JP2006350167A - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】面発光レーザーアレイでマルチビーム書込を行う光走査装置において、レーザーアレイの各発光領域の特性がばらついても、被走査面上の光スポットサイズを均一にし、画質の劣化を低減する。
【解決手段】光源は複数の発光領域が二次元アレイ状に配備された面発光レーザーで複数の発光領域を制限する複数の開口部を有し、複数の開口部は各発光領域に対応して1対1で配備され、Dmを開口部の主走査方向の幅、Dsを開口部の副走査方向の幅、βmを全光学系の主走査方向倍率、βsを全光学系の副走査方向倍率、ωmを被走査面上に形成される主走査方向の光スポットサイズ、ωsを被走査面上に形成される副走査方向の光スポットサイズ、とすると、走査光学系は
Dm・|βm|<ωm かつ Ds・|βs|<ωs ・・・(1)
の条件を満たす。
【選択図】図1

Description

本発明は、複数の発光点を有する光源を用いた光走査装置および画像形成装置に関するもので、プリンター、複写機、ファクシミリ、またはこれらの複合機などの画像形成装置に応用することができるものである。
近年、画像形成装置においては、画像形成の高速化、形成される画像の高密度化、高画質化といった要求が高まってきている。こうした要望に対して、複数の発光点を有し、1つの被走査面を複数のビームで走査するマルチビーム書込方式の光走査装置を用いた画像形成装置が実用化されてきている。光走査装置、特に半導体レーザーを用いたレーザー走査装置は、その構造の簡素さ、高速性、解像度の高さから、画像表示装置や画像記録装置などの画像形成装置に広く用いられてきた。なかでも電子写真方式プリンターの露光装置として最適なものであり、レーザービームプリンターとして多くの製品が市場に流通している。
ところが、近年、画像形成装置の高速化や高解像度化の要求がさらに高まり、走査速度の向上が望まれている。高速の光走査を実現するためには速度の速い偏向装置が必要になるが、例えば偏向装置として回転多面鏡を用いる場合、回転数を高速化して対応しようとすると騒音や発熱などの問題があって上限がある。その解決策の1つとして、独立に変調可能な複数の発光領域(発光点)を持つ面発光レーザー(以下「VCSEL」という)を用いた光走査装置がある。これは、VCSELからの複数の光束を走査し、1回の走査で複数の走査線を同時に走査するいわゆるマルチビーム走査装置を用いた画像形成装置である(例えば、特許文献1参照)。
図1は、本発明にかかる光走査装置の実施例を示すものであるが、図1を用いて上記のような複数発光領域を持つ面発光レーザーを用いた光走査装置の概要を説明する。図1において、光源101は複数の発光領域101aを有し、これらの発光領域の動作を制御する発光制御手段を有する。光源101から射出されるレーザービームの光路上には、カップリングレンズ102とシリンドリカルレンズ103とアパーチャ104からなるカップリング光学系110が配置されている。光源101から射出される複数のレーザービームはカップリング光学系110によってカップリングされ、また、アパーチャ104によって横断面形状が整形される。複数のビームはカップリングされた後に回転多面鏡からなる偏向器105によって偏向反射され、結像光学系を構成する第1走査レンズ106aと第2走査レンズ106bによって像面である被走査面108に結像される。被走査面108は、ここでは感光性の媒体を支持する円柱状の像担持体の表面である。上記複数のビームは、被走査面108上に結像されるとともに、上記偏向反射により走査線109が描かれる。走査線109の方向が主走査方向である。上記像担持体は中心軸線を中心に回転駆動され、像面を主走査方向に対し直角をなす方向に移動させる。この移動方向を副走査方向という。このように、光ビームによる光走査を行って画像を形成する。なお、図1に示す例では、偏向光束を被走査面108に導くために、第1、第2、第3のミラー107a,107b,107cが配置されている。
上記面発光レーザーを複数ビーム光源として用いた場合、各ビームの発散角のばらつきが問題となる。各ビームの発散角がばらつくと、各ビームによって被走査面上に形成される光スポットサイズが一定でなくなり、画像を形成するドットのサイズがばらつくことによって粒状性が劣化する。また、複数の色の画像を重ねてカラー画像を形成するカラー画像形成装置においては、各色ドットのずれを起こし、色再現性の低下といった画像品質の劣化を招く。上記特許文献1記載の発明では、面発光レーザーによる走査線と結像スポットの位置関係について開示し、高速走査を可能にしたとしている。
