JP2001310938A - 重合性組成物、その硬化物と製造方法 - Google Patents
重合性組成物、その硬化物と製造方法Info
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 107
- -1 alicyclic alkane Chemical class 0.000 claims abstract description 81
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 74
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 60
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 48
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 44
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 25
- PHICBFWUYUCFKS-UHFFFAOYSA-N spiro[4.4]nonane Chemical compound C1CCCC21CCCC2 PHICBFWUYUCFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000013329 compounding Methods 0.000 claims description 6
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims description 6
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 238000012656 cationic ring opening polymerization Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 50
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 25
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 18
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 13
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 13
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 7
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 5
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A Natural products C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N [4-(4-diphenylsulfoniophenyl)sulfanylphenyl]-diphenylsulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC(C=C1)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 3
- 208000012839 conversion disease Diseases 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 3
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QKAIFCSOWIMRJG-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-(4-propan-2-ylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 QKAIFCSOWIMRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCBQKJQXUPVHFJ-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopenta-2,4-dien-1-yl-2-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C1C=CC=C1 UCBQKJQXUPVHFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N prehnitene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1C UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- PQFCQEAAKCVLBY-UHFFFAOYSA-N spiro[3-oxatricyclo[3.2.1.02,4]octane-6,3'-oxetane] Chemical compound C1OCC11C(C2C3O2)CC3C1 PQFCQEAAKCVLBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 2
- FQERLIOIVXPZKH-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trioxane Chemical compound C1COOCO1 FQERLIOIVXPZKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSHKLLPSERFSRJ-UHFFFAOYSA-N 1-(naphthalen-1-ylmethyl)pyridin-1-ium-2-carbonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=[N+]1CC1=CC=CC2=CC=CC=C12 VSHKLLPSERFSRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBSKXJSZGYXFFB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyridin-1-ium-2-carbonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=[N+]1CC1=CC=CC=C1 OBSKXJSZGYXFFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZAVRNDQSIORTH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2,2-bis(ethenoxymethyl)butane Chemical compound C=COCC(CC)(COC=C)COC=C CZAVRNDQSIORTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXHYVVAUHMGCEX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1O VXHYVVAUHMGCEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRWMHJJHPQTTLQ-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)thiirane Chemical compound ClCC1CS1 XRWMHJJHPQTTLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNISWKAEAPQCJQ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-nonylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OCC1OC1 WNISWKAEAPQCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-5-methylpyrazol-3-amine Chemical compound CCN1N=C(C)C=C1N TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNVSWHUJDDZRH-UHFFFAOYSA-N 2-methylthiirane Chemical compound CC1CS1 MBNVSWHUJDDZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFWVGNUKWYHJNQ-UHFFFAOYSA-N 2-oxaspiro[3.5]non-6-ene Chemical compound C1OCC11CC=CCC1 YFWVGNUKWYHJNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNLURCRXZLVRJR-UHFFFAOYSA-N 2-oxaspiro[3.5]nonane Chemical compound C1OCC11CCCCC1 PNLURCRXZLVRJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(chloromethyl)oxetane Chemical compound ClCC1(CCl)COC1 CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVGLUKRYMXEQAH-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyloxetane Chemical compound CC1(C)COC1 RVGLUKRYMXEQAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIRMTEGUIUCVDI-UHFFFAOYSA-N 3-[[2,3-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]-3-ethyloxetane Chemical compound C=1C=CC(COCC2(CC)COC2)=C(COCC2(CC)COC2)C=1COCC1(CC)COC1 GIRMTEGUIUCVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCC1(CC)COC1 JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOYIPLQCZOCTOA-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=CC=C(COCC2(CC)COC2)C=1COCC1(CC)COC1 UOYIPLQCZOCTOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRXFVFZYPPCDAW-UHFFFAOYSA-N 4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethoxymethyl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1COCC1CC2OC2CC1 RRXFVFZYPPCDAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYYPKCMPDGCDHE-UHFFFAOYSA-N 4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1CC1CC2OC2CC1 HYYPKCMPDGCDHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROEMZVYTASHCAA-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-oxaspiro[3.5]non-6-ene Chemical compound CC1C=CCCC11COC1 ROEMZVYTASHCAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPMYMDRFUZDWJJ-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-oxaspiro[3.5]nonane Chemical compound CC1CCCCC11COC1 LPMYMDRFUZDWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21C=C XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVXZBRQFXOKCIR-UHFFFAOYSA-N 7-methyl-2-oxaspiro[3.5]nonane Chemical compound C1CC(C)CCC11COC1 HVXZBRQFXOKCIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N benzenediazonium Chemical compound N#[N+]C1=CC=CC=C1 CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical compound O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AENNXXRRACDJAY-UHFFFAOYSA-N bis(2-dodecylphenyl)iodanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1CCCCCCCCCCCC AENNXXRRACDJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N bis[(3-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl] hexanedioate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1C LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- FEXXLIKDYGCVGJ-UHFFFAOYSA-N butyl 8-(3-octyloxiran-2-yl)octanoate Chemical compound CCCCCCCCC1OC1CCCCCCCC(=O)OCCCC FEXXLIKDYGCVGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 150000004294 cyclic thioethers Chemical class 0.000 description 1
