JP2012507690A - 解析方法、該解析方法を用いた放射線撮像装置、該解析方法を実行する解析プログラム - Google Patents

解析方法、該解析方法を用いた放射線撮像装置、該解析方法を実行する解析プログラム Download PDF

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Abstract

【課題】 従来に比べて、高速かつ簡便に正確な重み付け関数を生成することで、高速かつ簡便にアンラップする方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被検知物を透過した放射線の干渉縞の強度情報を利用した放射線撮像装置に用いる解析方法であって、
前記干渉縞の強度情報から、2πの領域間にラップされた前記被検知物の第1の位相情報を生成する工程と、
前記干渉縞の強度情報から、前記被検知物の吸収強度勾配に関する情報を生成する工程と、
前記吸収強度勾配に関する情報における勾配の絶対値に応じて重み付け関数を生成する工程と、
前記重み付け関数を用いて、前記第1の位相情報をアンラップすることにより第2の位相情報を生成する工程と、
を有することを特徴とする解析方法。
【選択図】 図1

Description

本発明は、解析方法、該解析方法を用いた放射線撮像装置、該解析方法を実行する解析プログラムに関する。
放射線の1つであるX線は材料内部の非破壊検査などの工業的利用や、X線写真、X線CT(Computed Tomography)など医療画像分野での利用など、イメージングの手段として用いられている。X線を用いたイメージングの手法としては、吸収コントラスト法や位相コントラスト法がある。
吸収コントラスト法では、X線が被検知物を透過する際に生じるX線の減衰に基づいて吸収コントラストを発生させることで、被検知物の画像を得るものである。
一方、位相コントラスト法では、X線が被検知物を透過する際に生じる位相の変化に基づいて位相コントラストを発生させて画像を得るものである。これをX線位相イメージングという。X線位相イメージングでは、軽元素からなる生体軟組織に優れた感度を示すため、医用画像への応用が期待されている。
ここで、X線位相イメージングで取得できる位相の変化の情報は、解析の処理過程において2πの領域間にラップされてしまう。そのため、ラップされた位相をアンラップすることで真の位相を取得し、復元位相像を得る必要がある。しかし、被検知物のエッジ部分では位相が大きく変化するため、ラップされた位相に関する情報は位相とび、すなわち、位相が不連続に変化する箇所を含んだものとなってしまう。位相が不連続に変化する箇所を含んだ位相情報をアンラップすると、連続に変化する箇所との間に矛盾が生じ復元位相像に、実際にはない歪みが生じてしまう、という問題が生じる場合がある。
そこで、非特許文献1には、最小二乗法を利用して繰り返し計算を行うことによりアンラップを行う手法が開示されている。また、非特許文献1では、位相が不連続に変化する箇所が存在する場合でも、歪みを最小化するように、重み付け関数を用いて最小二乗法を実行する手法を開示している。ここで、重み付け関数とは、位相が不連続な箇所と連続する箇所とでアンラップの際の重み付けを変える関数である。重み付け関数を用いることにより、歪みの少ない像を得ることができる。
非特許文献1に開示されているアンラップの具体的な手法は以下の通りである。
(i):ラップされた位相情報を取得する。
(ii):仮の真の位相の値を決め、その値をもとに重み付け関数を設定する。
(iii):(ii)で設定した重み付け関数を用いて、最小二乗法により真の位相の最適値(第1の値)を計算する。すなわち、残差の二乗和が最小になるときの真の位相の値を求める。
(iv):(iii)で求めた真の位相の最適値(第1の値)から重み付け関数を再設定する。
(v):(iv)で設定した重み付け関数を用いて最小二乗法により真の位相の最適値(第2の値)を計算する。
(vi):以上のような計算を残差の二乗和が一定の値に収束するまで繰り返し行うことで、より正確な重み付け関数を求め、より正確な真の位相の値を算出する。
Dennis C. Ghiglia and Louis A.Romero,J.Opt.Soc.Am.A,Vol.13,No.10(1996)
上述の計算方法では、重み付け関数と真の位相の値を交互に修正しながら繰り返し計算するため、正確な真の位相の値を求めるのに時間がかかってしまう、という課題がある。
一方、上記の繰り返し計算の回数を少なくすれば、重み付け関数が早く求まり、真の位相の値も早く求めることができるが、正確性に欠けるという課題が生じてしまう。
そこで本発明は、非特許文献1に比べて、高速かつ簡便に、正確な重み付け関数を生成し、高速にアンラップすることのできる方法を提供することを目的とする。
第一の本発明は、被検知物を透過した放射線の干渉縞の強度情報を利用した放射線撮像装置に用いる解析方法であって、前記干渉縞の強度情報から、2πの領域間にラップされた前記被検知物の第1の位相情報を生成する工程と、前記干渉縞の強度情報から、前記被検知物の吸収強度勾配に関する情報を生成する工程と、
前記吸収強度勾配に関する情報における勾配の絶対値に応じて重み付け関数を生成する工程と、前記重み付け関数を用いて、前記第1の位相情報をアンラップすることにより第2の位相情報を生成する工程と、を有することを特徴とする解析方法である。
第二の本発明は、放射線発生部と、前記放射線発生部により発生した放射線の位相をシフトさせる位相格子と、前記位相格子及び被検知物を透過することにより形成される自己像を強調するための吸収格子と、前記吸収格子を透過した放射線の干渉縞の強度情報を検出する検出部と、前記検出部によって検出された前記干渉縞の強度情報から前記被検知物の像を得るための演算を行う演算部と、を有する放射線撮像装置であって、前記演算部は、前記干渉縞の強度情報から、2πの領域間にラップされた前記被検知物の第1の位相情報を生成する工程と、前記干渉縞の強度情報から、前記被検知物の吸収強度勾配に関する情報を生成する工程と、
前記吸収強度勾配に関する情報における勾配の絶対値に応じて重み付け関数を生成する工程と、前記重み付け関数を用いて、前記第1の位相情報をアンラップすることにより第2の位相情報を生成する工程とを含む演算を行うこと、を特徴とする放射線撮像装置である。
第三の本発明は、被検知物を透過した放射線の干渉縞の強度情報を利用した放射線撮像装置に用いる解析プログラムであって、前記干渉縞の強度情報から、2πの領域間にラップされた前記被検知物の第1の位相情報を生成する工程と、前記干渉縞の強度情報から、前記被検知物の吸収強度勾配に関する情報を生成する工程と、前記吸収強度勾配に関する情報における勾配の絶対値に応じて重み付け関数を生成する工程と、前記重み付け関数を用いて、前記第1の位相情報をアンラップすることにより第2の位相情報を生成する工程と、をCPUに実行させることを特徴とする解析プログラムである。
本発明によれば、非特許文献1に比べて、正確な重み付け関数を高速かつ簡便に生成できるので、アンラップを高速かつ簡便に行うことができる。
本発明に係る解析方法のフローチャートの一例を示したものである。 フーリエ像の概念図である。 被検知物のエッジ部分を説明するための図である。 重み付け関数の付与の仕方の一例を説明するための図である。 本発明の実施形態に係る放射線撮像装置の構成の一例を示す図である。 本発明の実施形態に係る放射線撮像装置における演算部の機能ブロック図の一例である。 本発明の実施例における被検知物の断面図である。 本発明の実施例における被検知物の吸収強度勾配の分布を示した図である。 本発明の実施例における被検知物の復元位相像を示した図である。
(解析方法)
本発明に係る放射線の干渉縞の強度情報を利用した放射線撮像装置に用いる解析方法の実施形態の一例について説明する。
干渉縞の強度情報を取得してから、復元位相像を得るまでのフローチャートを図1に示す。以下、図1のフローチャートの各ステップについて順を追って示していく。
まず、S101では干渉縞の強度情報を取得する。ここでいう「干渉縞の強度情報とは」放射線を干渉計等で干渉させて生じる干渉縞のパターン、明るさ等、干渉縞の性質を表すための情報を意味する。また、「放射線」とは、X線、α線、β線、γ線、紫外線等や、電子線等の粒子線や電磁波を含む広義の放射線を意味する。なお、放射線としては、透過と吸収が同時に起きるX線が好ましい。その中で、極端に波長の短いものよりもある程度の吸収も起きる0.1Åから5Å程度のX線が望ましい。また、波長領域に対して透過性と吸収性をあわせて持つ被検知物を対象にするのであれば、レーザーのようにコヒーレントな電磁波を用いることも可能である。照射するX線は、完全にコヒーレントである必要はなく、干渉が生じる程度のコヒーレンス長(可干渉距離)を有していればよい。例えば、タルボ干渉計の場合、用いる格子の周期より長いコヒーレンス長を有していれば干渉が生じる。
ここで、検出された干渉縞の強度情報は、以下の式で表される。
式(1)において、a(x,y)は干渉縞のパターンに関わらないバックグラウンドを表し、b(x,y)は干渉縞の明るさを表す。また、fは干渉縞のキャリア周波数を表し、φ’(x,y)は放射線が被検知物を透過した際に生じる位相の変化を表す。キャリア周波数fとは、干渉縞を発生させる際に用いる回折格子の格子周期によって決まるパラメータである。
式(1)は以下の式に変形できる。
ただし、c(x,y)は、
である。ここで、式(3)は位相に関する情報のみ含まれた式になっているが、吸収に関する情報を含んだ式へと拡張する。すなわち、吸収強度勾配をΨ(x,y)として、
とする。ただし、φ’(x,y)とb(x,y)の関係は、
である。なおbは定数である。
次に、S102では、式(2)を、Mitsuo Takeda et al.,J.Opt.Soc.Am.,Vol.72,No.1(1982)等に記載のフーリエ変換法を実行して式(6)を得る。
ここでG(f,f)、A(f,f)、C(f,f)はそれぞれg(x,y)、a(x,y)、c(x,y)に対する二次元のフーリエ変換で、f、fはそれぞれ空間周波数のx成分、y成分を表す。式(6)の概念図を図2に示す。図2をフーリエ像という。フーリエ像のもつ3つのピークのうち、中心のピーク210はA(f,f)に由来し、吸収に関する情報のみをもつ。それ以外のピーク(キャリア周波数fに対応するピーク)220は一方がC(f,f)に、もう一方がC(f,f)に由来し、いずれも位相に関する情報及び吸収に関する情報をもつ。
S103では、キャリア周波数に対応するピークのうち、いずれか1つのピーク周辺の情報を切り取り、周波数空間の原点に移動させ、逆フーリエ変換を実行する。S103によって、位相に関する情報と吸収に関する情報を両方もつ情報が得られる。
なお、本発明に係る解析方法においては、以上のフーリエ変換法の他に縞走査法等を用いて、位相に関する情報と吸収に関する情報を取得してもよい。
S104では、S103で得られた情報から、第1の位相情報をφ’(x,y)得る。「位相情報」とは、放射線が被検知物を透過する際にその屈折率の違いによって変化された位相を表すパラメータのことである。
S105では、S103で得られた情報から吸収強度勾配に関する情報を取得する。吸収強度勾配の情報として、吸収強度勾配の分布が好ましいが、吸収強度勾配が所定値に対して大きい箇所(被検知物のエッジ部等)あるいは小さい箇所がわかるものであれば、どのようなものでもよい。以下では、吸収強度勾配に関する情報が吸収強度勾配Ψ(x,y)の分布である場合について説明する。
ここで、吸収強度勾配Ψ(x,y)の分布は、S103においてフーリエ像の中心のピーク210を切り取ることによって得られる情報から生成することもできるが、第一の位相情報を得るために取得した同一のピークから生成することが好ましい。なぜなら、同一のピークから得た吸収に関する情報と位相に関する情報とは相関性が高く、後述する重み付け関数を用いたアンラップ工程において、より歪みの少ない復元位相像を得られるからである。
さらにS105では、得られた吸収強度勾配Ψ(x,y)の分布から重み付け関数U、Vを生成する。重み付け関数の具体的な生成手法については後述する。
また、重み付け関数を生成する工程S105を行った後に、第一の位相情報を生成する工程S104を行ってもよい。
ここで、S104で取得した第1の位相情報φ’(x,y)は、2πの領域間にラップされた状態となっている。「2πの領域間にラップされた」とは0から2π、−πからπなど2πの領域間に畳み込まれている状態のことをいう。そこで、ラップされた第1の位相情報φ’(x,y)からラップされていない真の位相φ(x,y)を求める必要がある。このようにラップされた位相情報からラップされていない位相情報へと変換するための計算をアンラップということもある(以下、アンラップという)。
真の位相φ(x,y)は下記の式(7)から式(10)の4つの式を連立することで求める(非特許文献1参照)。具体的には、まずS104で得られたφ’(x,y)の値を各式に代入したときに、式(8)におけるεが最小になるようなn(x,y)を求める。すなわち、最小二乗法を実行する。次に、求めたn(x,y)を式(7)に代入することで、第2の位相情報である真の位相φ(x,y)を求める。ただし、n(x,y)は整数で、Wはラッピング演算子、U及びVは重み付け関数である。
ここで、被検知物のエッジ部分において、ラップされた位相情報φ’(x,y)をアンラップする際に生じる問題について図3を用いて説明する。図3は、被検知物を円柱としたときの断面図を示したもので、被検知物がない領域を310、被検知物の占める領域を320、両者の領域の境界部分(エッジ部分)を330で表した。
被検知物がない領域310、被検知物の占める領域320では、位相の変化が小さく滑らかであるので、位相が連続的に変化する箇所として検出される。しかし、被検知物のエッジ部分330では位相が大きく変化するため、ラップされた位相が不連続に変化する箇所として検出される。位相が不連続に変化する箇所では、アンラップをする際に計算上矛盾が生じてしまい、最終的に得られる復元位相像に歪みが生じてしまう。
一方、位相変化が大きい被検知物のエッジ部分では、吸収強度勾配も大きい。
そこで、吸収強度勾配の分布における吸収強度勾配が大きい箇所では、位相の不連続な変化を許可するような重み付け関数U、Vを生成し、前述のアンラップの際に付与することで、歪みのない復元位相像を得るようにする。すなわち、位相が不連続に変化する箇所では、重み付け関数U、Vを、計算上矛盾が生じないような値に設定してアンラップを行う。
重み付け関数のU、Vの具体的な生成方法について、図4を用いて説明する。図4は、図3の点線で囲まれた領域における吸収強度勾配の分布を表したものである。図4において太線410は吸収強度勾配が所定値より大きい部分であり、被検知物のエッジ部分に対応している。
まず、吸収強度勾配の分布を図4のように複数のピクセルに分割する。次に、該ピクセルのうち、吸収強度勾配の絶対値が所定値より大きい領域を有するピクセルを第1のピクセル420とし、所定値より小さい領域からなるピクセルを第2のピクセル430とする。そして、第1のピクセル420と第2のピクセル430に異なる値が付与されるように重み付け関数を生成する。
なお、重み付け関数のとる値として、被検知物の形状等に応じて0から1のうち適切な値を選ぶことができる。ここでいう適切な値とは、結果的に歪みの少ない復元位相像を得られるような値のことをいう。例えば位相が不連続になっており、不連続を完全に許可する場合、0とすればよく、位相が不連続になっていない箇所では1などの値にすればよい。また、重み付け関数を決める基準となる所定値についても、結果的に歪みの少ない復元位相像を得られるように、適切な値を選択することが可能である。さらに、所定値を2つ以上設定し、重み付けをより詳細に行うこともできる。また、吸収強度勾配の絶対値と重み付け関数の値が1対1対応の関係になるような設定にしてもよい。
なお、分割するピクセルの数は、吸収強度勾配の所定値より大きい部分と所定値より小さい部分との区別がつく程度の数以上であれば、どの程度の数でもよい。また、分割する方向、ピクセルの形状等は任意である。
このように、本発明の重み付け関数の生成方法は、繰り返し計算を必要としないため、非特許文献1の生成方法に比べて、高速かつ簡便に重み付け関数を生成することができる。
上記の方法で生成した重み付け関数を、式(8)に代入し、前述のアンラップを行うことで、第2の位相情報である真の位相φが求まる(S106)。
そして、S106で取得した第2の位相情報から復元位相像を得ることができる(S107)。
(放射線撮像装置)
本発明に係る放射線撮像装置の実施形態について、タルボ干渉計を用いたX線位相イメージング装置を例にして説明する。
タルボ干渉計を用いたX線位相イメージング装置の構成の一例を図5に示す。該X線位相イメージング装置を用いた場合において、X線を発生してから復元位相像を得るまでの流れを具体的に説明する。
まず、放射線発生部であるX線源510から発生したX線が被検知物520を透過する。X線は、該被検知物520を透過する際に、該被検知物520の形状等に応じた位相の変化及び吸収を生じる。該被検知物520を透過したX線は、位相格子530を透過すると自己像を形成する。ここで「自己像」とは、該位相格子530の格子周期を反映した周期的強度分布を意味する。X線は該自己像が形成される位置に配された吸収格子540を透過することによって強調される。該吸収格子540を透過したX線の干渉縞の強度情報は、検出部である検出装置550によって検出される。該検出装置550は、放射線の干渉縞の強度情報を検出することのできる素子のことであり、例えばCCD(ChargeCoupled Device)等の撮像装置が挙げられる。
該検出装置550で検出された干渉縞の強度情報は、前述の解析方法における各工程の演算を行う演算部560によって解析される。演算部560はCPU(Central Processing Unit)561を有している。
演算部560の機能ブロック図の一例を図6に示した。まず、干渉縞の強度情報取得部610では、検出装置550からの入力のうち干渉縞の強度情報を取得する。フーリエ変換部620では、得られた干渉縞の強度情報をフーリエ変換し、フーリエ像を取得する。逆フーリエ変換部630では、得られたフーリエ像のうち、キャリア周波数に対応するピーク周辺の情報を切り取り、周波数空間の原点に移動させ逆フーリエ変換を行う。第1の位相情報生成部640では、逆フーリエ変換によって得られた情報から第1の位相情報を生成する。また、重み付け関数生成部650では、逆フーリエ変換によって得られた情報から吸収強度勾配の分布を取得し、それに基づいて重み付け関数を取得する。第2の位相情報生成部660では、得られた重み付け関数を用いて第1の位相情報をアンラップし、第2の位相情報を生成する。復元位相像取得部670では、得られた第2の位相情報から復元位相像を取得する。
ここで、上記の演算はCPU等によって行われるが、1つのCPUで全ての演算を行ってもよいし、複数のCPUで演算を行ってもよい。なお、第1の位相情報生成部640で行う演算と、重み付け関数生成部650で行う演算とを同じCPUで行う場合、先に行う演算の演算結果等を記憶するメモリ等を有していてもよい。また、演算部560はCPU等やメモリ等の他にも、ハードディスクなどの記憶装置を有していてもよい。
ここで、放射線の干渉縞が生じるものとしてタルボ干渉計の他に結晶干渉計を用いた放射線撮像装置などが挙げられるが、本発明はそれらでもよい。また、タルボ干渉計において、検出装置550の分解能が高い場合は、吸収格子540を設けなくてもよい。
なお、上記の実施形態では被検知物が、X線源510と位相格子530の間にある場合について説明したが、位相格子530と吸収格子540の間にあってもよい。
また、本発明に係る放射線撮像装置は、得られた位相復元像を出力する出力部を有していてもよい。出力部としては、画面に表示するディスプレイ、紙媒体やフィルム等に印刷するプリンター等が挙げられる。また、得られた復元位相像を記録する記録部や、記憶する記憶部を有していてもよい。記録部としてはCD等に記録する記録装置等が、記憶部としてはハードディスク等が挙げられる。
(解析プログラム)
本発明に係る解析プログラムの実施形態の一例について説明する。
本発明の解析プログラムは、前述の解析方法における各ステップをCPU等の演算装置に実行させることができるプログラムのことをいう。本発明の解析プログラムの使い方として、前記プログラムのコードを記録した記録媒体をコンピュータ等に供給し、該コンピュータ等の有するCPUやMPU等が、記憶媒体に格納されたプログラムのコードを読み出して実行する、などが考えられる。
本発明に係る実施例について説明する。本実施例では、前述の解析方法を前述のタルボ干渉計を用いたX線位相イメージング装置に適用して計算を行った場合について説明する。なお、用いたパラメータを以下に示す。
まず、X線は17.7keV、0.7Åのコヒーレントな硬X線とした。被検知物としては直径0.256mm、高さ0.1mmの円柱状のシリコンとした。円柱状のシリコンの断面図を図7に示す。X線は円柱の中心軸(円柱側面の2つの円の中心と中心を結ぶ軸)と平行に照射するものとした。なお計算の範囲は、0.512mm四方の正方形とし、正方形の中心が円柱状のシリコンの中心軸と一致していることとした。位相格子、吸収格子は、8μmの周期を有し、1周期ごとにπの位相シフトを生じさせる格子とした。位相格子と吸収格子の間の距離は、本装置構成のタルボ干渉計において最初の自己像が得られる距離である11.43cmとした。計算に使用した画像は縦横共に512画素の大きさである。
次に、本実施例における重み付け関数の生成方法について説明する。
まず、上記パラメータ設定のもとに生じる干渉縞の強度情報をフーリエ変換しフーリエ像を取得した。次に、得られたフーリエ像のうち、キャリア周波数に対応するピークC(f,f)(式(6))を切り取って周波数空間の原点に移動させ、逆フーリエ変換を実行した。次に、逆フーリエ変換により得られた式の偏角から第1の位相情報φ’(x,y)を計算した。また、逆フーリエ変換により得られた式の絶対値から吸収強度勾配の分布を求め、その逆数を規格化し重み付け関数とした。得られた吸収強度勾配の分布を図8に示す。得られた第1の位相情報と重み付け関数を用いて真の位相の値を求め、復元位相像を得た。
得られた復元位相像を図9に示す。この計算結果から、歪みの少ない円柱の断面の像を得られることがわかった。
次に重み付け関数を生成するために要する時間を測定した。計算条件は、上記と同様である。表1は、繰り返し計算を1回とした場合に、本発明に係る手法を用いて重み付け関数を生成するために要する時間を、画素数毎に示した表である。比較例として、非特許文献1に開示の手法を用いて重み付け関数を生成するために要する時間を併記した。表1より、全ての画素数において、本発明に係る手法の方が非特許文献1に開示の手法よりも、重み付け関数を生成するために要する時間が短いことが分かる。
次に復元位相像を得るために要する時間を測定した。計算条件は、上記と同様である。表2は、繰り返し計算の回数を5、10、20、50とした場合に、本発明に係る手法を用いて復元位相像を得るために要する時間を示した表である。比較例として、非特許文献1に開示の手法で生成した重み付け関数を用いて復元位相像を得るために要する時間を併記した。表2より、本発明に係る手法の方が非特許文献1に開示の手法よりも、復元位相像を得るために要する時間が短いことが分かる。
以上の結果より、本発明に係る解析方法を用いた場合、非特許文献1に開示の手法を用いた場合よりも、高速かつ簡便に、正確な重み付け関数を生成でき、より高速にアンラップすることが可能である。なお、本発明は上記実施例に限られず、他の種々の態様にて実施可能である。

Claims (11)

  1. 被検知物を透過した放射線の干渉縞の強度情報を利用した放射線撮像装置に用いる解析方法であって、
    前記干渉縞の強度情報から、2πの領域間にラップされた前記被検知物の第1の位相情報を生成する工程と、
    前記干渉縞の強度情報から、前記被検知物の吸収強度勾配に関する情報を生成する工程と、
    前記吸収強度勾配に関する情報における勾配の絶対値に応じて重み付け関数を生成する工程と、
    前記重み付け関数を用いて、前記第1の位相情報をアンラップすることにより第2の位相情報を生成する工程と、
    を有することを特徴とする解析方法。
  2. 前記第2の位相情報を生成する工程は、最小二乗法を実行する工程を含むこと、
    を特徴とする請求項1に記載の解析方法。
  3. 前記第1の位相情報を生成する工程は、
    前記干渉縞の強度情報をフーリエ変換することでフーリエ像を取得し、前記フーリエ像から位相に関する情報を切り取る工程を含み、
    かつ、
    前記吸収強度勾配に関する情報を生成する工程は、
    前記フーリエ像から吸収に関する情報を切り取る工程を含むこと、
    を特徴とする請求項1または2に記載の解析方法。
  4. 前記位相に関する情報及び前記吸収に関する情報は、
    前記フーリエ像のうち同一のキャリア周波数に対応するピークから取得すること、
    を特徴とする請求項3に記載の解析方法。
  5. 前記吸収強度勾配に関する情報は、吸収強度勾配の分布であること、
    を特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の解析方法。
  6. 前記重み付け関数は、前記吸収強度勾配の分布を複数のピクセルに分割し、
    吸収強度勾配の絶対値が所定値より大きい領域を有する第1のピクセルと、
    所定値より小さい領域からなる第2のピクセルに、
    異なる重み付けを付与する関数であること、
    を特徴とする請求項5に記載の解析方法。
  7. 前記重み付け関数は、前記第1のピクセルには0を、
    前記第2のピクセルには1を付与する関数であること、
    を特徴とする請求項6に記載の解析方法。
  8. 前記放射線はX線であること、
    を特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の解析方法。
  9. 放射線発生部と、
    前記放射線発生部により発生した放射線の位相をシフトさせる位相格子と、
    前記位相格子及び被検知物を透過することにより形成される自己像を強調するための吸収格子と、
    前記吸収格子を透過した放射線の干渉縞の強度情報を検出する検出部と、
    前記検出部によって検出された前記干渉縞の強度情報から前記被検知物の像を得るための演算を行う演算部と、
    を有する放射線撮像装置であって、
    前記演算部は、
    前記干渉縞の強度情報から、2πの領域間にラップされた前記被検知物の第1の位相情報を生成する工程と、
    前記干渉縞の強度情報から、前記被検知物の吸収強度勾配に関する情報を生成する工程と、
    前記吸収強度勾配に関する情報における勾配の絶対値に応じて重み付け関数を生成する工程と、
    前記重み付け関数を用いて、前記第1の位相情報をアンラップすることにより第2の位相情報を生成する工程とを含む演算を行うこと、
    を特徴とする放射線撮像装置。
  10. 前記位相格子は、
    前記被検知物と前記吸収格子との間に配されていること、
    を特徴とする請求項9に記載の放射線撮像装置。
  11. 被検知物を透過した放射線の干渉縞の強度情報を利用した放射線撮像装置に用いる解析プログラムであって、
    前記干渉縞の強度情報から、2πの領域間にラップされた前記被検知物の第1の位相情報を生成する工程と、
    前記干渉縞の強度情報から、前記被検知物の吸収強度勾配に関する情報を生成する工程と、
    前記吸収強度勾配に関する情報における勾配の絶対値に応じて重み付け関数を生成する工程と、
    前記重み付け関数を用いて、前記第1の位相情報をアンラップすることにより第2の位相情報を生成する工程と、
    をCPUに実行させること、
    を特徴とする解析プログラム。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015119963A (ja) * 2013-12-23 2015-07-02 キヤノン株式会社 変調ガイドされた位相アンラッピング
US9702831B2 (en) 2012-12-13 2017-07-11 Canon Kabushiki Kaisha Object information obtaining apparatus, program, and imaging system
WO2019240165A1 (ja) * 2018-06-12 2019-12-19 国立大学法人筑波大学 位相画像撮影方法とそれを利用した位相画像撮影装置

Families Citing this family (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5339975B2 (ja) * 2008-03-13 2013-11-13 キヤノン株式会社 X線位相イメージングに用いられる位相格子、該位相格子を用いたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム
CN102197303A (zh) * 2008-10-29 2011-09-21 佳能株式会社 X射线成像装置和x射线成像方法
CN101943668B (zh) * 2009-07-07 2013-03-27 清华大学 X射线暗场成像系统和方法
JP5586899B2 (ja) * 2009-08-26 2014-09-10 キヤノン株式会社 X線用位相格子及びその製造方法
US8532252B2 (en) * 2010-01-27 2013-09-10 Canon Kabushiki Kaisha X-ray shield grating, manufacturing method therefor, and X-ray imaging apparatus
JP5631013B2 (ja) * 2010-01-28 2014-11-26 キヤノン株式会社 X線撮像装置
JP5725870B2 (ja) * 2010-02-22 2015-05-27 キヤノン株式会社 X線撮像装置およびx線撮像方法
JP5796976B2 (ja) * 2010-05-27 2015-10-21 キヤノン株式会社 X線撮像装置
JP5731214B2 (ja) 2010-08-19 2015-06-10 富士フイルム株式会社 放射線撮影システム及びその画像処理方法
WO2012029048A1 (en) * 2010-09-03 2012-03-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Regularized phase retrieval in differential phase-contrast imaging
WO2012038857A1 (en) * 2010-09-20 2012-03-29 Koninklijke Philips Electronics N.V. Phase gradient unwrapping in differential phase contrast imaging
JP5935693B2 (ja) * 2010-09-29 2016-06-15 コニカミノルタ株式会社 医用画像表示方法
JP2012103237A (ja) * 2010-10-14 2012-05-31 Canon Inc 撮像装置
CN103189739B (zh) * 2010-10-19 2015-12-02 皇家飞利浦电子股份有限公司 微分相位对比成像
EP2630476B1 (en) * 2010-10-19 2017-12-13 Koninklijke Philips N.V. Differential phase-contrast imaging
JP5875280B2 (ja) * 2010-10-20 2016-03-02 キヤノン株式会社 トールボット干渉を用いた撮像装置および撮像装置の調整方法
WO2012056724A1 (ja) * 2010-10-29 2012-05-03 富士フイルム株式会社 放射線位相画像撮影装置
JP2012095865A (ja) * 2010-11-02 2012-05-24 Fujifilm Corp 放射線撮影装置、放射線撮影システム
JP2012143553A (ja) * 2010-12-24 2012-08-02 Fujifilm Corp 放射線画像撮影装置および放射線画像検出器
JP5777360B2 (ja) * 2011-03-14 2015-09-09 キヤノン株式会社 X線撮像装置
JP5915645B2 (ja) * 2011-03-23 2016-05-11 コニカミノルタ株式会社 医用画像表示システム
JP2012200567A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp 放射線撮影システム及び放射線撮影方法
JP2014113168A (ja) * 2011-03-29 2014-06-26 Fujifilm Corp 放射線撮影システム及び放射線撮影方法
WO2012144317A1 (ja) 2011-04-20 2012-10-26 富士フイルム株式会社 放射線撮影装置及び画像処理方法
JP2014132913A (ja) * 2011-04-25 2014-07-24 Fujifilm Corp 放射線撮影システム及び放射線撮影方法
JP2012236005A (ja) * 2011-04-26 2012-12-06 Fujifilm Corp 放射線撮影装置
JP5787597B2 (ja) * 2011-04-26 2015-09-30 キヤノン株式会社 撮像装置
JP2014155508A (ja) * 2011-06-08 2014-08-28 Fujifilm Corp 放射線撮影システム
JP2014155509A (ja) * 2011-06-10 2014-08-28 Fujifilm Corp 放射線撮影システム
JP5885405B2 (ja) * 2011-06-13 2016-03-15 キヤノン株式会社 撮像装置、干渉縞解析プログラム及び干渉縞解析方法
JP2013024731A (ja) 2011-07-21 2013-02-04 Canon Inc 放射線検出装置
JP2013050441A (ja) 2011-08-03 2013-03-14 Canon Inc 波面測定装置、波面測定方法、及びプログラム並びにx線撮像装置
JP2014217397A (ja) * 2011-08-22 2014-11-20 富士フイルム株式会社 放射線撮影装置及びアンラップ処理方法
JP2014223091A (ja) * 2011-09-12 2014-12-04 富士フイルム株式会社 放射線撮影装置及び画像処理方法
JP2014238265A (ja) * 2011-09-30 2014-12-18 富士フイルム株式会社 放射線画像検出器及びその製造方法、並びに放射線画像検出器を用いた放射線撮影システム
JP5475737B2 (ja) * 2011-10-04 2014-04-16 富士フイルム株式会社 放射線撮影装置及び画像処理方法
US20130108015A1 (en) * 2011-10-28 2013-05-02 Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A - Recherche Et Developpement X-ray interferometer
US20150117599A1 (en) 2013-10-31 2015-04-30 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
JP5868132B2 (ja) * 2011-11-14 2016-02-24 キヤノン株式会社 撮像装置および画像処理方法
WO2013111050A1 (en) * 2012-01-24 2013-08-01 Koninklijke Philips N.V. Multi-directional phase contrast x-ray imaging
WO2013151342A1 (ko) * 2012-04-05 2013-10-10 단국대학교 산학협력단 방사선 위상차 영상 장치
JP2014006247A (ja) * 2012-05-28 2014-01-16 Canon Inc 被検体情報取得装置、被検体情報取得方法及びプログラム
AU2012258412A1 (en) * 2012-11-30 2014-06-19 Canon Kabushiki Kaisha Combining differential images by inverse Riesz transformation
JP6079204B2 (ja) * 2012-12-18 2017-02-15 コニカミノルタ株式会社 医用画像システム
US10096098B2 (en) * 2013-12-30 2018-10-09 Carestream Health, Inc. Phase retrieval from differential phase contrast imaging
US9357975B2 (en) 2013-12-30 2016-06-07 Carestream Health, Inc. Large FOV phase contrast imaging based on detuned configuration including acquisition and reconstruction techniques
US10578563B2 (en) 2012-12-21 2020-03-03 Carestream Health, Inc. Phase contrast imaging computed tomography scanner
AU2012268876A1 (en) * 2012-12-24 2014-07-10 Canon Kabushiki Kaisha Non-linear solution for 2D phase shifting
US9364191B2 (en) * 2013-02-11 2016-06-14 University Of Rochester Method and apparatus of spectral differential phase-contrast cone-beam CT and hybrid cone-beam CT
JP2014171799A (ja) * 2013-03-12 2014-09-22 Canon Inc X線撮像装置及びx線撮像システム
KR20140111818A (ko) 2013-03-12 2014-09-22 삼성전자주식회사 엑스선 영상 장치 및 그 제어 방법
JP2014178130A (ja) * 2013-03-13 2014-09-25 Canon Inc X線撮像装置及びx線撮像システム
JP6260615B2 (ja) 2013-04-08 2018-01-17 コニカミノルタ株式会社 診断提供用医用画像システム及び一般撮影用の診断提供用医用画像システムにタルボ撮影装置系を導入する方法
EP2827339A1 (en) 2013-07-16 2015-01-21 Canon Kabushiki Kaisha Source grating, interferometer, and object information acquisition system
US10295485B2 (en) 2013-12-05 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray transmission spectrometer system
DE102013221818A1 (de) * 2013-10-28 2015-04-30 Siemens Aktiengesellschaft Bildgebendes System und Verfahren zur Bildgebung
KR101668219B1 (ko) * 2013-10-31 2016-10-20 도호쿠 다이가쿠 비파괴 검사 장치
USRE48612E1 (en) 2013-10-31 2021-06-29 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
JP6396472B2 (ja) 2013-12-17 2018-09-26 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 走査微分位相コントラストシステムのための位相回復
WO2015122542A1 (en) * 2014-02-14 2015-08-20 Canon Kabushiki Kaisha X-ray talbot interferometer and x-ray talbot interferometer system
JP2015166676A (ja) * 2014-03-03 2015-09-24 キヤノン株式会社 X線撮像システム
JP2015190776A (ja) 2014-03-27 2015-11-02 キヤノン株式会社 画像処理装置および撮像システム
JP6362914B2 (ja) * 2014-04-30 2018-07-25 キヤノンメディカルシステムズ株式会社 X線診断装置及び画像処理装置
US10401309B2 (en) 2014-05-15 2019-09-03 Sigray, Inc. X-ray techniques using structured illumination
CN104111120B (zh) * 2014-07-25 2017-05-31 中国科学院上海光学精密机械研究所 基于朗奇剪切干涉仪的相位提取方法
JP2016032573A (ja) * 2014-07-31 2016-03-10 キヤノン株式会社 トールボット干渉計、トールボット干渉システム、及び縞走査法
CN106999137B (zh) * 2014-11-24 2021-03-05 皇家飞利浦有限公司 用于x射线相衬断层合成成像的探测器和成像系统
US10117629B2 (en) 2014-12-03 2018-11-06 Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechanical College High energy grating techniques
KR101636438B1 (ko) * 2015-03-18 2016-07-05 제이피아이헬스케어 주식회사 단일 그리드를 이용한 pci 기반의 엑스선 영상 생성 방법 및 그 장치
JP6604772B2 (ja) * 2015-08-05 2019-11-13 キヤノン株式会社 X線トールボット干渉計
JP6608246B2 (ja) * 2015-10-30 2019-11-20 キヤノン株式会社 X線回折格子及びx線トールボット干渉計
DE102015226571B4 (de) * 2015-12-22 2019-10-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Wellenfrontanalyse
JP6774188B2 (ja) 2016-02-23 2020-10-21 キヤノン株式会社 シンチレータプレート、放射線検出器及び放射線計測システム
JP6613988B2 (ja) * 2016-03-30 2019-12-04 コニカミノルタ株式会社 放射線撮影システム
DE102016206559B3 (de) * 2016-04-19 2017-06-08 Siemens Healthcare Gmbh Verfahren zur Korrektur eines Röntgenbilds auf Effekte eines Streustrahlenrasters, Röntgeneinrichtung, Computerprogramm und elektronisch lesbarer Datenträger
US10247683B2 (en) 2016-12-03 2019-04-02 Sigray, Inc. Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams
WO2018175570A1 (en) 2017-03-22 2018-09-27 Sigray, Inc. Method of performing x-ray spectroscopy and x-ray absorption spectrometer system
CN109087348B (zh) * 2017-06-14 2022-04-29 北京航空航天大学 一种基于自适应区域投射的单像素成像方法
JP6838531B2 (ja) * 2017-09-06 2021-03-03 株式会社島津製作所 放射線位相差撮影装置
JP6835242B2 (ja) * 2017-10-11 2021-02-24 株式会社島津製作所 X線位相差撮影システムおよび位相コントラスト画像補正方法
JP7020169B2 (ja) 2018-02-23 2022-02-16 コニカミノルタ株式会社 X線撮影システム
US10578566B2 (en) 2018-04-03 2020-03-03 Sigray, Inc. X-ray emission spectrometer system
US10845491B2 (en) 2018-06-04 2020-11-24 Sigray, Inc. Energy-resolving x-ray detection system
GB2591630B (en) 2018-07-26 2023-05-24 Sigray Inc High brightness x-ray reflection source
US10656105B2 (en) 2018-08-06 2020-05-19 Sigray, Inc. Talbot-lau x-ray source and interferometric system
DE112019004433T5 (de) 2018-09-04 2021-05-20 Sigray, Inc. System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung
CN112823280A (zh) 2018-09-07 2021-05-18 斯格瑞公司 用于深度可选x射线分析的系统和方法
DE102019111463A1 (de) * 2019-05-03 2020-11-05 Wipotec Gmbh Röntgenstrahlungsdetektorvorrichtung und Vorrichtung zur Röntgeninspektion von Produkten, insbesondere von Lebensmitteln
WO2021046059A1 (en) 2019-09-03 2021-03-11 Sigray, Inc. System and method for computed laminography x-ray fluorescence imaging
CN111089871B (zh) * 2019-12-12 2022-12-09 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 X射线光栅相衬图像的相位信息分离方法及系统、储存介质、设备
US11175243B1 (en) 2020-02-06 2021-11-16 Sigray, Inc. X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples
JP7395775B2 (ja) 2020-05-18 2023-12-11 シグレイ、インコーポレイテッド 結晶解析装置及び複数の検出器素子を使用するx線吸収分光法のためのシステム及び方法
JP2023542674A (ja) 2020-09-17 2023-10-11 シグレイ、インコーポレイテッド X線を用いた深さ分解計測および分析のためのシステムおよび方法
WO2022126071A1 (en) 2020-12-07 2022-06-16 Sigray, Inc. High throughput 3d x-ray imaging system using a transmission x-ray source
US11885755B2 (en) 2022-05-02 2024-01-30 Sigray, Inc. X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer
CN117475172B (zh) * 2023-12-28 2024-03-26 湖北工业大学 一种基于深度学习的高噪声环境相位图解包裹方法和系统

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1673933A1 (ru) * 1988-12-28 1991-08-30 Ереванский политехнический институт им.К.Маркса Рентгеноинтерферометрический способ исследовани кристаллов
SU1748030A1 (ru) * 1990-06-07 1992-07-15 Ереванский политехнический институт им.К.Маркса Способ получени рентгеновских проекционных топограмм
US5424743A (en) 1994-06-01 1995-06-13 U.S. Department Of Energy 2-D weighted least-squares phase unwrapping
US5812629A (en) 1997-04-30 1998-09-22 Clauser; John F. Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging
JP2000088772A (ja) * 1998-09-11 2000-03-31 Hitachi Ltd X線撮像装置
JP4015394B2 (ja) * 2001-09-19 2007-11-28 株式会社日立製作所 X線撮像法
JP4445397B2 (ja) * 2002-12-26 2010-04-07 敦 百生 X線撮像装置および撮像方法
US7268891B2 (en) * 2003-01-15 2007-09-11 Asml Holding N.V. Transmission shear grating in checkerboard configuration for EUV wavefront sensor
JP4704675B2 (ja) * 2003-11-28 2011-06-15 株式会社日立製作所 X線撮像装置及び撮像方法
JP2006263180A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 画像処理装置およびこれを用いた放射線撮影システム
EP1731099A1 (en) * 2005-06-06 2006-12-13 Paul Scherrer Institut Interferometer for quantitative phase contrast imaging and tomography with an incoherent polychromatic x-ray source
DE102006063048B3 (de) * 2006-02-01 2018-03-29 Siemens Healthcare Gmbh Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen
DE102006037257B4 (de) 2006-02-01 2017-06-01 Siemens Healthcare Gmbh Verfahren und Messanordnung zur zerstörungsfreien Analyse eines Untersuchungsobjektes mit Röntgenstrahlung
CN101011256A (zh) * 2006-02-01 2007-08-08 西门子公司 通过x射线无破坏地分析检查对象的方法和测量装置
JP5041750B2 (ja) * 2006-07-20 2012-10-03 株式会社日立製作所 X線撮像装置及び撮像方法
JP2008197593A (ja) * 2007-02-16 2008-08-28 Konica Minolta Medical & Graphic Inc X線用透過型回折格子、x線タルボ干渉計およびx線撮像装置
US20100080436A1 (en) * 2007-02-21 2010-04-01 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Radiographic imaging device and radiographic imaging system
JP2008200359A (ja) * 2007-02-21 2008-09-04 Konica Minolta Medical & Graphic Inc X線撮影システム
JP2008200360A (ja) * 2007-02-21 2008-09-04 Konica Minolta Medical & Graphic Inc X線撮影システム
JP5339975B2 (ja) * 2008-03-13 2013-11-13 キヤノン株式会社 X線位相イメージングに用いられる位相格子、該位相格子を用いたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム
CN102197303A (zh) * 2008-10-29 2011-09-21 佳能株式会社 X射线成像装置和x射线成像方法
JP2010253157A (ja) * 2009-04-28 2010-11-11 Konica Minolta Medical & Graphic Inc X線干渉計撮影装置及びx線干渉計撮影方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9702831B2 (en) 2012-12-13 2017-07-11 Canon Kabushiki Kaisha Object information obtaining apparatus, program, and imaging system
JP2015119963A (ja) * 2013-12-23 2015-07-02 キヤノン株式会社 変調ガイドされた位相アンラッピング
WO2019240165A1 (ja) * 2018-06-12 2019-12-19 国立大学法人筑波大学 位相画像撮影方法とそれを利用した位相画像撮影装置
JPWO2019240165A1 (ja) * 2018-06-12 2021-06-24 国立大学法人 筑波大学 位相画像撮影方法とそれを利用した位相画像撮影装置
US11181487B2 (en) 2018-06-12 2021-11-23 University Of Tsukuba Phase imaging method and phase imaging apparatus using phase imaging method
JP7347827B2 (ja) 2018-06-12 2023-09-20 国立大学法人 筑波大学 位相画像撮影方法とそれを利用した位相画像撮影装置

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