JP2009278138A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009278138A5
JP2009278138A5 JP2009193367A JP2009193367A JP2009278138A5 JP 2009278138 A5 JP2009278138 A5 JP 2009278138A5 JP 2009193367 A JP2009193367 A JP 2009193367A JP 2009193367 A JP2009193367 A JP 2009193367A JP 2009278138 A5 JP2009278138 A5 JP 2009278138A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
block
substrate
unit
developing
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009193367A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4985728B2 (ja
JP2009278138A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2009193367A priority Critical patent/JP4985728B2/ja
Priority claimed from JP2009193367A external-priority patent/JP4985728B2/ja
Publication of JP2009278138A publication Critical patent/JP2009278138A/ja
Publication of JP2009278138A5 publication Critical patent/JP2009278138A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4985728B2 publication Critical patent/JP4985728B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2009193367A 2009-08-24 2009-08-24 塗布、現像装置及びその方法 Expired - Lifetime JP4985728B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009193367A JP4985728B2 (ja) 2009-08-24 2009-08-24 塗布、現像装置及びその方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009193367A JP4985728B2 (ja) 2009-08-24 2009-08-24 塗布、現像装置及びその方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005069723A Division JP4566035B2 (ja) 2005-03-11 2005-03-11 塗布、現像装置及びその方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009278138A JP2009278138A (ja) 2009-11-26
JP2009278138A5 true JP2009278138A5 (enExample) 2010-01-14
JP4985728B2 JP4985728B2 (ja) 2012-07-25

Family

ID=41443201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009193367A Expired - Lifetime JP4985728B2 (ja) 2009-08-24 2009-08-24 塗布、現像装置及びその方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4985728B2 (enExample)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5168300B2 (ja) * 2010-02-24 2013-03-21 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP5338757B2 (ja) * 2010-07-09 2013-11-13 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体
JP5408059B2 (ja) * 2010-07-09 2014-02-05 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体
JP5348083B2 (ja) * 2010-07-16 2013-11-20 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体
JP5287913B2 (ja) * 2011-03-18 2013-09-11 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体
JP5954125B2 (ja) 2012-02-07 2016-07-20 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP5565422B2 (ja) * 2012-02-08 2014-08-06 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP5928283B2 (ja) * 2012-09-28 2016-06-01 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板搬送方法及び記憶媒体
JP2013243406A (ja) * 2013-08-13 2013-12-05 Tokyo Electron Ltd 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体
JP5644916B2 (ja) * 2013-08-13 2014-12-24 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置
JP5590201B2 (ja) * 2013-08-13 2014-09-17 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3462426B2 (ja) * 1999-05-24 2003-11-05 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP2004186426A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP3996845B2 (ja) * 2002-12-27 2007-10-24 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4291096B2 (ja) * 2003-09-22 2009-07-08 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理装置のための機能ブロック組合せシステム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009278138A5 (enExample)
JP2006287178A5 (enExample)
JP2014138041A5 (ja) 処理装置、処理方法、及びデバイスの製造方法
TWI456360B (zh) 基板處理系統及基板處理方法
JP2006229184A5 (enExample)
TWI505393B (zh) Substrate processing device
TW200731330A (en) Coating and developing apparatus
JP2006229183A5 (enExample)
JP2014513429A5 (enExample)
KR101935082B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법
JP2014033226A5 (enExample)
TWI606538B (zh) 基板處理裝置及基板處理系統
JP2010041059A5 (enExample)
CN100454482C (zh) 加热处理装置和加热处理方法
JP2011077549A5 (enExample)
CN111383974A (zh) 基片处理装置和基片处理方法
CN111383975A (zh) 基片处理装置和基片处理方法
JP2015111729A5 (enExample)
JP2011128646A5 (enExample)
JP5834742B2 (ja) 基板の搬送システム
JP2012148576A5 (enExample)
CN110875217A (zh) 基片处理装置和基片处理方法
CN112185867B (zh) 基板处理装置
JP5799304B2 (ja) 露光ユニット及びそれを用いた露光方法
CN104982098B (zh) 电子元件安装设备的基板搬运系统