- DNWBGZGLCKETOT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;1,3-dioxane Chemical compound C1CCCCC1.C1COCOC1 DNWBGZGLCKETOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N diphenyl-(4-phenylsulfanylphenyl)sulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- FRCAGVUKJQCWBD-UHFFFAOYSA-L iodine green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(\C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C/1C=C(C)C(=[N+](C)C)C=C\1 FRCAGVUKJQCWBD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCC[CH]CCCC ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N normal nonane Natural products CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIBARIGPBPUBHC-UHFFFAOYSA-N octyl 8-(3-octyloxiran-2-yl)octanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCC1OC1CCCCCCCC FIBARIGPBPUBHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 229960000380 propiolactone Drugs 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical group [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- NESPAMMSBVAVHO-UHFFFAOYSA-N spiro[7-oxabicyclo[2.2.1]heptane-3,3'-oxetane] Chemical compound C1OCC11C(O2)CCC2C1 NESPAMMSBVAVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMHVMZLBAFHTCH-UHFFFAOYSA-N spiro[bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,3'-oxetane] Chemical compound C1OCC11C(C=C2)CC2C1 KMHVMZLBAFHTCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOACLBBDYBGIJP-UHFFFAOYSA-N spiro[bicyclo[2.2.1]heptane-3,3'-oxetane] Chemical compound C1OCC11C(C2)CCC2C1 UOACLBBDYBGIJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRQDPNKOUPEWOC-UHFFFAOYSA-N spiro[bicyclo[2.2.2]octane-3,3'-piperidine] Chemical compound C1CCNCC21C(CC1)CCC1C2 VRQDPNKOUPEWOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007984 tetrahydrofuranes Chemical class 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N thiirane Chemical compound C1CS1 VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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-
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- C08G2650/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterized by the type of post-polymerisation functionalisation
- C08G2650/16—Photopolymerisation
Abstract
(57)【要約】
【課題】活性エネルギー線の照射および/または加熱に
より高い活性(速重合性、速硬化性)を示すカチオン重
合性組成物を提供すること。 【解決手段】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基
を有する脂環式アルカン(a)と活性エネルギー線の照
射および/または加熱によりカチオン重合を開始させる
化合物(b)を含む重合性組成物が光および熱カチオン
開環重合において、高い活性を示し、且つ、その重合物
(硬化物)が良好な物性を有することを見いだした。
より高い活性(速重合性、速硬化性)を示すカチオン重
合性組成物を提供すること。 【解決手段】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基
を有する脂環式アルカン(a)と活性エネルギー線の照
射および/または加熱によりカチオン重合を開始させる
化合物(b)を含む重合性組成物が光および熱カチオン
開環重合において、高い活性を示し、且つ、その重合物
(硬化物)が良好な物性を有することを見いだした。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は紫外線または電子線
等の活性エネルギー線の照射および/または加熱により
速やかに重合し、硬化物を与える重合性組成物、該組成
物の重合方法および重合して得られた硬化物に関する。
等の活性エネルギー線の照射および/または加熱により
速やかに重合し、硬化物を与える重合性組成物、該組成
物の重合方法および重合して得られた硬化物に関する。
【0002】
【従来の技術】紫外線等の活性エネルギー線による樹脂
の硬化技術は、大きな硬化速度、無溶剤であることによ
る良好な作業性および極めて低いエネルギー必要量等の
種々の特性から、木材のコーティング、金属塗装および
印刷等の種々の分野において、極めて重要になってい
る。これらの分野における初期の開発においては、多官
能アクリレートおよび不飽和ポリエステル等を対象とし
た紫外線開始ラジカル重合に研究が集中しており、これ
ら多官能アクリレートおよび不飽和ポリエステル等から
なる材料が種々使用されてきた。現在においても、これ
らの研究の大部分は紫外線開始ラジカル重合に向けられ
ているが、光開始イオン重合も多くの応用分野でかなり
有望であることが認められてきている。光開始イオン重
合においては、多種多様なモノマーを用いることが可能
であるため、様々な化学的および物理的特性を有する硬
化物が得られる可能性があり、その技術は魅力あるもの
である。
の硬化技術は、大きな硬化速度、無溶剤であることによ
る良好な作業性および極めて低いエネルギー必要量等の
種々の特性から、木材のコーティング、金属塗装および
印刷等の種々の分野において、極めて重要になってい
る。これらの分野における初期の開発においては、多官
能アクリレートおよび不飽和ポリエステル等を対象とし
た紫外線開始ラジカル重合に研究が集中しており、これ
ら多官能アクリレートおよび不飽和ポリエステル等から
なる材料が種々使用されてきた。現在においても、これ
らの研究の大部分は紫外線開始ラジカル重合に向けられ
ているが、光開始イオン重合も多くの応用分野でかなり
有望であることが認められてきている。光開始イオン重
合においては、多種多様なモノマーを用いることが可能
であるため、様々な化学的および物理的特性を有する硬
化物が得られる可能性があり、その技術は魅力あるもの
である。
【0003】光カチオン重合組成物は、紫外線等の活性
エネルギー線の照射により分解し酸を発生する光カチオ
ン重合開始剤(光酸発生剤)と、発生した酸により重合
反応や架橋反応を起こす化合物から構成される。その開
発は、3員環環状エーテルであるオキシラン環を有する
エポキシ樹脂に集中しており、光硬化型エポキシ樹脂
は、接着性、耐熱性および耐薬品性等の諸特性に優れる
ことが知られている。しかしながら、従来の光硬化型エ
ポキシ樹脂には光硬化速度が非常に遅いという問題があ
り、エポキシ樹脂の特性を生かしながら、硬化速度を向
上させることが熱望されてきた。
エネルギー線の照射により分解し酸を発生する光カチオ
ン重合開始剤(光酸発生剤)と、発生した酸により重合
反応や架橋反応を起こす化合物から構成される。その開
発は、3員環環状エーテルであるオキシラン環を有する
エポキシ樹脂に集中しており、光硬化型エポキシ樹脂
は、接着性、耐熱性および耐薬品性等の諸特性に優れる
ことが知られている。しかしながら、従来の光硬化型エ
ポキシ樹脂には光硬化速度が非常に遅いという問題があ
り、エポキシ樹脂の特性を生かしながら、硬化速度を向
上させることが熱望されてきた。
【0004】一方、重合性基として4員環環状エーテル
であるオキセタン環を一分子中に複数個有する多官能オ
キセタンモノマーは対応する多官能エポキシドと同様、
或いはそれ以上の光硬化性を有することが報告されてい
る(ジャーナル オブ マクロモレキュラー サイエン
ス、A29巻、10号、915項、1992年;同A3
0巻、2&3号、173項;同A30巻、2&3号、1
89項、1993年)。また、多官能オキセタンモノマ
ーを主成分とする光硬化型組成物も提案されている(特
開平6−16804号公報)。この多官能オキセタンモ
ノマーを用いた紫外線硬化型樹脂の場合、紫外線照射に
おける硬化速度はエポキシ樹脂と比較して速いが、紙や
プラスチック等の熱に弱い材料へのコーティングなどの
用途への適用にはいまだ困難な場合が見受けられ、さら
なる速やかな光硬化が切望されている。
であるオキセタン環を一分子中に複数個有する多官能オ
キセタンモノマーは対応する多官能エポキシドと同様、
或いはそれ以上の光硬化性を有することが報告されてい
る(ジャーナル オブ マクロモレキュラー サイエン
ス、A29巻、10号、915項、1992年;同A3
0巻、2&3号、173項;同A30巻、2&3号、1
89項、1993年)。また、多官能オキセタンモノマ
ーを主成分とする光硬化型組成物も提案されている(特
開平6−16804号公報)。この多官能オキセタンモ
ノマーを用いた紫外線硬化型樹脂の場合、紫外線照射に
おける硬化速度はエポキシ樹脂と比較して速いが、紙や
プラスチック等の熱に弱い材料へのコーティングなどの
用途への適用にはいまだ困難な場合が見受けられ、さら
なる速やかな光硬化が切望されている。
【0005】また、これら光カチオン重合硬化型エポキ
シ樹脂組成物や光カチオン重合硬化型オキセタン化合物
含有樹脂組成物は、光カチオン重合開始剤の代わりに加
熱により分解し酸を発生する熱カチオン重合開始剤を添
加することにより加熱重合させることもできる。光カチ
オン重合開始剤は活性エネルギー線の照射によりカチオ
ン重合可能な化合物の開環カチオン重合を促進するのに
対し、熱カチオン重合開始剤は外部からの加熱や室温放
置により開環カチオン重合を促進するものであり、光透
過性の悪い材料の硬化や、厚い注型製品の製造等、光カ
チオン重合が不可能な分野において、特に重要な技術で
ある。この熱カチオン重合については、特開平11−2
46541号公報、特開平11−106380号公報、
特開平11−61034号公報等に記載がある。しかし
ながら、これら熱カチオン重合硬化型エポキシ樹脂組成
物や熱カチオン重合硬化型オキセタン化合物含有樹脂組
成物、またはこの両者の混合物の硬化速度も光カチオン
重合と同様十分でなく、硬化物を得るのに長時間の高温
処理が必要であったり、熱カチオン重合開始剤を多量に
必要とする等、生産性、経済性が満足できるものは未だ
得られていない。
シ樹脂組成物や光カチオン重合硬化型オキセタン化合物
含有樹脂組成物は、光カチオン重合開始剤の代わりに加
熱により分解し酸を発生する熱カチオン重合開始剤を添
加することにより加熱重合させることもできる。光カチ
オン重合開始剤は活性エネルギー線の照射によりカチオ
ン重合可能な化合物の開環カチオン重合を促進するのに
対し、熱カチオン重合開始剤は外部からの加熱や室温放
置により開環カチオン重合を促進するものであり、光透
過性の悪い材料の硬化や、厚い注型製品の製造等、光カ
チオン重合が不可能な分野において、特に重要な技術で
ある。この熱カチオン重合については、特開平11−2
46541号公報、特開平11−106380号公報、
特開平11−61034号公報等に記載がある。しかし
ながら、これら熱カチオン重合硬化型エポキシ樹脂組成
物や熱カチオン重合硬化型オキセタン化合物含有樹脂組
成物、またはこの両者の混合物の硬化速度も光カチオン
重合と同様十分でなく、硬化物を得るのに長時間の高温
処理が必要であったり、熱カチオン重合開始剤を多量に
必要とする等、生産性、経済性が満足できるものは未だ
得られていない。
【0006】また、米国特許第3388105号に同一
分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する脂環式ア
ルカンをカルボキシル基含有化合物と加熱付加反応させ
ることにより硬化させる記載があるが、この脂環アルカ
ンがカチオン開環重合に対して極めて高い活性(硬化
性)を示すことは知られていなかった。
分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する脂環式ア
ルカンをカルボキシル基含有化合物と加熱付加反応させ
ることにより硬化させる記載があるが、この脂環アルカ
ンがカチオン開環重合に対して極めて高い活性(硬化
性)を示すことは知られていなかった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
事情に鑑みてなされたもので、活性エネルギー線の照射
および/または加熱で高い活性(速重合性、速硬化性)
を示すカチオン重合性組成物を提供することを課題とす
る。
事情に鑑みてなされたもので、活性エネルギー線の照射
および/または加熱で高い活性(速重合性、速硬化性)
を示すカチオン重合性組成物を提供することを課題とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
の解決について鋭意検討した結果、同一分子内にオキセ
タニル基とエポキシ基を有する脂環式アルカン(a)と
活性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチ
オン重合を開始させる化合物(b)を含む重合性組成物
が活性エネルギー線の照射および/または加熱によるカ
チオン開環重合において、高い活性(速重合性、速硬化
性)を示し、且つ、その重合物(硬化物)が良好な物性
を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。
の解決について鋭意検討した結果、同一分子内にオキセ
タニル基とエポキシ基を有する脂環式アルカン(a)と
活性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチ
オン重合を開始させる化合物(b)を含む重合性組成物
が活性エネルギー線の照射および/または加熱によるカ
チオン開環重合において、高い活性(速重合性、速硬化
性)を示し、且つ、その重合物(硬化物)が良好な物性
を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。
【0009】すなわち、本発明は以下の(1)〜(2
7)に示される重合性組成物、その組成物を重合して得
られる硬化物、および該硬化物の製造方法に関する。
7)に示される重合性組成物、その組成物を重合して得
られる硬化物、および該硬化物の製造方法に関する。
【0010】(1)同一分子内にオキセタニル基とエポ
キシ基を有する脂環式アルカン(a)および活性エネル
ギー線の照射および/または加熱によりカチオン重合を
開始させる化合物(b)を含むことを特徴とする重合性
組成物。
キシ基を有する脂環式アルカン(a)および活性エネル
ギー線の照射および/または加熱によりカチオン重合を
開始させる化合物(b)を含むことを特徴とする重合性
組成物。
【0011】(2)活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
が活性エネルギー線の照射および/または加熱により酸
を発生することでカチオン重合を開始させる化合物であ
る上記(1)に記載の重合性組成物。
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
が活性エネルギー線の照射および/または加熱により酸
を発生することでカチオン重合を開始させる化合物であ
る上記(1)に記載の重合性組成物。
【0012】(3)活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
がスルフォニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウ
ム塩の中から選ばれた1種以上である上記(1)または
(2)に記載の重合性組成物。
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
がスルフォニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウ
ム塩の中から選ばれた1種以上である上記(1)または
(2)に記載の重合性組成物。
【0013】(4)同一分子内にオキセタニル基とエポ
キシ基を有する脂環式アルカン(a)が一般式(1)で
表される化合物である上記(1)ないし(3)のいずれ
かに記載の重合性組成物。
キシ基を有する脂環式アルカン(a)が一般式(1)で
表される化合物である上記(1)ないし(3)のいずれ
かに記載の重合性組成物。
【0014】
【化3】 (式中Rは水素原子またはメチル基であり、mは0〜2
の整数で、nはmが0の場合は2、それ以外は1であ
る)。
の整数で、nはmが0の場合は2、それ以外は1であ
る)。
【0015】(5)同一分子内にオキセタニル基とエポ
キシ基を有する脂環式アルカン(a)が7,8−エポキ
シ−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン
である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の重合
性組成物。
キシ基を有する脂環式アルカン(a)が7,8−エポキ
シ−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン
である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の重合
性組成物。
【0016】(6)活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
によってカチオン重合が可能であって、化合物(a)以
外の化合物(c)を含有する上記(1)ないし(5)の
いずれかに記載の重合性組成物。
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
によってカチオン重合が可能であって、化合物(a)以
外の化合物(c)を含有する上記(1)ないし(5)の
いずれかに記載の重合性組成物。
【0017】(7)化合物(c)の少なくとも1種が一
個以上のエポキシ基を有する化合物(c−1)である上
記(6)に記載の重合性組成物。
個以上のエポキシ基を有する化合物(c−1)である上
記(6)に記載の重合性組成物。
【0018】(8)化合物(c)の少なくとも1種が一
個以上のオキセタニル基を有する化合物(c−2)をで
ある上記(6)に記載の重合性組成物。
個以上のオキセタニル基を有する化合物(c−2)をで
ある上記(6)に記載の重合性組成物。
【0019】(9)同一分子内にオキセタニル基とエポ
キシ基を有する脂環式アルカン(a)の配合量が、重合
性組成物の総重量から活性エネルギー線の照射および/
または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)の重量を差し引いた重量に対して5〜100重量
%である上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の重
合性組成物。
キシ基を有する脂環式アルカン(a)の配合量が、重合
性組成物の総重量から活性エネルギー線の照射および/
または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)の重量を差し引いた重量に対して5〜100重量
%である上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の重
合性組成物。
【0020】(10)一個以上のエポキシ基を有する化
合物(c−1)の配合量が、重合性組成物の総重量から
活性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチ
オン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引いた
重量に対して5〜95重量%である上記(7)または
(9)に記載の重合性組成物。
合物(c−1)の配合量が、重合性組成物の総重量から
活性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチ
オン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引いた
重量に対して5〜95重量%である上記(7)または
(9)に記載の重合性組成物。
【0021】(11)一個以上のオキセタニル基を有す
る化合物(c−2)の配合量が、重合性組成物の総重量
から活性エネルギー線の照射および/または加熱により
カチオン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引
いた重量に対して5〜95重量%である上記(8)また
は(9)に記載の重合性組成物。
る化合物(c−2)の配合量が、重合性組成物の総重量
から活性エネルギー線の照射および/または加熱により
カチオン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引
いた重量に対して5〜95重量%である上記(8)また
は(9)に記載の重合性組成物。
【0022】(12)分子内にオキセタニル基とエポキ
シ基を有する脂環式アルカン(a)および活性エネルギ
ー線の照射および/または加熱によりカチオン重合を開
始させる化合物(b)を含む重合性組成物を重合して得
られることを特徴とする硬化物。
シ基を有する脂環式アルカン(a)および活性エネルギ
ー線の照射および/または加熱によりカチオン重合を開
始させる化合物(b)を含む重合性組成物を重合して得
られることを特徴とする硬化物。
【0023】(13)活性エネルギー線の照射および/
または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)が活性エネルギー線の照射および/または加熱に
より酸を発生することでカチオン重合を開始させる化合
物である上記(12)に記載の硬化物。
または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)が活性エネルギー線の照射および/または加熱に
より酸を発生することでカチオン重合を開始させる化合
物である上記(12)に記載の硬化物。
【0024】(14)活性エネルギー線の照射および/
または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)がスルフォニウム塩、ヨードニウム塩およびジア
ゾニウム塩の中から選ばれた1種以上である上記(1
2)または(13)に記載の硬化物。
または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)がスルフォニウム塩、ヨードニウム塩およびジア
ゾニウム塩の中から選ばれた1種以上である上記(1
2)または(13)に記載の硬化物。
【0025】(15)同一分子内にオキセタニル基とエ
ポキシ基を有する脂環式アルカン(a)が一般式(1)
で表される化合物である上記(12)ないし(14)の
いずれかに記載の硬化物。
ポキシ基を有する脂環式アルカン(a)が一般式(1)
で表される化合物である上記(12)ないし(14)の
いずれかに記載の硬化物。
【0026】
【化4】 (式中Rは水素原子またはメチル基であり、mは0〜2
の整数で、nはmが0の場合は2、それ以外は1であ
る)。
の整数で、nはmが0の場合は2、それ以外は1であ
る)。
【0027】(16)同一分子内にオキセタニル基とエ
ポキシ基を有する脂環式アルカン(a)が7,8−エポ
キシ−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナ
ンである上記(12)ないし(15)のいずれかに記載
の硬化物。
ポキシ基を有する脂環式アルカン(a)が7,8−エポ
キシ−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナ
ンである上記(12)ないし(15)のいずれかに記載
の硬化物。
【0028】(項17)活性エネルギー線の照射および
/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)によってカチオン重合が可能であって、化合物
(a)以外の化合物(c)を含有する上記(12)ない
し(16)のいずれかに記載の硬化物。
/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)によってカチオン重合が可能であって、化合物
(a)以外の化合物(c)を含有する上記(12)ない
し(16)のいずれかに記載の硬化物。
【0029】(18)化合物(c)の少なくとも1種が
一個以上のエポキシ基を有する化合物(c−1)である
上記(17)に記載の硬化物。
一個以上のエポキシ基を有する化合物(c−1)である
上記(17)に記載の硬化物。
【0030】(19)化合物(c)の少なくとも1種が
一個以上のオキセタニル基を有する化合物(c−2)で
ある上記(17)に記載の硬化物。
一個以上のオキセタニル基を有する化合物(c−2)で
ある上記(17)に記載の硬化物。
【0031】(20)同一分子内にオキセタニル基とエ
ポキシ基を有する脂環式アルカン(a)の配合量が、重
合性組成物の総重量から活性エネルギー線の照射および
/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)の重量を差し引いた重量に対して5〜100重量
%である上記(12)ないし(19)のいずれかに記載
の硬化物。
ポキシ基を有する脂環式アルカン(a)の配合量が、重
合性組成物の総重量から活性エネルギー線の照射および
/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)の重量を差し引いた重量に対して5〜100重量
%である上記(12)ないし(19)のいずれかに記載
の硬化物。
【0032】(21)一個以上のエポキシ基を有する化
合物(c−1)の配合量が、重合性組成物の総重量から
活性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチ
オン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引いた
重量に対して5〜95重量%である上記(18)または
(20)のいずれかに記載の硬化物。
合物(c−1)の配合量が、重合性組成物の総重量から
活性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチ
オン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引いた
重量に対して5〜95重量%である上記(18)または
(20)のいずれかに記載の硬化物。
【0033】(22)一個以上のオキセタニル基を有す
る化合物(c−2)の配合量が、重合性組成物の総重量
から活性エネルギー線の照射および/または加熱により
カチオン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引
いた重量に対して5〜95重量%である上記(19)な
いし(21)のいずれかに記載の硬化物。
る化合物(c−2)の配合量が、重合性組成物の総重量
から活性エネルギー線の照射および/または加熱により
カチオン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引
いた重量に対して5〜95重量%である上記(19)な
いし(21)のいずれかに記載の硬化物。
【0034】(23)活性エネルギー線の照射および/
または加熱により重合を開始させることを特徴とする、
同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する脂環
式アルカン(a)および、活性エネルギー線の照射およ
び/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)を含む重合性組成物から得られる硬化物の製造方
法。
または加熱により重合を開始させることを特徴とする、
同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する脂環
式アルカン(a)および、活性エネルギー線の照射およ
び/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)を含む重合性組成物から得られる硬化物の製造方
法。
【0035】(24)活性エネルギー線の照射により重
合を開始させる事を特徴とする上記(12)ないし(2
2)のいずれかに記載の硬化物の製造方法。
合を開始させる事を特徴とする上記(12)ないし(2
2)のいずれかに記載の硬化物の製造方法。
【0036】(25)加熱により重合を開始させる事を
特徴とする上記(12)ないし(22)のいずれかに記
載の硬化物の製造方法。
特徴とする上記(12)ないし(22)のいずれかに記
載の硬化物の製造方法。
【0037】(26)活性エネルギー線の照射による重
合開始に引き続いて加熱を行う事を特徴とする上記(1
2)ないし(22)のいずれかに記載の硬化物の製造方
法。
合開始に引き続いて加熱を行う事を特徴とする上記(1
2)ないし(22)のいずれかに記載の硬化物の製造方
法。
【0038】(27)活性エネルギー線が紫外線である
上記(24)または(26)に記載の製造方法。
上記(24)または(26)に記載の製造方法。
【0039】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。
する。
【0040】本発明は、同一分子内にオキセタニル基と
エポキシ基を有する脂環式アルカン(a)、活性エネル
ギー線の照射および/または加熱によりカチオン重合を
開始させる化合物(b)を含む重合性組成物、その重合
方法、およびその硬化物に関する。
エポキシ基を有する脂環式アルカン(a)、活性エネル
ギー線の照射および/または加熱によりカチオン重合を
開始させる化合物(b)を含む重合性組成物、その重合
方法、およびその硬化物に関する。
【0041】本発明において用いる同一分子内にオキセ
タニル基とエポキシ基を有する脂環式アルカン(a)と
しては以下のようなものが挙げられる。すなわち、7,
8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−[3.5]ス
ピロノナン、6,7−エポキシ−2−オキサ−[3.
5]スピロノナン、7,8−エポキシ−2−オキサ−5
−メチル−[3.6]スピロデカン、5,6−エポキシ
−2−オキサ−[3.6]スピロデカン、スピロ[5,
6−エポキシノルボルナン−2,3’−オキセタン]、
スピロ[5,6−エポキシ−3−メチルノルボルナン−
2,3’−オキセタン]等であり、好ましくは7,8−
エポキシ−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロ
ノナン、6,7−エポキシ−2−オキサ−[3.5]ス
ピロノナン、スピロ[5,6−エポキシノルボルナン−
2,3’−オキセタン]である。
タニル基とエポキシ基を有する脂環式アルカン(a)と
しては以下のようなものが挙げられる。すなわち、7,
8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−[3.5]ス
ピロノナン、6,7−エポキシ−2−オキサ−[3.
5]スピロノナン、7,8−エポキシ−2−オキサ−5
−メチル−[3.6]スピロデカン、5,6−エポキシ
−2−オキサ−[3.6]スピロデカン、スピロ[5,
6−エポキシノルボルナン−2,3’−オキセタン]、
スピロ[5,6−エポキシ−3−メチルノルボルナン−
2,3’−オキセタン]等であり、好ましくは7,8−
エポキシ−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロ
ノナン、6,7−エポキシ−2−オキサ−[3.5]ス
ピロノナン、スピロ[5,6−エポキシノルボルナン−
2,3’−オキセタン]である。
【0042】これらの同一分子内にオキセタニル基とエ
ポキシ基を有する脂環式アルカンは既知の方法で容易に
合成が可能であり、例えば米国特許3388105号等
に合成方法が記載されている。
ポキシ基を有する脂環式アルカンは既知の方法で容易に
合成が可能であり、例えば米国特許3388105号等
に合成方法が記載されている。
【0043】これら同一分子内にオキセタニル基とエポ
キシ基を有する脂環式アルカン(a)は、単独で、また
は2種以上の混合物として使用できる。
キシ基を有する脂環式アルカン(a)は、単独で、また
は2種以上の混合物として使用できる。
【0044】化合物(a)の配合量(2種以上を併用す
る場合はそれらの合計量)は本発明における重合性組成
物の総重量から活性エネルギー線の照射および/または
加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)の重
量を差し引いた重量に対して5〜100重量%が好適で
ある。
る場合はそれらの合計量)は本発明における重合性組成
物の総重量から活性エネルギー線の照射および/または
加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)の重
量を差し引いた重量に対して5〜100重量%が好適で
ある。
【0045】本発明でいう活性エネルギー線の照射およ
び/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)は、加熱や紫外線などの活性エネルギー線の照射
によって変化し、酸などのカチオン重合を開始させる物
質を生成する化合物とすることができる。従って、化合
物(b)は一種のカチオン重合開始剤であり、当業界で
は「酸発生剤」とも呼ばれている。以降、本発明では化
合物(b)を酸発生型カチオン重合開始剤と称する。
び/または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物
(b)は、加熱や紫外線などの活性エネルギー線の照射
によって変化し、酸などのカチオン重合を開始させる物
質を生成する化合物とすることができる。従って、化合
物(b)は一種のカチオン重合開始剤であり、当業界で
は「酸発生剤」とも呼ばれている。以降、本発明では化
合物(b)を酸発生型カチオン重合開始剤と称する。
【0046】酸発生型カチオン重合開始剤は、加熱また
は紫外線などの光照射によって本発明の同一分子内にオ
キセタニル基とエポキシ基を有する脂環式アルカン
(a)の両基の開環カチオン重合を促進し、形成される
硬化物や塗膜の硬化を円滑に進行させるために配合され
るものである。
は紫外線などの光照射によって本発明の同一分子内にオ
キセタニル基とエポキシ基を有する脂環式アルカン
(a)の両基の開環カチオン重合を促進し、形成される
硬化物や塗膜の硬化を円滑に進行させるために配合され
るものである。
【0047】また、本発明で言う酸発生型カチオン重合
開始剤は加熱や紫外線などの活性エネルギー線の照射に
よって変化し、酸などのカチオン重合を開始させる物質
を生成する化合物であり、カルボン酸のように最初から
酸の形をとっている化合物は含まれない。
開始剤は加熱や紫外線などの活性エネルギー線の照射に
よって変化し、酸などのカチオン重合を開始させる物質
を生成する化合物であり、カルボン酸のように最初から
酸の形をとっている化合物は含まれない。
【0048】酸発生型カチオン重合開始剤としては公知
のスルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、
ジアゾニウム塩、アンモニウム塩およびフェロセン類等
が挙げられる。以下に具体的に例示するが、これらの化
合物に限定されるものではない。
のスルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、
ジアゾニウム塩、アンモニウム塩およびフェロセン類等
が挙げられる。以下に具体的に例示するが、これらの化
合物に限定されるものではない。
【0049】スルホニウム塩系の酸発生型カチオン重合
開始剤としては、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)
フェニル]スルフィド ビスヘキサフルオロホスフェー
ト、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]ス
ルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス
[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド
ビステトラフルオロボレート、ビス[4−(ジフェニル
スルホニオ)フェニル]スルフィド テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル−4−(フ
ェニルチオ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロホ
スフェート、ジフェニル−4−(フェニルチオ)フェニ
ルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフ
ェニル−4−(フェニルチオ)フェニルスルホニウムテ
トラフルオロボレート、ジフェニル−4−(フェニルチ
オ)フェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウ
ムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウム
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス
[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエトキシ))フェニ
ルスルホニオ)フェニル]スルフィド ビスヘキサフル
オロホスフェート、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロ
キシエトキシ))フェニルスルホニオ)フェニル]スル
フィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4
−(ジ(4−(2−ヒドロキシエトキシ))フェニルス
ルホニオ)フェニル]スルフィド ビステトラフルオロ
ボレート、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエト
キシ))フェニルスルホニオ)フェニル]スルフィドテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、などが
挙げられる。
開始剤としては、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)
フェニル]スルフィド ビスヘキサフルオロホスフェー
ト、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]ス
ルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス
[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド
ビステトラフルオロボレート、ビス[4−(ジフェニル
スルホニオ)フェニル]スルフィド テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル−4−(フ
ェニルチオ)フェニルスルホニウム ヘキサフルオロホ
スフェート、ジフェニル−4−(フェニルチオ)フェニ
ルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフ
ェニル−4−(フェニルチオ)フェニルスルホニウムテ
トラフルオロボレート、ジフェニル−4−(フェニルチ
オ)フェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウ
ムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウム
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス
[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエトキシ))フェニ
ルスルホニオ)フェニル]スルフィド ビスヘキサフル
オロホスフェート、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロ
キシエトキシ))フェニルスルホニオ)フェニル]スル
フィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4
−(ジ(4−(2−ヒドロキシエトキシ))フェニルス
ルホニオ)フェニル]スルフィド ビステトラフルオロ
ボレート、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエト
キシ))フェニルスルホニオ)フェニル]スルフィドテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、などが
挙げられる。
【0050】ヨードニウム塩系の酸発生型カチオン重合
開始剤としては、ジフェニルヨードニウム ヘキサフル
オロホスフェート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テト
ラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(ドデ
シルフェニル)ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェ
ート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨ
ードニウム テトラフルオロボレート、ビス(ドデシル
フェニル)ヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート、4−メチルフェニル−4−(1−
メチルエチル)フェニルヨードニウム ヘキサフルオロ
ホスフェート、4−メチルフェニル−4−(1−メチル
エチル)フェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチ
モネート、4−メチルフェニル−4−(1−メチルエチ
ル)フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4
−メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニル
ヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート、などが挙げられる。
開始剤としては、ジフェニルヨードニウム ヘキサフル
オロホスフェート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テト
ラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(ドデ
シルフェニル)ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェ
ート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウム ヘキサ
フルオロアンチモネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨ
ードニウム テトラフルオロボレート、ビス(ドデシル
フェニル)ヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート、4−メチルフェニル−4−(1−
メチルエチル)フェニルヨードニウム ヘキサフルオロ
ホスフェート、4−メチルフェニル−4−(1−メチル
エチル)フェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチ
モネート、4−メチルフェニル−4−(1−メチルエチ
ル)フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4
−メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニル
ヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート、などが挙げられる。
【0051】ジアゾニウム塩系の酸発生型カチオン重合
開始剤としては、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオ
ロホスフェート、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、フェニルジアゾニウム テトラフル
オロボレート、フェニルジアゾニウム テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレート、などが挙げられる。
開始剤としては、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオ
ロホスフェート、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、フェニルジアゾニウム テトラフル
オロボレート、フェニルジアゾニウム テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレート、などが挙げられる。
【0052】アンモニウム塩系の酸発生型カチオン重合
開始剤としては、1−ベンジル−2−シアノピリジニウ
ム ヘキサフルオロホスフェート、1−ベンジル−2−
シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
1−ベンジル−2−シアノピリジニウム テトラフルオ
ロボレート、1−ベンジル−2−シアノピリジニウムテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、1−
(ナフチルメチル)−2−シアノピリジニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、1−(ナフチルメチル)−2−
シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
1−(ナフチルメチル)−2−シアノピリジニウム テ
トラフルオロボレート、1−(ナフチルメチル)−2−
シアノピリジニウム テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート、などが挙げられる。
開始剤としては、1−ベンジル−2−シアノピリジニウ
ム ヘキサフルオロホスフェート、1−ベンジル−2−
シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
1−ベンジル−2−シアノピリジニウム テトラフルオ
ロボレート、1−ベンジル−2−シアノピリジニウムテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、1−
(ナフチルメチル)−2−シアノピリジニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、1−(ナフチルメチル)−2−
シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
1−(ナフチルメチル)−2−シアノピリジニウム テ
トラフルオロボレート、1−(ナフチルメチル)−2−
シアノピリジニウム テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート、などが挙げられる。
