JP2008214436A - インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 - Google Patents

インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 Download PDF

Info

Publication number
JP2008214436A
JP2008214436A JP2007051719A JP2007051719A JP2008214436A JP 2008214436 A JP2008214436 A JP 2008214436A JP 2007051719 A JP2007051719 A JP 2007051719A JP 2007051719 A JP2007051719 A JP 2007051719A JP 2008214436 A JP2008214436 A JP 2008214436A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
ink
ink composition
compound
ether
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007051719A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5224699B2 (ja
Inventor
Kotaro Watanabe
孝太郎 渡邉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2007051719A priority Critical patent/JP5224699B2/ja
Priority to AT08003679T priority patent/ATE479731T1/de
Priority to DE200860002357 priority patent/DE602008002357D1/de
Priority to EP20080003679 priority patent/EP1988136B1/en
Priority to US12/040,339 priority patent/US8309629B2/en
Publication of JP2008214436A publication Critical patent/JP2008214436A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5224699B2 publication Critical patent/JP5224699B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1066—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by spraying with powders, by using a nozzle, e.g. an ink jet system, by fusing a previously coated powder, e.g. with a laser
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
    • B41M7/0072—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using mechanical wave energy, e.g. ultrasonics; using magnetic or electric fields, e.g. electric discharge, plasma
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/106—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D11/107—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds from unsaturated acids or derivatives thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
    • B41M7/0081—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using electromagnetic radiation or waves, e.g. ultraviolet radiation, electron beams
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Ink Jet (AREA)

Abstract

【課題】基板との密着性に優れ、硬化感度が良好なインク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供する。
【解決手段】重合開始剤、重合性モノマー、及び燐酸基含有ポリマーを含有し、前記燐酸基含有ポリマーの重量平均分子量が１０，０００以上３０，０００以下であることを特徴とするインク組成物、並びに前記インク組成物をインクジェット記録装置により吐出する工程と、吐出されたインク組成物に活性放射線を照射してインク組成物を硬化する工程と、を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、インクジェット記録用として好適に用いられるインク組成物、インクジェット記録方法、及びこれを用いた印刷物、更に、該インク組成物を用いて得られる平版印刷版並びに平版印刷版の製造方法に関する。
３員環、４員環などの環状エーテル化合物は、高い反応性を示すことが知られており、光カチオン重合や酸無水物を用いる熱重合が適用される硬化性組成物に含まれる重合性化合物として利用されている（例えば、特許文献１及び２参照）。
一方、画像データ信号に基づき、紙などの被記録媒体に画像を形成する画像記録方法として、電子写真方式、昇華型及び溶融型熱転写方式、インクジェット方式などがある。中でも、インクジェット方式は、安価な装置で実施可能であり、且つ、必要とされる画像部のみにインクを射出して被記録媒体上に直接画像形成を行うため、インクを効率良く使用でき、ランニングコストが安い。更に、騒音が少なく、画像記録方式として優れている。
インクジェット方式によれば、普通紙のみならずプラスチックシート、金属板など非吸水性の被記録媒体にも印字可能であるが、印字する際の高速化及び高画質化が重要な課題となっており、印字後の液滴の乾燥、硬化に要する時間が、印刷物の生産性や印字画像の鮮鋭度に大きく影響する性質を有している。
インクジェット方式の一つとして、放射線の照射により、硬化可能なインクジェット記録用インクを用いた記録方式がある。この方法によれば、インク射出後直ちに又は一定の時間後に放射線照射し、インク液滴を硬化させることで、印字の生産性が向上し、鮮鋭な画像を形成することができる。
紫外線などの放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インクの高感度化を達成することにより、放射線に対し高い硬化性が付与され、インクジェット記録の生産性向上、消費電力低減、放射線発生器への負荷軽減による高寿命化、硬化不足に基づく低分子物質の揮発発生の防止など、多くの利益が生じる。また、高感度化は、特にインクジェット記録用インクにより形成された画像の強度を向上させ、特に、平版印刷版の形成に応用した場合、画像部の硬化強度が高まることになり、高耐刷性が得られることになる。
このような放射線、例えば、紫外線による硬化型インクジェット方式は、比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性の無い被記録媒体への記録が出来る点で、近年注目されつつあり、被記録媒体への密着性に優れ、紫外線硬化時の収縮率が小さいカチオン重合型インク組成物が提案されている（例えば、特許文献３参照）。但し、これらカチオン重合型インクは、経時で発生した酸に基づく反応により、保存時の安定性が充分ではなく、実用化には大きな障害となっていた。このため、保存安定性を改良する試みとして、塩基性化合物や熱塩基発生剤を添加する技術が提案されている（例えば、特許文献４〜６参照）が、塩基性化合物が露光により発生した酸の機能を阻害するためにインクの硬化感度が低下するという新たな問題が発生することがわかった。
しかし、近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、出力するディジタル化技術が広く普及し、それに対応した新しい画像出力方式が求められるようになった。特に、現像液による処理を経ないで印刷版を作製しうる方法が検討され、インクジェット記録用インク組成物によって直接平版印刷版を作製する方法が検討されている（例えば、特許文献７参照）。これは、好ましくは親水性の支持体表面にインクジェット方式等によってインクを画像様に吐出し、これに活性放射線に照射して硬化させ、所望の画像（好ましくは、疎水性画像）を有する印刷版を得るものである。
平版印刷版の画像部を形成するためには、支持体上に吐出されたインクの硬化性（硬化感度）、支持体との密着性、等が望まれている。
これに対して、脂環ポリマー、フッ素系ポリマーを含有するインクやポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂及びポリエステル樹脂から選択される樹脂を含有するＵＶインクジェット用インクが開示されている（例えば、特許文献８，９参照。）。
しかしながら、基板との密着性が十分ではなく、また、インクの調製時に粘度上昇がみられインク調製の作業性、インクの突出性が満足できるものではなかった。
特開平１１−４３５４０号公報 特開平１１−６０７０２号公報 特開平９−１８３９２８号公報 特開２００３−３１２１２１公報 特開２００３−３４１２１７公報 特開２００４−９１５５８公報 特開昭５４−１１７２０３号公報 特開２００６−１８２９７０号公報 特開２００６−１５２０７１号公報
本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、基板との密着性に優れ、硬化感度が良好なインク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供することにある。
また、本発明のさらなる目的は、基板との密着性に優れた画像を有する印刷物、耐刷性に優れた平版印刷版、及びその製造方法を提供することにある。
前記実情に鑑み本発明者らは、鋭意研究を行ったところ、上記課題を解決しうることを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は下記の手段により達成されるものである。
＜１＞ 重合開始剤、重合性モノマー、及び燐酸基含有ポリマーを含有し、前記燐酸基含有ポリマーの重量平均分子量が１０，０００以上３０，０００以下であることを特徴とするインク組成物。
＜２＞ 燐酸基含有ポリマーを１質量％以上１０質量％以下含有することを特徴とする上記＜１＞に記載のインク組成物。
＜３＞ 着色剤を含有することを特徴とする上記＜１＞又は＜２＞に記載のインク組成物。
＜４＞ インクジェット記録用であることを特徴とする上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のインク組成物。
＜５＞ 被記録媒体上に、上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のインク組成物をインクジェット記録装置により吐出する工程と、吐出されたインク組成物に活性放射線を照射してインク組成物を硬化する工程と、を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。
＜６＞ 前記活性放射線が、発光ピーク波長が３５０〜４２０ｎｍの範囲にあり、かつ被記録媒体表面での最高照度が１０〜２，０００ｍＷ／ｃｍ２となる紫外線を発生する発光ダイオードにより照射される紫外線であることを特徴とする上記＜５＞に記載のインクジェット記録方法。
＜７＞ 上記＜５＞又は＜６＞に記載のインクジェット記録方法によって記録されたことを特徴とする印刷物。
＜８＞ 上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のインク組成物を支持体上に吐出する工程と、吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化させることにより、前記インク組成物が硬化してなる疎水性画像を前記支持体上に形成する工程と、を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
＜９＞ 上記＜８＞に記載の平版印刷版の製造方法によって製造されたことを特徴とする平版印刷版。
本発明によれば、基板との密着性に優れ、硬化感度が良好なインク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供できる。
また、本発明によれば、基板との密着性に優れた画像を有する印刷物、耐刷性に優れた平版印刷版、及びその製造方法を提供できる。
本発明のインク組成物は、重合開始剤、重合性モノマー、及び燐酸基含有ポリマーを含有し、前記燐酸基含有ポリマーの重量平均分子量が１０，０００以上３０，０００以下であることを特徴とし、放射線の照射により硬化が可能である。
本発明で言う「放射線」とは、その照射により組成物中において開始種を発生させうる活性エネルギー線を付与することができるものであれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、電子線などを包含するものである。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点からは、紫外線及び電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。従って、本発明のインク組成物としては、放射線として、紫外線を照射することにより硬化可能なインク組成物であることが好ましい。
また、本発明のインク組成物は、前記重合開始剤、重合性モノマー、及び燐酸基含有ポリマーを含有するが、着色剤を含有することが好ましく、必要に応じてその他の添加剤を含有することができる。
以下、本発明のインク組成物の構成成分等について詳細に説明する。
（燐酸基含有ポリマー）
本発明における燐酸基含有ポリマー（以下、「特定燐酸基含有ポリマー」ともいう。）は、その重量平均分子量が１０，０００以上３０，０００以下とする必要がある。インク組成物の基板との密着性、インク組成物の粘度制御の観点から、１０，０００以上 ２５，０００以下が好ましく、１０，０００以上２０，０００以下がより好ましく、１０，０００以上１５，０００以下が特に好ましい。
前記重量平均分子量を１０，０００以上とすることにより、基板への密着性が向上する傾向となり、また、２０，０００以下とすることにより、燐酸基含有ポリマー添加時のインク組成物の粘度上昇を抑制でき易くなる傾向となり好ましい。
本発明において、前記燐酸基とは、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２及び−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２（それらのエステル及び塩を含む。）を意味するものとする。
本発明のインク組成物中に前記特定燐酸基含有ポリマーを含有させることにより、基板との密着性に優れたインク組成物とすることができ、また、該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供することができる。また、前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法により記録された印刷物が基板との密着性に優れた画像とすることができる。
それらの中でも、インク組成物中に含んで用いた際の基板との密着性との観点から、前記ポリマーとしては（１−１）ポリウレタン樹脂、（１−２）ポリエステル樹脂、（１−３）ポリウレア樹脂、（１−４）（メタ）アクリル系樹脂から選択される１種以上であることが好ましい態様である。更に好ましくは、（１−４）（メタ）アクリル系樹脂である。
（１−１）ポリウレタン樹脂
本発明で使用するポリウレタン樹脂について説明する。
（ｉ）本発明で使用されるポリウレタン樹脂は、下記式（１）’で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも１種と式（１）”で表されるジオール化合物の少なくとも１種との反応生成物で表される構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。
ＯＣＮ−Ｘ０−ＮＣＯ （１）’
ＨＯ−Ｙ０−ＯＨ （１）”
（式中、Ｘ０、Ｙ０は２価の有機残基を表す。）
本発明におけるポリウレタン樹脂で、好ましいポリウレタン樹脂は、燐酸基を０．４ｍｅｑ／ｇ以上有するポリウレタン樹脂である。
好適に使用されるポリウレタン樹脂は、上記式（１）’で表されるジイソシアネート化合物と、式（２３）、（２４）、（２５）のジオール化合物の少なくとも１種との反応生成物で表される構造単位および／または、テトラカルボン酸２無水物をジオール化合物で開環させた化合物から由来される構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。
Figure 2008214436
式（２３）中、Ｒ１は水素原子、置換基（例えば、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＯＲ１１３、−ＯＲ１１３、−ＮＨＣＯＮＨＲ１１３、−ＮＨＣＯＯＲ１１３、−ＮＨＣＯＲ１１３、−ＯＣＯＮＨＲ１１３、−ＣＯＮＨＲ１１３（ここで、Ｒ１１３は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基などの各基が含まれる。）を有していてもよいアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。
式（２３）〜（２５）中、Ｌ１０、Ｌ１１、Ｌ１２はそれぞれ同一でも相違していてもよく、単結合、置換基（例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲンの各基が好ましい。）を有していてもよい２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは炭素数１〜２０個のアルキレン基、炭素数６〜１５個のアリーレン基、さらに好ましくは炭素数１〜８個のアルキレン基を示す。必要に応じて、Ｌ１０、Ｌ１１、Ｌ１２中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。なお、Ｒ１、Ｌ１０、Ｌ１１、Ｌ１２のうちの２または３個で環を形成してもよい。
上記式（２４）中、Ａｒは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数６〜１５個の芳香族基を示す。
上記式（２３）〜（２５）中、Ｚ０は下記の基を示す。
Figure 2008214436
上記式中、Ｒ１０７、Ｒ１０８はそれぞれ同一でも相違していてもよく、水素原子、ナトリウム、カリウム、アルキル基、アリール基を示し、好ましくは水素原子、炭素原子１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。更に好ましくは、両方が水素原子である。
式（２３）、（２４）または（２５）で示されるホスホン酸、リン酸および／またはこれらのエステル基を有するジオール化合物は、例えば以下に示す方法により合成される。
以下の式（２６）、（２７）、（２８）で示されるハロゲン化合物のヒドロキシ基を必要に応じて保護した後、式（２９）で表されるＭｉｃｈａｅｌｉｓ−Ａｒｂｕｚｏｖ反応によりホスホネートエステル化し、さらに必要により臭化水素等により加水分解することにより合成が行われる。
Figure 2008214436
式中、Ｒ１、Ｌ１０、Ｌ１１、Ｌ１２およびＡｒは式（２３）、（２４）、（２５）の場合と同義である。Ｒ１０９はアルキル基、アリール基を示し、好ましくは炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。Ｒ１１０は式（２６）、（２７）、（２８）のＸ０１を除いた残基であり、Ｘ０１はハロゲン原子、好ましくはＣｌ、Ｂｒ、Ｉを示す。
また、式（３０）で表されるオキシ塩化リンとの反応後、加水分解させる方法により合成が行われる。
Figure 2008214436
式中、Ｒ１１０は式（２９）の場合と同義であり、Ｍは水素原子、ナトリウムまたはカリウムを示す。
本発明におけるポリウレタン樹脂がホスホン酸基を有する場合、式（１）で示されるジイソシアネート化合物と、式（２３）、（２４）または（２５）で示されるホスホン酸エステル基を有するジオール化合物を反応させ、ポリウレタン樹脂化した後、臭化水素等により加水分解することで合成してもよい。
本発明において、ポリウレタン樹脂の合成に用いられる好ましいテトラカルボン酸２無水物としては、式（５）、（６）、（７）で示されるものが挙げられる。
Figure 2008214436
式中、Ｌ２１は単結合、置換基（例えばアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノ、エステル、アミドの各基が好ましい。）を有していてもよい二価の脂肪族または芳香族炭化水素基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−または−Ｓ−を示す。好ましくは単結合、炭素数１〜１５個の二価の脂肪族炭化水素基、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−または−Ｓ−を示す。
式中、Ｒ２、Ｒ３は同一でも相違していてもよく、水素原子、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、またはハロゲノ基を示す。好ましくは、水素原子、炭素数１〜８個のアルキル、炭素数６〜１５個のアリール、炭素数１〜８個のアルコキシ、またはハロゲノ基を示す。またＬ２１、Ｒ２、Ｒ３のうちの２つが結合して環を形成してもよい。
式中、Ｒ４、Ｒ５は同一でも相違していてもよく、水素原子、アルキル、アラルキル、アリールまたはハロゲノ基を示す。好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基、または炭素数６〜１５個のアリール基を示す。またＬ２１、Ｒ４、Ｒ５のうちの２つが結合して環を形成してもよい。
式中、Ｌ２２、Ｌ２３は同一でも相違していてもよく、単結合、二重結合、または二価の脂肪族炭化水素基を示す。好ましくは単結合、二重結合、またはメチレン基を示す。
式中、Ａは単核または多核の芳香環を示す。好ましくは炭素数６〜１８個の芳香環を示す。
式（５）、（６）または（７）で示される化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。
すなわち、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−スルホニルジフタル酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−［３，３’−（アルキルホスホリルジフェニレン）−ビス（イミノカルボニル）］ジフタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテートとトリメット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリメット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボン酸二無水物；５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物（大日本インキ化学工業（株）製、エピクロンＢ−４４００）、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物などの脂環族テトラカルボン酸二無水物；１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−ペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
これらのテトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環された化合物から由来する構造単位をポリウレタン樹脂中に導入する方法としては、例えば以下の方法がある。
ａ）テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させて得られたアルコール末端の化合物と、ジイソシアネート化合物とを反応させる方法。
ｂ）ジイソシアネート化合物をジオール化合物過剰の条件下で反応させ得られたアルコール末端を有するウレタン化合物と、テトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法。
またこのとき使用されるジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。
すなわち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，４−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、ｐ−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−２，４−トリレンジカルバメート、２，４−トリレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）、ビス（２−ヒドロキシエチル）−ｍ−キシリレンジカルバメート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソフタレート等が挙げられる。
本発明に使用されるポリウレタン樹脂は、その他のジオール化合物として、より好ましくは、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、またはポリカーボネートジオール化合物の少なくとも１種との反応生成物で表される構造を有するポリウレタン樹脂である。
ポリエーテルジオール化合物としては、式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）で表される化合物、および、末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドのランダム共重合体が挙げられる。
Figure 2008214436
式中、Ｒ６は水素原子またはメチル基、Ｘは、以下の基を表す。
Figure 2008214436
上記式中、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇはそれぞれ独立に２以上の整数を示す。好ましくは２〜１００の整数である。
式（Ａ）、（Ｂ）で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。
すなわち、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ヘキサエチレングリコール、ヘプタエチレングリコール、オクタエチレングリコール、ジ−１，２−プロピレングリコール、トリ−１，２−プロピレングリコール、テトラ−１，２−プロピレングリコール、ヘキサ−１，２−プロピレングリコール、ジ−１，３−プロピレングリコール、トリ−１，３−プロピレングリコール、テトラ−１，３−プロピレングリコール、ジ−１，３−ブチレングリコール、トリ−１，３−ブチレングリコール、ヘキサ−１，３−ブチレングリコール、平均分子量１０００のポリエチレングリコール、平均分子量１５００のポリエチレングリコール、平均分子量２０００のポリエチレングリコール、平均分子量３０００のポリエチレングリコール、平均分子量７５００のポリエチレングリコール、平均分子量４００のポリプロピレングリコール、平均分子量７００のポリプロピレングリコール、平均分子量１０００のポリプロピレングリコール、平均分子量２０００のポリプロピレングリコール、平均分子量３０００のポリプロピレングリコール、平均分子量４０００のポリプロピレングリコール等。
式（Ｃ）で示されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。三洋化成工業（株）製ＰＴＭＧ６５０，ＰＴＭＧ１０００，ＰＴＭＧ２００００，ＰＴＭＧ３０００等。
式（Ｄ）で示されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。三洋化成工業（株）製ニューポールＰＥ−６１，ニューポールＰＥ−６２，ニューポールＰＥ−６４，ニューポールＰＥ−６８，ニューポールＰＥ−７１，ニューポールＰＥ−７４，ニューポールＰＥ−７５，ニューポールＰＥ−７８，ニューポールＰＥ−１０８，ニューポールＰＥ−１２８，ニューポールＰＥ−６１等。
式（Ｅ）で示されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。三洋化成工業（株）製ニューポールＢＰＥ−２０、ニューポールＢＰＥ−２０Ｆ、ニューポールＢＰＥ−２０ＮＫ、ニューポールＢＰＥ−２０Ｔ、ニューポールＢＰＥ−２０Ｇ、ニューポールＢＰＥ−４０、ニューポールＢＰＥ−６０、ニューポールＢＰＥ−１００、ニューポールＢＰＥ−１８０、ニューポールＢＰ−２Ｐ、ニューポールＢＰＥ−２３Ｐ、ニューポールＢＰＥ−３Ｐ、ニューポールＢＰＥ−５Ｐ等。
末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドのランダム共重合体としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。三洋化成工業（株）製ニューポール５０ＨＢ−１００，ニューポール５０ＨＢ−２６０，ニューポール５０ＨＢ−４００，ニューポール５０ＨＢ−６６０，ニューポール５０ＨＢ−２０００，ニューポール５０ＨＢ−５１００等。
ポリエステルジオール化合物としては、式（８）、（９）で表される化合物が挙げられる。
Figure 2008214436
式中、Ｌ１、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ同一でも相違してもよく２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Ｌ４は２価の脂肪族炭化水素基を示す。好ましくは、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３はそれぞれアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基を示し、Ｌ４はアルキレン基を示す。
またＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフイン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。ｎ１、ｎ２はそれぞれ２以上の整数であり、好ましくは２〜１００の整数を示す。
ポリカーボネートジオール化合物としては、式（１０）で表される化合物がある。
Figure 2008214436
式中、Ｌ５はそれぞれ同一でも相違してもよく２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは、Ｌ５はアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基を示す。またＬ５中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフイン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。ｎ３はそれぞれ２以上の整数であり、好ましくは２〜１００の整数を示す。
式（８）、（９）または（１０）で示されるジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。具体例中のｎは２以上の整数である。ｎは２以上１０以下であることが好ましく、ｎは２以上５以下であることがより好ましく、ｎは２または３の整数であることが最も好ましい。
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
また更に、カルボキシル基を有せず、イソシアネートと反応しない他の置換基を有してもよいジオール化合物を併用することもできる。
このようなジオール化合物としては、以下に示すものが含まれる。
ＨＯ−Ｌ６−Ｏ−ＣＯ−Ｌ７−ＣＯ−Ｏ−Ｌ６−ＯＨ （１１）
ＨＯ−Ｌ７−ＣＯ−Ｏ−Ｌ６−ＯＨ （１２）
式中、Ｌ６、Ｌ７はそれぞれ同一でも相違していてもよく、置換基（例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、などの各基が含まれる。）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、Ｌ６、Ｌ７中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基などを有していてもよい。なおＬ６、Ｌ７で環を形成してもよい。
また式（１１）または（１２）で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
下記に示すジオール化合物も好適に使用できる。
Figure 2008214436
式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、ｃは上記と同義であり、それぞれ２以上の整数を示し、好ましくは２〜１００の整数である。
式（１５）、（１６）、（１７）または（１８）で示されるジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。
すなわち、式（１５）としては、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール等、式（１６）としては、下記に示す化合物等、
Figure 2008214436
式（１７）としては、２−ブテン−１，４−ジオール、式（１８）としては、ｃｉｓ−２−ブテン−１，４−ジオール、ｔｒａｎｓ−２−ブテン−１，４−ジオール等。
また、下記に示すジオール化合物も好適に使用できる。
ＨＯ−Ｌ６−ＮＨ−ＣＯ−Ｌ７−ＣＯ−ＮＨ−Ｌ６−ＯＨ （１９）
ＨＯ−Ｌ７−ＣＯ−ＮＨ−Ｌ６−ＯＨ （２０）
式中、Ｌ６、Ｌ７はそれぞれ同一でも相違していてもよく、置換基（例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、などの各基が含まれる。）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、Ｌ６、Ｌ７中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基などを有していてもよい。なおＬ６、Ｌ７で環を形成してもよい。
Figure 2008214436
また式（１９）または（２０）で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。
Figure 2008214436
さらに、下記に示すジオール化合物も好適に使用できる。
ＨＯ−ＡＲ２−（Ｌ１６−ＡＲ３）ｎ−ＯＨ （２１）
ＨＯ−ＡＲ２−Ｌ１６−ＯＨ （２２）
式中、Ｌ１６は置換基（例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基を示す。必要に応じ、Ｌ１６中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。
ＡＲ２、ＡＲ３は同一でも相違していてもよく、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数６〜１５個の芳香族基を示す。ｎは０〜１０の整数を示す。
また式（２１）または（２２）で示されるジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。
すなわち、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン、４−メチルカテコール、４−ｔ−ブチルカテコール、４−アセチルカテコール、３−メトキシカテコール、４−フェニルカテコール、４−メチルレゾルシン、４−エチルレゾルシン、４−ｔ−ブチルレゾルシン、４−ヘキシルレゾルシン、４−クロロレゾルシン、４−ベンジルレゾルシン、４−アセチルレゾルシン、４−カルボメトキシレゾルシン、２−メチルレゾルシン、５−メチルレゾルシン、ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノン、テトラメチルハイドロキノン、テトラクロロハイドロキノン、メチルカルボアミノハイドロキノン、メチルウレイドハイドロキノン、メチルチオハイドロキノン、ベンゾノルボルネン−３，６−ジオール、ビスフェノールＡ、ブスフェノールＳ、３，３’−ジクロロビスフェノールＳ、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−チオジフェノール、２，２’−ジヒドロキシジフェニルメタン、３，４−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、１，４−ビス（２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピル）ベンゼン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチルアミン、１，３−ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシアントラキノン、２−ヒドロキシベンジルアルコール、４−ヒドロキシベンジルアルコール、２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルアルコール、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルアルコール、４−ヒドロキシフェネチルアルコール、２−ヒドロキシエチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−ヒドロキシエチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、レゾルシンモノ−２−ヒドロキシエチルエーテル等が挙げられる。
さらに、下記に示すアミノ基含有化合物も、ジオール化合物と同様、式（１）で表されるジイソシアネート化合物と反応させ、ウレア構造を形成してポリウレタン樹脂の構造に組み込まれてもよい。
Figure 2008214436
式中、Ｒ１０６、Ｒ１０８はそれぞれ同一でも相違していてもよく、水素原子、置換基（例えばアルコキシ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、エステル、カルボキシル基などの各基が含まれる。）を有していてもよいアルキル、アラルキル、アリール基を示し、好ましくは水素原子、置換基としてカルボキシル基を有していてもよい炭素数１〜８個のアルキル、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。
Ｌ１７は置換基（例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、カルボキシル基などの各基が含まれる。）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、Ｌ１７中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド基などを有していてもよい。なおＲ１０６、Ｌ１７、Ｒ１０８のうちの２個で環を形成してもよい。
また式（３１）、（３２）で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。
すなわち、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、プロパン−１，２−ジアミン、ビス（３−アミノプロピル）メチルアミン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルシロキサン、ピペラジン、２，５−ジメチルピペラジン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラジン、４−アミノ−２，２−６，６−テトラメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、リジン、Ｌ−シスチン、イソホロンジアミン等のような脂肪族ジアミン化合物；ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−トリレンジアミン、ベンジジン、ｏ−ジトルイジン、ｏ−ジアニシジン、４−ニトロ−ｍ−フェニレンジアミン、２，５−ジメトキシ−ｐ−フェニレンジアミン、ビス−（４−アミノフェニル）スルホン、４−カルボキシ−ｏ−フェニレンジアミン、３−カルボキシ−ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノフェニルエーテル、１，８−ナフタレンジアミン等のような芳香族ジアミン化合物；２−アミノイミダゾール、３−アミノトリアゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、４−アミノピラゾール、２−アミノベンズイミダゾール、２−アミノ−５−カルボキシ−トリアゾール、２，４−ジアミノ−６−メチル−Ｓ−トリアジン、２，６−ジアミノピリジン、Ｌ−ヒスチジン、ＤＬ−トリプトファン、アデニン等のような複素環アミン化合物；エタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、１−アミノ−３−プロパノール、２−アミノエトキシエタノール、２−アミノチオエトキシエタノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、ｐ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｏ−アミノフェノール、４−メチル−２−アミノフェノール、２−クロロ−４−アミノフェノール、４−メトキシ−３−アミノフェノール、４−ヒドロキシベンジルアミン、４−アミノ−１−ナフトール、４−アミノサリチル酸、４−ヒドロキシ−Ｎ−フェニルグリシン、２−アミノベンジルアルコール、４−アミノフェネチルアルコール、２−カルボキシ−５−アミノ−１−ナフトール、Ｌ−チロシン等のようなアミノアルコールまたはアミノフェノール化合物。
本発明におけるポリウレタン樹脂は、上記イソシアネート化合物およびジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知の触媒を添加し、加熱することにより合成される。
使用するジイソシアネートおよびジオール化合物のモル比は好ましくは０．８：１〜１．２：１であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類またはアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
（ｉｉ）ポリウレタン樹脂のより好ましい具体例としては、以下の化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Figure 2008214436
ポリウレタン樹脂の合成例
＜合成例１＞
５００ｍｌの３つ口フラスコに１，６−ヘキサンジイソシアネート１２５ｇと２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォネート６７ｇをジオキサン２９０ｍｌに溶解した。Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンを１ｇを入れた後ジオキサン還流下６時間攪拌した。反応後、水４Ｌ、酢酸４０ｃｃの溶液に少しずつ加えポリマーを析出させた。この固体を真空乾燥させることにより１８５ｇのポリウレタン樹脂（Ａ−１）を得た。燐酸基含有量は２．１２ｍｅｑ／ｇであつた。ＧＰＣにて分子量を測定したところ重量平均（ポリスチレン標準）で１２０００であった。
（１−２）ポリエステル樹脂
本発明における燐酸基含有ポリマーとして、前記特定の重量平均分子量を有するポリエステル樹脂を用いることが好ましい。
本発明で使用し得るポリエステル樹脂は、次の（１）又は（２）の方法等により合成できる。
（１）前記（１−１）ポリウレタン樹脂の項で述べた式（２３）、（２４）、（２５）のジオール化合物と、ジカルボン酸又はその誘導体と、を反応させる。
（２）過剰のジオール化合物と、ジカルボン酸又はその誘導体と、を反応させて末端に水酸基を有するポリエステル樹脂を合成し、次いでテトラカルボン酸二無水物を反応させる。
方法（１）においては、更に燐酸基を有しないジオール化合物を併用することもできる。該ジオール化合物としては、方法（２）において使用されるジオール化合物と同様のものが使用できる。
方法（１）において併用される燐酸基を有しないジオール化合物、及び方法（２）で使用されるジオール化合物としては、例えば、以下に示すものを挙げることができる。
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，４−ビス（β−ヒドロキシエトキシ）シクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加体、ビスフェノールＡのプロピレンオキシド付加体、ビスフェノールＦのエチレンオキシド付加体、ビスフェノールＦのプロピレンオキシド付加体、水添ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加体、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキシド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、ｐ−キシリレングリコール、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソフタレートなどが挙げられる。
これらの中でも、方法（１）又は（２）に併用されるジオール化合物としては、芳香族基を有するジオール化合物、炭素数２〜１０の脂肪族ジオール化合物が特に好ましい。
方法（１）又は（２）において使用される、ジカルボン酸又はその誘導体としては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブロモフタル酸、テトラクロロフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、カルボキシノルボルナン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸、３−ヒドロキシフタル酸などのジカルボン酸又はその誘導体等が挙げらる。
これらの中でも、方法（１）又は（２）において使用されるジカルボン酸又はその誘導体としては、芳香族基を有するジカルボン酸又はその誘導体、炭素数２〜１０の脂肪族ジカルボン酸又はその誘導体が特に好ましい。
前記方法（２）法において使用されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を挙げることができる。
Figure 2008214436
一般式（ＩＩ）中、Ｒは少なくとも２個の炭素原子を有する４価の有機基を表す。
テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’、４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−スルホニルジフタル酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−｛３，３’（アルキルホスホリルジフェニレン）−ビス（イミノカルボニル）｝ジフタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテートとトリメリット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリメリット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボン酸二無水物、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族又は脂環族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらの中でも、芳香族テトラカルボン酸二無水物が特に好ましい。
前記ポリエステル樹脂は、例えば、緒方 著「講座 重合反応論９ 重縮合」化学同人社発行、或いは、特開昭６０−１６５６４６号公報、米国特許３，６２２，３２０号明細書に記載されている方法により容易に製造することができる。
方法（１）又は（２）においては、末端水酸基となるように側鎖カルボキシル基含有ポリエステル樹脂を合成し、更に、このポリエステル樹脂に当該末端水酸基と反応しうる官能基を分子中に２個以上有する化合物（鎖延長剤と呼ぶ）を反応させて高分子量化することも可能である。
末端水酸基と反応しうる官能基を有する鎖延長剤としては、例えば、ジアリールオキザレート化合物、ジアリールフタレート化合物、ジアリールカーボネート化合物、ビス（Ｎ−アシルラクタム）化合物、ビス（Ｎ−アシルイミド）化合物、ビスベンゾオキサジノン化合物、ポリイソシアネート化合物、ビスオキサゾロン化合物、ビス（Ｎ−アシルイミダゾール）化合物、アルコキシシラン化合物、シラノール化合物、フロキサン化合物、ビスアジリジン化合物、ポリイソチオシアネート化合物、ジビニルエーテル化合物、ジケテンアセタール化合物、不飽和シクロアセタール化合物、ビスカルボジイミド化合物等の化合物が挙げられる。
鎖延長剤との反応による高分子量ポリエステル樹脂は、例えば、特開昭６０−１９１２４４号公報に記載されている方法により容易に合成することができる。
また、前記ポリエステル樹脂は、側鎖に炭素−炭素不飽和結合を有することもできる。炭素−炭素不飽和結合とは、エチレン性及びアセチレン性結合の両者を指すが、好ましくはエチレン性結合である。中でも下記一般式（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）で表される結合が好ましい。
Figure 2008214436
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ５〜Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ５としては、好ましくは、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。また、Ｒ６、Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。ここで、炭素原子を有する置換基としては、総炭素数１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましい。
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ１７）−を表し、Ｒ１７は、水素原子、又は１価の有機基を表す。ここで、Ｒ１７は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。ここで、炭素原子を有する置換基としては、総炭素数１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましい。
上記一般式（ＩＶ）において、Ｒ８〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ８〜Ｒ１２は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が、反応性の点で好ましい。ここで、炭素原子を有する置換基としては、総炭素数１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましい。
また、ここで導入し得る置換基としては、一般式（ＩＩＩ）と同様のものが例示される。
また、Ｙは、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ１７）−を表す。Ｒ１８は、一般式（ＩＩＩ）のＲ１７の場合と同義であり、好ましい例も同様である。
上記一般式（Ｖ）において、Ｒ１３〜Ｒ１５は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。
Ｒ１３としては、好ましくは、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
Ｒ１４、Ｒ１５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。ここで、炭素原子は、総炭素数１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましい。
ここで、導入し得る置換基としては、一般式（ＩＩＩ）と同様のものが例示される。また、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ１８）−、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。Ｒ１８は、一般式（ＩＩＩ）のＲ１７の場合と同義であり、好ましい例も同様である。
一般式（ＶＩ）において、Ｒ１６は、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ１６としては、好ましくは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基などが挙げられる。これらの中でも、水素原子、メチル基、置換基を有していてもよいフェニル基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。
Ａは、置換基を有してもよいアルキレン基、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。これらの中でも、メチレン基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
ここで、導入し得る置換基としては、一般式（ＩＩＩ）と同様のものが例示される。
炭素−炭素不飽和結合は、以下の（３）、（４）の方法などにより導入することが可能である。
（３）前記（１）又は（２）の方法において使用した、ジカルボン酸又はその誘導体として、炭素−炭素不飽和結合を有するジカルボン酸又はその誘導体を使用する、或いは、併用する。
（４）前記（１）又は（２）の方法により合成された側鎖にカルボキシ基を有する特定ポリエステル樹脂のカルボキシ基の一部を、炭素−炭素不飽和結合を有するハロゲン化物又はエポキシ化合物と反応させる。
前記方法（３）において使用される炭素−炭素不飽和結合を有するジカルボン酸又はその誘導体としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、テトラヒドロフタル酸、ハイミック酸、ｐ−フェニレンジアクリル酸、ｍ−フェニレンジアクリル酸、シンナミリデンマロン酸、ｐ−カルボキシ桂皮酸、等のジカルボン酸又はその無水物、エステル誘導体などが挙げられ、中でも、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、ｐ−フェニレンジアクリル酸、ｍ−フェニレンジアクリル酸のジカルボン酸又はその無水物、エステル誘導体などが特に好ましい。
前記方法（４）において使用される炭素−炭素不飽和結合を有するハロゲン化物又はエポキシ化合物としては、例えば、アリルブロミド、２−ブテニルブロミド、１−フェニル−１−プロペニル−３−ブロミド、２−ブロモエチルシンナメート、ブロモメチルスチレン、クロロメチルスチレン、プロパルギルブロミド、ブロモ−２−ブチン等のハロゲン化合物、アリルグリシジルエーテル、２−ブテニルグリシジルエーテル、１−フェニル−プロペニルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルシンナメート、プロパルギルグリシジルエーテル、下記化合物等のエポキシ化合物が挙げられ、中でも、アリルブロミド、クロロメチルスチレン、プロパルギルブロミドのハロゲン化合物、アリルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、下記化合物等の環状エポキシ化合物が特に好ましい。
Figure 2008214436
前記ポリエステル樹脂中に炭素−炭素不飽和結合を含有させる場合、好ましい含有量としては、ポリエステル樹脂１ｇに対して、炭素−炭素不飽和結合を０．１ｍｅｑ／ｇ以上３．０ｍｅｑ／ｇ以下含有していることが好ましく、０．５ｍｅｑ／ｇ以上３．０ｍｅｑ／ｇ以下がより好ましい。０．１ｍｅｑ／ｇ以上であれば、炭素−炭素不飽和結合導入による高感度化効果が充分に得られ、３．０ｍｅｑ／ｇ以下であれば十分な保存安定性が得られる傾向にある。
多分散度（質量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、さらに好ましくは１．１〜１０の範囲である。質量平均分子量がこの範囲内において、本発明のインク組成物は保存安定性に優れたものとなる。
また、前記ポリエステル樹脂の鎖中には、他の結合、例えば、ウレタン、エステル、ウレイド、エーテル結合などを有してもよい。
前記ポリエステル樹脂のより好ましい具体例としては、以下の化合物を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
Figure 2008214436
＜ポリエステル樹脂（Ｂ−１）の合成例＞
コハク酸無水物（ジカルボン酸成分）１００ｇ及び２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォネート（ジオール成分）２０６．４ｇの混合物（ポリエステル樹脂（Ｂ−１）の原料成分）に、ジブチル錫ジラウリレート０．５ｗｔ％を加え、窒素ガス雰囲気下で、１８０℃に加温して３時間攪拌反応させた。同温度で反応器内の圧力を減圧して、５０ｍＨｇとして、更に３時間加熱攪拌しながら、留出物を留去した。反応器を室温に戻した後に、溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを加えて６０ｗｔ％溶液とした後に、ピロメリト酸無水物（テトラカルボン酸二無水物、ポリエステル樹脂（Ｂ−１）の原料成分）を攪拌しながら加えた。１１０℃に昇温して、８時間反応させた後、Ｒａｐｉ−Ｃｕｒｅ ＤＶＥ−３（ＩＳＰ Ｅｕｒｏｐｅ社製、ビニルエーテル化合物）で希釈して、ポリエステル樹脂（Ｂ−１）を含有する２０ｗｔ％溶液とした。
（１−３）ポリウレア樹脂
本発明における燐酸基含有ポリマーとして、前記特定の重量平均分子量を有するポリウレア樹脂を用いることが好ましい。
前記ポリウレア樹脂は、水不溶性且つアルカリ可溶性であることが好ましく、そのポリマー主鎖に尿素結合を有するものであれば特に制限はない。
ここで、尿素結合とは、一般的には「−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−」のことを指すが、本発明における尿素結合とは、上記「−ＮＨ−」の水素部分が任意の置換基により置換されている構造も包含するものと定義する。
本発明における尿素結合としては、例えば、下記一般式（ａ）で表されるものが挙げられる。
Figure 2008214436
式（ａ）中、Ｒａ、Ｒａ’は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。ここで、本発明においては、Ｒａ、Ｒａ’の双方が水素原子であるものが好ましい。
ここで、Ｒａ、Ｒａ’がアルキル基である場合には、炭素数１〜２０程度のものが好ましく、炭素数１〜６程度のものがより好ましい。Ｒａ、Ｒａ’がアリール基である場合には、炭素数６〜２４程度のものが好ましく、炭素数６〜１５程度のものがより好ましい。Ｒａ、Ｒａ’がアラルキル基である場合には、炭素数７〜２４程度のものが好ましく、炭素数７〜１５程度のものがより好ましい。また、ＲａおよびＲａ’で表される置換基の少なくとも一方と、該置換基が結合している窒素原子の他方の結合手と、が互いに結合して環構造を形成していてもよく、例えば下記式で表される如き結合もまた、本発明における尿素結合に包含される。
Figure 2008214436
このような尿素結合をポリマー主鎖に導入する方法の１つとしては、イソシアネート基と１級あるいは２級アミンとを反応させる方法が挙げられる。
本発明においては、下記一般式（Ｉ）で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも１種と、前記（１−１）ポリウレタン樹脂の項で述べた式（２３）、（２４）、（２５）のジオール化合物の少なくとも１種と、１級あるいは２級アミンなどのポリマー主鎖に尿素結合を導入しうる化合物の少なくとも１種と、からなる反応生成物を基本骨格とする高分子化合物（ポリウレア樹脂）が好ましい。
Figure 2008214436
式（Ｉ）中、Ｒ１は二価の連結基を表す。そのような連結基としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、または、芳香族炭化水素が挙げられ、好ましくは、炭素数２〜１２のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基が挙げられる。アリーレン基としては、２つ以上の環構造が単結合またはメチレン基などの２価の有機連結基により結合されたものや、縮合多環構造を形成したものであってもよい。また、必要に応じ、Ｒ１は式（Ｉ）におけるイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド基を有していてもよい。
さらに、Ｒ１は置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）などが好ましい。
また、本発明に用いられるジイソシアネート化合物としては、上記一般式（Ｉ）で表される範囲のもの以外にも、例えば、後述するジオール化合物からなるオリゴマーまたはポリマーなどの高分子化合物の両末端に、イソシアネート基を有する高分子量のジイソシアネート化合物などを用いることもできる。
このようなジイソシアネート化合物の具体例としては以下に示すものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートの二量体、２，６−トリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物；イソホロンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４（又は２，６）ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等の如き脂肪環ジイソシアネート化合物；１，３−ブチレングリコール１モルとトリレンジイソシアネート２モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネートが感度、耐薬品性
の観点より好ましい。
前記ポリウレア樹脂において用いられる前記１級或いは２級アミンとしては、特に制限はないが、例えば、脂肪族ジアミン化合物、芳香族ジアミン化合物、複素環アミン化合物、アミノアルコールまたはアミノフェノール化合物等の１分子中に少なくとも１つ以上の１級あるいは２級アミノ基を有する化合物や、あらかじめ分子内に尿素結合を有する化合物（以下、適宜「ウレア化合物」と称する）などが挙げられる。中でも、１級の脂肪族ジアミン、１級の芳香族ジアミンが感度の観点から特に好ましい。
このような化合物の具体例としては、以下に示すものが挙げられるが本発明はこれらに
限定されるものではない。
脂肪族ジアミン化合物としては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、プロパン−１，２−ジアミン、ビス（３−アミノプロピル）メチルアミン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルシロキサン、ピペラジン、２，５−ジメチルピペラジン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラジン、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、リジン、Ｌ−シスチン等が挙げられ、中でも、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンが特に好ましい。
芳香族ジアミン化合物としては、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、、２，４−トリレンジアミン、ベンジジン、ｏ−ジトルイジン、ｏ−ジアニシジン、４−ニトロ−ｍ−フェニレンジアミン、２，５−ジメトキシ−ｐ−フェニレンジアミン、ビス−（４−アミノフェニル）スルホン、４−カルボキシ−ｏ−フェニレンジアミン、３−カルボキシ−ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，８−ナフタレンジアミン等が挙げられ、中でも、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテルが特に好ましい。
複素環アミン化合物としては、２−アミノイミダゾール、３−アミノトリアゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、４−アミノピラゾール、２−アミノベンズイミダゾール、２−アミノ−５−カルボキシ−トリアゾール、２，４−ジアミノ−６−メチル−Ｓ−トリアジン、２，６−ジアミノピリジン、Ｌ−ヒスチジン、ＤＬ−トリプトファン、アデニン等が挙げられる。
アミノアルコール又はアミノフェノール化合物としては、エタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、１−アミノ−３−プロパノール、２−アミノエトキシエタノール、２−アミノチオエトキシエタノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、ｐ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｏ−アミノフェノール、４−メチル−２−アミノフェノール、２−クロロ−４−アミノフェノール、４−メトキシ−３−アミノフェノール、４−ヒドロキシベンジルアミン、４−アミノ−１−ナフトール、４−アミノサリチル酸、４−ヒドロキシ−Ｎ−フェニルグリシン、２−アミノベンジルアルコール、４−アミノフェネチルアルコール、２−カルボキシ−５−アミノ−１−ナフトール、Ｌ−チロシン等が挙げられ、中でも、ｍ−アミノフェノール、４−アミノフェネチルアルコールが特に好ましい。
本発明に用いられるウレア化合物とは、１分子中に、少なくとも１つ以上の尿素結合を有する化合物であり、且つ、ポリマー合成時にポリマーの主鎖に尿素結合を導入しうるものであれば特に制限はない。
具体的には、２，４−トリレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）、ｍ−キシリレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）、ヘキサメチレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）、４，４’−ジフェニルメタン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）、１，５−ナフタレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）等が挙げられ、中でも、ヘキサメチレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）、４，４’−ジフェニルメタン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）が特に好ましい。
また、本発明の効果を損なわない範囲で、前記（１−１）ポリウレタン樹脂の項で述べた式（２３）、（２４）、（２５）以外のジオール化合物を主鎖中に導入しても良い。
具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，４−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、ｐ−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−２，４−トリレンジカルバメート、ビス（２−ヒドロキシエチル）−ｍ−キシリレンジカルバメート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソフタレート等が挙げられる。
前記ポリウレア樹脂は、上記成分を非プロトン性溶媒に溶解し、それぞれの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱することにより合成することができる。
使用するジイソシアネート化合物に対する、一般式（ＩＩ）〜（ＩＶ）で表されるジオール化合物と、１級あるいは２級アミンおよび／または尿素結合を有する化合物との合計のモル比は、好ましくは０．８：１〜１．２：１であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
また、一般式（ＩＩ）〜（ＩＶ）で表されるジオール化合物に対する、１級あるいは２級アミンおよび／またはウレア化合物のモル比は、９５：５〜０：１００であることが好ましく、９０：１０〜１０：９０であることがより好ましく、８０：２０〜２０：８０であることがさらに好ましい。
前記ポリウレア樹脂のより好ましい具体例としては、以下の化合物を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
Figure 2008214436
＜ポリウレア樹脂の合成例＞
＜合成例１＞
コンデンサー、撹拌機を備えた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコに、２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォネート１３．４ｇ（０．０６６モル）、ヘキサメチレンジアミン２．４ｇ（０．０４０モル）を加え、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１２０ｍｌに溶解した。これにヘキサメチレンジイソシアネート５０．１ｇ（０．２０モル）を添加し、１００℃にて６時間、加熱撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌおよび酢酸５０ｍｌにて希釈した。反応溶液を水４ｌ中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空下乾燥させることにより７５ｇのポリマーを得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて分子量を測定したところ、質量平均（ポリスチレン標準）で１４，０００であった。更に滴定により、リン酸基含有量（酸価）を測定したところ１．２２ｍｅｑ／ｇであった［前記ポリウレア樹脂（Ｃ−１）］。
＜合成例２＞
３−（１，１−ビス（ヒドロキシメチル）エチルカルボニルアミノ）プロピルフォスフォネート１３．４ｇ（０．０６６モル）、ヘキサメチレンジアミン４．２ｇ（０．０４モル）、およびヘキサメチレンジイソシアネート１０．１ｇ（０．０６０モル）を用い、合成例１と同様にして反応、後処理を行なった。白色のポリマー７６ｇを得た。ＧＰＣにより分子量を測定したところ質量平均（ポリスチレン標準）で２２，０００であった。また滴定により、燐酸基含有量を測定したところ、１．２０ｍｅｑ／ｇであった［前記ポリウレア樹脂（Ｃ−２）］。
＜（１−４）（メタ）アクリル系樹脂＞
燐酸基を有するポリマーの構造単位は、下記一般式（１）で表されるものであることが好ましい。
Figure 2008214436
上記一般式（１）中、Ｙは３価の連結基を表し、この連結基を介してポリマー側鎖に燐酸基が結合しうる。Ｒ１０７、Ｒ１０８はそれぞれ同一でも相違していてもよく、水素原子、ナトリウム、カリウム、アルキル基、アリール基を示し、好ましくは水素原子、炭素原子１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。
このような一般式（１）で表される構造単位として好ましいものを下記一般式（１−２）に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 2008214436
式（１−２）中、Ｗは２価の連結基を表し、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３はそれぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表す。Ｒ１０７、Ｒ１０８はそれぞれ同一でも相違していてもよく、水素原子、ナトリウム、カリウム、アルキル基、アリール基を示し、好ましくは水素原子、炭素原子１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。
また、このような燐酸基を構造単位中に複数有していてもよく、その場合、Ｚ１、又は、Ｚ３の位置に連結基Ｗを介して燐酸基が結合する態様や、連結基Ｗが分岐構造を有し、その先端に別の燐酸基が連結している態様をとることができる。
上記Ｗとしては、炭素数１〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキレン、炭素数２〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニレン、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数６〜２０のアリーレン（単環、複素環）、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ａｒ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ａｒ）−、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ）−、−ＳＯ２Ｎ（Ａｒ）−、アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ、−ＯＡｒ−（アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ２Ｏ−、−ＳＯ２ＯＡｒ−、−ＯＳＯ２−、−ＯＳＯ２Ａｒ−、−Ｎ（Ｒ）ＳＯ２−、−Ｎ（Ａｒ）ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ａｒ）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ａｒ）Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ａｒ）−、−Ｎ（Ａｒ）−、−Ｎ（Ｒ）−、−Ｎ＋（Ｒ）（Ｒ’）−、−Ｎ＋（Ｒ）（Ａｒ）−、−Ｎ＋（Ａｒ）（Ａｒ’）−、−Ｓ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、ヘテロ環基（ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含み、３ないし１２員環の単環、縮合環）、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−ＯＣ（＝Ｓ）Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｓ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＡｒ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ａｒ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＡｒＣ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮ（Ｒ）−等が挙げられる。
なお、上記Ｒ、Ｒ’は、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基（炭素数１〜２０、更に１〜８が好適。）、鎖状または環状のアルキル基（炭素数１〜２０、更に１〜８が好適。）、直鎖または分岐のアルケニル基（炭素数１〜２０、更に１〜８が好適。）、鎖状または環状のアルケニル基（炭素数１〜２０、更に１〜８が好適。）、直鎖または分岐のアルキニル基（炭素数１〜２０、更に１〜８が好適。）、鎖状または環状のアルキニル基（炭素数１〜２０、更に１〜８が好適。）を表し、Ａｒ、Ａｒ’はアリール基を表す。
このような連結基の中でも炭素数６〜２０のアリーレン（単環、複素環）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ａｒ）−、アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ、−ＯＡｒ−（アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ａｒ−、−Ｓ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮ（Ｒ）−等が好ましく、炭素数６〜２０のアリーレン（単環、複素環）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ａｒ）−、アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ、−ＯＡｒ−（アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮ（Ｒ）−等がより好ましい。
また、本発明において、上記Ｗで表される連結基としては、ここで挙げた連結基を２種類以上組み合わせたものであっても良い。
式（１−２）中、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３としてはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル等）、炭素数２〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニル基（例えばビニル、１−メチルビニル、シクロヘキセン−１−イル等）、炭素数２〜２０のアルキニル基（例えば、エチニル、１−プロピニル等）、炭素数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、アントリル等）、炭素数１〜２０のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、２−メトキシエトキシカルボニルオキシ基など）、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基など）、炭素数１〜２０のカルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ等）、炭素数１〜２０のカルボンアミド基（例えば、ホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ベンツアミド等）、炭素数１〜２０のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド等）、炭素数１〜２０のカルバモイル基（例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メシルカルバモイル等）、炭素数０〜２０のスルファモイル基（例えば、スルファモイル、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）スルファモイル等）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、２−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ、ポリアルキレンオキシ等）、炭素数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、４−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等）、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル等）、
炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル等）、炭素数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基（例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル等）、炭素数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基（例えばＮ−メタンスルホニルカルバモイル基など）、炭素
数１〜２０のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘキシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルスルホニル等）、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ等）、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等）、炭素数０〜２０のアミノ基（例えばアミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、アニリノ、モルホリノ等）、炭素数３〜２０のアンモニオ基（例えば、トリメチルアンモニオ基、ジメチルベンジルアンモニオ基など）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等）、炭素数６〜２０のアリールスルフィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル、４−クロロフェニルスルフィニル、ｐ−トルエンスルフィニル等）、炭素数１〜２０のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ等）、炭素数６〜２０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等）、炭素数１〜２０のウレイド基（例えば、３−メチルウレイド、３，３−ジメチルウレイド、１，３−ジフェニルウレイド等）、炭素数２〜２０のヘテロ環基（ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含み、３ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−フリル、２−ピラニル、２−ピリジル、２−チエニル、２−イミダゾリル、モルホリノ、２−キノリル、２−ベンツイミダゾリル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル等）、炭素数１〜２０のアシル基（例えば、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル等）、炭素数０〜２０のスルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ−ブチルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ等）、炭素数３〜５０のシリル基（例えば、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、トリフェニルシリル等）、アゾ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）が挙げられる。
また、上記Ｚ１〜Ｚ３が水素原子、またはハロゲン原子以外の場合、これらはさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例としては上記具体例として挙げた如き置換基が挙げられる。
上記Ｚ１〜Ｚ３としては、水素原子、炭素数１〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数０〜２０のアミノ基、シアノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、炭素数１〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数０〜２０のアミノ基、シアノ基、ハロゲン原子がより好ましい。
上記一般式（１−２）で表される構造単位は、密着性の観点から、さらに下記一般式（１−３）で表される構造単位であることが好ましい。
Figure 2008214436
上記一般式（１−３）中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。Ｒ１０７、Ｒ１０８はそれぞれ同一でも相違していてもよく、水素原子、ナトリウム、カリウム、アルキル基、アリール基を示し、好ましくは水素原子、炭素原子１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。
Ｗは上記一般式（１−２）で挙げたものと同義である。以下に、このようなＷで表される２価の置換基として、密着性の観点から特に好ましい具体例を挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 2008214436
Ｚ１は上記一般式（１−２）で挙げたものと同義である。以下に、このようなＺ１で表される１価の有機基として、インク組成物中の安定溶解性の観点から特に好ましい具体例を挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 2008214436
ここで、本発明に係る燐酸基を有する構造単位の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 2008214436
式中、Ｒ１０７、Ｒ１０８はそれぞれ同一でも相違していてもよく、水素原子、ナトリウム、カリウム、アルキル基、アリール基を示し、好ましくは水素原子、炭素原子１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。また、上記ｎ’は０〜５が好ましく、０〜２が特に好ましい。
また、上記燐酸基含有モノマーにさらに下記の共重合成分を加えて共重合を行なったものを特定ポリマーとして用いてもよい。
（１）フェノール基を有する重合性モノマー
（２）スルホンアミド基を有する重合性モノマー
（３）置換スルホンアミド基を有する重合性モノマー
（４）カルボン酸基を有する重合性モノマー
（５）スルホン酸基を有する重合性モノマー
（６）例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸エステル類。
（７）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸アミル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアルキレート等のアクリレート。
（８）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート等のメタクリレート。
（９）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド。
（１０）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（１１）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（１２）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（１３）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（１４）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（１６）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
前記（メタ）アクリル系樹脂は、インクへの溶解性の観点から、共重合成分としては上記中（７）、（８）のようなモノマーを少なくとも１つ有することが好ましい。
共重合成分として更により好ましくは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル酸であることが好ましい。更に好ましくは、アクリル酸プロピル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ブチルが挙げられる。
前記上記以外のポリマーの好ましい態様は、インク溶解性の観点から（メタ）アクリル樹脂である。
共重合成分としては、更に好ましくは、アクリル酸プロピル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ブチルが挙げられる。
本発明における特定燐酸基含有ポリマーは単独で用いても混合して用いてもよい。
前記（メタ）アクリル系樹脂のより好ましい具体例としては、以下の化合物を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
Figure 2008214436
本発明における特定燐酸基含有ポリマーは、密着性とポリマーのインクへの溶解性の観点から、燐酸基が０．４ｍｅｑ／ｇ以上含まれていることが好ましく、１．２ｍｅｑ／ｇ以上３．６ｍｅｑ／ｇの範囲で含まれていることが特に好ましい。
前記燐酸基が０．４ｍｅｑ／ｇ以上含まれることにより、より基板への密着性が向上する傾向となり、また３．６ｍｅｑ／ｇ以下であることがよりインクへの溶解性が向上する傾向となり好ましい。
本発明における特定燐酸基含有ポリマーは単独で用いても混合して用いてもよい。
本発明のインク組成物中に含まれる、特定燐酸基含有ポリマーの含有量は特に限定されるものではないが、インク溶解性とインク粘度の観点から、１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１５質量％以下がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。
尚、本発明における特定燐酸基含有ポリマーの上述の好適な態様の組合せがより好ましい態様である。
（重合性化合物）
本発明のインク組成物には、基板との密着性向上のため、特定燐酸基含有ポリマーと共に以下に詳述する重合性モノマーとしての重合性化合物（カチオン重合性化合物、ラジカル重合性化合物）を併用する必要がある。
前記重合性化合物としては、以下のエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。
−カチオン重合性化合物−
本発明に併用しうるカチオン重合性化合物は、後述する、放射線の照射により重合反応を開始し、硬化する化合物であれば特に制限はなく、光カチオン重合性モノマーとして知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平６−９７１４号、特開２００１−３１８９２号、同２００１−４００６８号、同２００１−５５５０７号、同２００１−３１０９３８号、同２００１−３１０９３７号、同２００１−２２０５２６号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。
エポキシ化合物としては、芳香族エポキシド、脂環式エポキシド、及び、芳香族エポキシドなどが挙げられる。
芳香族エポキシドとしては、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルが挙げられ、例えば、ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル又は１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルに代表されるポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
本発明に用いることのできる単官能及び多官能のエポキシ化合物を詳しく例示する。
単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
また、多官能エポキシ化合物の例としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、１，１，３−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、１，２，５，６−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。
これらのエポキシ化合物のなかでも、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが、硬化速度に優れるという観点から好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。
ビニルエーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−Ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
以下に、単官能ビニルエーテルと多官能ビニルエーテルを詳しく例示する。
単官能ビニルエーテルの例としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
また、多官能ビニルエーテルの例としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、ジ又はトリビニルエーテル化合物が、硬化性、被記録媒体との密着性、形成された画像の表面硬度などの観点から好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。
また、オキセタン化合物としては、特開２００１−２２０５２６号、同２００１−３１０９３７号、同２００３−３４１２１７号の各公報に記載される如き、公知のオキセタン化合物を任意に選択して使用できる。
本発明のインク組成物において、オキセタン環を有する化合物としては、その構造内にオキセタン環を１〜４個有する化合物が好ましい。このような化合物を使用することで、組成物の粘度をハンドリング性の良好な範囲に維持することが容易となり、また、インク組成物等に適用した場合において、硬化後の組成物と被記録媒体との高い密着性を得ることができる。
本発明のインク組成物に併用される分子内に１〜２個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式（１）〜（３）で示される化合物等が挙げられる。
Figure 2008214436
Ｒａ１は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基又はチエニル基を表す。分子内に２つのＲａ１が存在する場合、それらは同じであっても異なるものであってもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、フルオロアルキル基としては、これらアルキル基の水素のいずれかがフッ素原子で置換されたものが好ましく挙げられる。
Ｒａ２は、水素原子、炭素数１〜６個のアルキル基、炭素数２〜６個のアルケニル基、芳香環を有する基、炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、アルケニル基としては、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等が挙げられ、芳香環を有する基としては、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基としては、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等が、アルキコキシカルボニル基としては、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が、Ｎ−アルキルカルバモイル基としては、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等が挙げられる。また、Ｒａ２は置換基を有していてもよく、置換基としては、１〜６のアルキル基、フッ素原子が挙げられる。
Ｒａ３は、線状又は分枝状アルキレン基、線状又は分枝状不飽和炭化水素基、カルボニル基又はカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基、又は、以下に示す基を表す。アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられ、ポリ（アルキレンオキシ）基としては、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等が挙げられる。不飽和炭化水素基としては、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等が挙げられる。
Figure 2008214436
Ｒａ３が上記多価基である場合、Ｒａ４は、水素原子、炭素数１〜４個のアルキル基、炭素数１〜４個のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、又はカルバモイル基を表す。
Ｒａ５は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ２、Ｃ（ＣＦ３）２、又は、Ｃ（ＣＨ３）２を表す。
Ｒａ６は、炭素数１〜４個のアルキル基、又は、アリール基を表し、ｎは０〜２，０００の整数である。Ｒａ７は炭素数１〜４個のアルキル基、アリール基、又は、下記構造を有する１価の基を表す。下記式中、Ｒａ８は炭素数１〜４個のアルキル基、又はアリール基であり、ｍは０〜１００の整数である。
Figure 2008214436
式（１）で表される化合物として、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−１０１：東亞合成（株）製）、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン（ＯＸＴ−２１２：東亞合成（株）製）、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−２１１：東亞合成（株）製）が挙げられる。式（２）で表される化合物としては、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン（ＯＸＴ−１２１：東亞合成（株）が挙げられる。また、式（３）で表される化合物としては、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル（ＯＸＴ−２２１：東亞合成（株））が挙げられる。
３〜４個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式（４）で示される化合物が挙げられる。
Figure 2008214436
式（４）において、Ｒａ１は、前記式（１）におけるのと同義である。また、多価連結基であるＲａ９としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基又は下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは、３又は４である。
Figure 2008214436
上記Ａにおいて、Ｒａ１０はメチル基、エチル基又はプロピル基を表す。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。
また、本発明に好適に使用しうるオキセタン化合物の別の態様として、側鎖にオキセタン環を有する下記式（５）で示される化合物が挙げられる。
Figure 2008214436
式（５）において、Ｒａ１、Ｒａ８は前記式におけるのと同義である。Ｒａ１１はメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。
このようなオキセタン環を有する化合物については、前記特開２００３−３４１２１７号公報、段落番号００２１ないし００８４に詳細に記載され、ここに記載の化合物は本発明にも好適に使用しうる。
特開２００４−９１５５６号公報に記載されたオキセタン化合物も本発明に併用することができる。当該化合物は、同公報の段落番号［００２２］ないし［００５８］に詳細に記載されている。
本発明に併用される他のオキセタン化合物のなかでも、組成物の粘度と粘着性の観点から、オキセタン環を１個有する化合物を使用することが好ましい。
−ラジカル重合性化合物−
また、本発明におけるラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学構造形態を持つものが含まれる。
ラジカル重合性化合物は１種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用してもよい。好ましくは２種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で好ましい。
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。
具体的には、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、オリゴマー、及びポリマーを用いることができる。
また、ラジカル重合性化合物としては、例えば、特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特開平８−２２４９８２号、特開平１０−８６３号、特開平９−１３４０１１号等の各公報に記載されている光重合性組成物に用いられる光硬化型の重合性化合物材料が知られており、これらも本発明のインク組成物に適用することができる。
更に、ラジカル重合性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いることも好ましい。好適に用いられるビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、ヒドロキシノニルモノビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−Ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度の観点から、ジビニルエーテル化合物、トリビニルエーテル化合物が好ましく、特に、ジビニルエーテル化合物が好ましい。ビニルエーテル化合物は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
本発明において、インク組成物中の重合性化合物の含有量としては、６０質量％以上９５質量％以下であることが好ましく、７０質量％以上９５質量％以下であることがより好ましく、７５質量％以上９５質量％以下が特に好ましい。６０質量％以上とすることにより、感度向上となる傾向があり、９５質量％以下とすることにより、他成分を含有できるため好ましい。
−重合開始剤−
本発明のインク組成物は、前記リン酸基含有重合性化合物及び前記他の重合性化合物を重合硬化させる重合開始剤の少なくとも一種を含有することが好ましい。前記重合開始剤は、活性エネルギー線の波長領域に吸収を有し、活性エネルギー線に曝されたときに重合性化合物に作用して重合硬化を促進し得るものである。
重合開始剤は、活性エネルギー線の作用又は増感色素の電子励起状態との相互作用を経て化学変化を生じ、ラジカル、酸、又は塩基の少なくとも１種を生成する化合物である。具体的には、活性エネルギー線の付与により活性なラジカル種を発生して重合性化合物（すなわちインク組成物）の重合硬化を開始、促進する開始剤、活性エネルギー線の付与によりカチオン種を発生して同様に重合性化合物（すなわちインク組成物）の重合硬化を開始、促進する開始剤などが含まれ、下記の重合開始剤の中から適宜選択することができる。
本発明において、「活性エネルギー線」は、重合開始剤からラジカル又はカチオンを生じさせる活性線であり、紫外線（ＵＶ光）、可視光線、γ線、α線、Ｘ線その他電子線が含まれる。具体的な光源としては、例えば、ＬＤ、ＬＥＤ、蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、キセノンランプ、ケミカルランプなどを適用することができる。好ましい光源には、ＬＥＤ、高圧水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。
重合開始剤の例としては、当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。具体的には、例えば、 Ｂｒｕｃｅ Ｍ． Ｍｏｎｒｏｅら著、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｕｅ，９３，４３５（１９９３）． や、Ｒ．Ｓ．Ｄａｖｉｄｓｏｎ著、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ ｂｉｏｌｏｇｙ Ａ ：Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，７３．８１（１９９３）． 、Ｊ． Ｐ． Ｆａｕｓｓｉｅｒ ”Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ−Ｔｈｅｏｒｙ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ” ：Ｒａｐｒａ Ｒｅｖｉｅｗ ｖｏｌ．９， Ｒｅｐｏｒｔ， Ｒａｐｒａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９８）．、Ｍ．Ｔｓｕｎｏｏｋａ ｅｔ ａｌ．，Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２１，１（１９９６）． に記載されたものが挙げられる。また、「イメージング用有機材料」（有機エレクトロニクス材料研究会編、ぶんしん出版（１９９３年）、ｐ．１８７〜１９２参照）に化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物として記載されている化合物が挙げられる。更には、Ｆ． Ｄ．Ｓａｅｖａ，Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１５６，５９（１９９０）．、Ｇ． Ｇ． Ｍａｓｌａｋ， Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， １６８， １ （１９９３）．、Ｈ． Ｂ． Ｓｈｕｓｔｅｒ ｅｔ ａｌ， ＪＡＣＳ， １１２， ６３２９ （１９９０）．、Ｉ． Ｄ． Ｆ．Ｅａｔｏｎ ｅｔ ａｌ， ＪＡＣＳ， １０２， ３２９８（１９８０）． 等に記載の、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て酸化的若しくは還元的に結合解裂を生じる化合物群も挙げることができる。
好ましい重合開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）芳香族オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｅ）ケトオキシムエステル化合物、（ｆ）ボレート化合物、（ｇ）アジニウム塩化合物、（ｈ）メタロセン化合物、（ｉ）活性エステル化合物、（ｊ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、等が挙げられる。
前記（ａ）芳香族ケトン類の好ましい例としては、「ＲＡＤＩＡＴＩＯＮ ＣＵＲＩＮＧ ＩＮ ＰＯＬＹＭＥＲ ＳＣＩＥＮＣＥ ＡＮＤ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ」Ｊ．Ｐ．ＦＯＵＡＳＳＩＥＲ Ｊ．Ｆ．ＲＡＢＥＫ （１９９３）、ｐ．７７〜１１７に記載のベンゾフェノン骨格、或いはチオキサントン骨格を有する化合物等が挙げられる。芳香族ケトン類のより好ましい例としては、特公昭４７−６４１６号公報に記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭４７−３９８１号公報に記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭４７−２２３２６号公報に記載のα−置換ベンゾイン化合物、特公昭４７−２３６６４号公報に記載のベンゾイン誘導体、特開昭５７−３０７０４号公報に記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭６０−２６４８３号公報に記載のジアルコキシベンゾフェノン、特公昭６０−２６４０３号公報、特開昭６２−８１３４５号公報に記載のベンゾインエーテル類、特公平１−３４２４２号公報、米国特許第４，３１８，７９１号、ヨーロッパ特許０２８４５６１Ａ１号に記載のα−アミノベンゾフェノン類、特開平２−２１１４５２号公報に記載のｐ−ジ（ジメチルアミノベンゾイル）ベンゼン、特開昭６１−１９４０６２号公報に記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平２−９５９７号公報に記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平２−９５９６号公報に記載のアシルホスフィン、特公昭６３−６１９５０号公報に記載のチオキサントン類、特公昭５９−４２８６４号公報に記載のクマリン類、等を挙げることができる。
前記（ｂ）芳香族オニウム塩化合物としては、長周期律表の１５族、１６族、及び１７族に属する元素、具体的には、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、又はＩの芳香族オニウム塩が含まれる。例えば、欧州特許１０４１４３号明細書、米国特許４８３７１２４号明細書、特開平２−１５０８４８号公報、特開平２−９６５１４号公報に記載のヨードニウム塩類、欧州特許３７０６９３号、同２３３５６７号、同２９７４４３号、同２９７４４２号、同２７９２１０号、及び同４２２５７０号の各明細書、並びに米国特許３９０２１４４号、同４９３３３７７号、同４７６００１３号、同４７３４４４４号、及び同２８３３８２７号の各明細書に記載のスルホニウム塩類、ジアゾニウム塩類（置換基を有してもよいベンゼンジアゾニウム等）、ジアゾニウム塩樹脂類（ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド樹脂等）、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩類等（例えば、米国特許４，７４３，５２８号明細書、特開昭６３−１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭６３−１４２３４６号、及び特公昭４６−４２３６３号の各公報等に記載のもので、具体的には１−メトキシ−４−フェニルピリジニウム テトラフルオロボレート等）、特公昭５２−１４７２７７号、同５２−１４２７８号、及び同５２−１４２７９号の各公報に記載の化合物が好適に挙げられる。活性種としてラジカルや酸を生成する。
前記（ｃ）有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を１個以上有する有機化合物が含まれ、具体例として、３，３’４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好適に挙げられる。
前記（ｄ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公昭４５−３７３７７号公報、特公昭４４−８６５１６号公報に記載のロフィンダイマー類、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、等が挙げられる。
前記（ｅ）ケトオキシムエステル化合物としては、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、等が挙げられる。
前記（ｆ）ボレート化合物としては、例えば、米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４３，８９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１０９，７７３号の各明細書に記載の化合物が挙げられる。
前記（ｇ）アジニウム塩化合物としては、例えば、特開昭６３−１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭６３−１４２３４６号、特開昭６３−１４３５３７号、及び特公昭４６−４２３６３号の各公報に記載の、Ｎ−Ｏ結合を有する化合物群が挙げられる。
前記（ｈ）メタロセン化合物としては、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号の各公報に記載のチタノセン化合物並びに、特開平１−３０４４５３号、特開平１−１５２１０９号の各公報に記載の鉄−アレーン錯体が挙げられる。
前記チタノセン化合物の具体例としては、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジクロライド、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニル−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフルオロフェニル−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニル−１−イル、ジメチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イル、ジメチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル−１−イル、ジメチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニル−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（メチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−アミノ）フェニル〕チタン等を挙げることができる。
前記（ｉ）活性エステル化合物としては、例えば、欧州特許０２９０７５０号、同０４６０８３号、同１５６１５３号、同２７１８５１号、及び同０３８８３４３号の各明細書、米国特許３９０１７１０号、及び同４１８１５３１号の各明細書、並びに特開昭６０−１９８５３８号、及び特開昭５３−１３３０２２号の各公報に記載のニトロベンズルエステル化合物、欧州特許０１９９６７２号、同８４５１５号、同１９９６７２号、同０４４１１５号、及び同０１０１１２２号の各明細書、米国特許４６１８５６４号、同４３７１６０５号、及び同４４３１７７４号の各明細書、並びに特開昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５６号、及び特開平４−３６５０４８号の各公報に記載のイミノスルホネート化合物、特公昭６２−６２２３号、特公昭６３−１４３４０号、及び特開昭５９−１７４８３１号の各公報に記載の化合物等が挙げられる。
前記（ｊ）炭素ハロゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、若林ら著、Ｂｕｌｌ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）に記載の化合物、英国特許１３８８４９２号明細書に記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の化合物、独国特許３３３７０２４号明細書に記載の化合物等を挙げることができる。
また、Ｆ． Ｃ． Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ． ２９、１５２７（１９６４）に記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報に記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報に記載の化合物等を挙げることができる。ドイツ特許第２６４１１００号に記載の化合物、ドイツ特許第３３３３４５０号に記載の化合物、ドイツ特許第３０２１５９０号に記載の化合物群、或いはドイツ特許第３０２１５９９号に記載の化合物群、等も挙げることができる。
前記（ａ）〜（ｊ）で表される化合物の好ましい具体例を以下に列挙する。
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
Figure 2008214436
重合開始剤のインク組成物中における含有量としては、重合性化合物と重合開始剤との総量に対して、０．５〜２０質量％の範囲が好ましく、１〜１２質量％の範囲がより好ましい。該含有量を特に前記範囲とすることで、硬化速度が速く良好な硬化性が得られ、堅牢な画像の記録に効果的である。また、画像を擦った場合の擦過耐性が悪化することもない。
（着色剤）
本発明のインク組成物は、着色剤を含有することが好ましい。
本発明に用いることのできる着色剤としては、特に制限はないが、耐候性に優れ、色再現性に富んだ顔料及び油溶性染料が好ましく、溶解性染料等の任意の公知の着色剤から選択して使用することができる。本発明のインク組成物又はインクジェット記録用インク組成物に好適に使用し得る着色剤は、硬化反応である重合反応において重合禁止剤として機能しないことが好ましい。これは、活性放射線による硬化反応の感度を低下させないためである。
＜顔料＞
顔料としては、特に限定されるものではなく、一般に市販されているすべての有機顔料及び無機顔料、又は顔料を、分散媒として不溶性の樹脂等に分散させたもの、或いは顔料表面に樹脂をグラフト化したもの等を用いることができる。また、樹脂粒子を染料で染色したもの等も用いることができる。
これらの顔料としては、例えば、伊藤征司郎編「顔料の辞典」（２０００年刊）、Ｗ．Ｈｅｒｂｓｔ，Ｋ．Ｈｕｎｇｅｒ「Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ」、特開２００２−１２６０７号公報、特開２００２−１８８０２５号公報、特開２００３−２６９７８号公報、特開２００３−３４２５０３号公報に記載の顔料が挙げられる。
本発明において使用できる有機顔料及び無機顔料の具体例としては、例えば、イエロー色を呈するものとして、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１（ファストイエローＧ等），Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー７４の如きモノアゾ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２（ジスアジイエローＡＡＡ等）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７の如きジスアゾ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０の如き非ベンジジン系のアゾ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１００（タートラジンイエローレーキ等）の如きアゾレーキ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９５（縮合アゾイエローＧＲ等）の如き縮合アゾ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１５（キノリンイエローレーキ等）の如き酸性染料レーキ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８（チオフラビンレーキ等）の如き塩基性染料レーキ顔料、フラバントロンイエロー（Ｙ−２４）の如きアントラキノン系顔料、イソインドリノンイエロー３ＲＬＴ（Ｙ−１１０）の如きイソインドリノン顔料、キノフタロンイエロー（Ｙ−１３８）の如きキノフタロン顔料、イソインドリンイエロー（Ｙ−１３９）の如きイソインドリン顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３（ニッケルニトロソイエロー等）の如きニトロソ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１７（銅アゾメチンイエロー等）の如き金属錯塩アゾメチン顔料等が挙げられる。
赤或いはマゼンタ色を呈するものとして、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド３（トルイジンレッド等）の如きモノアゾ系顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド３８（ピラゾロンレッドＢ等）の如きジスアゾ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５３：１（レーキレッドＣ等）やＣ．Ｉ．ピグメントレッド５７：１（ブリリアントカーミン６Ｂ）の如きアゾレーキ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４４（縮合アゾレッドＢＲ等）の如き縮合アゾ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７４（フロキシンＢレーキ等）の如き酸性染料レーキ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８１（ローダミン６Ｇ’レーキ等）の如き塩基性染料レーキ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（ジアントラキノニルレッド等）の如きアントラキノン系顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８８（チオインジゴボルドー等）の如きチオインジゴ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９４（ペリノンレッド等）の如きペリノン顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９（ペリレンスカーレット等）の如きペリレン顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９（無置換キナクリドン）、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２（キナクリドンマゼンタ等）の如きキナクリドン顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０（イソインドリノンレッド２ＢＬＴ等）の如きイソインドリノン顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８３（マダーレーキ等）の如きアリザリンレーキ顔料等が挙げられる。
青或いはシアン色を呈する顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２５（ジアニシジンブルー等）の如きジスアゾ系顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５（フタロシアニンブルー等）の如きフタロシアニン顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２４（ピーコックブルーレーキ等）の如き酸性染料レーキ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１（ビクロチアピュアブルーＢＯレーキ等）の如き塩基性染料レーキ顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０（インダントロンブルー等）の如きアントラキノン系顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１８（アルカリブルーＶ−５：１）の如きアルカリブルー顔料等が挙げられる。
緑色を呈する顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７（フタロシアニングリーン）、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６（フタロシアニングリーン）の如きフタロシアニン顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン８（ニトロソグリーン）等の如きアゾ金属錯体顔料等が挙げられる。
オレンジ色を呈する顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６６（イソインドリンオレンジ）の如きイソインドリン系顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５１（ジクロロピラントロンオレンジ）の如きアントラキノン系顔料が挙げられる。
黒色を呈する顔料として、カーボンブラック、チタンブラック、アニリンブラック等が挙げられる。
白色顔料の具体例としては、塩基性炭酸鉛（２ＰｂＣＯ３Ｐｂ（ＯＨ）２、いわゆる、シルバーホワイト）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、いわゆる、ジンクホワイト）、酸化チタン（ＴｉＯ２、いわゆる、チタンホワイト）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３、いわゆる、チタンストロンチウムホワイト）などが利用可能である。
ここで、酸化チタンは他の白色顔料と比べて比重が小さく、屈折率が大きく化学的、物理的にも安定であるため、顔料としての隠蔽力や着色力が大きく、更に、酸やアルカリ、その他の環境に対する耐久性にも優れている。したがって、白色顔料としては酸化チタンを利用することが好ましい。もちろん、必要に応じて他の白色顔料（列挙した白色顔料以外であってもよい。）を使用してもよい。
顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、ジェットミル、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ニーダー、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル等の分散装置を用いることができる。
顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、高分子量不飽和酸エステル、高分子共重合物、変性ポリアクリレート、脂肪族多価カルボン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキル燐酸エステル、顔料誘導体等を挙げることができる。また、Ｚｅｎｅｃａ社のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズなどの市販の高分子分散剤を用いることも好ましい。
また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤及び分散助剤は、顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部添加することが好ましい。
本発明のインク組成物において、顔料などの諸成分の分散媒としては、溶剤を添加してもよく、また、無溶媒で、低分子量成分であるカチオン重合性化合物を分散媒として用いてもよいが、本発明が適用されるインク組成物は、放射線硬化型のインクであり、インクを被記録媒体上に適用後、硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。これは、硬化されたインク画像中に、溶剤が残留すると、耐溶剤性が劣化したり、残留する溶剤のＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ）の問題が生じるためである。このような観点から、分散媒としては、カチオン重合性化合物を用い、中でも、最も粘度が低いカチオン重合性モノマーを選択することが分散適性やインク組成物のハンドリング性向上の観点から好ましい。
顔料の平均粒径は、０．０２μｍ〜０．４μｍにするのが好ましく、０．０２μｍ〜０．１μｍとするのが更に好ましく、より好ましくは、０．０２μｍ〜０．０７μｍの範囲である。
顔料粒子の平均粒径を上記好ましい範囲となるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性及び硬化感度を維持することができる。
＜染料＞
本発明に用いることのできる染料は、油溶性のものが好ましい。具体的には、２５℃での水への溶解度（水１００ｇに溶解する色素の質量）が１ｇ以下であるものを意味し、好ましくは０．５ｇ以下、より好ましくは０．１ｇ以下である。従って、所謂、水に不溶性の油溶性染料が好ましく用いられる。
本発明に用いることのできる染料は、インク組成物に必要量溶解させるために上記記載の染料母核に対して油溶化基を導入することも好ましい。
油溶化基としては、長鎖、分岐アルキル基、長鎖、分岐アルコキシ基、長鎖、分岐アルキルチオ基、長鎖、分岐アルキルスルホニル基、長鎖、分岐アシルオキシ基、長鎖、分岐アルコキシカルボニル基、長鎖、分岐アシル基、長鎖、分岐アシルアミノ基長鎖、分岐アルキルスルホニルアミノ基、長鎖、分岐アルキルアミノスルホニル基及びこれら長鎖、分岐置換基を含むアリール基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールカルボニルオキシ基、アリールアミノカルボニル基、アリールアミノスルホニル基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げられる。
また、カルボン酸、スルホン酸を有する水溶性染料に対して、長鎖、分岐アルコール、アミン、フェノール、アニリン誘導体を用いて油溶化基であるアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルアミノスルホニル基、アリールアミノスルホニル基に変換することにより染料を得てもよい。
前記油溶性染料としては、融点が２００℃以下のものが好ましく、融点が１５０℃以下であるものがより好ましく、融点が１００℃以下であるものが更に好ましい。融点が低い油溶性染料を用いることにより、インク組成物中での色素の結晶析出が抑制され、インク組成物の保存安定性が良くなる。
また、退色、特にオゾンなどの酸化性物質に対する耐性や硬化特性を向上させるために、酸化電位が貴である（高い）ことが望ましい。このため、本発明で用いる油溶性染料として、酸化電位が１．０Ｖ（ｖｓ ＳＣＥ）以上であるものが好ましく用いられる。酸化電位は高いほうが好ましく、酸化電位が１．１Ｖ（ｖｓＳＣＥ）以上のものがより好ましく、１．１５Ｖ（ｖｓ ＳＣＥ）以上のものが特に好ましい。
イエロー色の染料としては、特開２００４−２５０４８３号公報の記載の一般式（Ｙ−Ｉ）で表される構造の化合物が好ましい。
特に好ましい染料は、特開２００４−２５０４８３号公報の段落番号［００３４］に記載されている一般式（Ｙ−ＩＩ）〜（Ｙ−ＩＶ）で表される染料であり、具体例として特開２００４−２５０４８３号公報の段落番号［００６０］から［００７１］に記載の化合物が挙げられる。尚、該公報記載の一般式（Ｙ−Ｉ）の油溶性染料はイエローのみでなく、ブラックインク、レッドインクなどのいかなる色のインクに用いてもよい。
マゼンタ色の染料としては、特開２００２−１１４９３０号公報に記載の一般式（３）、（４）で表される構造の化合物が好ましく、具体例としては、特開２００２−１１４９３０号公報の段落［００５４］〜［００７３］に記載の化合物が挙げられる。
特に好ましい染料は、特開２００２−１２１４１４号公報の段落番号［００８４］から［０１２２］に記載されている一般式（Ｍ−１）〜（Ｍ−２）で表されるアゾ染料であり、具体例として特開２００２−１２１４１４号公報の段落番号［０１２３］から［０１３２］に記載の化合物が挙げられる。尚、該公報記載の一般式（３）、（４）、（Ｍ−１）〜（Ｍ−２）の油溶性染料はマゼンタのみでなく、ブラックインク、レッドインクなどのいかなる色のインクに用いてもよい。
シアン色の染料としては、特開２００１−１８１５４７号公報に記載の式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表される染料、特開２００２−１２１４１４号公報の段落番号［００６３］から［００７８］に記載されている一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−４）で表される染料が好ましいものとして挙げられ、具体例として特開２００１−１８１５４７号公報の段落番号［００５２］から［００６６］、特開２００２−１２１４１４号公報の段落番号［００７９］から［００８１］に記載の化合物が挙げられる。
特に好ましい染料は、特開２００２−１２１４１４号公報の段落番号［０１３３］から［０１９６］に記載されている一般式（Ｃ−Ｉ）、（Ｃ−ＩＩ）で表されるフタロシアニン染料であり、更に一般式（Ｃ−ＩＩ）で表されるフタロシアニン染料が好ましい。この具体例としては、特開２００２−１２１４１４号公報の段落番号［０１９８］から［０２０１］に記載の化合物が挙げられる。尚、前記式（Ｉ）〜（ＩＶ）、（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−４）、（Ｃ−Ｉ）、（Ｃ−ＩＩ）の油溶性染料はシアンのみでなく、ブラックインクやグリーンインクなどのいかなる色のインクに用いてもよい。
これらの着色剤は、インク組成物中、固形分換算で、１質量％〜２０質量％添加されることが好ましく、２質量％〜１０質量％がより好ましい。
（その他の成分）
以下に、必要に応じて本発明に用いることのできる種々の添加剤について述べる。
〔紫外線吸収剤〕
本発明においては、得られる画像の耐候性向上、退色防止の観点から、紫外線吸収剤を用いることができる。
紫外線吸収剤としては、例えば、特開昭５８−１８５６７７号公報、同６１−１９０５３７号公報、特開平２−７８２号公報、同５−１９７０７５号公報、同９−３４０５７号公報等に記載されたベンゾトリアゾール系化合物、特開昭４６−２７８４号公報、特開平５−１９４４８３号公報、米国特許第３２１４４６３号等に記載されたベンゾフェノン系化合物、特公昭４８−３０４９２号公報、同５６−２１１４１号公報、特開平１０−８８１０６号公報等に記載された桂皮酸系化合物、特開平４−２９８５０３号公報、同８−５３４２７号公報、同８−２３９３６８号公報、同１０−１８２６２１号公報、特表平８−５０１２９１号公報等に記載されたトリアジン系化合物、リサーチディスクロージャーＮｏ．２４２３９号に記載された化合物やスチルベン系、ベンズオキサゾール系化合物に代表される紫外線を吸収して蛍光を発する化合物、いわゆる蛍光増白剤、などが挙げられる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、固形分換算で０．５質量％〜１５質量％であることが好ましい。
〔増感剤〕
本発明には、重合開始剤の開始効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、必要に応じ、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものであれば、何れでもよい。好ましくは、アントラセン、９，１０−ジアルコキシアントラセン、ピレン、ペリレンなどの芳香族多縮環化合物、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーケトンなどの芳香族ケトン化合物、フェノチアジン、Ｎ−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物が挙げられる。増感剤の添加量は目的に応じて適宜選択されるが、重合開始剤に対し０．０１モル％〜１モル％で用いることが好ましく、０．１モル％〜０．５モル％がより好ましい。
〔酸化防止剤〕
組成物の安定性向上のため、酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許、同第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、同第３０９４０２号公報、同第３１０５５１号公報、同第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８５３５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−１１３５３６号公報、同６３−１６３３５１号公報、特開平２−２６２６５４号公報、特開平２−７１２６２号公報、特開平３−１２１４４９号公報、特開平５−６１１６６号公報、特開平５−１１９４４９号公報、米国特許第４８１４２６２号明細書、米国特許第４９８０２７５号明細書等に記載のものを挙げることができる。
インク組成物中における酸化防止剤の添加量は目的に応じて適宜選択されるが、固形分換算で０．１質量％〜８質量％であることが好ましい。
〔褪色防止剤〕
本発明には、各種の有機系及び金属錯体系の褪色防止剤を使用することができる。前記有機系の褪色防止剤としては、ハイドロキノン類、アルコキシフェノール類、ジアルコキシフェノール類、フェノール類、アニリン類、アミン類、インダン類、クロマン類、アルコキシアニリン類、ヘテロ環類、などが挙げられる。前記金属錯体系の褪色防止剤としては、ニッケル錯体、亜鉛錯体、などが挙げられ、具体的には、リサーチディスクロージャーＮｏ．１７６４３の第ＶＩＩのＩ〜Ｊ項、同Ｎｏ．１５１６２、同Ｎｏ．１８７１６の６５０頁左欄、同Ｎｏ．３６５４４の５２７頁、同Ｎｏ．３０７１０５の８７２頁、同Ｎｏ．１５１６２に引用された特許に記載された化合物や、特開昭６２−２１５２７２号公報の１２７頁〜１３７頁に記載された代表的化合物の一般式及び化合物例に含まれる化合物を使用することができる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、固形分換算で０．１質量％〜８質量％であることが好ましい。
〔導電性塩類〕
本発明には、吐出物性の制御を目的として、チオシアン酸カリウム、硝酸リチウム、チオシアン酸アンモニウム、ジメチルアミン塩酸塩などの導電性塩類を添加することができる。
〔溶剤〕
本発明には、被記録媒体との密着性を改良するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。
溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール系溶剤、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤、などが挙げられる。
この場合、耐溶剤性やＶＯＣの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その量はインク組成物全体に対し０．１質量％〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．１質量％〜３質量％の範囲である。
〔高分子化合物〕
本発明には、膜物性を調整するため、前記特定燐酸基含有ポリマー以外の各種高分子化合物を添加することができる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは２種以上併用してもかまわない。これらのうち、アクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合が好ましい。更に、高分子結合材の共重合組成として、「カルボキシル基含有モノマー」、「メタクリル酸アルキルエステル」、又は「アクリル酸アルキルエステル」を構造単位として含む共重合体も好ましく用いられる。
〔界面活性剤〕
本発明には、界面活性剤を添加してもよい。
界面活性剤としては、特開昭６２−１７３４６３号、同６２−１８３４５７号の各公報に記載されたものが挙げられる。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。なお、前記界面活性剤の代わりに有機フルオロ化合物を用いてもよい。前記有機フルオロ化合物は、疎水性であることが好ましい。前記有機フルオロ化合物としては、例えば、フッ素系界面活性剤、オイル状フッ素系化合物（例、フッ素油）及び固体状フッ素化合物樹脂（例、四フッ化エチレン樹脂）が含まれ、特公昭５７−９０５３号（第８〜１７欄）、特開昭６２−１３５８２６号の各公報に記載されたものが挙げられる。
この他にも、必要に応じて、例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのワックス類、ポリオレフィンやＰＥＴ等の被記録媒体への密着性を改善するために、重合を阻害しないタッキファイヤーなどを含有させることができる。
タッキファイヤーとしては、具体的には、特開２００１−４９２００号公報の５〜６ｐに記載されている高分子量の粘着性ポリマー（例えば、（メタ）アクリル酸と炭素数１〜２０のアルキル基を有するアルコールとのエステル、（メタ）アクリル酸と炭素数３〜１４の脂環属アルコールとのエステル、（メタ）アクリル酸と炭素数６〜１４の芳香属アルコールとのエステルからなる共重合物）や、重合性不飽和結合を有する低分子量粘着付与性樹脂などである。
−インク組成物の好ましい態様−
本発明のインク組成物は、上述のように、重合開始剤、重合性モノマー、特定燐酸基含有ポリマー、着色剤、等を含有するものである。
本発明のインク組成物において、上述の構成成分の好適な態様が好ましく、それぞれの好適な態様の組合せがより好ましい。
本発明のインク組成物をインクジェット記録用インクとして使用する場合には、吐出性を考慮し、吐出時の温度（例えば、４０℃〜８０℃、好ましくは２５℃〜３０℃）において、粘度が、好ましくは７ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは７ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓである。例えば、本発明のインク組成物の室温（２５℃〜３０℃）における粘度は、好ましくは３５〜５００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは３５ｍＰａ・ｓ〜２００ｍＰａ・ｓである。本発明のインク組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。室温での粘度を高く設定することにより、多孔質な被記録媒体を用いた場合でも、被記録媒体中へのインク浸透を回避し、未硬化モノマーの低減、臭気低減が可能となる。更にインク液滴着弾時のインクの滲みを抑えることができ、その結果として画質が改善されるので好ましい。
本発明のインク組成物の表面張力は、好ましくは２０ｍＮ／ｍ〜３０ｍＮ／ｍ、より好ましくは２３ｍＮ／ｍ〜２８ｍＮ／ｍである。ポリオレフィン、ＰＥＴ、コート紙、非コート紙など様々な被記録媒体へ記録する場合、滲み及び浸透の観点から、２０ｍＮ／ｍ以上が好ましく、濡れ性の点はで３０ｍＮ／ｍ以下が好ましい。
本発明のインク組成物は、インクジェット記録用インクとして好適に用いられる。インクジェット記録用インクとして用いる場合には、インク組成物をインクジェットプリンターにより被記録媒体に射出し、その後、射出されたインク組成物に放射線を照射して硬化して記録を行う。
このインクにより得られた印刷物は、画像部が紫外線などの放射線照射により硬化しており、画像部の強度に優れるため、インクによる画像形成以外にも、例えば、平版印刷版のインク受容層（画像部）の形成など、種々の用途に使用しうる。
〔インクジェット記録方法、及び印刷物〕
本発明のインク組成物が好適に適用されるインクジェット記録方法（本発明のインクジェット記録方法）について、以下説明する。
本発明のインクジェット記録方法は、上記した本発明のインク組成物を、被記録媒体（支持体、記録材料等）上にインク組成物をインクジェット記録装置により吐出する工程、及び、吐出されたインク組成物に活性放射線を照射してインク組成物を硬化する工程、を含むことを特徴とする。硬化したインク組成物は、被記録媒体上に画像を形成する。
本発明のインクジェット記録方法に適用しる被記録媒体としては、特に制限はなく、通常の非コート紙、コート紙などの紙類、いわゆる軟包装に用いられる各種非吸収性樹脂材料あるいは、それをフィルム状に成形した樹脂フィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルム、ＰＥフィルム、ＴＡＣフィルム等を挙げることができる。その他、被記録媒体材料として使用しうるプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＶＡ、ゴム類などが挙げられる。また、金属類や、ガラス類も被記録媒体として使用可能である。
また、本発明のインク組成物は、硬化時の熱収縮が少なく、基材（被記録媒体）との密着性に優れるため、インクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいフィルム、例えば、熱でシュリンク可能な、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルムなどにおいても、高精細な画像を形成しうるという利点を有する。
更に、本発明に適用しうる被記録材料としては、後述する平版印刷版の支持体が挙げられる。
本発明のインクジェット記録方法に適用される活性放射線としては、α線、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外光線、電子線などが挙げられる。活性放射線のピーク波長は、２００〜６００ｎｍであることが好ましく、３００〜４５０ｎｍであることがより好ましく、３５０〜４２０ｎｍであることがさらに好ましい。また、活性放射線の出力は、２，０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、より好ましくは、１０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２であり、さらに好ましくは、２０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ２である。
特に、本発明のインクジェット記録方法では、放射線照射が、発光波長ピークが３５０〜４２０ｎｍであり、かつ、前記被記録媒体表面での最高照度が１０〜２，０００ｍＷ／ｃｍ２となる紫外線を発生する発光ダイオードから照射されることが好ましい。
上記の他、本発明のインクジェット記録方法に適用される諸条件及びインクジェット記録装置等の詳細事項については、本発明のインクジェット記録方法の好適な応用例である、本発明の平版印刷版及び平版印刷版の製造方法において後述する。
本発明のインクジェット記録方法によれば、表面の濡れ性が異なる様々な支持体（被記録媒体）に対しても、着弾したインクのドット径を一定に保つことができ、画質を向上させることができる。なお、本発明により、カラー画像を得るためには、明度の低い色から順に重ねていくことが好ましい。明度の低いインクから順に重ねることにより、下部のインクまで照射線が到達しやすくなり、良好な硬化感度、残留モノマーの低減、臭気の低減、密着性の向上が期待できる。また、照射は、全色を吐出してまとめて露光することが可能だが、１色毎に露光するほうが、硬化促進の観点で好ましい。
また、本発明の印刷物は、上記のインクジェット記録方法（本発明のインクジェット記録方法）によって、本発明のインク組成物により画像が形成されたものである。
そのため、高品質で、更に、柔軟性に優れる画像を有する印刷物となる。
［平版印刷版及び平版印刷版の製造方法］
本発明の平版印刷版の製造方法は、（ａ）本発明のインク組成物を支持体上に吐出する工程、及び（ｂ）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化させることにより、前記インク組成物が硬化してなる疎水性画像を前記支持体上に形成する工程、を含む平版印刷版の製造方法である。
また、本発明の平版印刷版は、上記本発明の平版印刷版の製造方法により製造された平版印刷版であり、支持体と、該支持体上に形成された疎水性画像とを有する。
従来、平版印刷版としては、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するいわゆるＰＳ版が広く用いられてきた。このＰＳ版の製造方法としては、通常、リスフィルムを介してマスク露光（面露光）した後、非露光部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。しかし、近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、出力するディジタル化技術が広く普及し、それに対応した新しい画像出力方式が求められるようになった。特に、リスフィルムを使用することなく、レーザー光のような嗜好性の高い光をディジタル化された画像情報に従って走査し、直接印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート（ＣＴＰ）技術が開発されている。
このような走査露光を可能にする平版印刷版を得るための方式として、インク組成物又はインクジェット記録用インク組成物によって直接平版印刷版を作製する方法が挙げられる。これは、支持体（好ましくは親水性の支持体）上に、インクジェット方式等によってインクを吐出し、これを活性放射線に露光することにより、インク組成物又はインクジェット記録用インクの部分を露光して、所望の画像（好ましくは、疎水性画像）を有する印刷版を得るものである。このような方式に適したインク組成物又はインクジェット記録用インクが、本発明のインク組成物又はインクジェット記録用インクである。
〔インク組成物を支持体上に吐出する工程〕
（支持体）
本発明の平版印刷版における支持体（被記録媒体）としては、特に限定されず、寸度的に安定な板状の支持体であればよい。支持体としては、親水性の支持体であることが好ましい。支持体としては、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上述した金属がラミネートされ又は蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルム及びアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又は、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は１０質量％以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知の素材のものを適宜利用することができる。
支持体の厚さは、０．１ｍ〜０．６ｍｍであることが好ましく、０．１５ｍ〜０．４ｍｍであることがより好ましい。
アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すことが好ましい。表面処理により、親水性の向上及び画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理（電気化学的表面を溶解させる粗面化処理）、化学的粗面化処理（化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理）が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、アルミニウムの圧延段階において凹凸を設けたロールで凹凸形状を転写する転写法も用いてもかまわない。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度１質量％〜８０質量％溶液、液温５℃〜７０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ２〜６０Ａ／ｄｍ２、電圧１Ｖ〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分であることが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、１．０ｇ／ｍ２〜５．０ｇ／ｍ２であることが好ましく、１．５ｇ／ｍ２〜４．０ｇ／ｍ２であることがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られるので好ましい。
本発明の平版印刷版に用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ、陽極酸化皮膜を有する基板をそのまま用いてもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などを一層改良するため、必要に応じて、特開２００１−２５３１８１号公報や特開２００１−３２２３６５号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。
＜封孔処理＞
封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
中でも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理及び熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。
−無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理−
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。なかでも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０５質量％以上であることがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、１質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液は、更に、リン酸塩化合物を含有することが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができるので好ましい。
リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。なかでも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有することが好ましい。
水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましく、また、溶解性の点で、２０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましい。
水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、１／２００〜１０／１であることが好ましく、１／３０〜２／１であることがより好ましい。
水溶液の温度は、２０℃以上であることが好ましく、４０℃以上であることがより好ましく、また、１００℃以下であることが好ましく、８０℃以下であることがより好ましい。
水溶液は、ｐＨ１以上であることが好ましく、ｐＨ２以上であることがより好ましく、また、ｐＨ１１以下であることが好ましく、ｐＨ５以下であることがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で１回又は複数回用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
中でも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、１秒以上であることが好ましく、３秒以上であることがより好ましく、また、１００秒以下であることが好ましく、２０秒以下であることがより好ましい。
−水蒸気による封孔処理−
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧又は常圧の水蒸気を連続的に又は非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、８０℃以上であることが好ましく、９５℃以上であることがより好ましく、また、１０５℃以下であることが好ましい。
水蒸気の圧力は、（大気圧−５０ｍｍＡｑ）から（大気圧＋３００ｍｍＡｑ）までの範囲（１．００８×１０５〜１．０４３×１０５Ｐａ）であることが好ましい。
また、水蒸気を接触させる時間は、１秒以上であることが好ましく、３秒以上であることがより好ましく、また、１００秒以下であることが好ましく、２０秒以下であることがより好ましい。
−熱水による封孔処理−
水蒸気による封孔処理は、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩（例えば、リン酸塩）又は有機塩を含有していてもよい。
熱水の温度は、８０℃以上であることが好ましく、９５℃以上であることがより好ましく、また、１００℃以下であることが好ましい。
熱水に浸漬させる時間は、１秒以上であることが好ましく、３秒以上であることがより好ましく、また、１００秒以下であることが好ましく、２０秒以下であることがより好ましい。
本発明に用いられる親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、同第３，２８０，７３４号及び同第３，９０２，７３４号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウムなどの水溶液で浸漬処理し、又は電解処理する。そのほかに、特公昭３６−２２０６３号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号および同第４，６８９，２７２号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが挙げられる。
支持体は、中心線平均粗さが０．１０〜１．２μｍであることが好ましい。この範囲であると、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られるので好ましい。
本発明のインク組成物又はインクジェット記録用インク組成物を、親水性支持体の表面上に吐出する場合、インク組成物又はインクジェット記録用インク組成物を好ましくは４０℃〜８０℃、より好ましくは２５℃〜３０℃に加熱して、インク組成物の粘度を好ましくは７ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓ、より好ましくは７ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓに下げた後に吐出することが好ましい。特に、２５℃におけるインク粘度が３５ｍＰａ・ｓ〜５００ｍＰ・ｓのインク組成物を用いると大きな効果を得ることができるので好ましい。この方法を用いることにより、高い吐出安定性を実現することができる。
本発明のインク組成物のような放射線硬化型インク組成物は、概して、通常インク組成物又はインクジェット記録用インクで使用される水性インクより粘度が高いため、吐出時の温度変動による粘度変動が大きい。インクの粘度変動は、液滴サイズの変化及び液滴吐出速度の変化に対して大きな影響を与え、延いては、は画質劣化を引き起こす。従って、吐出時のインクの温度はできるだけ一定に保つことが必要である。よって、本発明において、温度の制御幅は、設定温度の±５℃、好ましくは設定温度の±２℃、より好ましくは設定温度±１℃とすることが適当である。
（インクジェット記録装置）
本発明に用いられるインクジェット記録装置としては、特に制限はなく、市販のインクジェット記録装置が使用できる。即ち、本発明においては、市販のインクジェット記録装置を用いて被記録媒体へ記録することができる。
本発明で用いることのできるインクジェット記録装置としては、例えば、インク供給系、温度センサー、活性放射線源を含む。
インク供給系は、例えば、本発明のインク組成物を含む元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドからなる。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、１ｐｌ〜１００ｐｌ、好ましくは、８ｐｌ〜３０ｐｌのマルチサイズドットを例えば、３２０ｄｐｉ×３２０ｄｐｉ〜４０００ｄｐｉ×４０００ｄｐｉ、好ましくは、４００ｄｐｉ×４００ｄｐｉ〜１６００ｄｐｉ×１６００ｄｐｉ、より好ましくは、７２０ｄｐｉ×７２０ｄｐｉの解像度で吐出できるよう駆動することができる。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。
上述したように、放射線硬化型インクは、吐出されるインクを一定温度にすることが望ましいことから、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までは、断熱および加温を行うことができる。温度コントロールの方法としては、特に制約はないが、例えば、温度センサーを各配管部位に複数設け、インク流量、環境温度に応じた加熱制御をすることが好ましい。温度センサーは、インク供給タンクおよびインクジェットヘッドのノズル付近に設けることができる。また、加熱するヘッドユニットは、装置本体を外気からの温度の影響を受けないよう、熱的に遮断もしくは断熱されていることが好ましい。加熱に要するプリンター立上げ時間を短縮するため、あるいは熱エネルギーのロスを低減するために、他部位との断熱を行うとともに、加熱ユニット全体の熱容量を小さくすることが好ましい。
〔吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化させることにより、前記インク組成物が硬化してなる疎水性画像を支持体上に形成する工程〕
支持体の表面上に吐出されたインク組成物は、活性放射線を照射することによって硬化する。このとき、インク組成物中に、重合開始剤（光開始剤）とともに、増感色素が存在すると、系中の増感色素が活性放射線を吸収して励起状態となり、重合開始剤と接触することによって重合開始剤の分解を促進させ、より高感度な硬化反応を達成できる。
ここで、使用される活性放射線は、α線、γ線、電子線、Ｘ線、紫外線、可視光又は赤外光などが使用され得る。活性放射線のピーク波長は、増感色素の吸収特性にもよるが、例えば、２００ｎｍ〜６００ｎｍ、好ましくは、３００ｎｍ〜４５０ｎｍ、より好ましくは、３５０ｎｍ〜４２０ｎｍであることが適当である。また、本発明では、重合開始系は、低出力の活性放射線であっても充分な感度を有するものである。従って、活性放射線の出力は、例えば、２，０００ｍＪ／ｃｍ２以下、好ましくは、１０ｍＪ／ｃｍ２〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは、２０ｍＪ／ｃｍ２〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２の照射エネルギーであることが適当である。また、活性放射線は、露光面照度が、例えば、１０ｍＷ／ｃｍ２〜２，０００ｍＷ／ｃｍ２、好ましくは、２０ｍＷ／ｃｍ２〜１，０００ｍＷ／ｃｍ２で照射されることが適当である。
活性放射線源としては、水銀ランプやガス・固体レーザー等が主に利用されており、紫外線光硬化型インクジェットには、水銀ランプ、メタルハライドランプが広く知られている。しかしながら、現在環境保護の観点から水銀フリー化が強く望まれており、ＧａＮ系半導体紫外発光デバイスへの置き換えは産業的、環境的にも非常に有用である。更にＬＥＤ（ＵＶ−ＬＥＤ），ＬＤ（ＵＶ−ＬＤ）は小型、高寿命、高効率、低コストであり、光硬化型インクジェット用光源として期待されている。
本発明においては、発光ダイオード（ＬＥＤ）及びレーザーダイオード（ＬＤ）を活性放射線源として用いることが好ましい。特に、紫外線源を要する場合、紫外ＬＥＤ及び紫外ＬＤを使用することが好ましい。例えば、日亜化学（株）は、主放出スペクトルが３６５ｎｍと４２０ｎｍとの間の波長を有する紫色ＬＥＤを上市している。更に一層短い波長が必要とされる場合、米国特許番号第６，０８４，２５０号明細書は、３００ｎｍと３７０ｎｍとの間に中心付けされた活性放射線を放出し得るＬＥＤを開示している。また、他の紫外ＬＥＤも、入手可能であり、異なる紫外線帯域の放射を照射することができる。
本発明で特に好ましい活性放射線源は、ＵＶ−ＬＥＤであり、特に好ましくは、３５０ｎｍ〜４２０ｎｍにピーク波長を有するＵＶ−ＬＥＤである。
ＬＥＤの被記録媒体上での最高照度は１０ｍＷ／ｃｍ２〜２，０００ｍＷ／ｃｍ２であることが好ましく、２０ｍＷ／ｃｍ２〜１，０００ｍＷ／ｃｍ２であることがより好ましく、特に好ましくは５０ｍＷ／ｃｍ２〜８００ｍＷ／ｃｍ２である。
本発明においては、インク組成物は、このような活性放射線に、例えば、０．０１秒〜１２０秒、好ましくは、０．１秒〜９０秒照射されることが適当である。
活性放射線の照射条件並びに基本的な照射方法としては、特開昭６０−１３２７６７号公報に開示される内容が適用できる。具体的には、インクの吐出装置を含むヘッドユニットの両側に光源を設け、いわゆるシャトル方式でヘッドユニットと光源を走査することによって行われる。活性放射線の照射は、インク着弾後、一定時間（例えば、０．０１秒〜０．５秒、好ましくは、０．０１秒〜０．３秒、より好ましくは、０．０１秒〜０．１５秒）をおいて行われることになる。このようにインク着弾から照射までの時間を極短時間に制御することにより、被記録媒体に着弾したインクが硬化前に滲むことを防止するこが可能となる。また、多孔質な被記録媒体に対しても光源の届かない深部までインクが浸透する前に露光することができる為、未反応モノマーの残留を抑えられ、その結果として臭気を低減することができる。
更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させてもよい。ＷＯ９９／５４４１５号パンフレットでは、照射方法として、光ファイバーを用いた方法やコリメートされた光源をヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へＵＶ光を照射する方法が開示されている。
このように、本発明の平版印刷版の製造方法によれば、支持体表面上に、本発明のインク組成物を活性放射線の照射により硬化してなる疎水性画像を形成することができる。
前述のように、本発明によれば、活性放射線により高感度で硬化し、更に、硬化により形成される画像が柔軟性を有し、基板との密着性に優れるインク組成物を得ることができる。
これらのことから、本発明の平版印刷版の製造方法により得られた平版印刷版（本発明の平版印刷版）は、高画質で柔軟性に優れる画像部を有し、耐刷性にも優れる。
以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。但し、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、以下の説明においては、特に断りのない限り、「部」はすべて「質量部」を意味する。
［実施例１：カチオン重合による画像形成］
《インクの調製》
＜イエローインク１＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３ ３質量部
・光カチオン重合開始剤：トリフェニルスルフォニウム塩（ＵＶＩ−６９９２、ダウケミカル社製） １０．８質量部
・増感色素：９，１０−ジブトキシアントラセン ８．１質量部
・重合性化合物
モノマー：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（セロキサイド２０２１Ａ：ダイセルユーシービー社製） １１．０質量部
モノマー：３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサノナン（ＯＸＴ−２２１：東亞合成（株）製） ３．８質量部
モノマー：３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−２１１：東亞合成（株）製） ５６．７質量部
・特定燐酸基含有ポリマー：例示化合物（Ｄ−１） ５質量部
＜マゼンタインク１＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５７：１ ３質量部
・光カチオン重合開始剤：トリフェニルスルフォニウム塩（ＵＶＩ−６９９２、ダウケミカル社製） １０．８質量部
・増感色素：９，１０−ジブトキシアントラセン ８．１質量部
・重合性化合物
モノマー：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（セロキサイド２０２１Ａ：ダイセルユーシービー社製） １１．０質量部
モノマー：３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサノナン（ＯＸＴ−２２１：東亞合成（株）製） ３．８質量部
モノマー：３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−２１１：東亞合成（株）製） ５６．７質量部
・特定燐酸基含有ポリマー：例示化合物（Ｄ−１） ５．０質量部
＜シアンインク１＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３ ３質量部
・光カチオン重合開始剤：トリフェニルスルフォニウム塩（ＵＶＩ−６９９２、ダウケミカル社製） １０．８質量部
・増感色素：９，１０−ジブトキシアントラセン ８．１質量部
・重合性化合物
モノマー：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（セロキサイド２０２１Ａ：ダイセルユーシービー社製） １１．０質量部
モノマー：３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサノナン（ＯＸＴ−２２１：東亞合成（株）製） ３．８質量部
モノマー：３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−２１１：東亞合成（株）製） ５６．７質量部
・特定燐酸基含有ポリマー：例示化合物（Ｄ−１） ５．０質量部
＜ブラックインク１＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７ ３質量部
・光カチオン重合開始剤：トリフェニルスルフォニウム塩（ＵＶＩ−６９９２、ダウケミカル社製） １０．８質量部
・増感色素：９，１０−ジブトキシアントラセン ８．１質量部
・重合性化合物
モノマー：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（セロキサイド２０２１Ａ：ダイセルユーシービー社製） １１．０質量部
モノマー：３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサノナン（ＯＸＴ−２２１：東亞合成（株）製） ３．８質量部
モノマー：３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−１０１：東亞合成（株）製） ５６．７質量部
・特定燐酸基含有ポリマー：例示化合物（Ｄ−１） ５．０質量部
以上の様にして調製した粗製の各色インク１を絶対ろ過精度２μｍのフィルターにてろ過し、各色のインク１とした。
《インクジェット画像記録》（多色画像の評価）
次に、ピエゾ型インクジェットノズルを有する市販のインクジェット記録装置を用いて、被記録媒体への記録を行った。インク供給系は、元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドから成り、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までを断熱及び加温を行った。温度センサーは、インク供給タンク及びインクジェットヘッドのノズル付近にそれぞれ設け、ノズル部分が常に７０℃±２℃となるよう、温度制御を行った。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、８〜３０ｐｌのマルチサイズドットを７２０×７２０ｄｐｉの解像度で射出できるよう駆動した。着弾後はＵＶ光を露光面照度１００ｍＷ／ｃｍ２、に集光し、被記録媒体上にインク着弾した０．１秒後に照射が始まるよう露光系、主走査速度及び射出周波数を調整した。また、露光時間を可変とし、露光エネルギーを照射した。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。
上記調製した各色インクを用い、環境温度２５℃にて、ブラック→シアン→マゼンタ→イエローの順に射出、Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製メタルハライドランプＶｚｅｒｏ０８５により紫外線を１色毎に照射した。触診で粘着性が無くなる様、完全に硬化するエネルギーとして、１色あたりのトータル露光エネルギーが一律３００ｍＪ／ｃｍ２で露光した。被記録媒体としては、砂目立てしたアルミニウム支持体、印刷適性を持たせた表面処理済みの透明二軸延伸ポリプロピレンフィルム、軟質塩化ビニルシート、キャストコート紙、市販の再生紙に各カラー画像を記録したところ、いずれもドットの滲みの無い高解像度の画像が得られた。更に、上質紙においてもインクが裏周りすることなく、十分にインクが硬化し、未反応モノマーによる臭気が殆どしなかった。また、フィルムに記録したインクには十分な可とう性があり、折り曲げてもインクにクラックが入ることは無く、セロテープ（登録商標）剥離による密着性テストにおいても問題無かった。
［実施例２：カチオン重合による画像形成］
＜マゼンタインク２＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記例示化合物（Ｄ−２）に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク２を調製した。
［実施例３：カチオン重合による画像形成］
＜マゼンタインク３＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記例示化合物（Ａ−１）に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク３を調製した。
［実施例４：カチオン重合による画像形成］
＜マゼンタインク４＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記例示化合物（Ｂ−１）に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク４を調製した。
［実施例５：カチオン重合による画像形成］
＜マゼンタインク５＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記例示化合物（Ｃ−１）に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク５を調製した。
［実施例６：カチオン重合による画像形成］
＜マゼンタインク６＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において、増感色素として用いた「９，１０−ジブトキシアントラセン」８．１質量部を、「Ｄａｒｏｃｕｒ ＩＴＸ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）」８．１質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク６を調製した。
［実施例７：カチオン重合による画像形成］
＜マゼンタインク７＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において用いた「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５７：１」３質量部を、下記に示す「油溶性染料Ｍ−１（酸化電位＋１．３７Ｖ）」３質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク７を調製した。
Figure 2008214436
［実施例８：カチオン重合による画像形成］
＜マゼンタインク８＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において用いた「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５７：１」３質量部を、下記に示す「油溶性染料Ｍ−２（酸化電位＋０．９４Ｖ）」３質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク８を調製した。
Figure 2008214436
［比較例１：カチオン重合による画像形成］
＜マゼンタインク９＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において、前記例示化合物（Ｄ−１）をセロキサイド２０２１Ａに変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク９を調製した。
［比較例２］
＜マゼンタインク１０＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、下記比較化合物（１）に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク１０を調製した。
Figure 2008214436
［比較例３］
＜マゼンタインク１１＞
実施例１で調製したマゼンタインク１において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、下記比較化合物（２）に変更した以外は、前記マゼンタインク１と同様にして、マゼンタインク１１を調製した。
Figure 2008214436
以上の実施例２〜８及び比較例１〜３において調製した粗製のマゼンタインク２〜１１は、それぞれ絶対ろ過精度２μｍのフィルターにてろ過し、マゼンタインク２〜１１とした。
また、上記実施例及び比較例で作製したインク組成物において、インクの吐出温度でのインク粘度は、７〜２０ｍＰａ・ｓの範囲内であった。
《インクジェット画像記録》
以上のようにして調製した、実施例２〜８及び比較例１〜３のマゼンタインク２〜１１と、実施例１で調製したマゼンタインク１を用いて、実施例１に記載の方法と同様にして、マゼンタ画像を作製した。
＜インクジェット画像の評価＞
以上のようにして調製したインクを用いて、実施例１に記載の方法と同様にして形成した画像について、下記の方法に準じて、硬化感度、被記録媒体に対する密着性の評価を行った。
１．硬化感度の測定
紫外線照射後の画像面において、触診で粘着感の無くなる露光エネルギー量（ｍＪ／ｃｍ２）を硬化感度と定義した。数値が小さいものほど高感度であることを表す。使用した基板は ＰＥＴ（ＨＩＧＡＳＨＩＹＡＭＡ 社製）である。
２．被記録媒体に対する密着性の評価
被記録媒体に対する密着性の評価は、被記録媒体としてコロナ処理ポリプロピレン板及び銅基板を用いて行った。
マゼンタ画像を有するコロナ処理ポリプロピレン板及び銅基板を、クロスハッチテスト（ＥＮ ＩＳＯ２４０９）により評価した。この試験は、値が大きいほど良好で、３Ｂ以上を実用上問題の無い状態と評価する。
Figure 2008214436
［実施例９：発光ダイオード（ＬＥＤ）による画像形成］
実施例１で調製したマゼンタインク１を使用し、また、Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製メタルハライドランプＶｚｅｒｏ０８５の代わりに、紫外発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、インクジェット画像記録を行った。
本実施例ではＵＶ−ＬＥＤとして日亜化学製のＮＣＣＵ０３３を用いた。当該ＬＥＤは１チップから波長３６５ｎｍの紫外光を出力するものであって、約５００ｍＡの電流を通電することにより、チップから約１００ｍＷの光が発光される。これを７ｍｍ間隔に複数個配列し、被記録媒体（以下、「メディア」とも言う。）表面で０．３Ｗ／ｃｍ２のパワーが得られる。打滴後露光されるまでの時間、及び露光時間はメディアの搬送速度及びヘッドとＬＥＤの搬送方向の距離により変更可能である。本実施例では着弾後、約０．５秒後に露光される。
メディアとの距離及び搬送速度の設定に応じて、メディア上の露光エネルギーを０．０１〜１５Ｊ／ｃｍ２の間で調整することができる。
［比較例４：発光ダイオード（ＬＥＤ）による画像形成］
実施例９において、マゼンタインク１の代わりに、比較例２にて調製したマゼンタインク１０を用いた以外は、実施例９と同様にしてインクジェット画像記録を行った。
《インクジェット画像の評価》
各形成した画像について、前記方法に準じて、硬化感度及び密着性の評価を行った。評価結果を表２に示す。
Figure 2008214436
表１に示す紫外線ランプを用いた場合と、表２に示す紫外発光ダイオードを用いた場合とを比較すると、紫外発光ダイオードを用いた場合のほうが、紫外線ランプ（放射線照射）を用いた場合に対して高感度であることが分かる。
［実施例１０：ラジカル重合による画像形成］
《インクの調製》
＜イエローインク２＞
（イエローインク組成物）
・トリデシルアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製ＳＲ４９８Ｅ） １１．０部
・特定燐酸基含有ポリマー〔例示化合物（Ｄ−１）：〕 ５．０部
・Ｎ−ビニルカプロラクタム １６．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製ＳＲ３３９） ２７．４部
・トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製ＳＲ３５１） ３．０部
・ジプロピレングリコールジアクリレート
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製ＳＲ５０８） １．０部
・Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３２０００（Ｎｏｖｅｏｎ社製、分散剤） ０．４部
・Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ Ｙｅｌｌｏｗ ＬＡ ３．６部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製顔料）
・Ｇｅｎｏｒａｄ １６（Ｒａｈｎ社製、重合抑制剤） ０．０５部
・Ｒａｐｉ−Ｃｕｒｅ ＤＶＥ−３ ２．０部
（ＩＳＰ Ｅｕｒｏｐｅ社製ビニルエーテル化合物）
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、光開始剤） ８．５部
・ベンゾフェノン（光開始剤） ４．０部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４ ４．０部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、光開始剤）
・イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ） １．０部
・Ｂｙｋ ３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製、消泡剤） ０．０５部
＜マゼンタインク１２＞
・トリデシルアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製ＳＲ４９８Ｅ） １１．０部
・特定燐酸基含有ポリマー〔例示化合物（Ｄ−１）：〕 ５．０部
・Ｎ−ビニルカプロラクタム １６．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製、ＳＲ３３９）
２９．４部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ５．０部
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製、ＳＲ３５１）
・Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３２０００（Ｎｏｖｅｏｎ社製、分散剤） ０．４部
・Ｃｉｎｑｕａｓｉａ Ｍａｚｅｎｔａ ＲＴ−３５５Ｄ ３．６部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、顔料）
・Ｇｅｎｏｒａｄ １６（Ｒａｈｎ社製、重合抑制剤） ０．０５部
・Ｒａｐｉ−Ｃｕｒｅ ＤＶＥ−３ ４．０部
（ＩＳＰ Ｅｕｒｏｐｅ社製、ビニルエーテル化合物）
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、光開始剤） ８．５部
・ベンゾフェノン（光開始剤） ４．０部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４ ４．０部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、光開始剤）
・イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ） １．０部
・Ｂｙｋ ３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製、消泡剤） ０．０５部
＜シアンインク２＞
（シアン色インク組成物）
・特定燐酸基含有ポリマー〔例示化合物（Ｄ−１）： ５．０部
・トリデシルアクリレート １１．０部
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製ＳＲ４９８Ｅ）
・２−フェノキシエチルアクリレート ２７．４部
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製ＳＲ３３９）
・Ｎ−ビニルカプロラクタム １６．０部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ８．０部
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製ＳＲ３５１）
・Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３２０００（Ｎｏｖｅｏｎ社製分散剤） ０．４部
・Ｉｒｇａｌｉｔｅ Ｂｌｕｅ ＧＬＶＯ ３．６部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製顔料）
・Ｇｅｎｏｒａｄ １６（Ｒａｈｎ社製、重合抑制剤） ０．０５部
・Ｒａｐｉ−Ｃｕｒｅ ＤＶＥ−３ ４．０部
（ＩＳＰ Ｅｕｒｏｐｅ社製ビニルエーテル化合物）
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製光開始剤） ８．５部
・ベンゾフェノン（光開始剤） ４．０部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４ ４．０部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製光開始剤：）
・Ｂｙｋ ３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製消泡剤） ０．０５部
＜ブラックインク２＞
（ブラックインク組成物）
・特定燐酸基含有ポリマー〔例示化合物Ｄ−１〕 ５．０部
・トリデシルアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製、ＳＲ４９８Ｅ） １１．０部
・イソボルニルアクリレート １９．０部
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製、ＳＲ５０６Ｄ）
・２−フェノキシエチルアクリレート〕 ２８．４部
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製、ＳＲ３３９）
・トリメチロールプロパントリアクリレート〕 ８．０部
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製、ＳＲ３５１）
・Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３２０００（Ｎｏｖｅｏｎ社製、分散剤） ０．４部
・Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈ Ｂｌａｃｋ Ｃ−Ｋ ２．６部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、顔料）
・Ｇｅｎｏｒａｄ １６（Ｒａｈｎ社製、重合抑制剤） ０．０５部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、光開始剤） ８．５部
・ベンゾフェノン（光開始剤） ４．０部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４ ４．０部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、光開始剤：
・イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ） １．０部
・Ｂｙｋ ３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製、消泡剤） ０．０５部
以上の様にして調製した粗製の各色インクを絶対ろ過精度２μｍのフィルターにてろ過し、各色のインクとした。
次に、ピエゾ型インクジェットノズルを有する市販のインクジェット記録装置を用いて、被記録媒体への記録を行った。インク供給系は、元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドから成り、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までを断熱および加温を行った。温度センサーは、インク供給タンクおよびインクジェットヘッドのノズル付近にそれぞれ設け、ノズル部分が常に７０±２℃となるよう、温度制御を行った。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、８〜３０ｐｌのマルチサイズドットを７２０×７２０ｄｐｉの解像度で射出できるよう駆動した。
着弾後はＵＶ光を露光面照度３００ｍＷ／ｃｍ２に集光し、被記録媒体上にインク着弾した０．１秒後に照射が始まるよう露光系、主走査速度及び射出周波数を調整した。また、露光時間を可変とし、露光エネルギーを照射した。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。
≪４色インクジェット画像記録≫
上記調製した各色インクを用い、環境温度２５℃にて、ブラック→シアン→マゼンタ→イエローの順に射出、１色毎に紫外線光を照射した。触診で粘着性が無くなる様、完全に硬化するエネルギーとして、１色あたりのトータル露光エネルギーが一律９００ｍＪ／ｃｍ２で露光した。被記録媒体としては、砂目立てしたアルミニウム支持体、印刷適性を持たせた表面処理済みの透明二軸延伸ポリプロピレンフィルム、軟質塩化ビニルシート、キャストコート紙、市販の再生紙に各カラー画像を記録したところ、いずれもドットの滲みの無い高解像度の画像が得られた。
更に、上質紙においてもインクが裏周りすることなく、十分にインクが硬化し、未反応モノマーによる臭気が殆どしなかった。また、フィルムに記録したインクには十分な可とう性があり、折り曲げてもインクにクラックが入ることは無く、セロテープ（登録商標）剥離による密着性テストにおいても問題無かった。
［実施例１１：ラジカル重合による画像形成］
＜マゼンタインク１３＞
実施例１０で調製したマゼンタインク１２において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記例示化合物（Ｄ−２）に変更した以外は、前記マゼンタインク１２と同様にして、マゼンタインク１３を調製した。
［実施例１２：ラジカル重合による画像形成］
＜マゼンタインク１４＞
実施例１０で調製したマゼンタインク１２において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記例示化合物（Ｄ−３）に変更した以外は、前記マゼンタインク１２と同様にして、マゼンタインク１４を調製した。
［実施例１３：ラジカル重合による画像形成］
＜マゼンタインク１５＞
実施例１０で調製したマゼンタインク１２において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記例示化合物（Ａ−１）に変更した以外は、前記マゼンタインク１２と同様にして、マゼンタインク１５を調製した。
［実施例１４：ラジカル重合による画像形成］
＜マゼンタインク１６＞
実施例１０で調製したマゼンタインク１２において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記例示化合物（Ｃ−１）に変更した以外は、前記マゼンタインク１２と同様にして、マゼンタインク１６を調製した。
［実施例１５］
＜マゼンタインク１７＞
・Ｎ−ビニルカプロラクタム ２５．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ３６．４部
（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製、ＳＲ３３９）
・特定燐酸基含有ポリマー〔例示化合物（Ｂ−１）〕 ５．０部
・Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３２０００（Ｎｏｖｅｏｎ社製、分散剤） ０．４部
・Ｃｉｎｑｕａｓｉａ Ｍａｚｅｎｔａ ＲＴ−３５５Ｄ ３．６部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、顔料）
・Ｇｅｎｏｒａｄ １６（Ｒａｈｎ社製、重合抑制剤） ０．０５部
・Ｒａｐｉ−Ｃｕｒｅ ＤＶＥ−３ ４．０部
（ＩＳＰ Ｅｕｒｏｐｅ社製、ビニルエーテル化合物）
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、光開始剤） ８．５部
・ベンゾフェノン（光開始剤：） ４．０部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４ ４．０部
（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、光開始剤）
・イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ） １．０部
・Ｂｙｋ ３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製、消泡剤） ０．０５部
［比較例５］
＜マゼンタインク１８＞
実施例１０で調製したマゼンタインク１２において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、２−フェノキシエチルアクリレートに変更した以外は、前記マゼンタインク１２と同様にして、マゼンタインク１８を調製した。
［比較例６］
＜マゼンタインク１９＞
実施例１０で調製したマゼンタインク１２において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記比較化合物（１）に変更した以外は、前記マゼンタインク１２と同様にして、マゼンタインク１９を調製した。
［比較例７］
＜マゼンタインク２０＞
実施例１０で調製したマゼンタインク１２において、前記例示化合物（Ｄ−１）を、前記比較化合物（２）に変更した以外は、前記マゼンタインク１２と同様にして、マゼンタインク２０を調製した。
以上の実施例１０〜１５、及び比較例５〜７において調製した粗製のマゼンタインク１２〜２０は、それぞれ、絶対ろ過精度２μｍのフィルターにてろ過し、マゼンタインク１２〜２０とした。
また、上記実施例及び比較例で作製したインク組成物において、インクの吐出温度でのインク粘度は、７〜２０ｍＰａ・ｓの範囲内であった。
以上のようにして調製した、実施例１０〜２０、及び比較例５〜７のマゼンタインク１２〜２０を用い、実施例１に記載の方法と同様にして、マゼンタ画像を形成した。この形成された各画像及び画像形成前のインクについて前述の方法に準じて、実施例１と同様に硬化感度、被記録媒体に対する密着性の評価を行った。
Figure 2008214436
表３から明らかな通り、比較例は評価項目のいずれにおいても劣ることが判る。一方、感度においては、実施例が前述の表１におけるカチオン重合によるインク組成物と比較すると表３におけるラジカル重合によるインク組成物は低いものの、密着性はコロナ処理ポリプロピレン板及び銅基板における密着性は極めて良好であることが判る。

