、その他の荷電
溶出物を効率的に除去して超純水の純度を高めることが
できる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下に本発明の超純水供給装置及
び超純水供給方法の実施の形態を詳細に説明する。
び超純水供給方法の実施の形態を詳細に説明する。
【００１９】図１は本発明の超純水供給装置の実施の形
態を示す系統図である。図１において、図２に示す装置
と同一機能を奏する装置には同一符号を付してある。
態を示す系統図である。図１において、図２に示す装置
と同一機能を奏する装置には同一符号を付してある。
【００２０】この超純水供給装置は、超純水製造装置３
からの超純水をユースポイント４に供給する配管１７に
バイパス配管１９Ａ，１９Ｂを設け、このバイパス配管
１９Ａ，１９Ｂにイオン交換装置２０を設けて、バルブ
Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３の開閉により、超純水をイオン交換装
置２０に通水した後、ユースポイント４に供給できるよ
うにした点が従来装置と異なる。
からの超純水をユースポイント４に供給する配管１７に
バイパス配管１９Ａ，１９Ｂを設け、このバイパス配管
１９Ａ，１９Ｂにイオン交換装置２０を設けて、バルブ
Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３の開閉により、超純水をイオン交換装
置２０に通水した後、ユースポイント４に供給できるよ
うにした点が従来装置と異なる。
【００２１】即ち、前述の如く、超純水製造装置３の起
動時又は再起動時はＵＦ膜分離装置１６の処理水の金属
成分等の不純物濃度が高くなるため、この起動時又は再
起動時から所定の期間は、Ｖ３を閉、バルブＶ１，Ｖ２
を開としてＵＦ膜分離装置１６の処理水をイオン交換装
置２０に通水し、不純物を除去した後ユースポイント４
に供給する。その後、ＵＦ膜分離装置１６の処理水中へ
の不純物の混入がなくなり、処理水が十分な水質で安定
した後は、バルブＶ３を開、バルブＶ１，Ｖ２を閉とし
て、ＵＦ膜分離装置１６の処理水をそのままユースポイ
ント４に供給する。
動時又は再起動時はＵＦ膜分離装置１６の処理水の金属
成分等の不純物濃度が高くなるため、この起動時又は再
起動時から所定の期間は、Ｖ３を閉、バルブＶ１，Ｖ２
を開としてＵＦ膜分離装置１６の処理水をイオン交換装
置２０に通水し、不純物を除去した後ユースポイント４
に供給する。その後、ＵＦ膜分離装置１６の処理水中へ
の不純物の混入がなくなり、処理水が十分な水質で安定
した後は、バルブＶ３を開、バルブＶ１，Ｖ２を閉とし
て、ＵＦ膜分離装置１６の処理水をそのままユースポイ
ント４に供給する。
【００２２】なお、超純水製造装置３の起動時とは、超
純水製造装置の新設起動時等であり、また、再起動時と
は、超純水製造装置の定期点検、休日の装置運転停止期
間、超純水製造装置の殺菌、洗浄等の装置運転停止後に
再び装置の運転を再開するときをさす。
純水製造装置の新設起動時等であり、また、再起動時と
は、超純水製造装置の定期点検、休日の装置運転停止期
間、超純水製造装置の殺菌、洗浄等の装置運転停止後に
再び装置の運転を再開するときをさす。
【００２３】この超純水製造装置３の起動時又は再起動
時に、超純水製造装置３からの超純水をイオン交換装置
２０に通水する所定期間とは、ＵＦ膜分離装置１６の処
理水中の不純物濃度が十分に低くなるまでの期間であ
り、超純水製造装置３の運転停止時のＵＦ膜分離装置１
６の汚染状況等によっても異なるが、一般的には、１週
間から２ヶ月間程度である。
時に、超純水製造装置３からの超純水をイオン交換装置
２０に通水する所定期間とは、ＵＦ膜分離装置１６の処
理水中の不純物濃度が十分に低くなるまでの期間であ
り、超純水製造装置３の運転停止時のＵＦ膜分離装置１
６の汚染状況等によっても異なるが、一般的には、１週
間から２ヶ月間程度である。
【００２４】イオン交換装置２０に充填するイオン交換
体としては、前述の如く、二次汚染の少ない粒状イオン
交換樹脂を用いる。この粒状イオン交換樹脂としては、
溶出物が極めて少ない低溶出型イオン交換樹脂ないしは
均一粒状型イオン交換樹脂を用いることが好ましく、更
にイオン交換樹脂からの溶出による二次汚染を防止する
に先立ち、酸、アルカリによる再生後、超純水を通水
し、所定の水質（抵抗率、ＴＯＣ）に到達したことを確
認する等によりコンディショニングを行った後適用する
ことが好ましい。
体としては、前述の如く、二次汚染の少ない粒状イオン
交換樹脂を用いる。この粒状イオン交換樹脂としては、
溶出物が極めて少ない低溶出型イオン交換樹脂ないしは
均一粒状型イオン交換樹脂を用いることが好ましく、更
にイオン交換樹脂からの溶出による二次汚染を防止する
に先立ち、酸、アルカリによる再生後、超純水を通水
し、所定の水質（抵抗率、ＴＯＣ）に到達したことを確
認する等によりコンディショニングを行った後適用する
ことが好ましい。
【００２５】イオン交換装置２０に充填するイオン交換
樹脂種は、超純水製造装置３の起動時又は再起動時にＵ
Ｆ膜分離装置１６の処理水中に溶出する不純物により適
宜決定される。即ち、この不純物が金属成分を主体とす
る場合には、カチオン交換樹脂を充填し、有機物を主体
とする場合にはアニオン交換樹脂を充填する。通常の場
合、金属成分及び有機物が存在する可能性があることか
ら、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを充填した
イオン交換装置を用いるのが好ましい。この場合、カチ
オン交換樹脂充填塔とアニオン交換樹脂充填塔を用いる
多塔式、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを１塔
内に積層して充填した復層式、カチオン交換樹脂とアニ
オン交換樹脂とを混合状態で充填した混床式等のいずれ
でも良いが、処理効果の面からはカチオン交換樹脂とア
ニオン交換樹脂とを、カチオン交換樹脂：アニオン交換
樹脂＝１：０．５〜４（体積比）で混合した混床式イオ
ン交換装置を用いるのが好ましい。
樹脂種は、超純水製造装置３の起動時又は再起動時にＵ
Ｆ膜分離装置１６の処理水中に溶出する不純物により適
宜決定される。即ち、この不純物が金属成分を主体とす
る場合には、カチオン交換樹脂を充填し、有機物を主体
とする場合にはアニオン交換樹脂を充填する。通常の場
合、金属成分及び有機物が存在する可能性があることか
ら、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを充填した
イオン交換装置を用いるのが好ましい。この場合、カチ
オン交換樹脂充填塔とアニオン交換樹脂充填塔を用いる
多塔式、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを１塔
内に積層して充填した復層式、カチオン交換樹脂とアニ
オン交換樹脂とを混合状態で充填した混床式等のいずれ
でも良いが、処理効果の面からはカチオン交換樹脂とア
ニオン交換樹脂とを、カチオン交換樹脂：アニオン交換
樹脂＝１：０．５〜４（体積比）で混合した混床式イオ
ン交換装置を用いるのが好ましい。
【００２６】イオン交換装置２０に充填するイオン交換
樹脂量は、超純水製造装置３の通水量、起動又は再起動
の頻度、起動又は再起動時の汚染状況等に応じて適宜決
定される。
樹脂量は、超純水製造装置３の通水量、起動又は再起動
の頻度、起動又は再起動時の汚染状況等に応じて適宜決
定される。
【００２７】なお、イオン交換装置２０は、図１に示す
如く、ユースポイント４への供給配管１７にバイパス配
管１９Ａ，１９Ｂを設けて設置する他、供給配管１７に
直接取り付けても良い。しかし、超純水製造装置３の起
動又は再起動後の所定期間を経過した後は、このような
イオン交換装置２０による処理は不要であることから、
図１に示す如く、イオン交換装置２０は供給配管１７に
設けたバイパス配管１９Ａ，１９Ｂに設置し、超純水製
造装置３の起動又は再起動後の所定期間のみ超純水を通
水することが好ましい。
如く、ユースポイント４への供給配管１７にバイパス配
管１９Ａ，１９Ｂを設けて設置する他、供給配管１７に
直接取り付けても良い。しかし、超純水製造装置３の起
動又は再起動後の所定期間を経過した後は、このような
イオン交換装置２０による処理は不要であることから、
図１に示す如く、イオン交換装置２０は供給配管１７に
設けたバイパス配管１９Ａ，１９Ｂに設置し、超純水製
造装置３の起動又は再起動後の所定期間のみ超純水を通
水することが好ましい。
【００２８】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
説明する。
【００２９】実施例１
図１に示す超純水供給装置において、超純水製造装置３
の再起動時の超純水のの金属（Ｆｅ）濃度を調べる実験
を行った。
の再起動時の超純水のの金属（Ｆｅ）濃度を調べる実験
を行った。
【００３０】即ち、超純水製造装置３をメンテナンスの
ために５日間停止し、その後、超純水製造装置３とユー
スポイント４への供給配管１７，１８を過酸化水素で殺
菌し、次いで押出し洗浄を行って超純水製造装置３を再
起動した。
ために５日間停止し、その後、超純水製造装置３とユー
スポイント４への供給配管１７，１８を過酸化水素で殺
菌し、次いで押出し洗浄を行って超純水製造装置３を再
起動した。
【００３１】この再起動時、超純水製造装置３からの超
純水を下記の微粒子発生の少ない均一粒径の粒状イオン
交換樹脂をコンディショニングし、到達純度を確認した
後、充填したイオン交換装置２０（樹脂量５０Ｌ）に通
水し、その後、ユースポイント４に供給した。この通水
量は２ｍ３／ｈｒである。
純水を下記の微粒子発生の少ない均一粒径の粒状イオン
交換樹脂をコンディショニングし、到達純度を確認した
後、充填したイオン交換装置２０（樹脂量５０Ｌ）に通
水し、その後、ユースポイント４に供給した。この通水
量は２ｍ３／ｈｒである。
【００３２】［粒状イオン交換樹脂］ダウケミカル製カ
チオン交換樹脂「ＥＸ−ＣＧ」（平均粒径０．５７〜
０．７０ｍｍ）とダウケミカル製アニオン交換樹脂「Ｅ
Ｘ−ＡＧ」（平均粒径０．５１〜０．６４ｍｍ）との
１：２（体積比）の混合樹脂
チオン交換樹脂「ＥＸ−ＣＧ」（平均粒径０．５７〜
０．７０ｍｍ）とダウケミカル製アニオン交換樹脂「Ｅ
Ｘ−ＡＧ」（平均粒径０．５１〜０．６４ｍｍ）との
１：２（体積比）の混合樹脂
【００３３】このときのＵＦ膜分離装置１６の入口水、
ＵＦ膜分離装置１６の出口水及びイオン交換装置２０の
出口の水のＦｅ濃度を経時的に測定し、結果を表１に示
した。なお、Ｆｅ濃度は、被検水をクリーンな雰囲気で
特殊容器に採取し、イオンプラズママススペクトロメト
リー（ＩＣＰ−ＭＳ法）により測定した。
ＵＦ膜分離装置１６の出口水及びイオン交換装置２０の
出口の水のＦｅ濃度を経時的に測定し、結果を表１に示
した。なお、Ｆｅ濃度は、被検水をクリーンな雰囲気で
特殊容器に採取し、イオンプラズママススペクトロメト
リー（ＩＣＰ−ＭＳ法）により測定した。
【００３４】
【表１】
【００３５】表１より次のことが明らかである。
【００３６】従来において、超純水としてユースポイン
トに供給されているＵＦ膜分離装置出口水のＦｅ濃度
は、再起動１日後は５．２ｎｇ／Ｌ、３日後は１．２ｎ
ｇ／ＬとＦｅ濃度は徐々に低下し、３ヶ月後には０．３
ｎｇ／Ｌにまで低下した。一方、ＵＦ膜分離装置の入口
水のＦｅ濃度は、再起動１〜３日後は０．１ｎｇ／Ｌ以
上であったが、それ以降は０．１ｎｇ／Ｌ未満であっ
た。このことは、超純水製造装置の運転停止時及び再起
動時の通水再開初期に、ＵＦ膜分離装置のＵＦ膜が汚染
され、その後、この汚染されたＵＦ膜から長期に亘り、
Ｆｅが溶出して超純水の水質を悪化させていることを示
している。
トに供給されているＵＦ膜分離装置出口水のＦｅ濃度
は、再起動１日後は５．２ｎｇ／Ｌ、３日後は１．２ｎ
ｇ／ＬとＦｅ濃度は徐々に低下し、３ヶ月後には０．３
ｎｇ／Ｌにまで低下した。一方、ＵＦ膜分離装置の入口
水のＦｅ濃度は、再起動１〜３日後は０．１ｎｇ／Ｌ以
上であったが、それ以降は０．１ｎｇ／Ｌ未満であっ
た。このことは、超純水製造装置の運転停止時及び再起
動時の通水再開初期に、ＵＦ膜分離装置のＵＦ膜が汚染
され、その後、この汚染されたＵＦ膜から長期に亘り、
Ｆｅが溶出して超純水の水質を悪化させていることを示
している。
【００３７】ＵＦ膜分離装置の出口水を処理したイオン
交換装置の出口水では、通水再開初期からＦｅは検出さ
れず、本発明によれば不純物濃度の低い、高水質の超純
水をユースポイントに安定に供給することができること
がわかる。
交換装置の出口水では、通水再開初期からＦｅは検出さ
れず、本発明によれば不純物濃度の低い、高水質の超純
水をユースポイントに安定に供給することができること
がわかる。
【００３８】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の超純水供給
装置及び超純水供給方法によれば、超純水製造装置の起
動時又は再起動時の超純水の水質の低下を防止して、不
純物濃度が著しく低い高水質の超純水をユースポイント
に安定的に供給することができる。
装置及び超純水供給方法によれば、超純水製造装置の起
動時又は再起動時の超純水の水質の低下を防止して、不
純物濃度が著しく低い高水質の超純水をユースポイント
に安定的に供給することができる。
【００３９】本発明は、既存の設備にもイオン交換装置
を付加するのみで容易に適用することができ、これによ
り、今後益々高められる傾向にある半導体洗浄用超純水
の水質要求に十分に対応することが可能となる。
を付加するのみで容易に適用することができ、これによ
り、今後益々高められる傾向にある半導体洗浄用超純水
の水質要求に十分に対応することが可能となる。
【図１】本発明の超純水供給装置の実施の形態を示す系
統図である。
統図である。
【図２】一般的な超純水供給装置を示す系統図である。
１ 前処理装置
２ １次純水製造装置
３ 超純水製造装置
４ ユースポイント
１１ タンク
１２ ポンプ
１３ 熱交換器
１４ 低圧ＵＶ酸化装置
１５ イオン交換装置
１６ ＵＦ膜分離装置
２０ イオン交換装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 奥村 正剛
東京都新宿区西新宿三丁目４番７号 栗田
工業株式会社内
Ｆターム(参考） 4D025 AA04 AB22 AB34 BA08 BA13
BA22 BB03 BB04 BB08 BB18
DA04 DA05
Claims (3)
- 【請求項１】 超純水製造装置と、該超純水製造装置で
製造された超純水をユースポイントに供給する超純水供
給配管とを有する超純水供給装置において、 粒状イオン交換樹脂を充填したイオン交換装置を該超純
水供給配管に設けたことを特徴とする超純水供給装置。 - 【請求項２】 請求項１において、該超純水供給配管か
ら分岐し、かつ下流側で合流するバイパス管路を設ける
と共に、該バイパス管路に前記イオン交換装置を設けた
ことを特徴とする超純水供給装置。 - 【請求項３】 請求項１又は２の超純水供給装置を運転
して超純水をユースポイントに供給する方法において、
該超純水製造装置の起動時又は再起動時から所定の期
間、超純水を前記イオン交換装置に通水してユースポイ
ントに供給することを特徴とする超純水供給方法。
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| JP2001340849A JP3985500B2 (ja) | 2001-11-06 | 2001-11-06 | 超純水供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2001340849A JP3985500B2 (ja) | 2001-11-06 | 2001-11-06 | 超純水供給方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP2003145148A true JP2003145148A (ja) | 2003-05-20 |
| JP3985500B2 JP3985500B2 (ja) | 2007-10-03 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001340849A Expired - Fee Related JP3985500B2 (ja) | 2001-11-06 | 2001-11-06 | 超純水供給方法 |
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| JP (1) | JP3985500B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008072147A (ja) * | 2003-07-31 | 2008-03-27 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2011206722A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換装置及び超純水製造装置用サブシステム |
| JP2012196591A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-18 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造用サブシステム |
| CN105800886A (zh) * | 2016-05-23 | 2016-07-27 | 北京今大禹环境技术股份有限公司 | 高浓度难降解含盐有机废水的资源化回收利用处理工艺 |
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| WO2022113431A1 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | オルガノ株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
-
2001
- 2001-11-06 JP JP2001340849A patent/JP3985500B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP4652392B2 (ja) * | 2003-07-31 | 2011-03-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
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| CN105800886A (zh) * | 2016-05-23 | 2016-07-27 | 北京今大禹环境技术股份有限公司 | 高浓度难降解含盐有机废水的资源化回收利用处理工艺 |
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| WO2020241476A1 (ja) * | 2019-05-30 | 2020-12-03 | オルガノ株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
| JP7155422B2 (ja) | 2019-05-30 | 2022-10-18 | オルガノ株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
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|---|---|
| JP3985500B2 (ja) | 2007-10-03 |
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