JP6929105B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
基板処理装置および基板処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6929105B2 JP6929105B2 JP2017075658A JP2017075658A JP6929105B2 JP 6929105 B2 JP6929105 B2 JP 6929105B2 JP 2017075658 A JP2017075658 A JP 2017075658A JP 2017075658 A JP2017075658 A JP 2017075658A JP 6929105 B2 JP6929105 B2 JP 6929105B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- lid
- unit
- processing
- time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 182
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 155
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 115
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 58
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 57
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 176
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 37
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 27
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 15
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 10
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 8
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
C キャリア
C1 蓋体
1 基板処理システム
5 蓋体開閉機構
7 基板検出部
11 キャリア載置部
12 搬送部
12a 搬入出室
12b 受渡室
13 第1搬送装置
14 受渡部
15 搬送部
16 処理ユニット
17 第2搬送装置
18 制御部
Claims (7)
- 複数の基板を収容可能なキャリアが載置されるキャリア載置部と、
前記キャリア載置部に載置された前記キャリアの蓋体を開閉する蓋体開閉機構と、
前記基板を載置可能な複数の載置場所を有する基板載置部と、
前記基板を保持する複数の基板保持部を有し、前記キャリアと前記基板載置部との間で複数の前記基板を搬送する第1搬送装置と、
前記基板を処理する複数の処理部と、
前記基板載置部と前記複数の処理部との間で前記基板を搬送する第2搬送装置と、
前記蓋体開閉機構、前記第1搬送装置、前記複数の処理部および前記第2搬送装置を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記基板載置部が有する前記複数の載置場所のうち前記基板が載置されていない空き載置場所の数が、前記第1搬送装置によって同時搬送される基板の枚数未満であり、且つ、前記蓋体が閉じられた状態において、現時点から前記同時搬送される基板の枚数分の前記基板が前記第2搬送装置によって前記基板載置部から取り出されるまでに要する時間が、前記蓋体を開く開動作を含む開蓋処理に要する時間以下となったことを開蓋条件として、前記第2搬送装置により前記基板載置部から前記基板を取り出すことが決定された時点から前記空き載置場所の数が前記同時搬送される基板の枚数に達すると予想される予想時点よりも前の時点までの間に、前記蓋体開閉機構に対し、前記開動作を開始させること
を特徴とする基板処理装置。 - 前記制御部は、
前記蓋体が開かれた状態において、前記第1搬送装置による前記キャリアへのアクセスが一定時間なされない場合に、前記蓋体開閉機構に対して前記蓋体を閉じる閉動作を行わせ、その後、前記空き載置場所の数が前記同時搬送される基板の枚数未満であり、且つ、前記蓋体が閉じられた状態において、前記第2搬送装置により前記基板載置部から前記基板を取り出すことが決定された時点から前記空き載置場所の数が前記同時搬送される基板の枚数に達すると予想される予想時点よりも前の時点までの間に、前記蓋体開閉機構に対して前記開動作を開始させること
を特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、
前記処理部による前記基板の処理が終了したことを示す終了信号または前記処理が終了することを示す終了予告信号を前記処理部から受信した場合に、前記第2搬送装置により前記基板載置部から前記基板を取り出すことを決定すること
を特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、
前記第2搬送装置により前記基板載置部から前記基板を取り出すことが決定され、且つ、前記同時搬送される基板の枚数分の前記基板を前記同時搬送される基板の枚数分の前記処理部に対して連続して順次搬入可能である場合に、前記蓋体開閉機構に対し、前記開動作を開始させること
を特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記予想時点は、
前記第2搬送装置が前記基板載置部から前記基板を取り出して前記処理部に搬入する動作が連続して行われたと仮定した場合に、前記空き載置場所の数が前記同時搬送される基板の枚数に達すると予想される時点であること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、
前記基板載置部に載置されている、前記処理部によって処理された処理済基板の数が、前記同時搬送される基板の枚数未満であり、且つ、前記蓋体が閉じられた状態において、前記第2搬送装置により前記処理部から前記処理済基板を取り出すことが決定された時点から前記基板載置部に載置されている前記処理済基板の数が前記同時搬送される基板の枚数に達すると予想される予想時点よりも前の時点までの間に、前記蓋体開閉機構に対し、前記蓋体を開く開動作を開始させること
を特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 複数の基板を収容可能なキャリアが載置されるキャリア載置部と、前記キャリア載置部に載置された前記キャリアの蓋体を開閉する蓋体開閉機構と、前記基板を載置可能な複数の載置場所を有する基板載置部と、前記基板を保持する複数の基板保持部を有し、前記キャリアと前記基板載置部との間で複数の前記基板を搬送する第1搬送装置と、前記基板を処理する複数の処理部と、前記基板載置部と前記複数の処理部との間で前記基板を搬送する第2搬送装置とを備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
前記蓋体開閉機構を用いて前記蓋体を閉じる閉工程と、
前記蓋体開閉機構を用いて前記蓋体を開く開工程と
を含み、
前記開工程は、
前記基板載置部が有する前記複数の載置場所のうち前記基板が載置されていない空き載置場所の数が、前記第1搬送装置によって同時搬送される基板の枚数未満であり、且つ、前記蓋体が閉じられた状態において、現時点から前記同時搬送される基板の枚数分の前記基板が前記第2搬送装置によって前記基板載置部から取り出されるまでに要する時間が、前記蓋体を開く開動作を含む開蓋処理に要する時間以下となったことを開蓋条件として、前記第2搬送装置により前記基板載置部から前記基板を取り出すことが決定された時点から前記空き載置場所の数が前記同時搬送される基板の枚数に達すると予想される予想時点よりも前の時点までの間に、前記蓋体開閉機構に対し、前記開動作を開始させること
を特徴とする基板処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017075658A JP6929105B2 (ja) | 2017-04-06 | 2017-04-06 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017075658A JP6929105B2 (ja) | 2017-04-06 | 2017-04-06 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018181946A JP2018181946A (ja) | 2018-11-15 |
JP6929105B2 true JP6929105B2 (ja) | 2021-09-01 |
Family
ID=64277136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017075658A Active JP6929105B2 (ja) | 2017-04-06 | 2017-04-06 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6929105B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6045946B2 (ja) * | 2012-07-13 | 2016-12-14 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、プログラムおよび記録媒体 |
JP5920981B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2016-05-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
-
2017
- 2017-04-06 JP JP2017075658A patent/JP6929105B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018181946A (ja) | 2018-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6247245B1 (en) | Processing unit for substrate manufacture | |
JP2902222B2 (ja) | 乾燥処理装置 | |
JP6425639B2 (ja) | 基板処理システム | |
KR101694646B1 (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 운용 방법 및 기억 매체 | |
JP6559087B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4989398B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6728358B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | |
TWI775948B (zh) | 基板處理裝置 | |
JP6789384B2 (ja) | 基板処理装置および基板搬送方法 | |
JP7336877B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6671459B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
US9766543B2 (en) | Liquid treatment method, substrate processing apparatus and non-transitory storage medium | |
JP5154102B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR102658643B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 그 반송 제어 방법 | |
JP2003224100A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP3667527B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6929105B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP3730810B2 (ja) | 容器の移動装置および方法 | |
JP6914062B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR100650807B1 (ko) | 기판반송장치, 처리장치, 기판의 처리시스템, 반송방법, 수납장치 및 수용박스 | |
JP2006019320A (ja) | 縦型熱処理装置及びその運用方法 | |
JP6395673B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6312615B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
US6651704B2 (en) | Stationary and pivotable trays for semiconductor wafer transfer | |
JP2004296646A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210713 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210810 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6929105 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |