JP6123629B2 - 薬液容器交換装置及び基板処理装置 - Google Patents
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- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims description 261
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 122
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 110
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 70
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 claims description 32
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 15
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 40
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 12
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
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Description
前記複数の容器保持体を周回軌道に沿って移動させる搬送機構と、
前記容器保持体に保持される薬液容器に前記薬液供給路の基端側を着脱するための供給路着脱機構と、
薬液が貯留されている新たな薬液容器を搬入し、使用済みの薬液容器を搬出するための搬入出ポートと、
前記交換位置に停止している容器保持体内の使用済みの薬液容器を前記搬入出ポートに移載し、前記搬入出ポートに載置された新たな薬液容器を当該容器保持体内に移載するための移載機構と、を備え、
前記薬液容器は、台部に載せて前記搬入出ポートから容器保持体に移載されることを特徴とする。
薬液供給路の先端側に設けられた薬液吐出部から吐出される薬液により基板を液処理するための液処理モジュールを含む処理ブロックと、を備えることを特徴とする基板処理装置。
本発明の第1の実施の形態にかかる薬液容器交換装置を備えた基板処理装置として、塗布、現像装置に適用した実施形態について図1〜図4を参照して説明する。この塗布、現像装置は、キャリアブロックD1と、薬液ブロックD2と、処理ブロックD3と、インターフェイスブロックD4と、を直線状に接続して構成されている。インターフェイスブロックD4には、更に露光ステーションD5が接続されている。
処理ブロックD3はウエハWに液処理を行うための第1〜第6の単位ブロックE1〜E6が下から順に積層されて構成され、各単位ブロックE1〜E6は、概ね同じ構成である。図1において各単位ブロックE1〜E6に付したアルファベット文字は、処理種別を表示しており、BCTは反射防止膜形成処理、COTはウエハWにレジストを供給してレジスト膜を形成するレジスト膜形成処理、DEVは現像処理を表している。
本例の薬液ブロックD2は、塗布、現像装置が配置されている工場内の雰囲気(外部雰囲気)及び他のブロックから区画され、壁面で囲まれた空間として構成されており、キャリアブロックや処理ブロックの並び方向に沿って、これらキャリアブロックD1と処理ブロックD3との間に前後を挟まれるように配置されている。
搬送機構20は、図7に略解的に示すように駆動機構50は、駆動ローラー51と、3つの従動ローラー52と、エンドレスベルト53とを備えている。Y軸方向から見て、駆動ローラー51と、3つの従動ローラー52とは、正方形の頂点に位置するように配置され、駆動ローラー51及び各従動ローラー52の外側からエンドレスベルト53を掛けることで、正方形の周回軌道が形成されている。駆動ローラー51は、回転機構54により連結されて、駆動ローラー51が回転することによりエンドレスベルト53が周回するように構成されている。
蓋部開閉機構7は、容器保持体2に載置されたトレー31の後方側(D3側)に設けられる。蓋部開閉機構7は、蓋部29を開閉する開閉部71と、開閉部71を保持する支持アーム72と、支持アーム72を昇降させる昇降機構73と、を備えている。
開閉部71は、薬液容器2を密封する蓋部29の外周面に密着して嵌合する開口を備えた部材であり、前記開口を下方側へ向けて支持アーム72の先端部に保持されている。開閉部71は、支持アーム72内に設けられた不図示の駆動機構により、蓋部29を開ける方向と、閉じる方向とに、鉛直軸周りに回転自在に構成されている。
一方薬液容器B1が空になった後、搬送機構20を反時計回りに周回させて、図12、図13に示すように使用済みの薬液容器B1を交換位置P13にまで移動させる。なおこの実施例では、薬液容器B1が空になった後、P13へと移動させているが、薬液容器B1は、まだ薬液の供給を行っている使用中の状態で交換位置まで移動させてもよい。
また容器保持体2に載置された新たな薬液ボトルB2は、図14、図15とは逆の操作が行われることにより、蓋部29が開かれ、図18に示すようにノズル部61が装着される。
上述の実施の形態は、薬液容器3が配置される複数の容器保持体2を薬液容器3の交換位置P13を含む周回軌道に沿って配置している。そして使用済みの薬液容器B1の載置された容器保持体2を駆動機構50により周回軌道に沿って交換位置P13まで移動させ、移載機構4を用いて交換位置P13にある使用済みの薬液容器B1と新たな薬液容器B2の交換を行っている。さらに薬液供給路67の着脱動作をノズル着脱機構6により実行している。従ってオペレータが薬液容器3の配置領域内に立ち入らなくて済むため、薬液容器3の配置、交換領域を閉鎖的な領域とすることができる。このため作業者の負担が軽減でき、薬液の変質、パーティクル汚染を抑えることができる。
また薬液容器3の開口部に例えばゴム製の蓋部を装着する。そして先端を尖らせたノズル部6及び管路を蓋部に突き刺すことにより、薬液容器3に薬液供給路を接続するように構成してもよい。この場合には、蓋部開閉機構7を設ける必要はない。
また、キャリアブロックの前方側であって、キャリアCの載置台11の上方側に薬液ブロックD2dを載置してもよい。この他、塗布、現像装置の本体を挟んだ左右両脇に薬液ブロックD2eを設けてもよい。
第1の実施の形態の他の例として、周回軌道に沿って容器保持体2を移動させるためのエンドレスベルト53を用いた駆動機構50に代えて、図21に示すように回転筒75と回転筒75から放射状に伸びる支持部材76を用いた構成としてもよい。例えば図21に示すように回転筒75を設け、その内部にシャトル27が通過するウエハ搬送部34を設けるように構成する。回転軸75の周回りに等間隔に12本の同じ長さの支持部材76の基端側を接続し、各支持部材76が回転筒75から放射状に伸びるように設ける。
回転筒75には図示しない回転機構が設けられており、回転筒75を時計回りに180度、反時計回りに180度回転可能に構成されている。3本の供給管束65は、例えば薬液ブロックD2の下方に設けられたポンプ配置部25へと引き回されるが、回転筒75を時計回り及び反時計回りに回転させた時に回転を阻害しない長さに設定されている。そして垂直上方に位置する容器保持体2から数えて反時計回りに6個目の容器保持体2の位置を交換位置に設定し、当該容器保持体2に対応する位置に移載機構4を設ける。
また第2の実施の形態にかかる基板処理装置として、薬液ブロックD2が処理ブロックD3の下方に設けられ、複数の容器保持体80が水平方向に移動されて、交換位置を含む軌道を周回するように構成してもよい。例えば図22、図23に示すように処理ブロックD3におけるBCT層の下に壁面で囲まれた薬液ブロックD2が設けられる。
3 薬液容器
4 移載機構
6 ノズル着脱機構
7 蓋部開閉機構
10 塗布ユニット
14 液処理モジュール
19 蓋部
20 容器保持機構
21 第1の搬入出口
22 第2の搬入出口
23 トレー載置台
24 ウエハ搬送路
25 ポンプ載置部
26 中間ステージ
31、82 トレー
41 保持部材
50 搬送機構
60 薬液供給管
65 外管
84 ベルトコンベア
Claims (7)
- 薬液供給路の基端側が装着された薬液容器を各々保持し、薬液容器の交換位置を含む周回軌道に沿って配置された複数の容器保持体と、
前記複数の容器保持体を周回軌道に沿って移動させる搬送機構と、
前記容器保持体に保持される薬液容器に前記薬液供給路の基端側を着脱するための供給路着脱機構と、
薬液が貯留されている新たな薬液容器を搬入し、使用済みの薬液容器を搬出するための搬入出ポートと、
前記交換位置に停止している容器保持体内の使用済みの薬液容器を前記搬入出ポートに移載し、前記搬入出ポートに載置された新たな薬液容器を当該容器保持体内に移載するための移載機構と、を備え、
前記薬液容器は、台部に載せて前記搬入出ポートから容器保持体に移載されることを特徴とする薬液容器交換装置。 - 前記供給路着脱機構は、前記容器保持体に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の薬液容器交換装置。
- 前記薬液供給路が取り外された後の使用済みの薬液容器の薬液取り出し口を蓋部により閉じ、新たな薬液容器の蓋部を取り外して薬液取り出し口を開く蓋部開閉機構を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の薬液容器交換装置。
- 前記蓋部開閉機構は、前記容器保持体に設けられていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の薬液容器交換装置。
- 請求項1ないし4のいずれか一項に記載の薬液容器交換装置と、
薬液供給路の先端側に設けられた薬液吐出部から吐出される薬液により基板を液処理するための液処理モジュールを含む処理ブロックと、を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記複数の容器保持体の配置領域は、基板処理装置の外部雰囲気から区画されていることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記外部雰囲気から区画されている領域を清浄気体雰囲気とするための清浄気体供給部を備えることを特徴とする請求項6記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013216524A JP6123629B2 (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 薬液容器交換装置及び基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013216524A JP6123629B2 (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 薬液容器交換装置及び基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015079875A JP2015079875A (ja) | 2015-04-23 |
JP6123629B2 true JP6123629B2 (ja) | 2017-05-10 |
Family
ID=53011067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013216524A Active JP6123629B2 (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 薬液容器交換装置及び基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6123629B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020013375A1 (ko) * | 2018-07-10 | 2020-01-16 | 에이엠티 주식회사 | 가스통 자동 교체방법 |
US11322346B2 (en) | 2020-09-18 | 2022-05-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Cleaning substrate method and method of processing substrate using the same |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI763944B (zh) * | 2017-11-01 | 2022-05-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 處理液供給系統、處理液供給裝置及載具保管裝置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2974310B1 (ja) * | 1998-07-15 | 1999-11-10 | 九州日本電気株式会社 | 半導体製造装置におけるレジスト液供給装置 |
JP3462405B2 (ja) * | 1998-10-29 | 2003-11-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
JP2007036268A (ja) * | 2002-07-22 | 2007-02-08 | Yoshitake Ito | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JP5794517B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-10-14 | 株式会社タカゾノテクノロジー | 水剤供給装置 |
JP5774331B2 (ja) * | 2011-03-03 | 2015-09-09 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理システム、管理装置、データ解析方法、及びデータ解析プログラム |
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2013
- 2013-10-17 JP JP2013216524A patent/JP6123629B2/ja active Active
Cited By (2)
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WO2020013375A1 (ko) * | 2018-07-10 | 2020-01-16 | 에이엠티 주식회사 | 가스통 자동 교체방법 |
US11322346B2 (en) | 2020-09-18 | 2022-05-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Cleaning substrate method and method of processing substrate using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015079875A (ja) | 2015-04-23 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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