【0053】フェロセン系の酸発生型カチオン重合開始
剤としては、(2,4−シクロペンタジエン−1−イ
ル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−Fe(II)ヘ
キサフルオロホスフェート、(2,4−シクロペンタジ
エン−1−イル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−
Fe(II)ヘキサフルオロアンチモネート、2,4−シ
クロペンタジエン−1−イル)[(1−メチルエチル)
ベンゼン]−Fe(II)テトラフルオロボレート、2,
4−シクロペンタジエン−1−イル)[(1−メチルエ
チル)ベンゼン]−Fe(II)テトラキス(ペンタフル
オロフェニル)ボレート、などが挙げられるが特にこれ
らに限定されない。
剤としては、(2,4−シクロペンタジエン−1−イ
ル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−Fe(II)ヘ
キサフルオロホスフェート、(2,4−シクロペンタジ
エン−1−イル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−
Fe(II)ヘキサフルオロアンチモネート、2,4−シ
クロペンタジエン−1−イル)[(1−メチルエチル)
ベンゼン]−Fe(II)テトラフルオロボレート、2,
4−シクロペンタジエン−1−イル)[(1−メチルエ
チル)ベンゼン]−Fe(II)テトラキス(ペンタフル
オロフェニル)ボレート、などが挙げられるが特にこれ
らに限定されない。
【0054】この中でもスルホニウム塩とヨードニウム
塩系の酸発生型カチオン重合開始剤が硬化速度、安定
性、経済性の面から好ましい。市販品としては、例え
ば、旭電化工業株式会社製SP−150、SP−17
0、CP−66、CP−77;ユニオンカーバイド株式
会社製CYRACURE−UVI−6990、UVI−
6974;日本曹達株式会社製CI−2855、CI−
2639;三新化学工業 (株)製サンエイドSI−6
0;「イルガキュア261」(チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ社製(2,4−シクロペンタジエン−1−イ
ル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−Fe(II)ヘ
キサフルオロホスフェート)、「ロードシル(RHOD
ORSIL)2074」;(ローヌ・プーラン社製4−
メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨ
ードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボ
レート)、が挙げられる。
塩系の酸発生型カチオン重合開始剤が硬化速度、安定
性、経済性の面から好ましい。市販品としては、例え
ば、旭電化工業株式会社製SP−150、SP−17
0、CP−66、CP−77;ユニオンカーバイド株式
会社製CYRACURE−UVI−6990、UVI−
6974;日本曹達株式会社製CI−2855、CI−
2639;三新化学工業 (株)製サンエイドSI−6
0;「イルガキュア261」(チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ社製(2,4−シクロペンタジエン−1−イ
ル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−Fe(II)ヘ
キサフルオロホスフェート)、「ロードシル(RHOD
ORSIL)2074」;(ローヌ・プーラン社製4−
メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨ
ードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボ
レート)、が挙げられる。
【0055】これら酸発生型カチオン重合開始剤は、上
述した材料の中から選択し、単独で使用することもで
き、2種類以上を組み合わせて使用することもできる。
酸発生型カチオン重合開始剤の使用量の好適な範囲は、
特に制限がないが、活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
によってカチオン重合が可能である重合性化合物(即
ち、同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する
脂環式アルカン(a)と化合物(c))の総量(100
質量部)に対して0.05〜25質量部、好ましくは1
〜10質量部である。添加量が0.05質量部より少な
いと感度不良となり硬化するために著しく大きな光照射
エネルギーや長時間の高温処理が必要である。また、2
5質量部を超えて添加しても感度の向上はせず、経済的
にも好ましくない。逆に塗膜中に未硬化成分として残存
する量が多くなり硬化物性が低下する恐れがある。
述した材料の中から選択し、単独で使用することもで
き、2種類以上を組み合わせて使用することもできる。
酸発生型カチオン重合開始剤の使用量の好適な範囲は、
特に制限がないが、活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
によってカチオン重合が可能である重合性化合物(即
ち、同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する
脂環式アルカン(a)と化合物(c))の総量(100
質量部)に対して0.05〜25質量部、好ましくは1
〜10質量部である。添加量が0.05質量部より少な
いと感度不良となり硬化するために著しく大きな光照射
エネルギーや長時間の高温処理が必要である。また、2
5質量部を超えて添加しても感度の向上はせず、経済的
にも好ましくない。逆に塗膜中に未硬化成分として残存
する量が多くなり硬化物性が低下する恐れがある。
【0056】本発明において用いるエポキシ基を有する
化合物(c−1)としては、公知慣用のエポキシ化合物
が使用でき、1分子中に1個以上のエポキシ基を有する
ものであれば特に限定されない。
化合物(c−1)としては、公知慣用のエポキシ化合物
が使用でき、1分子中に1個以上のエポキシ基を有する
ものであれば特に限定されない。
【0057】具体的には、ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、
ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノー
ルFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジ
グリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビ
スフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノ
ールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジ
グリシジルエーテル、クレゾールノボラックエポキシ樹
脂、トリグリシジルイソシアヌレート等を用いることが
できる。
ルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、
ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノー
ルFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジ
グリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビ
スフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノ
ールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジ
グリシジルエーテル、クレゾールノボラックエポキシ樹
脂、トリグリシジルイソシアヌレート等を用いることが
できる。
【0058】また、脂環族エポキシ化合物として、
(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3’,
4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−
3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)ア
ジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−ビニ
ルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4
−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−
エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレー
ト、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサ
ン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレン
グリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート)が挙げられる。
(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3’,
4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−
3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)ア
ジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−ビニ
ルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4
−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−
エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレー
ト、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサ
ン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレン
グリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート)が挙げられる。
【0059】更にエポキシヘキサヒドロフタル酸ジオク
チル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘ
キシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1
種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加するこ
とにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシ
ジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエ
ーテル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエー
テル類;ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、クレゾルグリシジルエーテル、ノニルフェ
ニルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート;
フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれ
らにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエー
テルアルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪
酸のグリシジルエステル類;エポキシ化大豆油;エポキ
システアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチ
ル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエン等
を挙げることができる。
チル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘ
キシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1
種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加するこ
とにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシ
ジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエ
ーテル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエー
テル類;ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、クレゾルグリシジルエーテル、ノニルフェ
ニルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート;
フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれ
らにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエー
テルアルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪
酸のグリシジルエステル類;エポキシ化大豆油;エポキ
システアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチ
ル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエン等
を挙げることができる。
【0060】これら分子内に1個以上のエポキシ基を有
する化合物(c−1)は単独でまたは2種以上混合して
使用することができる。
する化合物(c−1)は単独でまたは2種以上混合して
使用することができる。
【0061】化合物(c−1)の配合量(2種以上を併
用する場合はそれらの合計量)は本発明における重合性
組成物の総重量から活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
の重量を差し引いた重量に対して5〜95重量%とする
ことができる。
用する場合はそれらの合計量)は本発明における重合性
組成物の総重量から活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
の重量を差し引いた重量に対して5〜95重量%とする
ことができる。
【0062】次に、分子内に1個以上のオキセタニル基
を有する化合物(c−2)について説明する。この1個
以上のオキセタニル基を有する化合物(c−2)の使用
目的は、重合組成物全体の粘度を使用目体に合わせる
事、およびオキセタン化合物によると考えられている耐
水性や硬化収縮の低減の効果を付与する事である。
を有する化合物(c−2)について説明する。この1個
以上のオキセタニル基を有する化合物(c−2)の使用
目的は、重合組成物全体の粘度を使用目体に合わせる
事、およびオキセタン化合物によると考えられている耐
水性や硬化収縮の低減の効果を付与する事である。
【0063】具体的化合物としては、トリメチレンオキ
シド、3,3−ジメチルオキセタン、3,3−ジクロル
メチルオキセタン、3−エチル−3−フェノキシメチル
オキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセ
タン(東亞合成株式会社製;商品名EOXA)、ビス
〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
ベンゼン(別名キシリレンジオキセタン;東亞合成株式
会社製;商品名XDO)、トリ〔(3−エチル−3−オ
キセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、ビス〔(3−
エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルフェニル〕
エーテル、(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)
オリゴジメチルシロキサンや、高分子量の多価オキセタ
ン環を有する化合物、具体的にはオキセタンオリゴマー
(東亞合成株式会社製;商品名Oligo−OXT)等
が挙げられる。
シド、3,3−ジメチルオキセタン、3,3−ジクロル
メチルオキセタン、3−エチル−3−フェノキシメチル
オキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセ
タン(東亞合成株式会社製;商品名EOXA)、ビス
〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
ベンゼン(別名キシリレンジオキセタン;東亞合成株式
会社製;商品名XDO)、トリ〔(3−エチル−3−オ
キセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、ビス〔(3−
エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルフェニル〕
エーテル、(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)
オリゴジメチルシロキサンや、高分子量の多価オキセタ
ン環を有する化合物、具体的にはオキセタンオリゴマー
(東亞合成株式会社製;商品名Oligo−OXT)等
が挙げられる。
【0064】また、オキセタン環以外にも同一化合物内
に脂環構造を有するものとしては、2−オキサスピロ
[3.5]ノナン、7−メチル−2−オキサスピロ
[3.5]ノナン、スピロ[アダマンタン−2,3’−
オキセタン]、スピロ[ビシクロ[2.2.1]ヘプタ
ン−2,3’−オキセタン]、スピロ[ビシクロ[2.
2.2]オクタン−2,3’−オキセタン]、スピロ
[7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,
3’−オキセタン]、2−オキサスピロ[3.5]ノナ
−6−エン、5−メチル−2−オキサスピロ[3.5]
ノナ−6−エン、スピロ[ビシクロ[2.2.1]ヘプ
タ−5−エン−2,3’−オキセタン]、スピロ[3−
メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,
3’−オキセタン]、5−メチル−2−オキサスピロ
[3.5]ノナン、スピロ[3−メチルビシクロ[2.
2.1]ヘプタン−2,3’−オキセタン]が挙げられ
る。
に脂環構造を有するものとしては、2−オキサスピロ
[3.5]ノナン、7−メチル−2−オキサスピロ
[3.5]ノナン、スピロ[アダマンタン−2,3’−
オキセタン]、スピロ[ビシクロ[2.2.1]ヘプタ
ン−2,3’−オキセタン]、スピロ[ビシクロ[2.
2.2]オクタン−2,3’−オキセタン]、スピロ
[7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,
3’−オキセタン]、2−オキサスピロ[3.5]ノナ
−6−エン、5−メチル−2−オキサスピロ[3.5]
ノナ−6−エン、スピロ[ビシクロ[2.2.1]ヘプ
タ−5−エン−2,3’−オキセタン]、スピロ[3−
メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン−2,
3’−オキセタン]、5−メチル−2−オキサスピロ
[3.5]ノナン、スピロ[3−メチルビシクロ[2.
2.1]ヘプタン−2,3’−オキセタン]が挙げられ
る。
【0065】これら1個以上のオキセタニル基を有する
化合物(c−2)は、単独で、または2種以上の混合物
として使用できる。
化合物(c−2)は、単独で、または2種以上の混合物
として使用できる。
【0066】化合物(c−2)の配合量(2種以上を併
用する場合はそれらの合計量)は本発明における重合性
組成物の総重量から活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
の重量を差し引いた重量に対して5〜95重量%とする
ことができる。
用する場合はそれらの合計量)は本発明における重合性
組成物の総重量から活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
の重量を差し引いた重量に対して5〜95重量%とする
ことができる。
【0067】本発明においては以下に示すカチオン重合
性モノマーも重合性組成物に添加することができる。こ
のカチオン重合性モノマーは酸発生型カチオン重合開始
剤の発生した酸により重合反応や架橋反応を起こす化合
物(c)であって(c−1)、(c−2)以外である化
合物に分類される。例えばテトラヒドロフラン、2,3
−ジメチルテトラヒドロフラン等のオキソラン化合物;
トリオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,6−ト
リオキサンシクロオクタン等の環状アセタール化合物;
β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン等の環状ラ
クトン化合物;エチレンスルフィド、1,2−プロピレ
ンスルフィド、チオエピクロロヒドリン等のチイラン化
合物;3,3−ジメチルチエタン等のチエタン化合物;
エチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレング
リコルジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリ
ビニルエーテル等のビニルエーテル化合物;エポキシ化
合物とラクトンとの反応生成物であるスピロオルソエス
テル化合物;ビニルシクロヘキサン、イソブチレン、ポ
リブタジエン等のエチレン性不飽和化合物;環状エーテ
ル化合物;環状チオエーテル化合物;ビニル化合物等を
挙げることができる。
性モノマーも重合性組成物に添加することができる。こ
のカチオン重合性モノマーは酸発生型カチオン重合開始
剤の発生した酸により重合反応や架橋反応を起こす化合
物(c)であって(c−1)、(c−2)以外である化
合物に分類される。例えばテトラヒドロフラン、2,3
−ジメチルテトラヒドロフラン等のオキソラン化合物;
トリオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,6−ト
リオキサンシクロオクタン等の環状アセタール化合物;
β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン等の環状ラ
クトン化合物;エチレンスルフィド、1,2−プロピレ
ンスルフィド、チオエピクロロヒドリン等のチイラン化
合物;3,3−ジメチルチエタン等のチエタン化合物;
エチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレング
リコルジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリ
ビニルエーテル等のビニルエーテル化合物;エポキシ化
合物とラクトンとの反応生成物であるスピロオルソエス
テル化合物;ビニルシクロヘキサン、イソブチレン、ポ
リブタジエン等のエチレン性不飽和化合物;環状エーテ
ル化合物;環状チオエーテル化合物;ビニル化合物等を
挙げることができる。
【0068】これらのカチオン重合性モノマーは1種を
単独を添加することもできるし、あるいは2種以上を組
み合わせて添加することもできる。
単独を添加することもできるし、あるいは2種以上を組
み合わせて添加することもできる。
【0069】本発明の重合性組成物を活性エネルギー線
のひとつである紫外線で重合させる際は、重合速度を向
上させるために、増感剤を使用することもできる。その
ような目的で使用する増感剤としては、ピレン、ペリレ
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジメチ
ルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、
フェノチアジンなどが挙げられる。増感剤を併用する場
合の使用量は、光酸発生型カチオン重合開始剤100質
量部に対して、0.1〜100質量部の範囲が好まし
い。
のひとつである紫外線で重合させる際は、重合速度を向
上させるために、増感剤を使用することもできる。その
ような目的で使用する増感剤としては、ピレン、ペリレ
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジメチ
ルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、
フェノチアジンなどが挙げられる。増感剤を併用する場
合の使用量は、光酸発生型カチオン重合開始剤100質
量部に対して、0.1〜100質量部の範囲が好まし
い。
【0070】本発明の重合性組成物は有機溶剤を含むこ
ともできる。有機溶剤の使用目的は、用途、塗布方法に
合わせた粘度の調整や、前記重合性組成物が固体の場合
は溶解し、希釈せしめ、それによって重合性組成物を液
状として塗布可能とすることである。使用可能な有機溶
剤として具体的にはアセトン、ヘキサン、酢酸エチル、
ジエチルエーテル、エチルメチルケトン、シクロヘキサ
ン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、テトラ
メチルベンゼン、石油エーテル、石油ナフサ、ソルベン
トナフサ等の公知の溶剤類;エチレングリコールモノア
ルキルエーテルまたはそのアセテート類;ジエチレング
リコールモノまたはジアルキルエーテル類;プロピレン
グリコールモノアルキルエーテルまたはそのアセテート
類;ジプロピレングリコールモノまたはジアルキルエー
テル類;メチルカルビトール、ブチルカルビトール、ブ
チルセルソルブアセテート、カルビトールアセテート等
が挙げられる。
ともできる。有機溶剤の使用目的は、用途、塗布方法に
合わせた粘度の調整や、前記重合性組成物が固体の場合
は溶解し、希釈せしめ、それによって重合性組成物を液
状として塗布可能とすることである。使用可能な有機溶
剤として具体的にはアセトン、ヘキサン、酢酸エチル、
ジエチルエーテル、エチルメチルケトン、シクロヘキサ
ン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、テトラ
メチルベンゼン、石油エーテル、石油ナフサ、ソルベン
トナフサ等の公知の溶剤類;エチレングリコールモノア
ルキルエーテルまたはそのアセテート類;ジエチレング
リコールモノまたはジアルキルエーテル類;プロピレン
グリコールモノアルキルエーテルまたはそのアセテート
類;ジプロピレングリコールモノまたはジアルキルエー
テル類;メチルカルビトール、ブチルカルビトール、ブ
チルセルソルブアセテート、カルビトールアセテート等
が挙げられる。
【0071】これらの有機溶媒はを単独でまたは2種以
上を組合せて用いることができる。またこれら有機溶剤
の添加量は、使用目的、塗布方法に応じて適宜選択でき
る。
上を組合せて用いることができる。またこれら有機溶剤
の添加量は、使用目的、塗布方法に応じて適宜選択でき
る。
【0072】本発明の重合性組成物は、密着性、硬度な
どを要求する用途に使用する場合、諸特性を向上する目
的で、必要に応じて、硫酸バリウム、チタン酸バリウ
ム、酸化ケイ素粉、微粉酸化ケイ素、無定形シリカ、タ
ルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸
化アルミニウム、水酸化アルミニウム、雲母粉等の公知
慣用の無機充填剤が使用できる。 さらに必要に応じ
て、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニングリー
ン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリス
タルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナ
フタレンブラック等の公知慣用の着色剤;シリコーン
系、フッ素系、高分子系等の消泡剤および/またはレベ
リング剤;イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾー
ル系、シランカップリング剤等の密着性付与剤のような
公知慣用の添加剤類を添加することも可能である。
どを要求する用途に使用する場合、諸特性を向上する目
的で、必要に応じて、硫酸バリウム、チタン酸バリウ
ム、酸化ケイ素粉、微粉酸化ケイ素、無定形シリカ、タ
ルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸
化アルミニウム、水酸化アルミニウム、雲母粉等の公知
慣用の無機充填剤が使用できる。 さらに必要に応じ
て、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニングリー
ン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリス
タルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナ
フタレンブラック等の公知慣用の着色剤;シリコーン
系、フッ素系、高分子系等の消泡剤および/またはレベ
リング剤;イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾー
ル系、シランカップリング剤等の密着性付与剤のような
公知慣用の添加剤類を添加することも可能である。
【0073】○本発明重合性組成物の重合方法 本発明における重合性組成物は活性エネルギー線の照射
および/または加熱によって重合(硬化)させることが
できる。ここでいう活性エネルギー線とは、紫外線、X
線、電子線、γ線等を示す。紫外線を照射する場合の光
源としてはメタルハライドランプ、水銀アークランプ、
キセノンアークランプ、蛍光ランプ、炭素アークラン
プ、タングステン−ハロゲン複写ランプ、および太陽光
等を挙げられる。
および/または加熱によって重合(硬化)させることが
できる。ここでいう活性エネルギー線とは、紫外線、X
線、電子線、γ線等を示す。紫外線を照射する場合の光
源としてはメタルハライドランプ、水銀アークランプ、
キセノンアークランプ、蛍光ランプ、炭素アークラン
プ、タングステン−ハロゲン複写ランプ、および太陽光
等を挙げられる。
【0074】活性エネルギー線の照射により重合(硬
化)させる場合の照射条件は、重合性組成物(硬化させ
る物)の膜厚、顔料等の配合による光透過性に合わせて
適宜選択すればよい。紫外線照射の場合、20μm程度
の塗膜を硬化させる場合には線量が1〜2000mJ/
cm2あればよく、好ましくは10〜1000mJ/c
m2である。また硬化させようとする物が溶剤を含有す
るときには加熱等により溶剤を除去した後、光照射する
ことができる。
化)させる場合の照射条件は、重合性組成物(硬化させ
る物)の膜厚、顔料等の配合による光透過性に合わせて
適宜選択すればよい。紫外線照射の場合、20μm程度
の塗膜を硬化させる場合には線量が1〜2000mJ/
cm2あればよく、好ましくは10〜1000mJ/c
m2である。また硬化させようとする物が溶剤を含有す
るときには加熱等により溶剤を除去した後、光照射する
ことができる。
【0075】熱により重合(硬化)させる場合の条件は
通常、50℃〜400℃程度で5秒〜60分間、好まし
くは80℃〜250℃程度で10秒〜30分間である。
通常、50℃〜400℃程度で5秒〜60分間、好まし
くは80℃〜250℃程度で10秒〜30分間である。
【0076】また、活性エネルギー線照射後、必要に応
じて硬化物を加熱することもできる。この後加熱によっ
て硬化物中の未反応物の低減および活性エネルギー線照
射によって硬化物に発生した硬化歪みの緩和を行うこと
ができる。その結果、硬化物の硬度や、塗膜である場合
は塗布された基材との密着性が向上する。この後加熱は
通常、80℃〜300℃の雰囲気温度で5秒〜30分間
の条件で行うことができる。
じて硬化物を加熱することもできる。この後加熱によっ
て硬化物中の未反応物の低減および活性エネルギー線照
射によって硬化物に発生した硬化歪みの緩和を行うこと
ができる。その結果、硬化物の硬度や、塗膜である場合
は塗布された基材との密着性が向上する。この後加熱は
通常、80℃〜300℃の雰囲気温度で5秒〜30分間
の条件で行うことができる。
【0077】本発明の重合性組成物は金属、ゴム、プラ
スチック、紙、木材、ガラス、セラミック、およびコン
クリート等の基材に適用可能である。
スチック、紙、木材、ガラス、セラミック、およびコン
クリート等の基材に適用可能である。
【0078】本発明の感熱性樹脂組成物の用途として
は、塗料、接着剤、封止剤、土木建築材料、積層板およ
びその他の電気電子部品、フォトレジスト、ソルダーレ
ジスト、多層配線板用層間絶縁材料、コンクリート構造
物の補修、注型用材料、印刷インキ、シーラント、光造
形用材料等が挙げられる。
は、塗料、接着剤、封止剤、土木建築材料、積層板およ
びその他の電気電子部品、フォトレジスト、ソルダーレ
ジスト、多層配線板用層間絶縁材料、コンクリート構造
物の補修、注型用材料、印刷インキ、シーラント、光造
形用材料等が挙げられる。
【0079】
【実施例】以下に、実施例および比較例を挙げて本発明
をより具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの例
示に限定されるものではない。なお、実施例および比較
例の中の「部」は特に断わりの無い限り質量部である。
をより具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの例
示に限定されるものではない。なお、実施例および比較
例の中の「部」は特に断わりの無い限り質量部である。
【0080】なお、実施例および比較例で使用した材料
のうち、市販品は次の通りであり、精製することなく、
そのまま使用した。
のうち、市販品は次の通りであり、精製することなく、
そのまま使用した。
【0081】エピコート828:油化シェルエポキシ
(株)製ビスフェノールA型エポキシ樹脂、XDO:東
亞合成 (株)製 1,4−ビス〔(3−エチル−3−
オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、エピコート
152:油化シェルエポキシ(株)製 フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、KRM−2110:旭電化工
業 (株)製 脂環型ベースレジン、サンエイドSI−
60L:三新化学工業 (株)製、SbF6 -系スルフォ
ニウム塩カチオン重合開始剤、UVI−6990:UC
C社製、トリアリールスルフォニウム ヘキサフルオロ
フォスフェート塩系カチオン重合開始剤。
(株)製ビスフェノールA型エポキシ樹脂、XDO:東
亞合成 (株)製 1,4−ビス〔(3−エチル−3−
オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、エピコート
152:油化シェルエポキシ(株)製 フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、KRM−2110:旭電化工
業 (株)製 脂環型ベースレジン、サンエイドSI−
60L:三新化学工業 (株)製、SbF6 -系スルフォ
ニウム塩カチオン重合開始剤、UVI−6990:UC
C社製、トリアリールスルフォニウム ヘキサフルオロ
フォスフェート塩系カチオン重合開始剤。
【0082】市販されていない化合物は発明者が化学合
成したものを使用した。
成したものを使用した。
【0083】○重合性、硬化物物性の評価方法 重合性、硬化物物性の評価は反応転化率、表面硬度、硬
化物の鉛筆引っかき値を求め指標とした。具体的には、
以下の操作に従い値を求めた。
化物の鉛筆引っかき値を求め指標とした。具体的には、
以下の操作に従い値を求めた。
【0084】1)反応転化率 反応転化率は厚さ10μmになるようにシリコンウエハ
ー上に塗布した重合性組成物の重合前後の赤外吸収スペ
クトルの変化から計算した。
ー上に塗布した重合性組成物の重合前後の赤外吸収スペ
クトルの変化から計算した。
【0085】赤外吸収スペクトルの測定にはFTIR測
定装置(日本分光 (株)製フーリエ変換赤外分光光度
計VALOR−III型)を用い、透過法で測定した。
定装置(日本分光 (株)製フーリエ変換赤外分光光度
計VALOR−III型)を用い、透過法で測定した。
【0086】反応転化率は赤外吸収スペクトル測定にお
けるオキセタニル基の特性吸収980cm-1、脂環式エ
ポキシ基の特性吸収789〜798cm-1、グリシジル
基の特性吸収773cm-1、の照射前後の特性吸収ピー
クの吸光度の変化量から次式に従って求めた。
けるオキセタニル基の特性吸収980cm-1、脂環式エ
ポキシ基の特性吸収789〜798cm-1、グリシジル
基の特性吸収773cm-1、の照射前後の特性吸収ピー
クの吸光度の変化量から次式に従って求めた。
【0087】転化率=(1−照射後の特性吸収ピーク吸
光度/照射前特性吸収ピーク吸光度)× 100
(%) (実施例6〜8では同一分子内に存在するオキセタニル
基とエポキシ基の反応転化率の平均を転化率とした。比
較例3〜8では、比較使用する材料の特性吸収(エピコ
ート828はグリシジル基、XDOはオキセタニル基、
KRM−2110は脂環式エポキシ基)のピークから転
化率を計算した。
光度/照射前特性吸収ピーク吸光度)× 100
(%) (実施例6〜8では同一分子内に存在するオキセタニル
基とエポキシ基の反応転化率の平均を転化率とした。比
較例3〜8では、比較使用する材料の特性吸収(エピコ
ート828はグリシジル基、XDOはオキセタニル基、
KRM−2110は脂環式エポキシ基)のピークから転
化率を計算した。
【0088】2)表面硬度 Colman社製硬質硬度計(GYZJ934−1)を
用い、硬化物の表面硬度を測定した。測定温度は23℃
である。
用い、硬化物の表面硬度を測定した。測定温度は23℃
である。
【0089】3)硬化物の鉛筆引っかき値 シリコンウエハー上の重合性組成物の硬化塗膜をJIS
K5400に従って測定した。
K5400に従って測定した。
【0090】○組成物の熱重合
【0091】(実施例1)7,8−エポキシ−2−オキ
サ−5−メチル−[3.5]スピロノナン100部に酸
発生型カチオン重合開始剤「サンエイドSI−60L;
三新化学工業 (株)製」を5部添加し、十分にかき混
ぜて熱重合性組成物を得る。2mm厚のガラス板上に直
径5cmにくり抜いた2mmのゴムスペーサーを置き、
熱重合組成物をくり抜かれている部分に注ぎ、空気が入
らないようにもう一枚のガラス板を貼り合わせたものを
用意した。同じ物を2ヶ用意し120℃のオーブンに静
置し、それぞれ10分、30分経過したところでオーブ
ンから取り出し直径5cm、厚さ2mmの硬化物を得
た。硬化物が室温に戻った後、23℃に温度調整し、硬
化時間10分および30分の硬化物の表面硬度を測定し
た。結果を表1に示す。
サ−5−メチル−[3.5]スピロノナン100部に酸
発生型カチオン重合開始剤「サンエイドSI−60L;
三新化学工業 (株)製」を5部添加し、十分にかき混
ぜて熱重合性組成物を得る。2mm厚のガラス板上に直
径5cmにくり抜いた2mmのゴムスペーサーを置き、
熱重合組成物をくり抜かれている部分に注ぎ、空気が入
らないようにもう一枚のガラス板を貼り合わせたものを
用意した。同じ物を2ヶ用意し120℃のオーブンに静
置し、それぞれ10分、30分経過したところでオーブ
ンから取り出し直径5cm、厚さ2mmの硬化物を得
た。硬化物が室温に戻った後、23℃に温度調整し、硬
化時間10分および30分の硬化物の表面硬度を測定し
た。結果を表1に示す。
【0092】(実施例2)実施例1の7,8−エポキシ
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナンの
代わりに6,7−エポキシ−2−オキサ−[3.5]ス
ピロノナンを使用する以外は全く同様の操作を行い硬化
物の表面硬度を測定した。結果を表1に示す。
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナンの
代わりに6,7−エポキシ−2−オキサ−[3.5]ス
ピロノナンを使用する以外は全く同様の操作を行い硬化
物の表面硬度を測定した。結果を表1に示す。
【0093】(実施例3)実施例1の7,8−エポキシ
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナンの
代わりにスピロ[5,6−エポキシノルボルナン−2,
3’−オキセタン]を使用する以外は全く同様の操作を
行い硬化物の表面硬度を測定した。結果を表1に示す。
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナンの
代わりにスピロ[5,6−エポキシノルボルナン−2,
3’−オキセタン]を使用する以外は全く同様の操作を
行い硬化物の表面硬度を測定した。結果を表1に示す。
【0094】(実施例4)実施例1の7,8−エポキシ
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン90部とエピコート828(油
化シェルエポキシ (株)製)10部の混合物とした以
外は実施例1と全く同様の操作を行い硬化物の表面硬度
を測定した。結果を表1に示す。
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン90部とエピコート828(油
化シェルエポキシ (株)製)10部の混合物とした以
外は実施例1と全く同様の操作を行い硬化物の表面硬度
を測定した。結果を表1に示す。
【0095】(実施例5)実施例1の7,8−エポキシ
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン80部とエピコート828(油
化シェルエポキシ (株)製)10部と5−メチル−2
−オキサスピロ[3.5]ノナン10部の混合物とした
以外は実施例1と全く同様の操作を行い硬化物の表面硬
度を測定した。結果を表1に示す。
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン80部とエピコート828(油
化シェルエポキシ (株)製)10部と5−メチル−2
−オキサスピロ[3.5]ノナン10部の混合物とした
以外は実施例1と全く同様の操作を行い硬化物の表面硬
度を測定した。結果を表1に示す。
【0096】(実施例6)実施例1の7,8−エポキシ
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン10部とエピコート152(油
化シェルエポキシ (株)製)90部の混合物とした以
外は実施例1と全く同様の操作を行い硬化物の表面硬度
を測定した。結果を表1に示す。
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン10部とエピコート152(油
化シェルエポキシ (株)製)90部の混合物とした以
外は実施例1と全く同様の操作を行い硬化物の表面硬度
を測定した。結果を表1に示す。
【0097】(比較例1、2)熱重合組成物の構成成分
を表1に記載したものにする以外は実施例1と全く同様
の操作を行い硬化物の表面硬度を測定した。結果を表1
に示す。
を表1に記載したものにする以外は実施例1と全く同様
の操作を行い硬化物の表面硬度を測定した。結果を表1
に示す。
【0098】表1から明らかな通り、本発明の重合性組
成物である実施例1〜5は加熱10分程度でも最終硬度
に達しており、速やかに重合し、硬化することが言え
る。
成物である実施例1〜5は加熱10分程度でも最終硬度
に達しており、速やかに重合し、硬化することが言え
る。
【0099】また、実施例6と比較例2より、本発明の
分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する脂環式ア
ルカン(a)はエポキシ樹脂に10質量部程度配合する
事でエポキシ樹脂の硬化速度を向上させる事がわかる。
分子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する脂環式ア
ルカン(a)はエポキシ樹脂に10質量部程度配合する
事でエポキシ樹脂の硬化速度を向上させる事がわかる。
【0100】
【表1】
【0101】○組成物の光重合
【0102】(実施例7)7,8−エポキシ−2−オキ
サ−5−メチル−[3.5]スピロノナン100部に光
酸発生型カチオン重合開始剤「UVI−6990(ユニ
オンカーバイド (株)製)」を5部添加し十分にかき
混ぜ光重合性組成物を得た。
サ−5−メチル−[3.5]スピロノナン100部に光
酸発生型カチオン重合開始剤「UVI−6990(ユニ
オンカーバイド (株)製)」を5部添加し十分にかき
混ぜ光重合性組成物を得た。
【0103】次に厚さ10μmになるようにシリコンウ
エハー上に塗布し、1.45mW/cm2の高圧水銀ラ
ンプを10秒照射した時点と30秒照射した時点の反応
性基の転化率を求めた。
エハー上に塗布し、1.45mW/cm2の高圧水銀ラ
ンプを10秒照射した時点と30秒照射した時点の反応
性基の転化率を求めた。
【0104】また、前記3)の鉛筆引っかき値測定に従
い、30秒光照射して得られたシリコンウエハー上の硬
化後塗膜の鉛筆引っかき値測定した。結果を合わせて表
2に示す。
い、30秒光照射して得られたシリコンウエハー上の硬
化後塗膜の鉛筆引っかき値測定した。結果を合わせて表
2に示す。
【0105】(実施例8)実施例7の7,8−エポキシ
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン90部とエピコート828(油
化シェルエポキシ (株)製)10部の混合物とした以
外は実施例7と全く同様の操作を行い転化率、鉛筆引っ
かき値を測定した。結果を表2に示す。
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン90部とエピコート828(油
化シェルエポキシ (株)製)10部の混合物とした以
外は実施例7と全く同様の操作を行い転化率、鉛筆引っ
かき値を測定した。結果を表2に示す。
【0106】(実施例9)実施例7の7,8−エポキシ
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン50部とエピコート828(油
化シェルエポキシ (株)製)50部の混合物としたも
のを使用する以外は実施例7と全く同様の操作を行い転
化率、鉛筆引っかき値を測定した。結果を表2に示す。
−2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナン1
00部を7,8−エポキシ−2−オキサ−5−メチル−
[3.5]スピロノナン50部とエピコート828(油
化シェルエポキシ (株)製)50部の混合物としたも
のを使用する以外は実施例7と全く同様の操作を行い転
化率、鉛筆引っかき値を測定した。結果を表2に示す。
【0107】実施例7〜9の結果から、本発明の組成物
の構成要素として、同一分子内にオキセタニル基とエポ
キシ基を有する脂環式アルカンに、エポキシ化合物をブ
レンドすることにより一層オキセタニル基および脂環エ
ポキシ基の転化率が向上し、さらなる速硬化性を発現す
ることが証明された。
の構成要素として、同一分子内にオキセタニル基とエポ
キシ基を有する脂環式アルカンに、エポキシ化合物をブ
レンドすることにより一層オキセタニル基および脂環エ
ポキシ基の転化率が向上し、さらなる速硬化性を発現す
ることが証明された。
【0108】(比較例3〜5)光重合組成物の構成成分
を表2に記載したものにする以外は実施例7と全く同様
の操作を行い転化率、鉛筆引っかき値を測定した。結果
を同様に表2に示す。
を表2に記載したものにする以外は実施例7と全く同様
の操作を行い転化率、鉛筆引っかき値を測定した。結果
を同様に表2に示す。
【0109】表2から明らかな通り、本発明の重合性組
成物である実施例7〜9は比較例3〜5に比べ、光照射
後速やかに反応性基が減少、すなわち重合し、短時間で
重合硬化することがわかった。
成物である実施例7〜9は比較例3〜5に比べ、光照射
後速やかに反応性基が減少、すなわち重合し、短時間で
重合硬化することがわかった。
【0110】
【表2】
【0111】各表中の各実施例および比較例において、
使用した化合物は以下の通りである。 エピコート828:油化シェルエポキシ (株)製、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂 XDO :東亞合成 (株)製、1,4−ビス
〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
ベンゼン エピコート152:油化シェルエポキシ (株)製、フ
ェノール・ノボラック型エポキシ樹脂 KRM−2110:旭電化工業 (株)製、脂環型ベー
スレジン サンエイドSI−60L:三新化学工業 (株)製、S
bF6 -系スルフォニウム塩カチオン重合開始剤 UVI−6990:UCC社製、トリアリールスルフォ
ニウム ヘキサフルオロフォスフェート塩系カチオン重
合開始剤
使用した化合物は以下の通りである。 エピコート828:油化シェルエポキシ (株)製、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂 XDO :東亞合成 (株)製、1,4−ビス
〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
ベンゼン エピコート152:油化シェルエポキシ (株)製、フ
ェノール・ノボラック型エポキシ樹脂 KRM−2110:旭電化工業 (株)製、脂環型ベー
スレジン サンエイドSI−60L:三新化学工業 (株)製、S
bF6 -系スルフォニウム塩カチオン重合開始剤 UVI−6990:UCC社製、トリアリールスルフォ
ニウム ヘキサフルオロフォスフェート塩系カチオン重
合開始剤
【0112】
【発明の効果】本発明は、熱および/または活性エネル
ギー線の照射で高い活性(速硬化性)を示すカチオン重
合性組成物、その硬化物および硬化物の製造方法を提供
するものであり、熱に弱い紙やプラスチック等のコーテ
ィングを始め、塗料、接着剤、封止剤、土木建築材料、
積層板およびその他の電気電子部品、フォトレジスト、
ソルダーレジスト、多層配線板用層間絶縁材料、コンク
リート構造物の補修、注型用材料、印刷インキ、シーラ
ント、光造形用材料等の用途に使用することがでる。
ギー線の照射で高い活性(速硬化性)を示すカチオン重
合性組成物、その硬化物および硬化物の製造方法を提供
するものであり、熱に弱い紙やプラスチック等のコーテ
ィングを始め、塗料、接着剤、封止剤、土木建築材料、
積層板およびその他の電気電子部品、フォトレジスト、
ソルダーレジスト、多層配線板用層間絶縁材料、コンク
リート構造物の補修、注型用材料、印刷インキ、シーラ
ント、光造形用材料等の用途に使用することがでる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田越 宏孝 千葉県千葉市緑区大野台一丁目1番1号 昭和電工株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4J005 AA09 BB02 4J036 AA04 AB11 AC00 AD01 AD08 AG00 AG01 HA01 HA12 JA01 JA06 JA07 JA08 JA09 JA13
Claims (27)
- 【請求項1】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基
を有する脂環式アルカン(a)および活性エネルギー線
の照射および/または加熱によりカチオン重合を開始さ
せる化合物(b)を含むことを特徴とする重合性組成
物。 - 【請求項2】活性エネルギー線の照射および/または加
熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)が活性
エネルギー線の照射および/または加熱により酸を発生
することでカチオン重合を開始させる化合物である請求
項1に記載の重合性組成物。 - 【請求項3】活性エネルギー線の照射および/または加
熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)がスル
フォニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウム塩の
中から選ばれた1種以上である請求項1または2に記載
の重合性組成物。 - 【請求項4】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基
を有する脂環式アルカン(a)が一般式(1)で表され
る化合物である請求項1ないし3のいずれかに記載の重
合性組成物。 【化1】 (式中Rは水素原子またはメチル基であり、mは0〜2
の整数で、nはmが0の場合は2、それ以外は1であ
る)。 - 【請求項5】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基
を有する脂環式アルカン(a)が7,8−エポキシ−2
−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナンである
請求項1ないし4のいずれかに記載の重合性組成物。 - 【請求項6】活性エネルギー線の照射および/または加
熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)によっ
てカチオン重合が可能であって、化合物(a)以外の化
合物(c)を含有する請求項1ないし5のいずれかに記
載の重合性組成物。 - 【請求項7】化合物(c)の少なくとも1種が一個以上
のエポキシ基を有する化合物(c−1)である請求項6
に記載の重合性組成物。 - 【請求項8】化合物(c)の少なくとも1種が一個以上
のオキセタニル基を有する化合物(c−2)である請求
項6に記載の重合性組成物。 - 【請求項9】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ基
を有する脂環式アルカン(a)の配合量が、重合性組成
物の総重量から活性エネルギー線の照射および/または
加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)の重
量を差し引いた重量に対して5〜100重量%である請
求項1ないし8のいずれかに記載の重合性組成物。 - 【請求項10】一個以上のエポキシ基を有する化合物
(c−1)の配合量が、重合性組成物の総重量から活性
エネルギー線の照射および/または加熱によりカチオン
重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引いた重量
に対して5〜95重量%である請求項7または9に記載
の重合性組成物。 - 【請求項11】一個以上のオキセタニル基を有する化合
物(c−2)の配合量が、重合性組成物の総重量から活
性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチオ
ン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引いた重
量に対して5〜95重量%である請求項8または9に記
載の重合性組成物。 - 【請求項12】分子内にオキセタニル基とエポキシ基を
有する脂環式アルカン(a)および活性エネルギー線の
照射および/または加熱によりカチオン重合を開始させ
る化合物(b)を含む重合性組成物を重合して得られる
ことを特徴とする硬化物。 - 【請求項13】活性エネルギー線の照射および/または
加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)が活
性エネルギー線の照射および/または加熱により酸を発
生することでカチオン重合を開始させる化合物である請
求項12に記載の硬化物。 - 【請求項14】活性エネルギー線の照射および/または
加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)がス
ルフォニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウム塩
の中から選ばれた1種以上である請求項12または13
に記載の硬化物。 - 【請求項15】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ
基を有する脂環式アルカン(a)が一般式(1)で表さ
れる化合物である請求項12ないし14のいずれかに記
載の硬化物。 【化2】 (式中Rは水素原子またはメチル基であり、mは0〜2
の整数で、nはmが0の場合は2、それ以外は1であ
る)。 - 【請求項16】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ
基を有する脂環式アルカン(a)が7,8−エポキシ−
2−オキサ−5−メチル−[3.5]スピロノナンであ
る請求項12ないし15のいずれかに記載の硬化物。 - 【請求項17】活性エネルギー線の照射および/または
加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)によ
ってカチオン重合が可能であって、化合物(a)以外の
化合物(c)を含有する請求項12ないし16のいずれ
かに記載の硬化物。 - 【請求項18】化合物(c)の少なくとも1種が一個以
上のエポキシ基を有する化合物(c−1)である請求項
17に記載の硬化物。 - 【請求項19】化合物(c)の少なくとも1種が一個以
上のオキセタニル基を有する化合物(c−2)である請
求項17に記載の硬化物。 - 【請求項20】同一分子内にオキセタニル基とエポキシ
基を有する脂環式アルカン(a)の配合量が、重合性組
成物の総重量から活性エネルギー線の照射および/また
は加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)の
重量を差し引いた重量に対して5〜100重量%である
請求項12ないし19のいずれかに記載の硬化物。 - 【請求項21】一個以上のエポキシ基を有する化合物
(c−1)の配合量が、重合性組成物の総重量から活性
エネルギー線の照射および/または加熱によりカチオン
重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引いた重量
に対して5〜95重量%である請求項18または20の
いずれかに記載の硬化物。 - 【請求項22】一個以上のオキセタニル基を有する化合
物(c−2)の配合量が、重合性組成物の総重量から活
性エネルギー線の照射および/または加熱によりカチオ
ン重合を開始させる化合物(b)の重量を差し引いた重
量に対して5〜95重量%である請求項19ないし21
のいずれかに記載の硬化物。 - 【請求項23】活性エネルギー線の照射および/または
加熱により重合を開始させることを特徴とする、同一分
子内にオキセタニル基とエポキシ基を有する脂環式アル
カン(a)および、活性エネルギー線の照射および/ま
たは加熱によりカチオン重合を開始させる化合物(b)
を含む重合性組成物から得られる硬化物の製造方法。 - 【請求項24】活性エネルギー線の照射により重合を開
始させる事を特徴とする請求項12ないし22のいずれ
かに記載の硬化物の製造方法。 - 【請求項25】加熱により重合を開始させる事を特徴と
する請求項12ないし22のいずれかに記載の硬化物の
製造方法。 - 【請求項26】活性エネルギー線の照射による重合開始
に引き続いて加熱を行う事を特徴とする請求項12ない
し22のいずれかに記載の硬化物の製造方法。 - 【請求項27】活性エネルギー線が紫外線である請求項
24または26に記載の製造方法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000130472A JP2001310938A (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 重合性組成物、その硬化物と製造方法 |
AT01922067T ATE368701T1 (de) | 2000-04-28 | 2001-04-24 | Polymerisierbare zusammensetzung und gehärtetes harz daraus, verfahren zur seiner herstellung |
DE60129666T DE60129666T2 (de) | 2000-04-28 | 2001-04-24 | Polymerisierbare zusammensetzung und gehärtetes harz daraus, verfahren zur seiner herstellung |
EP01922067A EP1237983B1 (en) | 2000-04-28 | 2001-04-24 | Polymerizable composition, cured material thereof and method for manufacturing the same |
US10/019,218 US20020161068A1 (en) | 2000-04-28 | 2001-04-24 | Polymerizable composition, cured material thereof and method for manufacturing the same |
PCT/JP2001/003537 WO2001083580A2 (en) | 2000-04-28 | 2001-04-24 | Polymerizable composition, cured material thereof and method for manufacturing the same |
AU48855/01A AU4885501A (en) | 2000-04-28 | 2001-04-24 | Polymerizable composition, cured material thereof and method for manufacturing the same |
KR10-2001-7016885A KR100478519B1 (ko) | 2000-04-28 | 2001-04-24 | 중합성 조성물, 그의 경화물 및 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2001310938A true JP2001310938A (ja) | 2001-11-06 |
Family
ID=18639569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000130472A Pending JP2001310938A (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 重合性組成物、その硬化物と製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US20020161068A1 (ja) |
EP (1) | EP1237983B1 (ja) |
JP (1) | JP2001310938A (ja) |
KR (1) | KR100478519B1 (ja) |
AT (1) | ATE368701T1 (ja) |
AU (1) | AU4885501A (ja) |
DE (1) | DE60129666T2 (ja) |
WO (1) | WO2001083580A2 (ja) |
Cited By (89)
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AU4885501A (en) | 2001-11-12 |
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EP1237983B1 (en) | 2007-08-01 |
EP1237983A2 (en) | 2002-09-11 |
KR20020027381A (ko) | 2002-04-13 |
US20020161068A1 (en) | 2002-10-31 |
WO2001083580A2 (en) | 2001-11-08 |
DE60129666D1 (de) | 2007-09-13 |
DE60129666T2 (de) | 2008-05-21 |
KR100478519B1 (ko) | 2005-03-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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|
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|
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