Claims (9)

  1. 重合開始剤、重合性モノマー、及び燐酸基含有ポリマーを含有し、前記燐酸基含有ポリマーの重量平均分子量が１０，０００以上３０，０００以下であることを特徴とするインク組成物。
  2. 燐酸基含有ポリマーを１質量％以上１０質量％以下含有することを特徴とする請求項１に記載のインク組成物。
  3. 着色剤を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のインク組成物。
  4. インクジェット記録用であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインク組成物。
  5. 被記録媒体上に、請求項１〜４のいずれか１項に記載のインク組成物をインクジェット記録装置により吐出する工程と、吐出されたインク組成物に活性放射線を照射してインク組成物を硬化する工程と、を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。
  6. 前記活性放射線が、発光ピーク波長が３５０〜４２０ｎｍの範囲にあり、かつ被記録媒体表面での最高照度が１０〜２，０００ｍＷ／ｃｍ２となる紫外線を発生する発光ダイオードにより照射される紫外線であることを特徴とする請求項５に記載のインクジェット記録方法。
  7. 請求項５又は６に記載のインクジェット記録方法によって記録されたことを特徴とする印刷物。
  8. 請求項１〜４のいずれか１項に記載のインク組成物を支持体上に吐出する工程と、吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化させることにより、前記インク組成物が硬化してなる疎水性画像を前記支持体上に形成する工程と、を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
  9. 請求項８に記載の平版印刷版の製造方法によって製造されたことを特徴とする平版印刷版。
JP2007051719A 2007-03-01 2007-03-01 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 Expired - Fee Related JP5224699B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007051719A JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2007-03-01 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
AT08003679T ATE479731T1 (de) 2007-03-01 2008-02-28 Tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, drucksachen, verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte und flachdruckplatte
DE200860002357 DE602008002357D1 (de) 2007-03-01 2008-02-28 Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, Drucksachen, Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte und Flachdruckplatte
EP20080003679 EP1988136B1 (en) 2007-03-01 2008-02-28 Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate
US12/040,339 US8309629B2 (en) 2007-03-01 2008-02-29 Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007051719A JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2007-03-01 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008214436A true JP2008214436A (ja) 2008-09-18
JP5224699B2 JP5224699B2 (ja) 2013-07-03

Family

ID=39733272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007051719A Expired - Fee Related JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2007-03-01 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8309629B2 (ja)
EP (1) EP1988136B1 (ja)
JP (1) JP5224699B2 (ja)
AT (1) ATE479731T1 (ja)
DE (1) DE602008002357D1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009235272A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Nisshin Steel Co Ltd エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物
JP2010083976A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット用インク組成物、およびインクジェット記録方法
JP2010144149A (ja) * 2008-12-22 2010-07-01 Sakata Corp 光硬化型インクジェット印刷用インク組成物
JP2012188613A (ja) * 2011-03-14 2012-10-04 Seiko Epson Corp 紫外線硬化型インクジェット用インク組成物

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100151142A1 (en) * 2008-12-17 2010-06-17 Robert Lee Cornell Uv-curable coatings and methods for applying uv-curable coatings using thermal micro-fluid ejection heads
JP2013502481A (ja) * 2009-08-18 2013-01-24 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． 粒子間架橋性ラテックス粒子を含むインクジェットインク
SG181620A1 (en) * 2009-12-11 2012-07-30 Fujifilm Corp Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device
JP2011225824A (ja) * 2010-03-30 2011-11-10 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法及び成形印刷物の製造方法
EP2675627B1 (en) * 2011-02-14 2015-05-06 Sericol Limited Ink- jet printing method
EP2604663B1 (en) * 2011-12-16 2017-08-09 Agfa Graphics N.V. Curable liquids and inkjet inks for food packaging applications
KR20130113376A (ko) * 2012-04-05 2013-10-15 타이코에이엠피(유) 인쇄회로기판 및 그 제조방법
EP2666832B1 (en) * 2012-05-22 2018-10-10 HP Scitex Ltd Photo-curable ink composition
US9752037B2 (en) 2013-03-15 2017-09-05 Ricoh Company, Ltd. Inkjet recording ink, ink cartridge, inkjet recording method, inkjet recording device and ink recorded matter
JP6213164B2 (ja) * 2013-11-06 2017-10-18 セイコーエプソン株式会社 金属粉末、紫外線硬化型インクジェット組成物および記録物
JP5779630B2 (ja) * 2013-11-27 2015-09-16 株式会社Ｄｎｐファインケミカル インクジェット記録用インク組成物、及びその製造方法、並びに、インクジェット記録方法
TWI551656B (zh) * 2015-03-23 2016-10-01 Atomic Energy Council Antioxidant conductive copper ink and its preparation method
US10180248B2 (en) 2015-09-02 2019-01-15 ProPhotonix Limited LED lamp with sensing capabilities
CN105542559B (zh) * 2016-01-28 2019-05-10 湖南达美程智能科技股份有限公司 环保油墨及其制备方法
US11267977B2 (en) 2017-08-10 2022-03-08 Sun Chemical Corporation UV-curable compositions comprising acylphosphine oxide photoinitiators
WO2019188522A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000104006A (ja) * 1998-09-28 2000-04-11 Dainippon Printing Co Ltd 顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物
JP2004002815A (ja) * 2002-04-16 2004-01-08 Toyo Ink Mfg Co Ltd インクジェットインキおよびカラーフィルタ
JP2004155852A (ja) * 2002-11-05 2004-06-03 Konica Minolta Holdings Inc 画像形成方法、印刷物及び記録装置
JP2004167873A (ja) * 2002-11-20 2004-06-17 Konica Minolta Holdings Inc 画像記録装置及び画像記録方法
JP2006008880A (ja) * 2004-06-28 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP2006152071A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インク及びこれを用いた平版印刷版作製方法
JP2007169607A (ja) * 2005-11-25 2007-07-05 Toyo Ink Mfg Co Ltd 着色樹脂組成物、インクジェットインキ、及びカラーフィルター基板

Family Cites Families (180)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (ja) 1950-12-06
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
BE606888A (ja) 1960-08-05 1900-01-01
US3214463A (en) 1960-05-12 1965-10-26 Du Pont Uv-absorbing sulfonated benzophenone derivatives
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
DE1572136B1 (de) 1965-06-03 1969-09-18 Du Pont Fotopolymerisierbares Gemisch
ZA6807938B (ja) 1967-12-04
US3567453A (en) 1967-12-26 1971-03-02 Eastman Kodak Co Light sensitive compositions for photoresists and lithography
US3622320A (en) 1968-02-29 1971-11-23 Mona Armstrong Allen Thermographic processes and elements utilizing photocrosslinkable polyesters
ES366028A1 (es) 1968-04-16 1971-02-16 Bayer Ag Procedimiento para la preparacion de masas moldeables y de revestimiento.
DE1769576A1 (de) 1968-06-11 1971-09-30 Bayer Ag Durch UV-Bestrahlen haertbare Polyester-Form- und UEberzugsmassen
CS151522B2 (ja) 1968-07-26 1973-10-19
DE1769854C3 (de) 1968-07-26 1982-08-19 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation
CA933792A (en) 1968-10-09 1973-09-18 W. Heseltine Donald Photopolymerization
BE757036A (fr) 1969-10-07 1971-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd Materiels photosensibles de photographie en couleurs ayant une meilleure solidite a la lumiere
JPS5512586B1 (ja) 1971-03-11 1980-04-02
US3987037A (en) 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
CH575965A5 (en) 1972-07-28 1976-05-31 Ciba Geigy Ag Aromatic 1,2-diketone monoacetals - useful as photoinitiators and cross-linking agents
DE2242106A1 (de) 1972-08-26 1974-03-21 Agfa Gevaert Ag Lichtempfindliches photographisches material
GB1416652A (en) 1973-04-26 1975-12-03 Siemens Ag Switching devices
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
GB1512982A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Salts
GB1516351A (en) 1974-05-02 1978-07-05 Gen Electric Curable epoxide compositions
GB1516512A (en) 1974-05-02 1978-07-05 Gen Electric Chalcogenium salts
JPS5249029A (en) 1975-10-16 1977-04-19 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide color photographic light sensitive material
DE2641100C2 (de) 1976-09-13 1987-02-26 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
DE2718130C2 (de) 1977-04-23 1979-05-17 Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 4000 Duesseldorf lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE2718259C2 (de) 1977-04-25 1982-11-25 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliches Gemisch
DE2722264C2 (de) 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
JPS5448535A (en) 1977-08-31 1979-04-17 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Color photographic material
IS2409A7 (is) 1977-09-15 1977-12-07 Elkem Metals Company Loftloki og og mulningstæki sem snúast og eru meðhringlaga frárennsli
JPS5463902A (en) 1977-10-31 1979-05-23 Fuji Photo Film Co Ltd Method of making offset printing plate
US4318791A (en) 1977-12-22 1982-03-09 Ciba-Geigy Corporation Use of aromatic-aliphatic ketones as photo sensitizers
JPS5494319A (en) 1978-01-09 1979-07-26 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Silver halide photographic material
DE2806802A1 (de) 1978-02-17 1979-08-23 Hoechst Ag Verfahren zum herstellen von offsetdruckplatten
US4181531A (en) 1978-04-07 1980-01-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Positive non-silver systems containing nitrofuryldihydropyridine
JPS55118030A (en) 1979-03-06 1980-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS5942864B2 (ja) 1979-04-13 1984-10-18 京セラミタ株式会社 投影用原稿の作成方法及びそれに用いる静電写真用転写フイルム
US4343891A (en) 1980-05-23 1982-08-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fixing of tetra (hydrocarbyl) borate salt imaging systems
DE3020092A1 (de) 1980-05-27 1981-12-10 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinverbindungen und ihre verwendung
DE3021590A1 (de) 1980-06-09 1981-12-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt 4-halogen-5-(halogenmethyl-phenyl)-oxazol-derivate, ein verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltenden strahlungsempfindliche massen
DE3021599A1 (de) 1980-06-09 1981-12-24 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt 2-(halogenmethyl-phenyl)-4-halogenoxazol-derivate, ein verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltende strahlungsempfindliche massen
DE3023486A1 (de) 1980-06-24 1982-01-07 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Photopolymerisierbare mischungen mit aroylphosphonsaeureestern als photoinitiatoren
US4321706A (en) 1980-07-14 1982-03-23 John Fluke Mfg. Co., Inc. Frequency modulated phase-locked loop signal source
US4478967A (en) 1980-08-11 1984-10-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photolabile blocked surfactants and compositions containing the same
DE3034697A1 (de) 1980-09-15 1982-05-06 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinsulfidverbindungen, ihre herstellung und verwendung
JPS5753747A (ja) 1980-09-17 1982-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd Hikarijugoseisoseibutsu
US4371605A (en) 1980-12-09 1983-02-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable compositions containing N-hydroxyamide and N-hydroxyimide sulfonates
JPS57163377A (en) 1981-03-16 1982-10-07 Nippon Kayaku Co Ltd Dialkylthioxanthone compound, its preparation, and curing of photopolymerizable resin composition using it
US4431774A (en) 1981-09-14 1984-02-14 Ciba-Geigy Corporation Process for the curing of stoving lacquers
US4510290A (en) 1982-01-11 1985-04-09 Ciba Geigy Corporation Acid-curable composition containing a masked curing catalyst, and a process for the curing thereof
JPS58185677A (ja) 1982-04-22 1983-10-29 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 紫外線吸収剤
DE3364186D1 (en) 1982-08-09 1986-07-24 Akzo Nv Thermosetting coating composition containing a blocked acid as catalyst
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
US4450227A (en) 1982-10-25 1984-05-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dispersed imaging systems with tetra (hydrocarbyl) borate salts
US4447521A (en) 1982-10-25 1984-05-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fixing of tetra(hydrocarbyl)borate salt imaging systems
US4590287A (en) 1983-02-11 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same
JPS59174831A (ja) 1983-03-24 1984-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE3333450A1 (de) 1983-09-16 1985-04-11 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Trihalogenmethylgruppen enthaltende carbonylmethylenheterocyclen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindungen enthaelt
DE3337024A1 (de) 1983-10-12 1985-04-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
JPS60132767A (ja) 1983-12-21 1985-07-15 Seikosha Co Ltd インクジエツトプリンタ
JPS60191244A (ja) 1984-03-13 1985-09-28 Dainippon Ink & Chem Inc 水性アルカリ現像液で現像可能な感光性画像形成材料
JPS60165646A (ja) 1984-02-09 1985-08-28 Dainippon Ink & Chem Inc 水性アルカリ現像液で現像可能な感光性画像形成材料
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
JPS60198538A (ja) 1984-03-22 1985-10-08 Toshiba Corp ポジ型レジスト材料
GB8407466D0 (en) 1984-03-22 1984-05-02 Rieter Ag Maschf Yarn quality monitoring system
GB8413395D0 (en) 1984-05-25 1984-07-04 Ciba Geigy Ag Production of images
DE3435443A1 (de) 1984-09-27 1986-04-03 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Fotografisches aufzeichnungsmaterial
US4713401A (en) 1984-12-20 1987-12-15 Martin Riediker Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes
JPH0731399B2 (ja) 1984-12-21 1995-04-10 三菱化学株式会社 光重合性組成物
US4587346A (en) 1985-01-22 1986-05-06 Ciba-Geigy Corporation Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures
DE3505998A1 (de) 1985-02-21 1986-08-21 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung thiosubstituierter ketone als photoinitiatoren
DE3660255D1 (en) 1985-04-12 1988-07-07 Ciba Geigy Ag Oxime sulphonates containing reactive groups
JPS61278577A (ja) * 1985-06-05 1986-12-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd 紫外線硬化型インキ組成物
JPH0766185B2 (ja) 1985-09-09 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3534645A1 (de) 1985-09-28 1987-04-02 Merck Patent Gmbh Copolymerisierbare fotoinitiatoren
EP0223739A1 (de) 1985-11-06 1987-05-27 Ciba-Geigy Ag Neue Dibenzoxaphosphorine
JPS62135826A (ja) 1985-12-09 1987-06-18 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 熱現像感光材料
JPS62173463A (ja) 1986-01-28 1987-07-30 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
JPS62183457A (ja) 1986-02-07 1987-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
JPS62215272A (ja) 1986-02-17 1987-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd カラ−画像形成方法
US4837124A (en) 1986-02-24 1989-06-06 Hoechst Celanese Corporation High resolution photoresist of imide containing polymers
GB8610610D0 (en) 1986-04-30 1986-06-04 Kodak Ltd Stabilization of dye images
AU599400B2 (en) 1986-08-01 1990-07-19 Ciba-Geigy Ag Titanocenes and their use
EP0264730B1 (en) 1986-10-10 1993-07-14 Konica Corporation Silver halide photographic light-sensitive material to provide dye-image with improved color-fastness to light
GB8625149D0 (en) 1986-10-21 1986-11-26 Kodak Ltd Stabilisation of dye images
US4743530A (en) 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Negative working photoresists responsive to longer wavelengths and novel coated articles
US4743528A (en) 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Enhanced imaging composition containing an azinium activator
US4743531A (en) 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Dye sensitized photographic imaging system
US4743529A (en) 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Negative working photoresists responsive to shorter visible wavelengths and novel coated articles
DE3642855C1 (de) 1986-12-16 1988-06-23 Du Pont Deutschland Lichtempfindliches Gemisch
JPH0830876B2 (ja) 1986-12-25 1996-03-27 コニカ株式会社 色素画像の堅牢性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
JPH0682188B2 (ja) 1987-03-19 1994-10-19 ザイトロニクス，インコーポレイテツド 紫外線被曝を可視化したフィルム及び紫外線被曝量測定部材
DE3880868D1 (en) 1987-03-26 1993-06-17 Ciba Geigy Ag Neue alpha-aminoacetophenone als photoinitiatoren.
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
JP2582578B2 (ja) 1987-07-14 1997-02-19 日本化薬株式会社 感光性樹脂組成物
DE3851931T2 (de) 1987-09-21 1995-03-16 Ciba Geigy Ag Stabilisierung einer Beschichtung mit sterisch gehinderten N-hydroxysubstituierten Aminen.
EP0309402B2 (en) 1987-09-21 2002-06-12 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. N-substituted hindered amine stabilizers
EP0310551B1 (de) 1987-09-30 1994-01-26 Ciba-Geigy Ag Phenolische Thianderivate
DE3871062D1 (de) 1987-09-30 1992-06-17 Ciba Geigy Ag Stabilisatoren fuer farbphotographische aufzeichnungsmaterialien.
JP2528334B2 (ja) 1987-10-09 1996-08-28 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラ―写真感光材料
US5026625A (en) 1987-12-01 1991-06-25 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines
JPH01152109A (ja) 1987-12-09 1989-06-14 Toray Ind Inc 光重合性組成物
EP0323408B1 (de) 1987-12-28 1994-04-06 Ciba-Geigy Ag Neue 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazol-derivate
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
US4885154A (en) 1988-03-01 1989-12-05 Alza Corporation Method for reducing sensitization or irritation in transdermal drug delivery and means therefor
EP0334338A3 (en) 1988-03-24 1990-06-20 Dentsply International, Inc. Titanate initiators for light cured compositions
GB8808694D0 (en) 1988-04-13 1988-05-18 Kodak Ltd Stabilization of dye images produced in photographic materials
GB2219591B (en) * 1988-05-17 1992-01-22 Kansai Paint Co Ltd Radiation curable unsaturated resin
JP2757375B2 (ja) 1988-06-02 1998-05-25 東洋紡績株式会社 光重合性組成物
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
EP0372778A1 (en) 1988-12-01 1990-06-13 Polychrome Corporation Photoinitiator
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
US5028519A (en) 1988-12-06 1991-07-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide color photosensitive material
EP0388343B1 (en) 1989-03-14 1996-07-17 International Business Machines Corporation Chemically amplified photoresist
JP2661671B2 (ja) 1989-03-20 1997-10-08 株式会社日立製作所 パタン形成材料とそれを用いたパタン形成方法
JPH03121449A (ja) 1989-07-25 1991-05-23 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
US5059512A (en) 1989-10-10 1991-10-22 International Business Machines Corporation Ultraviolet light sensitive photoinitiator compositions, use thereof and radiation sensitive compositions
EP0458741B1 (de) 1990-05-10 1996-01-24 Ciba-Geigy Ag Strahlenhärtbare lichtstabilisierte Zusammensetzungen
US5254433A (en) 1990-05-28 1993-10-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Dye fixing element
JPH0561166A (ja) 1991-05-28 1993-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH04365048A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE59205075D1 (de) 1991-07-03 1996-02-29 Ciba Geigy Ag Phenylthiophenylketone
US5298380A (en) 1991-09-05 1994-03-29 Ciba-Geigy Corporation Photographic material which contains a UV absober
JP2687264B2 (ja) 1991-10-25 1997-12-08 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH05281728A (ja) 1992-04-01 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP3178091B2 (ja) 1992-06-29 2001-06-18 住友化学工業株式会社 光重合性組成物及び光制御板の製造方法
WO1994005645A1 (en) 1992-09-07 1994-03-17 Ciba-Geigy Ag Hydroxyphenyl-s-triazines
JP3223222B2 (ja) 1993-12-03 2001-10-29 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
US5556973A (en) 1994-07-27 1996-09-17 Ciba-Geigy Corporation Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith
AU703967B2 (en) 1994-10-10 1999-04-01 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Bisresorcinyltriazines
JPH08224982A (ja) 1995-02-22 1996-09-03 Konica Corp 転写箔及びそれを用いたｉｄカード
EP0750224A3 (en) 1995-06-19 1997-01-08 Eastman Kodak Company 2'-Hydroxyphenyl benzotriazole based UV absorbing polymers with particular substituents and photographic elements containing them
JP3847381B2 (ja) 1995-09-08 2006-11-22 コニカミノルタホールディングス株式会社 感光性組成物、感光性平版印刷版及びそれを用いた画像形成方法
JP3622063B2 (ja) 1995-11-20 2005-02-23 光洋精工株式会社 油圧制御弁
JP3667410B2 (ja) 1995-12-28 2005-07-06 日本化薬株式会社 インクジエット記録方式用紫外線硬化性樹脂組成物及びその硬化物
JP3498279B2 (ja) 1996-06-12 2004-02-16 コニカミノルタホールディングス株式会社 熱転写シート及びそれを用いて形成した画像要素
US5948605A (en) 1996-08-16 1999-09-07 Eastman Kodak Company Ultraviolet ray absorbing polymer latex compositions, method of making same, and imaging elements employing such particles
GB2319523B (en) 1996-11-20 2000-11-08 Ciba Sc Holding Ag Hydroxyphenyltriazines
WO1998031756A1 (fr) * 1997-01-21 1998-07-23 Kansai Paint Company, Limited Composition de peinture metallisee a base d'eau et procede de formation d'une couche de finition
EP0907970B1 (de) 1997-03-03 2007-11-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Weisse lumineszenzdiode
JP3629907B2 (ja) 1997-07-29 2005-03-16 宇部興産株式会社 熱硬化性オキセタン組成物
JP3629911B2 (ja) 1997-08-12 2005-03-16 宇部興産株式会社 熱硬化性オキセタン組成物
WO1999054415A1 (fr) 1998-04-15 1999-10-28 Nof Corporation Procede de formation d'un film et d'une composition de revetement
JP2003026978A (ja) 1998-09-08 2003-01-29 Ricoh Co Ltd 記録液体
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP3726568B2 (ja) 1999-07-23 2005-12-14 東洋インキ製造株式会社 紫外線硬化型塗料組成物及びその利用
JP2001040068A (ja) 1999-07-27 2001-02-13 Asahi Denka Kogyo Kk 光重合性組成物
JP4825992B2 (ja) 1999-08-11 2011-11-30 綜研化学株式会社 アクリル系粘着剤組成物、該組成物を用いた粘着テープの製造方法および粘着テープ
JP4358375B2 (ja) 1999-08-19 2009-11-04 関西ペイント株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物およびその被膜形成方法
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
JP2001181547A (ja) 1999-12-22 2001-07-03 Fuji Photo Film Co Ltd 着色微粒子分散物、インクジェット用インク及びインクジェット記録方法
JP3893833B2 (ja) 2000-02-09 2007-03-14 ブラザー工業株式会社 インクジェット記録方式用エネルギー線硬化型組成物
JP2001253181A (ja) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感熱性平版印刷用原板
JP2001322365A (ja) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
JP2001310937A (ja) 2000-04-27 2001-11-06 Hitachi Chem Co Ltd 硬化性オキセタン組成物およびその硬化方法ならびにその方法により得られる硬化物
JP2001310938A (ja) 2000-04-28 2001-11-06 Showa Denko Kk 重合性組成物、その硬化物と製造方法
JP4441995B2 (ja) 2000-06-28 2010-03-31 三菱化学株式会社 光重合性組成物、光重合性着色組成物およびカラーフィルター
JP2002012141A (ja) 2000-06-29 2002-01-15 Toyota Motor Corp 車輌の制御装置
JP2002121414A (ja) 2000-07-17 2002-04-23 Fuji Photo Film Co Ltd 着色組成物、インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法
JP2002114930A (ja) 2000-10-05 2002-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット用インク及びインクジェット記録方法
JP4061876B2 (ja) 2000-10-10 2008-03-19 東洋インキ製造株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ
JP3935363B2 (ja) * 2001-06-26 2007-06-20 サカタインクス株式会社 水性顔料分散体の製造方法およびその方法から得られる水性顔料分散体
JP2003312121A (ja) 2002-04-26 2003-11-06 Konica Minolta Holdings Inc 画像形成方法、印刷物及び記録装置
JP2003341217A (ja) 2002-05-24 2003-12-03 Konica Minolta Holdings Inc 画像形成方法、印刷物及び記録装置
JP2003342503A (ja) 2002-05-28 2003-12-03 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録用ブラックインクおよび画像形成方法
JP2004091556A (ja) 2002-08-30 2004-03-25 Konica Minolta Holdings Inc 活性光線硬化型組成物、活性光線硬化型インクとそれを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
JP2004091558A (ja) 2002-08-30 2004-03-25 Konica Minolta Holdings Inc 活性光線硬化型インクとそれを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
CN1283739C (zh) * 2002-09-30 2006-11-08 罗姆和哈斯公司 喷墨油墨用聚合物粘合剂
JP2004182930A (ja) * 2002-12-05 2004-07-02 Riso Kagaku Corp 光重合インクジェットインク
JP4428928B2 (ja) 2003-02-18 2010-03-10 富士フイルム株式会社 インクおよびインクジェット記録方法
TWI275833B (en) * 2004-01-19 2007-03-11 Dainichiseika Color Chem Fabrication process of color filters, inks, color filters, and image displays using the color filters
US20050197419A1 (en) * 2004-03-03 2005-09-08 Graziano Louis C. Radiation curable aqueous binders for ink jet inks
JP2006182970A (ja) 2004-12-28 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録用インク並びにそれを用いる平版印刷版及びその作製方法
JP2006213862A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP4474317B2 (ja) * 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000104006A (ja) * 1998-09-28 2000-04-11 Dainippon Printing Co Ltd 顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物
JP2004002815A (ja) * 2002-04-16 2004-01-08 Toyo Ink Mfg Co Ltd インクジェットインキおよびカラーフィルタ
JP2004155852A (ja) * 2002-11-05 2004-06-03 Konica Minolta Holdings Inc 画像形成方法、印刷物及び記録装置
JP2004167873A (ja) * 2002-11-20 2004-06-17 Konica Minolta Holdings Inc 画像記録装置及び画像記録方法
JP2006008880A (ja) * 2004-06-28 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP2006152071A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インク及びこれを用いた平版印刷版作製方法
JP2007169607A (ja) * 2005-11-25 2007-07-05 Toyo Ink Mfg Co Ltd 着色樹脂組成物、インクジェットインキ、及びカラーフィルター基板

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009235272A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Nisshin Steel Co Ltd エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物
JP2010083976A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット用インク組成物、およびインクジェット記録方法
JP2010144149A (ja) * 2008-12-22 2010-07-01 Sakata Corp 光硬化型インクジェット印刷用インク組成物
JP2012188613A (ja) * 2011-03-14 2012-10-04 Seiko Epson Corp 紫外線硬化型インクジェット用インク組成物

Also Published As

Publication number Publication date
EP1988136B1 (en) 2010-09-01
DE602008002357D1 (de) 2010-10-14
ATE479731T1 (de) 2010-09-15
JP5224699B2 (ja) 2013-07-03
US8309629B2 (en) 2012-11-13
EP1988136A1 (en) 2008-11-05
US20080213550A1 (en) 2008-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5224699B2 (ja) インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP5591745B2 (ja) 活性放射線硬化性インク組成物、インクジェット記録用インク組成物、並びに印刷物、および印刷物成形体の製造方法
JP5276264B2 (ja) インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
JP5383289B2 (ja) インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP4865483B2 (ja) 成形加工された印刷物の製造方法、及び、成形加工された印刷物
EP1840176B1 (en) Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate
JP4865473B2 (ja) 成形印刷物の製造方法、及び、成形印刷物
JP2010209183A (ja) インク組成物及びインクジェット記録方法
JP2006274077A (ja) インクジェット用インク組成物、並びに、これを用いた画像形成方法および記録物
JP5554114B2 (ja) 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法
JP2012077159A (ja) インク組成物、印画物及びその製造方法
JP4619833B2 (ja) インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP4865482B2 (ja) エンボス加工された印刷物の製造方法、及び、エンボス加工された印刷物
JP4865484B2 (ja) 成形印刷物の製造方法、及び、成形印刷物
JP2012077139A (ja) インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物
JP2011068768A (ja) 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、および印刷物成形体の製造方法
JP2007224103A (ja) インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
JP4619832B2 (ja) インクジェト記録用インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP2006152071A (ja) 放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インク及びこれを用いた平版印刷版作製方法
JP2006274083A (ja) インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP2008069214A (ja) インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
JP2008074956A (ja) インク組成物、インクジェット記録方法、及び印刷物
JP2008019331A (ja) インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
JP5728044B2 (ja) インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
JP2007169365A (ja) 硬化性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090909

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120608

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120619

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120820

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130219

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130312

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5224699

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160322

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees