JP2013071374A - 平版印刷版の製版方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】a)支持体上に赤外線吸収剤、一般式(I)で表される開始剤、及び重合性化合物を含む画像記録層を有し、かつ当該画像記録層がインキ及び湿し水の少なくとも一方により除去可能であるネガ型平版印刷版原版を供給する。b)ネガ型平版印刷版原版を赤外線レーザーにて画像露光する。c)380nm以下で発光せず、400〜500nm及び500〜600nmに発光のピークを1つずつ有する白灯下で5分以上曝光する。d)インキ及び湿し水の少なくとも一方により非露光部を除去し、平版印刷版を作製する。Ar1−I+−Ar2Z−一般式(I);一般式(I)中、Ar1及びAr2は、置換基を有していてもよいベンゼン環であり、Ar1及びAr2は互いに異なった構造を表す。Z−は、カウンターアニオンを表す。
【選択図】なし
Description
このような機上現像可能な平版印刷版原版から得られる平版印刷版原版の耐刷性を改良するものとして、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む画像記録層(感熱層)を有する平版印刷版原版が記載されている(例えば特許文献2及び3参照)。また、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層(感光層)を設けた平版印刷版原版が記載されている(例えば、特許文献3参照)。これらは、重合反応を利用して画像強度を高め、耐刷性の向上を図るものだが、平版印刷版原版の機上現像性と得られる平版印刷版の耐刷性の両立という点では、不十分であった。
これらの技術などにより機上現像性と耐刷性の両立という点が改良されてきたが、まだ十分ではなく、より一層の改良が望まれている。
a)支持体上に赤外線吸収剤、一般式(I)で表される開始剤、及び重合性化合物を含む画像記録層を有し、かつ当該画像記録層がインキ及び湿し水の少なくとも一方により除去可能であるネガ型平版印刷版原版を供給する。
b)ネガ型平版印刷版原版を赤外線レーザーにて画像露光する。
c)380nm以下で発光せず、400〜500nm及び500〜600nmに発光のピークを1つずつ有する白灯下で5分以上曝光する。
d)インキ及び湿し水の少なくとも一方により非露光部を除去し、平版印刷版を作製する。
3.一般式(I)において、Ar1のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計が0又は負であることを特徴とする前記2記載の平版印刷版の製版方法。
4.一般式(I)において、Ar1のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計及びAr2のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計の差の絶対値が0.3以上であることを特徴とする前記3記載の平版印刷版の製版方法。
5.画像記録層がボレート塩を含むことを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法。
6.前記d)のステップで白灯下の曝光時間が10分以上であることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法。
7.白灯下の曝光時間が30分以上であることを特徴とする前記6に記載の平版印刷版の製版方法。
赤外線レーザーで画像露光した後に、380nm以下で発光せず、400〜500nm及び500〜600nmに発光のピークを1つずつ有する白灯下で5分以上曝光することにより、380nm以下に発光を有さないことで、一般式(I)で表される開始剤などの分解反応が起こらず、非画像部における白灯による重合反応が起こりにくくなる。
一方、画像部においては、赤外線による画像露光により、開始系による可視光領域での吸収が増大し、硬化反応に寄与し高耐刷化すると考えられる。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に赤外線吸収剤、一般式(I)で表される開始剤、及び重合性化合物を含む画像記録層を有し、かつ当該画像記録層がインキ及び湿し水の少なくとも一方により除去可能であるネガ型平版印刷版原版である。また、本発明の平版印刷版原版は、支持体と画像記録層の間に中間層を、画像記録層の上にオーバーコート層を設けることができる。
本発明においては平版印刷版原版の画像記録層に、赤外線レーザーに対する感度を高めるため、赤外線吸収剤が用いられる。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
本発明において、好適に用いることのできるできる赤外線吸収染料として、特開2001−133969号公報に記載のシアニン色素を挙げることができる。
また、特に好ましい他の例として、特開2002−278057号公報に記載のインドレニンシアニン色素が挙げられる。
画像記録層の吸光度は、画像記録層に添加する赤外線吸収剤の量と画像記録層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの画像記録層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
本発明においては平版印刷版原版の画像記録層に、下記一般式(I)で表される開始剤(ヨードニウム塩)が用いられる。
Z−のカウンターアニオンは、好ましくは、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、スルホン酸イオンであり、より好ましくは、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホン酸イオンである。
特に、一般式(I)において、Ar2のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計(以下、「Ar2ハメット値」ともいう。)が負であり、及びAr1のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計(以下、「Ar1ハメット値」ともいう。)が0以下であることが好ましい。
さらに、Ar1のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計及びAr2のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計の差の絶対値が0.3以上であることが好ましい。
これらの好ましいヨードニウム塩と、一般式(a)のR5、R6、R7及びR8が水素原子であり、R1とR2とは互いに結合して5員環を形成し、X1が−NPh2であるシアニン色素との組合せが好ましい。さらに一般式(a)のY1、Y2が共にジメチルメチレン基であるシアニン色素との組合せの場合がさらに好ましい。
ハメットσ値の合計を計算する場合、C−I結合に対してm位にある置換基に対してはσm値を使用し、p位にある置換基に対してはσp値を使用する。
本発明のヨードニウム塩は、これらのハメットσ値をそれぞれのベンゼン環において合計し、少なくとも片方の合計が負であるヨードニウム塩が好ましく、さらに、もう片方の合計が0又は負であるヨードニウム塩がより好ましい。
上記置換基の内でハメットσ値が正の場合と負の場合の置換基例を以下に示す。
σm>0:ハロゲン原子、ハロアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−OCOR7、−OSO2R7、−COR7、−COOR7、−CONR7R8、−SO2R7
σm<0:−NR7R8、アルキル基、
σp>0:ハロゲン原子、ハロアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−OCOR7、−OSO2R7、−COR7、−COOR7、−CONR7R8、−SO2R7、
σp<0:−NR7R8、−OR7、アルキル基、
R2及びR5にアルキル基、又はOR7を有するものが好ましく、特にR2、R4、R5、及びR6にアルキル基、又はOR7を有するものが好ましい。アルキル基及びR7の炭素原子数は好ましくは1〜18、より好ましくは1〜12、さらに好ましくは1〜8である。
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(ただし、R4及びR5は、H又はCH3を示す。)
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述のオーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
本発明においては、一般式(I)で表される開始剤は、その他の開始剤を併用することができる。併用できるその他の開始剤としてはラジカル重合性化合物の重合を開始、促進する化合物が挙げられる。具体的には、ラジカル重合開始剤が好ましく、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。
本発明における併用できるその他の開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(h)有機ホウ酸塩化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、(k)オニウム塩化合物、が挙げられる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。
なお、一般式(I)と異なるヨードニウム塩を併用することも可能である。具体的には一般式(I)のAr1及びAr2が同じジフェニルヨードニウム塩である。
本発明の画像記録層はボレート塩を含有することが好ましい。ボレート塩としては、テトラアリールホウ酸塩が好ましい。
本発明の画像記録層には、上記の成分の他に、バインダーポリマー、ポリマー微粒子、低分子親水性化合物、感脂化剤、さらにその他の成分を必要に応じて含有させることができる。
本発明の画像記録層には、画像記録層の膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。なかでも、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。
本発明では、機上現像性を向上させるため、ポリマー微粒子を用いることができる。特に、ポリアルキレンオキシド構造を有するポリマー微粒子が好ましい。特に側鎖にポリアルキレンオキシド基を有するポリマー微粒子が好ましい。これらにより、湿し水の浸透性が向上し、機上現像性が良好となる。
本発明におけるポリマー微粒子は、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる疎水化前駆体であることが好ましい。疎水化前駆体ポリマー微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくともひとつの粒子が好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。機上現像性を向上させるためには、上記の如く、ポリアルキレンオキシド構造を有することが好ましい。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類、等が挙げられる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、オーバーコート層に無機質の層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90 Mw4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70 Mw4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60 Mw7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比 25/75 Mw6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5 Mw6.5万)
更にその他の成分として、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、及び共増感剤もしくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落番号[0114]〜[0159]、特開2006−091479号公報の段落番号[0023]〜[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書段落番号[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。
本発明における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0142]〜[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に中間層(下塗り層と呼ばれることもある)を設けることが好ましい。中間層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、中間層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
ては、スルホ基が好ましい。架橋性基としてはメタクリル基、アリル基などが好ましい。この高分子ポリマーは、高分子ポリマーの極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
、特開2006−215263号の各公報記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面に相互作用する官能基、及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物を含有するものも好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
中間層用の高分子ポリマーは、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、画像記録層上にオーバーコート層(保護層とも呼ばれる。)が設けられることが好ましい。オーバーコート層に使用できる材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。これらの中で、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的に最も良好な結果を与える。
ポリビニルアルコールと別の材料を混合して使用する場合、混合する成分としては、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン又はその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、オーバーコート層中の含有率が3.5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%である。
本発明の製版方法におけるb)のステップに用いる赤外線レーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を照射する固体レーザー及び半導体レーザーなどが好適に挙げられる。
赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。レーザーにおいては、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
本発明で用いる白灯において380nm以下で発光せずとは、380nm以下に実質的に発光を有さないことを意味する。具体的には、380nmの発光相対強度が0.02より小さく、380nmより波長が短くなるにつれて発光相対強度が漸減することを意味する。発光相対強度とは、発光強度が最大である波長の発光強度を1としたときの任意の波長の発光強度の相対値である。
本発明の製版方法におけるc)のステップに用いる白色灯としては、GaN系半導体を使う青色LEDと蛍光体材料(蛍光体)との組み合わせが好ましい。
白色LEDに関する特許は、日亜化学工業(特許第2927279号,同3503139号,同3700502号)等から多く出願されている。特許第2927279号は,発光波長が450nm〜475nmにピーク波長を持つLEDチップとYAG系蛍光体材料を組み合わせる技術である。同3503139号は,発光のピーク波長が420nm〜490nmのLEDチップと,Ceを含むガーネット系蛍光体材料を組み合わせる技術である。同3700502号は,量子井戸構造を採るピーク波長が420nm〜490nmのLEDチップとCeを含むガーネット系蛍光体材料で構成する技術である。
平版印刷版原版上の照度は300Lux以上が好ましい。300Luxより低いと耐刷性が向上しない。作業上、1000Lux以上の照度が好ましい。
画像様に露光し、上記白灯下で曝光された平版印刷版原版を平版印刷機に装着し、平版印刷版原版に湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、画像露光と白灯曝光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水及び印刷インキの少なくとも一方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉して印刷が開始される。
このようにして、本発明の平版印刷版原版は平版印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
なお、実施例で使用するポリマーに記載の、繰り返し単位の比はモル比である。
(1)支持体の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
次に、この板に15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体(1)を作製した。
その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体(1)に2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体(2)を得た。Siの付着量は10mg/m2であった。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
次に、上記支持体(2)上に、下記中間層塗布液(1)を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、中間層を有する支持体を作製した。
・中間層用高分子化合物 〔下記構造〕 0.50g
・N−(2−ヒドロキシエチル)イミノ二酢酸 0.025g
・水 500.00g
上記のようにして形成された中間層上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
・バインダーポリマー(1)〔下記構造〕 0.240g
・赤外線吸収剤〔表1又は2記載、下記構造〕 0.030g
・一般式(I)で表される開始剤〔表1又は2記載〕 0.162g
・ラジカル重合性化合物
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステルA−9300、新中村化学(株)製) 0.192g
・低分子親水性化合物
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート 0.062g
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050g
・ボレート塩〔表2記載の実施例、比較例のみ添加〕 0.14g
・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕 0.055g
・感脂化剤
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・PF6塩 0.018g
・感脂化剤 アンモニウム基含有ポリマー
〔下記構造、還元比粘度44cSt/g/ml〕 0.035g
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕 0.008g
・2−ブタノン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
・ミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
油相成分として、下記構造の多官能イソシアナート(三井化学製;75質量%酢酸エチル溶液)4.46g、トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアナート(18モル)を付加させ、これにメチル片末端ポリオキシエチレン(1モル、なおオキシエチレン単位の繰り返し数は90)を付加させた付加体(三井化学製;50質量%酢酸エチル溶液)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、及びパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−205)の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを前記ミクロゲル(1)とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
上記画像記録層上に、更に下記組成のオーバーコート層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2のオーバーコート層を形成して、実施例1〜16用及び比較例1〜11用の平版印刷版原版を得た。
・無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を表に示す室内灯(白色灯)下(全て版面照度1500lux)で、表に示す時間曝光した。
曝光済の原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とスペースカラー フュージョンG(N)インキ(DICグラフィックス(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を行った。
なお、露光、版取り付け、印刷完了までの全ての作業は、上記室内灯(白色灯)下で行った。
画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。これらの結果を表1と表2に示す。
上述した機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。
これらの結果を表1と表2に示す。
実施例1と同様にして作製した支持体(1)を、非画像部の親水性を確保するため、ポリアクリル酸水溶液を用いて処理を施し、支持体(3)を得た。
上記の支持体(3)上に、下記組成の画像記録層塗布液(2)をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成して、実施例21〜35及び比較例21〜30用の平版印刷版原版を得た。
・ポリマー微粒子水分散液(1)〔下記合成法〕 20.0g
・赤外線吸収剤(2) 0.2g
・一般式(I)で表される開始剤〔表3又は4に記載〕 0.5g
・ボレート塩〔表4記載の実施例、比較例のみ添加〕 0.45g
・重合性化合物SR−399(サートマー社製) 1.50g
・連鎖移動剤 メルカプト−3−トリアゾール 0.2g
・界面活性剤Byk336(Byk Chimie社製) 0.4g
・バインダーポリマー
・KlucelM(Hercules社製) 4.8g
・ELVACITE4026(Ineos Acrylica社製) 2.5g
・n−プロパノール 55.0g
・2−ブタノン 17.0g
・SR−399:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
・Byk 336:変性ジメチルポリシロキサン共重合体(25質量%キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液)
・Klucel M:ヒドロキシプロピルセルロース(2質量%水溶液)
・ELVACITE4026:高分岐ポリメチルメタクリレート(10質量%2−ブタノン溶液)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は50)10g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)80g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN=10/10/80のポリマー微粒子水分散液(1)が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
上記のようにして作製した実施例21〜35用及び比較例21〜30用の平版印刷版原版を実施例1〜16及び比較例1〜11に記載したのと同様に、画像露光し、白灯下で曝光し、機上現像し、印刷して、機上現像性及び耐刷性を評価した。結果を表3と表4に示す。
Claims (7)
- 下記a)〜d)のステップをこの順に行うことを特徴とする平版印刷版の製版方法。
a)支持体上に赤外線吸収剤、一般式(I)で表される開始剤、及び重合性化合物を含む画像記録層を有し、かつ当該画像記録層がインキ及び湿し水の少なくとも一方により除去可能であるネガ型平版印刷版原版を供給する。
b)ネガ型平版印刷版原版を赤外線レーザーにて画像露光する。
c)380nm以下で発光せず、400〜500nm及び500〜600nmに発光のピークを1つずつ有する白灯下で5分以上曝光する。
d)インキ及び湿し水の少なくとも一方により非露光部を除去し、平版印刷版を作製する。
Ar1−I+−Ar2 Z− 一般式(I)
一般式(I)中、Ar1及びAr2は、置換基を有していてもよいベンゼン環であり、Ar1及びAr2は互いに異なった構造を表す。Z−は、カウンターアニオンを表す。 - 一般式(I)において、Ar2のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計が負であることを特徴とする請求項1記載の平版印刷版の製版方法。
- 一般式(I)において、Ar1のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計が0又は負であることを特徴とする請求項2記載の平版印刷版の製版方法。
- 一般式(I)において、Ar1のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計及びAr2のベンゼン環の置換基のハメットσ値の合計の差の絶対値が0.3以上であることを特徴とする請求項3記載の平版印刷版の製版方法。
- 画像記録層がボレート塩を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法。
- 前記d)のステップで白灯下の曝光時間が10分以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法。
- 白灯下の曝光時間が30分以上であることを特徴とする請求項6に記載の平版印刷版の製版方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017168831A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像用平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
JPWO2017002641A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 印刷用原版、平版印刷版、印刷用捨て版、及び、その積層体 |
WO2019146769A1 (ja) * | 2018-01-29 | 2019-08-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3543790B1 (en) * | 2016-11-16 | 2023-12-13 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor, and on-press plate-making method for a planographic printing plate |
EP3632694A4 (en) * | 2017-05-31 | 2020-06-17 | FUJIFILM Corporation | ORIGINAL LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, RESIN COMPOSITION FOR MANUFACTURING ORIGINAL LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE |
WO2019039074A1 (ja) * | 2017-08-25 | 2019-02-28 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005196030A (ja) * | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法および画像露光装置 |
JP2010069858A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および製版方法 |
JP2010208234A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP2010221692A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-10-07 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP2010234589A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 機上現像型平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
JP2011501236A (ja) * | 2007-10-24 | 2011-01-06 | イーストマン コダック カンパニー | ネガ型画像形成性要素および使用方法 |
Family Cites Families (130)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB434875A (en) | 1933-02-08 | 1935-09-05 | Bela Gasper | An improved method of producing multi-colour photographic images on coloured and differently sensitized multi-layer photographic material |
BE507657A (ja) | 1950-12-06 | |||
US2833827A (en) | 1955-01-17 | 1958-05-06 | Bayer Ag | Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same |
BE606888A (ja) | 1960-08-05 | 1900-01-01 | ||
US3280734A (en) | 1963-10-29 | 1966-10-25 | Howard A Fromson | Photographic plate |
US3181461A (en) | 1963-05-23 | 1965-05-04 | Howard A Fromson | Photographic plate |
US3458311A (en) | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
DK125218B (da) | 1967-11-09 | 1973-01-15 | Kalle Ag | Lysfølsomt optegnelsesmateriale og lysfølsom blanding til anvendelse ved fremstilling af materialet. |
ZA6807938B (ja) | 1967-12-04 | |||
DE2033769B2 (de) | 1969-07-11 | 1980-02-21 | Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. (V.St.A.) | Bis-<2-acryloxyäthyl)hexahydrophthalat enthaltende Gemische und Herstellungsverfahren |
JPS4841708B1 (ja) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
DE2053683A1 (de) | 1970-11-02 | 1972-05-10 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymerisierbare Kopiermasse |
DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
CA990722A (en) | 1971-08-25 | 1976-06-08 | Yoshinobu Murakami | Organic photoconductive layer sensitized with trimethine compound |
JPS5324989B2 (ja) | 1971-12-09 | 1978-07-24 | ||
JPS5230490B2 (ja) | 1972-03-21 | 1977-08-09 | ||
JPS5549729B2 (ja) | 1973-02-07 | 1980-12-13 | ||
DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
US3902734A (en) | 1974-03-14 | 1975-09-02 | Twm Mfg Co | Frames for axle suspension systems |
US4069056A (en) | 1974-05-02 | 1978-01-17 | General Electric Company | Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts |
GB1512981A (en) | 1974-05-02 | 1978-06-01 | Gen Electric | Curable epoxide compositions |
JPS5311314B2 (ja) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
US4173476A (en) | 1978-02-08 | 1979-11-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Complex salt photoinitiator |
DE2822190A1 (de) | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE2822189A1 (de) | 1978-05-20 | 1980-04-17 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
US4283475A (en) | 1979-08-21 | 1981-08-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Pentamethine thiopyrylium salts, process for production thereof, and photoconductive compositions containing said salts |
DE2952698A1 (de) | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
DE2952697A1 (de) | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial |
US4327169A (en) | 1981-01-19 | 1982-04-27 | Eastman Kodak Company | Infrared sensitive photoconductive composition, elements and imaging method using trimethine thiopyrylium dye |
DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3120052A1 (de) | 1981-05-20 | 1982-12-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial |
JPS58112792A (ja) | 1981-12-28 | 1983-07-05 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録部材 |
JPS58112793A (ja) | 1981-12-28 | 1983-07-05 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録部材 |
JPS58125246A (ja) | 1982-01-22 | 1983-07-26 | Ricoh Co Ltd | レ−ザ記録媒体 |
JPS58220143A (ja) | 1982-06-16 | 1983-12-21 | Canon Inc | 有機被膜 |
JPS58173696A (ja) | 1982-04-06 | 1983-10-12 | Canon Inc | 光学記録媒体 |
JPS58181690A (ja) | 1982-04-19 | 1983-10-24 | Canon Inc | 光学記録媒体 |
JPS58181051A (ja) | 1982-04-19 | 1983-10-22 | Canon Inc | 有機光導電体 |
JPS58194595A (ja) | 1982-05-10 | 1983-11-12 | Canon Inc | 光学記録媒体 |
DE3223104A1 (de) | 1982-06-21 | 1983-12-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
JPS595241A (ja) | 1982-06-21 | 1984-01-12 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 放射線重合可能な混合物 |
JPS5948187A (ja) | 1982-09-10 | 1984-03-19 | Nec Corp | 光学記録媒体 |
JPS58224793A (ja) | 1982-06-25 | 1983-12-27 | Nec Corp | 光学記録媒体 |
JPS5984249A (ja) | 1982-11-05 | 1984-05-15 | Canon Inc | 有機被膜 |
JPS5984248A (ja) | 1982-11-05 | 1984-05-15 | Canon Inc | 有機被膜 |
JPS5941363A (ja) | 1982-08-31 | 1984-03-07 | Canon Inc | 新規ピリリウム系染料およびその製造方法 |
US4518676A (en) | 1982-09-18 | 1985-05-21 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts |
JPS5973996A (ja) | 1982-10-22 | 1984-04-26 | Nec Corp | 光学記録用媒体 |
JPS5984356A (ja) | 1982-11-05 | 1984-05-16 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク原盤の作成方法 |
JPS59146063A (ja) | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Canon Inc | 有機被膜 |
JPS59146061A (ja) | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Canon Inc | 有機被膜 |
JPS59216146A (ja) | 1983-05-24 | 1984-12-06 | Sony Corp | 電子写真用感光材料 |
JPS6063744A (ja) | 1983-08-23 | 1985-04-12 | Nec Corp | 光学的情報記録媒体 |
JPS6052940A (ja) | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Nec Corp | 光学記録媒体 |
JPS6078787A (ja) | 1983-10-07 | 1985-05-04 | Ricoh Co Ltd | 光学的情報記録媒体 |
DE3406101A1 (de) | 1984-02-21 | 1985-08-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern |
DE3421511A1 (de) | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
JP2525568B2 (ja) | 1985-01-18 | 1996-08-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光可溶化組成物 |
JPS6256971A (ja) | 1985-09-05 | 1987-03-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光材料 |
JPS6259963A (ja) | 1985-09-10 | 1987-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光材料 |
US4756993A (en) | 1986-01-27 | 1988-07-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor with light scattering layer or light absorbing layer on support backside |
DE3604580A1 (de) | 1986-02-14 | 1987-08-20 | Basf Ag | Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren |
DE3604581A1 (de) | 1986-02-14 | 1987-08-20 | Basf Ag | 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien |
US4760013A (en) | 1987-02-17 | 1988-07-26 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salt photoinitiators |
DE3710281A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710282A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-13 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710279A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3721741A1 (de) | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Basf Ag | Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien |
DE3721740A1 (de) | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Basf Ag | Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen |
DE3738864A1 (de) | 1987-11-16 | 1989-05-24 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
US4933377A (en) | 1988-02-29 | 1990-06-12 | Saeva Franklin D | Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators |
DE3817424A1 (de) | 1988-05-21 | 1989-11-23 | Hoechst Ag | Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt |
CA2002873A1 (en) | 1988-11-21 | 1990-05-21 | Franklin Donald Saeva | Onium salts and the use thereof as photoinitiators |
JPH02150848A (ja) | 1988-12-02 | 1990-06-11 | Hitachi Ltd | 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法 |
DE3843205A1 (de) | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US5156938A (en) | 1989-03-30 | 1992-10-20 | Graphics Technology International, Inc. | Ablation-transfer imaging/recording |
US5040237A (en) | 1989-03-31 | 1991-08-13 | E. F. Johnson Company | Method and apparatus for an alternate home channel for a land mobile transmission trunked communication system |
JPH02296514A (ja) | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 車両用サスペンション制御装置 |
JP2655349B2 (ja) | 1989-05-18 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JPH04365049A (ja) | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JP2739395B2 (ja) | 1991-08-19 | 1998-04-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1999-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
JPH08108621A (ja) | 1994-10-06 | 1996-04-30 | Konica Corp | 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法 |
EP0770494B1 (en) | 1995-10-24 | 2000-05-24 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithographic printing plate involving on press development |
DE69620336T2 (de) | 1995-10-24 | 2002-10-24 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit Wasser als Entwickler |
DE69608522T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-01-25 | Agfa Gevaert Nv | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit |
DE69613078T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-11-22 | Agfa Gevaert Nv | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit |
JP2927279B2 (ja) | 1996-07-29 | 1999-07-28 | 日亜化学工業株式会社 | 発光ダイオード |
TW383508B (en) | 1996-07-29 | 2000-03-01 | Nichia Kagaku Kogyo Kk | Light emitting device and display |
JPH10282679A (ja) | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性平版印刷版 |
DE69812871T2 (de) | 1998-01-23 | 2004-02-26 | Agfa-Gevaert | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren um damit Flachdruckplatten herzustellen |
JP2001133969A (ja) | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型平版印刷版原版 |
JP2001277742A (ja) | 2000-01-27 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2001277740A (ja) | 2000-01-27 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2001253181A (ja) | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感熱性平版印刷用原板 |
JP2001322365A (ja) | 2000-05-16 | 2001-11-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱性平版印刷用原板 |
JP4156784B2 (ja) * | 2000-07-25 | 2008-09-24 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料及び画像形成方法 |
JP2002139828A (ja) * | 2000-11-06 | 2002-05-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP4319363B2 (ja) | 2001-01-15 | 2009-08-26 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
JP4266077B2 (ja) | 2001-03-26 | 2009-05-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
JP2003328465A (ja) | 2002-05-08 | 2003-11-19 | Isao Okawa | 建 物 |
US7368215B2 (en) * | 2003-05-12 | 2008-05-06 | Eastman Kodak Company | On-press developable IR sensitive printing plates containing an onium salt initiator system |
EP1500498B1 (en) | 2003-07-22 | 2010-12-15 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursour and lithographic printing method |
JP4815113B2 (ja) | 2003-09-24 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP4644458B2 (ja) | 2003-09-30 | 2011-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP4351933B2 (ja) | 2004-03-05 | 2009-10-28 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法 |
JP4460986B2 (ja) | 2004-09-24 | 2010-05-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2006188038A (ja) | 2004-12-10 | 2006-07-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および製版方法 |
JP4469734B2 (ja) | 2005-02-03 | 2010-05-26 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP5172097B2 (ja) | 2005-02-28 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法 |
JP2006239867A (ja) | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP4393408B2 (ja) | 2005-03-16 | 2010-01-06 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版 |
EP1705007B1 (en) * | 2005-03-23 | 2012-06-06 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP5170960B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び平版印刷方法 |
US7966934B2 (en) | 2005-11-04 | 2011-06-28 | Gary Ganghui Teng | Process for on-press developing overcoat-free lithographic printing plate |
JP5238170B2 (ja) | 2006-03-14 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4213756B2 (ja) | 2006-06-09 | 2009-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版原版の積層体 |
JP2008089916A (ja) | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及び平版印刷版原版の積層体 |
JP2008139813A (ja) | 2006-11-09 | 2008-06-19 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及び平版印刷版原版積層体 |
US7883826B2 (en) * | 2006-12-07 | 2011-02-08 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
JP2008195018A (ja) | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP2008284858A (ja) | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
US20080311520A1 (en) | 2007-06-13 | 2008-12-18 | Jianfei Yu | On-press developable negative-working imageable elements and methods of use |
EP2006738B1 (en) | 2007-06-21 | 2017-09-06 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
JP2009090645A (ja) | 2007-09-20 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5322537B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2010228356A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
-
2011
- 2011-09-28 JP JP2011213222A patent/JP5690696B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-07-10 EP EP12836498.1A patent/EP2762312B1/en not_active Not-in-force
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-
2014
- 2014-03-26 IN IN2293/CHENP/2014A patent/IN2014CN02293A/en unknown
- 2014-03-27 US US14/227,303 patent/US20140290516A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005196030A (ja) * | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法および画像露光装置 |
JP2011501236A (ja) * | 2007-10-24 | 2011-01-06 | イーストマン コダック カンパニー | ネガ型画像形成性要素および使用方法 |
JP2010069858A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および製版方法 |
JP2010221692A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-10-07 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP2010208234A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP2010234589A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 機上現像型平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2017002641A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 印刷用原版、平版印刷版、印刷用捨て版、及び、その積層体 |
WO2017168831A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像用平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
JPWO2017168831A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像用平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2019146769A1 (ja) * | 2018-01-29 | 2019-08-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103826856A (zh) | 2014-05-28 |
CN103826856B (zh) | 2015-11-25 |
EP2762312A4 (en) | 2015-05-27 |
US20140290516A1 (en) | 2014-10-02 |
EP2762312B1 (en) | 2016-08-17 |
IN2014CN02293A (en) | 2015-06-19 |
EP2762312A1 (en) | 2014-08-06 |
JP5690696B2 (ja) | 2015-03-25 |
WO2013046856A1 (ja) | 2013-04-04 |
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