また、面発光レーザーの発光領域(発光点)の間隔を定め、発光領域間での熱クロストークを低減しかつ記録高密度化を実現する技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかし、特許文献1および特許文献2記載の発明を含めた従来技術では、上にあげたような、面発光レーザーの各発光領域間の特性ばらつきに起因する画質劣化について問題解決がなされていない。
面発光レーザーアレイ(VCSEL)は、同一基板上にモノリシックに発光素子を形成するため、VCSEL製造上の技術的な問題による発光領域相互の間隔のばらつきが発生する。加えて、製造工程における歩留まりを向上するために、一定の範囲内でのばらつきは許容せざるを得ない。このようなばらつきが発生した場合に、従来の半導体レーザー(LD)と違って、発散角特性の一致するものを選別して組み合わせることができない。そのために一つの光源に含まれる発光素子の発散角ばらつきに起因するビームスポット径のばらつきを低減する必要がある。また、光利用効率のばらつきを低減する必要がある。
特許第3227226号公報 特開平10−301044号公報
本発明は、以上説明した従来技術の問題点に鑑みてなされたもので、光走査速度ないしは画像形成速度の高速化、形成画像の高密度化を狙って面発光レーザーアレイを光源として使用するマルチビーム書込を行う光走査装置において、面発光レーザーアレイに含まれる各発光領域の特性がばらついたとしても、被走査面上の光スポットサイズを均一にすることができ、形成される画質の劣化を低減することができる光走査装置およびこれを用いた画像形成装置を提供することを目的とする。
本発明にかかる光走査装置は、請求項1に記載されているように、複数の光束を射出する光源と、上記複数の光束を後続の光学系にカップリングするカップリング光学系と、上記複数の光束を主走査方向に偏向する光偏向装置と、偏向装置によって偏向された複数の光束を被走査面上に結像する走査光学系と、を有する光走査装置において、上記光源は複数の発光領域が二次元アレイ状に配備された面発光レーザーで上記複数の発光領域を制限する複数の開口部を有し、上記複数の開口部は各発光領域に対応して1対1で配備されており、Dmを上記開口部の主走査方向の幅、Dsを上記開口部の副走査方向の幅、βmを全光学系の主走査方向倍率、βsを全光学系の副走査方向倍率、ωmを被走査面上に形成される主走査方向の光スポットサイズ、ωsを被走査面上に形成される副走査方向の光スポットサイズ、とすると、走査光学系は
Dm・|βm|<ωm かつ Ds・|βs|<ωs ・・・(1)
の条件を満たすことを最も主要な特徴とする。
請求項2記載の発明のように、請求項1記載の光走査装置において、
0.4<(Ds・|βs|/ωs)/(Dm・|βm|/ωm)<1 ・・・(2)
の条件を満たすとなおよい。
請求項3記載の発明のように、請求項1または2記載の光走査装置において、光源から走査光学系までの間に遮光部材を有しているとなおよい。
請求項4記載の発明のように、請求項1から3のいずれかに記載の発明において、面発光レーザーは、複数発光領域からのビームの偏光が、Vs方向成分と、このVs方向に直交するHm方向成分とからなり、それぞれの成分の大きさをVs、Hm(Vs≧Hm)としたとき、VsとHmの比 Rp(dB)=20・log(Vs/Hm)が、
11≦Rp≦17
の条件を、全ての発光領域で満たしているとなおよい。
請求項5記載の発明のように、請求項4記載の発明において、偏光成分は、Vs方向成分を副走査方向に平行な方向に設定し、Hm方向成分を主走査方向に平行な方向に設定するとよい。
請求項6記載の発明のように、請求項1から5のいずれかに記載の発明において、光源は波長が500nm以下の光束を射出するようにするとよい。
請求項7記載の画像形成装置は、電子写真プロセスを実行する装置を備えた画像形成装置であって、電子写真プロセスの露光プロセスを実行する装置として請求項1から6のいずれかに記載の光走査装置を備えていることを特徴とする。
請求項8記載の発明は、電子写真プロセスを実行する装置を備えてなる画像形成装置を複数組備え、各画像形成装置は各色に対応した画像を形成し、各画像形成装置で形成された画像を重ねることによってカラー画像を形成することができるカラー対応の画像形成装置であって、各画像形成装置において実行する電子写真プロセスのうち露光プロセスを実行する装置として請求項1から6のいずれかに記載の光走査装置を備えていることを特徴とする。
