TWI584351B - Liquid container exchange device, container-mounted module and exchange solution of chemical liquid container, substrate processing device - Google Patents

Liquid container exchange device, container-mounted module and exchange solution of chemical liquid container, substrate processing device Download PDF

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Description

藥液容器交換裝置、容器載置模組及藥液容器之交換方法、基板處理裝置
本發明，係關於在使用藥液進行基板之處理的基板處理裝置中，交換儲存了該藥液之藥液容器的技術。
屬於半導體製造工程之一的光阻工程，係對屬於基板之半導體晶圓(以下稱為晶圓)的表面塗佈光阻劑，將該光阻劑以預定圖案予以曝光後，進行顯像形成光阻圖案。該處理，係使用在進行光阻劑塗佈、顯像之塗佈、顯像裝置(基板處理裝置)連接有曝光裝置的系統而進行。
塗佈、顯像裝置，係使用液處理模組依序對晶圓供給各種藥液，藉此，執行光阻塗佈處理或顯像處理等、光阻工程的各種處理。因此，在塗佈、顯像裝置中，係設置有儲存了各種藥液之藥液容器的收容區域，由此向各液處理模組供給藥液。
在對多數片晶圓進行處理而藥液容器內的藥 液用完變空時，已使用過的藥液容器，係藉由例如操作員從收容區域取出，與新的藥液容器進行交換。然而，在塗佈、顯像裝置所使用的藥液中，係因與空氣的接觸等而亦存在有性狀發生改變者，使得開放前述收容區域而交換藥液容器的作業，亦成為在晶圓之間執行均勻處理時之不穩定因素。又，在交換藥液容器時，當外部的微粒進入該容器內時，存在有混入了微粒的藥液被供給至晶圓，而污染晶圓之虞。
在此，在專利文獻1中，記載有一種液體的連續供給裝置，其係在平台(該平台，構成為對設置有液體取出管的蓋升降自如)上載置儲存光阻液等的容器，使該平台升降，藉此，對容器進行液體取出管的插入、拔出。又，在專利文獻2中，記載有下述技術：在進行光阻塗佈處理或顯像處理的基板處理裝置中，事先在處理液的收容容器上附上記憶了其內容物之資訊的IC標籤貼紙，在將收容容器設置於可設置複數個收容容器的設置區域之後，對照從IC標籤貼紙所讀取的資訊與關於應配置於各設置區域之收容容器之內容物的資訊，藉此，抑制設置有收容了錯誤之處理液之收容容器的情形。
然而，在該些專利文獻之任一中，亦未提及在交換配置於平台或設置區域之已使用過的容器與新的容器時，抑制液體變質或微粒混入的技術。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本實開平5-82896號公報：第0006~0007段、圖1
[專利文獻2]日本特開2010-171258號公報：申請專利範圍第1項、第0082~0083、0135~0136段；圖6
本發明，係有鑑於像這樣之情事下所進行之研究者，其目的，係提供一種可在潔淨的環境下，進行藥液容器之交換的藥液容器交換裝置、容器載置模組及藥液容器的交換方法。
又，本發明，係有鑑於像這樣之情事下所進行之研究者，其目的，係提供一種不需經由人工，即可進行藥液容器之交換的基板處理裝置。
本發明之藥液容器交換裝置，其特徵係，具備有：容器配置部，設置有配置藥液容器的複數個配置位置，該藥液容器，係裝設了各個藥液供給路徑之基端側；裝卸機構，對配置於前述容器配置部之各配置位置之藥液容器裝卸前述藥液供給路徑的基端側；搬入搬出埠，設置於與前述容器配置部不同的位置，用於搬入儲存有用以對基板進行液處理之藥液的新的藥液 容器，且搬出已使用過的藥液容器；及共通之容器搬送機構，從前述容器配置部的各配置位置將已使用過的藥液容器搬送至前述搬入搬出埠，從搬入搬出埠將新的藥液容器搬送至前述容器配置部的各配置位置，前述容器配置部、搬入搬出埠及容器搬送機構所致之藥液容器的搬送區域，係設置於從外部環境所區隔的空間。
又，本發明之基板處理裝置，其特徵係，具備有：載體區塊，搬入收納了複數片基板的載體；處理區塊，相對於前述載體區塊橫方向地排列配置，且具備有對從該載體區塊內之載體所取出的基板供給藥液而進行液處理的複數個液處理模組；及藥液塊體，設置為相對於前述載體區塊及處理區塊以一列的方式排列，且用於收容儲存了供給至前述液處理模組之藥液的複數個藥液容器，前述藥液塊體，係具備有：容器配置部，排列配置有用以在與前述載體區塊及處理區塊之排列方向正交的方向配置前述藥液容器的複數個配置位置；搬入搬出埠，用於搬入搬出藥液容器；及共通之容器搬送機構，用於在前述容器配置部的配置位置與搬入搬出埠之間，進行自動交換已使用過的藥液容器與新的藥液容器， 在前述藥液塊體中，沿著前述載體區塊及處理區塊之排列方向而延伸之基板的通路，係形成為貫通該藥液塊體的空間內。
前述藥液容器交換裝置，係亦可具備下述構成。
(a)具備有：蓋部開關機構，藉由蓋部，將卸下前述藥液供給路徑後之已使用過之藥液容器的藥液取出口關閉，並卸下新的藥液容器之蓋部而將藥液取出口打開。該蓋部開關機構，係設置為對配置於藥液配置部的藥液容器進行蓋部的開關。
(b)具備有：氣體供給部，對前述從外部環境所區隔的空間供給潔淨氣體。又，具備有：惰性氣體供給部，用於對前述從外部環境所區隔的空間供給惰性氣體。
(c)前述容器配置部，係構成為在上下方向層疊有複數層將前述複數個配置位置排列於橫方向之棚架的容器架。此時，前述容器架，係設置於載體區塊與處理區塊之間，該該載體區塊，係配置有收納了複數片基板的載體，該處理區塊，係相對於前述載體區塊橫方向地排列配置，且具備有對從配置於該載體區塊之載體所取出的基板供給經由前述藥液供給路徑所傳送之藥液而進行液處理的液處理模組。抑或對於配置有收納了複數片基板的載體之前方側的載體區塊與處理區塊(該處理區塊，係橫方向地排列配置於前述載體區塊之後方側，且具備有對從配置於該載體區塊之載體所取出的基板供給經由前述藥液供給路徑所 傳送之藥液而進行液處理的液處理模組)，前述容器架，係設置於前述載體區塊之前方側且配置有前述載體之位置的上方側，或從前方側觀看，設置於前述載體區塊的兩側。
(d)前述容器配置部，係構成為在橫方向排列前述複數個配置區域，且配置為層疊有前述容器配置部與具備了液處理模組的處理區塊，該液處理模組，係對基板供給經由前述藥液供給路徑所傳送的藥液，而進行液處理。
(e)在前述容器配置部中，係與儲存了不同種類之藥液的藥液容器相對應而配置於事先設定的前述複數個配置位置，且具備有：取得部，取得用以識別儲存於被搬入至前述搬入搬出埠之藥液容器之藥液種類的識別資訊；及搬送控制部，控制前述容器搬送機構，前述搬送控制部，係在前述取得部取得之識別資訊所表示的藥液種類與相對應於搬入至前述搬入搬出埠之藥液容器之搬送終點之配置位置的藥液種類一致時，將藥液容器搬送至該配置位置。此時，前述取得部，係用以讀取前述識別資訊即條碼的條碼讀取器，前述條碼讀取器，係配置於讀取對應於搬入至前述搬入搬出埠之藥液容器之條碼的位置。
(f)前述藥液供給路徑，係連接於光阻塗佈模組與顯像模組，該光阻塗佈模組係對基板塗佈光阻劑，該顯像模組係對曝光後的基板供給顯像液，在前述複數個容器載置部，係載置有儲存了光阻液或顯像液的藥液容器。
又，前述基板處理裝置，係亦可具備下述構成。
(a)前述基板的通路，係被筒狀體所包圍，該筒狀體係沿基板之移動方向延伸。
(b)前述容器搬送機構，係支撐於往與前述基板之通路延伸之方向交叉之方向移動的構件，在前述基板的通路，係形成有用以使支撐容器搬送機構之構件通過的缺口。抑或，前述容器配置部，係具備有：驅動機構，用以使藥液容器之各配置位置在前述基板之通路的周圍且周方向移動，且移動至與前述容器搬送機構之間之藥液容器的收授位置。
(c)前述藥液塊體，係設置於前述載體區塊與前述處理區塊之間。
(d)前述處理區塊，係具備有：一液處理模組，為了在基板形成包含光阻膜的塗佈膜，而使用藥液對基板進行液處理；及另一液處理模組，藉由屬於藥液的顯像液，對曝光後的基板進行顯像，從前述處理區塊觀之，在設置有載體區塊之方向的相反側，係設置有介面區塊，該介面區塊，係連接於曝光裝置，且在處理區塊與曝光裝置之間進行基板的搬送，前述藥液塊體，係設置於前述處理區塊與前述介面區塊之間。
(e)當將前述載體區塊與前述處理區塊的排列方向設成為前後方向時，則包圍前述藥液塊體，而在左及右的至少一方之側壁形成藥液容器的搬入搬出口。又，在包圍前述藥液塊體的頂部，形成藥液容器的搬入搬出口。
由於本發明，係設置配置有藥液容器的容器配置部，使用容器搬送機構進行容器配置部中之藥液容器的交換，藉由裝卸機構執行藥液供給路徑的裝卸動作，故可在與外部環境區隔的區域內設置容器配置部，而不需經由入工，即可進行藥液容器之交換。其結果，可避免微粒等的污染物質混入藥液容器，並且亦可將惰性氣體供給至容器配置部而降低藥液之變質等。
又，本發明，係使用進行藥液容器之自動交換的機構，在容器配置部與搬入搬出埠之間進行已使用過的藥液容器與新的藥液容器之交換。因此，以朝向與排列成一列的載體區塊或處理區塊之排列方向正交的方向排列複數個藥液容器的方式，配置容器配置部，且即使在難以藉由人工進行作業的情況下，亦可執行藥液容器的交換。
U‧‧‧棚架單元
W‧‧‧晶圓
B3、B4‧‧‧COT層
D1‧‧‧載體區塊
D2、D2a~D2f‧‧‧藥液塊體
D3‧‧‧處理區塊
D4‧‧‧介面區塊
D5‧‧‧曝光裝置
F3、F4‧‧‧搬送臂
T1、T2、T3、T4‧‧‧
COT‧‧‧光阻膜形成模組
ITC‧‧‧保護膜形成模組
1、1a~1d‧‧‧塗佈、顯像裝置
21‧‧‧載置台
22‧‧‧開關部
23‧‧‧搬送臂
31‧‧‧搬送區域
32‧‧‧收授臂
33‧‧‧液處理模組
336‧‧‧藥液噴嘴
338‧‧‧藥液供給路徑
41、42、43‧‧‧介面臂
50‧‧‧藥液容器
501‧‧‧蓋部
502‧‧‧條碼
51、51a‧‧‧托盤
6‧‧‧藥液配置模組
60‧‧‧容器架
61‧‧‧噴嘴裝卸機構
611‧‧‧吸引噴嘴
62‧‧‧蓋部開關機構
63‧‧‧惰性氣體供給部
64a‧‧‧容器搬入搬出口
64b‧‧‧容器搬入搬出路徑
641‧‧‧開關部
65‧‧‧晶圓搬送路徑
67‧‧‧風扇過濾單元(FFU)
69‧‧‧托盤載置台
7、7a~7c‧‧‧容器搬送機構
71‧‧‧本體部
73‧‧‧旋轉軸
74‧‧‧支撐部
751‧‧‧升降導軌
752‧‧‧移動導軌
8‧‧‧控制部
81‧‧‧條碼讀取器
[圖1]發明之實施形態之塗佈、顯像裝置的外觀立體圖。
[圖2]前述塗佈、顯像裝置之橫剖平面圖。
[圖3]前述塗佈、顯像裝置之縱剖側視圖。
[圖4]設置於前述塗佈、顯像裝置之藥液塊體的縱剖正視圖。
[圖5]設置於前述藥液塊體之容器搬送機構的第1說 明圖。
[圖6]前述容器搬送機構的第2說明圖。
[圖7]設置於前述藥液塊體之容器配載置模組的第1說明圖。
[圖8]前述容器載置模組的第2說明圖。
[圖9]表示往藥液噴嘴之藥液供給路徑的說明圖。
[圖10]在前述藥液塊體交換藥液容器之動作的流程圖。
[圖11]表示前述容器搬送機構之其他例的平面圖。
[圖12]表示前述容器搬送機構之另外其他例的正視圖。
[圖13]表示可在塗佈、顯像裝置配置藥液塊體之位置的示意圖。
[圖14]表示前述藥液塊體之第2配置例的外觀立體圖。
[圖15]表示前述藥液塊體之第3配置例的外觀立體圖。
[圖16]表示前述藥液塊體之第4配置例的外觀立體圖。
[圖17]第2實施形態之塗佈、顯像裝置的外觀立體圖。
[圖18]前述第2塗佈、顯像裝置之橫剖平面圖。
[圖19]前述第2塗佈、顯像裝置之縱剖側視圖。
[圖20]表示設置於前述第2塗佈、顯像裝置之藥液塊 體之容器搬送機構之構成例的側視圖。
[圖21]表示容器搬送機構之臂部及托盤之其他構成例的立體圖。
[圖22]表示其他實施形態之藥液塊體之構成的縱剖正視圖。
參閱圖1~圖9，說明應用了本發明之塗佈、顯像裝置1(基板處理裝置)的構成。如圖1所示，本例之塗佈、顯像裝置1，係以直線狀的方式，連接有載體區塊D1、藥液塊體D2、處理區塊D3、介面區塊D4。介面區塊D4，係更連接有曝光裝置D5。以下，將區塊D1~D4之配列方向設成為前後方向，將配置有載體區塊D1的一端側設成為前方側，而進行說明。
載體區塊D1，係具有在載體C與塗佈、顯像裝置1之間搬入搬出晶圓W的作用，該載體C，係由收容了同一批量之複數片晶圓W的FOUP(Front Opening Unified Pod)等所構成。如圖2所示，載體區塊D1，係具備有：載體C之載置台21；開關部22，進行載體C之蓋的開關；及搬送臂23，用於從載體C取出晶圓W而進行搬送。
如圖1、圖3所示，處理區塊D3，係從下方依序層疊有對晶圓W進行液處理的第1~第6單位區塊B1~B6。為了方便說明，會有下述各情況，將在晶圓W 形成下層側之反射防止膜的處理稱作「BCT」，將在晶圓W形成光阻膜的處理稱作「COT」，將用以在曝光後之晶圓W形成光阻圖案的處理稱作「DEV」。在本例中，係從下方起各層疊2層BCT層B1、B2、COT層B3、B4、DEV層B5、B6。在同種的單位區塊中，係相互並行而進行晶圓W的搬送及處理。
以該些單位區塊為代表，在圖2中，係例示COT層B3、B4。在COT層B3、B4，係以延伸於從載體區塊D1朝向介面區塊D4之方向的方式，設置有搬送區域31，在搬送區域31之一方側(例如從前方側觀之，係於左側)的側方，係於前後方向排列配置有複數個棚架單元U。又，在前述搬送區域31之另一方側(例如從前方側觀之，係於右側)的側方，係於前後方向排列設置有屬於液處理模組的光阻膜形成模組COT或保護膜形成模組ITC，該液處理模組，係對旋轉之晶圓W的表面供給各種藥液而進行液處理。
光阻膜形成模組COT，係對晶圓W供給光阻劑而形成光阻膜。保護膜形成模組ITC，係對光阻膜上供給預定之處理液，而形成保護該光阻膜之保護膜。又，各棚架單元U，係具備有未圖示的加熱模組，在前述搬送區域31，係設置有屬於晶圓W之搬送機構的搬送臂F3、F4。
其他單位區塊B1、B2、B5及B6，係除了供給至晶圓W的藥液不同以外，構成為與單元區塊B3、B4 大致相同。單位區塊B1、B2，係作為液處理模組，具備反射防止膜形成模組BCT取代光阻膜形成模組COT或保護膜形成模組ITC，單位區塊B5、B6，係具備顯像模組DEV。在圖3中，各單位區塊B1~B6之搬送臂，係表示為F1~F6。
在處理區塊D3的前方側，係設置有塔柱T1與升降自如之收授臂32，該塔柱T1係橫跨各單位區塊B1~B6而沿上下方向延伸，該收授臂32係用於在設於塔柱T1的複數個模組間進行晶圓W之收授。在塔柱T1，係於上下方向互相層疊而設置有複數個模組，在該些模組中，對應於各單位區塊B1~B6之高度而設的收授模組TRS，係在單位區塊B1~B6內的搬送臂F1~F6之間進行晶圓W之收授時使用。
列舉出設置於塔柱T1之模組的具體例，存在有下述模組等：上述之收授模組TRS，在單位區塊B1~B6之間收授晶圓W時使用；調溫模組CPL，進行晶圓W之溫度調整；緩衝模組BU，暫時保管複數片晶圓W；及疏水化處理模組ADH，使晶圓W之表面疏水化。為了簡單進行說明，而省略關於前述疏水化處理模組ADH、調溫模組CPL、緩衝模組BU的圖示。
介面區塊D4，係具備有橫跨單位區塊B1~B6而沿上下方向延伸的塔柱T2、T3、T4(圖2、圖3)。在介面區塊D4，係設置有：升降自如的介面臂41，用於在塔柱T2與塔柱T3之間進行晶圓W之收授；升降 自如的介面臂42，用於在塔柱T2與塔柱T4之間進行晶圓W之收授；及介面臂43，用於在塔柱T2與曝光裝置D5之間進行晶圓W之收授。
塔柱T2，雖係構成為互相層疊有收授模組TRS、存放曝光處理前之複數片晶圓W並使其滯留的緩衝模組BU、存放曝光處理後之複數片晶圓W的緩衝模組BU、及進行晶圓W之溫度調整的調溫模組CPL等，但與塔柱T1的情況相同，省略緩衝模組BU及調溫模組CPL之圖示。
又，從前方側觀之，在配置於塔柱T2之右側的塔柱T3，係於上下方向層疊而配置有進行曝光處理後之晶圓W之洗淨處理的複數台曝光後洗淨模組PIR。另一方面，在配置於塔柱T2之左側的塔柱T4，係於上下方向層疊而配置有進行搬入至曝光裝置D5前之晶圓W之背面洗淨的複數台背面洗淨模組BST。針對該些模組之記載，亦省略圖示。
具備有上述所說明之構成之本例的塗佈、顯像裝置1，係具備有用於收容複數個藥液容器50的藥液塊體D2，該藥液容器50，係儲存了供給至屬於液處理模組的反射防止膜形成模組BCT、光阻膜模組COT、保護膜形成模組ITC或顯像模組DEV的藥液。下述，說明關於該藥液塊體D2的詳細構成。
本例的藥液塊體D2，係設置於從配置有塗佈、顯像裝置1之工廠內的環境(外部環境)及其他塊狀 D1、D3所區隔的殼體內，且配置為沿著載體區塊D1或處理區塊D3的排列方向，將前後夾在該些載體區塊D1與處理區塊D3之間。
在藥液塊體D2，係具備有：托盤載置台69，在從外部搬入的藥液容器50被收容至托盤51的狀態下，予以載置；複數個容器載置模組6，為了將藥液供給至各液處理模組，而構成配置有藥液容器50的容器配置部；及容器搬送機構7，在該些托盤載置台69與各容器載置模組6之間，搬送藥液容器50。
如圖4所示，托盤載置台69，係形成於藥液塊體D2的側壁面，且設置於與容器搬入搬出口64a相對向的位置，該容器搬入搬出口64a，係構成為藉由開關部641開關自如。另外，本例的容器搬入搬出口64a，係從前方側觀之，雖係設置於藥液塊體D2之右側的側壁，但當然亦可將容器搬入搬出口64a設置於左側的側壁。托盤載置台69，係可藉由操作員，經由容器搬入搬出口64a，在進行藥液容器50之搬入、搬出的位置與在與容器搬送機構7之間進行藥液容器50之收授的位置之間，橫方向移動。
在移動至與容器搬送機構7之間進行藥液容器50之收授之位置之托盤載置台69的上方側，係形成有用於將藥液容器50朝向上下方向搬送的容器搬入搬出路徑64b。容器搬入搬出路徑64b的上端部，係朝向藥液塊體D2的頂棚面開口，該開口部，其係構成為藉由開關部 641開關自如。另一方面，在配置有本例之塗佈、顯像裝置1之工廠的頂部，係配置有沿著軌道搬送藥液容器50的OHT(Overhead Hoist Transport)101。OHT101，係藉由使把持部102下降、上升的方式，經由容器搬入搬出路徑64b的開口部，在與移動至其下方位置的托盤載置台69之間，進行藥液容器50之收授。
托盤載置台69或容器搬入搬出口64a、容器搬入搬出路徑64b，係構成本實施形態之搬入搬出埠。
經由容器搬入搬出口64a或容器搬入搬出路徑64b搬入至藥液塊體D2內的藥液容器50，係收容於托盤51。如圖2、圖5所示，托盤51，係上面側為開口之長方體形狀的容器，儲存了藥液之藥液容器50的本體，係被收容於該托盤51內。托盤51內的底部，係設置有用於將藥液容器50固定於事先設定之位置的容器接納部511。又，在托盤51的側面，係依據OHT101的把持部102，設置有用於握持托盤51之未圖示的把手部。且，在托盤51的底部，係形成有用於插入後述之容器搬送機構7之臂部722的缺口部512(參閱圖5、圖7等)。
藥液容器50，係構成為例如塑膠製或玻璃製的細口瓶，在其開口部(藥液取出口)被蓋部501密封的狀態下，被搬入至藥液塊體D2內，該蓋部501係由螺旋蓋等所構成。在藥液容器50之本體的外面，係貼附有屬於用以識別儲存於藥液容器50之藥液種類之識別資訊的條碼502。又，在移動至與容器搬送機構7之藥液容器50 之收授位置之托盤載置台69的附近，係配置有條碼讀取器81，該條碼讀取器81係用以識別藥液之資訊的取得部。藉由該條碼讀取器81讀取條碼502，藉此，可識別儲存於所搬入之藥液容器50內的藥液種類。該條碼502，係亦可設置於托盤51。
在此，取得用以識別藥液種類之識別資訊的手法，並不限於條碼502與條碼讀取器81的組合。亦可在藥液容器50或托盤51設置IC標籤，將與該IC標籤進行通訊而取得識別資訊的通訊部配置於托盤載置台69的附近。
如圖2、圖5等所示，進行藥液容器50之搬送的容器搬送機構7，係形成為在本體部71設置保持藥液容器50之2組臂部(第1臂部721及第2臂部722)的構成。第1、第2臂部721、722，係於相互連結的狀態下，被設置於本體部71的上面側，構成為從本體部71使各臂部721、722延伸，而在下述兩個位置之間伸縮自如，該兩個位置，係指：在托盤載置台69或容器載置模組6之間進行藥液容器50之收授的位置與將各臂部721、722折疊於本體部71上而進行藥液容器50之搬送的位置。且，在第1臂部721之伸縮方向的前端部及後端部，係為了防止搬送中之托盤51位置偏移，而設置有從前後限制托盤51之保持位置的托盤導引件723。
本體部71，係構成為經由旋轉軸73保持於支撐部74上，且繞垂直軸旋轉自如。其結果，可在下述兩個方向之間，改變各組之臂部721、722的伸縮方向，該 兩個方向，係指：在與托盤載置台69之間進行藥液容器50之收授的方向(圖2中以實線表示)以及在與各容器載置模組6之間進行藥液容器50之收授的方向(同圖中以虛線表示)。
又，如圖2、圖3所示，保持本體部71的支撐部74，係被支持於向上下方向延伸的2根升降導軌751，且在該些升降導軌751的上端部及下端部，係藉由移動導軌752予以支撐，該移動導軌752，係沿著藥液塊體D2之頂部附近及地面附近向橫方向延伸。且，構成為藉由設置於升降導軌751、移動導軌752之未圖示的驅動機構，使支撐部74在上下方向升降自如，升降導軌751在左右方向移動自如，藉此，可使本體部71往沿著藥液塊體D2之內壁面的任意位置移動。且，容器搬送機構7(本體部71)在前述的托盤載置台69與各容器載置模組6之間所移動的區域，係成為藥液容器50的搬送區域。
容器搬送機構7，係使托盤51的載置區域(該托盤51的載置區域，係位於設置在第2臂部722之前後的托盤導引件723之間)，經由上述的缺口部512進入至托盤51的下方側，接下來，使第2臂部722上升，藉此，從托盤載置台69或容器載置模組6接收藥液容器50(圖5)。且，在折疊第1、第2臂部721、722而在本體部71上配置托盤51的狀態下，進行藥液容器50之搬送(圖6)。另外，在本體部71中，係形成有溝部711，用以避免與從缺口部512之左右位置朝向下方側延伸之托 盤51之側壁之下端部的干涉(例如，參閱容器搬送機構7之變形例之記載於圖12的溝部711)。
在與容器搬送機構7往上下左右移動之藥液塊體D2之內壁面相對向的區域，係設置有容器配置部(容器架60)，該容器配置部，係在上下左右以格子棚狀的方式排列配置有互相區隔開的複數個容器載置模組6(圖4)。在本例中，於橫方向排列5個容器載置模組6所形成的棚架，係於上下方向層疊有4層，而構成容器架60。在該容器架60中，係除了配置有後述之晶圓搬送路徑65的位置外，設置有合計19個容器載置模組6。如圖2所示，容器架60，係朝向與載體區塊D1或處理區塊D3之排列方向(前後方向)正交的方向，從前方側觀之，以左右排列的方式配置各棚架之容器載置模組6。
在塗佈、顯像裝置1中，係除了分別使用不同濃度或成分之複數個種類的光阻液外，也使用進行曝光後之光阻膜之顯像的顯像液、用於在晶圓表面容易擴散光阻液的稀釋劑、形成於光阻膜之上面或下面之反射防止膜或保護膜的原料液等、多種類的藥液。容器架60內的容器載置模組6，係成為逐一配置有儲存了該些各種藥液之藥液容器50的配置位置。又，亦存在有下述情形：在某藥液容器50內的藥液用完變空後，以可從其他藥液容器50繼續向液處理模組供給藥液的方式，在複數個容器載置模組6配置儲存了同種藥液的藥液容器50，而切換該些藥液容器50供給藥液。
