JP4635827B2 - 超純水製造方法および装置 - Google Patents
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Description
(1) 水素が検出されない一次純水に過酸化水素の発生を抑制する量の水素を添加してUVを照射し、一次純水中に含まれる有機物を分解してイオン化するUV処理工程と、
UV処理工程の処理水をイオン交換して、前記有機物の分解により生成したイオン化物を除去するイオン交換工程と
を含む超純水製造方法。
(2) 一次純水1リットルに対し水素を3〜25μg添加する上記(1)記載の方法。
(3) 一次純水1リットルに対し水素を3〜10μg添加し、TOC濃度0.5μg/L以下の超純水を製造する上記(2)記載の方法。
(4) 一次純水1リットルに対し水素を10〜25μg添加し、TOC濃度1μg/L以下の超純水を製造する上記(2)記載の方法。
(5) 膜分離装置により微粒子を除去する膜分離工程をさらに含む上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の方法。
(6) 水素が検出されない一次純水に水素を添加する水素添加手段と、
水素を添加した一次純水にUVを照射し、一次純水中に含まれる有機物を分解してイオン化するUV処理装置と、
UV処理装置の処理水をイオン交換して、前記有機物の分解により生成したイオン化物を除去するイオン交換装置と
を含む超純水製造装置。
図1の二次純水製造システム(サブシステム)Bにおいて、アニオン交換塔14に、触媒樹脂(バイエル社製、LewatitK3433)を7L充填し、水素添加装置12から水素添加することなく処理を行った。結果を表2に示す。
B 二次純水製造システム(サブシステム)
1 前処理装置
2 脱塩装置
3 脱気装置
4 脱酸素装置
5 逆浸透膜分離装置
11 サブタンク
12 水素添加装置
13 UV処理装置
14 アニオン交換器
15 混床式交換器
16 UF装置
17 ポイント・オブ・ユース
Claims (6)
- 水素が検出されない一次純水に過酸化水素の発生を抑制する量の水素を添加してUVを照射し、一次純水中に含まれる有機物を分解してイオン化するUV処理工程と、
UV処理工程の処理水をイオン交換して、前記有機物の分解により生成したイオン化物を除去するイオン交換工程と
を含む超純水製造方法。 - 一次純水1リットルに対し水素を3〜25μg添加する請求項1記載の方法。
- 一次純水1リットルに対し水素を3〜10μg添加し、TOC濃度0.5μg/L以下の超純水を製造する請求項2記載の方法。
- 一次純水1リットルに対し水素を10〜25μg添加し、TOC濃度1μg/L以下の超純水を製造する請求項2記載の方法。
- 膜分離装置により微粒子を除去する膜分離工程をさらに含む請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。
- 水素が検出されない一次純水に水素を添加する水素添加手段と、
水素を添加した一次純水にUVを照射し、一次純水中に含まれる有機物を分解してイオン化するUV処理装置と、
UV処理装置の処理水をイオン交換して、前記有機物の分解により生成したイオン化物を除去するイオン交換装置と
を含む超純水製造装置。
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