請求項1記載の発明によれば、VCSELを使用した光走査装置において、VCSELの発光素子間の発散角のばらつきによる画質の劣化を低減することができる。
請求項2記載の発明によれば、環境変動によっても安定した光走査を行うことができ、製造誤差などに影響されにくい光走査装置を提供することができる。
請求項3記載の発明によれば、VCSELを使用した光走査装置において、VCSELの発光素子間の発散角のばらつきによる画質の劣化を低減することができる。
請求項4記載の発明によれば、VCSELを使用した光走査装置において、ビーム偏光比のばらつきに対してシェーディング特性を良好に保つことができ、良好な光走査を行うことができ、装置の低コスト化を行うことができる。
請求項5記載の発明によれば、シェーディング特性を良好に保つことが出来、良好な光走査を行うことが出来、装置の低コスト化を行うことができる。
請求項6記載の発明によれば、環境変動に対して安定で、高精細な光走査装置を提供することができる。
請求項7記載の発明によれば、環境、製造誤差に影響されにくく、VCSELの発散角ばらつきによっても安定であり、シェーディングによる濃度の不均一性を低減した良好な画像を形成することが可能な、画像形成装置を提供することができる。
請求項8記載の発明によれば、環境、製造誤差に影響されにくく、VCSELの発散角ばらつきによっても安定であり、シェーディングによる濃度の不均一性を低減した良好な画像形成を高速に行える、フルカラーの画像形成装置を提供することができる。
以下、本発明にかかる光走査装置および画像形成装置の実施例について図を用いて説明する。
本発明にかかる光走査装置における光学系の構成例を図1に示す。図1に示す光学配置例についてはすでに説明したから、ここでは説明を省略する。
実施例1は、図1に示す光学配置例において、個々の光学素子を以下のように構成したものである。実施例1のデータを以下に示す。なお、実施例1の主走査断面形状を、図2(a)に示す。
(1)光源101
・面発光レーザー(VCSEL)アレイで、中心波長:780nm、チャンネル数:32、主走査方向の素子(発光領域)間隔Wm:42.3μm、副走査方向の素子間隔Ws:10.6μm、開口部は主走査方向幅Dm:4μm、副走査方向幅Ds:4μm、である。発光素子の配列を図2(b)に示す。
・光量検出用モニタPDをVCSEL駆動基板上に一体的に有し、VCSELの光軸を軸として回転調整できるように配備されている。
・ビームの発散角は主走査方向、副走査方向共に9度である。
(2)変換光学系110
・カップリングレンズ:焦点距離は27mm、カップリング作用は平行光化。
・シリンドリカルレンズ:副走査方向にのみパワーを持ち、焦点距離126mm。
(3)回転多面鏡(光偏向装置)105
・正六面体、内接円半径18mm。
(4)走査光学系
第1走査レンズ106aと第2走査レンズ106bで構成される光学系で、各レンズ面を光偏向器側から被走査面に向かって第1面、第2面、第3面、第4面とする。
第1面:回転対称面
Rm=−312.597
K=2.66713
A04=1.78574E−07
A06=−1.08065E−12
A08=−3.18123E−14
A10=3.74031E−18
第2面:回転対称面
Rm=−82.951
K=0.01983
A04=2.50305E−07
A06=9.60583E−12
A08=4.54468E−15
A10=−3.03430E−18
第3面:特殊トロイダル面
Rm=−500,Rs=−47.68
K=−71.73194
A04=4.32558E−08
A06=−5.97293E−13
A08=−1.28192E−16
A10=5.72965E−21
J02=1.60296E−03
J04=−2.32231E−07
J06=1.59907E−11
J08=−5.60965E−16
J10=2.17594E−20
J12=−1.24979E−24
第4面:トロイダル面
Rm=−1000,Rs=−23.38
ただし、各面形状は以下の式1に従う、
式1

Figure 2006350167
ただし、xは面形状の光軸方向のデプス、y,zはそれぞれ、走査光学系の光軸を原点とする主走査方向、副走査方向の座標、Aは非球面係数、rは主走査方向曲率Rm、Kは円錐定数、Rs0=Rs、Jは特殊トロイダル面の副走査方向の形状の各次数に対する係数である。
