JPH0747364A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JPH0747364A JPH0747364A JP15026393A JP15026393A JPH0747364A JP H0747364 A JPH0747364 A JP H0747364A JP 15026393 A JP15026393 A JP 15026393A JP 15026393 A JP15026393 A JP 15026393A JP H0747364 A JPH0747364 A JP H0747364A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- membrane
- pure water
- water producing
- reverse osmosis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 廃水の発生を減少させ、しかも生じた廃水
は、そのまま環境中へ放流できる超純水製造装置を提供
する。 【構成】 超純水製造装置を、少なくとも膜除濁装置８
を有する前処理装置４と、逆浸透膜装置１４と電気式脱
イオン水製造装置１８とを有する一次純水製造装置１２
と、二次純水製造装置２２とで構成する。
は、そのまま環境中へ放流できる超純水製造装置を提供
する。 【構成】 超純水製造装置を、少なくとも膜除濁装置８
を有する前処理装置４と、逆浸透膜装置１４と電気式脱
イオン水製造装置１８とを有する一次純水製造装置１２
と、二次純水製造装置２２とで構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体関連事業や、液
晶表示デバイス関連事業等のエレクトロニクス産業や、
医薬品製造用に使用される超純水を製造するための超純
水製造装置に関する。
晶表示デバイス関連事業等のエレクトロニクス産業や、
医薬品製造用に使用される超純水を製造するための超純
水製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、エレクトロニクス産業や医薬品製
造業等において超純水は広く使用されている。超純水を
製造するにあたり、従来は図２に示す様に、原水を凝集
沈殿装置３０、及び重力式濾過装置や圧力式濾過装置等
の濾過装置３２からなる前処理装置３４で処理して前処
理水３６とし、次いでこの前処理水３６を一次純水製造
装置３８の逆浸透膜装置４０に送り、ここで脱塩をした
後、真空脱気塔４２に送って脱酸素及び脱炭酸を行な
い、更に再生型イオン交換装置（複床式、または単床
式）４４に送ってイオン成分を除去して一次純水４６を
製造している。
造業等において超純水は広く使用されている。超純水を
製造するにあたり、従来は図２に示す様に、原水を凝集
沈殿装置３０、及び重力式濾過装置や圧力式濾過装置等
の濾過装置３２からなる前処理装置３４で処理して前処
理水３６とし、次いでこの前処理水３６を一次純水製造
装置３８の逆浸透膜装置４０に送り、ここで脱塩をした
後、真空脱気塔４２に送って脱酸素及び脱炭酸を行な
い、更に再生型イオン交換装置（複床式、または単床
式）４４に送ってイオン成分を除去して一次純水４６を
製造している。
【０００３】この場合、逆浸透膜装置４０から再生型イ
オン交換装置４４までが一次純水製造装置３８を構成し
ている。なお、一次純水製造装置３８においては、逆浸
透膜装置４０をイオン交換装置４４の後段に連設する場
合もある。
オン交換装置４４までが一次純水製造装置３８を構成し
ている。なお、一次純水製造装置３８においては、逆浸
透膜装置４０をイオン交換装置４４の後段に連設する場
合もある。
【０００４】上記のようにして製造された一次純水４６
は、次いで二次純水製造装置４８に送られ、更に精製処
理がなされる。即ち、一次純水４６は、まず紫外線酸化
装置５０で酸化分解されてＴＯＣ成分を減少させられた
後、非再生型イオン交換装置５２でイオン成分が除去さ
れ、最後に限外濾過装置５４で生菌、死菌等の微粒子成
分が除かれて超純水５６となり、ユースポイントに供給
されるものである。ここで、二次純水製造装置４８は紫
外線酸化装置５０から限外濾過装置５４までで構成され
ており、限外濾過装置５４の代りに精密濾過装置や逆浸
透膜装置が使用されることもある。
は、次いで二次純水製造装置４８に送られ、更に精製処
理がなされる。即ち、一次純水４６は、まず紫外線酸化
装置５０で酸化分解されてＴＯＣ成分を減少させられた
後、非再生型イオン交換装置５２でイオン成分が除去さ
れ、最後に限外濾過装置５４で生菌、死菌等の微粒子成
分が除かれて超純水５６となり、ユースポイントに供給
されるものである。ここで、二次純水製造装置４８は紫
外線酸化装置５０から限外濾過装置５４までで構成され
ており、限外濾過装置５４の代りに精密濾過装置や逆浸
透膜装置が使用されることもある。
【０００５】ところが上述した従来装置は以下の様な欠
点がある。すなわち、前処理装置においては （１）凝集沈殿装置と重力式濾過装置を組合せた前処理
装置は処理ＬＶ（線速度：ｍ／Ｈ）が低い為、設置面積
が大きくなる。 （２）十分な凝集沈殿、又は凝集濾過を行なう為に凝集
剤の注入が必要であり、更に低濁度の原水を処理する場
合は、原水に濁質（ベントナイト、又はカオリン）の注
入が必要となるが、これは繁雑で、かつ不経済なもので
ある。
点がある。すなわち、前処理装置においては （１）凝集沈殿装置と重力式濾過装置を組合せた前処理
装置は処理ＬＶ（線速度：ｍ／Ｈ）が低い為、設置面積
が大きくなる。 （２）十分な凝集沈殿、又は凝集濾過を行なう為に凝集
剤の注入が必要であり、更に低濁度の原水を処理する場
合は、原水に濁質（ベントナイト、又はカオリン）の注
入が必要となるが、これは繁雑で、かつ不経済なもので
ある。
【０００６】また、一次純水製造装置においては、 （１）真空脱気塔の塔高は通常１０ｍ程度必要である
為、専用の架台が必要となる。又、この真空脱気塔を建
屋の屋上に設置する場合には、真空脱気塔の運転重量を
考慮した建屋構造とする必要があり、建築費が高額にな
る。 （２）再生型イオン交換装置においては、１回／日程度
のイオン交換樹脂の再生操作が必要となり、運転管理が
複雑である。 （３）イオン交換樹脂の再生時に多量の強酸、強アルカ
リの排水が発生するが、この排水の処理が複雑になる。 （４）塩酸、苛性ソーダ等の再生薬品を多量に使用する
為、不経済である。
為、専用の架台が必要となる。又、この真空脱気塔を建
屋の屋上に設置する場合には、真空脱気塔の運転重量を
考慮した建屋構造とする必要があり、建築費が高額にな
る。 （２）再生型イオン交換装置においては、１回／日程度
のイオン交換樹脂の再生操作が必要となり、運転管理が
複雑である。 （３）イオン交換樹脂の再生時に多量の強酸、強アルカ
リの排水が発生するが、この排水の処理が複雑になる。 （４）塩酸、苛性ソーダ等の再生薬品を多量に使用する
為、不経済である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述した欠点
を解決するためになされたもので、超純水製造装置の設
置面積を小さくし、再生排水を出さず、薬品をほとんど
使用せず、運転管理が簡単で、建屋高さの制限も受けな
い超純水製造装置を提供することを目的とするものであ
る。
を解決するためになされたもので、超純水製造装置の設
置面積を小さくし、再生排水を出さず、薬品をほとんど
使用せず、運転管理が簡単で、建屋高さの制限も受けな
い超純水製造装置を提供することを目的とするものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の超純水製造装置を、少なくとも膜除濁装置を
有し供給される原水を処理して前処理水とする前処理装
置と、少なくとも逆浸透膜装置と電気式脱イオン水製造
装置とを有し前記前処理水を処理して一次純水とする一
次純水製造装置と、前記一次純水を更に精製処理して超
純水とする二次純水製造装置とからなるように構成する
ものである。
に本発明の超純水製造装置を、少なくとも膜除濁装置を
有し供給される原水を処理して前処理水とする前処理装
置と、少なくとも逆浸透膜装置と電気式脱イオン水製造
装置とを有し前記前処理水を処理して一次純水とする一
次純水製造装置と、前記一次純水を更に精製処理して超
純水とする二次純水製造装置とからなるように構成する
ものである。
【０００９】以下、本発明の一実施態様を図面を用いて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１０】図１中２は原水で、この原水２はまず少な
くとも膜除濁装置を有する前処理装置４で処理される。
くとも膜除濁装置を有する前処理装置４で処理される。
【００１１】即ち、上水、井水等の原水２は、まず活性
炭濾過器６に送られ、ここで原水中に含まれる残留塩
素、有機物等が除去される。次いで、濾過体として例え
ば中空糸膜モジュールを用いる膜除濁装置８で処理し、
濁度成分の除去が行なわれ、前処理水１０となる。ここ
で膜除濁装置８は精密濾過膜（ＭＦ膜）あるいは限外濾
過膜（ＵＦ膜）等の膜を用いて濾過を行なうもので、膜
の材質としてはポリスルホン、ポリエチレン、ポリエー
テルスルホン、ポリプロピレン等がある。
炭濾過器６に送られ、ここで原水中に含まれる残留塩
素、有機物等が除去される。次いで、濾過体として例え
ば中空糸膜モジュールを用いる膜除濁装置８で処理し、
濁度成分の除去が行なわれ、前処理水１０となる。ここ
で膜除濁装置８は精密濾過膜（ＭＦ膜）あるいは限外濾
過膜（ＵＦ膜）等の膜を用いて濾過を行なうもので、膜
の材質としてはポリスルホン、ポリエチレン、ポリエー
テルスルホン、ポリプロピレン等がある。
【００１２】また、膜の形状としては上記中空糸状のも
のに限らず、スパイラル状、管状、平膜状等のものを使
用することができる。
のに限らず、スパイラル状、管状、平膜状等のものを使
用することができる。
【００１３】上記のようにして前処理装置４で処理をさ
れて得られた前処理水１０は、次いで少なくとも逆浸透
膜装置と電気式脱イオン水製造装置とを有する一次純水
製造装置１２で処理される。即ち、前処理水は、まず逆
浸透膜装置１４に送られ、ここで脱塩処理がなされる。
れて得られた前処理水１０は、次いで少なくとも逆浸透
膜装置と電気式脱イオン水製造装置とを有する一次純水
製造装置１２で処理される。即ち、前処理水は、まず逆
浸透膜装置１４に送られ、ここで脱塩処理がなされる。
【００１４】逆浸透膜装置１４としては、種々の逆浸透
膜を用いた公知のものを使用できるが、特に低圧逆浸透
膜を装着したものが好ましい。
膜を用いた公知のものを使用できるが、特に低圧逆浸透
膜を装着したものが好ましい。
【００１５】逆浸透膜装置１４の透過水１５は次いで窒
素曝気装置１６へ通水され、脱酸素、脱炭酸されて脱酸
素水になる。又、窒素曝気装置の他に、例えばパラジウ
ム触媒樹脂を用いた脱酸素装置、膜脱気装置も利用でき
る。脱酸素水１７は、次いで電気式脱イオン水製造装置
１８に送られる。
素曝気装置１６へ通水され、脱酸素、脱炭酸されて脱酸
素水になる。又、窒素曝気装置の他に、例えばパラジウ
ム触媒樹脂を用いた脱酸素装置、膜脱気装置も利用でき
る。脱酸素水１７は、次いで電気式脱イオン水製造装置
１８に送られる。
【００１６】ここで電気式脱イオン水製造装置は脱塩及
び微粒子の除去を目的とし、アニオン交換膜とカチオン
交換膜とで形成される間隙にカチオン交換樹脂とアニオ
ン交換樹脂とを充填して脱塩室とし、当該脱塩室内に被
処理水を通過させると共に、前記両イオン交換膜を介し
て被処理水の流れに対して直角方向に直流電流を作用さ
せて両イオン交換膜の外側に流れている濃縮水中に被処
理水中のイオンを電気的に排除しながら脱イオン水を製
造するもので、脱塩室内にイオン交換樹脂等のイオン交
換体を充填しているにもかかわらず酸、アルカリ等の再
生薬品を一切使用せずに脱イオン水を製造することがで
きるものである。
び微粒子の除去を目的とし、アニオン交換膜とカチオン
交換膜とで形成される間隙にカチオン交換樹脂とアニオ
ン交換樹脂とを充填して脱塩室とし、当該脱塩室内に被
処理水を通過させると共に、前記両イオン交換膜を介し
て被処理水の流れに対して直角方向に直流電流を作用さ
せて両イオン交換膜の外側に流れている濃縮水中に被処
理水中のイオンを電気的に排除しながら脱イオン水を製
造するもので、脱塩室内にイオン交換樹脂等のイオン交
換体を充填しているにもかかわらず酸、アルカリ等の再
生薬品を一切使用せずに脱イオン水を製造することがで
きるものである。
【００１７】当該電気式脱イオン水製造装置としては公
知のものがそのまま使用できる。
知のものがそのまま使用できる。
【００１８】上記、逆浸透膜装置１４、窒素曝気装置１
６、電気式脱イオン水製造装置１８を用いることによ
り、前処理水１０に含まれる溶存酸素、塩類、微粒子、
ＴＯＣ等の除去が行なわれ、一次純水２０が得られる。
６、電気式脱イオン水製造装置１８を用いることによ
り、前処理水１０に含まれる溶存酸素、塩類、微粒子、
ＴＯＣ等の除去が行なわれ、一次純水２０が得られる。
【００１９】上記のようにして得られた一次純水２０
は、次いで二次純水製造装置２２によって更に精製処理
がなされる。即ち、上記のようにして得られた一次純水
２０はまず、紫外線（ＵＶ）酸化装置２４によりＴＯＣ
の低減がなされた後、予め別の場所で再生処理されたイ
オン交換樹脂を充填した非再生型イオン交換装置２６に
送られ、微量溶解塩類の脱塩がなされ、次いで限外濾過
膜装置２８へ送られて処理され、これにより超純水３０
が得られるものである。
は、次いで二次純水製造装置２２によって更に精製処理
がなされる。即ち、上記のようにして得られた一次純水
２０はまず、紫外線（ＵＶ）酸化装置２４によりＴＯＣ
の低減がなされた後、予め別の場所で再生処理されたイ
オン交換樹脂を充填した非再生型イオン交換装置２６に
送られ、微量溶解塩類の脱塩がなされ、次いで限外濾過
膜装置２８へ送られて処理され、これにより超純水３０
が得られるものである。
【００２０】ここでＵＶ酸化装置２４はＴＯＣ濃度を低
減するために用いられる装置で、種々の水銀灯を用いた
公知のものが使用できるが、特に低圧水銀灯を用いたも
のが好ましい。
減するために用いられる装置で、種々の水銀灯を用いた
公知のものが使用できるが、特に低圧水銀灯を用いたも
のが好ましい。
【００２１】非再生型イオン交換装置２６としては、通
常は塔内にＨ形のカチオン交換樹脂と、ＯＨ形のアニオ
ン交換樹脂との混合樹脂を充填した混床式イオン交換
塔、又はカチオン交換塔とアニオン交換塔とを備えた複
床式イオン交換装置などを使用することが好ましい。
常は塔内にＨ形のカチオン交換樹脂と、ＯＨ形のアニオ
ン交換樹脂との混合樹脂を充填した混床式イオン交換
塔、又はカチオン交換塔とアニオン交換塔とを備えた複
床式イオン交換装置などを使用することが好ましい。
【００２２】限外濾過膜装置２８は、被処理水の一部を
膜を通過させて透過水として取出すとともに、被処理水
の他部を膜を透過させずに濃縮水として排出する膜濾過
装置で、公知の装置がそのまま使用できる。なお、膜を
透過せずに排出する濃縮水は電気式脱イオン水製造装置
入口側に循環させることができる。
膜を通過させて透過水として取出すとともに、被処理水
の他部を膜を透過させずに濃縮水として排出する膜濾過
装置で、公知の装置がそのまま使用できる。なお、膜を
透過せずに排出する濃縮水は電気式脱イオン水製造装置
入口側に循環させることができる。
【００２３】なお、電気式脱イオン水製造装置は、脱塩
及び除微粒子の能力を発揮させる目的で、二次純水装置
に組込むこともある。
及び除微粒子の能力を発揮させる目的で、二次純水装置
に組込むこともある。
【００２４】上記実施態様においては、前処理装置とし
て活性炭濾過器６を組込んでいるが、原水２の水質によ
ってはこれを省略してもよく、更に活性炭濾過器と膜除
濁装置の順序を逆にしてもよい。
て活性炭濾過器６を組込んでいるが、原水２の水質によ
ってはこれを省略してもよく、更に活性炭濾過器と膜除
濁装置の順序を逆にしてもよい。
【００２５】また、二次純水製造装置２２においては上
記構成に限られずＵＶ酸化装置２４の代りにＵＶ殺菌装
置を用いたり、あるいは限外濾過膜装置２８の代りに精
密濾過膜（ＭＦ）装置や逆浸透膜装置を用いてもよく、
更にＵＶ酸化装置２４と非再生型イオン交換装置２６と
の間に、塔内にＯＨ形のアニオン交換樹脂を充填してな
る非再生型のアニオンポリシャーを組込んだ構成等とす
ることもできる。
記構成に限られずＵＶ酸化装置２４の代りにＵＶ殺菌装
置を用いたり、あるいは限外濾過膜装置２８の代りに精
密濾過膜（ＭＦ）装置や逆浸透膜装置を用いてもよく、
更にＵＶ酸化装置２４と非再生型イオン交換装置２６と
の間に、塔内にＯＨ形のアニオン交換樹脂を充填してな
る非再生型のアニオンポリシャーを組込んだ構成等とす
ることもできる。
【００２６】
【発明の効果】本発明の効果を以下に記載する。 （１）イオン交換装置の再生が不要となる為、運転管理
が容易となると共に、再生薬品が不要となる為、超純水
製造現場における薬品の使用量を大幅に減少できる。 （２）イオン交換装置において再生操作がなくなり、再
生用水が不要となる為、水利用率の向上が図れる。 （３）再生排水が排出されない為、再生排水を処理する
為の排水処理設備が不要となる。 （４）前処理装置において、広い設置面積を必要とする
凝集沈殿装置、及び重力式濾過装置の代りにコンパクト
設計が可能な膜除濁装置を用いるので、超純水製造装置
全体の設置面積を従来より小さくすることができる。 （５）電気式脱イオン水製造装置を採用することによ
り、一次純水製造装置において微粒子の低減が図れると
いう副次的な効果もある。
が容易となると共に、再生薬品が不要となる為、超純水
製造現場における薬品の使用量を大幅に減少できる。 （２）イオン交換装置において再生操作がなくなり、再
生用水が不要となる為、水利用率の向上が図れる。 （３）再生排水が排出されない為、再生排水を処理する
為の排水処理設備が不要となる。 （４）前処理装置において、広い設置面積を必要とする
凝集沈殿装置、及び重力式濾過装置の代りにコンパクト
設計が可能な膜除濁装置を用いるので、超純水製造装置
全体の設置面積を従来より小さくすることができる。 （５）電気式脱イオン水製造装置を採用することによ
り、一次純水製造装置において微粒子の低減が図れると
いう副次的な効果もある。
【００２７】即ち、本発明によれば、上述する構成にす
ることにより、廃棄物がほとんど生じることもなく、し
かも系外への放出水もそのまま環境中に放流できるもの
である。
ることにより、廃棄物がほとんど生じることもなく、し
かも系外への放出水もそのまま環境中に放流できるもの
である。
【図１】本発明の１実施態様を示すフロー図である。
【図２】従来の超純水製造装置の１例を示すフロー図で
ある。
ある。
２ 原水 ４ 前処理装置 ８ 膜除濁装置 １０ 前処理水 １２ 一次純水製造装置 １４ 逆浸透膜装置 １８ 電気式脱イオン水製造装置 ２０ 一次純水 ２２ 二次純水製造装置 ３０ 超純水
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年５月２６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】逆浸透膜装置１４の透過水１５は次いで窒
素曝気装置１６へ通水され、脱酸素、脱炭酸されて脱酸
素水になる。なお、場合によっては逆浸透膜装置と窒素
曝気装置の順序を逆にし、窒素曝気装置を逆浸透膜装置
の前段に配置するようにしてもよい。又、窒素曝気装置
の他に、例えばパラジウム触媒樹脂を用いた脱酸素装
置、膜脱気装置も利用できる。脱酸素水１７は、次いで
電気式脱イオン水製造装置１８に送られる。
素曝気装置１６へ通水され、脱酸素、脱炭酸されて脱酸
素水になる。なお、場合によっては逆浸透膜装置と窒素
曝気装置の順序を逆にし、窒素曝気装置を逆浸透膜装置
の前段に配置するようにしてもよい。又、窒素曝気装置
の他に、例えばパラジウム触媒樹脂を用いた脱酸素装
置、膜脱気装置も利用できる。脱酸素水１７は、次いで
電気式脱イオン水製造装置１８に送られる。
Claims (1)
- 【請求項１】 少なくとも膜除濁装置を有し供給される
原水を処理して前処理水とする前処理装置と、少なくと
も逆浸透膜装置と電気式脱イオン水製造装置とを有し前
記前処理水を処理して一次純水とする一次純水製造装置
と、前記一次純水を更に精製処理して超純水とする二次
純水製造装置とからなることを特徴とする超純水製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15026393A JPH0747364A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15026393A JPH0747364A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 超純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0747364A true JPH0747364A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=15493122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15026393A Pending JPH0747364A (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0747364A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003024714A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-28 | Nippon Rensui Co Ltd | 純水製造装置 |
| JP2003266097A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-24 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
| JP2007528781A (ja) * | 2003-03-28 | 2007-10-18 | ケミトリート ピーティーイー リミテッド | 連続式電気脱イオン装置および方法 |
| CN100406393C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-07-30 | 奥加诺株式会社 | 超纯水制造系统及其运转方法 |
| JP2009112945A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
| JP2016034636A (ja) * | 2014-08-01 | 2016-03-17 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ | 浄水システムおよび方法 |
| KR102192071B1 (ko) * | 2020-01-06 | 2020-12-17 | 비케이이엔지 주식회사 | 전기탈이온장치를 이용한 폐수 처리수 재이용 순수생산방법 |
-
1993
- 1993-06-22 JP JP15026393A patent/JPH0747364A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003024714A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-28 | Nippon Rensui Co Ltd | 純水製造装置 |
