JP5920981B2 - 基板処理システム - Google Patents
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Description
第1実施形態は本発明に係る基板処理システムを塗布現像処理システムに適用した場合である。塗布現像処理システム1は、図1ないし図3に示すように、基板であるウエハWが例えば25枚密閉収納されたキャリアCを搬入出するためのキャリア搬入出ブロック2と、複数個例えば6個の第1〜第6の単位ブロックB1〜B6を縦に配列して構成された処理ブロック4と、キャリア搬入出ブロック2に搬入されたキャリアC内のウエハWを処理ブロック4に対して搬入出する基板搬入出ブロック3と、インターフェイスブロック5と、露光装置6と、を備えている。
次に、本発明に係る基板処理システムの第2実施形態について説明する。図9及び図10は、第2実施形態に係る基板の処理方法が実現される基板処理システムとしての洗浄処理システム101の構成を示す平面図と概略断面図である。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。
101 洗浄処理装置(基板処理システム)
2,102 キャリア搬入出ブロック
3,103 基板搬入出ブロック
4,104 処理ブロック
4a,104a 第1の処理ブロック
4b,104b 第2の処理ブロック
4c 第3の処理ブロック
5 インターフェイスブロック
6 露光装置
7a 基板搬入部
7b 基板搬出部
107 基板搬入出部
8,108 キャリア搬送装置
9 基板受渡しアーム
10 バッファ部
12 塗布ユニット
12A 反射防止膜塗布装置
12B 現像処理装置
12C レジスト塗布装置
13 熱処理ユニット
16,116 蓋体開閉機構
19 インターフェイスアーム
30 キャリア待機部
W ウエハ(基板)
A(A11,A12) メインアーム(基板搬送装置)
A1,A2 メインアーム(第1の基板搬送装置)
A3,A4 メインアーム(第3の基板搬送装置)
A5,A6 メインアーム(第2の基板搬送装置)
C キャリア
C1 キャリア蓋体
B1〜B6 第1〜第6の単位ブロック
BU1〜BU6 バッファユニット
Claims (13)
- 複数の基板を収容可能なキャリアを積載するキャリア搬入出ブロックと、基板に対して枚葉処理を行う少なくとも一つの処理ユニットを有する第1の処理ブロックと、第1の処理ブロックにおいて処理された基板に対して枚葉処理を行う少なくとも一つの処理ユニットを有する第2の処理ブロックとを積層してなる処理ブロックと、
前記キャリア搬入出ブロックと前記処理ブロックとの間に設けられ、前記キャリア搬入出ブロックと前記処理ブロックとの間で基板を搬入出する基板搬入出ブロックとを備えた基板処理システムであって、
キャリアを前記第1の処理ブロックに連通する位置に載置する基板搬入部と、
キャリアを前記第2の処理ブロックに連通する位置に載置する基板搬出部と、
前記第1の処理ブロック内に設けられ、前記基板搬入部に載置されたキャリアから基板を取り出し、前記第1の処理ブロック内の処理ユニットに搬送する第1の基板搬送装置と、
前記第2の処理ブロック内に設けられ、第2の処理ブロック内の処理ユニットで処理された基板を前記基板搬出部上のキャリアに搬送する第2の基板搬送装置と、
前記キャリア搬入出ブロックと前記基板搬入部及び基板搬出部との間でキャリアを搬送すると共に、前記基板搬入部上のキャリアから前記第1の基板搬送装置によって基板が取り出された後に、当該キャリアを前記基板搬出部に搬送するキャリア搬送装置と、
を備えることを特徴とする基板処理システム。 - 前記基板搬入部と前記基板搬出部には、キャリアの蓋体を開閉する蓋体開閉機構を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記処理ブロックは、第1の処理ブロックで処理された基板に対して、第2の処理ブロックで処理される前に処理する処理ユニットを有する第3の処理ブロックと、前記第3の処理ブロック内の処理ユニットに対して基板を搬入出する第3の基板搬送装置と、を備えるとこを特徴とする請求項1又は2に記載の基板処理システム。
- 前記処理ブロックと露光装置との間にインターフェイスブロックを更に備え、前記インターフェイスブロック内に、前記第1の基板搬送装置によって搬送される基板を載置可能な、かつ、前記第2の基板搬送装置によって搬出可能な複数の載置棚を有するバッファ部と、前記バッファ部と前記露光装置との間で基板を授受するインターフェイスアームと、前記バッファ部の載置棚間で基板を授受する基板受渡しアームと、を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板処理システム。
- 前記第1の処理ブロックはレジスト塗布処理ユニットを有し、前記第2の処理ブロックは現像処理ユニットを有する、ことを特徴とする請求項4に記載の基板処理システム。
- 前記処理ブロックと露光装置との間にインターフェイスブロックを更に備え、前記インターフェイスブロック内に、前記第1の基板搬送装置によって搬送される基板の載置、かつ、前記第2の基板搬送装置による基板の搬出、及び前記第3の基板搬送装置によって搬送される基板を載置すると共に、基板の搬出可能な複数の載置棚を有するバッファ部と、前記バッファ部と前記露光装置との間で基板を授受するインターフェイスアームと、前記バッファ部の載置棚間で基板を授受する基板受渡しアームと、を備えることを特徴とする請求項3に記載の基板処理システム。
- 前記第1の処理ブロックは反射防止膜塗布処理ユニットを有し、前記第2の処理ブロックは現像処理ユニットを有し、前記第3の処理ブロックはレジスト塗布処理ユニットを有する、ことを特徴とする請求項6に記載の基板処理システム。
- 少なくとも前記第1の基板搬送装置及び前記蓋体開閉機構の駆動を制御する制御部を更に備え、前記制御部からの制御信号に基づいて、前記第1の処理ブロックにおいて、基板がキャリアから第1の処理ブロックへ搬送されるまでの時間が所定時間以上の場合には、前記蓋体開閉機構がキャリアの蓋体を閉じる、ことを特徴とする請求項2に記載の基板処理システム。
- 少なくとも前記第2の基板搬送装置及び前記蓋体開閉機構の駆動を制御する制御部を更に備え、前記制御部からの制御信号に基づいて、第2の処理ブロックにおいて、基板が第2の処理ブロックからキャリアへ搬送されるまでの時間が所定時間以上の場合には、前記蓋体開閉機構がキャリアの蓋体を閉じる、ことを特徴とする請求項2に記載の基板処理システム。
- 複数の基板を収容可能なキャリアを積載するキャリア搬入出ブロックと、基板に対して枚葉処理を行う少なくとも一つの処理ユニットを有する処理ブロックと、前記キャリア搬入出ブロックと前記処理ブロックとの間に設けられ、キャリアと前記処理ブロックとの間で基板を搬入出する基板搬入出ブロックとを備えた基板処理システムであって、
キャリアを前記処理ブロックに連通する位置に載置可能に構成された基板搬入出部と、
前記処理ブロック内に設けられ、前記基板搬入出部に載置されたキャリアと前記処理ユニットに対して基板を授受する基板搬送装置と、
前記キャリア搬入出ブロックと前記基板搬入出部との間でキャリアを搬送するキャリア搬送装置と、
を備えたことを特徴とする基板処理システム。 - 前記基板搬入出部にキャリアの蓋体を開閉するための蓋体開閉機構を備えることを特徴とする請求項10に記載の基板処理システム。
- 少なくとも前記基板搬送装置及び前記蓋体開閉機構の駆動を制御する制御部を更に備え、前記制御部からの制御信号に基づいて、前記処理ブロックからキャリアへ基板が搬送されるまでの時間が所定時間以上の場合には、前記蓋体開閉機構が蓋体を閉じる、ことを特徴とする請求項11に記載の基板処理システム。
- 前記基板搬入出ブロックに、キャリアを載置可能なキャリア待機部を備える、ことを特徴とする請求項1ないし12のいずれかに記載の基板処理システム。
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