カップリングレンズ102の出射側の面から被走査面108までの空気間隔及び光学素子の厚さ寸法を夫々順にd1,d2,・・・,d8(mm)とすると、
d1=37.7,d2=3.0,d3=92.5,d4=52.6,
d5=31.4,d6=78.0,d7=3.5,d8=141.5
である。ちなみに、d4は光偏光器の偏向反射面から第1走査レンズ106aの入射面までの空気間隔、d5は第1走査レンズ106aの厚さ寸法、d6は第1、第2走査レンズ間の空気間隔、d7は第2走査レンズ106bの厚さ寸法、d8は第2走査レンズの出射面から被走査面108までの間隔を示す。
Dm=4μm、Ds=4μm、|βm|=8.2、|βs|=5.2であり、
Dm・|βm|=32.8μm、 Ds・|βs|=20.8μm
となる。
この光学系における、像面近傍でのビームスポット径の深度カーブを図3に示す。図3(a)は主走査方向、(b)は副走査方向の深度カーブである。図3から分かるように、ビームスポット径は、デフォーカスがゼロ(=被走査面付近)では、主走査方向ではωm=55±6μm、副走査方向ではωs70±7μm程度となり、被走査面中央部(図中の凡例に示した「1」の曲線)でも周辺部(同じく「150」、「−151」で示した)でも安定して同サイズのビームスポット径になっている。すなわち、この光学系では以下の条件
Dm・|βm|<ωm 及び Ds・|βs|<ωs ・・・(1)
を同時に満たしている。
ただし、Dmを発光素子上の開口部の主走査方向の幅、Dsを該開口部の副走査方向の幅、|βm|を全光学系の主走査方向倍率の絶対値、|βs|を全光学系の副走査方向倍率の絶対値、ωmを被走査面上に形成される主走査方向の光スポットサイズ、ωsを被走査面上に形成される副走査方向の光スポットサイズ、とする。これによって、ビームの発散角ばらつきが起こったとしても、ビームスポットサイズを略一定に保つことができ、良好な光走査を行うことができる。
上記実施例1の比較対照として比較例1を挙げる。
・比較例1
(1)光源
・面発光レーザー(VCSEL)アレイ、中心波長:780nm、チャンネル数:32、主走査方向の素子(発光領域)間隔Wm:42.3μm、副走査方向の素子間隔Ws:10.6μm、開口部は主走査方向幅Dm:4μm、副走査方向幅Ds:4μm、である。素子の配列は実施例1と同様に図2(b)に示すとおりである。
・光量検出用モニタPDをVCSEL駆動基板上に一体的に有し、VCSELの光軸を軸として回転調整できるように配備されている。
・ビームの発散角は主走査方向、副走査方向共に9度である。
(2)変換光学系
・カップリングレンズ:焦点距離10mm、カップリング作用は平行光化。
・シリンドリカルレンズ:副走査方向にのみパワーを持ち、焦点距離は40mm。
(3)回転多面鏡(光偏向装置)
・正六面体、内接円半径18mm。
(4)走査光学系
第1面:回転対称面
Rm=−312.597
K=2.66713
A04=1.78574E−07
A06=−1.08065E−12
A08=−3.18123E−14
A10=3.74031E−18
第2面:回転対称面
Rm=−82.951
K=0.01983
A04=2.50305E−07
A06=9.60583E−12
A08=4.54468E−15
A10=−3.03430E−18
第3面:特殊トロイダル面
Rm=−500,Rs=−47.68
K=−71.73194
A04=4.32558E−08
A06=−5.97293E−13
A08=−1.28192E−16
A10=5.72965E−21
J02=1.60296E−03
J04=−2.32231E−07
J06=1.59907E−11
J08=−5.60965E−16
J10=2.17594E−20
J12=−1.24979E−24
第4面:トロイダル面
Rm=−1000,Rs=−23.38
ただし、xを面形状の光軸方向のデプス、y,zをそれぞれ、走査光学系の光軸を原点とする主走査方向、副走査方向の座標。Aを非球面係数、rを主走査方向曲率、Rm、Kを円錐定数、Rs0=Rs、Jを特殊トロイダル面の副走査方向の形状の各次数に対する係数としたとき、各面形状は前記式1に従う。
カップリングレンズから被走査面までの空気間隔及び光学素子の厚さ寸法を夫々順にd1,d2,...,d8(mm)とすると、
d1=37.7,d2=3.0,d3=92.5,d4=52.6,
d5=31.4,d6=78.0,d7=3.5,d8=141.5
である。このとき、
Dm=4μm、Ds=4μm、|βm|=22.1、|βs|=4.5
であり、
Dm・|βm|=88.4μm、Ds・|βs|=18μm
となり、主走査方向の倍率は22倍と大きい。VCSEL発光素子の開口部の幅は、製造上ばらつきが発生する。このときに、比較例1のように高倍率の場合は、上記VCSEL発光素子の開口部幅のばらつきが、被走査面上でビームスポット径の大きなばらつきとなってしまい、画質の劣化を引き起こす。
以上説明したことから明らかなように、条件式(1)を満たすことで、VCSELを走査光学系に適用した時に、VCSELのビームの発散角のばらつきによっても、また、開口部の大きさのばらつきによっても、ビームスポット径のばらつきを小さく抑えることができ、高品質の画像を得ることができる光走査を行うことができる。
また、本実施例の様にカップリングレンズとシリンドリカルレンズの間に遮光部を設けて、上記の条件を達成する構成にしてもよい。またこのとき、
0.4<(Ds・|βs|/ωs)/(Dm・|βm|/ωm)<1 ・・・(2)
の条件を満足するとよい。
表1に、上記実施例1と各パラメータが異なる実施例2と、これらの実施例に対する比較例2と比較例3の、各パラメータの値、(2)式の値、及び光利用効率を示す。光利用効率は、実施例1を基準に規格化し比を表示している。
Figure 2006350167
表1から分かる様に、(2)式の値が0.86の実施例2では、光利用効率が増え、光量的に問題がない。しかし、比較例2では(2)式の値が小さくなりすぎ、(2)式の値が0.16では、光利用効率が低下し、十分な光量による露光ができなくなるという問題が発生する。また、比較例3のように、(2)式の値が1.92と大きくなる場合には、光量の問題はなくなるが、副走査方向の倍率|βs|が20倍と大きくなるために、VCSELアレイを用いたときに光軸まわりの偏心の誤差が発生すると、副走査方向の走査線間隔が倍率の分だけ大きく変動してしまう。これは、発光素子の副走査方向位置の空間的な変位が、被走査面上では副走査方向倍率|βs|だけ拡大されて表れてしまうためである。
上記の理由により、Dm、Ds、βm、βs、ωm、ωs、は(2)式に示したように、0.4より大きく1より小さく設定することで、走査光学系とVCSELを組み合わせた時にも、光量不足の問題を解決し、光源の偏心による変動を低減することができる。また、光源として用いている面発光レーザーは、その複数発光領域からのビームの偏光が、Vs方向成分と、このVs方向成分に直交するHm方向成分とからなり、それぞれの成分の大きさをVs、Hm(Vs≧Hm)としたとき、VsとHmの比
Rp(dB)=20・log(Vs/Hm) が、
11≦Rp≦17
であることを複数発光領域の全てについて満たすことが望ましい。以下、Vs方向成分及びHm方向成分とは直線偏光成分であるとして説明する。また、Vs方向成分は副走査方向に平行であり、Hm方向成分は主走査方向に平行に設定することができる。ただし、VsとHmは互いに直交する方向であるとする。
光走査装置において、画質劣化の低減のために光利用効率であるシェーディング特性を良好に保つ必要があり、最大光量と最小光量の差が15%以下であることが求められる。しかし、0%に近づけようとすると今度は部品点数の増加、光学素子単体の高価格化が避けられなくなり、また歩留まりも悪くなるといったコスト面での課題が出てくる。そのためシェーディングは10%程度、最大でも14〜15%という値が許容される。しかし、各ビームで偏光が異なると透過率や反射率が異なり、上記のシェーディングに加えて、各ビームの偏光ばらつきによる悪影響が積み上がって画質が劣化することになる。
また、偏光方向を完全に単一(VsとHmの比:Rp=∞)とするのは、素子製造の技術からみて物理的に不可能であり、また、Rpの値を上げることは素子の歩留まりの悪化につながり、製造コストが高くなす。そこでRpの上限を定め、Rp≦17とすることが望ましい。
上記Rpの下限値も定めることができる。図4に透過率の偏光依存性を示す。横軸は入射角(deg)、縦軸は透過率で、実線で示す曲線はS偏光の場合、破線で示す曲線はP偏光の場合である。45度以上の入射角をもって光学素子に入射する場合(周辺像高がこれに当る)、P偏光では透過率が0.99、S偏光では0.96となる。このような特性をもつ素子を二つ用いた場合、光量はP偏光とS偏光でそれぞれ0.98、0.92となる。以下、P偏光をHm方向成分、S偏光をVs方向成分として説明する。Rp=17としたとき、偏光比は88%:12%となる。ここでRpの下限値をRp=11とすれば偏光比は76%:24%であり、夫々を計算すると、Rp=10では
0.76×0.96^2+0.24×0.99^2=0.9357
Rp=17では
0.88×0.96^2+0.12×0.99^2=0.9288
となり、0.74%の差が生じる。標準的なシェーディング14.5%の走査光学系での光量は、光量最大を1としたときに、最小は1−14.5%=0.855となり、これに上記0.73%の差を適用すると、
0.855×(1−0.0074)=0.849、
シェーディングは15.1%となり、画質の劣化が許容できなくなり、VCSELの各素子間の偏光比の差がシェーディングの悪化を招くことが分かる。
ここでRp=11とした時には偏光比は78%:22%となり、同様の計算によって、
Rp=11
0.78×0.96^2+0.22×0.99^2=0.9345
光量の差は0.61%、上限はRp=17であるので、同様の走査光学系に対しては光量の差は15.0%となる。シェーディングは15.0%を達成し、画質の劣化を引き起こさない。よって、光源であるVCSELに含まれる各素子によるビームの偏光比Rpを
11≦Rp≦17
に設定することによって、歩留まりよく素子の製造を行うことが出来、光源コストを削減でき、またシェーディング特性を良好に保つことが出来、良好な画像形成を行える光走査装置を実現できる。
また、光源として波長500nm以下の光源を用いたVCSELによって、上記の光走査装置を構成することができる。このような光源としては、一般的には例えば窒化ガリウム系の材料を用いた光源(波長405nm)を用いることができる。光源の短波長化によって、焦点深度を深くすることができ、環境変動に対して安定性を高めることができ、ビームスポット径を小径化することができ、良好な光走査を行うことができる。
以上示したような光走査装置を用いて画像形成装置を構成することができる。帯電、露光、現像、転写、定着、クリーニングの各プロセスからなる電子写真プロセスを実行する装置を備えてなる画像形成装置において、上記露光プロセスを実行する装置として、上記光走査装置を用いる。かかる画像形成装置によれば、製造コストを低く押えることができ、環境条件や製造誤差などの変動が起きても画質の低下を起こさず、またVCSELの発散角ばらつきによるビームスポット径ばらつきや、それに起因する色ずれなどを低減することができ、良好な画像形成を行うことができる。
図5は画像形成装置の実施例を示す。この実施例は、カラー対応タンデム型の画像形成装置である。すなわち、複数の被走査面を各被走査面に対応するレーザー光束で走査露光することで複数色の画像を可視化し、可視化された複数の画像を重ね合わせてカラー画像を形成することができる。図5において、4個の光導電性のドラム型感光体502a〜502dが平行に配列されていて、各感光体502a〜502dは図5中の矢印で示したように時計回りに等速回転駆動される。各感光体502a〜502dの周囲には、その回転方向に順に、上記のように帯電、露光、現像、転写、定着、クリーニングの各プロセスを実行する装置が配置されている。左端の感光体502aに代表させてこの感光体502aを中心とする各装置について説明すると、帯電装置505、現像装置503、転写手段506、クリーニング手段504が配置されている。帯電装置505と現像装置503の間の感光体表面には、光走査装置501からの偏向走査ビームが照射され、感光体表面が露光されて静電潜像が形成される。したがって、光走査装置501は露光プロセスを実行する装置として機能する。
感光体502aの表面は、帯電装置505によって均一に帯電され、前述の画像形成装置と同様に、感光体502aの表面上に光走査装置501によって光ビームが走査され露光される。この露光によって静電潜像が書き込まれた感光体502aは、現像装置503によってトナー画像として可視化され、転写手段506によって中間転写ベルト508に転写される。転写後の感光体502aの表面はクリーニング手段504によって除電されて残留トナーが除去される。以上の画像形成プロセスが各感光体502b〜502dについても行われ、各感光体502a〜502d上に可視化されたトナー画像が順次中間転写ベルト508上に重ねて転写され、1つのフルカラー画像が形成される。このフルカラー画像は、中間転写ベルト508に沿って搬送されるシート状記録媒体Sに、他の転写手段509によって転写され、シート状記録媒体Sは定着手段507に搬送されて上記フルカラーのトナー像が定着されることで画像形成を完了し、装置の外へ排出される。中間転写ベルト508に転写しきれずに各感光体502a〜502dの表面に残留したトナーや紙粉はクリーニング手段504によって取り除かれる。その後、各感光体502a〜502dの表面は再び帯電手段505によって帯電される。
本発明にかかる光走査装置の実施例の光学配置を示す斜視図である。 上記実施例の、(a)は主走査断面形状を示す平面図、(b)は光源を示す正面図である。 上記実施例における像面近傍でのビームスポット径の深度カーブを示すもので、(a)は主走査方向、(b)は副走査方向のグラフである。 光学素子の透過率の偏光依存性を示すグラフである。 本発明にかかる画像形成装置の実施例を概略的に示す正面図である。
符号の説明
101 光源
101a 発光領域
102 カップリングレンズ
103 シリンドリカルレンズ
104 アパーチャ
105 偏向器
106a 第1走査レンズ
106b 第2走査レンズ
108 被走査面
110 カップリング光学系

Claims (8)

  1. 複数の光束を射出する光源と、上記複数の光束を後続の光学系にカップリングするカップリング光学系と、上記複数の光束を主走査方向に偏向する光偏向装置と、偏向装置によって偏向された複数の光束を被走査面上に結像する走査光学系と、を有する光走査装置において、
    上記光源は複数の発光領域が二次元アレイ状に配備された面発光レーザーで上記複数の発光領域を制限する複数の開口部を有し、
    上記複数の開口部は各発光領域に対応して1対1で配備されており、
    Dmを上記開口部の主走査方向の幅、Dsを上記開口部の副走査方向の幅、βmを全光学系の主走査方向倍率、βsを全光学系の副走査方向倍率、ωmを被走査面上に形成される主走査方向の光スポットサイズ、ωsを被走査面上に形成される副走査方向の光スポットサイズ、とすると、走査光学系は
    Dm・|βm|<ωm かつ Ds・|βs|<ωs ・・・(1)
    の条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
  2. 請求項1記載の光走査装置において、
    0.4<(Ds・|βs|/ωs)/(Dm・|βm|/ωm)<1 ・・・(2)
    の条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
  3. 光源から走査光学系までの間に遮光部材を有することを特徴とする請求項1または2記載の光走査装置。
  4. 面発光レーザーは、複数発光領域からのビームの偏光が、Vs方向成分と、このVs方向に直交するHm方向成分とからなり、それぞれの成分の大きさをVs、Hm(Vs≧Hm)としたとき、VsとHmの比 Rp(dB)=20・log(Vs/Hm)が、
    11≦Rp≦17
    の条件を、全ての発光領域で満たすことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の光走査装置。
  5. 偏光成分は、Vs方向成分を副走査方向に平行な方向に設定し、Hm方向成分を主走査方向に平行な方向に設定したことを特徴とする請求項4記載の光走査装置。
  6. 光源は波長が500nm以下の光束を射出することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の光走査装置。
  7. 電子写真プロセスを実行する装置を備えた画像形成装置であって、電子写真プロセスの露光プロセスを実行する装置として請求項1から6のいずれかに記載の光走査装置を備えていることを特徴とする画像形成装置。
  8. 電子写真プロセスを実行する装置を備えてなる画像形成装置を複数組備え、各画像形成装置は各色に対応した画像を形成し、各画像形成装置で形成された画像を重ねることによってカラー画像を形成することができるカラー対応の画像形成装置であって、各画像形成装置において実行する電子写真プロセスのうち露光プロセスを実行する装置として請求項1から6のいずれかに記載の光走査装置を備えていることを特徴とするタンデム型の画像形成装置。
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