| JP2003266097A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-24 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
| CN100406393C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-07-30 | 奥加诺株式会社 | 超纯水制造系统及其运转方法 |
| JP2007528781A (ja) * | 2003-03-28 | 2007-10-18 | ケミトリート ピーティーイー リミテッド | 連続式電気脱イオン装置および方法 |
| JP4648307B2 (ja) * | 2003-03-28 | 2011-03-09 | シーメンス ピーティーイー リミテッド | 連続式電気脱イオン装置および方法 |
| JP2009112945A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
| JP2016034636A (ja) * | 2014-08-01 | 2016-03-17 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ | 浄水システムおよび方法 |
| KR102192071B1 (ko) * | 2020-01-06 | 2020-12-17 | 비케이이엔지 주식회사 | 전기탈이온장치를 이용한 폐수 처리수 재이용 순수생산방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100976903B1 (ko) | 산성 조건하에서 역삼투에 의한 유동체 처리 방법과 장치 | |
| KR100687361B1 (ko) | 오존 용해수의 제조장치 | |
| JP3426072B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3180348B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
| EP0433893A2 (en) | Process and system for purifying pure water or ultrapure water | |
| KR20060114333A (ko) | 산화 및 막 여과 수단에 의한 수성 유출물의 정화설비 및방법 | |
| JP3575271B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
| JP3698093B2 (ja) | 水処理方法および水処理装置 | |
| JPH10272495A (ja) | 高濃度の塩類を含有する有機性廃水の処理方法 | |
| JP2004000919A (ja) | 脱塩水製造装置 | |
| JP2007307561A (ja) | 高純度水の製造装置および方法 | |
| JP4635827B2 (ja) | 超純水製造方法および装置 | |
| JP3137831B2 (ja) | 膜処理装置 | |
| JPH0747364A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3656458B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
| JP2000015257A (ja) | 高純度水の製造装置および方法 | |
| KR102179427B1 (ko) | 분자파괴장치 및 융합 탈이온을 적용한 농축수 패키지의 무방류 처리 시스템 | |
| JP4449092B2 (ja) | 純水製造装置および方法 | |
| JP6629383B2 (ja) | 超純水製造方法 | |
| JP2002210494A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH10309588A (ja) | 水処理方法、水処理装置及び純水製造装置 | |
| WO2022024815A1 (ja) | 純水製造装置及び超純水製造装置並びに純水製造方法及び超純水製造方法 | |
| JP3081079B2 (ja) | 脱炭酸装置、及び同装置を組込んだ純水製造装置 | |
| JP6924300B1 (ja) | 排水処理方法、超純水製造方法及び排水処理装置 | |
| JP2002355683A (ja) | 超純水製造方法及び超純水製造装置 |