如圖7、圖8所示，各容器載置模組6，係具備有：吸引噴嘴611，被設置於與容器搬送機構7相對向的前面為開放而互相區隔開的架內，構成往液處理模組之藥液供給路徑的基端側；噴嘴裝卸機構61，對藥液容器50進行該吸引噴嘴611之裝卸；蓋部開關機構62，進行密封藥液容器50之蓋部501的開關；及惰性氣體供給部63，將惰性氣體供給至容器載置模組6的空間內。
噴嘴裝卸機構61，係具備有：支撐臂612，朝向下方側伸出，支撐下端部為開口之由樹脂製或金屬製的細管所構成之吸引噴嘴611的上端部，且沿水平方向延伸；及升降機構613，係構成為支撐與前述吸引噴嘴611之支撐位置相反側之支撐臂612的基端部，可在上下方向伸縮自如。
吸引噴嘴611，係具備有在將吸引噴嘴611插入藥液容器50內時，開口部所形成之下端部可進入至藥液容器50之底面附近的長度，且構成為可吸引儲存於藥液容器50內之藥液之大致全部量的吸管。吸引噴嘴611，係在將吸引噴嘴611插入藥液容器50內時，從上面側按壓藥液容器50的開口而堵塞該開口，且經由例如橡膠製的保持部614予以保持於支撐臂612。升降機構613，係藉由使支撐臂612升降的方式，使吸引噴嘴611在吸引噴嘴611全體往藥液容器50之開口部之上方側被拔出的拔出位置(圖7)與將吸引噴嘴611插入藥液容器50內的裝設位置(圖8)之間移動。
蓋部開關機構62，係具備有：開關部621，執行蓋部501之開關；支撐臂622，保持開關部621；及升降機構623，使支撐臂622升降。
開關部621，係具備了與密封藥液容器50之蓋部501之外周面密接而嵌合之開口的構件，且使前述開口朝向下方側而保持於支撐臂622的前端部。開關部621，係構成為藉由設置於支撐臂622內之未圖示的驅動機構，在打開蓋部501的方向與進行關閉的方向，繞垂直軸旋轉自如。
本例的支撐臂622，係經由向垂直方向延伸的旋轉軸，連結有：基端側之臂部，被支撐於升降機構623；及前端側之臂部，保持開關部621。藉此，可使開關部621在開關位置(圖7)與退避位置(圖8)之間移動，該開關位置，係使開關部621與藥液容器50上端部相對向而進行蓋部501的開關，該退避位置，係使開關部621從該開關位置退避至側方，避免噴嘴裝卸機構61所致之吸引噴嘴611之裝卸動作的干涉。又，開關部621，係在往退避位置移動時，於抓持卸下之蓋部501的狀態下，往退避位置移動。
又，在本例的蓋部開關機構62中，升降機構623，係設置於例如區隔相鄰之容器載置模組6之區隔壁的壁面，且執行使移動至開關位置的開關部621下降而嵌合於蓋部501的動作，或進行蓋部501之開關時，配合蓋部501之移動而使開關部621升降的動作。
惰性氣體供給部63，係具備有：惰性氣體供 給管631，配置為開口部面向藉由開關部621進行蓋部501之開關動作的區域；過濾器632，介設於該惰性氣體供給管631，去除供給至容器載置模組6之惰性氣體中的微粒；及惰性氣體供給源633，設置於惰性氣體供給管631的基端部，執行氮氣或氬氣等之惰性氣體的供給。
惰性氣體供給管631，係為了在進行蓋部501的開關動作時，抑制空氣進入已開放的藥液容器50內，而朝向藥液容器50的開口部供給惰性氣體。如圖8所示，在將吸引噴嘴611插入藥液容器50內之際，成為藉由保持部614堵塞藥液容器50之開口之構成的情況下，亦可藉由放出藥液而不使藥液容器50內成為真空環境的方式，在噴嘴裝卸機構61設置將惰性氣體供給至藥液容器50內的機構。
又，在不密閉藥液容器50之開口而從該開口吸入周圍的氣體維持藥液容器50內的壓力時，係亦可在容器載置模組6的前面設置開閉門(擋門)從而可密封容器載置模組6內，且一邊對該區域內供給惰性氣體一邊放出藥液。
過濾器632，係成為在過濾匣內收容了HEPA(High Efficiency Particulate Air)濾波器等之氣體過濾器的構成。又，惰性氣體供給源633，係具備有儲存了惰性氣體的氣體儲存部與流量調節部，且可執行惰性氣體的供給、切斷或流量調節。例如惰性氣體供給源633，係可對於將惰性氣體供給至各個容器載置模組6的複數個惰性氣 體供給管631共通地予以設置。
在此，對所有容器載置模組6設置惰性氣體供給部63並不是必要的，亦可不必對配置有藥液容器50的容器載置模組6設置惰性氣體供給部63，該藥液容器50，係儲存了例如與大氣接觸所致之藥液的變質較少且供給惰性氣體的效果較小之藥液。
在圖9中，係表示從裝設有吸引噴嘴611之藥液容器50至各液處理模組33之藥液噴嘴336的藥液供給路徑338。配置於各容器載置模組6的藥液容器50，係藉由介設於藥液供給路徑338的藥液泵681，從藥液容器50被吸引而輸送至各藥液噴嘴336。在藥液泵681的下流，係配置有開關閥682，藉由使該開關閥682驅動的方式，朝各藥液噴嘴336進行藥液之供給或切斷。介設於各藥液供給路徑338的藥液泵681或開關閥682，係集中配置於圖3、圖4所示的泵配置部68，從藥液容器50放出的藥液，係藉由設置於泵配置部68的藥液泵681，朝向各層B1~B6的液處理模組33供給。
說明關於液處理模組33之概要，噴嘴臂337，係為了因應液處理模組33所執行之液處理的種類，進行1種類或複數個種類之藥液的供給，而保持1根或複數根藥液噴嘴336。且，從藥液噴嘴336，對藉由旋轉驅動部332而逐片保持於繞垂直軸旋轉之旋轉夾盤331上的晶圓W表面，依序供給預定量的藥液，藉此，對每一片晶圓W，進行液處理。從旋轉之晶圓W甩出的藥液，係 由配置於旋轉夾盤331周圍的杯體333承接，經由排液口335排出至外部。又，流入杯體333內的氣流，係經由排氣口334排出到外部。
在此，來自收容於藥液塊體D2之藥液容器50之藥液的供給目的地，係除了上述的液處理模組33外，亦可為疏水化處理氣體產生機構，該疏水化處理氣體產生機構，係對使例如晶圓W之表面疏水化的疏水化處理模組ADH供給疏水化處理氣體。
載置於容器載置模組6之藥液容器50內之藥液的量，係藉由設置於例如容器載置模組6內之未圖示的液面計或設置於藥液供給路徑338之未圖示的流量計等予以監視。在該些例子中，係在藥液容器50內之藥液量低於事先設定之液面高度的情況下，或者即使在使藥液泵681運轉，且使開關閥682連通至藥液噴嘴336，也未檢測出預定流量的情況下等，進行藥液容器50之交換時機的判斷。
又，在塗佈、顯像裝置1的頂部，係設置有FFU(Fan Filter Unit)67，且可在塗佈、顯像裝置1的各區塊D1~D4內形成潔淨空氣的下降氣流。且，如圖3所示，FFU67，係在構成藥液塊體D2的殼體內形成潔淨空氣的下降氣流，於該環境內進行蓋部501之開關、吸引噴嘴611之裝卸，藉此，可抑制微粒等之污染物質混入藥液。在該觀點中，FFU67，係相當於本例的潔淨氣體供給部。
在此，如上述，藥液塊體D2，係配置為將前後夾在載體區塊D1與處理區塊D3之間。因此，在載體區塊D1所取出的晶圓W或在處理區塊D3結束處理的晶圓W，係穿過該藥液塊體D2而搬送至搬送終點的區塊D3、D1。
另一方面，由於在進行儲存了各種藥液之藥液容器50之蓋部501之開關的藥液塊體D2內，存在有該些藥液或其溶劑揮發的可能性，因此，在有浮遊多種藥液成分之虞的環境中暴露處理前或處理後的晶圓W較為不佳。又，除了容器搬送機構7外，因搬送晶圓W的搬送機構在區塊D3、D1間頻繁地往來而產生微粒，從而污染藥液塊體D2內，亦不佳。
因此，如圖3、圖4所示，在本例的藥液塊體D2中，係配置為：連接載體區塊D1與處理區塊D3之角管狀的晶圓搬送路徑65會於水平方向貫通藥液塊體D2，藉由該晶圓搬送路徑65區隔藥液塊體D2內的環境與其他塊體D1、D3的環境。在晶圓搬送路徑65內，係配置有穿梭臂66，藉由該穿梭臂66進行兩區塊D1、D3間之晶圓W的搬送。穿梭臂66，係在載體區塊D1的搬送臂23與配置於處理區塊D3內之塔柱T1的收授模組TRS0之間，進行晶圓W的搬送。
晶圓搬送路徑65，係設置為：從前述收授模組TRS0朝向前方的載體區塊D1，以橫方向的方式伸出。因此，在該晶圓搬送路徑65貫通容器架60的位置，係未 設置有容器載置模組6(圖4)。
又，為了避免沿著移動導軌752之延伸方向而橫方向移動之升降導軌751的干涉，而在晶圓搬送路徑65設置用於使升降導軌751通過的缺口部651(圖3)。缺口部651之寬度，係可使升降導軌751通過，且因藥液塊體D2內、晶圓搬送路徑65內的各環境會相互混合，故使得上述藥液成分或在穿梭臂66產生的微粒所致之污染不成為一問題的程度變得十分狹窄。又，亦可以不易產生該些環境相互混合的方式，從形成缺口部651之晶圓搬送路徑65之缺口面的一方側朝向另一方側，使潔淨空氣流動而形成氣幕。
具備了上述所說明之構成的塗佈、顯像裝置1，係如圖2、圖5、圖7、圖9等所示，與控制部8連接。控制部8係由具備CPU與記憶部的電腦所構成，在記憶部中，係根據塗佈、顯像裝置1之作用，亦即各塊體D1~D4中之晶圓W的搬送或晶圓W的處理、在條碼讀取器81讀取之條碼502的資訊，記錄有編組步驟(命令)群的程式，該步驟(命令)群，係關於藥液塊體D2內之藥液容器50之搬送或容器載置模組6之涉及交換藥液容器50的動作。該程式係儲存於例如硬碟、光碟、磁光碟、記憶卡等之記憶媒體，且由該些被安裝於電腦。
特別是，關於藥液塊體D2中之藥液容器50的搬送，在控制部8中，係事先使識別設置於容器架60之複數個容器載置模組6(藥液容器50的載置位置)的 資訊與儲存於應配置於各容器載置模組6之藥液容器50的藥液種類相對應並加以記憶。又，亦針對在條碼讀取器81所讀取之條碼502的資訊與藥液種類的對應關係，予以記憶。藉由該些資訊，在某容器載置模組6產生交換藥液容器50之必要時，可判斷儲存了任一藥液之容器載置模組6是否應被搬送至該容器載置模組6，而確定容器搬送機構7所致之藥液容器50的搬送終點。在該觀點中，控制部8，係可說是構成可否由容器搬送機構7搬送藥液容器50或進行搬送終點之控制的搬送控制部。
下述，說明關於本實施形態塗佈、顯像裝置1的作用。另外，為了方便說明，有對省略了圖示之模組中的處理等、一部分之處理的說明加以省略的情形。
晶圓W，係從載體C依各批量被逐片搬出，藉由搬送臂23，被收授至晶圓搬送路徑65內的穿梭臂66，在搬送至該晶圓搬送路徑65內後，被載置於前述收授模組TRS0。收授模組TRS0的晶圓W，係藉由收授臂32，經由收授模組TRS1、TRS2，被分配至BCT層B1、B2。
被搬入至BCT層B1、B2內的晶圓W，係一邊依反射防止膜形成模組→加熱模組→TRS1(TRS2)的順序予以搬送一邊進行處理，接下來，藉由收授臂32，經由各個收授模組TRS3、TRS4，被分配至COT層B3、B4。
被搬入至COT層B3、B4內的晶圓W，係一邊依光阻膜形成模組→加熱模組→保護膜形成模組ITC→加熱模 組→塔柱T2之收授模組TRS的順序予以搬送，一邊進行處理。
被搬入至塔柱T2之收授模組TRS的晶圓W，係在被搬入至未圖示的緩衝模組SBU後，藉由介面臂42被搬入至塔柱T4的背面洗淨模組BST，進行背面洗淨。背面洗淨後的晶圓W，係藉由各介面臂42、41、43，經由塔柱T2之調溫模組CPL(未圖示)，被搬入至曝光裝置D5。
曝光後的晶圓W，係藉由介面臂43、41被搬入至塔柱T2的收授模組TRS→塔柱T3的曝光後洗淨模組PIR，在進行洗淨後，經由塔柱T2之收授模組TRS5、TRS6，被分配至DEV層B5、B6。
被搬入至DEV層B5、B6的晶圓W，係一邊依加熱模組→顯像模組→加熱模組→塔柱T1之收授模組TRS的順序予以搬送一邊進行處理，在移載至與載體區塊D1之收授用的收授模組TRS0之後，藉由穿梭臂66搬送至晶圓搬送路徑65內，收授至搬送臂23，返回載體C。
與上述之晶圓W的搬送、處理動作同時進行，在藥液塊體D2中，執行藥液容器50之搬入搬出或容器載置模組6中之藥液容器50的交換動作。以下，參閱圖10之流程圖說明該動作的內容。
如圖4所示，在容器架60之各容器載置模組6，係配置有藥液容器50，且從與各液處理模組33連接的藥液容器50，因應液處理的進行狀況，供給藥液(開始)。 此時，監視各容器載置模組6中之藥液容器50的藥液液面等，檢測是否有已使用過的藥液容器50(步驟S101)，若無已使用過的藥液容器50則繼續監視(步驟S101；NO)。
且，若檢測出已使用過的藥液容器50(步驟S101；YES)，則在設置於塗佈、顯像裝置1之外壁面之未圖示的平板顯示器或管理工廠內之裝置的主電腦，輸出必須交換藥液容器之內容的資訊或關於交換之藥液種類的資訊(步驟S102)。所輸出之資訊，係顯示於例如被設置於塗佈、顯像裝置1之外壁面之未圖示的平板顯示器，而傳達給操作員，或發送至管理工廠內之裝置的主電腦。
該結果，藉由操作員，經由容器搬入搬出口64a，將新的藥液容器50搬入至藥液塊體D2，或藉由接收主電腦之指示的OHT101，經由容器搬入搬出路徑64b，進行新的藥液容器50之搬入。
在該期間，塗佈、顯像裝置1，係等待新的藥液容器50之搬入(步驟S103)，直至檢測出新的藥液容器50之搬入為止，繼續等待狀態(步驟S103；NO)。
且，當檢測出新的藥液容器50之搬入時(步驟S103；YES)，藉由條碼讀取器81讀取藥液容器50之條碼502，識別儲存於藥液容器50內的藥液種類(步驟S104)。且，對照設定於容器載置模組6的藥液種類與儲存於新的藥液容器50的藥液種類，該容器載置模組6，係配置有已使用過的藥液容器50。
該結果，在未搬入儲存了正確之藥液的藥液容器50時(步驟S105；NO)，對平板顯示器或主電腦告知關於藥液種類的錯誤，而等待藥液容器50的交換(步驟106)。且，若搬入了新的藥液容器50(步驟S103；YES)，則重複進行儲存於藥液容器50之藥液種類的識別(步驟S104)。
另一方面，在搬入儲存了正確之藥液的藥液容器50時(步驟S105；YES)，從托盤載置台69在容器搬送機構7接收藥液容器50，朝向交換對象的容器載置模組6進行搬送(步驟S107)。此時，容器搬送機構7，係一邊避免與圖3、圖4所示之晶圓搬送路徑65的干涉，一邊朝向目的之容器載置模組6移動。
在交換對象的容器載置模組6中，係從已使用過的藥液容器50拔出吸引噴嘴611，在藉由蓋部開關機構62將蓋部501安裝於該藥液容器50的狀態下待機(圖7)。移動至該容器載置模組6的容器搬送機構7，係使未保持藥液容器50的第1、第2臂部721、722與容器載置模組6相對向，從容器載置模組6接收已使用過的藥液容器50。接下來，使本體部71旋轉，且使保持新搬入之藥液容器50的第1、第2臂部721、722與容器載置模組6相對向，將新的藥液容器50收授至容器載置模組6。容器載置模組6，係在藉由蓋部開關機構62卸下蓋部501並使其移動至退避位置之後，裝設吸引噴嘴611，結束藥液容器50之交換(步驟S108、圖8)。
然後，容器搬送機構7，係將已使用過的藥液容器50搬送至托盤載置台69而等待搬出(步驟S109)，該藥液容器50，係藉由操作員或OHT101被搬出到外部。
藉由上述動作，若已使用過的藥液容器50與新的藥液容器50交換，則繼續監視是否有新的已使用過的藥液容器50(步驟S101)。
根據本實施形態之塗佈、顯像裝置1，具有下述效果。設置配置有藥液容器50的複數個容器載置模組6而構成容器架60(容器載置部)，使用容器搬送機構7進行容器架60中之藥液容器50的交換，由於在各容器載置模組6中，係藉由噴嘴裝卸機構61執行吸引噴嘴611的裝卸動作，故可在與外部環境區隔的藥液塊體D2內設置容器架60，而不需經由人工，即可進行藥液容器50之交換。其結果，可避免微粒等的污染物質混入藥液容器50，並且亦可將惰性氣體供給至容器載置模組6而降低藥液的變質等。
且，當搬入新的藥液容器50時，藉由條碼讀取器81讀取藥液容器50之條碼502，從而識別儲存於藥液容器50內的藥液種類，確認已搬入正確的藥液容器50。且，從托盤載置台69，在容器搬送機構7接收藥液容器50，朝向交換對象之容器載置模組6進行搬送。此時，容器搬送機構7，係一邊避免與圖3、圖4所示之晶圓搬送路徑65的干涉，一邊朝向目的之容器載置模組6 移動。
在交換對象的容器載置模組6中，係從已使用過的藥液容器50拔出吸引噴嘴611，在藉由蓋部開關機構62將蓋部501安裝於該藥液容器50的狀態下待機(圖7)。移動至該容器載置模組6的容器搬送機構7，係使未保持藥液容器50的第1、第2臂部721、722與容器載置模組6相對向，從容器載置模組6接收已使用過的藥液容器50。接下來，使本體部71旋轉，且使保持新搬入之藥液容器50的第1、第2臂部721、722與容器載置模組6相對向，將新的藥液容器50收授至容器載置模組6。容器載置模組6，係在藉由蓋部開關機構62卸下蓋部501並使其移動至退避位置之後，裝設吸引噴嘴611，結束藥液容器50之交換。
然後，已使用過的藥液容器50，係被搬送至托盤載置台69，藉由操作員或OHT101搬出到外部。
根據本實施形態之塗佈、顯像裝置1，具有下述效果。使用進行自動交換藥液容器的容器搬送機構7，在容器架60(容器配置部)與托盤載置台69(搬入搬出埠)之間進行已使用過的藥液容器50與新的藥液容器50之交換。因此，以朝向與排列成一列的載體區塊D1或處理區塊D3之排列方向正交的方向排列複數個藥液容器50的方式，配置容器架60之棚架，且即使在難以藉由人工作業的情況下，亦可執行藥液容器50之交換。其結果，可避免微粒等的污染物質混入藥液容器50，並且亦可將 惰性氣體供給至容器載置模組6而降低藥液變質。
又，可在人類難以進入之狹窄的區域配置容器架60或容器搬送機構7，而亦可抑制伴隨著設置藥液塊體D2所導致塗佈、顯像裝置之佔用面積的增大。在該情況下，為了各容器載置模組6或容器搬送機構7等之維修，而事先構成為從前方側觀之，可朝向左右任一方向抽出藥液塊體D2，或構成為從藥液塊體D2卸下載體區塊D1或處理區塊D3即可。
在此，搬送藥液容器50之容器搬送機構7的構成，並不限定於圖2等所示的例子。在例如圖11、圖12中，表示其他構成例。在該些例子中，對於具有與在以上述之容器搬送機構7所說明者共通功能的構成要素，附加與前述所說明之圖中附加之符號共通的符號。(下述，在後述之塗佈、顯像裝置1a~1d中亦相同)。
圖11所示的容器搬送機構7a，係構成為沿著移動導軌752延伸的方向，使本體部71在橫方向移動自如，並且成為各組之第1、第2臂部721、722朝向與本體部71之移動方向交叉的方向亦即容器架60(容器載置模組6)之配置方向(參閱圖2、3)伸縮的構成。藉由不使本體部71旋轉的方式，可使容器搬送機構7a之移動所需的空間變小，從而使藥液塊體D2的設置空間小型化。在使用該容器搬送機構7a的情況下，係亦可使容器搬送機構7a移動至該位置而在與容器搬送機構7a之間直接進行藥液容器50之搬入搬出，以代替在容器搬入搬出口 64a的側方或容器搬入搬出路徑64b的下方設置托盤載置台69。
又，圖12所示的容器搬送機構7b，係表示於上下方向排列藥液容器50而配置的例子。在本例中，在上下層疊的搬送架71a內，係各自配置有第1、第2臂部721、722。且，一邊使該些搬送架71a全體在旋轉軸73旋轉並使其與托盤載置台69或各容器載置模組6相對向而使搬送架71a升降，一邊進行藥液容器50之交換。即使在該例中，搬送架71a之旋轉半徑變小，亦可使藥液塊體D2的設置空間小型化。
接下來，說明關於藥液塊體D2之配置位置的變化。圖13，係表示以斜線之陰影線塗滿可配置藥液塊體D2、D2a~D2e的位置。
在藉由設置晶圓搬送路徑65的方式，經由與藥液塊體D2內之環境區隔的空間進行晶圓W之搬送的情況下，除了圖3、圖4所示的例子外，亦可在處理區塊D3中之塔柱T1或收授臂32的配置區域與層疊有單位區塊B1~B6的區域之間(圖13之藥液塊體D2a)、處理區塊D3與介面區塊D4之間(同圖之藥液塊體D2b)、介面區塊D4與曝光裝置D5之間(同圖之藥液塊體D2c)，配置藥液塊體D2a~D2c。在例如圖14中，係表示在處理區塊D3與介面區塊D4之間配置藥液塊體D2a的例子。在該情況下，係以可在設置於介面區塊D4之塔柱T2的收授模組TRS與處理區塊D2的單位區塊B1~B6之間的收授 位置，進行晶圓W之搬送的方式，設置晶圓搬送路徑65及穿梭臂66。
又，如圖15之塗佈、顯像裝置1b所示，亦可在載體區塊D1之前方側且載體C之載置台21的上方側，載置藥液塊體D2d。另外，如圖16所示，亦可在夾住塗佈、顯像裝置1c之本體(圖16的例子，係載體區塊D1)的左右兩側，設置藥液塊體D2e。如圖16之例子所示，當然亦可在任一方側排列藥液塊體D2e，以代替在塗佈、顯像裝置1c之本體的兩側設置藥液塊體D2e(參閱圖13)。
接下來，參閱圖17~圖20，說明關於第2實施形態之塗佈、顯像裝置1d的構成。本例的塗佈、顯像裝置1d，係其在橫方向排列複數個配置有藥液容器50之配置區域的容器載置模組6而構成容器配置部該點，與在上下層疊有容器載置模組6的容器架60構成容器配置部之第1實施形態的塗佈、顯像裝置1不同。
如圖17、圖19所示，本例的藥液塊體D2f，係配置於層疊有處理區塊D3之單位區塊B1~B6之區域的下方側，且形成於由外部環境或其他區塊D1、D3、D4所區隔的殼體內。各容器載置模組6的構成，係與使用圖7、圖8所說明的例子相同，故省略再次說明。
如圖18、圖19所示，在本例中，係於橫方向將5個容器載置模組6(配置區域)排列成1列並配置4列該些列，藉此，構成可收容合計20個藥液容器50的容器配置 部。如圖18所示，容器載置模組6之列，係隔開容器搬送機構7c進行移動用的間隔而配置，在該些列之間，係以U型配置有形成容器搬送機構7c之移動路徑的行走導軌76。
如圖20所示，容器搬送機構7c，係成為例如如跨坐式單軌，在具備有藉由行走導軌76所導引之導引車輪773的車體部771上，配置上述之本體部71或第1、第2臂部721、722、旋轉軸73等的構成，且使用行走車輪772在藥液塊體D2f的地面上移動。從藥液塊體D2f之頂部，經由例如導管供給從FFU67所輸送的潔淨空氣，從而在該藥液塊體D2f的空間內亦形成潔淨空氣的降流。
在本例的塗佈、顯像裝置1d中，係亦可將圖18所示的開關部641打開，而操作員在托盤載置台69上配置藥液容器50，或亦可設成為經由已打開開關部641的容器搬入搬出口64a，托盤載置台69可移動至塗佈、顯像裝置1之外方的構成，或設成為從OHT101將藥液容器50載置於該托盤載置台69上而取入至藥液塊體D2f內的構成。
又，藥液塊體D2f，係如圖17、圖19所示的例子，亦可在該些單位區塊B1~B6的上段層疊藥液塊體D2f，以代替設置於互相層疊之單位區塊B1~B6的下方側。在該情況下，亦可在塗佈、顯像裝置1d的頂棚面設置可在開關部641開關自如的開口，而經由該開口，藉由 OHT101，進行藥液容器50之搬入搬出。
即使在本實施形態所示的塗佈、顯像裝置1d中，亦可在與外部環境所區隔的藥液塊體D2內設置容器載置模組6，而不需經由人工，即進行藥液容器50之交換，並可在潔淨的環境下進行藥液容器50之交換，而降低藥液之污染。又，亦可對容器載置模組6供給惰性氣體，而降低藥液變質。
在此，使藥液供給路徑338之基端側對於藥液容器50進行裝卸的機構，並不限於圖7、圖8所示之吸引噴嘴611之噴嘴裝卸機構61的例子。例如，亦可在代替蓋部501之由按壓至藥液容器50之開口部而安裝之橡膠構件等所構成的蓋部，連接藥液供給路徑338之基端側，而在將該蓋部安裝於藥液容器50之後，使藥液容器50的上下轉動，進行藥液之放出。在該情況下，與藥液供給路徑338連接之進行蓋部之裝卸的機構，係成為前述裝卸機構。
又，亦可在例如蓋部開關機構62與容器搬送機構7之間之藥液容器50的收授位置設置共通的蓋部開關機構62，以代替在各容器載置模組6設置蓋部開關機構62，在此移除蓋部501之後，於打開的狀態下，將藥液容器50搬送至各容器載置模組6。從藥液容器50卸下的蓋部501，係被收集於例如共通的廢棄箱等，而另行廢棄。又，已使用過的藥液容器50，係在卸下蓋部501的狀態下被搬出。在該例的之情況下，係由於在卸下蓋部 501的狀態下搬送藥液容器50，故為了防止藥液變質，而亦可將藥液塊體D2的空間內全體設成為惰性氣體的環境。
在此，在容器載置模組6設置開關門(擋門)的構成，係如上述，為了經由藥液容器50之開口吸入周圍之氣體，而不限定於將惰性氣體供給至容器載置模組6之區域內的情形。即使在不進行惰性氣體之供給的情況下，亦可在例如通常時事先將開關門關閉，僅在藥液容器50之交換時將開關門打開，藉此，可抑制微粒從容器搬送機構7進行移動的空間進入，從而在潔淨的空間內進行藥液之供給。
且，容器載置模組6，亦並非必需具備蓋部開關機構62。作為例如藥液容器50，在使用開口部被橡膠膜所覆蓋的小瓶容器時，係亦可刺入前述橡膠膜而將吸引噴嘴611插人至藥液容器50內，以代替使用蓋部開關機構62來卸下蓋部501。
又，在容器載置部(圖4之容器架60或圖18之容器載置模組6的列)中，並非必需設置區隔相鄰之容器載置模組6彼此的隔板，亦可在共通之橫長的架或台之事先設定的位置(配置區域)載置藥液容器50。在該情況下，亦可藉由構成為使噴嘴裝卸機構61或蓋部開關機構62在複數個藥液容器50間移動自如的方式，使噴嘴裝卸機構61或蓋部開關機構62共有化。且，在該情況下，係在各藥液容器50之配置區域的附近，設置藥液供給路 徑338的基端部或載置蓋部501的載置台等即可。
此外，在藥液容器50裝設吸引噴嘴611或藥液供給路徑338的時機，係不限於在將藥液容器50載置於容器載置模組6之後。亦可在將藥液容器50搬送至容器載置模組6的區域內後，藉由容器搬送機構7，在保持藥液容器50的狀態下卸下蓋部501，進行吸引噴嘴611等的裝設，然後，在容器載置模組6載置藥液容器50。
圖21，係表示容器搬送機構7、7a~7c之臂部722a及托盤51a的其他構成例。在本例之托盤51a的上面，係設置有凸緣部513，該凸緣部513，係朝向橫方向突出於四方，藉由OHT101的把持部102予以握持。在該凸緣部513的各側面中，於橫方向貫通凸緣部513內的貫通孔514為開口。且，可藉由設置於容器搬送機構7、7a~7c，將在基端部側相互連結之2根直棒狀的臂部722a插入至該些貫通孔514而舉起托盤51a的方式，搬送收容於托盤51a內的藥液容器50。
又，沿著凸緣部513之各側面設置8個貫通孔514，藉此，亦可從托盤51a的任一方向插入臂部722a。其結果，在搬入至藥液塊體D2時，即使不使托盤51a的方向與固定方向一致，亦可將托盤51a收授至容器搬送機構7、7a~7c。
且，容器搬送機構7、7a~7c，係並非必需在收容於托盤51、51a的狀態下搬送藥液容器50，亦可藉由機械手臂等直接保持藥液容器50之本體的側面或底 面，而進行搬送。
並且，容器搬送機構7，係亦可不具備有同時搬送複數個藥液容器50的功能。在該情況下，係從進行交換的容器載置模組6，取出已使用過的藥液容器50而搬送至托盤載置台69，在搬出該藥液容器50之後，只要接收新的藥液容器50，而搬送至已取出使用過的藥液容器50之容器載置模組6即可。
在圖22中，表示其他實施形態之容器配置部的構成。本例的藥液塊體D2d，係藉由在沿著左右的內壁面、頂棚面及地面而鋪設的輸送帶601保持容器載置模組6的方式，構成容器配置部。且，藉由未圖示的驅動機構來驅動輸送帶601，使各容器載置模組6移動至與托盤載置台69之間的收授位置，從而由容器搬送機構7c進行藥液容器50之交換。
各容器載置模組6，係經由集合配管602連接於藥液泵681，該集合配管602，係捆綁了由具有可撓性之樹脂製之配管構件等所構成的藥液供給路徑338。在本例中，不與晶圓搬送路徑65產生干涉而能夠使集合配管602移動的範圍，係成為輸送帶601的驅動範圍。
由於本例的藥液塊體D2d係不必設置容器搬送機構7c進行移動的空間，故可使藥液塊體D2d之前後方向的寬度變得更窄。
且，設置於藥液塊體D2(D2a~D2d)的晶圓搬送路徑65，並不限定於形成於筒狀體之內側的情形。 例如將構成晶圓搬送路徑65的頂棚面及地面的板體配置為上下對向，在朝向藥液塊體D2內的空間而開口之上下之板體的側方位置形成氣幕，藉此，亦可構成從藥液塊體D2之環境予以區隔的晶圓搬送路徑65。
在上述所說明的各例中，使藥液供給路徑338之基端側對於藥液容器50進行裝卸的機構，並不限於圖7、圖8所示之吸引噴嘴611之噴嘴裝卸機構61的例子。例如，亦可在代替蓋部501之由按壓至藥液容器50之開口部而安裝之橡膠構件等所構成的蓋部，連接藥液供給路徑338之基端側，而在將該蓋部安裝於藥液容器50之後，使藥液容器50的上下轉動，進行藥液之放出。在該情況下，與藥液供給路徑338連接之進行蓋部之裝卸的機構，係成為前述裝卸機構。
又，亦可在例如蓋部開關機構62與容器搬送機構7之間之藥液容器50的收授位置設置共通的蓋部開關機構62，以代替在各容器載置模組6設置蓋部開關機構62，在此移除蓋部501之後，於打開的狀態下，將藥液容器50搬送至各容器載置模組6。從藥液容器50卸下的蓋部501，係被收集於例如共通的廢棄箱等，而另行廢棄。又，已使用過的藥液容器50，係在卸下蓋部501的狀態下被搬出。在該例之情況下，係由於在卸下蓋部501的狀態下搬送藥液容器50，故為了防止藥液變質，而亦可將藥液塊體D2的空間內全體設成為惰性氣體的環境。
在此，在容器載置模組6設置開關門(擋 門)的構成，係如上述，為了經由藥液容器50之開口吸入周圍之氣體，而不限定於將惰性氣體供給至容器載置模組6之區域內的情形。即使在不進行惰性氣體之供給的情況下，亦可在例如通常時事先將開關門關閉，僅在藥液容器50之交換時將開關門打開，藉此，可抑制微粒從容器搬送機構7進行移動的空間進入，從而在潔淨的空間內進行藥液之供給。
且，容器載置模組6，亦並非必需具備蓋部開關機構62。作為例如藥液容器50，在使用開口部被橡膠膜所覆蓋的小瓶容器時，係亦可刺入前述橡膠膜而將吸引噴嘴611插入至藥液容器50內，以代替使用蓋部開關機構62來卸下蓋部501。
又，在設置容器架60的情況下，在容器載置部(圖4之容器架60或圖18之容器載置模組6的列)中，並非必需設置區隔相鄰之容器載置模組6彼此的隔板，亦可在共通之橫長的棚架之事先設定的位置(配置區域)載置藥液容器50。在該情況下，亦可藉由構成為使噴嘴裝卸機構61或蓋部開關機構62在複數個藥液容器50間移動自如的方式，使噴嘴裝卸機構61或蓋部開關機構62共有化。且，在該情況下，係在各藥液容器50之配置區域的附近，設置藥液供給路徑338的基端部或載置有蓋部501的載置台等即可。
此外，在藥液容器50裝設吸引噴嘴611或藥液供給路徑338的時機，係不限於將藥液容器50載置於 容器載置模組6之後。亦可在將藥液容器50搬送至容器載置模組6的區域內後，藉由容器搬送機構7，在保持藥液容器50的狀態下卸下蓋部501，進行吸引噴嘴611等的裝設，然後，在容器載置模組6載置藥液容器50。
並且，可應用本發明的基板處理裝置，並非限於對晶圓W進行光阻劑之塗佈、顯像的塗佈、顯像裝置1者。作為例如液處理模組，具備對晶圓W之表面或背面供給鹼性或酸性之藥液而執行洗淨處理的洗淨模組，且在處理區塊內設置有複數台該些洗淨模組的洗淨裝置亦可適用本發明。
1‧‧‧塗佈、顯像裝置
6‧‧‧藥液配置模組
7‧‧‧容器搬送機構
8‧‧‧控制部
21‧‧‧載置台
22‧‧‧開關部
23‧‧‧搬送臂
31‧‧‧搬送區域
32‧‧‧收授臂
41‧‧‧介面臂
42‧‧‧介面臂
43‧‧‧介面臂
50‧‧‧藥液容器
51‧‧‧托盤
60‧‧‧容器架
64a‧‧‧容器搬入搬出口
69‧‧‧托盤載置台
71‧‧‧本體部
73‧‧‧旋轉軸
74‧‧‧支撐部
641‧‧‧開關部
751‧‧‧升降導軌
752‧‧‧移動導軌
B3‧‧‧COT層
B4‧‧‧COT層
D1‧‧‧載體區塊
D2‧‧‧藥液塊體
D3‧‧‧處理區塊
D4‧‧‧介面區塊
D5‧‧‧曝光裝置
F3‧‧‧搬送臂
F4‧‧‧搬送臂
T1‧‧‧塔柱
T2‧‧‧塔柱
T3‧‧‧塔柱
T4‧‧‧塔柱
C‧‧‧載體
W‧‧‧晶圓
U‧‧‧棚架單元
COT‧‧‧光阻膜模組
ITC‧‧‧保護膜形成模組

Claims (22)

  1. 一種藥液容器交換裝置，其特徵係，具備有：容器配置部，設置有配置藥液容器的複數個配置位置，該藥液容器，係裝設了各個藥液供給路徑之基端側；裝卸機構，對配置於前述容器配置部之各配置位置之藥液容器裝卸前述藥液供給路徑的基端側；搬入搬出埠，設置於與前述容器配置部不同的位置，用於搬入儲存有用以對基板進行液處理之藥液的新的藥液容器，且搬出已使用過的藥液容器；及共通之容器搬送機構，從前述容器配置部的各配置位置將已使用過的藥液容器搬送至前述搬入搬出埠，從搬入搬出埠將新的藥液容器搬送至前述容器配置部的各配置位置，前述容器配置部、搬入搬出埠及容器搬送機構所致之藥液容器的搬送區域，係設置於從外部環境所區隔的空間。
  2. 如申請專利範圍第1項之藥液容器交換裝置，其中，具備有：蓋部開關機構，藉由蓋部，將卸下前述藥液供給路徑後之已使用過的藥液容器的藥液取出口關閉，並卸下新的藥液容器之蓋部而將藥液取出口打開。
  3. 如申請專利範圍第2項之藥液容器交換裝置，其中，前述蓋部開關機構，係設置為對配置於前述容器配置 部的藥液容器進行蓋部的開關。
  4. 如申請專利範圍第1~3項中任一項之藥液容器交換裝置，其中，具備有：氣體供給部，對前述從外部環境所區隔的空間供給潔淨氣體。
  5. 如申請專利範圍第1~3項中任一項之藥液容器交換裝置，其中，具備有：惰性氣體供給部，對前述從外部環境所區隔的空間供給惰性氣體。
  6. 如申請專利範圍第1~3項中任一項之藥液容器交換裝置，其中，前述容器配置部，係構成為在上下方向層疊有複數層將前述複數個配置位置排列於橫方向之棚架的容器架。
  7. 如申請專利範圍第6項之藥液容器交換裝置，其中，前述容器架，係設置於載體區塊與處理區塊之間，該該載體區塊，係配置有收納了複數片基板的載體，該處理區塊，係相對於前述載體區塊橫方向地排列配置，且具備有對從配置於該載體區塊之載體所取出的基板供給經由前述藥液供給路徑所傳送之藥液而進行液處理的液處理模組。
  8. 如申請專利範圍第6項之藥液容器交換裝置，其中，對於配置有收納了複數片基板的載體之前方側的載體 區塊與處理區塊(該處理區塊，係橫方向地排列配置於前述載體區塊之後方側，且具備有對從配置於該載體區塊之載體所取出的基板供給經由前述藥液供給路徑所傳送之藥液而進行液處理的液處理模組)，前述容器架，係設置於前述載體區塊之前方側且配置有前述載體之位置的上方側，或從前方側觀看，設置於前述載體區塊的兩側。
  9. 如申請專利範圍第1~3項中任一項之藥液容器交換裝置，其中，前述容器配置部，係構成為在橫方向排列前述複數個配置位置，且配置為層疊有前述容器配置部與具備了液處理模組的處理區塊，該液處理模組，係對基板供給經由前述藥液供給路徑所傳送的藥液，而進行液處理。
  10. 如申請專利範圍第1~3項中任一項之藥液容器交換裝置，其中，在前述容器配置部中，係與儲存了種類不同之藥液的藥液容器相對應而配置於事先設定的前述複數個配置位置，且具備有：取得部，取得用以識別儲存於被搬入至前述搬入搬出埠之藥液容器之藥液種類的識別資訊；及搬送控制部，控制前述容器搬送機構，前述搬送控制部，係在前述取得部取得之識別資訊所表示的藥液種類與對應於搬入至前述搬入搬出埠之藥液容器之搬送終點之配置位置的藥液種類一致時，將藥液容器 搬送至該配置位置。
  11. 如申請專利範圍第10項之藥液容器交換裝置，其中，前述取得部，係用以讀取前述識別資訊即條碼的條碼讀取器，前述條碼讀取器，係配置於讀取對應於搬入至前述搬入搬出埠之藥液容器之條碼的位置。
  12. 如申請專利範圍第1~3項中任一項之藥液容器交換裝置，其中，前述藥液供給路徑，係連接於光阻塗佈模組與顯像模組，該光阻塗佈模組係對基板塗佈光阻劑，該顯像模組係對曝光後的基板供給顯像液，在前述複數個容器載置部，係載置有儲存了光阻液或顯像液的藥液容器。
  13. 一種容器載置模組，係設置於如申請專利範圍第1~12項中任一項之藥液容器交換裝置，構成前述藥液容器的配置位置，其特徵係，具備有：裝卸機構，被載置於前述容器載置模組，對前述藥液容器(該藥液容器，係儲存有用於對基板進行液處理的藥液)裝卸前述藥液供給路徑的基端側；及氣體供給部，對前述容器載置模組內供給潔淨氣體。
  14. 一種藥液容器之交換方法，係使用如申請專利範圍第1~12項中任一項之藥液容器交換裝置，供給用於對基板進行液處理的藥液，該藥液容器之交換方法，其特徵係，包含有：卸下裝設於已使用過的藥液容器之藥液供給路徑之基 端側的工程；及將前述藥液供給路徑之基端側安裝於新的藥液容器的工程，在從外部環境所區隔的空間進行前述卸下工程與前述安裝工程。
  15. 一種基板處理裝置，其特徵係，具備有：載體區塊，搬入收納了複數片基板的載體；處理區塊，相對於前述載體區塊橫方向地排列配置，且具備有對從該載體區塊內之載體所取出的基板供給藥液而進行液處理的複數個液處理模組；及藥液塊體，設置為相對於前述載體區塊及處理區塊以一列的方式排列，且用於收容儲存了被供給至前述液處理模組之藥液的複數個藥液容器，前述藥液塊體，係具備有：容器配置部，排列配置有用以在與前述載體區塊及處理區塊之排列方向正交的方向配置前述藥液容器的複數個配置位置；搬入搬出埠，用於搬入搬出藥液容器；及共通之容器搬送機構，用於在前述容器配置部的配置位置與搬入搬出埠之間，進行自動交換已使用過的藥液容器與新的藥液容器，在前述藥液塊體中，沿著前述載體區塊及處理區塊之排列方向而延伸之基板的通路，係形成為貫通該藥液塊體的空間內。
  16. 如申請專利範圍第15項之基板處理裝置，其中，前述基板的通路，係被筒狀體所包圍，該筒狀體係沿基板的移動方向延伸。
  17. 如申請專利範圍第15或16項之基板處理裝置，其中，前述容器搬送機構，係支撐於往與前述基板之通路延伸之方向交叉之方向移動的構件，在前述基板的通路，係形成有用以使支撐容器搬送機構之構件通過的缺口。
  18. 如申請專利範圍第15或16項之基板處理裝置，其中，前述容器配置部，係具備有：驅動機構，用以使藥液容器之各配置位置在前述基板之通路的周圍且周方向移動，且移動至與前述容器搬送機構之間之藥液容器的收授位置。
  19. 如申請專利範圍第15或16項之基板處理裝置，其中，前述藥液塊體，係設置於前述載體區塊與前述處理區塊之間。
  20. 如申請專利範圍第15或16項之基板處理裝置，其中，前述處理區塊，係具備有：一液處理模組，為了在基板形成包含光阻膜的塗佈膜，而使用藥液對基板進行液處理；及另一液處理模組，藉由屬於藥液的顯像液，對曝光後的基板進行顯像， 從前述處理區塊觀之，在設置有載體區塊之方向的相反側，係設置有介面區塊，該介面區塊，係連接於曝光裝置，且在處理區塊與曝光裝置之間進行基板的搬送，前述藥液塊體，係設置於前述處理區塊與前述介面區塊之間。
  21. 如申請專利範圍第15或16項之基板處理裝置，其中，當將前述載體區塊與前述處理區塊的排列方向設成為前後方向時，則包圍前述藥液塊體，而在左及右的至少一方的側壁形成藥液容器的搬入搬出口。
  22. 如申請專利範圍第15或16項之基板處理裝置，其中，在包圍前述藥液塊體的頂部，形成藥液容器的搬入搬出口。
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