JP2006287178A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006287178A5
JP2006287178A5 JP2005297989A JP2005297989A JP2006287178A5 JP 2006287178 A5 JP2006287178 A5 JP 2006287178A5 JP 2005297989 A JP2005297989 A JP 2005297989A JP 2005297989 A JP2005297989 A JP 2005297989A JP 2006287178 A5 JP2006287178 A5 JP 2006287178A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
block
substrate
coating
coating film
carrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005297989A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2006287178A (ja
JP4685584B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2005297989A external-priority patent/JP4685584B2/ja
Priority to JP2005297989A priority Critical patent/JP4685584B2/ja
Priority to SG200601316A priority patent/SG126044A1/en
Priority to EP06004600A priority patent/EP1701215A3/en
Priority to TW095108257A priority patent/TWI296824B/zh
Priority to KR1020060022803A priority patent/KR101100503B1/ko
Priority to CN2006100898674A priority patent/CN1854898B/zh
Priority to US11/373,118 priority patent/US7474377B2/en
Publication of JP2006287178A publication Critical patent/JP2006287178A/ja
Publication of JP2006287178A5 publication Critical patent/JP2006287178A5/ja
Publication of JP4685584B2 publication Critical patent/JP4685584B2/ja
Application granted granted Critical
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2005297989A 2005-03-11 2005-10-12 塗布、現像装置 Expired - Lifetime JP4685584B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005297989A JP4685584B2 (ja) 2005-03-11 2005-10-12 塗布、現像装置
SG200601316A SG126044A1 (en) 2005-03-11 2006-03-03 Coating and developing system
EP06004600A EP1701215A3 (en) 2005-03-11 2006-03-07 Coating and developing system
KR1020060022803A KR101100503B1 (ko) 2005-03-11 2006-03-10 도포· 현상장치
TW095108257A TWI296824B (en) 2005-03-11 2006-03-10 Coating and developing apparatus
CN2006100898674A CN1854898B (zh) 2005-03-11 2006-03-10 涂敷、显影装置
US11/373,118 US7474377B2 (en) 2005-03-11 2006-03-13 Coating and developing system

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005069682 2005-03-11
JP2005297989A JP4685584B2 (ja) 2005-03-11 2005-10-12 塗布、現像装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006287178A JP2006287178A (ja) 2006-10-19
JP2006287178A5 true JP2006287178A5 (enExample) 2007-11-22
JP4685584B2 JP4685584B2 (ja) 2011-05-18

Family

ID=36582048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005297989A Expired - Lifetime JP4685584B2 (ja) 2005-03-11 2005-10-12 塗布、現像装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7474377B2 (enExample)
EP (1) EP1701215A3 (enExample)
JP (1) JP4685584B2 (enExample)
KR (1) KR101100503B1 (enExample)
SG (1) SG126044A1 (enExample)
TW (1) TWI296824B (enExample)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200707124A (en) * 2005-06-29 2007-02-16 Nikon Corp Exposure apparatus, substrate processing method, and device producing method
US7766565B2 (en) * 2005-07-01 2010-08-03 Sokudo Co., Ltd. Substrate drying apparatus, substrate cleaning apparatus and substrate processing system
JP4519037B2 (ja) * 2005-08-31 2010-08-04 東京エレクトロン株式会社 加熱装置及び塗布、現像装置
JP4687682B2 (ja) 2007-03-30 2011-05-25 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置及びその方法並びに記憶媒体
JP2008258208A (ja) * 2007-03-30 2008-10-23 Tokyo Electron Ltd 塗布、現像装置及びその方法並びに記憶媒体
JP4908304B2 (ja) 2007-04-27 2012-04-04 東京エレクトロン株式会社 基板の処理方法、基板の処理システム及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
US8636458B2 (en) * 2007-06-06 2014-01-28 Asml Netherlands B.V. Integrated post-exposure bake track
KR100897850B1 (ko) 2007-06-18 2009-05-15 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR100904392B1 (ko) * 2007-06-18 2009-06-26 세메스 주식회사 기판 처리 장치
JP5006122B2 (ja) 2007-06-29 2012-08-22 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ 基板処理装置
JP4957426B2 (ja) * 2007-07-19 2012-06-20 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法並びに記憶媒体
KR100914004B1 (ko) 2007-07-27 2009-08-26 삼성기전주식회사 인쇄회로기판 노광 자동화 시스템 및 그 작동방법
JP2009135169A (ja) * 2007-11-29 2009-06-18 Tokyo Electron Ltd 基板処理システムおよび基板処理方法
JP5128918B2 (ja) 2007-11-30 2013-01-23 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ 基板処理装置
JP5179170B2 (ja) 2007-12-28 2013-04-10 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ 基板処理装置
DE102008047234B4 (de) 2008-09-12 2018-12-06 Henkel Ag & Co. Kgaa Reparaturdüse und Reparatursystem
JP4751460B2 (ja) 2009-02-18 2011-08-17 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板処理システム
JP5223778B2 (ja) 2009-05-28 2013-06-26 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP4887404B2 (ja) * 2009-06-16 2012-02-29 東京エレクトロン株式会社 基板処理システム用加熱装置の昇温制御方法、プログラム、コンピュータ記録媒体及び基板処理システム
JP5736687B2 (ja) * 2009-10-06 2015-06-17 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP4941570B2 (ja) * 2010-03-04 2012-05-30 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体
JP5102861B2 (ja) 2010-05-28 2012-12-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理システム用加熱装置の昇温制御方法、プログラム、コンピュータ記録媒体及び基板処理システム
JP5408059B2 (ja) * 2010-07-09 2014-02-05 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体
JP5338757B2 (ja) 2010-07-09 2013-11-13 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体
JP5490741B2 (ja) * 2011-03-02 2014-05-14 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置の位置調整方法、及び基板処理装置
JP5964654B2 (ja) * 2012-05-24 2016-08-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 基板処理方法
TWI584351B (zh) * 2013-10-08 2017-05-21 Tokyo Electron Ltd Liquid container exchange device, container-mounted module and exchange solution of chemical liquid container, substrate processing device
JP5758509B2 (ja) * 2014-01-17 2015-08-05 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 基板処理方法および基板処理装置
US10095114B2 (en) 2014-11-14 2018-10-09 Applied Materials, Inc. Process chamber for field guided exposure and method for implementing the process chamber
JP5852219B2 (ja) * 2014-12-24 2016-02-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 基板処理方法および基板処理装置
JP6292155B2 (ja) * 2015-03-19 2018-03-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP6209554B2 (ja) * 2015-04-15 2017-10-04 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 基板処理方法
JP6552931B2 (ja) * 2015-09-18 2019-07-31 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP6049929B2 (ja) * 2016-03-11 2016-12-21 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 基板処理方法
US9964863B1 (en) * 2016-12-20 2018-05-08 Applied Materials, Inc. Post exposure processing apparatus
JP6656305B2 (ja) * 2018-06-05 2020-03-04 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 基板処理装置
JP7105135B2 (ja) * 2018-08-17 2022-07-22 東京エレクトロン株式会社 処理条件補正方法及び基板処理システム
US11650506B2 (en) 2019-01-18 2023-05-16 Applied Materials Inc. Film structure for electric field guided photoresist patterning process
JP6994489B2 (ja) * 2019-10-02 2022-01-14 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置及び塗布、現像方法
US11429026B2 (en) 2020-03-20 2022-08-30 Applied Materials, Inc. Lithography process window enhancement for photoresist patterning
JP7419966B2 (ja) * 2020-05-25 2024-01-23 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
US20240281956A1 (en) * 2023-02-22 2024-08-22 Applied Materials Israel Ltd. Machine learning based examination for process monitoring

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6168667B1 (en) 1997-05-30 2001-01-02 Tokyo Electron Limited Resist-processing apparatus
JP4021118B2 (ja) 1999-04-28 2007-12-12 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP3445757B2 (ja) 1999-05-06 2003-09-08 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP3462426B2 (ja) 1999-05-24 2003-11-05 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
KR100348938B1 (ko) 1999-12-06 2002-08-14 한국디엔에스 주식회사 포토리소그라피 공정을 위한 반도체 제조장치
JP2002246434A (ja) * 2001-02-15 2002-08-30 Tokyo Electron Ltd 基板受け渡しシステム
JP2001274221A (ja) * 2001-03-21 2001-10-05 Tokyo Electron Ltd 板状体の搬送装置および搬送方法、ならびに処理装置
JP3887549B2 (ja) * 2001-07-16 2007-02-28 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置
JP4087328B2 (ja) 2002-11-28 2008-05-21 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法
JP2004221488A (ja) * 2003-01-17 2004-08-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
EP1842225A2 (en) 2004-12-22 2007-10-10 Applied Materials, Inc. Cluster tool architecture for processing a substrate
JP4955976B2 (ja) 2005-01-21 2012-06-20 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置及びその方法
JP4955977B2 (ja) * 2005-01-21 2012-06-20 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置及びその方法
US7267497B2 (en) 2005-01-21 2007-09-11 Tokyo Electron Limited Coating and developing system and coating and developing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006287178A5 (enExample)
JP2009278138A5 (enExample)
TW200731330A (en) Coating and developing apparatus
TWI456360B (zh) 基板處理系統及基板處理方法
JP2006229184A5 (enExample)
JP2006229183A5 (enExample)
TWI288455B (en) Substrate recovery method and substrate processing apparatus
TW200745765A (en) Coating and developing apparatus, coating and developing method, and recording medium
JP2014138041A5 (ja) 処理装置、処理方法、及びデバイスの製造方法
JP2003282669A5 (enExample)
TW200627075A (en) Coating and developing apparatus and coating and developing method
JP2011100970A5 (enExample)
JP2010056375A (ja) 処理システム
TWI682432B (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
TW201017804A (en) Processing system
WO2008059684A1 (fr) Equipement de transport de substrat
JP6049367B2 (ja) 基板処理装置および基板処理システム
JP2014033226A5 (enExample)
CN100454482C (zh) 加热处理装置和加热处理方法
JP2011077549A5 (enExample)
JP2010041059A5 (enExample)
JPWO2012053430A1 (ja) 蒸着装置及び蒸着方法
JP5799304B2 (ja) 露光ユニット及びそれを用いた露光方法
JP2009231624A (ja) 基板処理装置
JP5834742B2 (ja) 基板の搬送システム