JP2014027255A - セラミック電子部品及びセラミック電子装置 - Google Patents

セラミック電子部品及びセラミック電子装置 Download PDF

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Abstract

【課題】耐湿性に優れたセラミック電子部品を提供する。
【解決手段】セラミック電子部品1は、セラミック素体10と、第1の内部電極11と、第2の内部電極12と、外部電極20と、第1の補助電極16とを備える。第1の補助電極16は、セラミック素体10の一の面10aに引き出されている。第1の内部電極11は、一の面10aにおいて一の方向Wに延びるように設けられている。一の面10aの一の方向Wにおいて、第1の補助電極16が、第1の内部電極11が設けられた領域からさらに外側にまで至っている。外部電極20が、第1の内部電極11及び第1の補助電極16を覆うように設けられている。
【選択図】図3

Description

本発明は、セラミック電子部品及びセラミック電子装置に関する。
従来、基板には、ICチップ、セラミック電子部品などが実装されることがある。ICチップは、半田に含まれるフラックスにより悪影響を受ける場合がある。このため、ICチップとセラミック電子部品とは、ワイヤボンディングを用いて、電気的に接続されることがある。例えば、特許文献1には、ワイヤボンディングを用いてICチップに電気的に接続される積層コンデンサが開示されている。
近年、セラミック電子部品の小型化により、ワイヤを接続するための外部電極をセラミック電子部品に精度良く形成することが困難になってきている。外部電極を精度良く形成する方法としては、例えば、特許文献2に開示されているような、直接めっきにより形成する方法が考えられる。
実開平5−4451号公報 特開2004−327983号公報
しかしながら、外部電極を直接めっきにより形成した場合は、外部電極とセラミック素体との間などからセラミック電子部品の内部に水分が浸入しやすく、セラミック電子部品の耐湿性が低下するという問題がある。
本発明の主な目的は、耐湿性に優れたセラミック電子部品を提供することにある。
本発明に係るセラミック電子部品は、セラミック素体と、第1の内部電極と、第2の内部電極と、外部電極と、第1の補助電極とを備える。セラミック素体は、直方体状である。第1の内部電極は、セラミック素体の内部に設けられている。第1の内部電極は、セラミック素体の一の面に引き出されている。第2の内部電極は、セラミック素体の内部に設けられている。第2の内部電極は、第1の内部電極と対向している。第2の内部電極は、一の面の反対側に位置する反対面に引き出されている。外部電極は、セラミック素体の一の面の上に配されている。外部電極は、第1の内部電極に接続されている。外部電極は、めっき膜からなる。第1の補助電極は、セラミック素体の内部に設けられている。第1の補助電極は、セラミック素体の一の面に引き出されている。第1の内部電極は、一の面において一の方向に延びるように設けられている。一の面の一の方向において、第1の補助電極が、第1の内部電極が設けられた領域からさらに外側にまで至っている。外部電極が、第1の内部電極及び第1の補助電極を覆うように設けられている。
本発明に係るセラミック電子部品のある特定の局面では、第1の内部電極が一の方向に対して垂直な他の方向に沿って複数設けられている。第1の補助電極が、複数の第1の内部電極の間に位置している。
本発明に係るセラミック電子部品の別の特定の局面では、第1の補助電極が、セラミック素体の第1の内部電極と平行な他の面に最も近い第1の内部電極と他の面との間に位置している。
本発明に係るセラミック電子部品のさらに他の特定の局面では、一の面における第1の内部電極の一の方向の長さが、セラミック素体内部における第1の内部電極の一の面から最も離れた部分の一の方向の長さよりも短い。
本発明に係るセラミック電子部品のさらに別の特定の局面では、一の面が主面により構成されている。
本発明に係るセラミック電子部品のまた他の特定の局面では、セラミック素体の内部に設けられており、セラミック素体の反対面に引き出された第2の補助電極を備える。第2の補助電極よりも一の方向に対して垂直な他の方向の外側に位置する第1の補助電極を有する。
本発明に係るセラミック電子部品のまた別の特定の局面では、セラミック素体の内部に設けられており、セラミック素体の表面に引き出されていない第3の内部電極を備える。
本発明に係るセラミック電子装置は、上記のセラミック電子部品と、基板と、ワイヤとを備える。基板は、セラミック電子部品の反対面が主面において対向するように配されている。ワイヤは、外部電極に電気的に接続されている。
本発明の主な目的は、耐湿性に優れたセラミック電子部品を提供することにある。
本発明の第1の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的斜視図である。 本発明の第1の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。 本発明の第1の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的平面図である。 本発明の第1の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的裏面図である。 図2の線V−Vにおける略図的断面図である。 図2の線VI−VIにおける略図的断面図である。 本発明の一実施形態におけるセラミック電子装置の略図的断面図である。 本発明の第2の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。 本発明の第2の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的平面図である。 本発明の第2の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的裏面図である。 図8の線XI−XIにおける略図的断面図である。 図8の線XII−XIIにおける略図的断面図である。 本発明の第3の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。 本発明の第4の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。 本発明の第5の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。 本発明の第6の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。 本発明の第6の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的平面図である。 本発明の第7の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。 本発明の第7の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的平面図である。 本発明の第8の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。 本発明の第8の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的平面図である。
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
また、実施形態などにおいて参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものであり、図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率などが異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率などは、以下の説明を参酌して判断されるべきである。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的斜視図である。図2は、第1の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。図3は、第1の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的平面図である。図4は、第1の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的裏面図である。図5は、図2の線V−Vにおける略図的断面図である。図6は、図2の線VI−VIにおける略図的断面図である。
図1〜図6に示されるように、セラミック電子部品1は、セラミック素体10を備えている。セラミック素体10は、直方体状である。セラミック素体10は、互いに対向している第1及び第2の主面10a、10bと、互いに対向している第1及び第2の側面10c、10dと、互いに対向している第1及び第2の端面10e、10fとを有する。第1及び第2の主面10a、10bのそれぞれは、長さ方向L及び幅方向Wに沿って延びている。第1及び第2の側面10c、10dのそれぞれは、長さ方向L及び厚み方向Tに沿って延びている。第1及び第2の端面10e、10fのそれぞれは、幅方向W及び厚み方向Tに沿って延びている。なお、長さ方向Lと幅方向Wとは互いに垂直である。厚み方向Tは、長さ方向L及び幅方向Wのそれぞれに対して垂直である。
セラミック素体10においては、長さ方向Lの寸法と、幅方向Wの寸法とが、実質的に同じである。
本発明において、「直方体」には、角部や稜線部が丸められた直方体も含まれるものとする。すなわち、セラミック素体10は、角部や稜線部の少なくとも一部が丸められた直方体状に形成されていてもよい。
図2に示されるように、セラミック素体10は、複数のセラミック部15(セラミック層)が長さ方向Lに沿って積層された積層体により構成されている。セラミック部15の厚みは、0.5μm〜10μmであることが好ましい。
セラミック素体10は、適宜のセラミック材料により形成されている。セラミック素体10を構成するセラミック材料は、セラミック電子部品1の特性などにより適宜選択される。
例えば、セラミック電子部品1がセラミックコンデンサ素子である場合は、セラミック素体10は、誘電体セラミックを主成分とする材料により形成することができる。誘電体セラミックの具体例としては、例えば、BaTiO、CaTiO、SrTiO、CaZrOなどが挙げられる。セラミック素体10には、例えば、Mn化合物、Mg化合物、Si化合物、Co化合物、Ni化合物、希土類化合物などの副成分を適宜添加してもよい。
また、例えば、セラミック電子部品1がセラミック圧電素子である場合には、セラミック素体10は、例えば、圧電セラミックを主成分とする材料により形成することができる。圧電セラミックの具体例としては、例えば、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)系セラミックなどが挙げられる。
例えば、セラミック電子部品1がサーミスタ素子である場合には、セラミック素体10は、例えば、半導体セラミックにより形成することができる。半導体セラミックの具体例としては、例えば、スピネル系セラミックなどが挙げられる。
例えば、セラミック電子部品1がインダクタ素子である場合には、セラミック素体10は、磁性体セラミックにより形成することができる。磁性体セラミックの具体例としては、例えば、フェライトセラミックなどが挙げられる。
以下、本実施形態では、セラミック電子部品1が、セラミックコンデンサであり、セラミック素体10が、誘電体セラミックを主成分とする材料により形成されている例について説明する。
セラミック素体10の内部には、複数の第1の内部電極11と、複数の第2の内部電極12とが設けられている。第1及び第2の内部電極11,12のそれぞれは、セラミック素体10の内部において、厚み方向T及び幅方向Wに沿って配置されている。第1及び第2の内部電極11,12は、長さ方向Lに沿って複数設けられている。第1及び第2の内部電極11,12は、長さ方向Lに沿って交互に配列されている。第1及び第2の内部電極11,12は、セラミック部15を介して長さ方向Lにおいて対向している。ただし、本発明において、第1及び第2の内部電極11,12は、セラミック部15を介して対向している必要は必ずしもない。
第1の内部電極11は、第1の主面10aに引き出されている。第1の内部電極11は、第1の主面10aにおいて幅方向Wに延びるように設けられている。第1の内部電極11は、第1の主面10aの反対側に位置する反対面である第2の主面10b、第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fには露出していない。
本実施形態においては、図5に示されるように、第1の主面10aにおける第1の内部電極11の幅方向Wの長さX1は、セラミック素体10内部における第1の内部電極11の第1の主面10aから最も離れた部分の幅方向Wの長さX2よりも短い。ただし、本発明は、この形態に限定されない。本発明においては、第1の主面10aにおける第1の内部電極11の幅方向Wの長さは、セラミック素体10内部における第1の内部電極11の幅方向Wの長さと同じであってもよいし、セラミック素体10内部における第1の内部電極11の幅方向Wの長さよりも長くてもよい。第1及び第2の内部電極11,12の対向面積を大きくして容量を確保するには、セラミック素体10内部における第1の内部電極11の幅方向Wの長さは、第1の主面10aにおける第1の内部電極11の幅方向Wの長さよりも長いことが好ましい。
第2の内部電極12は、第2の主面10bに引き出されている。第2の内部電極12は、第2の主面10bにおいて幅方向Wに延びるように設けられている。第2の内部電極12は、第1の主面10a、第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fには露出していない。
本実施形態においては、図6に示されるように、第2の主面10bにおける第2の内部電極12の幅方向Wの長さX3は、セラミック素体10内部における第2の内部電極12の幅方向Wの長さX4よりも短い。ただし、本発明は、この形態に限定されない。本発明においては、第2の主面10bにおける第2の内部電極12の幅方向Wの長さは、セラミック素体10内部における第2の内部電極12の幅方向Wの長さと同じであってもよいし、セラミック素体10内部における第2の内部電極12の幅方向Wの長さよりも長くてもよい。第1及び第2の内部電極11,12の対向面積を大きくして容量を確保するには、セラミック素体10内部における第2の内部電極12の幅方向Wの長さは、第2の主面10bにおける第2の内部電極12の幅方向Wの長さより長いことが好ましい。
第1及び第2の内部電極11,12の厚みは、それぞれ、0.3μm〜2.0μmであることが好ましい。
第1及び第2の内部電極11,12は、導電性を有するものである限りにおいて特に限定されない。第1及び第2の内部電極11,12は、例えば、Ni、Cu、Ag、Pd、Auなどの金属や、Ag−Pd合金などのこれらの金属のうちの少なくとも一種を含む合金により形成することができる。
セラミック素体10の内部には、矩形状の第1及び第2の補助電極16,17が設けられている。本発明において、「補助電極」とは、セラミック電子部品の機能の実現に実質的に寄与していない電極をいう。第1及び第2の補助電極16,17は、それぞれ、例えば、第1及び第2の内部電極と同じ金属や合金により形成することができる。
図3に示されるように、複数の第1の補助電極16の少なくともひとつは、複数の第1の内部電極11の間に位置している。複数の第1の補助電極16の少なくともひとつは、セラミック素体10の第1の内部電極11と平行な面である第1の端面10eに最も近い第1の内部電極11と第1の端面10eとの間に位置している。また、複数の第1の補助電極16の少なくともひとつは、セラミック素体10の第1の内部電極11と平行な面である第2の端面10fに最も近い第1の内部電極11と第2の端面10fとの間に位置している。
第1の補助電極16は、第1の主面10aに引き出されている。第1の補助電極16は、第1の主面10aにおいて幅方向Wに延びるように設けられている。第1の補助電極16は、第2の主面10b、第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fには露出していない。第1の補助電極16は、第1の主面10aの幅方向Wにおいて、第1の内部電極11が設けられた領域からさらに外側にまで至っている。
図4に示されるように、複数の第2の補助電極17の少なくともひとつは、複数の第2の内部電極12の間に位置している。複数の第2の補助電極17の少なくともひとつは、セラミック素体10の第2の内部電極12と平行な面である第1の端面10eに最も近い第1の内部電極12と第1の端面10eとの間に位置している。また、複数の第2の補助電極17の少なくともひとつは、セラミック素体10の第2の内部電極12と平行な面である第2の端面10fに最も近い第2の内部電極12と第2の端面10fとの間に位置している。
第2の補助電極17は、第1の主面10a、第1及び第2の側面10c、10d並びに第1及び第2の端面10e、10fには露出していない。第2の補助電極17は、第2の主面10bの幅方向Wにおいて、第2の内部電極12が設けられた領域からさらに外側にまで至っている。図3に示されるように、セラミック電子部品1は、第2の補助電極17よりも幅方向Wに対して垂直な長さ方向Lの外側に位置する第1の補助電極を有する。
セラミック素体10の第1及び第2の主面10a,10bの上には、それぞれ、外部電極20が配されている。外部電極20は、セラミック素体10の直上に設けられている。第1の主面10aの上に配された外部電極20は、第1の内部電極11に接続されている。第2の主面10bの上に配された外部電極20は、第2の内部電極12に接続されている。第1の主面10aの上に配された外部電極20は、第1の内部電極11及び第1の補助電極16を覆うように設けられている。第2の主面10bの上に配された外部電極20は、第2の内部電極12及び第2の補助電極17を覆うように設けられている。
外部電極20は、少なくとも1つのめっき膜により構成されている。外部電極20は、複数のめっき膜の積層体により構成されていてもよい。めっき膜1層当たりの厚みは、1μm〜15μmであることが好ましい。
外部電極20は、Cu,Ni,Sn,Pb,Au,Ag,Pd,Bi,Znなどの金属や、これらの金属のうちの少なくとも一種を含む合金により形成することができる。外部電極20は、特に、Cu/Ni/Auの3層構造またはNi/Auの2層構造であることが好ましい。
次に、セラミック電子部品1の製造方法の一例について説明する。
まず、セラミック素体10を構成するためのセラミック材料を含むセラミックグリーンシートを用意する。次に、そのセラミックグリーンシートの上に、導電性ペーストを塗布することにより、導電パターンを形成する。
次に、導電パターンが形成されていない複数枚のセラミックグリーンシート、第1または第2の内部電極11,12及び第1または第2の補助電極16,17に対応した形状の導電パターンが形成されているセラミックグリーンシート、及び導電パターンが形成されていない複数枚のセラミックグリーンシートをこの順番で積層し、積層方向にプレスすることにより、マザー積層体を作製する。
次に、マザー積層体の上に、仮想のカットラインに沿ってマザー積層体をカッティングすることにより、マザー積層体から複数の生のセラミック積層体を作製する。
次に、生のセラミック積層体の焼成を行う。この焼成工程において、第1及び第2の内部電極11,12並びに第1及び第2の補助電極16,17が焼成される。
次に、めっき法により、焼成後のセラミック積層体の上にめっき膜からなる外部電極20を形成する。以上のようにして、セラミック電子部品1を製造することができる。
セラミック電子部品1においては、第1の主面10aの幅方向Wにおいて、第1の補助電極16が、第1の内部電極11が設けられた領域からさらに外側にまで至っている。よって、セラミック素体10と外部電極20との間から外部電極表面にめっき膜を形成する際に使用するめっき液や大気中の水分が浸入する場合に、水分が第1の内部電極11に至るまでの経路を長くすることができる。換言すれば、外部電極20の端とセラミック素体10の間から浸入した水分が第1の内部電極11に到達する前に、第1の補助電極16に浸入しやすくなる。そのため、第1の内部電極11において、絶縁抵抗の低下が生じにくい。よって、セラミック電子部品1は、耐湿性に優れている。
また、セラミック電子部品の外部電極にワイヤを接続する場合、ワイヤ接続時やワイヤ接続後に外部電極にかかる力によって、外部電極がセラミック素体から剥がれてしまう場合がある。これに対して、セラミック電子部品1では、外部電極20を構成するめっき膜と第1の補助電極16との接着面積が広いため、外部電極20のセラミック素体への接着力が大きい。よって、第1の主面10a上に配された外部電極20にワイヤを接続しても、外部電極20は、セラミック素体10から剥がれにくい。
セラミック電子部品1では、第1の補助電極16の一部が、セラミック素体10の第1の端面10eに最も近い第1の内部電極11と第1の端面10eとの間に位置している。このため、外部電極20の端部において、外部電極20とセラミック素体10との接着力がより大きい。また、第1の補助電極16の一部は、セラミック素体10の第2の端面10fに最も近い第1の内部電極11と第2の端面10fとの間に位置している。このため、外部電極20の端部において、外部電極20とセラミック素体10との接着力がより大きい。
セラミック電子部品1では、第1の主面10aにおいて、第1の補助電極16の面積が、第1の内部電極11の面積よりも大きい。このため、外部電極20とセラミック素体10との接着力がより高められている。
セラミック電子部品1では、第1の補助電極16が露出している第1の主面10aが、第1及び第2の側面10c,10d並びに第1及び第2の端面10e,10fそれぞれよりも面積の大きい主面により構成されている。このため、外部電極20の面積も広くなる。このような場合、セラミック素体10と外部電極20との接着力が大きくなることによる効果が大きい。
セラミック電子部品1は、例えば、図7に示されるようなセラミック電子装置1aの部品として使用することができる。セラミック電子装置1aは、セラミック電子部品1と、基板50と、ワイヤ80とを備えている。基板50は、セラミック電子部品1の第2の主面10bが、基板50の主面50aと対向するように配されている。基板50の上に配されたランド60の上に、導電性接着剤の硬化物70を介して、セラミック電子部品1の第2の主面10bが基板50の主面50aに対向するように配置されている。
ワイヤ80は、第1の主面10aの上に形成された外部電極20に導電性接着剤の硬化物70を介して電気的に接続されている。
セラミック電子部品1では、第1の主面10aにおける第1の内部電極11の面積に対する第1の補助電極16の面積の割合が、第2の主面10bおける第2の内部電極12の面積に対する第2の補助電極17の面積の割合よりも大きい。このため、例えば、第1の主面10aの上に位置する外部電極20の面積を大きくし、第2の主面10bの上に配された外部電極20の面積を小さくすることができる。第1の主面10aの上に位置する外部電極20の面積が大きい場合、第1の主面10aの上に配された外部電極20の上にワイヤを接続することが容易になる。一方、第2の主面10bの上に配された外部電極20の面積が小さい場合、図7に示すように、基板50の上に形成されたランド60の上に外部電極20を配置する際に、外部電極20が他の電子部品に接触してショートするなどの問題が生じにくい。
以下、本発明の好ましい実施形態の他の例について説明する。以下の説明において、上記第1の実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。
(第2の実施形態)
図8は、第2の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。図9は、第2の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的平面図である。図10は、第2の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的裏面図である。図11は、図8の線XI−XIにおける略図的断面図である。図12は、図8の線XII−XIIにおける略図的断面図である。
図8〜12に示されるように、セラミック電子部品2では、第1の内部電極11と第2の内部電極12とは、厚み方向Tにおいて一直線上に並んでいる。第1の補助電極16と第2の補助電極17とは、厚み方向Tにおいて、一直線上に並んでいる。
セラミック電子部品2は、第3の内部電極13を備えている。第3の内部電極13は、セラミック素体10の表面に引き出されていない。第3の内部電極13は、複数の第1の内部電極11の間と複数の第2の内部電極12の間とに位置し、第1の内部電極11と第2の内部電極12とそれぞれ厚み方向Tにおいて対向している。第3の内部電極13と第1及び第2の補助電極16,17とは、厚み方向Tにおいて、一直線上に並んでいる。セラミック電子部品2においても、セラミック電子部品1と同様の効果を奏する。
(第3の実施形態)
図13は、第3の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図である。図13に示されるように、第3の実施形態に係るセラミック電子部品3は、第2の実施形態に係るセラミック電子部品1と同様に、第3の内部電極13を有する。セラミック電子部品3においては、第1の補助電極16の一部が、セラミック素体10の第1の端面10eに最も近い第1の内部電極11と第1の端面10eとの間に位置している。また、第1の補助電極16の一部は、セラミック素体10の第2の端面10fに最も近い第1の内部電極11と第2の端面10fとの間に位置している。このため、外部電極20の端部において、外部電極20とセラミック素体10との接着力がより大きい。
(第4の実施形態)
図14は、第4の実施形態におけるセラミック電子部品の略図的断面図である。図14に示されるように、第4の実施形態に係るセラミック電子部品4は、第2の実施形態に係るセラミック電子部品2と同様に、第3の内部電極13を有する。また、セラミック電子部品4は、第3の実施形態に係るセラミック電子部品3と同様に、第1の補助電極16の一部が、セラミック素体10の第1の端面10eに最も近い第1の内部電極11と第1の端面10eとの間に位置している。また、第1の補助電極16の一部は、セラミック素体10の第2の端面10fに最も近い第1の内部電極11と第2の端面10fとの間に位置している。セラミック電子部品4では、さらに、第3の内部電極13の一部が、セラミック素体10の第1の端面10eに最も近い第1の内部電極11と第1の端面10eとの間に位置している。また、第3の内部電極13の一部が、セラミック素体10の第2の端面10fに最も近い第1の内部電極11と第2の端面10fとの間に位置している。セラミック電子部品4では、内部電極の配置を2種類のパターンで構成できるため、製造コストの点で好ましい。
(第5の実施形態)
図15は、第5の実施形態におけるセラミック電子部品の略図的断面図である。図15に示されるように、第5の実施形態に係るセラミック電子部品5は、第2の実施形態に係るセラミック電子部品2と同様に、第3の内部電極13を有する。セラミック電子部品5では、第1の内部電極11同士の間に複数の第1の補助電極16が配されている。このため、外部電極20とセラミック素体10との間から浸入する水分が内部電極に至る確率より補助電極に至る確率の方が高い。よって、セラミック電子部品5の耐湿性は高い。
(第6の実施形態)
図16及び図17は、第6の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図及び平面図である。
第6の実施形態に係るセラミック電子部品6では、セラミック素体10内において、第1の内部電極11と第2の内部電極12とが第1の実施形態と同様に配置されている。もっとも、第6の実施形態では、第1の内部電極11及び第2の内部電極12は、スプリット型の内部電極からなる。すなわち、第1の内部電極11は、同電位に接続される。セラミック層を介して重なり合っている二層の電極層11a,11bを有する。電極層11a,11bと同様に、第2の内部電極12もまた、二層の電極層12a,12bを有する。このように、本発明においては、第1及び第2の内部電極はスプリット型の内部電極であってもよい。
さらに、第6の実施形態においても、第1の実施形態と同様に、複数の第1及び第2の補助電極16,17が設けられている。第1及び第2の補助電極16,17も二層の電極層16a,16b,17a,17bを有するスプリット型の電極とされている。
図17に示すように、第1の補助電極16を代用して説明すると、第1の補助電極16は、幅方向Wにおいて、第1の内部電極11が設けられている領域からさらに外側の領域にまで至っている。従って、第1の実施形態と同様に、耐湿性を高めることができる。
なお、本実施形態では、図17に示すように、W方向において、第1の内部電極11が設けられている領域に露出しており、該領域からW方向外側には至っていない第3の補助電極21が設けられている。このように、本発明においては、内部電極が設けられている領域の外側に至っていない他の補助電極として、上記第3の補助電極21等がさらに設けられていてもよい。第6の実施形態は、その他の点については第1の実施形態と同様である。
(第7の実施形態)
図18及び図19は、第7の実施形態に係るセラミック電子部品7の略図的断面図及び平面図である。本実施形態のセラミック電子部品7は、第1及び第2の補助電極16,17の形成位置が異なることを除いては第6の実施形態と同様である。異なるところは、図19に示すように、第1の主面10a上のW方向において、第1の補助電極16は、第1の内部電極11が設けられている領域の端部の内側から外側にまたがるように設けられていることにある。言い換えれば、第1の補助電極16は、第1及び第2の内部電極11,12のW方向中央領域には至らないように設けられている。
図19では定かではないが、図18に示した第2の補助電極17も、同様に、第2の内部電極12が露出している第2の主面10bにおいて、W方向中央には至らないように設けられている。このように、本発明における第1及び第2の補助電極16,17は第1及び第2の内部電極11,12が設けられている領域の端部に跨るように該端部近傍のみに配置されていてもよい。
(第8の実施形態)
図20及び図21は、第8の実施形態に係るセラミック電子部品の略図的断面図及び平面図である。
第8の実施形態のセラミック電子部品8は、第1及び第2の補助電極16,17を除いては、第6の実施形態と同様である。本実施形態では、図21に示すように、第1の補助電極16は、第1の主面10a上において、W方向両端に至るように形成されている。すなわち、第1の補助電極16は、セラミック素体10内において、W方向両端、言い換えれば、第1の側面10cと第2の側面10dとに至るように設けられている。第2の補助電極17も同様である。
よって、第1,第2の補助電極16,17は、第1及び第2の側面10c及び10dに露出することとなる。従って、第1及び第2の側面10c,10dに至る折り返し部を有するように外部電極20を形成することが望ましい。第1,第2の補助電極16,17が第1,第2の側面10c,10dに露出しているので、折り返し部を確実に形成することができる。それによって、外部からのめっき液や水分が第1,第2の内部電極11,12に至る経路を第1の実施形態や第6の実施形態よりも長くすることができる。従って、上記のように耐湿性をより一層高めることが可能となる。
1,2,3,4,5,6,7,8…セラミック電子部品
1a…セラミック電子装置
10…セラミック素体
10a…第1の主面
10b…第2の主面
10c…第1の側面
10d…第2の側面
10e…第1の端面
10f…第2の端面
11…第1の内部電極
11a,11b,12a,12b,16a,16b,17a,17b…電極層
12…第2の内部電極
13…第3の内部電極
15…セラミック部
16…第1の補助電極
17…第2の補助電極
20…外部電極
21…第3の補助電極
50…基板
50a…基板の主面
60…ランド
70…導電性接着剤の硬化物
80…ワイヤ

Claims (8)

  1. 直方体状のセラミック素体と、
    前記セラミック素体の内部に設けられており、前記セラミック素体の一の面に引き出された第1の内部電極と、
    前記セラミック素体の内部に設けられており、前記第1の内部電極と対向しており、前記一の面の反対側に位置する反対面に引き出された前記第2の内部電極と、
    前記セラミック素体の前記一の面の上に配されており、前記第1の内部電極に接続されためっき膜からなる外部電極と、
    前記セラミック素体の内部に設けられており、前記セラミック素体の前記一の面に引き出された第1の補助電極と、
    を備え、
    前記第1の内部電極は、前記一の面において一の方向に延びるように設けられており、
    前記一の面の一の方向において、前記第1の補助電極が、前記第1の内部電極が設けられた領域からさらに外側にまで至っており、
    前記外部電極が前記第1の内部電極及び前記第1の補助電極を覆うように設けられている、セラミック電子部品。
  2. 前記第1の内部電極が前記一の方向に対して垂直な他の方向に沿って複数設けられており、
    前記第1の補助電極が、前記複数の第1の内部電極の間に位置している、請求項1に記載のセラミック電子部品。
  3. 前記第1の補助電極が、前記セラミック素体の前記第1の内部電極と平行な他の面に最も近い前記第1の内部電極と前記他の面との間に位置している、請求項1または2に記載のセラミック電子部品。
  4. 前記一の面における前記第1の内部電極の前記一の方向の長さが、セラミック素体内部における前記第1の内部電極の前記一の面から最も離れた部分の前記一の方向の長さよりも短い、請求項1〜3のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。
  5. 前記一の面が主面により構成されている、請求項1〜4のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
  6. 前記セラミック素体の内部に設けられており、前記セラミック素体の前記反対面に引き出された第2の補助電極を備え、
    前記第2の補助電極よりも前記一の方向に対して垂直な他の方向の外側に位置する前記第1の補助電極を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
  7. 前記セラミック素体の内部に設けられており、前記セラミック素体の表面に引き出されていない第3の内部電極を備える、請求項1〜6のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
  8. 請求項1〜7のいずれか一項に記載のセラミック電子部品と、
    前記セラミック電子部品の前記反対面が、主面において対向するように配された基板と、
    前記外部電極に電気的に接続されたワイヤと、
    を備える、セラミック電子装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11017944B2 (en) 2018-10-02 2021-05-25 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayer ceramic electronic component

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102122935B1 (ko) * 2013-03-29 2020-06-26 삼성전기주식회사 적층 세라믹 커패시터 및 그 제조 방법
JP2016001695A (ja) * 2014-06-12 2016-01-07 株式会社村田製作所 積層コンデンサ、これを含む積層コンデンサ連および積層コンデンサ実装体
KR101630068B1 (ko) * 2014-10-06 2016-06-13 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자 부품 및 그 실장 기판
KR101598297B1 (ko) * 2014-10-06 2016-02-26 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자 부품 및 그 실장 기판
JP6265114B2 (ja) * 2014-11-28 2018-01-24 株式会社村田製作所 積層コンデンサおよびその製造方法
DE102015117262B4 (de) * 2015-10-09 2022-09-22 Tdk Electronics Ag Bauelement zur Erzeugung eines aktiven haptischen Feedbacks
JP6699471B2 (ja) * 2016-09-13 2020-05-27 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ
KR102127804B1 (ko) * 2018-11-07 2020-06-29 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자부품
KR20190116135A (ko) * 2019-07-17 2019-10-14 삼성전기주식회사 적층 세라믹 커패시터.
KR20190116176A (ko) * 2019-09-19 2019-10-14 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자부품

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6435905A (en) * 1987-07-30 1989-02-07 Taiyo Yuden Kk Method of mounting capacitor to circuit board
JPH07335473A (ja) * 1994-06-10 1995-12-22 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミックコンデンサ
JPH09129476A (ja) * 1995-10-30 1997-05-16 Murata Mfg Co Ltd セラミック電子部品
JPH1022160A (ja) * 1996-07-04 1998-01-23 Murata Mfg Co Ltd ワイヤボンディング用セラミック電子部品
JP2000012377A (ja) * 1998-06-17 2000-01-14 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミック電子部品及びその製造方法
WO2007049456A1 (ja) * 2005-10-28 2007-05-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. 積層型電子部品およびその製造方法
JP2008091400A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Tdk Corp 積層セラミックコンデンサ及びその製造方法
JP2009527919A (ja) * 2006-02-22 2009-07-30 ヴィシャイ スプレイグ,インコーポレイテッド 改良高電圧キャパシタ
JP2009283597A (ja) * 2008-05-21 2009-12-03 Murata Mfg Co Ltd 積層電子部品およびその製造方法
JP2011204706A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Murata Mfg Co Ltd 積層型電子部品
JP2014508410A (ja) * 2011-02-08 2014-04-03 エプコス アクチエンゲゼルシャフト 静電遮蔽体を有する電子セラミック部品

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6016411A (ja) * 1983-07-08 1985-01-28 株式会社村田製作所 積層磁器コンデンサ
US4568999A (en) * 1984-06-06 1986-02-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Multilayer ceramic capacitor on printed circuit
JPS6435905U (ja) 1987-08-29 1989-03-03
JP2874380B2 (ja) * 1991-03-28 1999-03-24 三菱マテリアル株式会社 チップ型積層セラミックコンデンサ
JPH0547591A (ja) * 1991-08-09 1993-02-26 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミツク電子部品の製造方法
JPH05335174A (ja) * 1992-05-28 1993-12-17 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミック電子部品
JPH0745468A (ja) * 1993-06-29 1995-02-14 Murata Mfg Co Ltd セラミックコンデンサおよびセラミックコンデンサを取り付けた半導体装置
JPH08279437A (ja) * 1995-04-06 1996-10-22 Mitsubishi Materials Corp チップ型積層セラミックスコンデンサ
US5978204A (en) * 1995-11-27 1999-11-02 Maxwell Energy Products, Inc. Capacitor with dual element electrode plates
JPH09190947A (ja) * 1996-01-11 1997-07-22 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミック電子部品
JP3316731B2 (ja) * 1996-01-11 2002-08-19 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品
JP2001102646A (ja) * 1999-09-28 2001-04-13 Tokin Ceramics Corp 積層型圧電セラミックス
TWI260657B (en) 2002-04-15 2006-08-21 Avx Corp Plated terminations
US7177137B2 (en) 2002-04-15 2007-02-13 Avx Corporation Plated terminations
US6960366B2 (en) 2002-04-15 2005-11-01 Avx Corporation Plated terminations
US7152291B2 (en) 2002-04-15 2006-12-26 Avx Corporation Method for forming plated terminations
US6982863B2 (en) 2002-04-15 2006-01-03 Avx Corporation Component formation via plating technology
US7576968B2 (en) 2002-04-15 2009-08-18 Avx Corporation Plated terminations and method of forming using electrolytic plating
US7463474B2 (en) 2002-04-15 2008-12-09 Avx Corporation System and method of plating ball grid array and isolation features for electronic components
US7307829B1 (en) * 2002-05-17 2007-12-11 Daniel Devoe Integrated broadband ceramic capacitor array
US7345868B2 (en) 2002-10-07 2008-03-18 Presidio Components, Inc. Multilayer ceramic capacitor with terminal formed by electroless plating
US6917509B1 (en) * 2002-11-21 2005-07-12 Daniel F. Devoe Single layer capacitor with dissimilar metallizations
JP4501437B2 (ja) * 2004-01-27 2010-07-14 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP4655493B2 (ja) * 2004-03-26 2011-03-23 株式会社村田製作所 圧電素子、圧電アクチュエータ並びに圧電素子及び圧電アクチュエータの製造方法
KR100691146B1 (ko) * 2004-12-24 2007-03-09 삼성전기주식회사 적층형 캐패시터 및 적층형 캐패시터가 내장된 인쇄회로기판
JP4270395B2 (ja) * 2005-03-28 2009-05-27 Tdk株式会社 積層セラミック電子部品
US7688567B2 (en) * 2005-08-05 2010-03-30 Tdk Corporation Method of manufacturing multilayer capacitor and multilayer capacitor
CN101346785B (zh) 2006-02-27 2012-06-27 株式会社村田制作所 层叠型电子部件及其制造方法
US8120891B2 (en) * 2007-12-17 2012-02-21 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayer capacitor having low equivalent series inductance and controlled equivalent series resistance
JP4957709B2 (ja) * 2008-11-26 2012-06-20 株式会社村田製作所 積層コンデンサ
JP2011108966A (ja) * 2009-11-20 2011-06-02 Murata Mfg Co Ltd 積層電子部品
KR101079464B1 (ko) * 2009-12-22 2011-11-03 삼성전기주식회사 적층 세라믹 커패시터
KR101101530B1 (ko) * 2010-06-24 2012-01-04 삼성전기주식회사 적층형 세라믹 캐패시터
JP5699819B2 (ja) * 2010-07-21 2015-04-15 株式会社村田製作所 セラミック電子部品
JP5267583B2 (ja) * 2011-01-21 2013-08-21 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品
KR101141402B1 (ko) * 2011-03-09 2012-05-03 삼성전기주식회사 적층 세라믹 커패시터 및 그 제조방법
JP2012253245A (ja) * 2011-06-03 2012-12-20 Tdk Corp 積層電子部品及び積層電子部品の製造方法
JP5287934B2 (ja) * 2011-06-13 2013-09-11 Tdk株式会社 積層コンデンサ及び積層コンデンサの製造方法
JP2013051392A (ja) * 2011-08-02 2013-03-14 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミック電子部品
KR101376843B1 (ko) * 2012-11-29 2014-03-20 삼성전기주식회사 적층 세라믹 커패시터 및 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6435905A (en) * 1987-07-30 1989-02-07 Taiyo Yuden Kk Method of mounting capacitor to circuit board
JPH07335473A (ja) * 1994-06-10 1995-12-22 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミックコンデンサ
JPH09129476A (ja) * 1995-10-30 1997-05-16 Murata Mfg Co Ltd セラミック電子部品
JPH1022160A (ja) * 1996-07-04 1998-01-23 Murata Mfg Co Ltd ワイヤボンディング用セラミック電子部品
JP2000012377A (ja) * 1998-06-17 2000-01-14 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミック電子部品及びその製造方法
WO2007049456A1 (ja) * 2005-10-28 2007-05-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. 積層型電子部品およびその製造方法
JP2009527919A (ja) * 2006-02-22 2009-07-30 ヴィシャイ スプレイグ,インコーポレイテッド 改良高電圧キャパシタ
JP2008091400A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Tdk Corp 積層セラミックコンデンサ及びその製造方法
JP2009283597A (ja) * 2008-05-21 2009-12-03 Murata Mfg Co Ltd 積層電子部品およびその製造方法
JP2011204706A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Murata Mfg Co Ltd 積層型電子部品
JP2014508410A (ja) * 2011-02-08 2014-04-03 エプコス アクチエンゲゼルシャフト 静電遮蔽体を有する電子セラミック部品

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11017944B2 (en) 2018-10-02 2021-05-25 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayer ceramic electronic component

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